JP2015112799A - 積層体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基材フィルムの一方の面上にハードコート層を有し、前記基材フィルムの他方の面上に樹脂硬化層を有する積層体であって、直径30mmの円柱に巻き付けたときにクラックが生じないものであり、ナノインデンテーション法により、圧子を500nm押込んだときの硬度が0.5〜1.5GPaである、及び/又は、超微小硬度計を用いた500mN荷重における硬度が0.29〜1.10GPaであることを特徴とする積層体。
【選択図】なし
Description
しかしながら、従来のハードコートフィルムは、ハードコート層の硬度が充分なものであっても、その塗膜厚みが薄いことに起因して、下地の基材フィルムが変形した場合に、それに応じてハードコート層も変形し、ハードコートフィルム全体としての硬度は低下してしまい、充分に満足できるものではなかった。
例えば、基材フィルムとして広く利用されているポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム上に、紫外線硬化型塗料を上記の厚みで塗工したハードコートフィルムにおいては、鉛筆硬度で3Hレベルが一般的であり、ガラスの鉛筆硬度である9Hには全く及ばないものであった。
このようなハードコートフィルムとして、例えば、特許文献1には、プラスチック基材フィルムの少なくとも一方の面に、厚み3〜15μmの緩衝層を介して厚み3〜15μmのハードコート層を形成し、鉛筆硬度4H〜8Hを有するハードコートフィルムが開示されている。
特に、近年、薄くて曲げられるフレキシブルタイプの有機ELディスプレイが開発されており、また、スマートフォンや腕時計型端末などの携帯端末、自動車内部の表示装置、腕時計などに使用するフレキシブルパネルへの注目も集まってきている。
ところが、特許文献1に記載の従来のハードコートフィルムは、ハードコート性能としての硬度についての検討が中心としてなされているが、可撓性についての検討は殆どされておらず、曲面対応が一切できないものであった。
しかしながら、特許文献2に記載の積層体は、鉛筆硬度が5H程度でガラス代替材料としては充分とは言えず、また、可撓性についても直径80mmの円筒に巻き付けたときにクラックや剥離が生じない程度であり、充分とは到底言えるものではなく、ロール状態での加工ができず、また、巻取りも不可能であった。
また、上記単官能モノマーは、単官能アクリルモノマーであることが好ましい。
また、上記単官能アクリルモノマーは、アクリロイルモルホリン、N−アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド、シクロヘキシルアクリレート、テトラヒドロフリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、及び、アダマンチルアクリレートからなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましい。
また、本発明の積層体は、上記樹脂硬化層の基材フィルムと反対側表面に、更に別の基材フィルムを有することが好ましい。
以下に、本発明を詳細に説明する。
なお、本明細書において、上記ナノインデンテーション法による硬度測定は、HYSITRON(ハイジトロン)社製の「TI950 TriboIndenter」を用いて行った。すなわち、Berkovich圧子(三角錐)を、本発明の積層体のハードコート層表面から500nm押し込み、一定保持して残留応力の緩和を行った後、除荷させて、緩和後のmax荷重を計測し、該max荷重(Pmax(μN)と深さ500nmのくぼみ面積(A(nm2)とを用い、Pmax/Aにより、インデンテーション硬度を算出する。
このようなナノインデンテーション法による硬度は、ハードコート層の表面の硬度であり、基材フィルムや後述する樹脂硬化層、更には別の基材フィルム等が影響を及ぼすものではない。
なお、本明細書において、上記超微小硬度計を用いた硬度は、超微小硬度計として、フィッシャー・インストルメンツ社製の「PICODENTOR HM500」を用い、本発明の積層体のハードコート層表面から荷重500mNで、Vickers圧子(四角錐)を押し込み計測した硬度である。なお、このような荷重でVickers圧子をハードコート層表面から押し込んだ場合、上記Vickers圧子は、約10μm(8〜11μm)押し込まれる。
このような超微小硬度計を用いた500mN荷重における硬度は、積層体の構成により影響を受ける。すなわち、ハードコート層のみならず、基材フィルムや後述する樹脂硬化層、更には別の基材フィルム等の存在が影響を及ぼすものである。
