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JP2002518288A - Ｏｈ遮断層を具備した光ファイバのプレフォーム及びその製造方法 - Google Patents

Ｏｈ遮断層を具備した光ファイバのプレフォーム及びその製造方法

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JP2002518288A
JP2002518288A JP2000555836A JP2000555836A JP2002518288A JP 2002518288 A JP2002518288 A JP 2002518288A JP 2000555836 A JP2000555836 A JP 2000555836A JP 2000555836 A JP2000555836 A JP 2000555836A JP 2002518288 A JP2002518288 A JP 2002518288A
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fiber preform
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Abstract

(57)【要約】 サブストレートチューブ、クラッド層及びコア層を具備する光ファイバプレフォームにおいて、前記サブストレートチューブと前記クラッド層との間に位置し、ＯＨ拡散係数が低い物質により蒸着されて前記サブストレートチューブに含まれたＯＨが前記クラッド層に浸透することを防止するための第一遮断層をさらに具備することを特徴とし、前記クラッド層と前記コア層との間に位置し、ＯＨ拡散係数が低い物質により蒸着されて前記サブストレートチューブから前記クラッド層に浸透したＯＨが前記コア層に浸透することを防止するための第２遮断層をさらに具備することが望ましく、蒸着工程においてサブストレートチューブとクラッド層との間及びクラッド層とコア層との間にＰ２Ｏ５が含まれない外部及び内部のＯＨ−遮断層を蒸着させることにより、コア蒸着工程、凝縮工程またはクロージング工程にてサブストレートチューブからコア層に浸透するＯＨを効果的に遮断でき、それによりコア層でのＯＨによる損失を防止できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】 （技術分野） 本発明は一般的な光ファイバプレフォームに係り、特に、サブストレートチュ
ーブから光ファイバのコアへのＯＨの浸透を最小化するための、光ファイバプレ
フォーム及びその製造方法に関する。
【０００２】 （背景技術） 単一モードの光ファイバはクラッド層及びコア層を蒸着して作る。ＤＣ−ＳＭ
（Ｄｅｐｒｅｓｓｅｄ Ｃｌａｄｄｉｎｇ−Ｓｉｎｇｌｅ Ｍｏｄｅ）タイプの場
合、クラッド層は蒸着温度と屈折率を下げるためにＳｉＯ２にＰ２Ｏ５、ＧｅＯ ２ およびＦをドーピングして蒸着し、光を伝送するコア層は屈折率を高めるため
にＳｉＯ２にＧｅＯ２をドーピングして蒸着した後、コラプス及びクローズ工程
を通じて光ファイバプレフォームを製作する。
【０００３】 改良された化学気相蒸着（ＭＣＶＤ）法により光ファイバプレフォームを製造
する工程において、蒸着層が厚くなるにつれて蒸着過程におけるチューブの自己
コラプスが生じるようになり、結果的に、チューブがより厚くなる。さらに、厚
く蒸着された蒸着層を焼結させて固めるために、高温のバーナーが必要になり、
さらにコラプス及びクローズ工程時間が長くなり、サブストレートチューブが長
時間にわたり高温にさらされるようになる。
【０００４】 この過程では、蒸着用サブストレートチューブに含まれた微量の水分（Ｈ２Ｏ
）（一般的に数ｐｐｍ程度）が蒸着層に浸透する一方で、浸透した水分がクラッ
ド領域に蒸着されたＰ２Ｏ５またはＳｉＯ２と結合してＰ−Ｏ−ＨまたはＧｅ−
Ｏ−Ｈボンド結合を形成する。さらに、コア領域まで浸透したＯＨは、コア層に
蒸着されたＳｉＯ２またはＧｅＯ２と結合し、Ｓｉ−ＯまたはＧｅ−Ｏボンド結
合を解離させつつＳｉ−Ｏ−ＨまたはＧｅ−Ｏ−Ｈボンド結合を形成するように
なる。
【０００５】 このように各蒸着領域で水分と結合して形成されたＯ−ＨまたはＰ−Ｏ−Ｈボ
ンド結合は、特定の波長領域において吸収バンドによる光損失をさらに発生させ
る。単一モードの光ファイバの場合、光損失に影響を大きく及ぼす波長帯域は、
Ｏ−Ｈボンドの場合、１．２４μｍ−１．３８５μｍの帯域、そしてＰ−Ｏ−Ｈ
ボンドの場合１．２−１．８μｍの帯域である。コア領域に浸透ＯＨが浸透する
と、非架橋酸素（ＮＢＯ）を形成し、それによりコア層のガラス質の構造的均一
性を局所的に低下させるようになり、コア層の密度不均質を生じさせる。その結
果、散乱損失が増加するようになる。
【０００６】 さらに、蒸着工程と同時に進行する焼結工程において、蒸着層が厚くなること
により、チューブ内外径が接触する現象が生じることにより、適切な直径比（す
なわち、クラッド直径／コア直径＝Ｄ／ｄ）を確保し難くなる。これにより、Ｏ
Ｈ浸透を防ぐのに充分な距離を確保できず、ＯＨによる損失が大きく増加する。
【０００７】 従来は、サブストレートチューブからコア層にＯＨが浸透することを防止する
ために、クラッド層を厚くする方法を用いていた。しかし、この方法で大口径の
プレフォームを製作する場合、チューブの収縮によって適切な直径比を確保し難
く、コア層の蒸着工程時にチューブ層が厚くなることからコア蒸着面までの熱伝
逹効率が落ち、一層高温のバーナーが必要となる。従って、チューブが高温に長
時間さらされることにより、ＯＨによる損失が顕著になる。
【０００８】 （発明の開示） 上記の問題を解決するため、本発明の目的は、サブストレートチューブからコ
ア層にＯＨが浸透することを防止するために、サブストレートチューブとコア層
との間にＯＨの浸透を遮断または顕著に少なくするバリヤ層（遮断層）を形成す
ることにより直径比を減らす一方、効果的にＯＨによる損失を減少させることが
できる光ファイバプレフォームを提供することである。
【０００９】 本発明の別の目的は、ＯＨ遮断層を具備した光ファイバプレフォームを製造す
る方法を提供することである。
【００１０】 従って、第１の目的を達成するため、本発明による光ファイバプレフォームは
、サブストレートチューブ、クラッド層及びコア層を具備し、さらに、前記光フ
ァイバプレフォームは、前記サブストレートチューブと前記クラッド層との間に
位置する、ＯＨ拡散係数が低い物質を蒸着することにより形成された第１の遮断
層を具備し、ここで、前記第１遮断層は、前記サブストレートチューブに含まれ
たＯＨが、前記クラッド層に浸透することを実質的に防止する。
【００１１】 光ファイバプレフォームは、さらに、前記クラッド層と前記コア層との間に位
置した、ＯＨ拡散係数が低い物質をドーピングすることにより形成された第２遮
断層を含むことが好ましく、前記第２遮断層は、前記サブストレートチューブか
ら前記クラッド層に浸透したＯＨが、前記コア層に浸透することを防止する。
【００１２】 第１の目的を達成するため、本発明の他の光ファイバプレフォームは、サブス
トレートチューブ、クラッド層及びコア層を具備し、前記光ファイバプレフォー
ムは、さらに、前記サブストレートチューブと前記クラッド層との間に位置した
、ＯＨ拡散係数が低い物質がドーピングされて形成された第１遮断層を有し、こ
こで、前記第１遮断層は、前記サブストレートチューブに含まれたＯＨが、前記
クラッド層に浸透することを防止し、ここで、前記コア層の屈折率は、前記クラ
ッド層の屈折率より大きく、中心部へ行くほど順次増加する。
【００１３】 光ファイバプレフォームは、さらに、前記クラッド層と前記コア層との間に位
