JP2004040021A - 半導体レーザ装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】複数の段差面5a,5b,5cが形成されたヒートシンク6と、前記段差面毎に設けられた複数の半導体レーザ素子2a,2b,2cと該半導体レーザ素子の個々に対峙させて複数の第1のロッドレンズ8a,8b,8cを設け、該第1のロッドレンズを透過したレーザ光線14a,14b,14cを前記第1のロッドレンズとは直交する方向に集光する第2のロッドレンズ11a,11b,11cを設けた。
【選択図】 図1
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は半導体レーザ装置、特に半導体レーザ素子のマウント構造に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
現在、半導体レーザ装置に使用される発光素子としての半導体レーザ素子(半導体レーザダイオード(LD))は、低電力で高出力のレーザ光線を発するものとして普及している。更に、近年益々高出力のレーザ光線が要求されており、斯かる要求に応える為、複数の半導体レーザ素子を用い各半導体レーザ素子から発せられるレーザ光線を束ねることでレーザ光線の高出力化に応えている。又、半導体レーザ素子自体は微小なものであり、高出力のレーザ光線を射出することから発熱量も大きい。半導体レーザ素子は温度が高くなると出力が低下し、寿命も短くなる為、各半導体レーザ素子を適切に冷却することも要求されている。
【0003】
図10に於いて、従来の半導体レーザ装置1について説明する。
【0004】
半導体レーザ素子2は通常、放熱板(以下ヒートシンク)3にハンダ、ペースト等により固着される。前記半導体レーザ素子2は上下両面が電極となっており、前記ヒートシンク3は前記半導体レーザ素子2の放熱器として機能すると共に電極として使用され、他方の電極としては前記半導体レーザ素子2の上面にワイヤ(図示せず)がボンディングされる。
【0005】
前記ヒートシンク3、ワイヤを介して前記半導体レーザ素子2に電力が供給され、該半導体レーザ素子2が発光される。該半導体レーザ素子2の発光と共に該半導体レーザ素子2は発熱し、発熱は前記ヒートシンク3を介して放熱される。
【0006】
上記した様に、近年益々高出力のレーザ光線が要求されており、1つの半導体レーザ素子2では出力に限界がある為、出力の増大に対して前記半導体レーザ素子2を複数用いることで高出力化の要求に対応している。
【0007】
図11は複数の半導体レーザ素子2を具備する半導体レーザ装置4の概略を示している。
【0008】
図11中では3個の半導体レーザ素子2が横に並べられてヒートシンク3に固着された半導体レーザ装置4を示している。
【0009】
該半導体レーザ装置4では前記ヒートシンク3が共通の電極となり、個々の半導体レーザ素子2にはそれぞれ電極としてのワイヤ(図示せず)がボンディングされている。複数の前記半導体レーザ素子2にヒートシンク3、ワイヤを介して個々に電力が供給され、前記個々の半導体レーザ素子2からレーザ光線が発せられる。輝度の高い高出力のレーザ光線とするには、前記個々の半導体レーザ素子2から発せられるレーザ光線をまとめる必要があり、従来では複数のレーザ光線をまとめる為の光学系が設けられている。斯かる光学系の一例としては、前記各半導体レーザ素子2から発せられるレーザ光線をそれぞれ光ファイバにより導き、更に光ファイバを束ねる等し、一本のレーザ光線として出力するものがあった。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】
従来の半導体レーザ装置では、複数の半導体レーザ素子2が横に並べられて設けられる為高出力化に対応して半導体レーザ素子2の数が増えると半導体レーザ素子2の両端間の幅が大きくなり、又各半導体レーザ素子2から発せられるレーザ光線の間隔も大きくなる。これらレーザ光線を束ねる有効な手段として光ファイバがあり、各半導体レーザ素子2から発せられるレーザ光線をそれぞれ光ファイバに入射させ、光ファイバを束ねるものである。光ファイバでレーザ光線を束ねる場合、光ファイバの取回しの為の占有空間が大きくなり、又束ねた光ファイバの径が大きくなる。この為、複数の半導体レーザ素子2を具備する半導体レーザ装置では設置上の制約が大きくなると共に束ねた光ファイバの径が大きくなり、束ねられたレーザ光線の光束断面も大きくなるという不具合があった。
