JP2003058075A - 表示装置 - Google Patents
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Abstract
くし、且つ、本体の幅をできるだけ小さくするために、
本体に組み込まれる表示装置の額縁の面積を小さくする
ことが要求される。そこで、駆動回路を画素と同じ基板
上に形成した表示装置において、表示装置の横の額縁の
面積を小さくすることを課題とする。 【解決手段】ゲート信号線駆動回路を、ソース信号線駆
動回路と平行に設け、画素領域の四方のうち、少なくと
も対向する2方は、駆動回路が配置されない構成とす
る。上記構成により、ゲート信号線駆動回路の分、従来
ゲート信号線駆動回路が形成されていた表示装置の横方
向の幅を小さくすることができ、横方向の額縁の面積が
小さな表示装置を提供することができる。
Description
の画素を設け、各画素の輝度を変化させ表示を行う表示
装置に関する。特に、各画素の輝度を制御する駆動回路
を、画素が形成された絶縁表面上と同一表面上に、設け
た構成の表示装置に関する。また、前記表示装置を用い
た電子機器に関する。
れ用いられている。特に、携帯型情報機器に用いられる
表示装置では、携帯情報機器を小型化、低消費電力化す
るために、表示装置の小型化、低消費電力化が求められ
ている。
表示装置や、OLED(Organic Light Emitting Diod
e)素子を用いたOLED表示装置などのフラットパネ
ルディスプレイが注目されている。
は、一重項励起子からの発光(蛍光)と、三重項励起子
からの発光(燐光)の両方を含むものとする。
絶縁表面を有する基板上に形成された複数のマトリクス
状の画素を有する。駆動回路によって、1画素に選択的
に映像信号を入力して、画素の輝度を変化させることに
よって、画像を表現する。
様々な手法がある。
IC基板等の別基板上に形成し、画素が形成された絶縁
表面を有する基板上に貼り付けて画素との接続を取る手
法がある。この場合、単結晶IC基板と、画素が形成さ
れた絶縁表面を有する基板の張り合わせの際に必要とな
る面積が大きい。また、駆動回路と画素との間の配線抵
抗が大きい。そのため、小型・低消費電力の表示装置を
提供するのが困難である。
の表面上に駆動回路を一体形成し、画素と駆動回路の接
続を取る手法がある。画素が形成された絶縁表面と同一
の表面上に、薄膜トランジスタ(TFT:Thin Film Trans
ister)によって、駆動回路を形成する。これによっ
て、小型化・低消費電力化可能な表示装置が提供され
る。
された画素領域と、画素領域の周りに形成された駆動回
路とを有する表示装置の上面図を示す。
信号線駆動回路902と、ゲート信号線駆動回路901
(901A及び901B)と、画素領域903が配置され
ている。各駆動回路(ソース信号線駆動回路902及び
ゲート信号線駆動回路901)に入力される信号は、F
PC基板904より入力される。
903以外の領域を額縁と呼ぶことにする。つまり、表
示装置において額縁とは、画像の表示を行わない部分に
相当する。
素子の配向を制御することによって透過率を制御し、表
現される。液晶素子は、2つの電極間に液晶材料が配置
された構造を有する。駆動回路等が形成された基板(以
下、画素基板と表記する)上に液晶素子の一方の電極
(以下、画素電極と表記する)を形成し、別基板(以
下、対向基板と表記する)上に、液晶素子のもう一方の
電極(対向電極)を形成する。画素基板及び対向基板
を、画素電極と対向電極が向かい合うように貼り付け
る。
回路を囲むようにシール材を配置し、対向基版を貼り付
ける。画素基板、対向基板及びシール材によって囲まれ
た領域に液晶材料が封入される。図9に示す表示装置が
液晶表示装置であるとすると、画素基板900と対向基
板を貼り付ける際に用いるシール材がを、906であ
る。なお、図9において対向基板、液晶材料は、図示し
ていない。
OLED素子の発光を制御することによって表現され
る。OLED素子は、駆動回路等を構成するTFTが形
成された後、画素基板上に形成される。ここで、OLE
D素子は、外気に触れると酸素や水分等によって著しく
劣化する性質がある。そのため、OLED表示装置は、
OLED素子を形成した後、カバー材を設けてOLED
素子を外気から遮断する構造が用いられる。カバー材
は、画素基板上にシール材を用いて貼り付けられる。
回路を囲むようにシール材を配置し、カバー材を貼り付
ける。画素基板、カバー材及びシール材によって囲まれ
た領域にOLED素子が密閉される。図9に示す表示装置が
OLED表示装置であるとすると、シール材は、906
である。なお、図9においてカバー材は、図示していな
い。
示装置に共通して、画素領域903には、並列に配置さ
れたx本(xは、自然数)のソース信号線S1〜Sx
と、ソース信号線S1〜Sxに垂直な方向に、並列に配
置されたy(yは、自然数)のゲート信号線G1〜Gy
が形成される。これらのソース信号線S1〜Sxと、ゲ
ート信号線G1〜Gyに入力された信号によって、画素
が選択され、選択された画素の輝度が制御される。
力するソース信号線駆動回路902と、複数のゲート信
号線G1〜Gyに信号を入力するゲート信号線駆動回路
901(901A及び901B)が、画素領域903の
周りに形成されている。
動回路902では、図中矢印で示した走査方向に従っ
て、順に信号を出力し、出力された信号は、複数のソー
ス信号線S1〜Sxに入力される。通常、複数の平行に
配置されたソース信号線S1〜Sxに対して、走査方向
が垂直になるようにソース信号線駆動回路902が配置
されている。同様に、シフトレジスタ等を用いたゲート
信号線駆動回路901では、図中矢印で示した走査方向
に従って、順に信号を出力し、出力された信号は、複数
のゲート信号線G1〜Gyに入力される。通常、複数の
平行に配置されたゲート信号線G1〜Gyに対して、走
査方向が垂直になるようにゲート信号線駆動回路901
が配置されている。
(901A及び901B)は、画素領域の両側に形成さ
れているが、片側配置でもかまわない。
路901の走査方向を、行方向と呼び、ソース信号線駆
動回路902の走査方向を、列方向と呼ぶことにする。
の1辺に平行にソース信号線駆動回路902が形成され
る。そして、ソース信号線駆動回路902が平行に形成
された辺とは異なり、また対向しない2辺に、それぞれ
平行にゲート信号線駆動回路901A及び901Bが形
成されている。
画素領域903の4辺の周辺で、FPC基板904が接
続された辺の側を上部、その向かい合う辺の側を下部と
言うことにする。
の4辺の周辺で、FPC基板904が接続された辺と隣
り合う辺の側と、その対向する辺の側とを、それぞれ画
素領域の左部、右部と呼ぶ事にする。
板が貼り付けられた部分から一番近い距離に配置され
る。そのため一般に、画素領域903の上部にはソース
信号線駆動回路902が配置されている。一方、画素基
板900上の画素領域903の左右には、ゲート信号線
駆動回路901が配置されている。
900上の画素領域903の4辺の周辺で、FPC基板
904が接続された側と対向する側に配置されていても
良い。このとき画素領域の下部にソース信号線駆動回路
が配置される構成となる。
装置の上下左右にそれぞれ対応するものと考える。
機器の場合、画像表示を行う画面をできるだけ大きくす
ること、及び、本体の幅を小さくして持ちやすくするこ
とが、ユーザーから求められている。
体の幅をできるだけ小さくするために、本体に組み込ま
れる表示装置の額縁の面積を小さくすることが要求され
る。
は、ゲート信号線駆動回路901A及び901Bが、画
素領域903の左右に配置されている。
駆動回路901A及び901Bの外側には、更にシール
材906が形成される。そのため、表示装置の左右の額
縁の面積を小さくすることができない問題がある。
が接続されているため、額縁の面積を小さくするには限
界がある。
と同一の表面上に、それら複数の画素に入力する信号を
制御する駆動回路が形成された表示装置において、表示
装置の横の額縁の面積を小さくすることを課題とする。
絶縁表面と同一の表面上に、それら複数の画素に入力す
る信号を制御する駆動回路(ソース信号線駆動回路及び
