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JP2000030595A - 共振器の構造 - Google Patents

共振器の構造

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JP2000030595A
JP2000030595A JP11154478A JP15447899A JP2000030595A JP 2000030595 A JP2000030595 A JP 2000030595A JP 11154478 A JP11154478 A JP 11154478A JP 15447899 A JP15447899 A JP 15447899A JP 2000030595 A JP2000030595 A JP 2000030595A
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resonator
switch
substrate
layer
resonator structure
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Juha Ella
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Nokia Oyj
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Nokia Mobile Phones Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明は、無線通信装置の共振器構造に関す
る。 【構成】 本発明では、ミクロ機械スイッチ及び共振器
が単一の結合構造において実現される。スイッチ構造及
び共振器構造の結合は、マルチシステム移動通信手段に
必要な非常にコンパクトなフィルター及び共振器構造の
製造を可能にする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、無線通信装置の共
振器構造に関する。
【0002】
【従来の技術】移動通信の発達は、より小さく、ますま
す複雑化する手持ち式ユニットを指向している。発達の
過程において、近時、手持ち式ユニットについて新しい
要件、即ちユニットが数種類の規格及び通信システムを
支援しなければならないという要件、が生じた。数種類
のシステムを支援するためには、手持ち式ユニットのR
F部に数組のフィルター及びその他のRFコンポーネン
トが必要である。このように複雑であっても、手持ち式
ユニットのサイズは、その様に広範な支援をする結果と
して増大するべきではない。
【0003】従来技術の移動電話で使用されるRFフィ
ルターは普通は個別の表面弾性波(SAW)フィルター
又はセラミック・フィルターである。この方式は単一規
格の電話には充分であったけれども、移動電話のサイズ
を大きくすることなく数種類の通信システムを支援でき
るものではない。
【0004】表面弾性波(SAW)共振器は、通常、図
1に示されているのと似た構造を持っている。表面弾性
波共振器は固体表面の表面弾性振動モードを利用するも
のであり、そのモードでは振動は固体の表面に閉じこめ
られていて、表面から離れるに連れて急速に減衰する。
SAW共振器は、通常、圧電層100と、2つの電極1
22、124とを含んでいる。フィルター等の種々の共
振器構造がSAW共振器で作られる。SAW共振器は、サ
イズが非常に小さいという利点を有するけれども、残念
ながら高いパワーレベルには耐えられない。
【0005】ケイ素(Si)又はガリウム砒素(GaAs)ウェー
ハー等の半導体ウェーハー上に薄膜バルク音波共振器を
作ることが知られている。例えば、“音バルク波複合共
振器”という題名の論文("Acoustic Bulk Wave Composi
te Resonators", Applied Physics Letters, Vol. 38,
No. 3, pp. 125-127, Feb. 1, 1981, by K.M. Lakinand
J. S. Wang)において、ケイ素(Si)の薄い膜の上にスパ
ッタリングされた酸化亜鉛(ZnO)の薄膜圧電層を含む音
バルク波共振器が開示されている。更に、“エアギャッ
プ型圧電複合薄膜共振器”という題名の論文("An Air-G
ap Type Piezoelectric Composite Thin Film Resonato
r", 15 Proc. 39th Annual Symp. Freq. Control, pp.
361-366, 1985, by Hiroaki Satoh, Yasuo Ebata, Hito
shi Suzuki, and Choji Narahara)において、ブリッジ
構造を有するバルク音波共振器が開示されている。
【0006】図2は、ブリッジ構造を有するバルク音波
共振器の1例を示している。この構造は、基板200に
被着された膜130を含んでいる。この共振器は、更
に、その膜上の底部電極110と、圧電層100と、頂
部電極120とを含んでいる。犠牲層をエッチングによ
り除去することによって、その膜と基板との間にギャッ
プ210が作られている。このギャップは音響アイソレ
ータとして作用し、本質的に、振動する共振器構造を基
板から絶縁する。
【0007】バルク音波共振器は、部分的には、その様
な共振器を他の回路網と結合する実行可能な方法がまだ
示されていないという理由から、まだ広く使用されては
いない。けれども、BAW共振器は、SAW共振器と比
べて長所を幾つか持っている。例えば、BAW構造は高
いパワーレベルに比較的に良く耐えることができる。
【0008】ミクロ機械装置も現在開発されつつある。
ミクロ機械装置は、通常、被着、パターニング及びエッ
チングの技術を用いて所望の構造を作ることによってケ
イ素基板上に作られる。1例として、図3はミクロ機械
スイッチの構造を図解している。ミクロ機械スイッチ
は、カンチレバー400、基板200上の接点パッド4
30及び該接点パッド430間に接点を作るための接触
バー440、及び2つの電極410、420を含んでい
る。カンチレバー電極410が該カンチレバー上に形成
され、基板電極420が基板上に形成されている。接触
バーはカンチレバーの一端に形成されており、カンチレ
バーの他方の端部は、好ましくはカンチレバーを基板表
面から持ち上げておくために支持体405で、基板に取
り付けられている。このミクロ機械スイッチはカンチレ
バー及び基板の電極の間にかけられるDC電圧で操作さ
れる。このDC電圧は、スイッチのカンチレバー電極と
基板電極との間に静電力を生じさせる。この静電力はカ
ンチレバーを屈曲させ、接触バーを基板の接点パッド4
30と接触させる。他の種々のミクロ機械構造が“ミク
ロ電気機械システム・アプリケーションにおける強誘電
体薄膜”という題名の論文("Ferroelectric Thin Films
in Microelectromechanical Systems Applications",
MRS Bulletin, July 1996, pp. 59-65, by D.L. Polla
and L.F. Francis)及びそれに含まれる参考文献におい
て開示されている。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、スイ
ッチ付き共振器構造を提供することである。本発明の他
の目的は、非常に小さなサイズを有するその様な構造を
提供することである。マルチシステム移動通信手段に必
要なフィルター構造のサイズを小さくすることも本発明
の目的である。
【0010】
【課題を解決するための手段】これらの目的は、共振器
エレメントとスイッチ・エレメントとを同じ構造におい
て結合させることによって達せられる。
【0011】本発明の共振器構造は、共振器構造を対象
とする独立請求項の特徴部分において明示されているも
のを特徴とする。本発明の移動通信手段は、移動通信手
段を対象とする独立請求項の特徴部分において明示され
ているものを特徴とする。従属請求項は、本発明の別の
有利な実施態様を述べている。
【0012】本発明に従って、ミクロ機械スイッチ及び
共振器が単一の結合構造で実現される。スイッチ構造及
び共振器構造の結合は、マルチシステム移動通信手段に
必要な非常にコンパクトなフィルター及び共振器構造の
製造を可能にする。
【0013】次に、添付図面を参照して本発明をいっそ
う詳しく説明する。
【0014】図において、同様のものには同じ参照数字
が使用されている。
【0015】
【発明の実施の形態】次に、始めに一定の種類のBAW
共振器について説明するが、そのBAW共振器は本発明
の構造に有利に使用される。
【0016】バルク音波共振器は、通常、ケイ素(S
i)、ガリウム砒素(GaAs)、ガラス、或いはセラミッ
クの基板の上に作られる。使用されている別のセラミッ
ク基板タイプはアルミナである。BAW装置は、通常、
例えばスパッタリング、真空蒸着或いは化学蒸着など、
種々の薄膜製造技術により製造される。BAW装置は音
響バルク波を生成するために圧電薄膜層を利用する。通
常のBAW装置の共振周波数は装置のサイズ及び材料に
応じて、0.5Ghzから5Ghzの範囲にある。BA
W共振器は水晶共振器の典型的直列共振及び並列共振を
示す。共振周波数は、主として共振器の材料と共振器の
層の寸法とによって決まる。
【0017】通常のBAW共振器は次の3つの基本エレ
メント: − 音響的に活性の圧電層、 − この圧電層の両側の電極、及び − 基板からの音響的絶縁、 から成っている。
【0018】圧電層は、例えば、ZnO、AlN、ZnS、或い
はその他の、薄膜として作ることのできる任意の圧電材
料である。別の例として、強誘電性セラミックスを圧電
材料として使うことができる。例えば、PbTiO3及びPb
(ZrxTil−x)O3及びその他のいわゆるランタンジル
コニウム酸チタン酸鉛族に属する物質を使うことができ
る。
【0019】好ましくは、電極層を形成するために使わ
れる材料は、大きな音響インピーダンスを有する電気伝
導材料である。電極は、例えば、タングステン(W)、ア
ルミニウム(Al)、銅(Cu)、モリブデン(Mo)、ニッ
ケル(Ni)、チタン(Ti)、ニオブ(Nb)、銀(Ag)、
金(Au)、及びタンタル(Ta)などの適当な金属で構成
される。
【0020】音響的絶縁は例えば下記の手法で、即ち: − 基板ブァイアホールで、 − ミクロ機械ブリッジ構造で、或いは − 音響ミラー構造で、 作り出すことができる。けれども、共振器を基板から絶
縁させる他の任意の方法も使用できるので、本発明はこ
れら3つの手法には限定されない。
【0021】ブァイアホール及びブリッジ構造では、音
響反射面は装置の下及び上のエア・インターフェースで
ある。ブリッジ構造は通常は犠牲層を用いて作られ、こ
の層は自立構造を作るためにエッチングにより除去され
る。犠牲層を用いると、ブァイアホール構造の場合のよ
うに基板を大幅に修正する必要がないので、多様な基板
材料を使用することが可能である。
【0022】例えばエッチピット構造を用いてブリッジ
構造を実現することができる。図4及び5は、エッチピ
ット構造を伴うBAWを示している。図4及び5は、基
板200、膜層130、底部電極110、圧電層10
0、及び頂部電極120を示している。図4はこの構造
の断面図であり、図5は該構造の平面図である。このエ
ッチピット構造では、エッチピット210は、少なくと
も膜層130が被着された後にBAW構造の下にエッチ
ングにより形成される。
【0023】図6は、ブリッジ構造を作る他の方法を示
している。BAW構造の他の層が被着される前に、犠牲
層135が最初に被着されてパターニングされる。BA
W構造の残りの部分は部分的に犠牲層135の上に被着
されパターニングされる。BAW構造の残りの部分が完
成した後、犠牲層135はエッチングにより除去され
る。図6は基板200、膜層130、底部電極110、
圧電層100、及び頂部電極120も示している。
【0024】犠牲層は好ましくは金属又はポリマーを材
料として用いて実現される。例えば、銅(Cu)を材料と
して犠牲層を作ることができる。ポリマーは、好ましく
は、他の層を被着する際に達する可能性のある比較的に
高い温度に耐えることのできるようなポリマーである。
該ポリマーは、例えば、ポリテトラフルオロエチレン又
はその誘導体、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテ
ルエーテルケトン(polyetheretherketone)、ポリ(パ
ラフェニレンベンゾビスミダゾール)(poly(para phen
ylene benzobismidazole))、ポリ(パラフェニレンベ
ンゾビスオキサゾール)(poly(para phenylene benzob
