DE60100795D1 - Verfahren zur steuerung der züchtung eines siliziumeinkristalles um züchtungsgeschwindigkeits- und durchmessersabweichungen zu minimieren - Google Patents
Verfahren zur steuerung der züchtung eines siliziumeinkristalles um züchtungsgeschwindigkeits- und durchmessersabweichungen zu minimierenInfo
- Publication number
- DE60100795D1 DE60100795D1 DE60100795T DE60100795T DE60100795D1 DE 60100795 D1 DE60100795 D1 DE 60100795D1 DE 60100795 T DE60100795 T DE 60100795T DE 60100795 T DE60100795 T DE 60100795T DE 60100795 D1 DE60100795 D1 DE 60100795D1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- breeding
- minimize
- controlling
- silicon crystal
- speed
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B15/00—Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
- C30B15/20—Controlling or regulating
- C30B15/22—Stabilisation or shape controlling of the molten zone near the pulled crystal; Controlling the section of the crystal
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T117/00—Single-crystal, oriented-crystal, and epitaxy growth processes; non-coating apparatus therefor
- Y10T117/10—Apparatus
- Y10T117/1004—Apparatus with means for measuring, testing, or sensing
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T117/00—Single-crystal, oriented-crystal, and epitaxy growth processes; non-coating apparatus therefor
- Y10T117/10—Apparatus
- Y10T117/1004—Apparatus with means for measuring, testing, or sensing
- Y10T117/1008—Apparatus with means for measuring, testing, or sensing with responsive control means
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US49556300A | 2000-02-01 | 2000-02-01 | |
| PCT/US2001/002362 WO2001057294A1 (en) | 2000-02-01 | 2001-01-24 | Method for controlling growth of a silicon crystal to minimize growth rate and diameter deviations |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE60100795D1 true DE60100795D1 (de) | 2003-10-23 |
Family
ID=23969109
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE60100795T Expired - Lifetime DE60100795D1 (de) | 2000-02-01 | 2001-01-24 | Verfahren zur steuerung der züchtung eines siliziumeinkristalles um züchtungsgeschwindigkeits- und durchmessersabweichungen zu minimieren |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6726764B2 (de) |
| EP (1) | EP1252375B1 (de) |
| JP (1) | JP2003521432A (de) |
| KR (1) | KR20020081287A (de) |
| CN (1) | CN1396965A (de) |
| DE (1) | DE60100795D1 (de) |
| WO (1) | WO2001057294A1 (de) |
Families Citing this family (37)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10207284A1 (de) * | 2002-02-21 | 2003-09-11 | Wacker Siltronic Halbleitermat | Verfahren zur Herstellung eines hochdotierten Einkristalls aus Silicium |
| US20040019393A1 (en) * | 2002-07-25 | 2004-01-29 | Eileen Heider | System and method for model base control |
| US20050211157A1 (en) * | 2004-03-25 | 2005-09-29 | Radkevich Olexy V | Process control system for controlling a crystal-growing apparatus |
| JP4923452B2 (ja) * | 2004-08-27 | 2012-04-25 | 株式会社デンソー | SiC単結晶の製造方法 |
| CN100371507C (zh) * | 2005-03-28 | 2008-02-27 | 荀建华 | 晶体等径生长的控制系统及其方法 |
| EP1930484B1 (de) * | 2005-07-13 | 2014-07-23 | Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. | Verfahren zur herstellung eines silizium-einkristall |
| CN100383295C (zh) * | 2006-03-31 | 2008-04-23 | 浙江大学 | 直拉式晶体生长炉自动控制方法 |
| WO2008075994A1 (fr) * | 2006-12-19 | 2008-06-26 | Advanced Alloys Sa | Procédé de fabrication de métaux très purs et de monocristaux sur leur base |
| DE102007001348B4 (de) | 2007-01-03 | 2010-05-12 | Forschungsverbund Berlin E.V. | Verfahren und Anordnung zur Herstellung von kristallinen Formkörpern aus Schmelzen in Czochralski-Anordnungen |
| JP4918897B2 (ja) * | 2007-08-29 | 2012-04-18 | 株式会社Sumco | シリコン単結晶引上方法 |