ゲート信号線駆動回路)が形成された表示装置におい
て、ゲート信号線駆動回路を、ソース信号線駆動回路と
平行に設ける。つまり、ゲート信号線駆動回路を、画素
領域の上や下に配置する。
とも対向する2方は、駆動回路が配置されない構成とす
る。
号線駆動回路を平行にするとは、ゲート信号線駆動回路
の走査方向が、ソース信号線駆動回路の走査方向と平行
になることを示す。
とは、駆動回路において、駆動回路からの信号を入力す
る複数の信号線のそれぞれに対応する回路が、並んだ方
向を示すものとする。
れる信号は、短い距離で、画素領域に入力されるのが望
ましい。そのため、ソース信号線駆動回路とゲート信号
線駆動回路を画素領域の同じ側に形成した場合、ソース
信号線駆動回路は、ゲート信号線駆動回路より画素領域
に近い側に配置される。
号線駆動回路より画素領域に近い側に配置する構成とす
ることも可能である。
上部または下部にのみ配置し、ゲート信号線駆動回路
を、画素領域のソース信号線駆動回路が形成された側の
辺と対向する辺の側にのみ配置する構成でもよい。
ゲート信号線駆動回路を配置した場合、画素領域のゲー
ト信号線を順に走査するために以下の構成を用いる。
路は、画素領域のゲート信号線に対して垂直な、引き回
し用ゲート信号線に信号を出力する。
号線駆動回路を画素領域の同じ側で、且つ、ソース信号
線駆動回路は、ゲート信号線駆動回路より画素領域に近
い側に配置する構成の場合は、引き回し用ゲート信号線
は、ゲート信号線駆動回路と画素領域の間に設けられた
ソース信号線駆動回路を貫通して、画素領域を引き回さ
れる。
いて対応するゲート信号線に接続される。こうしてゲー
ト信号線駆動回路は、画素領域のゲート信号線に信号を
順次入力する。
れる引き回し用ゲート信号線は、ゲート信号線と同じ層
に形成されていても良いし、異なる層に形成されていて
もよい。
域において、ソース信号線等と平行に形成される。引き
回し用ゲート信号線を、これらの平行な配線と重ねて形
成することによって、開口率を大きくすることが可能で
ある。
路の出力を引き回して、画素領域の横方向から入力す
る。
を配置することができる。これによって、配線が占める
面積による表示装置の横方向の額縁の面積も抑制するこ
とができる。
分、従来ゲート信号線駆動回路が形成されていた表示装
置の横方向の幅を小さくすることができ、横方向の額縁
の面積が小さな表示装置を提供することができる。
成された絶縁表面と同一の表面上に、それら複数の画素
に入力する信号を制御する駆動回路(ソース信号線駆動
回路及びゲート信号線駆動回路)が形成された表示装置
において、ゲート信号線駆動回路を、画素領域の4辺の
周辺のソース信号線駆動回路と同じ辺の側に配置する。
このとき、ソース信号線駆動回路は、ゲート信号線駆動
回路より画素領域に近い側に配置し、ゲート信号線駆動
回路からの信号を、ソース信号線駆動回路を介して画素
領域に入力する。
信号線駆動回路及びゲート信号線駆動回路)を配置しな
い。
の構成を示す。
図である。表示装置は、画素基板100上に、画素領域
103と、ソース信号線駆動回路102と、ゲート信号
線駆動回路101と、FPC基板104と、シール材10
6とが配置されている。
103の上部に形成され、ゲート信号線駆動回路101
は、ソース信号線駆動回路102と平行に、画素領域1
03の上部に形成されている。
詳細な構成を図1(B)に、領域111で示した部分の
詳細な構成を図1(C)に示す。
線駆動回路101の一部である。また、102aはソー
ス信号線駆動回路102の一部である。ここで、画素領
域には、x(xは自然数)本のソース信号線と、y(y
は自然数)本のゲート信号線が配置されているとする。
路101aから出力された信号は、引き回し用ゲート信
号線GDi−2〜GDi+2(iは、3以上の自然数)に出
力される。引き回し用ゲート信号線GDi−2〜GDi+2
は、ソース信号線駆動回路102aを貫通して、画素領
域103へ引き回される。また、ソース信号線駆動回路
102aは、ソース信号線Sj−2〜Sj+2(jは、3
以上の自然数)に信号を出力する。引き回し用ゲート信
号線GDi−2〜GDi+2とソース信号線Sj−2〜Sj+
2は、平行である。
ソース信号線駆動回路から画素領域に引き回される部分
を、引き回し用のソース信号線とし、画素領域内のソー
ス信号線と区別して呼ぶこともできるが、説明のため、
画素領域のソース信号線と画素領域のソース信号線のど
ちらも、ソース信号線と呼ぶことにする。
領域103に引き回された、引き回し用ゲート信号線GD
i−2〜GDi+2は、ゲート信号線Gi−2〜Gi+2と
それぞれ接続される。
等は図示していない。
路101全体から、全ての引き回し用ゲート信号線GD1
〜GDz(zは、自然数)に信号が入力され、画素領域に
信号を入力する。また、ソース信号線駆動回路102全
体から、ソース信号線S1〜Sxに信号が入力され、画素
領域103に信号を入力する。画素領域103におい
て、領域111と同様に、全てのゲート信号線G1〜Gy
それぞれは、対応する引き回し用ゲート信号線GD1〜GD
zそれぞれと接続される。
zを、ゲート信号線の本数yと同じに設定する場合を想
定する。
ゲート信号線の数yと異なる。仮に、ソース信号線の数
xが、ゲート信号線の数yより大きな場合、ソース信号
線と引き回し用ゲート信号線が交互に画素領域へ引き回
されている部分と、ソース信号線のみが画素領域へ引き
回されている部分が生じる状態となる。または、引き回
し用ゲート信号線の配線間隔が、ソース信号線の配線間
隔より広くなる状態となる。
口率が問題となる場合等に、画素の輝度のばらつきの原
因となる可能性がある。そこで、引き回し用ゲート信号
線の数zを、ソース信号線の数xと同じに設定し、引き
回し用ゲート信号線のx−y本分を、実際にはゲート信
号線に信号を入力しない、ダミー配線として扱う構成と
してもよい。
し用ゲート信号線を、ゲート信号線と同じ層に形成する
場合を例に説明する。
図を示す。
号線GDi−1〜GDi+1と、ゲート信号線Gi−1
〜Gi+1は、同じ層に形成されている。ゲート信号線
Giと、引き回し用ゲート信号線GDiの接続されると
する。一方、接続されないゲート信号線Giと、引き回
し用ゲート信号線GDj(jは、iとは異なるy以下の
自然数)とは、ゲート信号線Giとは別の層に形成され
た配線を介して交わる。
用ゲート信号線GD1〜GDyは、ゲート信号線G1〜
Gyとそれぞれ接続される。
した部分の拡大図を示す。
号線Gi、Gi−1等とは異なる層に形成された配線20
1を介して、ゲート信号線Gi−1と交わる。つまり、
ゲート信号線Gi−1と交わる前に、ゲート信号線Gi−
1と同じ層に形成された引き回し用ゲート信号線GDiは
コンタクトホール202aによって、配線201と接続
される。また、ゲート信号線Gi−1と交わった後、配
線201は、コンタクトホール202bによって、再び
ゲート信号線Gi−1と同じ層に形成された引き回し用
ゲート信号線GDiに接続される。こうして、引き回し用
ゲート信号線GDiとゲート信号線Giは接続される。
や上方放射のOLED表示装置等、画素基板を介さずに
放出された光を視認するタイプの表示装置に有効であ
る。
引き出し用ゲート信号線を、ゲート信号線と異なる層に
形成する場合を例を図5を用いて説明する。
部の構成を示す上面図を示す。
信号線GDi、GDi+1をゲート信号線Gi、Gi+
1と異なる層に形成する。なお、図5(A)において、
ゲート信号線及び引き回し用ゲート信号線以外の配線は
図示していない。
号線Giは、コンタクトホール501iによって接続さ
れる。同様に、引き回し用ゲート信号線GDi+1とゲ
ート信号線Gi+1は、コンタクトホール501i+1
によって接続される。
+1が、引き回し用ゲート信号線GDi、GDi+1と
重ねて配置した例を示す。このとき、ソース信号線Sj
及びSj+1と、ゲート信号線Gi及びGi+1と、引
き回し用ゲート信号線GDi及びGDi+1とをそれぞ
れ異なる層に形成される。1画素を、500で示す。
号線Giは、コンタクトホール502iによって接続さ
れる。同様に、引き回し用ゲート信号線GDi+1とゲ
ート信号線Gi+1は、コンタクトホール502i+1
によって接続される。
回し用ゲート信号線を重ねて配置する構成では、画素の