上記基材フィルムとしては特に限定されず、例えば、ポリエステル系樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリフェニレンサルファイド系樹脂等が挙げられる。なかでも、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂が好適に用いられる。
また、トリアセチルセルロースの代替基材として旭化成ケミカルズ社製のFVシリーズ(低複屈折率、低光弾性率フィルム)も好ましい。
上記ハードコート層が微粒子を含有することで、該ハードコート層のJIS K 5400に規定する鉛筆硬度を向上させることができ、その結果、本発明の積層体の硬度が優れたものとなり、ガラス代替材料として好適に用いることが可能となる。
上記微粒子としては、例えば、無機微粒子又は有機微粒子が挙げられる。
上記無機微粒子としては、例えば、シリカ(SiO2)、酸化アルミニウム、ジルコニア、チタニア、酸化亜鉛、酸化ゲルマニウム、酸化インジウム、酸化スズ、インジウムスズ酸化物(ITO)、酸化アンチモン、酸化セリウム等の金属酸化物微粒子、フッ化マグネシウム、フッ化ナトリウム等の金属フッ化物微粒子等が挙げられる。また、上記微粒子としては、金属微粒子、金属硫化物微粒子、金属窒化物微粒子等を用いてもよい。
また、上記微粒子は、その表面に紫外線(UV)硬化性の反応基を有することが好ましく、具体的には、反応性シリカが好ましい。上記UV硬化性の反応基としては、例えば、メタクリレート基又はアクリレート基が好適に挙げられる。
更に、上記微粒子の形状としては、ハードコート層の硬度の面から異型であることが好ましく、このような微粒子としては、例えば、異型シリカが好適に用いられる。
なお、本明細書において、「樹脂」とは、特に言及しない限り、モノマー、オリゴマー、ポリマー等も包含する概念である。
なかでも、上記電離放射線硬化型樹脂としては、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、テトラペンタエリスリトール(メタ)デカアクリレート、テトラペンタエリスリトール(メタ)オクタアクリレート、テトラペンタエリスリトール(メタ)ノナアクリレート、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、又は、ジトリメチロールプロパンヘキサメタアクリレートが最も好ましい。
更に、上記電離放射線硬化型樹脂としては、ウレタンアクリレートも使用でき、4官能以上のウレタンアクリレートが好ましい。
上記電離放射線硬化型樹脂と併用して使用することができる溶剤乾燥型樹脂としては特に限定されず、一般に、熱可塑性樹脂を使用することができる。
上記熱可塑性樹脂としては特に限定されず、例えば、スチレン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂及びゴム又はエラストマー等を挙げることができる。上記熱可塑性樹脂は、非結晶性で、かつ有機溶媒(特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶媒)に可溶であることが好ましい。特に、透明性や耐候性という観点から、スチレン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体(セルロースエステル類等)等が好ましい。
上記熱硬化性樹脂としては特に限定されず、例えば、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等を挙げることができる。
上記光重合開始剤としては特に限定されず、公知のものを用いることができ、具体例には、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、チオキサントン類、プロピオフェノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、アシルホスフィンオキシド類が挙げられる。また、光増感剤を混合して用いることが好ましく、その具体例としては、例えば、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−n−ブチルホスフィン等が挙げられる。
上記レベリング剤としては、例えば、シリコーンオイル、フッ素系界面活性剤等が、ハードコート層がベナードセル構造となることを回避することから好ましい。溶剤を含む樹脂組成物を塗工し、乾燥する場合、塗膜内において塗膜表面と内面とに表面張力差等を生じ、それによって塗膜内に多数の対流が引き起こされる。この対流により生じる構造はベナードセル構造と呼ばれ、形成するハードコート層にゆず肌や塗工欠陥といった問題の原因となる。