| US8221545B2 (en) * | 2008-07-31 | 2012-07-17 | Sumco Phoenix Corporation | Procedure for in-situ determination of thermal gradients at the crystal growth front |
| TWI411709B (zh) * | 2009-03-27 | 2013-10-11 | Sumco Corp | 單晶直徑的控制方法 |
| DE102009024473B4 (de) * | 2009-06-10 | 2015-11-26 | Siltronic Ag | Verfahren zum Ziehen eines Einkristalls aus Silizium und danach hergestellter Einkristall |
| DE102009056638B4 (de) * | 2009-12-02 | 2013-08-01 | Siltronic Ag | Verfahren zum Ziehen eines Einkristalls aus Silizium mit einem Abschnitt mit gleich bleibendem Durchmesser |
| KR101218847B1 (ko) | 2010-12-13 | 2013-01-21 | 주식회사 엘지실트론 | 단결정 잉곳 직경 제어시스템 및 이를 포함하는 단결정 잉곳 성장장치 |
| KR101304717B1 (ko) * | 2011-03-18 | 2013-09-05 | 주식회사 엘지실트론 | 잉곳 성장 제어시스템 및 이를 포함하는 잉곳 성장장치 |
| KR101791652B1 (ko) * | 2013-04-09 | 2017-10-30 | 도요타지도샤가부시키가이샤 | SiC 단결정의 제조 방법 |
| DE102013210687B4 (de) | 2013-06-07 | 2018-12-06 | Siltronic Ag | Verfahren zur Regelung des Durchmessers eines Einkristalls auf einen Solldurchmesser |
| CN104514030B (zh) * | 2013-09-29 | 2017-01-04 | 内蒙古恒嘉晶体材料有限公司 | 晶体生长速度检测方法、控制方法及系统 |
| JP6197680B2 (ja) * | 2014-02-12 | 2017-09-20 | 信越半導体株式会社 | シリコン単結晶製造装置 |
| CN103834991A (zh) * | 2014-03-10 | 2014-06-04 | 马鞍山明鑫电气科技有限公司 | 无温度信号处理开环式功率自控晶体生长控制方法 |
| KR101674287B1 (ko) | 2015-01-21 | 2016-11-08 | 주식회사 엘지실트론 | 단결정 잉곳의 직경 제어 시스템 및 제어 방법 |
| TWI586853B (zh) * | 2015-11-13 | 2017-06-11 | 中美矽晶製品股份有限公司 | 熔料參數的預測方法 |
| WO2019021821A1 (ja) | 2017-07-26 | 2019-01-31 | 東洋フイツテング株式会社 | 管継手及び管継手構造 |
| CN108344742B (zh) * | 2018-04-13 | 2020-06-05 | 太原理工大学 | 一种基于多帧图像运动信息的蓝宝石接种检测装置和方法 |
| KR102051024B1 (ko) * | 2018-05-31 | 2019-12-03 | 에스케이실트론 주식회사 | 잉곳 성장온도 제어장치 및 이를 구비한 잉곳 성장장치 |
| DE102019101991A1 (de) | 2019-01-28 | 2020-07-30 | Pva Tepla Ag | Verfahren zum Ziehen eines zylindrischen Kristalls aus einer Schmelze |
| CN112080793B (zh) * | 2019-12-24 | 2022-06-03 | 徐州鑫晶半导体科技有限公司 | 用于半导体单晶生长中的温度控制的系统和方法 |
| CN113493926A (zh) * | 2020-03-19 | 2021-10-12 | 隆基绿能科技股份有限公司 | 一种提拉速度控制方法及设备、系统 |
| CN112323141A (zh) * | 2020-11-03 | 2021-02-05 | 上海新昇半导体科技有限公司 | 单晶生长方法及单晶生长设备 |
| CN112760705B (zh) * | 2020-12-28 | 2021-11-16 | 西安理工大学 | 周期双向脉冲控制单晶炉软轴提拉系统无序摆动方法 |
| WO2022147835A1 (zh) * | 2021-01-11 | 2022-07-14 | 眉山博雅新材料有限公司 | 一种晶体生长控制方法和系统 |
| CN115874272B (zh) * | 2021-09-27 | 2025-10-03 | 隆基绿能科技股份有限公司 | 一种晶体及其生长控制方法、装置、设备 |
| CN116024649B (zh) * | 2021-10-27 | 2025-06-27 | 隆基绿能科技股份有限公司 | 拉速控制方法、装置、电子设备及存储介质 |
| CN115574744B (zh) * | 2022-11-18 | 2023-03-10 | 浙江晶盛机电股份有限公司 | 对中校准装置及对中校准方法 |
| CN115574796B (zh) * | 2022-11-18 | 2023-03-07 | 浙江晶盛机电股份有限公司 | 对中校准装置及对中校准方法 |
| CN117966254B (zh) * | 2023-12-29 | 2025-07-15 | 中国科学院物理研究所 | 一种基于机器学习的精确控温方法 |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3621213A (en) | 1969-11-26 | 1971-11-16 | Ibm | Programmed digital-computer-controlled system for automatic growth of semiconductor crystals |
| US3761692A (en) | 1971-10-01 | 1973-09-25 | Texas Instruments Inc | Automated crystal pulling system |
| US4663128A (en) | 1985-03-06 | 1987-05-05 | Ferrofluidics Corporation | Pulling head for a crystal growing furnace |
| US4857278A (en) * | 1987-07-13 | 1989-08-15 | Massachusetts Institute Of Technology | Control system for the czochralski process |
| DE69017642T2 (de) | 1989-12-22 | 1995-07-06 | Shinetsu Handotai Kk | Vorrichtung zur Herstellung von Einkristallen nach dem Czochralski-Verfahren. |
| JPH06102590B2 (ja) | 1990-02-28 | 1994-12-14 | 信越半導体株式会社 | Cz法による単結晶ネック部育成自動制御方法 |
| JPH0717475B2 (ja) * | 1991-02-14 | 1995-03-01 | 信越半導体株式会社 | 単結晶ネック部育成自動制御方法 |
| JP2979462B2 (ja) | 1995-09-29 | 1999-11-15 | 住友金属工業株式会社 | 単結晶引き上げ方法 |
| JPH09221386A (ja) * | 1996-02-08 | 1997-08-26 | Komatsu Electron Metals Co Ltd | 単結晶引上装置 |