開口率を上げることができる。図5(B)に示した構成
は、透過型液晶表示装置や下方放射のOLED表示装置
等、画素基板を介して放出された光を視認するタイプの
表示装置に有効である。
が、引き回し用ゲート信号線GDi、GDi+1と重ね
て配置した例を示す。このとき、電源線Vi及びVi+
1と、ゲート信号線Gi及びGi+1と、引き回し用ゲ
ート信号線GDi及びGDi+1とをそれぞれ異なる層
に形成される。なお、電源線Vi、Vi+1と、ソース
信号線Sj、Sj+1は同じ層に形成されていても良い
し、異なる層に形成されていてもよい。1画素を、50
0で示す。
号線Giは、コンタクトホール503iによって接続さ
れる。同様に、引き回し用ゲート信号線GDi+1とゲ
ート信号線Gi+1は、コンタクトホール503i+1
によって接続される。
ゲート信号線を重ねて配置する構成では、画素の開口率
を上げることができる。図5(C)に示した構成は、透
過型液晶表示装置や下方放射のOLED表示装置等、画
素基板を介して放出された光を視認するタイプの表示装
置に有効である。
を、ソース信号線駆動回路の上方に配置した。つまり、
ソース信号線駆動回路を、ゲート信号線駆動回路より画
素領域に近い側に配置する構成としたが、ゲート信号線
駆動回路を、ソース信号線駆動回路より画素領域に近い
側に配置する構成とすることも可能である。
回し用ゲート信号線の引き回しの距離を短くすることが
できる。よって、実施の形態1は、画素領域の面積が比
較的大きい表示装置に対して、有効である。
表示装置等、画素列を選択する駆動回路(ソース信号線
駆動回路)及び画素行を選択する駆動回路(ゲート信号
線駆動回路)によって駆動される画素を有する、あらゆ
る構成の表示装置に自由に適用することが可能である。
は、画素列を選択する信号線(ソース信号線)及び画素
行を選択する信号線(ゲート信号線)が配線される、公
知の構成の画素を自由に用いることができる。また、各
駆動回路(ソース信号線駆動回路及びゲート信号線駆動
回路)は、公知の構成の駆動回路を自由に用いることが
できる。
レジスタ等を用て構成され順に信号を出力するタイプの
ものでも良いし、デコーダ等によって構成され任意の順
に信号を出力可能なタイプのものでもよい。
画素が形成された絶縁表面と同一の表面上に、それら複
数の画素に入力する信号を制御する駆動回路(ソース信
号線駆動回路及びゲート信号線駆動回路)が形成された
表示装置において、ゲート信号線駆動回路を、ソース信
号線駆動回路と平行に配置し、ゲート信号線駆動回路か
らの信号出力を、ソース信号線駆動回路の周辺及び画素
領域の周辺を引き回して、横方向より画素領域のゲート
信号線に入力する構成である。上記構成の表示装置の模
式図を図4に示す。
0上にゲート信号線駆動回路301(301A及び30
1B)、ソース信号線駆動回路302、画素領域30
3、FPC基板304、シール材306が配置されてい
る。
び301B)は、ソース信号線駆動回路302と平行に
なるように、画素領域303の上下に配置されている。
各ゲート信号線駆動回路からの出力信号は、図中333
で示した領域を引き回される配線によって、画素領域3
03の左右から、画素領域303のゲート信号線に入力
される。
素領域303の上部または下部の片側だけに配置しても
よい。
ート信号線と重ねてシール材を形成することによって、
表示装置の横の額縁の面積を更に小さくすることができ
る。
の、ゲート信号線駆動回路から画素領域に引き回される
部分を、引き回し用のゲート信号線とし、画素領域内の
ゲート信号線と区別して呼ぶこともできるが、説明のた
め、画素領域のゲート信号線と画素領域のゲート信号線
のどちらも、ゲート信号線と呼ぶことにする。
重ねて配置した構造の例を示す模式図を、図15に示
す。
れるゲート信号線の上面図である。ゲート信号線G1〜
Gy‘が並列に配置され、画素領域1510の左側の各
場所で画素領域1510に引き回されている。ゲート信
号線G1〜Gy‘の上部には、シール材1511が形成
されている。図15(A)中、A〜A‘で示す部分の断
面図を、図15(B)に示す。図15(B)において、
ゲート信号線G1〜Gy‘は、画素基板1500上の絶
縁表面1501上に形成され、ゲート信号線G1〜Gy
‘の上には、シール材1511が形成されている。
たように、画素領域1510の横の並列に配置されたゲ
ート信号線G1〜Gy‘の全てが、シール材1511と
重なった構成であってもよいし、画素領域1510の横
に並列に配置されたゲート信号線G1〜Gy‘の一部
が、シール材1511と重なって配置された構成であっ
てもよい。図15(C)に、画素領域1510の横側を
引き回される、並列に配置されたゲート信号線G1〜G
y‘の一部のみがシール材1511と重ねて配置された
構造の上面図を示す。また、図15(C)中、B〜B
‘の断面図が、図15(D)である。なお、図15
(C)及び図15(D)中、図15(A)及び図15
(B)と同じ部分は同じ符号を用いて示し、説明は省略
する。
接して形成される構成を示したが、シール材とゲート信
号線は、その間に層間膜等を介して、重なっていてもか
まわない。
示装置の場合、対向基板や配向膜、液晶材料等は図示し
ていない。また、図15に示した表示装置がOLED表
示装置の場合、カバー材等は、図示していない。
ル材と重ねて配置する構造によって、ゲート信号線の数
が多い場合にも、額縁の面積を小さく抑えることが可能
である。
な構成の一例を示す。
じ符号を用いて示し、説明は省略する。
域303の上部のソース信号線駆動回路302の更に上
方に配置される。また、ゲート信号線駆動回路301B
が、画素領域303の下部にも配置される。
Bの出力信号は、ソース信号線駆動回路302の周辺及
び画素領域303の周辺を引き回され、画素領域303
に入力される。
1Bの出力信号を、画素領域に入力するまでのゲート信
号線の引き回しの具体例の1つを、図3(B)〜図3
(J)を用いて詳細に説明する。
の本数をy(yは、自然数)とする。ここでは説明の関
係上、yは4の倍数とするが、本発明はこれに限定され
ない。
2つのブロック301A_1及び301A_2に分けら
れるものとする。また、ゲート信号線駆動回路301B
は、2つのブロック301B_1及び301B_2に分
けられるものとする。ゲート信号線駆動回路301A_
1は、画素領域303に配置された1本目から(y/
4)本までのゲート信号線G1〜G(y/4)に信号を
入力する回路であるとする。ゲート信号線G1〜G(y
/4)が配置される画素領域を303_1で示す。ゲー
ト信号線駆動回路301A_2は、画素領域303に配
置された(y/4)+1本目から(y/2)本までのゲ
ート信号線G(y/4)+1〜G(y/2)に信号を入
力する回路であるとする。ゲート信号線G(y/4)+
1〜G(y/2)が配置される画素領域を303_2で
示す。ゲート信号線駆動回路301B_1は、画素領域
303に配置された(y/2)+1本目から(3y/
4)本までのゲート信号線G(y/2)+1〜G(3y
/4)に信号を入力する回路であるとする。ゲート信号
線G(y/2)+1〜G(3y/4)が配置される画素
領域を303_3で示す。ゲート信号線駆動回路301
B_2は、画素領域303に配置された(3y/4)+
1本目からy本までのゲート信号線G(3y/4)+1
〜Gyに信号を入力する回路であるとする。ゲート信号
線G(3y/4)+1〜Gyが配置される画素領域を3
03_4で示す。
1からの出力信号を、領域303_1に入力するための
配線について詳細に説明する。図3(B)〜図3(D)
はそれぞれ、図3(A)中、311a、312a、及び
313aで示した領域の詳細な構造である。
動回路301A_1の一部301Aaより出力された信
号は、ゲート信号線Gi−2〜Gi+2に入力される。
ゲート信号線Gi−2〜Gi+2は、ゲート信号線駆動
回路301Aaとソース信号線駆動回路302の一部3
02aの間で向きを変えられる。こうして、ゲート信号
線駆動回路301A_1から出力された信号は、ソース
信号線駆動回路302と、ゲート信号線駆動回路301
A_1の間に平行に形成されたゲート信号線G1〜G
(y/4)を介して、ソース信号線駆動回路302の左
端まで引き回される。ゲート信号線G1〜G(y/4)