また、紫外線の波長としては、190〜380nmの波長域を使用することができる。電子線源の具体例としては、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、又は直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器が挙げられる。
上記ハードコート層の厚さとしては、2.5〜20.0μmであることが好ましい。2.5μm未満であると、上記ハードコート層表面が傷付きやすくなることがあり、20.0μmを超えると、ハードコート層の薄膜化を図れないだけでなく、ハードコート層が割れやすくなったりすることがあり、カールが大きくなることもある。上記ハードコート層の厚みのより好ましい下限は4μm、より好ましい上限は15μmであり、更に好ましい下限は10μm、更に好ましい上限は13μmである。
なお、上記ハードコート層の厚さは、断面顕微鏡観察により測定することができる。
本発明の積層体において、上記樹脂硬化層は、単官能モノマーの硬化層(以下、単に硬化層ともいう)であることが好ましく、このような硬化層を有する本発明の積層体は、ガラス代替材料として硬度が極めて優れたものにすることができることに加え、可撓性にも優れたものとすることができる。
上記樹脂硬化層の厚さとしては、1〜25μmであることが好ましい。1μm未満であると、本発明の積層体の硬度及び上記基材フィルムとの接着性が不充分となることがあり、25μmを超えると、樹脂硬化層の薄膜化を図れないだけでなく、カールが大きくなることもある。割れやすくもなる。上記樹脂硬化層の厚さのより好ましい範囲は、3〜20μmであり、更に好ましくは、4〜15μmである。
なお、上記樹脂硬化層の厚さは、断面顕微鏡観察により測定することができる。
上記単官能アクリルモノマーとしては、アクリロイルモルホリン、N−アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド、シクロヘキシルアクリレート、テトラヒドロフリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、及び、アダマンチルアクリレートからなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましく、なかでも、アクリロイルモルホリンであることが好ましい。このような硬化層を有することで、本発明の積層体の硬度及び可撓性を充分に優れたものとすることが可能となる。
上記硬化層用組成物における溶剤としては、上述したハードコート層用組成物で例示したものと同様のものが挙げられる。
また、上記硬化層用組成物は、上記ハードコート層用組成物と同様に、光重合開始剤、分散剤、界面活性剤、帯電防止剤、シランカップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤(顔料、染料)、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤等を添加していてもよい。
上記別の基材フィルムとしては、上述した基材フィルムと同様のものが挙げられる。
なお、上記別の基材フィルムを有する場合、上述した基材フィルムと別の基材フィルムとは、同じ材料からなるものであってもよく、異なる材料からなるものであってもよい。更に、上記別の基材フィルムと上述した基材フィルムとは、同一又は異なる厚みを有するものであってよい。
また、本発明の積層体は、上記ハードコート層の基材フィルムと反対側面上に、従来公知の任意の光学機能層(低屈折率層、高屈折率層、防汚層、帯電防止層、防眩層等)が形成されていてもよい。これらの光学機能層は、有機物、無機物、有機物と無機物とが混合されたものいずれでもよく、従来の公知の構成及び方法で形成できる。なお、例えば、有機バインダーに中空シリカなどを混合した組成物を塗布、硬化し、低屈折率層を積層したり、あるいは、SiOx(x=1から2)等の無機薄膜をスパッタすることで低屈折率層を積層したりするなど、上記ハードコート層上に何かしら機能層を一層以上設けると、本発明の積層体のナノインデンテーションによる押し込み硬度は、ハードコート層だけの場合よりも2倍から3倍高硬度(上限が約4GPa)まで向上させることができる。これは、最表面の硬度が向上している状態であるため、耐擦傷性も非常によくなる。