isoxazole))、ポリ(パラフェニレンベンゾビスミダ
ゾール)(poly(para phenylene benzobismidazol
e))、ポリ(パラフェニレンベンゾビスチアゾール)
(poly(para phenylene benzobisthiazole))、ポリイ
ミド、ポリイミドシロキサン、ビニルエーテル、ポリフ
ェニル、パリレン−n、パリレン−f、又はベンゾシク
ロブテンである。
【0025】犠牲層は、酸化亜鉛(ZnO)など、従来技
術で使われる他の任意の材料で形成されても良い。しか
し、前述したように金属又はポリマーを用いることが好
ましい。
【0026】ブァイアホール構造では、共振器は、BA
W共振器構造の主要部分の下から基板をエッチングによ
り除去することによって、基板から音響的に絶縁され
る。図7は、BAW共振器のブァイアホール構造を示し
ている。図7は、基板200、膜層130、底部電極1
10、圧電層100、及び頂部電極120を示してい
る。基板全体を貫通するブァイアホール211がエッチ
ングにより形成されている。エッチングが必要なので、
ブァイアホール構造は通例Si又はGaAs基板だけで実現さ
れる。
【0027】BAW共振器を基板から絶縁する別の方法
は、音響ミラー構造を使用する。音響ミラー構造は、音
波を共振器構造へ反射して返すことにより絶縁を実行す
る。音響ミラーは、通常、中心周波数での四分の一波長
の厚みを有する数個の層から成り、交互の層が異なる音
響インピーダンスを持っている。音響ミラーの層の個数
は、通常は3から9の範囲の奇数である。基板材料の割
合に高いインピーダンスの代わりに、なるべく低い音響
インピーダンスをBAW共振器に与えるために、連続す
る2つの層の音響インピーダンスの比は大きい方がよ
い。高インピーダンス層の材料は例えば金(Au)、モリ
ブデン(Mo)、或いはタングステン(W)であり、低イ
ンピーダンス層の材料は例えばケイ素(Si)、ポリシリ
コン(poly-Si)、二酸化珪素(SiO2)、アルミニウム
(Al)、或いはポリマーである。音響ミラー構造を利用
する構造では共振器は基板から絶縁され、基板は大幅に
は修正されないので、広範な材料を基板として使うこと
ができる。
【0028】ポリマー層は低ロス特性と低音響インピー
ダンスとを有する任意のポリマー材料で構成されて良
い。そのポリマー材料は、音響ミラー構造の他の層及び
その他の構造を被着する際に温度が割合に高くなること
があるので、少なくとも350℃の温度に耐えるポリマ
ー材料であるのが好ましい。ポリマー層は、例えば、ポ
リイミド、シクロテン(cyclotene)、炭素ベースの材
料、ケイ素ベースの材料又はその他の適当な材料で構成
されて良い。
【0029】図8は音響ミラー構造の上にあるBAW共
振器の例を示している。図8は、基板200,底部電極
110、圧電層100、及び頂部電極120を示してい
る。音響ミラー構造150は、この例では3つの層15
0a、150bから成っている。そのうちの2層150
aは第1の材料から成り、これら2層間の第3の層15
0bは第2の材料から成る。第1及び第2の材料は、前
述したように異なる音響インピーダンスを有する。材料
の順序は、本発明の実施態様毎に異なっていて良い。本
発明の或る実施態様では、音響インピーダンスの高い材
料は中央にあり、音響インピーダンスの低い材料は、こ
の中央の層の両側にある。本発明の他の実施態様では、
順序は反対であって良い。底部電極は本発明の或る実施
態様では音響ミラーの1つの層として作用する。
【0030】図9は、本発明の有利な実施態様で使うこ
とのできる別のBAW共振器構造を示している。図9
は、2つの圧電層100を有する積み重ね共振器構造を
示している。底部電極110及び頂部電極120に加え
て、積み重ね構造は中間電極115を必要とし、これは
グランド電位に接続されている。図9は、更に、膜層1
30、基板200、及び、該構造を基板から絶縁するエ
ッチピット210を示している。
【0031】図10は、オフ状態となっている本発明の
有利な実施態様の断面図であり、図11はオン状態とな
っている同じ構造を示している。この実施態様は、ブリ
ッジ構造を形成する圧電材料の層100と、DC制御電
圧を印加すると共にRF信号を圧電層100に供給する
ための第1導体110及び第2導体120と、接触導体
112と、基板200と、BAW構造100、120、
112、110を基板200から絶縁するための音響ミ
ラー構造150a、150bとを含んでいる。図10
は、オフ状態の共振器及びスイッチ構造を示している。
充分に高い電圧が頂部導体120と底部導体110との
間に印加されると、その結果として生じた静電力は圧電
層を図11に示されているように曲げる。圧電層100
がこの様に曲がると、図11に示されているように接触
導体112が底部電極110と接触する。接触導体11
2が底部電極110と接触しているとき、該構造は共振
器として作用することができる。
【0032】図10及び11は、この明細書中の、種々
の構造の断面を示す他の図と同じく、図解を目的とする
ものであって、1つ或いはもっと多くの方向に寸法が誇
張されていることがある。
【0033】図12は、本発明の別の有利な実施態様を
示している。この実施態様では、スイッチ及び共振器構
造100、110、112、120は、音響ミラー構造
150a、150bの代わりに膜層130により形成さ
れているブリッジ構造によって基板200から音響的に
絶縁されている。図12の実施態様のスイッチ及び共振
器構造100、110、112、120は、図10及び
11の実施態様と同様に作用するので、機能についての
説明はここでは繰り返さない。
【0034】図13は本発明の別の有利な実施態様を示
しており、この実施態様では圧電層は図10、11及び
12に示されているブリッジ構造の代わりにカンチレバ
ー構造を形成する。カンチレバー100の一端は他の層
に取り付けられ、他方の端部は自由に動く。この共振器
及びスイッチ構造は図13ではオフ状態で図示されてい
る。充分に高い電圧が頂部導体120と底部導体110
との間に印加されると、その結果として生じた静電力は
圧電層を曲げ、接触導体112を底部電極110と接触
させる。接触導体112が底部電極110と接触してい
るとき、該構造は共振器として作用することができる。
図13は、共振器及びスイッチ構造100、110、1
12、120を基板200から音響的に絶縁する音響絶
縁構造150a、150bを更に示している。
【0035】図14は本発明の別の有利な実施態様を示
しており、ここでは圧電層100以外の層が曲がるよう
になっている。圧電層は支持層130の上に被着され、
この層は支持構造102により支持される。共振器及び
スイッチ構造は図14ではオフ状態で図示されている。
充分に高い電圧が頂部導体120と底部導体110との
間に印加されると、その結果として生じた静電力は膜層
130を曲げ、接触導体112を底部電極110と接触
させる。接触導体112が底部電極110と接触してい
るとき、該構造は共振器として作用することができる。
図13は、共振器及びスイッチ構造100、110、1
12、120を基板200から音響的に絶縁する音響絶
縁構造150a、150bを更に示している。図14
は、支持構造102と支持層130とが別々の層である
ことを示している。しかし、本発明の他の実施態様で
は、支持構造102と支持層130とは単一の層の一部
であっても良い。
【0036】図14に示されているのと似ている構造を
有する本発明の別の有利な実施態様では、接触導体11
2は支持屈曲層を形成し、これは圧電層100を支え
る。その実施態様では、絶縁層は接触導体112と頂部
電極層120との間に被着されなければならない。
【0037】本発明の或る実施態様では、該結合構造の
スイッチ機能を起動するときに共振器エレメントは動か
ない。その様な実施態様は、例えば図9に示されている
もの等の積み重ね共振器構造を使用するときに、特に有
利である。図15は、その様な実施態様の例を示してい
る。図15の実施態様は、頂部電極120と、音響ミラ
ー構造150a、150bの上の底部電極110とを伴
う圧電層100を含んでいる。図15は、カンチレバー
支持体145とスイッチ・カンチレバー140とを含む
スイッチ・エレメントを更に示している。このスイッチ
・エレメントは更に接触導体122を有する。充分に高
い電圧が接触導体122と底部電極110との間に印加
されると、その結果として生じた静電力はカンチレバー
140を屈曲させ、接触導体122を頂部電極120と
接触させる。接触導体122が頂部電極120と接触し
ているとき、該構造は共振器として作用することができ
る。
【0038】本発明の別の有利な実施態様では、スイッ
チ・エレメントを使ってBAWエレメントをオフ状態に
転換することができる。その様な実施態様では、電圧が
スイッチ・エレメントに印加されていなくて、スイッチ
・エレメントがBAWエレメントに接触するように曲げ
られてはいないとき、BAWエレメントは自由に機能す
ることができる、即ちオン状態となっている。電圧がス
イッチ・エレメントに印加されてスイッチ・カンチレバ
ーが下方に曲がってBAWエレメントに接触していると
き、該カンチレバーはBAWエレメントの振動を減衰さ
せ、或いは少なくともBAWエレメントの共振周波数を
動作周波数から遙か遠くへずらし、このことが実効的に
BAWエレメントを非機能状態即ちオフ状態にする。そ
の様な実施態様では、頂部電極120は、BAWエレメ
ントをスイッチ電極電圧から絶縁するために、パッシベ
ーション層で覆われるのが好ましい。その他の点に関し
ては、この様な実施態様は例えば図15に示されている
ものと同様の構造を持っていて良い。
【0039】図15の構造は、スイッチ・エレメント1
40、145を有する例えば図15に示されているよう
な共振器構造の1例に過ぎない。スイッチ・エレメント
を有する本発明の他の実施態様に他の種類のBAW共振
器を用いることができる。例えば、BAW共振器は、或
る実施態様では、図15に示されている音響ミラー構造
の代わりにブリッジ構造によって基板から音響的に絶縁
されても良い。
【0040】図16は本発明の有利な実施態様を示して
おり、この実施態様の構造は、BAWエレメントの両方
のポートにスイッチを実現している。図16の実施態様
では、単一のスイッチ・エレメントがオン状態では頂部
電極導体及び底部電極導体の両方と接触し、オフ状態で
はそのいずれとも接触しない。図16は、その様な構造
の断面図である。この構造は、底部電極110の上の圧
電層と、音響ミラー150a、150b層とを含んでい
る。この構造は、更に、支持構造102を含んでおり、
これは底部電極110の延長部分をスイッチ・エレメン
ト140、142、112、122が底部電極と接触で
きる場所まで持ってゆく。図16はミクロ機械スイッチ
構造のカンチレバー・エレメント140を示している。
ミクロ機械スイッチ構造は例えば図15に示されている
ものと同様の構造を持っていて良い。該スイッチ構造
は、RF信号路をBAWエレメント100、110、1
20に接触させるための導体112、122と、スイッ
チ・エレメントを起動するための高DC電圧を印加する
制御電圧導体142とを含んでいる。スイッチング機能
は、高DC電圧を制御電圧導体と底部導体110との間
に印加してカンチレバー・エレメント140を下方に底
部導体の方へ屈曲させ、その結果として底部電極110
と対応する接触導体112とを接触させると共に頂部電
極120と対応する接触導体122とを接触させること
によって、起動される。
【0041】支持構造102は圧電層100と同じ圧電
材料から成っているのが有利であり、その場合には、底
部電極を形成する伝導層の上に同じ処理工程でそれらを
作ることができる。該導体の、支持構造102の上に延
在する底部電極110を形成する部分は、頂部電極層1
20と同時に被着されるのが有利である。この様に支持
構造102を形成すれば、支持構造と圧電層100とは
同じ高さを有することとなり、それ故にスイッチ・エレ
メントの作成が簡単になる。
【0042】図16は、ダブル・スイッチ構造を有する
本発明の実施態様の一例に過ぎなくて、ダブル・スイッ
チ構造を有する種々の実施態様の構造をどの様にも限定
するものではない。
【0043】前の例では、カンチレバー140、支持層
130又は圧電層100の屈曲運動は基板200に向か
う方向に生じるものとして図示されている。しかし、本
発明は基板に向かう屈曲運動には限定されない。本発明
の別の有利な実施態様では、屈曲運動は基板から離れる
方向に生じても良い。例えば、本発明の1つの有利な実
施態様では、BAW共振器はブリッジ構造として実現さ
れ、スイッチ・エレメントのカンチレバーはBAW共振
器と基板との間に位置し、その位置から該カンチレバー
は基板から遠ざかる方へ屈曲してBAW共振器の底部導
体と接触しても良い。本発明の他の有利な実施態様で