は、ソース信号線駆動回路302の左端まで引き回され
たら方向を変え、シール材306と重なった画素領域3
03の左側の領域を、領域303_1の左側まで引き回
され、領域303_1に入力される。図3(C)におい
て、シール材306の一部306aと領域303_1の
一部303aを示す。こうして、図3(D)に示すよう
に、画素領域303_1においてソース信号線(図中S
と表記)と垂直に形成されたゲート信号線Gi−2〜G
i+2に、信号が入力される。
からの出力信号を、領域303_2に入力するための配
線について詳細に説明する。図3(E)〜図3(G)は
それぞれ、図3(A)中、311b、312b、及び3
13bで示した領域の詳細な構造である。
動回路301A_2の一部301Abより出力された信
号は、ゲート信号線Gj−2〜Gj+2に入力される。
ゲート信号線Gj−2〜Gj+2は、ゲート信号線駆動
回路301Abとソース信号線駆動回路302の一部3
02bの間で向きを変えられる。こうして、ゲート信号
線駆動回路301A_2から出力された信号は、ソース
信号線駆動回路302と、ゲート信号線駆動回路301
A_2の間に平行に形成されたゲート信号線G(y/
4)+1〜G(y/2)を介して、ソース信号線駆動回
路302の右端まで引き回される。ゲート信号線G1〜
G(y/4)は、ソース信号線駆動回路302の右端ま
で引き回されたら方向を変え、シール材306と重なっ
た画素領域303の右側の領域を、領域303_2の右
側まで引き回され、領域303_2に入力される。図3
(F)において、シール材306の一部306bと領域
303_2の一部303bを示す。こうして、図3
(G)に示すように、画素領域303_2においてソー
ス信号線(図中Sと表記)と垂直に形成されたゲート信
号線Gj−2〜Gj+2に、信号が入力される。
出力信号を、領域303_3に入力するための配線につ
いて詳細に説明する。図3(H)〜図3(J)はそれぞ
れ、図3(A)中、311c、312c、及び313c
で示した領域の詳細な構造である。
動回路301B_1の一部301Baより出力された信
号は、ゲート信号線Gk−2〜Gk+2に入力される。
ゲート信号線Gk−2〜Gk+2は、ゲート信号線駆動
回路301Baと画素領域303_4の一部303cの
間で向きを変えられる。こうして、ゲート信号線駆動回
路301B_1から出力された信号は、画素領域303
と、ゲート信号線駆動回路301B_1の間に平行に形
成されたゲート信号線G(y/2)+1〜G(3y/
4)を介して、画素領域303の左端まで引き回され
る。ゲート信号線G(y/2)+1〜G(3y/4)
は、画素領域303の左端まで引き回されたら方向を変
え、シール材306と重なった画素領域303の左側の
領域を、領域303_3の左側まで引き回され、領域3
03_3に入力される。図3(I)において、シール材
306の一部306cと領域303_1の一部303c
を示す。こうして、図3(J)に示すように、画素領域
303_3においてソース信号線(図中Sと表記)と垂
直に形成されたゲート信号線Gi−2〜Gi+2に、信
号が入力される。
回路301B_2から出力される信号は、ゲート信号線
駆動回路301B_2と画素領域303_4の間を、画
素領域303の右端まで引き回され、方向を変えられ、
シール材306と重なった画素領域303の右側の領域
を、領域303_4の右端まで引き回されて、領域30
3_4に入力される。
_1、301A_2、301B_1、301B_2をそ
れぞれ走査し、ゲート信号線G1〜Gyに順に信号を出
力することによって、画素領域303のゲート信号線G
1〜Gyに順に信号を入力することができる。
ート信号線駆動回路が無い分、画素領域の横方向の額縁
の面積を更に減らすことができる。また、シール材をこ
れら画素領域の左右を引き回されるゲート信号線の上部
に形成することによって、表示装置の左右の額縁の幅を
更に小さくすることができる。
左、上部右、下部左、下部右の4方向からゲート信号線
を引き回す場合は、画素領域の左右にはそれぞれに最多
でy/4本のゲート信号線が並列に配置されている。仮
に、ゲート信号線駆動回路を画素領域の上方のみに配置
し、画素領域の上部左の1方向からゲート信号線を引き
回す場合、画素領域の左には、最多でy本のゲート信号
線が並列に配置されることになる。
方向がらゲート信号線を引き回すことで、画素領域の横
側に並列に設けられる配線の数を減らすことができる。
こうして、画素領域の横方向の額縁の面積を、更に減ら
すことが可能となる。
ス信号線駆動回路302及びゲート信号線駆動回路30
1)に信号を入力する信号線や電源線は、画素領域30
3周りを引き回されるゲート信号線とは異なる層に形成
する。
は、ゲート信号線駆動回路から出力された信号を、画素
領域303の左右まで引き回す必要がある。そのため、
特に画素領域が大きな表示装置の場合、ゲート信号線G
1〜Gyの引き回し距離が長くなる。しかし、画素領域
内に、ゲート信号線と垂直な引き回し用ゲート信号線を
配置する必要がないので、透過型の表示装置において、
開口率を大きくすることができる。また、引き回し用ゲ
ート信号線が、ソース信号線駆動回路内を貫通する必要
がないので、ソース信号線駆動回路のレイアウト上の制
約が少ない。
の小さな表示装置に対して有効である。
表示装置等、画素列を選択する駆動回路(ソース信号線
駆動回路)及び画素行を選択する駆動回路(ゲート信号
線駆動回路)によって駆動される画素を有する、あらゆ
る構成の表示装置に自由に適用することが可能である。
は、画素列を選択する信号線(ソース信号線)及び画素
行を選択する信号線(ゲート信号線)が配線される、公
知の構成の画素を自由に用いることができる。また、各
駆動回路(ソース信号線駆動回路及びゲート信号線駆動
回路)は、公知の構成の駆動回路を自由に用いることが
できる。
レジスタ等を用て構成され順に信号を出力するタイプの
ものでも良いし、デコーダ等によって構成され任意の順
に信号を出力可能なタイプのものでもよい。
第2の構成として、図5(B)に示した構成の液晶表示
装置の一例を示す。
路図である。
ス信号線602_1と、ゲート信号線603_1と、ス
イッチング用TFT607と、容量素子(保持容量)6
08が配置されてる。
である。601_1〜601_3は、引き回し用ゲート
信号線である。606_1〜606_3は、コモン線で
ある。
TFT607は、第1のゲート電極と、第2のゲート電
極とを有するデュアルゲート型TFTであるとする。ス
イッチング用TFT607の第1のゲート電極と第2の
ゲート電極のうちの一方は、電位Vcomが与えられてお
り、もう一方は、ゲート信号線603_1に接続されて
いる。
またはドレイン領域は、一方はソース信号線602_1
と接続され、もう一方は、保持容量608の一方の電極
及び液晶素子609に接続されている。保持容量608
のもう一方の電極は、コモン線606_1に接続されて
いる。
ート信号線601_1と、コンタクトホール605_1
を介して接続されている。同様に、ゲート信号線603
_2は、引き回し用ゲート信号線601_2と、コンタ
クトホール605_2を介して接続されている。ゲート
信号線603_3は、引き回し用ゲート信号線601_
3と、コンタクトホール605_3を介して接続されて
いる。
置の画素の上面図及び断面図を示す。
号を用いて示し、説明は省略する。なお図6中におい
て、液晶素子として画素電極のみを609で示し、対向
基板、液晶層、配向膜等は図示しない。
る。また図6(A)中、A〜A‘の断面図が図6
(B)、B〜B’の断面図が図6(C)、C〜C‘の断
面図が図6(D)である。
上に形成されたスイッチング用TFT607のソース領
域とドレイン領域の一方668aは、ソース信号線60
2_1に接続され、もう一方668cは、配線612を
介して保持容量608の一方の電極613及び画素電極
609に接続されている。ここで、保持容量608は、
半導体層によって形成された電極613と、コモン線6
06_1の間に絶縁膜669を挟んだ構成である。ここ
で、670は層間膜である。
部分668bに絶縁膜669を介して接する第1のゲー
ト電極603_1aと、チャネル部分668bに絶縁膜