具体的には、上述した構成とすることで本発明の積層体は、30mm円柱に巻きつけても大丈夫なフレキシビリティーがありつつ、7H、8H、更には9Hという鉛筆硬度が達成できる。ここで、上記鉛筆硬度とは、評価対象であるハードコート層表面に鉛筆を設置し、加重をかけて押し込む力、及び、水平方向に引く力による試験で得られる物性だが、単に硬いだけの従来のハードコート層では、柔軟性があってかつ鉛筆硬度が9Hというレベルは達成できなかった。しかしながら、本発明の積層体の構成では、樹脂硬化層があり、この樹脂硬化層と基材フィルムとの接着力が高いことによって、ハードコート層表面に鉛筆を置いたとき、若しくは鉛筆を動かしたときに生じる積層体の変形を緩和することができるため、硬度が向上したものと考えられる。なお、鉛筆硬度が7H〜9H得られない状態とはすなわち、樹脂硬化層の接着力が押し込みの上からの力と、水平方向の力とに耐えられないということと考えられる。
ところで、上記鉛筆硬度とは、積層体のハードコート層表面の硬度であり、後述する実施例等で鉛筆硬度(2)と表しているものである。ただし、本発明では、最も好ましい高い硬度と優れた可撓性とを有し、ガラス代替材料として有用な積層体を得るためには、上記鉛筆硬度だけの評価測定では不足であることを見出した。すなわち、本発明者らは、同じ鉛筆硬度が9Hであっても、硬度及び可撓性が異なるレベルの積層体が存在することを見出した。このような知見に基づき、本発明者らは、鉛筆硬度評価の力を2つに分けて考え、硬度の測定を、押し込みの上からの力は、超微小硬度計を用いた500mN荷重における硬度として行い、水平方向の力は、ナノインデンテーション法により、圧子を500nm押込んだときの硬度として行った。その結果、同じ鉛筆硬度が9Hであっても、実際は硬度に違いがあることが数値によって明確にすることができた。すなわち、本発明の硬度測定方法は、従来の鉛筆硬度の評価では見えなかったレベルの評価が可能である。
また、本発明の積層体は、極めて優れた可撓性を有するものであるため、曲面に対応できるディスプレイとして、例えば、薄くて曲げられるフレキシブルタイプの有機ELディスプレイや、スマートフォンや腕時計型端末などの携帯端末、自動車内部の表示装置、腕時計などに使用するフレキシブルパネル等に好適に用いることができる。また、本発明の積層体は、液晶表示装置等の画像表示装置や、タッチパネルに等に適用したりすることもできる。
なお、上述した基材フィルムの一方の面上にハードコート層と該基材フィルムの他方の面上に上記樹脂硬化層を有し、上記樹脂硬化層の上記基材フィルムの反対側面上に別の基材フィルムを有する本発明の積層体は、上述のように極めて優れた硬度を有するものであるが、上記各層の硬度は、下記不等式を満たす関係を有することが好ましい。
ハードコート層>樹脂硬化層>基材フィルム及び別の基材フィルム
ここで、上記各層の硬度とは、上記構成の本発明の積層体を厚み方向に切断して現れた各層の断面について、該断面方向に上述したナノインデンテーション法により圧子を押込んで測定される硬度を意味する。
更に、上述した構成の本発明の積層体は、基材フィルム又は別の基材フィルム上にハードコート層を形成し、該ハードコート層側表面で測定した鉛筆硬度(1)、基材フィルム又は別の基材フィルム上に樹脂硬化層を形成し、該樹脂硬化層側表面で測定した鉛筆硬度(2)、及び、基材フィルム及び別の基材フィルムの表面で測定した鉛筆硬度(3)が、それぞれ、鉛筆硬度(1)>鉛筆硬度(2)>鉛筆硬度(3)なる関係を有することが好ましい。
すなわち、後述する実施例1に係る積層体の各層を用いて具体的に説明すると、厚み15μmの実施例1に係るハードコート層を厚み80μmのトリアセチルセルロース基材上に形成した場合、該ハードコート層表面の鉛筆硬度(1)は5Hとなり、アクリロイルモルホリンを用いた厚み10μmの実施例1に係る樹脂硬化層を厚み80μmのトリアセチルセルロース基材上に形成した場合、該樹脂硬化層表面の鉛筆硬度(2)はBとなり、厚み80μmのトリアセチルセルロース基材表面の鉛筆硬度(3)は3Bとなる。これらの好ましい硬度の関係性は、上記断面のナノインデンテーション法による硬度と等しい。
なお、上記のいずれの方法で製造する場合であっても、上記塗膜は、基材フィルム方向、別の基材フィルム方向の何れの面側から光を照射する等して硬化させてもよい。
また、基材フィルム及び/又は別の基材フィルムには、UV吸収剤を含有している場合が多いが、本発明の積層体において、上記基材フィルム及び/又は別の基材フィルムは、上記樹脂硬化層と充分に接着していれば、UV吸収剤が含有されていてもいいし、含有されていなくてもよい。なお、上記基材フィルム及び別の基材フィルムにUV吸収剤が含有されている場合、上記塗膜の硬化の際には、紫外線をしっかり照射する必要がある。
上記基材フィルム及び別の基材フィルムと樹脂硬化層との接着が不充分な場合、本発明の積層体に剥がれが起こることがあり、鉛筆硬度の面でも悪いので好ましくない。