| US5935328A (en) | 1997-11-25 | 1999-08-10 | Memc Electronic Materials, Inc. | Apparatus for use in crystal pulling |
-
2001
- 2001-01-24 KR KR1020027009874A patent/KR20020081287A/ko not_active Withdrawn
- 2001-01-24 EP EP01949011A patent/EP1252375B1/de not_active Expired - Lifetime
- 2001-01-24 WO PCT/US2001/002362 patent/WO2001057294A1/en not_active Ceased
- 2001-01-24 DE DE60100795T patent/DE60100795D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2001-01-24 CN CN01804430A patent/CN1396965A/zh active Pending
- 2001-01-24 JP JP2001555916A patent/JP2003521432A/ja not_active Withdrawn
- 2001-11-13 US US10/008,812 patent/US6726764B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20020043206A1 (en) | 2002-04-18 |
| EP1252375A1 (de) | 2002-10-30 |
| CN1396965A (zh) | 2003-02-12 |
| EP1252375B1 (de) | 2003-09-17 |
| JP2003521432A (ja) | 2003-07-15 |
| KR20020081287A (ko) | 2002-10-26 |
| WO2001057294A1 (en) | 2001-08-09 |
| US6726764B2 (en) | 2004-04-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE60100795D1 (de) | Verfahren zur steuerung der züchtung eines siliziumeinkristalles um züchtungsgeschwindigkeits- und durchmessersabweichungen zu minimieren | |
| DE69905193D1 (de) | Verfahren zur steuerung der züchtung eines siliziumkristalles | |
| DE69802557D1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur steuerung der züchtung eines siliciumkristalles | |
| DE69803932D1 (de) | Verfahren und anlage zur steuerung der züchtung eines siliziumkristalls | |
| DE60001274D1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur steuerung des durchmessers eines siliziumkristalles in einem züchtungsverfahren | |
| DE60140922D1 (de) | Verfahren und Einrichtung zur Steuerung einer Anzeige | |
| DE60138570D1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur steuerung einer anzeigeeinrichtung | |
| DE60138241D1 (de) | Vorrichtung zur Kompensation einer Verzeichnung und Verfahren zur Kompensation einer Verzeichnung | |
| DE50115286D1 (de) | Verfahren zur regelung der geschwindigkeit eines fahrzeugs | |
| DE10141923B8 (de) | Antriebssystem und Verfahren zur Steuerung eines Antriebssystems | |
| DE60009639D1 (de) | Steuereinrichtung eines Umrichters und Verfahren zur Steuerung eines Umrichters | |
| DE60108987D1 (de) | Verfahren zur leistungspegelsteuerung eines anzeigegeräts und vorrichtung dafür | |
| DE60319658D1 (de) | Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung | |
| DE60317053D1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Darstellung einer Bildgruppe | |
| DE60323927D1 (de) | Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung | |
| DE10191578D2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Messen des Flusses einer Flüssigkeit | |
| DE10084435T1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Steuerung des Leergangs eines Strömungsmittelsystems | |
| DE50109115D1 (de) | Verfahren zur ansteuerung eines reversiblen gurtstraffers | |
| DE60134034D1 (de) | Verfahren und vorrichtung zum anzeigen der gebrauchsanweisung einer wascmaschine | |
| DE60132065D1 (de) | Verfahren und System zur verwaltung eines Gutscheins | |
| DE602004022576D1 (de) | Flüssigkristallanzeige und verfahren zur herstellung einer flüssigkristallanzeige | |
| DE50200055D1 (de) | Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung eines polykristallinen Siliciumstabes | |
| DE60044682D1 (de) | Verfahren und gerät zur steuerung und positionierung eines roboters | |
| DE69936865D1 (de) | Verfahren und apparat zur steuerung der datenrate einer taktgetriebeschaltung | |
| DE60104371D1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Steuerung eines piezoelektrischen Schwingungsgebers |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| 8332 | No legal effect for de |