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DE60014694D1 - Poröser silikatischer film mit niedriger durchlässigkeit, halbleiterelement mit solchem film, und beschichtungszusammensetzung den film bildend - Google Patents

Poröser silikatischer film mit niedriger durchlässigkeit, halbleiterelement mit solchem film, und beschichtungszusammensetzung den film bildend

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DE60014694D1
DE60014694D1 DE60014694T DE60014694T DE60014694D1 DE 60014694 D1 DE60014694 D1 DE 60014694D1 DE 60014694 T DE60014694 T DE 60014694T DE 60014694 T DE60014694 T DE 60014694T DE 60014694 D1 DE60014694 D1 DE 60014694D1
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DE
Germany
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film
silicatic
porous
coating composition
semiconductor element
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
DE60014694T
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English (en)
Other versions
DE60014694T2 (de
Inventor
Tomoko Aoki
Yasuo Shimizu
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
EMD Performance Materials Corp
Original Assignee
Clariant International Ltd
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Publication date
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    • C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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DE60014694T 1999-07-13 2000-06-20 Poröser silikatischer film mit niedriger durchlässigkeit, halbleiterelement mit solchem film, und beschichtungszusammensetzung den film bildend Expired - Lifetime DE60014694T2 (de)

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