なお、上記基材フィルム及び別の基材フィルムと樹脂硬化層との接着力は、幅25mmで、剥離速度300mm/min、室温(23℃)で180°剥離強度を測定したときに、10N/25mm以上であることが好ましい。10N/25mm未満であると、上記基材フィルム及び別の基材フィルムと樹脂硬化層との剥離が容易に生じ、また、高い硬度と優れた可撓性とを有し、ガラス代替材料として有用なものであるという本発明の優れた効果を充分に得ることができないことがある。上記基材フィルム及び別の基材フィルムと樹脂硬化層との接着力は、幅25mmで、剥離速度300mm/min、室温(23℃)で180°剥離強度を測定したときに、15N/25mm以上であることがより好ましく、25N/25mmであることが更に好ましい。
しかしながら、上記黒枠印刷等で意匠性を高める場合、該黒枠印刷や白枠印刷等を、例えば、5〜20μm程度とかなり厚くしなければ光の透過が生じてしまい、意匠性が損なわれるという問題があった。このため、例えば、従来のハードコートフィルムに黒枠印刷を行って意匠性を高めた場合、充填した粘着剤と黒枠印刷部分との間で段差が生じやすく、偏光板やガラス板などに貼り付けることが困難となる問題があった。
このような問題に対し、例えば、上記従来のハードコートフィルムの粘着剤を充填した面上に別の基材フィルムを更に設け、該別の基材フィルムを偏光板やガラス板などに貼り付けることで、上記段差の問題を解消でき偏光板やガラス板などへの貼り付けの問題を解消することができる。
しかしながら、上記粘着剤は粘度が高いため、上記黒枠印刷を行った基材フィルムの面上に充填した際、空気が混入してしまうことがあり、また、粘着剤を介して上記基材フィルムと別の基材フィルムとの貼り付けを行ったハードコートフィルムは、硬度が不充分になるという問題もあった。
このような構成の本発明の積層体は、例えば、上記基材フィルムのハードコート層を設けた側と反対側面上に上記黒枠印刷等を施し、該黒枠印刷等した面上に上述した硬化層用組成物を塗布し形成した塗膜を乾燥後、上記別の基材フィルムとを貼り付け硬化させることで製造できる。なお、上記黒枠印刷等を別の基材フィルムの一方の面上に施し、該別の基材フィルムの黒枠印刷等を施した面上に上記硬化層用組成物を塗布し形成した塗膜を乾燥させ、該塗膜を介してハードコート層を形成した基材フィルムに貼り付けることでも製造することができる。
いずれの方法で製造する場合であっても、上記硬化層用組成物は上述した従来の粘着剤と比較して粘度が充分に低いため、空気を混入させることなく上記黒枠印刷等をした面上に塗布させることが容易である。
そして、上述のように基材フィルムの一方の面上にハードコート層を他方の面上に所定の硬化層を有する構成であるため、高い硬度と優れた可撓性とを兼ね備えたものとなる。
このため、本発明の積層体は、ガラス代替材料として好適に用いることができ、薄くて曲げられるフレキシブルタイプの有機ELディスプレイや、スマートフォンや腕時計型端末などの携帯端末、自動車内部の表示装置、腕時計などに使用するフレキシブルパネル等に、更には、液晶表示装置等の画像表示装置やタッチパネル等に好適に用いることができる。
基材フィルムとして、厚さ80μmのトリアセチルセルロース基材(富士フイルム社製、TD80ULN)を準備し、該基材フィルムの一方の面上に、下記組成のハードコート層用組成物1を塗布し、塗膜を形成した。次いで、形成した塗膜に対して、70℃の乾燥空気を45秒間流通させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線照射装置(フュージョンUVシステムジャパン社製、光源Hバルブ)を用いて、紫外線を窒素雰囲気(酸素濃度200ppm以下)下にて積算光量が200mJ/cm2になるように照射して塗膜を硬化させることにより、15μm厚み(硬化時)のハードコート層を形成した。
反応性異形シリカ(日揮触媒化成社製、ELCOM V8803) 50質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬製、DPHA) 50質量部
イルガキュア184(BASFジャパン社製) 4質量部
MIBK 75質量部
MEK 75質量部
フッ素系非反応型レベリング剤(DIC社製、F477) 0.2質量部
その後、別の基材フィルム側から、紫外線照射装置(フュージョンUVシステムジャパン社製、光源Hバルブ)を用いて、紫外線を窒素雰囲気(酸素濃度200ppm以下)下にて積算光量が600mJ/cm2になるように照射して塗膜を硬化させることにより、10μm厚み(硬化時)の樹脂硬化層を形成し、積層体を製造した。
アクリロイルモルホリン(興人フィルムケミカルズ社製、ACMO) 100質量部
ルシリンTPO(BASFジャパン社製) 4質量部
MIBK 20質量部
ハードコート層の厚みが12μmとなるようにした以外は、実施例1と同様にして積層体を製造した。
ハードコート層の厚みが10μmとなるようにした以外は、実施例1と同様にして積層体を製造した。
ハードコート層の厚みが20μmとなるようにした以外は、実施例1と同様にして積層体を製造した。
基材フィルム及び別の基材フィルムとして、厚さ40μmのトリアセチルセルロース基材(コニカミノルタ社製、KC4UA)を用いた以外は、実施例1と同様にして積層体を製造した。
基材フィルム及び別の基材フィルムとして、厚さ25μmのトリアセチルセルロース基材(コニカミノルタ社製、KC2UA)を用いた以外は、実施例1と同様にして積層体を製造した。
基材フィルムとして、厚さ40μmのアクリル基材を用いた以外は、実施例1と同様にして積層体を製造した。
基材フィルムとして、厚さ50μmのポリエチレンテレフタレート(PET)基材(東レ社製、U48)を用いた以外は、実施例1と同様にして積層体を製造した。
別の基材フィルムとして、厚さ40μmのアクリル基材を用いた以外は、実施例1と同様にして積層体を製造した。
別の基材フィルムとして、厚さ50μmのポリエチレンテレフタレート(PET)基材(東レ社製、U48)を用いた以外は、実施例1と同様にして積層体を製造した。
別の基材フィルムとして、厚さ50μmの非晶質オレフィンポリマー(COP)基材(日本ゼオン社製、ゼオノアシリーズ)を用いた以外は、実施例1と同様にして積層体を製造した。
樹脂硬化層の厚みが1μmとなるようにした以外は、実施例5と同様にして積層体を製造した。
樹脂硬化層の厚みが5μmとなるようにした以外は、実施例5と同様にして積層体を製造した。
樹脂硬化層の厚みが15μmとなるようにした以外は、実施例5と同様にして積層体を製造した。
下記組成のハードコート層用組成物2を用いて厚み15μmのハードコート層を形成した以外は、実施例5と同様にして積層体を製造した。
反応性異形シリカ(日揮触媒化成社製、ELCOM V8803) 40質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬社製、DPHA) 60質量部
イルガキュア184(BASFジャパン社製) 4質量部
MIBK 75質量部
MEK 75質量部
フッ素系非反応型レベリング剤(DIC社製、F477) 0.2質量部
下記組成のハードコート層用組成物3を用いて厚み15μmのハードコート層を形成した以外は、実施例5と同様にして積層体を製造した。
中実反応性シリカ(日揮触媒化成社製、ELCOM V8802 粒子系12nm)
50質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬社製、DPHA) 60質量部
イルガキュア184(BASFジャパン社製) 4質量部
MIBK 75質量部
MEK 75質量部
フッ素系非反応型レベリング剤(DIC社製、F477) 0.2質量部
下記組成のハードコート層用組成物4を用いて厚み15μmのハードコート層を形成した以外は、実施例5と同様にして積層体を製造した。
反応性異形シリカ(日揮触媒化成社製、ELCOM V8803) 50質量部
ウレタンアクリレート(日本合成化学社製、紫光UV1700B) 50質量部
イルガキュア184(BASFジャパン社製) 4質量部
MIBK 75質量部
MEK 75質量部
フッ素系非反応型レベリング剤(DIC社製、F477) 0.2質量部
下記組成のハードコート層用組成物5を用いて厚み15μmのハードコート層を形成した以外は、実施例5と同様にして積層体を製造した。
反応性異形シリカ(日揮触媒化成社製、ELCOM V8803) 50質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA30、日本化薬社製) 50質量部
イルガキュア184(BASFジャパン社製) 4質量部
MIBK 75質量部
MEK 75質量部
フッ素系非反応型レベリング剤(DIC社製、F477) 0.2質量部
下記組成の硬化層用組成物Bを用いて厚み15μmの樹脂硬化層を形成した以外は、実施例5と同様にして積層体を製造した。
イソボルニルアクリレート(大阪有機化学工業社製、IBXA) 100質量部
ルシリンTPO(BASFジャパン社製) 4質量部
MIBK 20質量部
下記組成の硬化層用組成物Cを用いて厚み15μmの樹脂硬化層を形成した以外は、実施例5と同様にして積層体を製造した。
フェノキシエチルアクリレート(共栄社化学製、ライトアクリレートPO−A)
100質量部
ルシリンTPO(BASFジャパン社製) 4質量部
MIBK 20質量部
下記組成の硬化層用組成物Dを用いて厚み15μmの樹脂硬化層を形成した以外は、実施例5と同様にして積層体を製造した。
アクリロイルモルホリン(興人フィルムケミカルズ社製、ACMO) 90質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート(日本化薬社製、PET30) 10質量部
ルシリンTPO(BASFジャパン社製) 4質量部
MIBK 20質量部
下記組成の硬化層用組成物Eを用いて厚み15μmの樹脂硬化層を形成した以外は、実施例5と同様にして積層体を製造した。
アクリロイルモルホリン(興人フィルムケミカルズ社製、ACMO) 90質量部
ポリエチレングリコールジアクリレート(東亜合成社製、M240) 10質量部
ルシリンTPO(BASFジャパン社製) 4質量部
MIBK 20質量部
下記組成の硬化層用組成物Fを用いて厚み15μmの樹脂硬化層を形成した以外は、実施例5と同様にして積層体を製造した。
アクリロイルモルホリン(興人フィルムケミカルズ社製、ACMO) 95質量部
4級アンモニウム塩基含有アクリルポリマー(大成ファインケミカル社製 アクリット1SX−1055F) 5質量部
ルシリンTPO(BASFジャパン社製) 4質量部
MIBK 20質量部
下記組成の硬化層用組成物Gを用いて厚み15μmの樹脂硬化層を形成した以外は、実施例5と同様にして積層体を製造した。
ジメチロール−トリシクロデカンジアクリレート(共栄社化学社製、ライトアクリレートDCP−A) 20質量部
アダマンチルアクリレート(大阪有機化学工業社製、ADA) 80質量部
ルシリンTPO(BASFジャパン社製) 4質量部
MIBK 20質量部
別の基材フィルムを貼り付けなかった以外は、実施例1と同様にして積層体を製造した。
別の基材フィルムを貼り付けなかった以外は、実施例7と同様にして積層体を製造した。
別の基材フィルムを貼り付けなかった以外は、実施例8と同様にして積層体を製造した。
下記組成の硬化層用組成物Hを用いて樹脂硬化層を形成した以外は、実施例1と同様にして積層体を製造した。
ペンタエリスリトートトリアクリレート(日本化薬社製、PET30) 100質量部
ルシリンTPO(BASFジャパン社製) 4質量部
MIBK 20質量部
下記組成のハードコート層用組成物6を用いてハードコート層を形成した以外は、比較例1と同様にして積層体を製造した。
ウレタンアクリレート(日本合成化学社製、UV1700B) 50質量部
ポリエステルトリアクリレート(東亞合成社製、M9050) 50質量部
イルガキュア184(BASFジャパン社製) 4質量部
MIBK 75質量部
MEK 75質量部
フッ素系非反応型レベリング剤 (DIC社製、F477) 0.2質量部
下記組成の硬化層用組成物Iを用いて樹脂硬化層を形成した以外は、実施例1と同様にして積層体を製造した。
ウレタンアクリレート(日本合成化学社製、UV6300B) 100質量部
ルシリンTPO(BASFジャパン社製) 4質量部
MIBK 20質量部
硬化層用組成物Aに代えて、粘着剤(パナック社製、パナクリーン PD−S1)を用いて、樹脂硬化層に代えて、厚み25μmの粘着層を形成した以外は、実施例1と同様にして積層体を製造した。
硬化層用組成物Aを塗布せず、別の基材フィルムと基材フィルムとを単に重ね合せた以外は、実施例1と同様にして積層体を製造した。
硬化層用組成物Aを用いて厚み30μmの樹脂硬化層を形成した以外は、実施例1と同様にして積層体を製造した。
ハードコート層の厚みが2μmとなるようにした以外は、実施例1と同様にして積層体を製造した。
ハードコート層の厚みが40μmとなるようにした以外は、実施例1と同様にして積層体を製造した。
下記組成のハードコート層用組成物7を用いて厚み15μmのハードコート層を形成した以外は、実施例1と同様にして積層体を製造した。
ウレタンアクリレート(日本合成化学社製、UV1700B) 50質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬社製、DPHA) 50質量部
イルガキュア184(BASFジャパン社製) 4質量部
MIBK 75質量部
MEK 75質量部
フッ素系非反応型レベリング剤 (DIC社製、F477) 0.2質量部
硬化層用組成物の硬化を行わなかった以外は、実施例1と同様にして積層体を製造した。
HYSITRON(ハイジトロン)社製の「TI950 TriboIndenter」を用い、Berkovich圧子(三角錐)を、積層体のハードコート層表面から500nm押し込み、一定保持して残留応力の緩和を行った後、除荷させて、緩和後のmax荷重を計測し、該max荷重Pmax(μN)と深さ500nmのくぼみ面積A(nm2)とを用い、Pmax/Aを算出し、ナノインデンテーション硬度を測定した。なお、表1においては、「硬度1」と表記した。