置した、ＯＨ拡散係数の低い物質がドーピングされ形成された第２遮断層を有し
、ここで、第２遮断層は、前記クラッド層に拡散されたＯＨが、前記コア層に浸
透することを防止する。
【００１４】 第２の目的を達成するため、本発明による、サブストレートチューブ、クラッ
ド層及びコア層を具備する光ファイバプレフォームを製造する方法は：ＯＨ拡散
係数が低い物質をドーピングして第一遮断層を形成する段階；工程温度を下げて
蒸着効率を高めるのに適した物質を蒸着して、クラッド層を形成する段階；及び
光信号が伝えられる領域のコア層を形成する段階を備える。
【００１５】 前記クラッド層を形成した後、前記コア層を形成する前に、ＯＨ拡散係数が低
い物質を蒸着して第２遮断層をさらに形成することが望ましい。さらに、前記コ
ア層の形成段階は屈折率が順次に増加するように蒸着し、コア層の外廓から中心
へ行くほど、その屈折率が増加するようにコア層を形成することが望ましい。
【００１６】 （発明を実施するための最良の態様） 以下に、添付された図面を参照して本発明の望ましい実施例について詳細に説
明する。
【００１７】 図１は、一般的な単一モード（ＤＣ−ＳＭ）の光ファイバを説明するための図
面である。図面にて、１１はサブストレートチューブ、１２はクラッド層そして
１３はコア層を示す。さらに、Δ＋はコア層の屈折率を、Δ−はクラッド層の屈
折率を、Φdはコア層の直径を、そしてΦDはクラッド層の直径をそれぞれ示す。
【００１８】 クラッド層１２を蒸着するためにＰ２Ｏ５を使用する。このＰ２Ｏ５は融点が
５７０℃程度であって比較的融点が低いために、これを他の原料物質と共に使用
することにより、工程温度を下げ、蒸着効率を上げることができる利点がある。
一方、クラッド層１２にドープされたＰ２Ｏ５は吸湿性が高いため、サブストレ
ートチューブ１１に含まれているＯＨをコア層１３に伝達するＯＨ−架橋として
働く。それゆえ、コア層１３におけるＯＨによる損失は増加する。
【００１９】 図２は、本発明による単一モードの光ファイバを説明するための図面である。
図２において、参照番号２１はサブストレートチューブ、参照番号２２は第一遮
断層（外部クラッド層）、参照番号２３は中間クラッド層、参照番号２４は第２
遮断層（内部クラッド層）、そして参照番号２５はコア層を示す。さらに、Δ＋ はコア層２５の相対屈折率を、Δは中間クラッド層２３の屈折率を示し、サブス
トレートチューブ２１の屈折率に相対的なものである。Δ０ −は第一遮断層２２
の屈折率を、Δ１ −は第２遮断層２４の屈折率を、Φdはコア層２５の直径を、
ΦＤ１は第２遮断層２４の直径を、ΦＤは中間クラッド層２３の直径を、そして
ΦＤ０は第一遮断層２２の直径をそれぞれ示す。
【００２０】 図示したように、本発明による光ファイバプレフォームのクラッド層は、それ
ぞれその化学組成比が互いに異なる三つの層から構成される。すなわち、クラッ
ド層は第一遮断層の外部クラッド層２２、中間クラッド層２３及び第２遮断層の
内部クラッド層２４から構成される。
【００２１】 第一遮断層（すなわち、外部クラッド層）２２は、ＯＨ濃度が高いサブストレ
ートチューブ２１と、ＯＨの伝達媒介体のＰ２Ｏ５が含まれた中間クラッド層２
３との間に位置し、サブストレートチューブ２１に含まれたＯＨが中間クラッド
層２３に浸透することを防止するためのものである。さらに、第２遮断層（すな
わち、内部クラッド層）２４は、中間クラッド層２３とコア層２５との間に位置
し、サブストレートチューブ２１から中間クラッド層２３に浸透したＯＨがコア
層２５に浸透することを防止するためのものである。第１及び第２遮断層２２、
２４は、ＯＨ−架橋の働きをするＰ２Ｏ５を含まず、ＳｉＯ２、ＧｅＯ２および
Ｆを利用して屈折率が調節され、その厚さはクラッド層の全対の厚さによって適
切に調節される。特に、ＯＨ濃度が高いサブストレートチューブ２１と中間クラ
ッド層２３との間に、第一遮断層２２のみを具備し、または中間クラッド層２３
とコア層２５との間に第２遮断層２３のみを具備することもできる。
【００２２】 光ファイバプレフォームの屈折率特性に関して、コア層２５の屈折率はクラッ
ド層２２、２３、２４の屈折率より大きい。従って、外部クラッド層２２と内部
クラッド層２４の屈折率は、中間クラッド層２３の屈折率と同じように調整され
る。これらの３層の屈折率は、全て同一になるよう調整することもできる。
【００２３】 一般的に、蒸着層におけるＯＨ濃度は、サブストレートチューブのＯＨ濃度の
１／１０００以下である。しかし、クラッド蒸着工程において工程温度を低くす
るために、Ｐ２Ｏ５をドーピングしてクラッド層を蒸着する。ここで、Ｐ２Ｏ５ は高い吸湿性を有する。そうして、クラッド層に蒸着されたＰ２Ｏ５は、サブス
トレートチューブからコア層にＯＨを伝達するための架橋として働き、コア層に
おけるＯＨによる損失を増加させる。従って、本発明では、ＯＨ拡散係数の低い
物質をドープしたＯＨ遮断層は、ＯＨ濃度が高いサブストレートチューブとＯＨ
伝達媒介体であるＰ２Ｏ５を含むクラッド層との間に形成され、または／および
クラッド層とコア層との間に形成される。
【００２４】 図３は、本発明による他の単一モードの光ファイバを説明するための図面であ
る。図３において、参照番号３１はサブストレートチューブ、参照番号３４は第
１遮断層（外部クラッド層）、参照番号３２は中間クラッド層、参照番号３５は
第２遮断層（内部クラッド層）、そして参照番号３３はコア層を示す。さらに、
ΔＮ＋はコア層３３の屈折率を、ΔＮ−は中間クラッド層３２の屈折率を示し、
サブストレートチューブ３１の屈折率に対する相対屈折率である。
【００２５】 図示したように、本発明による光ファイバプレフォームのクラッド層は、それ
ぞれその化学組成比が相異なる三つの層から構成される。すなわち、クラッド層
は第１遮断層の外部クラッド層３４、中間クラッド層３２及び第２遮断層の内部
クラッド層３５から構成される。
【００２６】 第１遮断層（すなわち、外部クラッド層）３４は、ＯＨ濃度が高いサブストレ
ートチューブ３１とＯＨの伝達媒介体であるＰ２Ｏ５が含まれた中間クラッド層
３２との間に位置し、サブストレートチューブ３１に含まれたＯＨが中間クラッ
ド層３２に浸透することを防止するためのものである。さらに、第２遮断層（す
なわち、内部クラッド層）３５は、中間クラッド層３２とコア層３３との間に位
置し、サブストレートチューブ３１から中間クラッド層３２に浸透したＯＨ、ま
たは中間クラッド層３２の蒸着工程中に化学物質に含まれた水分によるＯＨが、
光導波領域のコア層３３に浸透することを防止するためのものである。外部クラ
ッド層３４と内部クラッド層３５の屈折率は、中間クラッド層３２の屈折率と同
一であるか同じであるように調整され、サブストレートチューブ３１またはコア
層３３の屈折率よりは大きくないように調整される。
【００２７】 サブストレートチューブのＯＨ含有量は、蒸着用シリカに比べて相対的に高い
。シリカは、構造的にＯＨ成分に対し最も安定した蒸着用化学物質中であって、
高温でＯＨ浸透を効果的に遮断できる。従って、第１及び第２遮断層３４、３５
は、ＯＨ−架橋として働くＰ２Ｏ５を含まず、クラッドの屈折率はＳｉＯ２、Ｇ
ｅまたはＦを利用して調節され、これらの遮断層の厚さは、クラッド層の全体的
な厚さにより適切に調節する。
【００２８】 光ファイバプレフォームの屈折率特性に関して、コア層３３の屈折率は、クラ
ッド層３２，３４および３５の屈折率より大きく、さらにコア層３３の屈折率は
、コアの中心へ行くほどに一定の割合で増加するように形成される。プレフォー
ムから光ファイバを高速で引き出す時に、急冷による熱的ストレスが生じる。従
って、コア層３３の屈折率は、境界部分の屈折率（ΔＮ０）より中心部分へ行く
ほど増加し、中心部分の屈折率（Ｎ）を最大とする。これにより、熱的ストレス