667を介して接する第2のゲート電極610aとを有
する、デュアルゲート型のTFTである。ここで、第1
のゲート電極603_1aは、ゲート信号線603_1
の一部に相当する。また第2のゲート電極610aは、
電位Vcomが与えられる配線610の一部に相当する。
ース信号線602_1と重ねて形成されている。
TFT607の第2のゲート電極610aに電位Vcom
を与える配線610は、コンタクトホール611によっ
て配線614に接続され、引き回し用ゲート信号線60
1_2上を引き回される。
ト信号線601_2は、ゲート信号線603_2とコン
タクトホール605_2を介して接続される。
Tがデュアルゲート型TFTの場合、TFTの有する、
異なる層に形成されたゲート電極のうち、一方のゲート
電極が形成された層にゲート信号線を形成し、もう一方
のゲート電極が形成された層に引き回し用ゲート信号線
を形成することができる。
の第2の構成として、図5(C)に示した構成のOLE
D表示装置の一例を示す。
路図である。
ス信号線704_1と、ゲート信号線703_1と、電
源線702_2と、スイッチング用TFT706と、駆
動用TFT707と、容量素子(保持容量)708が配
置されてる。
である。701_1〜701_3は、引き回し用ゲート
信号線である。704_1〜704_3は、ソース信号
線である。702_1〜702_3は、電源線である。
TFT706は、第1のゲート電極と、第2のゲート電
極とを有するデュアルゲート型TFTであるとする。ス
イッチング用TFT706の第1のゲート電極と第2の
ゲート電極のうちの一方は、電位Vcomが与えられてお
り、もう一方は、ゲート信号線703_1に接続されて
いる。
ト電極と、第2のゲート電極とを有するデュアルゲート
型TFTであるとする。駆動用TFT707の第1のゲ
ート電極と第2のゲート電極は接続されている。
TFTの特性バラツキを低減することが可能である。駆
動用TFT707は、特に特性バラツキを低減する必要
がある。そのため、駆動用TFT707をデュアルゲー
ト型とすることは有効な手段である。
またはドレイン領域は、一方はソース信号線704_1
と接続され、もう一方は、保持容量708の一方の電極
及び駆動用TFT707のゲート電極(第1のゲート電
極及び第2のゲート電極)に接続されている。保持容量
708のもう一方の電極は、電源線702_2に接続さ
れている。駆動用TFT707のソース領域とドレイン
領域は一方は、電源線702_2に接続され、もう一方
は、OLED素子709の一方の電極(画素電極)に接
続されている。
ート信号線701_1と、コンタクトホール705_1
を介して接続されている。同様に、ゲート信号線703
_2は、引き回し用ゲート信号線701_2と、コンタ
クトホール705_2を介して接続されている。ゲート
信号線703_3は、引き回し用ゲート信号線701_
3と、コンタクトホール705_3を介して接続されて
いる。
示装置の画素の上面図及び断面図を示す。
号を用いて示し、説明は省略する。なお図6中におい
て、OLED素子として画素電極のみを709で示し、
OLED層、カバー材等は図示しない。
である。また図7(A)中、A〜A‘の断面図が図7
(B)、B〜B’の断面図が図7(C)、C〜C‘の断
面図が図7(D)、D〜D‘の断面図が図7(E)であ
る。
上に形成されたスイッチング用TFT706のソース領
域とドレイン領域の一方779aは、ソース信号線70
4_1に接続され、もう一方779cは、配線712を
介して配線715及び配線716と接続されている。7
81は層間膜である。
部分779bに絶縁膜780を介して接する第1のゲー
ト電極703_1aと、チャネル部分779bに絶縁膜
778を介して接する第2のゲート電極710aとを有
する、デュアルゲート型のTFTである。ここで、第1
のゲート電極703_1aは、ゲート信号線703_1
の一部に相当する。また第2のゲート電極710aは、
電位Vcomが与えられる配線710の一部に相当する。
源線702_1と重ねて形成されている。
07のソース領域とドレイン領域の一方782aは、配
線717を介して画素電極709と接続され、もう一方
782cは、電源線702_2と接続されている。ま
た、引き回し用ゲート信号線701_2と電源線702
_2は重ねて形成されている。
2bに絶縁膜780を介して接する第1のゲート電極7
15aと、チャネル部分782bに絶縁膜778を介し
て接する第2のゲート電極716aとを有する、デュア
ルゲート型のTFTである。ここで、第1のゲート電極
715aは、配線715の一部に相当する。また第2の
ゲート電極716aは、配線716の一部に相当する。
なお、配線715と配線716は接続されている(図7
D)参照)。
配線716は接続される。配線715が、保持容量70
8の一方の電極に相当する。保持容量のもう一方の電極
は、半導体層によって形成される783であり、783
はコンタクトホール784によって電源線702_2に
接続されている。
は、ゲート信号線703_2とコンタクトホール705
_2を介して接続される。
TFT706の第2のゲート電極710aに電位Vcom
を与える配線710は、コンタクトホール711によっ
て配線714に接続され、引き回し用ゲート信号線70
1_2上を引き回される。
Tがデュアルゲート型TFTの場合、TFTの有する、
異なる層に形成されたゲート電極のうち、一方のゲート
電極が形成された層にゲート信号線を形成し、もう一方
のゲート電極が形成された層に引き回し用ゲート信号線
を形成することができる。
の第2の構成として、図5(C)に示した構成のOLE
D表示装置の、実施例2とは異なる例を示す。
路図である。なお、図12において、図11と同じ部分
は同じ符号を用いて示す。
ス信号線704_1と、ゲート信号線703_1と、電
源線702_2と、スイッチング用TFT706と、駆
動用TFT707と、消去用TFT722と、容量素子
(保持容量)708が配置されてる。
である。701_1〜701_3は、引き回し用ゲート
信号線である。721_1〜721_3は、消去用ゲー
ト信号線である。720_1〜720_3は、引き回し
用消去用ゲート信号線である。704_1〜704_3
は、ソース信号線である。702_1〜702_3は、
電源線である。
TFT706は、第1のゲート電極と、第2のゲート電
極とを有するデュアルゲート型TFTであるとする。ス
イッチング用TFT706の第1のゲート電極と第2の
ゲート電極のうちの一方は、電位Vcomが与えられてお
り、もう一方は、ゲート信号線703_1に接続されて
いる。
ト電極と、第2のゲート電極とを有するデュアルゲート
型TFTであるとする。駆動用TFT707の第1のゲ
ート電極と第2のゲート電極は接続されている。
ト電極と、第2のゲート電極とを有するデュアルゲート
型TFTであるとする。消去用TFT722の第1のゲ
ート電極と第2のゲート電極のうちの一方は、電位V
comが与えられており、もう一方は、消去用ゲート信号
線721_1に接続されている。
またはドレイン領域は、一方はソース信号線704_1
と接続され、もう一方は、保持容量708の一方の電極
及び駆動用TFT707のゲート電極(第1のゲート電
極及び第2のゲート電極)に接続されている。保持容量
708のもう一方の電極は、電源線702_2に接続さ
れている。駆動用TFT707のソース領域とドレイン
領域は一方は、電源線702_2に接続され、もう一方
は、OLED素子709の一方の電極(画素電極)に接
続されている。
ン領域の一方は、電源線702_2に接続され、もう一
方は、駆動用TFT707のゲート電極(第1のゲート
電極及び第2のゲート電極)に接続されている。
ート信号線701_1と、コンタクトホール705_1
を介して接続されている。同様に、ゲート信号線703
_2は、引き回し用ゲート信号線701_2と、コンタ
クトホール705_2を介して接続されている。ゲート
信号線703_3は、引き回し用ゲート信号線701_
3と、コンタクトホール705_3を介して接続されて
いる。
し用消去用ゲート信号線720_1と、コンタクトホー
ル723_1を介して接続されている。同様に、消去用
ゲート信号線721_2は、引き回し用消去用ゲート信