【0011】
又、複数の半導体レーザ素子と光ファイバとの光軸合わせの調整に細かい作業が必要となる問題もあった。
【0012】
更に、上記した様に、従来の半導体レーザ装置では複数の半導体レーザ素子2から発せられるレーザ光線を細く束ねる為に複雑な光学系が必要であり、又複雑な光学系と半導体レーザ素子2が平面的に配設されることで、半導体レーザ装置の小型化が難しいという問題があり、又光学系に光ファイバを用いた場合、レーザ光線が光ファイバを通過する際に本来レーザ光線が持っている偏向方向が崩れてしまうという問題があった。
【0013】
本発明は斯かる実情に鑑み、複数の半導体レーザ素子からの集光及び調整も容易にし、而も半導体レーザ装置の小型化が図れる半導体レーザ装置を提供するものである。
【0014】
【課題を解決するための手段】
本発明は、複数の段差面が形成されたヒートシンクと、前記段差面毎に設けられた複数の半導体レーザ素子と該半導体レーザ素子の個々に対峙させて複数の第1のロッドレンズを設け、該第1のロッドレンズを透過したレーザ光線を前記第1のロッドレンズとは直交する方向に集光する第2のロッドレンズを設けた半導体レーザ装置に係り、又前記第2のロッドレンズが前記第1のロッドレンズと同数設けられ、前記第1のロッドレンズ個々に対応させて設けられた半導体レーザ装置に係り、又前記複数の半導体レーザ素子からの複数のレーザ光線を個別に反射し、反射された複数のレーザ光線は同一面内にある様に反射する複数の反射面を有する反射部材を具備する半導体レーザ装置に係り、又前記第2のロッドレンズは前記反射部材の反射光軸上に設けられた半導体レーザ装置に係り、又前記段差面を横切り前記ヒートシンクに設けられた上ヒートシンクと、前記半導体レーザ素子の上面に設けられ前記上ヒートシンクを貫通する端子棒を設け、該端子棒は前記半導体レーザ素子の電極と前記上ヒートシンクへの熱伝達部材を兼ねる半導体レーザ装置に係り、又前記反射部材は結晶材料であり、反射面は研磨面又はへき界面である半導体レーザ装置に係り、又前記反射面には誘電体薄膜が形成されている半導体レーザ装置に係り、又前記反射面には特定の波長帯のみを反射する反射膜を備える半導体レーザ装置に係り、更に又前記複数の半導体レーザ素子は、それぞれ異なる波長を発し、前記第1のロッドレンズと第2のロッドレンズにより同一方向に平行光束とされる半導体レーザ装置に係るものである。
【0015】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しつつ本発明の実施の形態を説明する。
【0016】
先ず、図1〜図5は本発明の第1の実施の形態を示している。
【0017】
本実施の形態では複数(図示では3個)の半導体レーザ素子2a,2b,2cが用いられる場合について説明する。
【0018】
図5に示される様にヒートシンク6に段差面5a,5b,5cが階段状に凹設され、前記ヒートシンク6の各段差面5a,5b,5cに前記半導体レーザ素子2a,2b,2cが固着されている。該半導体レーザ素子2a,2b,2cの前端面(発光面)は同一面(図示では前記ヒートシンク6の前端面)に位置している。
【0019】
前記ヒートシンク6の前記段差面5a,5b,5cの両側方に上面から前端面に掛渡って倒立L字形状のレンズ保持具7,7が固着されている。コリメートレンズである第1ロッドレンズ8a,8b,8cを前記レンズ保持具7,7に掛渡して設ける。前記第1ロッドレンズ8a,8b,8cはそれぞれ前記半導体レーザ素子2a,2b,2cと対向しており、又前記第1ロッドレンズ8a,8b,8cは互いに平行であると共に前記半導体レーザ素子2a,2b,2cの光軸に対して直交している。
【0020】
前記ヒートシンク6の前端面に上面と平行にレンズ保持台9が突設され、該レンズ保持台9にコリメートレンズである3本の第2ロッドレンズ11a,11b,11cが立設されている。該第2ロッドレンズ11a,11b,11cは互いに平行であると共に前記第1ロッドレンズ8a,8b,8cとそれぞれ直交している。
【0021】
前記ヒートシンク6と対向する位置にミラー保持台12が配設され、該ミラー保持台12の上面に反射部材13が固着される。該反射部材13は前記半導体レーザ素子2a,2b,2cと対応する様に、3段の反射面13a,13b,13cを有し、各反射面13a,13b,13cは前記半導体レーザ素子2a,2b,2cの光軸に対して所要の角度(図示では45°の角度)で傾斜し、相互に平行となっている。