による光ファイバの光損失及び機械的特性の低下を防止することができ、従って
、損失が低く直径比の小さい光ファイバは、高速で引き出される。たとえば、コ
ア層の最外廓部分における屈折率は、コア層の中心部における屈折率の７５−９
９％であることが望ましい。
【００２９】 図４Ａ、４Ｂおよび４Ｃは、改良された化学気相蒸着（ＭＣＶＤ）法を使用し
て、図２または図３に示される本発明による単一モードの光ファイバを製作する
方法を説明するための図面である。ＭＶＣＤ方法において、ガラスからなったサ
ブストレートチューブ４１の中に、ＳｉＣｌ４、ＧｅＣｌ４、ＰＯＣｌ３または
ＢＣｌ３などの高純度キャリアガスを酸素と共に吹き込み、加熱手段４３により
熱を加え、サブストレートチューブに熱酸化反応により、酸化堆積物であるスー
トがサブストレートチューブの内側に形成される（図４Ａ参照）。ここで、原料
ガスの濃度は、精密にコンピュータ制御して屈折率を調節され、クラッド層／コ
ア層４２を蒸着する。加熱手段４３は直線矢印の方向に移動しつつ、回転矢印方
向に回転するサブストレートチューブ４１に熱を加える。蒸着される原料ガス物
質は、原料物質の貯蔵部と連結された入力部を通じて、サブストレートチューブ
４１に導入される。混合弁及び遮断弁は、サブストレートチューブに導入される
原料物質の流れを計量し、その原料物質の合成に必要な調整を行う。
【００３０】 本発明におけるクラッド層を蒸着する工程において、まず、ＯＨの伝達媒介体
である吸湿性が高いＰ２Ｏ５などを除いた、ＯＨ拡散係数が低い物質を蒸着する
ことにより外部クラッド層（第一遮断層）を形成する。さらに、工程温度を低く
し蒸着効率を高めるのに適合した物質をドーピングすることにより、中間クラッ
ド層を形成する。ＯＨの伝達媒介体であるＰ２Ｏ５などを除く、ＯＨ拡散係数が
低い物質を蒸着することにより、内部クラッド層（第２遮断層）を形成する。そ
して、光信号が伝えられる領域であるコア層を形成する。従って、サブストレー
トチューブ４１に注入される原料ガスの混合物は、各蒸着層により異なり、この
混合は、混合弁及び遮断弁を適切に制御することにより行われる。
【００３１】 コア層を蒸着する工程では、外層からコア層の屈折率が一定になるよう蒸着し
たり、または外層から中心層に向かって徐々に屈折率が増加するように蒸着した
りしてもよい。
【００３２】 図４Ｂは、サブストレートチューブ４１内にクラッド層／コア層４０が蒸着さ
れたことを示す。図４Ｂにおいて、参照番号４３は外部クラッド層、参照番号４
４は中間クラッド層、参照番号４５は内部クラッド層、そして４６はコア層を示
す。
【００３３】 図４Ｃに関して、図４Ｂに示される蒸着層は、加熱手段４３により、クラッド
層／コア層４０が蒸着されたサブストレートチューブ４１に熱を加えて、コラプ
スおよびクローズさせ、これにより、光ファイバプレフォーム４７を生成する。
【００３４】 蒸着工程において、中間クラッド層４４を間に挟む、ＯＨ−架橋として働くＰ ２ Ｏ５を含まない外部及び内部ＯＨ−遮断層４３、４５を蒸着することにより、
コア蒸着工程、コラプス工程またはクローズ工程において、サブストレートチュ
ーブ４１からコア層４６に浸透するＯＨを効果的に遮断することができる。従っ
て、適切な直径比（Ｄ／ｄ）を維持しつつ、コア層でのＯＨ−吸収バンドによる
損失を最小化できる。さらに、直径比をより小さくし、蒸着回数を減らせるので
工程時間も短縮できる。ここで、クラッド層の直径（Ｄ）と前記コア層の直径（
ｄ）との比（Ｄ／ｄ）は、１．１−３．０であることが望ましい。
【００３５】 一方、蒸着と同時に進行する焼結工程において、内部表面張力による自己コラ
プスは、焼結しスート粒子を固める工程において現れる。サブストレートチュー
ブと同様の粘度を有するバッファ層は、高粘度を有するサブストレートと、比較