は、BAW共振器は、基板から離れる方へ屈曲して、B
AW共振器の上のブリッジ構造により支えられている導
体と接触するように設けられる。
【0044】前の例が示しているように、本発明の構造
の種々の特徴の具体的構成は多様であって良い。例え
ば、共振器は1つ以上の場所から該構造の残りの部分に
取り付けられて良い。屈曲エレメントは共振器自体、或
いは共振器を支える部材、或いは独立したカンチレバー
であっても良く、屈曲運動は多くの異なる方向に向かっ
て進行しても良い。更に、該構造は1つ以上のスイッチ
を実現することができる。
【0045】図を明快にするために、ミクロ電子構造及
びミクロ機械構造を作るために通例必要なパッシベーシ
ョン層はこの明細書の図面には全く描かれていない。
【0046】基板がケイ素(Si)、ガリウム砒素(GaA
s)或いはその他の集積回路の基板として用いるのに適
する材料で作られている実施態様では、トランジスタ等
の他のエレメントを同じ基板上に実現することができ
る。例えば、増幅器等の他の回路を同じ基板上に集積す
ることができ、それは移動通信手段の殆ど全てのRFコ
ンポーネントを単一の基板上に集積することを可能にす
る。
【0047】本発明の共振器及びスイッチ構造を使っ
て、例えば、スイッチ付きフィルター・バンクを実現す
ることができる。本発明のスイッチ付きフィルター・バ
ンクの1つの実現可能なアプリケーションが図17に示
されている。図17の実施態様を、例えば、送信帯域又
は受信帯域の狭い一部分のフィルタリングに使用するこ
とができる。該フィルター・バンクは割合に狭い通過域
を持った数個の通過域フィルターを含んでおり、所望の
中心周波数を持ったフィルターをスイッチングして使用
することにより帯域の一部分を動作のために選択するこ
とができるようになっている。該通過域フィルターは、
本発明の共振器及びスイッチ構造10を用いて実現され
る。共振器及びスイッチ構造10のスイッチは、どのフ
ィルターを使用するか選択するために使われる。隣り合
うフィルターの通過域は互いに或る程度重なっているの
で、第2フィルターポートでフィルターを整合させるこ
とは、もし他の全てのフィルター(即ち、使用されない
フィルター)が他方のポートに接続されていて第2ポー
トに負荷をかけているならば、非常に困難である。使わ
れないフィルターは周波数に依存するリアクタンスを示
し、それは第2ポートの分路リアクタンス(shunt reac
tance)と見られる。図17に示されているように、各
フィルターに第2スイッチ14を用いることによって、
この問題を解決することができる。フィルターの通過域
が互いに割合に遠く離れている様なアプリケーションで
は、第2ポート(即ちフィルターの出力ポート)のスイ
ッチは無くても良い。本発明の別の有利な実施態様で
は、BAWエレメントを組み込んだ構造とダブル・スイ
ッチ構造とをスイッチ付きフィルター・バンクに使っ
て、各フィルター・エレメントのために別々のスイッチ
14を設ける必要を無くすることができる。ダブル・ス
イッチ構造を有するその様な構造は、例えば、図16と
関連して説明した本発明の実施態様に従って実現され得
る。
【0048】図17のフィルター・バンク構造を使っ
て、受信装置が受信帯域から受け取るノイズと妨害信号
とを制限することができる。送信側で、その様なフィル
ター・バンクは、送信回路により生成される所望の送信
周波数の外側のノイズを除去することができる。
【0049】フィルター・バンクは、本発明の種々の実
施態様において1つ以上のフィルターを含むことができ
る。図17は例を示しているに過ぎない。図を明瞭にす
るために、制御電圧をスイッチ・フィルター結合構造1
0に印加するためのDC信号ラインは図17には示され
ていない。
【0050】本発明の他の有利な実施例では、フィルタ
ー・バンクを使って、例えば異なる動作帯域を有する2
つ以上の通信網と通信するようになっている移動通信手
段において、種々の動作帯域から選択をすることができ
る。図18は、その様な実施態様の構造を示している。
図18の構造は、2つのスイッチ及びフィルター構造を
含んでいる。図18では、スイッチはフィルターの入力
ポートだけで使われる。この例では、使用中のフィルタ
ーの出力ポートに与えられる分路リアクタンスがその使
用中のフィルターの通過域にあまり影響を及ぼさないよ
うに、2つのフィルターの通過域は充分に遠く離れてい
る。フィルターの入力ポートのスイッチは、所望のフィ
ルターを選択するために使われる。図18に示されてい
る装置を送信構造でも受信構造でも使うことができる。
図を明瞭にするために、制御電圧をスイッチ・フィルタ
ー結合構造10に印加するためのDC信号ラインは図1
8には示されていない。
【0051】バルク音波共振器を利用するフィルター
は、2つ以上の共振器を含むことがある。図19a、1
9b、及び19cは、両方のフィルター・ポートにスイ
ッチがあって、本発明の種々の実施態様に使用すること
のできる種々のフィルター構造を示している。図19a
は共振器及びスイッチ構造の例を示しており、これは、
共振器スイッチ結合構造の他に、単一の圧電層を有する
普通のBAW共振器も含んでいる。図19aに示されて
いるように数個の共振器を梯子形態で用いれば、殆どの
場合に、共振器を1つだけ使う場合よりも良好なフィル
タリング特性が得られる。図19bは、積み重ねバルク
音波共振器12’と積み重ね共振器構造を有する共振器
スイッチ結合構造10とで構成されたフィルター構造を
示している。フィルターは、直列に結合された共振器1
2’と、該共振器間の分路インダクター307とを含ん
でいる。図19cは、狭帯域幅動作向けのフィルター構
造を示している。この構造は、その他の点では図19b
の構造と同様であるけれども、分路インダクターの代わ
りに、分路コンデンサー308が使われている。図19
a、19b、及び19cの構造は、例えば、図17及び
18に示されているようなスイッチ付きフィルター・バ
ンク構造に使えるものである。図を明瞭にするために、
スイッチ・フィルター結合構造10に制御電圧を印加す
るためのDC信号ラインは図19a、19b、及び19
cには示されていない。
【0052】図20は本発明の別の有利な実施態様を示
している。図20は、良く知られているコルピッツ型の
発信回路を図解している。スイッチ及びバルク音波共振
器構造10を含むバルク音波共振器及びスイッチ・バン
クは、該発信回路に数個の動作周波数を与えるために使
われる。所望の動作周波数は、対応する共振器を該スイ
ッチのうちの1つで選択することによって、選択され
る。この種の発振器構造は、例えば、マルチバンド移動
通信手段に有利に使用される。図を明瞭にするために、
スイッチの状態を制御する信号ラインは図20には描か
れていない。本発明の共振器及びスイッチ構造は、他の
多くの発振器構造に使用され得るものであり、図20は
単なる例として示されているに過ぎない。コルピッツ発
振器は専門家に周知されているので、図20の発振器の
機能及び構造について、ここではこれ以上詳しくは説明
しない。図を明瞭にするために、スイッチ・フィルター
結合構造10に制御電圧を印加するためのDC信号ライ
ンは図20には示されていない。
【0053】図21に、本発明の別の有利な実施態様の
移動通信手段のブロック図が示されている。この移動通
信手段の受信部は、受信された信号をフィルタリングす
るための第1受信装置スイッチ付きフィルター・バンク
302aと、受信された信号を増幅するための受信装置
増幅器605と、受信された信号を更にフィルタリング
するための第2受信装置スイッチ付きフィルター・バン
ク302bと、受信された信号をベースバンドに変換す
るためのミキサー610と、信号を復調しデコーディン
グするための受信ブロック630と、可聴受信信号を作
るための受話器口或いはスピーカー650とを含んでい
る。送信部は、マイクロホン656と、送信される信号
に対してコーディング及びその他の所要の信号処理を行
う送信ブロック635と、変調無線周波数信号を作るた
めの変調器615と、第1送信装置スイッチ付きフィル
ター・バンク302dと、送信装置増幅器606と、第
2送信装置スイッチ付きフィルター・バンク302cと
を含んでいる。この移動通信手段は、更に、アンテナ6
01と、発振ブロック620と、制御ブロック640
と、ディスプレイ652と、キーボード654とを含ん
でいる。制御ブロック640は、送信ブロック、受信ブ
ロック及び発信ブロックの機能を制御すると共に、ディ
スプレイ652を介してユーザーに情報を表示し、キー
パッド654を介してユーザーからコマンドを受け取
る。スイッチ付きフィルター・バンク302a、302
b、302c、及び302dは、例えば、移動通信手段
の動作帯域の幅及び個数に応じて、図17に示されてい
る構造又は図18に示されている構造、或いは図17及
び18の構造の組み合わせである構造を持つことができ
る。スイッチ付きフィルター・バンク302a、302
b、302c、及び302dのために他の構造を使用す
ることもできる。受信装置スイッチ付きフィルター・バ
ンク302a、302bは、受信装置が受信帯域から受
け取るノイズ及び妨害信号を制限するために使われる。
送信側で、送信スイッチ付きフィルター・バンク302
c、302dは送信回路により所望の送信周波数の外側
に作られたノイズを除去することができる。発信ブロッ
ク620は、例えば図20に示されているようなスイッ
チ付き共振器バンクを伴う発振器を含むことがある。発
信ブロック620は、更に、発信回路の出力から望まし
くないノイズを除去するためのスイッチ付きフィルター
・ブロックを含むことができる。
【0054】本発明の別の有利な実施態様では、他の種
類の小型無線送信及び/又は受信構造で共振器スイッチ
結合構造が使用され、その場合には該装置のコンポーネ
ントのサイズは小さいのが望ましい。例えば、共振器ス
イッチ結合構造を、セルラー通信システム或いはその他
の種類のコードレス電話システムなど、コードレス通信
システムの建物内基地局に有利に使うことができる。更
に、共振器スイッチ結合構造を、例えば、携帯用コンピ
ュータ、パーソナルディジタルアシスタント、及びリモ
ートコントロールされる装置の組み込み無線リンク・ユ
ニットに有利に使うことができる。
【0055】本発明の別の有利な実施態様では、共振器
及びスイッチング手段が被着される基板は、他のコンポ
ーネントが取り付けられる基板として使われる。例え
ば、その基板は他のコンポーネントのための配線接続を
与えることができ、その配線接続は基板表面上の電気伝
導パターンとして実現される。集積回路等のコンポーネ
ントを後に該基板に接着することができる。例えば、パ
ッケージ無しの集積回路を、フリップチップ接着技術を
使って基板に直接接着することができる。基板材料とし
てガラスを使う場合、ガラス基板は低コストであるが故
に割合に大きな基板を作れるので、その様な実施態様は
特に有利であり、その様な基板は、被着された共振器及
びスイッチ構造の他に他のコンポーネントも収容するこ
とができる。
【0056】本発明の共振器及びスイッチ構造は、約4
00MHz以上の周波数で、即ちBAW共振器が適する
周波数で、有利に使用される。
【0057】本発明は共振器スイッチ結合構造を提供す
るものであり、それは、該構造を単一の製造プロセスで
作ることができるので、経済的に製造可能である。本発
明は、更に、非常に小型で複雑なスイッチ付き共振器及
びフィルター構造の製造を可能にするものであり、この
ことはマルチシステム移動通信手段を製作するうえで重
要な利点である。
【0058】以上の解説を考慮すれば、種々の修正を本
発明の範囲内でなし得ることは当業者にとっては明白な
ことである。本発明の好ましい実施態様を詳しく説明し
たけれども、本発明の範囲に属する多様な修正及び変形
をそれに加え得ることは明白である。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来技術の表面弾性波共振器を示している。
【図2】従来技術のバルク音波共振器を示している。
【図3】従来技術のミクロ機械スイッチ構造を示してい
る。
【図4】ブリッジ構造を有するバルク音波共振器の断面
図である。
【図5】図4の構造の平面図である。
【図6】ブリッジ構造を有する他のバルク音波共振器構
造を示している。
【図7】ヴァイアホール構造を有するバルク音波共振器
を示している。
【図8】音響ミラー構造により基板から絶縁されている
バルク音波共振器を示している。
【図9】積み重ね構造を有するバルク音波共振器を示し
ている。
【図10】本発明の有利な実施態様のスイッチ共振器結
合構造を示しており、この構造では圧電層は屈曲エレメ
ントである。
【図11】オン状態になっている図10の構造を示して
いる。
【図12】本発明の有利な実施態様の別のスイッチ共振
器結合構造を示している。
【図13】本発明の有利な実施態様のスイッチ共振器結
合構造を示しており、その共振エレメントは、その一端
だけが該構造の残りの部分に取り付けられている。
【図14】本発明の有利な実施態様のスイッチ共振器結
合構造を示しており、この構造では支持層は髷エレメン
トである。
【図15】本発明の有利な実施態様のスイッチ共振器結
合構造を示しており、この構造ではカンチレバー・エレ
メントが屈曲エレメントである。
【図16】ダブル・スイッチ構造を有する本発明の実施
態様を示している。
【図17】本発明の共振器及びスイッチ構造を使用する
フィルター・バンク構造を示している。
【図18】本発明の共振器及びスイッチ構造を使用する
別のフィルター・バンク構造を示している。
【図19a】本発明の種々の有利な実施態様で得られる
種々のフィルター構造を示している。
【図19b】本発明の種々の有利な実施態様で得られる
種々のフィルター構造を示している。
【図19c】本発明の種々の有利な実施態様で得られる
種々のフィルター構造を示している。
【図20】発振器における本発明のバルク音波共振器ス
イッチ結合構造の使用を示している。
【図21】本発明の移動通信手段におけるスイッチ付き
共振器バンクの使用を示している。
【符号の説明】
100 圧電層 110 底部電極 120 頂部電極 130 膜層 135 犠牲層 200 基板 210 エッチピット

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 圧電層を有する共振器を含む共振器構造
    であって、該共振器構造は − 制御電圧を伝えるための第1導体及び第2導体を含
    んでおり、 − 前記の第1及び第2の導体のうちの少なくとも一方
    は、該共振器の電極を形成するために前記圧電層と接触
    しており、 − 該共振器構造は更に前記の第1及び第2の導体に印
    加された制御電圧に対する応答としてスイッチング機能
    を実行する屈曲エレメントを含んでいることを特徴とす
    る共振器構造。
  2. 【請求項2】 該圧電層は前記屈曲エレメントであるこ
    とを特徴とする請求項1に記載の共振器構造。
  3. 【請求項3】 該構造は前記圧電層を支持するための支
    持層を含んでおり、前記支持層は前記屈曲エレメントで
    あることを特徴とする請求項1に記載の共振器構造。
  4. 【請求項4】 該共振器構造はカンチレバー・エレメン
    トを含んでおり、前記カンチレバー・エレメントは前記
    屈曲エレメントであることを特徴とする請求項1に記載
    の共振器構造。
  5. 【請求項5】 前記共振器はバルク音波共振器であるこ
    とを特徴とする請求項1に記載の共振器構造。
  6. 【請求項6】 該共振器構造は少なくとも1つのフィル
    ターを含むことを特徴とする請求項1に記載の共振器構
    造。
  7. 【請求項7】 共振器構造を含む移動通信手段であっ
    て、この共振器構造は:スイッチ機能制御電圧を伝える
    第1導体及び第2導体を含んでおり;前記の第1及び第
    2の導体のうちの少なくとも一方は、該共振器の電極を
    形成するために前記圧電層と接触しており;該共振器構
    造は前記の第1及び第2の導体に印加された制御電圧に
    対する応答としてスイッチング機能を実行する屈曲エレ
    メントを更に含むことを特徴とする移動通信手段。
JP11154478A 1998-06-02 1999-06-02 共振器の構造 Pending JP2000030595A (ja)

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Cited By (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002041052A (ja) * 2000-05-23 2002-02-08 Agere Systems Guardian Corp 音響素子の音響反射材
JP2002076822A (ja) * 2000-08-28 2002-03-15 Kyocera Corp 圧電薄膜フィルタ
JP2003046160A (ja) * 2001-04-26 2003-02-14 Matsushita Electric Ind Co Ltd 圧電素子,アクチュエータ及びインクジェットヘッド
KR20030032401A (ko) * 2001-10-18 2003-04-26 한국쌍신전기주식회사 압전박막형 공진기 및 그 제조방법
JP2003530750A (ja) * 2000-04-06 2003-10-14 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ 共振器を有するチューニング可能なフィルタ構成
JP2004037336A (ja) * 2002-07-05 2004-02-05 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 超音波センサ
JP2004112378A (ja) * 2002-09-19 2004-04-08 Nec Corp フィルタ、複合フィルタ、それらを搭載したフィルタ実装体、集積回路チップ、電子機器およびそれらの周波数特性変更方法
WO2004032320A1 (ja) * 2002-10-03 2004-04-15 Sharp Kabushiki Kaisha マイクロ共振装置、マイクロフィルタ装置、マイクロ発振器および無線通信機器
JP2004525577A (ja) * 2001-04-25 2004-08-19 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ 2つのピエゾ電気層を持つ装置
KR100456771B1 (ko) * 2002-02-04 2004-11-12 주식회사 엠에스솔루션 고주파용 압전 스위칭 소자
JP2005528010A (ja) * 2002-02-13 2005-09-15 コミツサリア タ レネルジー アトミーク 同調可能なmemsフィルムバルク音響波マイクロ共振器
US7453332B2 (en) 2003-03-25 2008-11-18 Panasonic Corporation Mechanical resonator
JP2008541420A (ja) * 2005-05-02 2008-11-20 エヌエックスピー ビー ヴィ 統合減結合コンデンサを有する容量性rf−mems装置
JP2009022052A (ja) * 2001-01-02 2009-01-29 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte Ltd パターン化された音響ミラーを固体的に取り付けられたマルチ共振器バルク音波フィルタ
JPWO2008016075A1 (ja) * 2006-08-03 2009-12-24 パナソニック株式会社 周波数可変音響薄膜共振器、フィルタ、及びそれを用いた通信装置
JP2010516213A (ja) * 2007-01-16 2010-05-13 エスティマイクロエレクトロニクス エスエー 共振周波数調整可能なバルク弾性波共振器、及び、電話通信分野でのそのような共振器の利用
WO2012073829A1 (ja) * 2010-11-30 2012-06-07 株式会社 村田製作所 バルク弾性波共振子
JP2012531180A (ja) * 2009-06-23 2012-12-06 コミサリア ア レネルジ アトミク エ オウ エネルジ アルタナティヴ 振動運動を増幅するマイクロメカニカル素子
JP2016213891A (ja) * 2011-12-01 2016-12-15 サムスン エレクトロニクス カンパニー リミテッド バルク音響波共振器及び製造方法
KR20200058215A (ko) * 2018-11-19 2020-05-27 전북대학교산학협력단 가변 공진 특성을 갖는 체적탄성파 공진기 및 그 방법

Families Citing this family (150)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000209063A (ja) * 1998-11-12 2000-07-28 Mitsubishi Electric Corp 薄膜圧電素子
US6593831B2 (en) * 1999-01-14 2003-07-15 The Regents Of The University Of Michigan Method and apparatus for filtering signals in a subsystem including a power amplifier utilizing a bank of vibrating micromechanical apparatus
US6566786B2 (en) * 1999-01-14 2003-05-20 The Regents Of The University Of Michigan Method and apparatus for selecting at least one desired channel utilizing a bank of vibrating micromechanical apparatus
JP2001024475A (ja) * 1999-07-09 2001-01-26 Oki Electric Ind Co Ltd 弾性表面波フィルタ
FI107660B (fi) 1999-07-19 2001-09-14 Nokia Mobile Phones Ltd Resonaattorirakenne
US6339276B1 (en) * 1999-11-01 2002-01-15 Agere Systems Guardian Corp. Incremental tuning process for electrical resonators based on mechanical motion
US6441539B1 (en) * 1999-11-11 2002-08-27 Murata Manufacturing Co., Ltd. Piezoelectric resonator
US6746577B1 (en) 1999-12-16 2004-06-08 Agere Systems, Inc. Method and apparatus for thickness control and reproducibility of dielectric film deposition
US6524971B1 (en) 1999-12-17 2003-02-25 Agere Systems, Inc. Method of deposition of films
US6323744B1 (en) 2000-02-04 2001-11-27 Agere Systems Guardian Corp. Grounding of TFR ladder filters
US6377136B1 (en) 2000-02-04 2002-04-23 Agere Systems Guardian Corporation Thin film resonator filter having at least one component with different resonant frequency sets or electrode capacitance
US7296329B1 (en) 2000-02-04 2007-11-20 Agere Systems Inc. Method of isolation for acoustic resonator device
US6437667B1 (en) 2000-02-04 2002-08-20 Agere Systems Guardian Corp. Method of tuning thin film resonator filters by removing or adding piezoelectric material
US6306313B1 (en) 2000-02-04 2001-10-23 Agere Systems Guardian Corp. Selective etching of thin films
US6693033B2 (en) 2000-02-10 2004-02-17 Motorola, Inc. Method of removing an amorphous oxide from a monocrystalline surface
US6392257B1 (en) 2000-02-10 2002-05-21 Motorola Inc. Semiconductor structure, semiconductor device, communicating device, integrated circuit, and process for fabricating the same
DE10007577C1 (de) * 2000-02-18 2001-09-13 Infineon Technologies Ag Piezoresonator
US6384697B1 (en) * 2000-05-08 2002-05-07 Agilent Technologies, Inc. Cavity spanning bottom electrode of a substrate-mounted bulk wave acoustic resonator
EP1290733A1 (en) 2000-05-31 2003-03-12 Motorola, Inc. Semiconductor device and method for manufacturing the same
US6414570B1 (en) * 2000-06-06 2002-07-02 Raytheon Company Low profile, high isolation and rejection x-band switched filter assembly
US6262464B1 (en) 2000-06-19 2001-07-17 International Business Machines Corporation Encapsulated MEMS brand-pass filter for integrated circuits
US6501973B1 (en) 2000-06-30 2002-12-31 Motorola, Inc. Apparatus and method for measuring selected physical condition of an animate subject
AU2001264987A1 (en) * 2000-06-30 2002-01-14 Motorola, Inc., A Corporation Of The State Of Delware Hybrid semiconductor structure and device
WO2002009187A2 (en) 2000-07-24 2002-01-31 Motorola, Inc. Heterojunction tunneling diodes and process for fabricating same
US6590236B1 (en) 2000-07-24 2003-07-08 Motorola, Inc. Semiconductor structure for use with high-frequency signals
US6555946B1 (en) * 2000-07-24 2003-04-29 Motorola, Inc. Acoustic wave device and process for forming the same
US6355498B1 (en) 2000-08-11 2002-03-12 Agere Systems Guartian Corp. Thin film resonators fabricated on membranes created by front side releasing
US20020070816A1 (en) * 2000-08-24 2002-06-13 Wan-Thai Hsu Method for making micromechanical structures having at least one lateral, small gap therebetween and micromechanical device produced thereby
US6486751B1 (en) 2000-09-26 2002-11-26 Agere Systems Inc. Increased bandwidth thin film resonator having a columnar structure
US6493497B1 (en) 2000-09-26 2002-12-10 Motorola, Inc. Electro-optic structure and process for fabricating same
US6638838B1 (en) 2000-10-02 2003-10-28 Motorola, Inc. Semiconductor structure including a partially annealed layer and method of forming the same
US6674291B1 (en) 2000-10-30 2004-01-06 Agere Systems Guardian Corp. Method and apparatus for determining and/or improving high power reliability in thin film resonator devices, and a thin film resonator device resultant therefrom
US6587212B1 (en) 2000-10-31 2003-07-01 Agere Systems Inc. Method and apparatus for studying vibrational modes of an electro-acoustic device
US6501121B1 (en) 2000-11-15 2002-12-31 Motorola, Inc. Semiconductor structure
US6743731B1 (en) * 2000-11-17 2004-06-01 Agere Systems Inc. Method for making a radio frequency component and component produced thereby
US6559471B2 (en) 2000-12-08 2003-05-06 Motorola, Inc. Quantum well infrared photodetector and method for fabricating same
TW497331B (en) * 2001-01-12 2002-08-01 Asia Pacific Microsystems Inc Micro bulk acoustic wave filter multiplexer
US6509813B2 (en) * 2001-01-16 2003-01-21 Nokia Mobile Phones Ltd. Bulk acoustic wave resonator with a conductive mirror
US20020096683A1 (en) 2001-01-19 2002-07-25 Motorola, Inc. Structure and method for fabricating GaN devices utilizing the formation of a compliant substrate
US7435613B2 (en) * 2001-02-12 2008-10-14 Agere Systems Inc. Methods of fabricating a membrane with improved mechanical integrity
US6673646B2 (en) 2001-02-28 2004-01-06 Motorola, Inc. Growth of compound semiconductor structures on patterned oxide films and process for fabricating same
US7280014B2 (en) * 2001-03-13 2007-10-09 Rochester Institute Of Technology Micro-electro-mechanical switch and a method of using and making thereof
WO2002082551A1 (en) 2001-04-02 2002-10-17 Motorola, Inc. A semiconductor structure exhibiting reduced leakage current
US6472962B1 (en) * 2001-05-17 2002-10-29 Institute Of Microelectronics Inductor-capacitor resonant RF switch
US6600389B2 (en) * 2001-05-30 2003-07-29 Intel Corporation Tapered structures for generating a set of resonators with systematic resonant frequencies
WO2002097865A2 (en) * 2001-05-31 2002-12-05 Rochester Institute Of Technology Fluidic valves, agitators, and pumps and methods thereof
US6709989B2 (en) 2001-06-21 2004-03-23 Motorola, Inc. Method for fabricating a semiconductor structure including a metal oxide interface with silicon
US6707355B1 (en) 2001-06-29 2004-03-16 Teravicta Technologies, Inc. Gradually-actuating micromechanical device
US6646215B1 (en) 2001-06-29 2003-11-11 Teravicin Technologies, Inc. Device adapted to pull a cantilever away from a contact structure
US6992321B2 (en) 2001-07-13 2006-01-31 Motorola, Inc. Structure and method for fabricating semiconductor structures and devices utilizing piezoelectric materials
US6531740B2 (en) 2001-07-17 2003-03-11 Motorola, Inc. Integrated impedance matching and stability network
US6646293B2 (en) 2001-07-18 2003-11-11 Motorola, Inc. Structure for fabricating high electron mobility transistors utilizing the formation of complaint substrates
US6693298B2 (en) 2001-07-20 2004-02-17 Motorola, Inc. Structure and method for fabricating epitaxial semiconductor on insulator (SOI) structures and devices utilizing the formation of a compliant substrate for materials used to form same
US7019332B2 (en) 2001-07-20 2006-03-28 Freescale Semiconductor, Inc. Fabrication of a wavelength locker within a semiconductor structure
US6855992B2 (en) 2001-07-24 2005-02-15 Motorola Inc. Structure and method for fabricating configurable transistor devices utilizing the formation of a compliant substrate for materials used to form the same
US6585424B2 (en) 2001-07-25 2003-07-01 Motorola, Inc. Structure and method for fabricating an electro-rheological lens
US6594414B2 (en) 2001-07-25 2003-07-15 Motorola, Inc. Structure and method of fabrication for an optical switch
US6667196B2 (en) 2001-07-25 2003-12-23 Motorola, Inc. Method for real-time monitoring and controlling perovskite oxide film growth and semiconductor structure formed using the method
US6589856B2 (en) 2001-08-06 2003-07-08 Motorola, Inc. Method and apparatus for controlling anti-phase domains in semiconductor structures and devices
US6639249B2 (en) 2001-08-06 2003-10-28 Motorola, Inc. Structure and method for fabrication for a solid-state lighting device
US20030034491A1 (en) 2001-08-14 2003-02-20 Motorola, Inc. Structure and method for fabricating semiconductor structures and devices for detecting an object
US6673667B2 (en) 2001-08-15 2004-01-06 Motorola, Inc. Method for manufacturing a substantially integral monolithic apparatus including a plurality of semiconductor materials
US20030036217A1 (en) * 2001-08-16 2003-02-20 Motorola, Inc. Microcavity semiconductor laser coupled to a waveguide
US6842009B2 (en) * 2001-09-13 2005-01-11 Nth Tech Corporation Biohazard sensing system and methods thereof
US6717488B2 (en) * 2001-09-13 2004-04-06 Nth Tech Corporation Resonator with a member having an embedded charge and a method of making thereof
KR100541895B1 (ko) * 2001-09-21 2006-01-16 가부시끼가이샤 도시바 고주파 필터
US6787438B1 (en) 2001-10-16 2004-09-07 Teravieta Technologies, Inc. Device having one or more contact structures interposed between a pair of electrodes
US20030071327A1 (en) 2001-10-17 2003-04-17 Motorola, Inc. Method and apparatus utilizing monocrystalline insulator
US7211923B2 (en) * 2001-10-26 2007-05-01 Nth Tech Corporation Rotational motion based, electrostatic power source and methods thereof
US7378775B2 (en) * 2001-10-26 2008-05-27 Nth Tech Corporation Motion based, electrostatic power source and methods thereof
KR20030039446A (ko) * 2001-11-13 2003-05-22 삼성전자주식회사 Fbar 제조방법
KR100616508B1 (ko) * 2002-04-11 2006-08-29 삼성전기주식회사 Fbar 소자 및 그 제조방법
US6916717B2 (en) * 2002-05-03 2005-07-12 Motorola, Inc. Method for growing a monocrystalline oxide layer and for fabricating a semiconductor device on a monocrystalline substrate
US7276994B2 (en) * 2002-05-23 2007-10-02 Murata Manufacturing Co., Ltd. Piezoelectric thin-film resonator, piezoelectric filter, and electronic component including the piezoelectric filter
JP2004072715A (ja) * 2002-06-11 2004-03-04 Murata Mfg Co Ltd 圧電薄膜共振子、圧電フィルタ、およびそれを有する電子部品
JP4075503B2 (ja) * 2002-07-30 2008-04-16 ソニー株式会社 マイクロマシンおよびその製造方法
US6741147B2 (en) * 2002-09-30 2004-05-25 Agere Systems Inc. Method and apparatus for adjusting the resonant frequency of a thin film resonator
US7169619B2 (en) 2002-11-19 2007-01-30 Freescale Semiconductor, Inc. Method for fabricating semiconductor structures on vicinal substrates using a low temperature, low pressure, alkaline earth metal-rich process
US6885065B2 (en) 2002-11-20 2005-04-26 Freescale Semiconductor, Inc. Ferromagnetic semiconductor structure and method for forming the same
US7020374B2 (en) 2003-02-03 2006-03-28 Freescale Semiconductor, Inc. Optical waveguide structure and method for fabricating the same
US6965128B2 (en) 2003-02-03 2005-11-15 Freescale Semiconductor, Inc. Structure and method for fabricating semiconductor microresonator devices
FR2852165A1 (fr) * 2003-03-06 2004-09-10 St Microelectronics Sa Procede de realisation d'un microresonateur piezolectrique accordable
US7245897B2 (en) * 2003-03-10 2007-07-17 Intel Corporation Using an electroacoustic resonator
KR100599083B1 (ko) 2003-04-22 2006-07-12 삼성전자주식회사 캔틸레버 형태의 압전 박막 공진 소자 및 그 제조방법
US8766745B1 (en) 2007-07-25 2014-07-01 Hrl Laboratories, Llc Quartz-based disk resonator gyro with ultra-thin conductive outer electrodes and method of making same
US7994877B1 (en) 2008-11-10 2011-08-09 Hrl Laboratories, Llc MEMS-based quartz hybrid filters and a method of making the same
US20040227578A1 (en) * 2003-05-14 2004-11-18 Miikka Hamalainen Acoustic resonance-based frequency synthesizer using at least one bulk acoustic wave (BAW) or thin film bulk acoustic wave (FBAR) device
US7287328B2 (en) * 2003-08-29 2007-10-30 Rochester Institute Of Technology Methods for distributed electrode injection
US7217582B2 (en) * 2003-08-29 2007-05-15 Rochester Institute Of Technology Method for non-damaging charge injection and a system thereof
KR100542557B1 (ko) * 2003-09-09 2006-01-11 삼성전자주식회사 박막 공진기와, 박막 공진기의 제조 방법 및 박막공진기를 구비하는 필터
KR101130145B1 (ko) * 2003-10-06 2012-03-28 엔엑스피 비 브이 공진기 구조체, 필터, 공진기 구조체의 제조 방법과 이들을사용하는 송/수신기
KR100555762B1 (ko) * 2003-10-07 2006-03-03 삼성전자주식회사 에어갭형 박막 벌크 음향 공진기 및 그 제조방법, 이를이용한 필터 및 듀플렉서
US7372346B2 (en) * 2003-12-24 2008-05-13 Interuniversitair Microelektronica Centrum (Imec) Acoustic resonator
EP1548768B1 (en) 2003-12-24 2012-02-22 Imec Micromachined film bulk acoustic resonator
FR2864951B1 (fr) * 2004-01-14 2006-03-31 Suisse Electronique Microtech Dispositif de type microsysteme electromecanique a film mince piezoelectrique
JP3945486B2 (ja) * 2004-02-18 2007-07-18 ソニー株式会社 薄膜バルク音響共振子およびその製造方法
US8581308B2 (en) * 2004-02-19 2013-11-12 Rochester Institute Of Technology High temperature embedded charge devices and methods thereof
KR100622955B1 (ko) * 2004-04-06 2006-09-18 삼성전자주식회사 박막 벌크 음향 공진기 및 그 제조방법
US7514759B1 (en) * 2004-04-19 2009-04-07 Hrl Laboratories, Llc Piezoelectric MEMS integration with GaN technology
JP4373949B2 (ja) * 2004-04-20 2009-11-25 株式会社東芝 薄膜圧電共振器及びその製造方法
US7960900B2 (en) * 2004-06-14 2011-06-14 Stmicroelectronics S.A. Assembly of a microswitch and of an acoustic resonator
EP1825560A4 (en) * 2004-11-20 2010-09-15 Kenneth E Salsman DEVICE FOR EMISSION OF HIGH FREQUENCY SIGNALS
WO2006070616A1 (ja) * 2004-12-28 2006-07-06 Murata Manufacturing Co., Ltd. 平衡-不平衡型フィルタモジュールおよび通信装置
JP4622574B2 (ja) * 2005-02-21 2011-02-02 株式会社デンソー 超音波素子
US20070074731A1 (en) * 2005-10-05 2007-04-05 Nth Tech Corporation Bio-implantable energy harvester systems and methods thereof
US7623007B2 (en) * 2005-10-19 2009-11-24 Panasonic Corporation Device including piezoelectric thin film and a support having a vertical cross-section with a curvature
US7429904B2 (en) * 2005-10-28 2008-09-30 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte Ltd Spread-spectrum radio utilizing MEMS components
US20070103645A1 (en) * 2005-11-01 2007-05-10 Seiko Epson Corporation Projector
US7414350B1 (en) * 2006-03-03 2008-08-19 Skyworks Solutions, Inc. Acoustic mirror structure for a bulk acoustic wave structure and method for fabricating same
KR100787233B1 (ko) * 2006-11-16 2007-12-21 삼성전자주식회사 집적 소자 및 그 제조 방법
EP1976015B1 (en) 2007-03-26 2014-09-10 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Switching element, method for manufacturing the same, and display device including switching element
US8258894B2 (en) * 2007-05-31 2012-09-04 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. Coupled resonator filter with a filter section
US7825749B2 (en) * 2007-05-31 2010-11-02 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. Integrated coupled resonator filter and bulk acoustic wave devices
KR20100068366A (ko) * 2007-07-11 2010-06-23 아바고 테크놀로지스 와이어리스 아이피 (싱가포르) 피티이 리미티드 금속 층 형성 방법, 어쿠스틱 미러 구조물 형성 방법 및 어쿠스틱 미러 구조물
US10266398B1 (en) 2007-07-25 2019-04-23 Hrl Laboratories, Llc ALD metal coatings for high Q MEMS structures
KR101378510B1 (ko) * 2007-11-01 2014-03-28 삼성전자주식회사 Fbar를 이용한 튜너블 공진기
JP5441095B2 (ja) * 2008-01-31 2014-03-12 太陽誘電株式会社 弾性波デバイス、デュープレクサ、通信モジュール、および通信装置
US8151640B1 (en) 2008-02-05 2012-04-10 Hrl Laboratories, Llc MEMS on-chip inertial navigation system with error correction
US7802356B1 (en) 2008-02-21 2010-09-28 Hrl Laboratories, Llc Method of fabricating an ultra thin quartz resonator component
JP5136134B2 (ja) * 2008-03-18 2013-02-06 ソニー株式会社 バンドパスフィルタ装置、その製造方法、テレビジョンチューナおよびテレビジョン受信機
US7777595B2 (en) * 2008-04-30 2010-08-17 John Mezzalingua Associates, Inc. Multi-channel filter assemblies
JP5505596B2 (ja) * 2008-06-18 2014-05-28 セイコーエプソン株式会社 共振回路、発振回路、フィルタ回路及び電子装置
US7830227B1 (en) * 2008-09-18 2010-11-09 Hrl Laboratories, Llc Device having integrated MEMS switches and filters
US8176607B1 (en) 2009-10-08 2012-05-15 Hrl Laboratories, Llc Method of fabricating quartz resonators
US8384497B2 (en) * 2009-12-18 2013-02-26 Hao Zhang Piezoelectric resonator structure having an interference structure
US20110304412A1 (en) * 2010-06-10 2011-12-15 Hao Zhang Acoustic Wave Resonators and Methods of Manufacturing Same
US8912711B1 (en) 2010-06-22 2014-12-16 Hrl Laboratories, Llc Thermal stress resistant resonator, and a method for fabricating same
WO2012079038A2 (en) * 2010-12-10 2012-06-14 Peregrine Semiconductor Corporation Method, system, and apparatus for resonator circuits and modulating resonators
US9300038B2 (en) 2010-12-10 2016-03-29 Peregrine Semiconductor Corporation Method, system, and apparatus for resonator circuits and modulating resonators
FR2969428B1 (fr) * 2010-12-21 2013-01-04 St Microelectronics Sa Commutateur electronique et appareil de communication incluant un tel commutateur
JP2012195829A (ja) * 2011-03-17 2012-10-11 Seiko Epson Corp 発振回路
JP2012222718A (ja) * 2011-04-13 2012-11-12 Seiko Epson Corp 発振器
US9054671B2 (en) 2011-11-09 2015-06-09 International Business Machines Corporation Tunable filter structures and design structures
US9048809B2 (en) * 2012-01-03 2015-06-02 International Business Machines Corporation Method of manufacturing switchable filters
US9599470B1 (en) 2013-09-11 2017-03-21 Hrl Laboratories, Llc Dielectric high Q MEMS shell gyroscope structure
WO2015084456A2 (en) * 2013-09-18 2015-06-11 The Regents Of The University Of California Tunable q resonator
US9977097B1 (en) 2014-02-21 2018-05-22 Hrl Laboratories, Llc Micro-scale piezoelectric resonating magnetometer
US9991863B1 (en) 2014-04-08 2018-06-05 Hrl Laboratories, Llc Rounded and curved integrated tethers for quartz resonators
US9608594B2 (en) * 2014-05-29 2017-03-28 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Capacitive coupled resonator device with air-gap separating electrode and piezoelectric layer
US10308505B1 (en) 2014-08-11 2019-06-04 Hrl Laboratories, Llc Method and apparatus for the monolithic encapsulation of a micro-scale inertial navigation sensor suite
US10031191B1 (en) 2015-01-16 2018-07-24 Hrl Laboratories, Llc Piezoelectric magnetometer capable of sensing a magnetic field in multiple vectors
US10175307B1 (en) 2016-01-15 2019-01-08 Hrl Laboratories, Llc FM demodulation system for quartz MEMS magnetometer
DE102018118701B3 (de) 2018-08-01 2019-10-17 RF360 Europe GmbH BAW-Resonator mit verbesserter Verbindung der oberen Elektrode
DE102018125498B4 (de) * 2018-10-15 2020-04-23 RF360 Europe GmbH Elektroakustisches HF-Filter mit verbesserter Leistung und Multiplexer-Komponente, die ein HF-Filter umfasst
EP3967982B1 (en) * 2019-04-26 2025-04-23 North University of China Multi-parameter surface acoustic wave sensing device, manufacturing method, and aircraft monitoring system
US10979019B2 (en) * 2019-06-11 2021-04-13 Globalfoundries Singapore Pte. Ltd. Reconfigurable resonator devices, methods of forming reconfigurable resonator devices, and operations thereof
US11063571B2 (en) * 2019-07-25 2021-07-13 Zhuhai Crystal Resonance Technologies Co., Ltd. Packaged electronic components
CN111756351B (zh) * 2020-04-03 2021-08-10 诺思(天津)微系统有限责任公司 体声波谐振器及其制造方法、滤波器和电子设备
CN111786645B (zh) * 2020-05-07 2021-04-16 诺思(天津)微系统有限责任公司 体声波谐振器、滤波器、电子设备和调整机电耦合系数的方法
US12482910B2 (en) * 2022-07-28 2025-11-25 Beijing Boe Technology Development Co., Ltd. Phase shifter and method for preparing phase shifter

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63187713A (ja) * 1987-01-29 1988-08-03 Toshiba Corp 集積型圧電薄膜機能素子
JPH0396005A (ja) * 1989-09-07 1991-04-22 Toshiba Corp 圧電薄膜共振子
JPH06350371A (ja) * 1993-06-10 1994-12-22 Matsushita Electric Ind Co Ltd 圧電デバイスの製造方法
JPH07226648A (ja) * 1994-02-15 1995-08-22 Murata Mfg Co Ltd 共振周波数可変型共振子
JPH08213803A (ja) * 1994-10-31 1996-08-20 Texas Instr Inc <Ti> 高周波信号用スイッチを含む移相器
JP2000030594A (ja) * 1998-06-02 2000-01-28 Nokia Mobile Phones Ltd 共振器の構造

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60189307A (ja) 1984-03-09 1985-09-26 Toshiba Corp 圧電薄膜共振器およびその製造方法
JPS61280104A (ja) 1985-06-05 1986-12-10 Murata Mfg Co Ltd 誘電体共振器装置
JPH07109971B2 (ja) 1989-02-20 1995-11-22 株式会社村田製作所 フイルタ装置
US5260596A (en) * 1991-04-08 1993-11-09 Motorola, Inc. Monolithic circuit with integrated bulk structure resonator
US5382930A (en) 1992-12-21 1995-01-17 Trw Inc. Monolithic multipole filters made of thin film stacked crystal filters
US5373268A (en) 1993-02-01 1994-12-13 Motorola, Inc. Thin film resonator having stacked acoustic reflecting impedance matching layers and method
CN1040049C (zh) * 1993-02-18 1998-09-30 西门子公司 具有混合驱动的微型机械继电器
US5446306A (en) 1993-12-13 1995-08-29 Trw Inc. Thin film voltage-tuned semiconductor bulk acoustic resonator (SBAR)
US5696491A (en) * 1995-06-07 1997-12-09 Regents Of The University Of California Self-excited microelectromechanical device
US5596239A (en) 1995-06-29 1997-01-21 Motorola, Inc. Enhanced quality factor resonator
US5714917A (en) 1996-10-02 1998-02-03 Nokia Mobile Phones Limited Device incorporating a tunable thin film bulk acoustic resonator for performing amplitude and phase modulation
US5873154A (en) 1996-10-17 1999-02-23 Nokia Mobile Phones Limited Method for fabricating a resonator having an acoustic mirror
US5872493A (en) 1997-03-13 1999-02-16 Nokia Mobile Phones, Ltd. Bulk acoustic wave (BAW) filter having a top portion that includes a protective acoustic mirror
US6049702A (en) * 1997-12-04 2000-04-11 Rockwell Science Center, Llc Integrated passive transceiver section
US6312816B1 (en) * 1998-02-20 2001-11-06 Advanced Technology Materials, Inc. A-site- and/or B-site-modified PbZrTiO3 materials and (Pb, Sr, Ca, Ba, Mg) (Zr, Ti, Nb, Ta)O3 films having utility in ferroelectric random access memories and high performance thin film microactuators

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63187713A (ja) * 1987-01-29 1988-08-03 Toshiba Corp 集積型圧電薄膜機能素子
JPH0396005A (ja) * 1989-09-07 1991-04-22 Toshiba Corp 圧電薄膜共振子
JPH06350371A (ja) * 1993-06-10 1994-12-22 Matsushita Electric Ind Co Ltd 圧電デバイスの製造方法
JPH07226648A (ja) * 1994-02-15 1995-08-22 Murata Mfg Co Ltd 共振周波数可変型共振子
JPH08213803A (ja) * 1994-10-31 1996-08-20 Texas Instr Inc <Ti> 高周波信号用スイッチを含む移相器
JP2000030594A (ja) * 1998-06-02 2000-01-28 Nokia Mobile Phones Ltd 共振器の構造

Cited By (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003530750A (ja) * 2000-04-06 2003-10-14 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ 共振器を有するチューニング可能なフィルタ構成
JP2002041052A (ja) * 2000-05-23 2002-02-08 Agere Systems Guardian Corp 音響素子の音響反射材
JP2002076822A (ja) * 2000-08-28 2002-03-15 Kyocera Corp 圧電薄膜フィルタ
JP2009022052A (ja) * 2001-01-02 2009-01-29 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte Ltd パターン化された音響ミラーを固体的に取り付けられたマルチ共振器バルク音波フィルタ
JP2004525577A (ja) * 2001-04-25 2004-08-19 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ 2つのピエゾ電気層を持つ装置
KR100854242B1 (ko) * 2001-04-25 2008-08-25 엔엑스피 비 브이 2개의 압전층을 가진 장치 및 필터 장치
JP2003046160A (ja) * 2001-04-26 2003-02-14 Matsushita Electric Ind Co Ltd 圧電素子,アクチュエータ及びインクジェットヘッド
KR20030032401A (ko) * 2001-10-18 2003-04-26 한국쌍신전기주식회사 압전박막형 공진기 및 그 제조방법
KR100456771B1 (ko) * 2002-02-04 2004-11-12 주식회사 엠에스솔루션 고주파용 압전 스위칭 소자
US7592739B2 (en) 2002-02-13 2009-09-22 Commissariat A L'energie Atomique Tunable bulk acoustic wave MEMS micro-resonator
JP2005528010A (ja) * 2002-02-13 2005-09-15 コミツサリア タ レネルジー アトミーク 同調可能なmemsフィルムバルク音響波マイクロ共振器
JP2004037336A (ja) * 2002-07-05 2004-02-05 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 超音波センサ
JP2004112378A (ja) * 2002-09-19 2004-04-08 Nec Corp フィルタ、複合フィルタ、それらを搭載したフィルタ実装体、集積回路チップ、電子機器およびそれらの周波数特性変更方法
WO2004032320A1 (ja) * 2002-10-03 2004-04-15 Sharp Kabushiki Kaisha マイクロ共振装置、マイクロフィルタ装置、マイクロ発振器および無線通信機器
JPWO2004032320A1 (ja) * 2002-10-03 2006-02-02 シャープ株式会社 マイクロ共振装置、マイクロフィルタ装置、マイクロ発振器および無線通信機器
US7453332B2 (en) 2003-03-25 2008-11-18 Panasonic Corporation Mechanical resonator
JP2008541420A (ja) * 2005-05-02 2008-11-20 エヌエックスピー ビー ヴィ 統合減結合コンデンサを有する容量性rf−mems装置
JP4814316B2 (ja) * 2005-05-02 2011-11-16 エプコス アーゲー 統合減結合コンデンサを有する容量性rf−mems装置
US8238074B2 (en) 2005-05-02 2012-08-07 Epcos Ag Capacitive RF-MEMS device with integrated decoupling capacitor
JPWO2008016075A1 (ja) * 2006-08-03 2009-12-24 パナソニック株式会社 周波数可変音響薄膜共振器、フィルタ、及びそれを用いた通信装置
JP4691163B2 (ja) * 2006-08-03 2011-06-01 パナソニック株式会社 周波数可変音響薄膜共振器、フィルタ、及びそれを用いた通信装置
US7986198B2 (en) 2006-08-03 2011-07-26 Panasonic Corporation Frequency-variable acoustic thin film resonator, filter and communication apparatus using the same
JP2010516213A (ja) * 2007-01-16 2010-05-13 エスティマイクロエレクトロニクス エスエー 共振周波数調整可能なバルク弾性波共振器、及び、電話通信分野でのそのような共振器の利用
JP2012531180A (ja) * 2009-06-23 2012-12-06 コミサリア ア レネルジ アトミク エ オウ エネルジ アルタナティヴ 振動運動を増幅するマイクロメカニカル素子
WO2012073829A1 (ja) * 2010-11-30 2012-06-07 株式会社 村田製作所 バルク弾性波共振子
US8717121B2 (en) 2010-11-30 2014-05-06 Murata Manufacturing Co., Ltd. Bulk acoustic wave resonator
JP2016213891A (ja) * 2011-12-01 2016-12-15 サムスン エレクトロニクス カンパニー リミテッド バルク音響波共振器及び製造方法
KR20200058215A (ko) * 2018-11-19 2020-05-27 전북대학교산학협력단 가변 공진 특성을 갖는 체적탄성파 공진기 및 그 방법
KR102142056B1 (ko) * 2018-11-19 2020-08-06 전북대학교산학협력단 가변 공진 특성을 갖는 체적탄성파 공진기 및 그 방법

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