[go: up one dir, main page]

EP0022033B1 - Nouvelles plaques offset à surface hydrophile rendue mate par une mince couche de chrome - Google Patents

Nouvelles plaques offset à surface hydrophile rendue mate par une mince couche de chrome Download PDF

Info

Publication number
EP0022033B1
EP0022033B1 EP19800400982 EP80400982A EP0022033B1 EP 0022033 B1 EP0022033 B1 EP 0022033B1 EP 19800400982 EP19800400982 EP 19800400982 EP 80400982 A EP80400982 A EP 80400982A EP 0022033 B1 EP0022033 B1 EP 0022033B1
Authority
EP
European Patent Office
Prior art keywords
chromium
layer
hydrophilic surface
plate
micrometer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
EP19800400982
Other languages
German (de)
English (en)
Other versions
EP0022033A1 (fr
Inventor
Jean-Marie Nouel
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Innolith Sa Te Villers-La-Montagne Frankrijk
Original Assignee
Nouel Jean-Marie
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=9227397&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=EP0022033(B1) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Nouel Jean-Marie filed Critical Nouel Jean-Marie
Publication of EP0022033A1 publication Critical patent/EP0022033A1/fr
Application granted granted Critical
Publication of EP0022033B1 publication Critical patent/EP0022033B1/fr
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
    • B41N1/00—Printing plates or foils; Materials therefor
    • B41N1/04—Printing plates or foils; Materials therefor metallic
    • B41N1/08—Printing plates or foils; Materials therefor metallic for lithographic printing
    • B41N1/10—Printing plates or foils; Materials therefor metallic for lithographic printing multiple
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
    • B41N1/00—Printing plates or foils; Materials therefor
    • B41N1/04—Printing plates or foils; Materials therefor metallic
    • B41N1/08—Printing plates or foils; Materials therefor metallic for lithographic printing

Definitions

  • the present invention relates to new offset plates, the hydrophylic surface of which has been made "matt thanks to a thin layer of chromium.
  • offset reproduction methods use plates having a surface of hydrophilic nature. This same surface must advantageously be matt, this mattness being advantageous on the one hand, to facilitate the control work at the time of printing and on the other hand, to facilitate the attachment, on a surface, of a photosensitive layer .
  • This mattness can be obtained by treating the support of the plate or the surface in a material of hydrophilic nature by methods which call for an attack on said surface, either mechanically, chemically or electrochemically.
  • chromium has been widely described for producing the hydrophilic surface of an offset plate.
  • the chrome layers employed have notable advantages with regard to their hardness, their hydrophilicity and possibly their appearance. Indeed, these chromium layers can have a mat surface.
  • electrochemically obtain a chromium layer with a mat surface two methods are known, one consisting in using an electrolytic bath at low temperature (5 to 8 ° C. for example) and the other consisting in using an electrolytic bath at lower temperature normal (25 to 35 ° C) but by interrupting the electric current while the said deposition is carried out. But in all known cases the chromium layer (with a shiny or mat surface) which must play the role of aquaphile layer of the offset plates must have a notable thickness (clearly greater than 1 micrometer and generally from 1.5 to 2.8 micrometers ).
  • GB-A-1 172 517 describes a plate whose substrate is made of copper or brass; this substrate being covered with a spongy layer of chromium, itself covered with an ink-absorbing photosensitive layer.
  • the specialist knows that the deposited chromium layer is necessarily of a thickness greater than 1.5 micrometers (thickness explained in said patent).
  • hydrophilic chromium layers less than 1 micrometer thick could possibly be deposited on supports.
  • specialists are well aware that the very thin layers recommended cannot play their role of hard aquaphilic layers because they are scratched too easily and are often porous, thus revealing an underlying surface with properties which are unacceptable in offset reproduction. .
  • This is what is described in particular in BE-A-779 229 where, in addition, the chromium oxide chromium layer used as an aquaphile surface is of a shiny nature therefore does not allow sufficient adhesion of a photosensitive layer .
  • the invention therefore relates to offset plates with a hydrophilic metallic surface and an encrophilic surface obtained from a photosensitive printing layer, comprising a steel support having a glossy and smooth hydrophilic surface, characterized in that said glossy hydrophilic surface is at least partially covered. a layer of matt and porous chromium having a thickness of less than 1 micrometer.
  • the invention consists in depositing on a surface having hydrophilic properties which can be used in the sense of offset, a very thin layer of matt chromium, the relative porosity and fragility of which will be accepted precisely because the underlying surface is hydrophilic and encrophobic , but which will be used to make the surface of the final material "matt".
  • hydrophilic surfaces which can be made matt using the invention are all the surfaces which, to date, have been considered as hydrophilic surfaces usable in offset plates.
  • chromium With a thin layer of chromium, it is possible to matte shiny or semi-shiny surfaces of hard materials such as stainless steel, tin-nickel, chromium itself, chrome surfaces. -chromium oxide (which is coated with steel for certain cans), nickel-phosphorus, tin alloys and nickel alloys.
  • a matte appearance plate is obtained.
  • the plate is covered with a layer (approximately 1.8 micrometer thickness) of photosensitive commercial printer (PCAS). After drying (3 min at 45 ° C and 5 min at 85 ° C) the plate is ready.
  • PCAS photosensitive commercial printer
  • the plate is then used as known in offset processes: insolation, rearing of soluble parts, exfoliation, etc.
  • the plate is thus covered with a smooth, hard and shiny layer of chromium which will provide it with good protection during handling.
  • This plate is then immersed in an electrolytic chromium bath with a composition identical to that of the bath described above, but it is operated at a temperature of 28 ° C. and is deposited, under 30 A by square decimetre, on only one of the faces of the plate, a matt chrome thickness of 0.4 micrometer.
  • a plate is thus obtained protected on all its faces by a layer of smooth chrome and which comprises, on one of its faces, a surface of matt chrome usable in offset.
  • a photosensitive printer layer is then deposited on the mat surface and a ready-made offset plate is obtained.
  • a chromed steel plate sold by the company SOLLAC is used as a starting plate.
  • the plate After degreasing hot (65 ° C) in a sodium carbonate bath (100 g / 1), the plate being cathode, the plate is introduced into a chromium bath in order to achieve, on one of its faces, the deposit of a thin layer (0.3 micrometer of matt chromium).