【0022】
前記反射部材13としては光学部材又はシリコンウェーハ等の結晶材料が用いられ、前記反射面13a,13b,13cは研磨面又はへき界面が使われる。該反射面13a,13b,13cには高反射率を得る為誘電体薄膜を形成しても良い。
【0023】
尚、前記ヒートシンク6の裏面には図示しない電子冷凍素子(TEC)が取付けられている。
【0024】
前記半導体レーザ素子2a,2b,2cは発光エミッタが扁平であることから、射出されるレーザ光線の光束断面は楕円形状となり、又楕円形状は縦方向が短径で、横方向が長径となり、広がり角については縦方向が大きく、横方向が小さい。図示では前記半導体レーザ素子2a,2b,2cから発せられるレーザ光線の光束断面は横方向が長径の断面となっているので、前記第1ロッドレンズ8a,8b,8cが前記第2ロッドレンズ11a,11b,11cより屈折力が大きくなっている。
【0025】
前記半導体レーザ素子2a,2b,2cが駆動され、レーザ光線14a,14b,14cが発せられる。該レーザ光線14a,14b,14cは先ず前記第1ロッドレンズ8a,8b,8cにより短軸方向について平行光束とされ、次に前記第2ロッドレンズ11a,11b,11cにより長軸方向が平行光束とされる。
【0026】
該第2ロッドレンズ11a,11b,11cを透過した前記レーザ光線14a,14b,14cは前記反射部材13の各反射面13a,13b,13cにより直角方向に反射され、反射されたレーザ光線14a,14b,14cは同一面内にあり、本実施の形態では縦一列となる。
【0027】
而して、反射されたレーザ光線14a,14b,14cは縦一列となり、前記段差面5a,5b,5cの段差量を前記第2ロッドレンズ11a,11b,11cを通過したレーザ光線14a,14b,14cの光束の短軸径と略等しくすれば、該レーザ光線14a,14b,14c全体の光束の径は小さくなり、更に集光させる場合の光学系、或は所要位置にレーザ光線を導く場合の光学系は小型のものでよくなる。
【0028】
図6は第2の実施の形態を示すものである。
【0029】
本第2の実施の形態では、1本の第2ロッドレンズ11をミラー保持台12に設け、レーザ光線14a,14b,14cの光束断面の長軸方向については前記第2ロッドレンズ11により1本の平行光束としたものである。
【0030】
第1ロッドレンズ8a,8b,8cを介在させ、且つ前記ミラー保持台12をヒートシンク6に接近して設け、前記ミラー保持台12の上面には前記半導体レーザ素子2a,2b,2cと対向する反射面13a,13b,13cを具備する反射部材13が設けられている。該反射部材13の反射光軸上に配置した前記第2ロッドレンズ11を前記ミラー保持台12に固着する。前記第2ロッドレンズ11の光軸は前記レーザ光線14a,14b,14cの光軸とそれぞれ直交する。
【0031】
前記半導体レーザ素子2a,2b,2cより発せられたレーザ光線14a,14b,14cの光束は前記第1ロッドレンズ8a,8b,8cにより短軸方向が平行光束とされ、前記反射面13a,13b,13cで反射された後、前記第2ロッドレンズ11により長軸方向が平行光束とされる。
【0032】
本第2の実施の形態では全体形状が小さくなると共に前記第2ロッドレンズ11が1本でよくなり、構成も簡単になる。
【0033】
図7に示す第3の実施の形態では、半導体レーザ素子2a,2b,2cの冷却効果を高めたものである。
【0034】
ヒートシンク6の上面に熱伝導率の高く且つ電気絶縁材料のシート、或は膜である絶縁材15を介して上ヒートシンク16を設ける。該上ヒートシンク16は前記段差面5a,5b,5cを横切る様に配置され、前記ヒートシンク6に対する熱的連続性が確保されている。前記半導体レーザ素子2a,2b,2cの上面に高熱伝導性で且つ電導性を有する端子棒17a,17b,17cを立設し、該端子棒17a,17b,17cの上端部は前記上ヒートシンク16を貫通して突出している。前記端子棒17a,17b,17cの上端部と前記上ヒートシンク16とはハンダ付け等の手段により電導性、熱伝導性が保証された手段で前記上ヒートシンク16に固着される。
【0035】
而して、前記端子棒17a,17b,17cは前記半導体レーザ素子2a,2b,2cの電力供給端子となると共に前記上ヒートシンク16への熱伝達部材となる。
【0036】
該上ヒートシンク16は前記半導体レーザ素子2a,2b,2cの共通した電極となり、前記ヒートシンク6と上ヒートシンク16間に電力を供給することで、段差面5a,5b,5cを発光させることができる。又、前記半導体レーザ素子2a,2b,2cの下面からの熱は、直接前記ヒートシンク6へ伝達され、前記半導体レーザ素子2a,2b,2cの上面からの熱は前記端子棒17a,17b,17c、上ヒートシンク16及び絶縁材15を介して前記ヒートシンク6に伝達され、前記半導体レーザ素子2a,2b,2cは上下両面から冷却される。
【0037】
図8に示す第4の実施の形態では、前記上ヒートシンク16の代りに熱伝導率の高く且つ電気絶縁材料である上ヒートシンク18を固着し、該上ヒートシンク18の上面に熱伝導率の高く且つ導電材料である接点板19を固着したものである。該接点板19と前記端子棒17a,17b,17cとをハンダ付け等の手段により電導性、熱伝導性が保証された手段で固着する。
【0038】
前記ヒートシンク6と前記接点板19とが前記半導体レーザ素子2a,2b,2cの電力供給端子となり、前記半導体レーザ素子2a,2b,2cの下面からの発熱は直接前記ヒートシンク6に伝達され、前記半導体レーザ素子2a,2b,2cの上面からの熱は、前記端子棒17a,17b,17cを介して前記上ヒートシンク18に伝達され、又前記端子棒17a,17b,17cを介して前記接点板19に伝達され、更に該接点板19、上ヒートシンク18を介して前記ヒートシンク6に伝達され、前記半導体レーザ素子2a,2b,2cは上下両面から冷却される。
【0039】
尚、上記半導体レーザ素子2a,2b,2cは同一波長のレーザ光線を発するものを用いてもよく、或はそれぞれ赤色、緑色、青色の各色を発するものを用いてもよい。
【0040】
更に、半導体レーザ素子2a,2b,2cの波長が異なる場合は、図9に示す様な反射部材21を更に用いることで、レーザ光線14a,14b,14cを同一光軸上に束ねることができる。
【0041】
前記反射部材21は前記レーザ光線14a,14b,14cに対応する反射面21a,21b,21cをそれぞれ具備し、前記反射面21aはレーザ光線14aの波長帯の光線のみを反射し、前記反射面21bはレーザ光線14bの波長帯の光線のみを反射し、前記反射面21cはレーザ光線14cの波長帯の光線、或は全ての波長帯の光線を反射する様に、各反射面21a,21b,21cの反射特性が設定されている。
【0042】
前記反射面21cで反射されたレーザ光線14cは前記反射面21a,21bを透過し、前記反射面21bで反射されたレーザ光線14bは前記反射面21aを透過し、それぞれ前記反射面21aで反射されたレーザ光線14aと重合する。
【0043】
而して、前記半導体レーザ素子2a,2b,2cを同一光軸とするレーザ光線に束ねることができると共に前記半導体レーザ素子2a,2b,2cを光源とした白色光が得られる。
【0044】
尚、上記段差面は2又は4以上とし、半導体レーザ素子も2又は4以上設けてもよい。又、前記ヒートシンク6とミラー保持台12は一体ものであってもよい。
【0045】
【発明の効果】
以上述べた如く本発明によれば、複数の段差面が形成されたヒートシンクと、前記段差面毎に設けられた複数の半導体レーザ素子と該半導体レーザ素子の個々に対峙させて複数の第1のロッドレンズを設け、該第1のロッドレンズを透過したレーザ光線を前記第1のロッドレンズとは直交する方向に集光する第2のロッドレンズを設けたので、レーザ光線を平行光束とする光学系が簡略化でき、複数の半導体レーザ素子からの集光を容易にし、而も半導体レーザ装置の小型化が図れる。
【0046】
又、前記複数の半導体レーザ素子からの複数のレーザ光線を個別に反射し、反射された複数のレーザ光線は同一面内にある様に反射する複数の反射面を有する反射部材を具備するので、複数の半導体レーザ素子からの複数のレーザ光線を簡潔な構造で束ねることができる。
【0047】
又、前記段差面を横切り前記ヒートシンクに設けられた上ヒートシンクと、前記半導体レーザ素子の上面に設けられ前記上ヒートシンクを貫通する端子棒を設け、該端子棒は前記半導体レーザ素子の電極と前記上ヒートシンクへの熱伝達部材を兼ねたので、複数の半導体レーザ素子を個々に効率よく冷却することができる等の優れた効果を発揮する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態を示す平面図である。
【図2】本発明の第1の実施の形態を示す右側面図である。
【図3】本発明の第1の実施の形態を示す正面図である。
【図4】図1のA−A矢視図である。
【図5】本発明の第1の実施の形態に於けるヒートシンクを示す斜視図である。
【図6】本発明の第2の実施の形態を示す平面図である。
【図7】本発明の第3の実施の形態を示し、半導体レーザ素子とヒートシンクとの関係を示す正面図である。
【図8】本発明の第4の実施の形態を示し、半導体レーザ素子とヒートシンクとの関係を示す正面図である。
【図9】本発明の応用例を示し、図3と同方向から見た図である。
【図10】従来例を示す概略斜視図である。
【図11】他の従来例を示す概略斜視図である。
【符号の説明】
1 半導体レーザ装置
2 半導体レーザ素子
5 段差面
6 ヒートシンク
8 第1ロッドレンズ
9 レンズ保持台
11 第2ロッドレンズ
13 反射部材
14 レーザ光線
16 上ヒートシンク
17 端子棒
21 反射部材
Claims (9)
- 複数の段差面が形成されたヒートシンクと、前記段差面毎に設けられた複数の半導体レーザ素子と該半導体レーザ素子の個々に対峙させて複数の第1のロッドレンズを設け、該第1のロッドレンズを透過したレーザ光線を前記第1のロッドレンズとは直交する方向に集光する第2のロッドレンズを設けたことを特徴とする半導体レーザ装置。
- 前記第2のロッドレンズが前記第1のロッドレンズと同数設けられ、前記第1のロッドレンズ個々に対応させて設けられた請求項1の半導体レーザ装置。
- 前記複数の半導体レーザ素子からの複数のレーザ光線を個別に反射し、反射された複数のレーザ光線は同一面内にある様に反射する複数の反射面を有する反射部材を具備する請求項1の半導体レーザ装置。
- 前記第2のロッドレンズは前記反射部材の反射光軸上に設けられた請求項3の半導体レーザ装置。
- 前記段差面を横切り前記ヒートシンクに設けられた上ヒートシンクと、前記半導体レーザ素子の上面に設けられ前記上ヒートシンクを貫通する端子棒を設け、該端子棒は前記半導体レーザ素子の電極と前記上ヒートシンクへの熱伝達部材を兼ねる請求項1の半導体レーザ装置。
- 前記反射部材は結晶材料であり、反射面は研磨面又はへき界面である請求項3の半導体レーザ装置。
- 前記反射面には誘電体薄膜が形成されている請求項3の半導体レーザ装置。
- 前記反射面には特定の波長帯のみを反射する反射膜を備える請求項3の半導体レーザ装置。
- 前記複数の半導体レーザ素子は、それぞれ異なる波長を発し、前記第1のロッドレンズと第2のロッドレンズにより同一方向に平行光束とされる請求項1の半導体レーザ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002198430A JP4128037B2 (ja) | 2002-07-08 | 2002-07-08 | 半導体レーザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002198430A JP4128037B2 (ja) | 2002-07-08 | 2002-07-08 | 半導体レーザ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2004040021A true JP2004040021A (ja) | 2004-02-05 |
| JP4128037B2 JP4128037B2 (ja) | 2008-07-30 |
Family
ID=31705882
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002198430A Expired - Fee Related JP4128037B2 (ja) | 2002-07-08 | 2002-07-08 | 半導体レーザ装置 |
Country Status (1)
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|---|---|
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| JP4128037B2 (ja) | 2008-07-30 |
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