フィッシャー・インストルメンツ社製の「PICODENTOR HM500」を用い、積層体のハードコート層表面から荷重500mNで、Vickers圧子(四角錐)を押し込み、硬度を計測した。このとき、ハードコート層表面からのVickers圧子(四角錐)の押し込み深さは約10μm(8〜11μm)であった。なお、表1において、「硬度2」と表記した。
実施例、比較例及び参考例に係る積層体の製造過程において、基材フィルム上にハードコート層を形成したものをサンプルとして別途用意し、該サンプルの鉛筆硬度(1)と、実施例、比較例及び参考例に係る積層体の鉛筆硬度(2)とをそれぞれ、JIS K5600−5−4(1999)に基づいて測定した。
実施例、比較例及び参考例に係る各積層体を、任意の方向で100mm×100mm四方に切取り、温度25℃、湿度50%の雰囲気下で24時間静置。その後、4隅の浮きの高さを測定し平均値をカール測定とした。
○:20mm未満
×:20mm以上30mm以下、又は、筒状になり測定不能な状態
実施例、比較例及び参考例に係る積層体を100mm×150mmのサンプルとし、ハードコート層側が外側となるようにして直径30mmの円柱に巻き付け、以下の基準により屈曲性を評価した。
○:クラックの発生なし
×:クラックの発生あり
一方、比較例1、2に係る積層体は、屈曲性に劣り、比較例3、4に係る積層体は、硬度、特に、鉛筆硬度(2)の評価に劣っていた。なお、比較例3に係る積層体は、基材フィルムと樹脂硬化層との接着力は、幅25mmで、剥離速度300mm/min、室温(23℃)で180°剥離強度を測定したときに、0.05N/25mmと極めて低く、基材フィルムと樹脂硬化層とが充分に接着できていなかった。
参考例1及び3に係る積層体は、硬度、特に、鉛筆硬度(1)、(2)の評価に劣っており、参考例2に係る積層体は、カール及び屈曲性の評価に劣っており、参考例4に係る積層体は、硬度、特に、鉛筆硬度(2)の評価に劣っていた。なお、参考例4に係る積層体は、基材フィルムと樹脂硬化層とが充分に接着できていなかった。
なお、樹脂硬化層に代えて粘着層を設けた比較例4に係る積層体の場合、該粘着層と基材フィルムとの接着力は、幅25mmで、剥離速度300mm/min、室温(23℃)で180°剥離強度を測定したときに、13N/25mmと良好なのだが、硬度が低かった。つまり、硬度バランスは、ハードコート層>基材フィルム及び別の基材フィルム>樹脂硬化層であるため、積層体全体での硬度が得られなかった。なお、この硬度とは、積層体を厚み方向に切断して現れた各層の断面について、該断面方向に上述したナノインデンテーション法により圧子を押込んで測定される硬度、または、基材フィルム又は別の基材フィルムの表面で測定した鉛筆硬度と基材フィルム又は別の基材フィルム上にハードコート層や樹脂硬化層を形成し、該ハードコート層表面や該樹脂硬化層表面で測定した鉛筆硬度のことである。
また、参考例4に係る積層体のように樹脂硬化層が未硬化の場合や、比較例5に係る積層体のように樹脂硬化層がない場合は、基材フィルムと未硬化の塗膜又は別の基材フィルムとの接着力は、幅25mmで、剥離速度300mm/min、室温(23℃)で180°剥離強度を測定したときに、0.02〜0.03N/25mmと極めて低く、接着力がなかった。更に、上述した粘着層を設けた比較例4に係る積層体と同様の硬度バランスになるため、積層体全体での硬度が得られなかった。
Claims (5)
- 基材フィルムの一方の面上にハードコート層を有し、前記基材フィルムの他方の面上に樹脂硬化層を有する積層体であって、
直径30mmの円柱に巻き付けたときにクラックが生じないものであり、
ナノインデンテーション法により、圧子を500nm押込んだときの硬度が0.5〜1.5GPaである、及び/又は、超微小硬度計を用いた500mN荷重における硬度が0.29〜1.10GPaである
ことを特徴とする積層体。 - 樹脂硬化層は、単官能モノマーの硬化層である請求項1記載の積層体。
- 単官能モノマーは、単官能アクリルモノマーである請求項2記載の積層体。
- 単官能アクリルモノマーは、アクリロイルモルホリン、N−アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド、シクロヘキシルアクリレート、テトラヒドロフリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、及び、アダマンチルアクリレートからなる群より選択される少なくとも1種である請求項3記載の積層体。
- 樹脂硬化層の基材フィルムと反対側表面に、更に別の基材フィルムを有する請求項1、2、3又は4記載の積層体。
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