Landscapes

  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Cell Electrode Carriers And Collectors (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Description

  • La présente invention concerne de nouvelles plaques offset dont la surface hydrophyle a été rendue « mate grâce à une couche mince de chrome.
  • On sait que les procédés de reproduction offset utilisent des plaques présentant une surface de nature hydrophile. Cette même surface doit avantageusement être mate, cette matité étant intéressante d'une part, pour faciliter le travail de contrôle au moment de l'impression et d'autre part, pour faciliter l'accrochage, sur une surface, d'une couche photosensible.
  • Cette matité peut s'obtenir en traitant le support de la plaque ou la surface en un matériau de nature hydrophile par des procédés qui font appel à une attaque de ladite surface, soit mécaniquement, soit chimiquement, soit électrochimiquement.
  • On a de plus largement décrit l'utilisation du chrome pour la réalisation de la surface hydrophile d'une plaque offset. Les couches de chromes employées présentent des avantages notables en ce qui concerne leur dureté, leur hydro- philie et éventuellement leur aspect. En effet, ces couches de chrome peuvent présenter une surface mate. Pour obtenir électrochimiquement une couche de chrome à surface mate, on connaît deux procédés, l'un consistant à utiliser un bain électrolytique à basse température (5 à 8 °C par exemple) et l'autre consistant à utiliser un bain électrolytique à température inférieure à la normale (25 à 35 °C) mais en réalisant une interruption du courant électrique pendant que l'on effectue ledit dépôt. Mais dans tous les cas connus la couche de chrome (à surface brillante ou mate) qui doit jouer le rôle de couche aquaphile des plaques offset doit avoir une épaisseur notable (nettement supérieure à 1 micromètre et généralement de 1,5 à 2,8 micromètres).
  • Ainsi, par exemple, le GB-A-1 172 517 décrit une plaque dont le substrat est en cuivre ou en laiton ; ce substrat étant recouvert d'une couche spongieuse de chrome, elle même recouverte d'une couche photosensible encrophile. Compte tenu des propriétés du cuivre et du laiton, le spécialiste sait que la couche de chrome déposée est nécessairement d'une épaisseur supérieure à 1,5 micromètre (épaisseur explicitée dans ledit brevet).
  • On a déjà suggéré que l'on pourrait éventuellement déposer sur des supports, des couches hydrophiles de chrome d'épaisseur inférieure à 1 micromètre. Mais compte tenu des exemples fournis, les spécialistes savent bien que les couches très minces préconisées ne peuvent jouer leur rôle de couches dures aquaphiles car elles se rayent trop facilement et sont souvent poreuses laissant ainsi apparaître une surface sous jacente aux propriétés inacceptables dans la reproduction offset. C'est ce que l'on décrit notamment dans le BE-A-779 229 où, de plus, la couche de chrome oxyde de chrome utilisée comme surface aquaphile est de nature brillante donc ne permet pas un accrochage suffisant d'une couche photosensible.
  • Il a été trouvé, et c'est là l'objet de la présente invention, qu'il est possible de rendre mate la surface d'un matériau hydrophile brillant, utilisable comme surface hydrophile d'une plaque offset, en déposant sur cette surface une couche d'épaisseur inférieure à 1 micromètre et de préférence inférieure à 0,5 micromètre de chrome mat et poreux.
  • L'invention concerne donc des plaques offset à surface hydrophile métallique et à surface encrophile obtenue à partir d'une couche photosensible imprimante, comportant un support acier présentant une surface hydrophile brillante et lisse caractérisées en ce que ladite surface hydrophile brillante est au moins partiellement recouverte d'une couche de chrome mat et poreux ayant une épaisseur inférieure à 1 micromètre.
  • L'invention consiste à déposer sur une surface présentant des propriétés hydrophiles utilisables au sens de l'offset, une très mince couche de chrome mat, dont on acceptera la porosité et la fragilité relatives précisément parce que la surface sous-jacente est hydrophile et encrophobe, mais que l'on utilisera pour rendre « mate » la surface du matériau final.
  • Les surfaces hydrophiles que l'on peut rendre « mate en utilisant l'invention sont toutes les surfaces qui, à ce jour, ont été considérées comme des surfaces hydrophiles utilisables dans les plaques offset.
  • Ainsi, on peut « mater à à l'aide d'une couche mince de chrome des surfaces brillantes ou semi- brillantes de matériaux durs tels que l'acier inoxydable, l'étain-nickel, le chrome lui-même, les surfaces chrome-oxyde de chrome (dont on revêt l'acier pour certaines boîtes de conserves), le nickel-phosphore, les alliages d'étain et les alliages de nickel.
  • On peut ainsi éventuellement « mater des surfaces de matériaux brillants plus mous tels que le zinc ou l'étain ; cependant, étant donné le caractère « mou de ces métaux (notamment de l'étain) il est alors souhaitable de ne mater que la surface de couches d'étain minces (c'est-à-dire d'épaisseur nettement inférieure à 1 micromètre qui sont déposées sur une surface dure).