号線720_2と、コンタクトホール723_2を介し
て接続されている。消去用ゲート信号線721_3は、
引き回し用消去用ゲート信号線720_3と、コンタク
トホール723_3を介して接続されている。
示装置の画素の上面図及び断面図を示す。
号を用いて示し、説明は省略する。なお図8中におい
て、OLED素子として画素電極のみを709で示し、
OLED層、カバー材等は図示しない。
である。また図8(A)中、A〜A‘の断面図が図8
(B)、C〜C‘の断面図が図8(C)、E〜E‘の断
面図が図8(D)、D〜D‘の断面図が図8(E)であ
る。なお、図8(A)中、B〜B’の断面図は、図7
(C)と同様である。
上に形成されたスイッチング用TFT706のソース領
域とドレイン領域の一方779aは、ソース信号線70
4_1に接続され、もう一方779cは、配線712を
介して配線715及び配線716と接続されている。7
81は層間膜である。
部分779bに絶縁膜780を介して接する第1のゲー
ト電極703_1aと、チャネル部分779bに絶縁膜
778を介して接する第2のゲート電極710aとを有
する、デュアルゲート型のTFTである。ここで、第1
のゲート電極703_1aは、ゲート信号線703_1
の一部に相当する。また第2のゲート電極710aは、
電位Vcomが与えられる配線710の一部に相当する。
源線702_1と重ねて形成されている。また、引き回
し用消去用ゲート信号線720_1は、ソース信号線7
04_1と重ねて形成されている。
配線716は接続される。配線715が、保持容量70
8の一方の電極に相当する。保持容量のもう一方の電極
は、半導体層によって形成される783であり、783
はコンタクトホール784によって電源線702_2に
接続されている。
は、ゲート信号線703_2とコンタクトホール705
_2を介して接続される。
22のソース領域とドレイン領域の一方799aは、配
線715に接続され、もう一方799cは、電源線70
2_2と接続されている。
9bに絶縁膜780を介して接する第1のゲート電極7
21_1aと、チャネル部分799bに絶縁膜778を
介して接する第2のゲート電極710aとを有する、デ
ュアルゲート型のTFTである。ここで、第1のゲート
電極721_1aは、消去用ゲート信号線721_1の
一部に相当する。また第2のゲート電極710aは、電
位Vcomが与えられる配線710の一部に相当する。
は、ソース信号線704_1と重ねて形成されている。
引き回し用消去用ゲート信号線720_1は、コンタク
トホール723_1によって、消去用ゲート信号線72
1_1と接続されている。
TFT706Tの第2のゲート電極及び消去用TFT7
22の第2のゲート電極710aに電位Vcomを与える
配線710は、コンタクトホール711によって配線7
14に接続され、引き回し用ゲート信号線701_2及
び引き回し用消去用ゲート信号線720_1上を引き回
される。
Tがデュアルゲート型TFTの場合、TFTの有する、
異なる層に形成されたゲート電極のうち、一方のゲート
電極が形成された層にゲート信号線及び消去用ゲート信
号線を形成し、もう一方のゲート電極が形成された層に
引き回し用ゲート信号線及び引き回し用消去用ゲート信
号線を形成することができる。
において図4で示した構成の表示装置の具体例として、
図3で示した例とは異なる例を示す。
す。なお、実施の形態2において示した、図3と同じ部
分は同じ符号を用いて示す。
る。画素基板300上に、ゲート信号線駆動回路130
1(1301A及び1301B)、ソース信号線駆動回
路302、画素領域303、FPC基板304、シール
材306が配置されている。
01Bの出力信号は、ソース信号線駆動回路302の周
辺及び画素領域303の周辺を引き回され、画素領域3
03に入力される。
301Bの出力信号を、画素領域303に入力するまで
のゲート信号線の引き回しの具体例の1つを、図13
(B)〜図13(F)を用いて詳細に説明する。
の本数をy(yは、自然数)とする。ここでは説明の関
係上、yは4の倍数とするが、本発明はこれに限定され
ない。
は、2つのブロック1301A_1及び1301A_2
に分けられるものとする。また、ゲート信号線駆動回路
1301Bは、2つのブロック1301B_1及び13
01B_2に分けられるものとする。
画素領域303に配置された1本目から(y/2)本ま
でのゲート信号線G1〜G(y/2)のうち偶数番目の
ゲート信号線に信号を入力する回路であるとする。ゲー
ト信号線駆動回路1301A_2は、画素領域303に
配置された1本目から(y/2)本までのゲート信号線
G1〜G(y/2)のうち奇数番目のゲート信号線に信
号を入力する回路であるとする。ゲート信号線駆動回路
1301A_1及び1301A_2によって出力される
信号が入力されるゲート信号線G1〜G(y/2)が配
置される画素領域303を、303_Aで示す。
_1は、画素領域303に配置された(y/2)+1本
目からy本までのゲート信号線G(y/2)+1〜Gy
のうち偶数番目のゲート信号線に信号を入力する回路で
あるとする。ゲート信号線駆動回路1301B_2は、
画素領域303に配置された(y/2)+1本目からy
本までのゲート信号線G(y/2)+1〜Gyのうち奇
数番目のゲート信号線に信号を入力する回路であるとす
る。ゲート信号線駆動回路1301B_1及び1301
B_2によって出力される信号が入力されるゲート信号
線G(y/2)+1〜Gyが配置される画素領域303
を、303_Bで示す。
_1からの出力信号を、領域303_Aに入力するため
の配線について詳細に説明する。図13(B)、図13
(C)はそれぞれ、図13(A)中、1311a、13
12aで示した領域の詳細な構造である。
駆動回路1301A_1の一部1301Aaより出力さ
れた信号は、ゲート信号線Gi−4、Gi−2、Gi、G
i+2、Gi+4に入力される。ゲート信号線Gi−
4、Gi−2、Gi、Gi+2、Gi+4は、ゲート信号
線駆動回路1301Aaとソース信号線駆動回路302
の一部302aの間で向きを変えられる。こうして、ゲ
ート信号線駆動回路1301A_1から出力された信号
は、ソース信号線駆動回路302と、ゲート信号線駆動
回路1301A_1の間に平行に形成されたゲート信号
線G1〜G(y/2)のうちの偶数番目のゲート信号線
を介して、ソース信号線駆動回路302の左端まで引き
回される。ゲート信号線は、ソース信号線駆動回路30
2の左端まで引き回されたら方向を変え、シール材30
6と重なった画素領域303の左側の領域を、領域30
3_Aの左側まで引き回され、領域303_Aに入力さ
れる。図13(C)において、シール材306の一部3
06aと領域303_Aの一部303aを示す。
2からの出力信号を、領域303_Aに入力するための
配線について詳細に説明する。図13(D)、図13
(E)はそれぞれ、図13(A)中、1311b、13
12bで示した領域の詳細な構造である。
駆動回路1301A_2の一部1301Abより出力さ
れた信号は、ゲート信号線Gi−5、Gi−3、Gi−
1、Gi+1、Gi+3に入力される。ゲート信号線G
i−5、Gi−3、Gi−1、Gi+1、Gi+3は、ゲ
ート信号線駆動回路1301Abとソース信号線駆動回
路302の一部302bの間で向きを変えられる。こう
して、ゲート信号線駆動回路1301A_2から出力さ
れた信号は、ソース信号線駆動回路302と、ゲート信
号線駆動回路1301A_2の間に平行に形成されたゲ
ート信号線G1〜G(y/2)のうちの奇数番目のゲー
ト信号線を介して、ソース信号線駆動回路302の右端
まで引き回される。ゲート信号線は、ソース信号線駆動
回路302の右端まで引き回されたら方向を変え、シー
ル材306と重なった画素領域303の右側の領域を、
領域303_Aの右側まで引き回され、領域303_A
に入力される。図13(E)において、シール材306
の一部306bと領域303_Aの一部303bを示
す。
て、画素領域303_Aの一部1313abにおいてソ
ース信号線(図中Sと表記)と垂直に形成されたゲート
信号線Gi−5〜Gi+4に、信号が入力される。
1及び1301B_2からもゲート信号線が引き回さ
れ、画素領域303_Bのゲート信号線と接続される。