的低粘度を有するクラッド層との間に存在することにより、チューブの抑止力を
改善してチューブ収縮を減少させることができる。
【００３６】 ＭＣＶＤ工法を利用して光ファイバプレフォームを製作する場合、直径比が小
さいほど工程全体の時間が短くなり、直径比が小さいと大口径プレフォームの製
作に大変好都合である。従来は、直径比を小さくするとＯＨ損失が急激に増加し
て、光ファイバ品質が劣化していた。したがって、通常直径比が約３．０程度で
あることが知られている。しかし、本発明によれば、直径比を３．０以下、例え
ば１．１−３．０程度に減少させる一方で、ＯＨ吸収損失を減少させ、熱的スト
レスによる損失も最小させることができる。
【００３７】 （産業上の利用分野） 以上に説明したように、本発明のＯＨ遮断層を具備した光ファイバプレフォー
ム及びその製造方法によれば、蒸着工程において、サブストレートチューブとク
ラッド層との間及びクラッド層とコア層との間に、Ｐ２Ｏ５を含まない外部及び
内部ＯＨ−遮断層を蒸着させることにより、コア蒸着工程、コラプス工程または
クローズ工程において、サブストレートチューブからコア層に浸透するＯＨを効
果的に防ぐことができる。したがって、コア層でのＯＨによる損失を防止できる
。さらに、コア層の屈折率分布を中心へ向かって増加するように形成することに
より、光ファイバの高速引出しによる特性の低下を防止できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 一般的な単一モードの光ファイバを説明するための図面である。
【図２】 本発明による単一モードの光ファイバを説明するための図面である。
【図３】 本発明による他の単一モードの光ファイバを説明するための図面である。
【図４】 ４Ａ、４Ｂ及び４Ｃは修正されたＭＣＶＤ法を使用して本発明による単一モー
ドの光ファイバを製作する方法を説明するための図面である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＡＵ，ＢＲ，Ｃ Ａ，ＣＮ，ＩＮ，ＪＰ，ＭＸ，ＲＵ (72)発明者 セオ、 マン−セオク 大韓民国 730−380 キュンサンブク−ド グミ−シティ オクゲ−ドン デバック アパート 103−904 (72)発明者 ド、 ムン−ヒュン 大韓民国 730−090 キュンサンブク−ド グミ−シティ ソンジュン−ドン 37 サムスン アパート ９−505 (72)発明者 ヤン、 ジン−セオン 大韓民国 730−031 キュンサンブク−ド グミ−シティ ゴンダン １−ドン サ ムスン サウォン アパート ３−201 Ｆターム(参考） 2H050 AA01 AB05X AB10Y AC13 AC38 AD03 AD16 4G021 EA02 EB19

Claims (15)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 サブストレートチューブ、クラッド層及びコア層を具備する
    光ファイバプレフォームにおいて、 前記光ファイバプレフォームは、前記サブストレートチューブと前記クラッド
    層との間に位置しＯＨ拡散係数が低い物質により蒸着された第１遮断層を有し、
    ここで、前記第１遮断層は、前記サブストレートチューブに含まれたＯＨが前記
    クラッド層に浸透するのを防止することを特徴とする光ファイバプレフォーム。
  2. 【請求項２】 さらに、前記クラッド層と前記コア層との間に位置しＯＨ拡
    散係数が低い物質により蒸着された第２遮断層を有し、前記第２遮断層は、前記
    サブストレートチューブから前記クラッド層に浸透したＯＨが前記コア層に浸透
    するのを防止することを特徴とする請求項１に記載の光ファイバプレフォーム。
  3. 【請求項３】 前記第１または第２遮断層は、 ＳｉＯ２、ＧｅＯ２またはＦをドーピングして屈折率を調節し、Ｐ２Ｏ５を含
    まないことを特徴とする請求項１または２に記載の光ファイバプレフォーム。
  4. 【請求項４】 前記第１または第２遮断層の屈折率は、 前記クラッド層の屈折率と同一であるかより大きくなるよう調整されたことを
    特徴とする請求項２に記載の光ファイバプレフォーム。
  5. 【請求項５】 前記クラッド層の直径（Ｄ）と前記コア層の直径（ｄ）との
    比（Ｄ／ｄ）が、１．１−３．０であることを特徴とする請求項１に記載の光フ
    ァイバプレフォーム。
  6. 【請求項６】 サブストレートチューブ、クラッド層及びコア層を具備する
    光ファイバプレフォームにおいて、 前記サブストレートチューブと前記クラッド層との間に位置し、ＯＨ拡散係数
    が低い物質により蒸着された第１遮断層をさらに有し、 ここで、前記第１遮断層は、前記サブストレートチューブに含まれたＯＨが前
    記クラッド層に浸透することを防止するものであって、 ここで、前記コア層の屈折率は、前記クラッド層の屈折率より大きく、前記コ
    ア層の外側からコア部へ行くほど徐々に増加することを特徴とする光ファイバプ
    レフォーム。
  7. 【請求項７】 前記クラッド層と前記コア層との間に位置し、ＯＨ拡散係数
    が低い物質により蒸着された第２遮断層をさらに含み、前記第２遮断層は、前記
    クラッド層に含まれたＯＨが前記コア層に浸透することを防止するものであるこ
    とを特徴とする請求項６に記載の光ファイバプレフォーム。
  8. 【請求項８】 前記第１または第２遮断層は、ＳｉＯ２、ＧｅＯ２またはＦ
    をドーピングして屈折率を調節し、Ｐ２Ｏ５を含まないことを特徴とする請求項
    ６または７に記載の光ファイバプレフォーム。
  9. 【請求項９】 前記第１または第２遮断層の屈折率は、前記クラッド層の屈
    折率と同一または大きくなるよう調整することを特徴とする請求項６または７に
    記載の光ファイバプレフォーム。
  10. 【請求項１０】 前記クラッド層の直径（Ｄ）と前記コア層との直径（ｄ）
    の比（Ｄ／ｄ）は、１．１−３．０であることを特徴とする請求項６に記載の光
    ファイバプレフォーム。
  11. 【請求項１１】 前記コア層の最外廓部におけるの屈折率は、前記コア層の
    中心部分における屈折率の７５−９９％であることを特徴とする請求項６に記載
    の光ファイバプレフォーム。
  12. 【請求項１２】 サブストレートチューブ、クラッド層及びコア層を具備す
    る光ファイバプレフォームを製造する方法において： ＯＨ拡散係数が低い物質をドーピングして第一遮断層を形成する段階； 工程温度を低くし蒸着効率を高めるのに適合した物質をドーピングしてクラッ
    ド層を形成する段階；および 光信号が伝えられる領域のコア層を形成する段階とを含むことを特徴とする光
    ファイバプレフォームの製造方法。
  13. 【請求項１３】 前記クラッド層を形成した後であって前記コア層を形成す
    る前に、ＯＨ拡散係数が低い物質を蒸着して第２遮断層をさらに形成することを
    特徴とする請求項１２に記載の光ファイバプレフォームの製造方法。
  14. 【請求項１４】 前記コア層形成段階は、 屈折率が順次に増加するように蒸着し、コア層の外廓から中心へ向かって、屈
    折率が徐々に増加するようにコア層を形成することを特徴とする請求項１２に記
    載の光ファイバプレフォームの製造方法。
  15. 【請求項１５】 前記第１または第２遮断層は、ＳｉＯ２、ＧｅＯ２または
    Ｆをドーピングして屈折率を調節し、吸湿性が比較的高いＰ２Ｏ５を含まないこ
    とを特徴とする請求項１２または１３に記載の光ファイバプレフォームの製造方
    法。
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