  • Pour obtenir un dépôt mat de chrome selon l'invention, on utilise les techniques électrochimiques connues impliquant soit l'emploi d'un bain froid soit l'emploi d'une coupure de courant lors du dépôt. Cependant, on a noté que l'on pouvait obtenir directement le dépôt de chrome mat en utilisant pour les bains une température inférieure à la normale (25-35 °C) et sans coupure de courant, lorsque le dépôt de chrome est réalisé sur une surface de chrome ou d'étain.
  • Les exemples non limitatifs suivants illustrent l'invention.
    • Exemple 1
  • On utilise une plaque en acier inoxydable d'épaisseur 35/100 présentant une surface brillante. Cette plaque est dégraissée en anode, rincée puis immergée dans un bain de chrome classique (250 g/I d'anhydride chromique et 2,5 g d'acide sulfurique par litre-température 28°). La plaque est reliée à la cathode ; le courant (15A dcm 2) est mis 15 secondes après l'immersion de la plaque et est maintenu jusqu'à ce que le dépôt de chrome ait atteint 0,3 micromètre d'épaisseur avec une coupure de courant 15 secondes après le début du dépôt de chrome.
  • On obtient une plaque d'aspect mate. La plaque est recouverte d'une couche (épaisseur environ, 1,8 micromètre) photosensible imprimante du commerce (PCAS). Après séchage (3 mn à 45 °C et 5 mn à 85 °C) la plaque est prête.
  • La plaque est ensuite utilisée comme connu dans les procédés offset : insolation, enlevage des parties solubles, gommage etc...
  • La plaque est alors utilisée sur machine offset. On a constaté :
    • - que la couche imprimante est parfaitement accrochée sur la surface de chrome mat,
    • - que les parties hydrophiles mises à nues sont bien encrophobes.
  • Au bout de 60 000 feuilles tirées, on a constaté que le chrome mat avait été rayé par un objet dur contenu dans le papier ; cette rayure laissait apparaître l'acier inoxydable mais le tirage n'en n'a pas été affecté.
    • Exemple 2
  • On prend une plaque en acier qualité offset de la Société USINOR épaisseur 35/100.
  • Après dégraissage, rinçage, décapage rinçage on dépose sur les deux côtés de la plaque une épaisseur de 0 micromètre 6 de chrome brillant et dur dans un bain composé ainsi :
    • 250 gr/I anhydride chromique,
    • 2 g/I d'acide sulphurique,
    • T°-45°
    • densité-15A dcm 2.
  • Sur ces deux faces, la plaque est ainsi recouverte d'une couche lisse, dure et brillante de chrome qui lui fournira une bonne protection durant les manipulations.
  • On immerge alors cette plaque dans un bain électrolytique de chrome de composition identique à celle du bain décrit ci-dessus mais on opère à une température de 28 °C et on dépose, sous 30 A par décimètre carré, sur une seule des faces de la plaque, une épaisseur de chrome mat de 0,4 micromètre.
  • On obtient ainsi une plaque protégée sur toutes ses faces par une couche de chrome lisse et qui comporte, sur une de ses faces, une surface de chrome mat utilisable en offset. On dépose ensuite sur la surface mat une couche photosensible imprimante et on obtient une plaque offset prête à l'emploi.
    • Exemple 3
  • On utilise comme plaque de départ, une plaque en acier chromé commercialisé par la Société SOLLAC.
  • Après dégraissage à chaud (65 °C) dans un bain de carbonate de sodium (100 g/1), la plaque étant en cathode, la plaque est introduite dans un bain de chrome en vue de réaliser, sur une de ses faces, le dépôt d'une couche mince (0,3 micromètre de chrome mat).
  • On a réalisé des essais analogues en utilisant comme produit de départ :
    • - une plaque en acier (35/100 d'épaisseur) de la Société USINOR sur laquelle on a déposé au préalable une couche de 0,9 micromètre d'alliage étain-nickel, une plaque en acier étamé (épaisseur 35/100, référence EL commercialisée par la Société « LE FER BLANC ») ayant 2,8 g d'étain au mètre carré sur chacune de ses faces.
    • - une plaque en acier de 35/100 dont la surface a été sablée ; sur telle plaque le dépôt de chrome mat selon l'invention (épaisseur inférieure à 1 micromètre) peut être réalisé sans utilisation d'une coupure de courant pendant l'électrolyse.
    • - une plaque en acier (35/100 d'épaisseur) de la Société USINOR sur laquelle on a déposé des deux côtés de la plaque un chrome 0,6 micromètre du type micro-craké fourni par les établissements WALBERG référence W.S.A. 2300 et travaillant à 42°. Ce type de chrome a une excellente résistance à la corrosion.
    • - une plaque en acier (35/100 d'épaisseur) de la Société USINOR sur laquelle on a déposé des deux côtés de la plaque un chrome crack-free 0,6 micromètre d'épaisseur des établissement WALBERG référence W.S.A. 2650 et travaillant à 65°. Ce type de chrome a une excellente résistance à la corrosion.
    Toutes les plaques ainsi préparées se sont révélées de bonnes plaques offset aptes, sans cuisson de la couche photodurcie, à réaliser plus de 40 000 tirages.