G1〜Gyに、ゲート信号線駆動回路1301A及び1
301Bの信号が入力される。
ス信号線駆動回路302及びゲート信号線駆動回路13
01)に信号を入力する信号線や電源線は、画素領域3
03周りを引き回されるゲート信号線とは異なる層に形
成する。
装置等、画素列を選択する駆動回路(ソース信号線駆動
回路)及び画素行を選択する駆動回路(ゲート信号線駆
動回路)によって駆動される画素を有する、あらゆる構
成の表示装置に自由に適用することが可能である。
素列を選択する信号線(ソース信号線)及び画素行を選
択する信号線(ゲート信号線)が配線される、公知の構
成の画素を自由に用いることができる。また、各駆動回
路(ソース信号線駆動回路及びゲート信号線駆動回路)
は、公知の構成の駆動回路を自由に用いることができ
る。
レジスタ等を用て構成され順に信号を出力するタイプの
ものでも良いし、デコーダ等によって構成され任意の順
に信号を出力可能なタイプのものでもよい。
装置をOLED表示装置に応用した例を示す。
の構成を示す断面図を示す。なお、本実施例では、OL
ED表示装置の画素を構成する素子として、OLED素
子及びOLED素子にドレイン電流を流す駆動用TFT
のみを示す。
電界が生じるとエレクトロルミネッセンス効果によって
発光するOLED層を、陽極及び陰極で挟んだ構造を有
する素子を示すものとする。
とは、一重項励起子から基底状態に遷移する際の発光
(蛍光)を利用するものと、三重項励起子から基底状態
に遷移する際の発光(燐光)を利用するものの両方を示
すものとする。
送層、発光層、電子輸送層、電子注入層等が挙げられ
る。OLED素子は、基本的に、陽極/発光層/陰極の
順に積み重ねた構造で示されるが、この他に、陽極/正
孔注入層/発光層/電子注入層/陰極のの順に積み重ね
た構造や、陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/電
子輸送層/電子注入層/陰極の順に積み重ねた構造など
がある。
上に、駆動用TFT1601が形成されている。駆動用
TFT1601は、第1のゲート電極1603aと、第
2のゲート電極1603bと、第1電極と第2のゲート
電極に間に、絶縁膜1602及び絶縁膜1605を介し
て挟まれた、チャネル形成領域1604とを有する、デ
ュアルゲート型TFTである。駆動用TFT1601の
ソース領域とドレイン領域は、一方は1604a、もう
一方は1604cである。駆動用TFT1601が形成
された後、層間膜1606が形成される。
に示した構成に限定されず、公知の構成のTFTを自由
に用いることができる。
成膜し、所望の形状にパターニングして、画素電極16
08を形成する。ここで、画素電極1608は、陽極で
ある。層間膜1606に、駆動用TFTのソース領域及
びドレイン領域、1604a、1604cに達するコン
タクトホールを形成し、Ti、Tiを含むAlおよびT
iでなる積層膜を成膜し、所望の形状にパターニングし
て、配線1607及び配線1609を形成する。配線1
609を、画素電極1608と接触させることによっ
て、導通をとっている。
る絶縁膜を形成し、OLED素子1614の画素電極1
608に対応する位置に開口部を形成して絶縁膜161
0を形成する。ここで、開口部の側壁の段差に起因する
OLED層の劣化、段切れ等の問題を回避するため、開
口部は、十分になだらかなテーパー形状の側壁を有する
ように形成する。
OLED素子1614の対向電極(陰極)1612を、
2[nm]以下の厚さのセシウム(Cs)膜及び10[nm]以下
の厚さの銀(Ag)膜を順に成膜した積層膜によって形成
する。OLED素子1614の対向電極1612の膜厚
を極めて薄くすることにより、OLED層1611で発
生した光は対向電極1612を透過して、画素基板16
00とは逆の方向に出射される。次いで、OLED素子
1614の保護を目的として、保護膜1613を成膜す
る。
向に光を放射する表示装置の場合、OLED素子161
4に対して、画素基板1600側に形成された、駆動用
TFT1601をはじめとする素子を介して、OLED
素子1614の発光を視認する必要が無いため、開口率
を大きくすることが可能である。
iN等を用い、画素電極を陰極とし、対向電極1612
をITO等を代表とする透明導電膜を用いて形成し、陽
極とする。こうして、陽極側から画素基板1600とは
逆の方向に、OLED層1611が発光した光を放射す
る構成としてもよい。
成のOLED素子を有する画素の構成を示す断面図であ
る。
じ部分は同じ符号を用いて説明する。
01を形成し、層間膜1606を形成するまでは、図1
6(A)で示した構成と同様に作成することができる。
ソース領域及びドレイン領域、1604a、1604c
に達するコンタクトホールを形成する。その後、Ti、
Tiを含むAlおよびTiでなる積層膜を成膜し、続い
て、ITO等を代表とする透明導電膜を成膜する。T
i、Tiを含むAlおよびTiでなる積層膜と、TO等
を代表とする透明導電膜とを、所望の形状にパターニン
グして、1617及び1618bによって構成される配
線1621と、配線1619と、画素電極1620を形
成する。画素電極1620がOLED素子1624の陽
極に相当する。
る絶縁膜を形成し、OLED素子1624の画素電極1
620に対応する位置に開口部を形成して絶縁膜161
0を形成する。ここで、開口部の側壁の段差に起因する
OLED層の劣化、段切れ等の問題を回避するため、開
口部は、十分になだらかなテーパー形状の側壁を有する
ように形成する。
OLED素子1624の対向電極(陰極)1612を、
2[nm]以下の厚さのセシウム(Cs)膜及び10[nm]以下
の厚さの銀(Ag)膜を順に成膜した積層膜によって形成
する。OLED素子1624の対向電極1612の膜厚
を極めて薄くすることにより、OLED層1611で発
生した光は対向電極1612を透過して、画素基板16
00とは逆の方向に出射される。次いで、OLED素子
1624の保護を目的として、保護膜1613を成膜す
る。
向に光を放射する表示装置の場合、OLED素子162
4に対して、画素基板1600側に形成された、駆動用
TFT1601をはじめとする素子を介して、OLED
素子1624の発光を視認する必要が無いため、開口率
を大きくすることが可能である。
の材料として、TiN等を用い、画素電極を陰極とし、
対向電極1612をITO等を代表とする透明導電膜を
用いて形成し、陽極とする。こうして、陽極側から、画
素基板1600とは逆の方向に、OLED層1611が
発光した光を放射する構成としてもよい。
6(A)で示した構成の画素と比較して、駆動用TFT
のソース領域またはドレイン領域と接続される配線16
19と、画素電極1620を、共通のフォトマスクを用
いてパターニン形成することができるため、作成工程に
おいて必要となるフォトマスクの削減及び工程の簡略化
が可能となる。
組み合わせて実施することが可能である。
装置は、電子機器に用いることができる。
を図14に示す。
帯情報端末は、本体1400、表示部1401、電源ス
イッチ1402、操作キー1403、外部接続ポート1
404、音声出力部1405、音声入力部1406、カ
メラ部1407等によって構成される。本発明の表示装
置は、表示部1401に用いることができる。これによ
って、図中14(A)で示す、表示部1401の有する
表示画面周りの額縁の幅W1を小さくすることができる
ので、携帯情報装置の本体の幅W2を小さくすることが
できる。
が提供される。
話は、本体1410、表示部1411、電源スイッチ1
412、操作キー1413、外部入力ポート1414、
音声出力部1415、音声入力部1416、アンテナ1
417等によって構成される。本発明の表示装置は、表
示部1411に用いることができる。これによって、図
中14(B)で示す、表示部の有する表示画面の額縁の
幅W3を小さくすることができるので、携帯電話の本体
の幅W4を小さくすることができる。
供される。
様々な電子機器に用いることができる。
組み合わせて実施することが可能である。
が形成された絶縁表面と同一の表面上に、それら複数の
画素に入力する信号を制御する駆動回路(ソース信号線
駆動回路及びゲート信号線駆動回路)が形成された表示
装置において、ゲート信号線駆動回路をソース信号線駆