Claims (3)

1. Plaques offset à surface hydrophile métallique et à surface encrophile obtenue à partir d'une couche photosensible imprimante, comportant un support acier présentant une surface hydrophile brillante et lisse caractérisée en ce que ladite surface hydrophile brillante est au moins partiellement recouverte d'une couche de chrome mat et poreux ayant une épaisseur inférieure à 1 micromètre.
2. Plaques selon la revendication 1 caractérisées en ce que ladite couche de chrome a une épaisseur inférieure à 0,5 micromètre.
3. Plaques selon l'une des revendications 1 et 2 caractérisées en ce que ladite surface hydrophile est formée d'acier inoxydable, d'étain-nickel, de chrome, de chrome-oxyde de chrome, de nickel-phosphore, d'alliage d'étain ou d'alliage de nickel.
EP19800400982 1979-07-02 1980-06-30 Nouvelles plaques offset à surface hydrophile rendue mate par une mince couche de chrome Expired EP0022033B1 (fr)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR7917153A FR2460211A1 (fr) 1979-07-02 1979-07-02 Nouvelle plaque offset a surface rendue mate par du chrome
FR7917153 1979-07-02

Publications (2)

Publication Number Publication Date
EP0022033A1 EP0022033A1 (fr) 1981-01-07
EP0022033B1 true EP0022033B1 (fr) 1984-09-05