動回路と平行に配置する。こうして、表示装置の横方向
の額縁の面積を小さくすることができる。
図。
図。
図。
示す図。
示す図。
回路図。
示す回路図。
示す回路図。
図。
線の引き回し部分の構成を示す図。
示す断面図。
Claims (13)
- 【請求項1】マトリクス状に配置された複数の画素を有
する画素領域と、 前記画素領域の各画素行に信号を入力する第1の駆動回
路と、 前記画素領域の各画素列に信号を入力する第2の駆動回
路とを有する表示装置であって、 前記画素領域と、前記第1の駆動回路と、前記第2の駆
動回路とは、同一基板上に一体形成され、 前記第1の駆動回路と前記第2の駆動回路とは、前記画
素領域の上下左右の4方のうち、少なくとも1組の対向
する2方には配置されていないことを特徴とする表示装
置。 - 【請求項2】マトリクス状に配置された複数の画素を有
する画素領域と、 前記画素領域の各画素行に信号を入力する第1の駆動回
路と、 前記画素領域の各画素列に信号を入力する第2の駆動回
路とを有する表示装置であって、 前記画素領域と、前記第1の駆動回路と、前記第2の駆
動回路とは、同一基板上に一体形成され、 前記第1の駆動回路は、前記画素領域の上下左右の4方
のうち、1方または1組の対向する2方に配置され、 前記第2の駆動回路は、前記1方、前記一方と対向する
方、または前記1組の対向する2方に配置されているこ
とを特徴とする表示装置。 - 【請求項3】マトリクス状に配置された複数の画素を有
する画素領域と、 前記画素領域の各画素行に信号を入力する第1の駆動回
路と、 前記画素領域の各画素列に信号を入力する第2の駆動回
路とを有する表示装置であって、 前記画素領域と、前記第1の駆動回路と、前記第2の駆
動回路とは、同一基板上に一体形成され、 前記第1の駆動回路と前記第2の駆動回路とは、前記画
素領域の上下左右の4方のうち、同じ方に配置されてい
ることを特徴とする表示装置。 - 【請求項4】マトリクス状に配置された複数の画素を有
する画素領域と、 前記画素領域の画素行に平行な複数の第1の信号線と、 前記複数の第1の信号線に信号を入力する第1の駆動回
路と、 前記画素領域の画素列に平行な複数の第2の信号線と、 前記複数の第2の信号線に信号を入力する第2の駆動回
路とを有する表示装置であって、 前記画素領域と、前記第1の駆動回路と、前記第2の駆
動回路とは、同一基板上に一体形成され、 前記第1の駆動回路と前記第2の駆動回路とは、前記画
素領域の上下左右の4方のうち、同じ方に配置され、 前記第1の駆動回路の出力信号を前記第1の信号線に伝
達する第1の配線と、前記第2の駆動回路の出力信号を
前記第2の信号線に伝達する第2の配線とが、前記画素
領域の上下左右の4方のうち、前記第1の駆動回路と前
記第2の駆動回路とが形成された方を介してのみ、前記
画素領域内部に引き回されることを特徴とする表示装
置。 - 【請求項5】マトリクス状に配置された複数の画素を有
する画素領域と、 前記画素領域の画素行に平行な複数の第1の信号線と、 前記複数の第1の信号線に信号を入力する第1の駆動回
路と、 前記画素領域の画素列に平行な複数の第2の信号線と、 前記複数の第2の信号線に信号を入力する第2の駆動回
路とを有する表示装置であって、 前記画素領域と、前記第1の駆動回路と、前記第2の駆
動回路とは、同一基板上に一体形成され、 前記第1の駆動回路は、前記画素領域の上下左右の4方
のうち、1方または1組の対向する2方に配置され、 前記第2の駆動回路は、前記1方、前記一方と対向する
方、または前記1組の対向する2方に配置され、 前記第1の駆動回路の出力信号を前記第1の信号線に伝
達する第1の配線は、前記画素領域の上下左右の4方の
うち、前記第1の駆動回路が形成された方を介しての
み、前記画素領域内部に引き回され、 前記第2の駆動回路の出力信号を前記第2の信号線に伝
達する第2の配線は、前記画素領域の上下左右の4方の
うち、前記第2の駆動回路が形成された方を介しての
み、前記画素領域内部に引き回されることを特徴とする
表示装置。 - 【請求項6】マトリクス状に配置された複数の画素を有
する画素領域と、 前記画素領域の画素行に平行な複数の第1の信号線と、 前記複数の第1の信号線に信号を入力する第1の駆動回
路と、 前記画素領域の画素列に平行な複数の第2の信号線と、 前記複数の第2の信号線に信号を入力する第2の駆動回
路とを有する表示装置であって、 前記画素領域と、前記第1の駆動回路と、前記第2の駆
動回路とは、同一基板上に一体形成され、 前記第1の駆動回路は、前記画素領域の上下左右の4方
のうち、1方または1組の対向する2方に配置され、 前記第2の駆動回路は、前記1方、前記一方と対向する
方、または前記1組の対向する2方に配置され、 前記第1の駆動回路の出力信号を前記第1の信号線に伝
達する第1の配線は、前記画素領域の上下左右の4方の
うち、前記第1の駆動回路が形成された方を介しての
み、前記画素領域内部に引き回され 前記第1の配線と平行で、前記第2の駆動回路の出力信
号を前記第2の信号線に伝達する第2の配線は、前記画
素領域の上下左右の4方のうち、前記第2の駆動回路が
形成された方を介してのみ、前記画素領域内部に引き回
されることを特徴とする表示装置。 - 【請求項7】請求項6において、 前記第1の配線と前記第2の信号線は、異なる層に形成
され、 前記第1の配線と前記第2の信号線は、重ねて配置され
ることを特徴とする表示装置。 - 【請求項8】請求項4乃至請求項7のいずれか一項にお
いて、 前記第1の配線と前記第1の信号線は、異なる層に形成
されていることを特徴とする表示装置。 - 【請求項9】請求項4乃至請求項8のいずれか一項にお
いて、 前記複数の画素は、TFTを有し、 前記TFTは、第1のゲート電極と、前記第1のゲート
電極に接して形成された第1の絶縁膜と、前記第1の絶
縁膜に接して形成され、チャネル形成領域を有する半導
体膜と、前記半導体膜に接して形成された第2の絶縁膜
と、前記第2の絶縁膜に接して形成され、前記第1のゲ
ート電極と前記チャネル形成領域を間に挟んで重なり合
った第2のゲート電極とを有し、 前記第1の信号線は、前記第1のゲート電極と同じ層に
形成され、 前記第1の配線は、前記第2のゲート電極と同じ層に形
成されていることを特徴とする表示装置。 - 【請求項10】マトリクス状に配置された複数の画素を
有する画素領域と、 前記画素領域の画素行に平行な複数の第1の信号線と、 前記複数の第1の信号線に信号を入力する第1の駆動回
路と、 前記画素領域の画素列に平行な複数の第2の信号線と、 前記複数の第2の信号線に信号を入力する第2の駆動回
路とを有する表示装置であって、 前記画素領域と、前記第1の駆動回路と、前記第2の駆
動回路とは、同一基板上に一体形成され、 前記第1の駆動回路は、前記画素領域の上下左右の4方
のうち、1方または1組の対向する2方に配置され、 前記第2の駆動回路は、前記1方、前記一方と対向する
方、または前記1組の対向する2方に配置され、 前記画素領域の上下左右の4方のうち、前記第1の駆動
回路が形成された方に隣り合う方からのみ、前記第1の
駆動回路の出力信号を前記第1の信号線に伝達する第1
の配線が、前記画素領域内部に引き回され、 前記画素領域の上下左右の4方のうち、前記第2の駆動
回路が形成された方からのみ、前記第2の駆動回路の出
力信号を前記第2の信号線に伝達する第2の配線が、前
記画素領域内部に引き回されることを特徴とする表示装
置。 - 【請求項11】請求項10において、 前記画素領域と、前記第1の駆動回路と、前記第2の駆
動回路の周辺に、シール材を有し、 前記第1の配線の一部は、前記シール材と重なっている
ことを特徴とする表示装置。 - 【請求項12】請求項1乃至請求項11のいずれか一項
において、 前記複数の画素はそれぞれ、OLED素子を有し、 前記OLED素子は、前記画素領域と、前記第1の駆動
回路と、前記第2の駆動回路とが形成された基板とは逆
の方向に光を放射することを特徴とする表示装置。 - 【請求項13】請求項1乃至請求項12のいずれか一項
において、 前記表示装置を用いることを特徴とする電子機器。
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