Family

ID=9227397

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
EP19800400982 Expired EP0022033B1 (fr) 1979-07-02 1980-06-30 Nouvelles plaques offset à surface hydrophile rendue mate par une mince couche de chrome

Country Status (8)

Country Link
EP (1) EP0022033B1 (fr)
JP (1) JPS5637192A (fr)
BR (1) BR8004111A (fr)
CA (1) CA1133755A (fr)
DE (1) DE3069101D1 (fr)
ES (1) ES8200273A1 (fr)
FR (1) FR2460211A1 (fr)
MX (1) MX156999A (fr)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2480676A1 (fr) * 1980-04-16 1981-10-23 Nouel Jean Marie Nouvelles plaques offset en acier utilisant des surfaces a base d'oxyde de chrome
FR2529511A1 (fr) * 1982-07-02 1984-01-06 Nouel Jean Marie Plaques offset a base acier et a multicouches de chrome
JPS6131355A (ja) * 1984-07-20 1986-02-13 工業技術院長 黒鉛−炭化ホウ素系摺動部材
US4911075A (en) * 1988-08-19 1990-03-27 Presstek, Inc. Lithographic plates made by spark discharges
JPH02131992A (ja) * 1989-06-14 1990-05-21 Konica Corp 平版印刷版用支持体

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB475902A (en) * 1936-05-29 1937-11-29 Arthur Ronald Trist Improvements in and relating to printing plates for lithography
GB640470A (en) * 1947-09-04 1950-07-19 Coates Brothers & Co Improvements in the manufacture of lithographic printing plates
DE806315C (de) * 1949-10-18 1951-06-14 Roman Freundorfer Offsetdruckplatte und Verfahren zur Herstellung derselben
FR82759E (fr) * 1962-09-27 1964-04-17 Le Quadrimetal Offset Sa Pour Procédé d'impression offset et produits industriels en résultant
GB1172517A (en) * 1965-12-02 1969-12-03 Rotaprint Ltd Photochemical Production of Plates for Offset Lithography
BE779229A (fr) * 1972-02-10 1972-05-30 Centre Rech Metallurgique Procede de fabrication de plaques destinees a l'impression offset.
JPS5131507A (ja) * 1974-09-11 1976-03-17 Fuji Photo Film Co Ltd Ofusetsutoinsatsubanyoshijitai
FR2442722A1 (fr) * 1978-11-29 1980-06-27 Nouel Jean Marie Nouvelle couche aquaphile pour les plaques d'imprimerie offset et plaques obtenues

Also Published As

Publication number Publication date
ES492985A0 (es) 1981-10-16
DE3069101D1 (en) 1984-10-11
JPH0322314B2 (fr) 1991-03-26
ES8200273A1 (es) 1981-10-16
EP0022033A1 (fr) 1981-01-07
BR8004111A (pt) 1981-01-21
CA1133755A (fr) 1982-10-19
FR2460211B1 (fr) 1984-07-06
FR2460211A1 (fr) 1981-01-23
JPS5637192A (en) 1981-04-10
MX156999A (es) 1988-10-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
FR2518457A1 (fr) Methode de production d'une plaque offset metallique
CN108400338B (zh) 表面处理铜箔以及使用其的集电体、电极及电池
TWI686516B (zh) 表面處理銅箔以及使用其之集電體、電極及電池
FR2650601A1 (fr) Feuille d'acier plaquee au nickel, faconnable, resistante aux rayures et a la corrosion, et procede pour sa production
CN108258195B (zh) 一种制备锂离子电池多孔铜箔集流体的方法
JP4494155B2 (ja) 金めっき構造体およびこの金めっき構造体からなる燃料電池用セパレーター
FR2692284A1 (fr) Tôle revêtue et procédé de fabrication de cette tôle.
EP0022033B1 (fr) Nouvelles plaques offset à surface hydrophile rendue mate par une mince couche de chrome
US9540735B2 (en) Zincating aluminum
FR2504421A1 (fr) Moules en cuivre pour la coulee continue de l'acier
KR20220006033A (ko) 구리 표면의 가공 장치
US4287288A (en) Lithographic plate of tin-plated steel and method of manufacture
CN118696432A (zh) 用于生产锂电池的阳极的工艺
JP2002066785A (ja) クロム系ステンレス鋼溶接ワイヤの製造方法
EP0098776B1 (fr) Plaques offset à base acier et à multicouches de chrome
US4857436A (en) Offset plates with two chromium layers
FR2467087A1 (fr) Plaques offset comportant une couche de speculum
EP0622478B1 (fr) Procédé d'électrodéposition sur une surface d'un substrat en acier d'une couche d'un revêtement d'un alliage à base de zinc et matériau d'acier revêtu d'une couche de revêtement d'un alliage à base de zinc
US4996131A (en) Offset plate with thin chromium layer and method of making
JPS6112987B2 (fr)
JP2007302935A (ja) アルカリ電池正極缶用Ｎｉメッキ鋼板およびその製造方法
EP0012673A1 (fr) Nouvelle plaque offset à utilisation de plaque monométallique comportant une couche imprimante et procédé d'impression offset utilisant ladite couche
EP0012066A1 (fr) Nouvelle couche aquaphile pour les plaques d'imprimerie offset et plaques obtenues
FR2532249A1 (fr) Rouleaux pour l'heliogravure
EP0028180A1 (fr) Plaques offset comportant une couche aquaphile constituée d'un alliage d'étain-cuivre et plus particulièrement de spéculum

Legal Events

Date Code Title Description
PUAI Public reference made under article 153(3) epc to a published international application that has entered the european phase

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009012

AK Designated contracting states

Designated state(s): BE CH DE GB IT LU NL SE

17P Request for examination filed

Effective date: 19810701

ITF It: translation for a ep patent filed
GRAA (expected) grant

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009210

AK Designated contracting states

Designated state(s): BE CH DE GB IT LI LU NL SE

REF Corresponds to:

Ref document number: 3069101

Country of ref document: DE

Date of ref document: 19841011

PLBI Opposition filed

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009260

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: LU

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 19850630

26 Opposition filed

Opponent name: RHONE-POULENC SYSTEMES

Effective date: 19850427

NLR1 Nl: opposition has been filed with the epo

Opponent name: RHONE-POULENC SYSTEMES

PLAB Opposition data, opponent's data or that of the opponent's representative modified

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009299OPPO

R26 Opposition filed (corrected)

Opponent name: RHONE-POULENC SYSTEMES

Effective date: 19850427

PLAB Opposition data, opponent's data or that of the opponent's representative modified

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009299OPPO

REG Reference to a national code

Ref country code: CH

Ref legal event code: PUE

Owner name: INNOLITH, SOCIETE ANONYME

REG Reference to a national code

Ref country code: GB

Ref legal event code: 732

R26 Opposition filed (corrected)

Opponent name: RHONE-POULENC MULTI-TECHNIQUES

Effective date: 19850427

NLXE Nl: other communications concerning ep-patents (part 3 heading xe)

Free format text: IN PAT.BUL.01/88,PAGE 117:CORR.:RHONE-POULENC MULTI-TECHNIQUES

ITPR It: changes in ownership of a european patent

Owner name: CESSIONE;INNOLITH SOCIETE' ANONYME

NLS Nl: assignments of ep-patents

Owner name: INNOLITH S.A. TE VILLERS-LA-MONTAGNE, FRANKRIJK.

BECA Be: change of holder's address

Free format text: 880526 *INNOLITH:ZONE INDUSTRIELLE, F-54920 VILLERS-LA-MONTAGNE

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: LU

Payment date: 19900605

Year of fee payment: 11

PLBN Opposition rejected

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009273

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: OPPOSITION REJECTED

27O Opposition rejected

Effective date: 19901113

NLR2 Nl: decision of opposition
PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: CH

Payment date: 19920612

Year of fee payment: 13

ITTA It: last paid annual fee
PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: LI

Effective date: 19930630

Ref country code: CH

Effective date: 19930630

REG Reference to a national code

Ref country code: CH

Ref legal event code: PL

EAL Se: european patent in force in sweden

Ref document number: 80400982.7

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: NL

Payment date: 19960529

Year of fee payment: 17

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: DE

Payment date: 19960619

Year of fee payment: 17

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: GB

Payment date: 19960625

Year of fee payment: 17

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: SE

Payment date: 19960627

Year of fee payment: 17

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: BE

Payment date: 19960710

Year of fee payment: 17

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: GB

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 19970630

Ref country code: BE

Effective date: 19970630

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: SE

Effective date: 19970701

BERE Be: lapsed

Owner name: INNOLITH

Effective date: 19970630

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: NL

Effective date: 19980101

GBPC Gb: european patent ceased through non-payment of renewal fee

Effective date: 19970630

NLV4 Nl: lapsed or anulled due to non-payment of the annual fee

Effective date: 19980101

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: DE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 19980303

EUG Se: european patent has lapsed

Ref document number: 80400982.7

APAH Appeal reference modified

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOSCREFNO