DE45014T1

DE45014T1 - Anlage zum Härten von mit Harz versehenen Bändern mittels Elektronen

Info

Publication number: DE45014T1
Authority: DE
Inventors: Alton Kenneth Niagara Falls N.Y. Miller
Original assignee: Kennecott Corp
Current assignee: Kennecott Corp
Publication date: 1982-09-16

Claims

Europäische Patentanmeldung : 81105605.0 Anmelder: Kennecott Corporation PATENTANSPRÜCHE

1. Vorrichtung zum Ausbilden von beschichteten Bahnen, enthaltend eine Einrichtung zum Zuführen einer Materialbahn , eine Einrichtung zum Auftragen eines Kunstharzes auf das Trägermaterial, eine Quelle für hochenergetische Elektronenstrahlung, eine Einrichtung zum Entlangführen der Bahn an dieser Elektronenstrahlungsquelle sowie eine Einrichtung zum Aufnehmen der Bahn.

2. Vorrichtung nach Anspruch 1, ferner enthaltend eine Einrichtung zum elektrostatischen Niederschlagen eines Kornmaterials auf der Bahn.

3- Vorrichtung nach Anspruch 1, worin die Einrichtung zum Vorbeiführen der Bahn an der Elektronenquelle ferner alternative Pfade zum Vorbeiführen der Bahn derart aufweist, daß die eine und/oder andere Seite der Bahn direkt

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• der Elektronenstrahlung ausgesetzt ist.

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4. Vorrichtung nach Anspruch 3, worin die Einrichtung b

zum Vorbeiführen des Gewebes einen Transport ohne Berührung des ungehärteten Kunstharzes gestattet.

5. Vorrichtung nach Anspruch 1, worin die Quelle der

_n Elektronenstrahlung unmittelbar nach Abschalten der Spannung zu Reinigungszwecken zugänglich ist.

6. Vorrichtung nach Anspruch 1, worin das Bahnmaterial ausgewählt ist aus einer aus Papier, nicht ge-

J5 wobenem Textilmaterial, Naturfasertextilmaterial und Kunstfasertextilmaterial bestehenden Gruppe.

7. Vorrichtung nach Anspruch 1, worin die Bahn während des Vorbeibewegens an der Quelle der Elektronenstrahlung in einer Inertkammer vorgesehen ist.

8. Vorrichtung nach Anspruch 1, worin die Quelle der hochenergetischen Strahlung in einer strahlungsabsorbierenden Kammer angeordnet ist.

9. Vorrichtung nach Anspruch 8, worin diese Kammer

aufweist, wenigstens zwei öffnungen für den Ein- und Austritt der Bahn sowie Wege für diese Bahn zwischen den Öffnungen, die Quelle für hochenergetische Elektronenstrahlung, ein elektronenabsorbierendes Gehäuse, welches die hochenergetische Strahlungsquelle aufnimmt, einen abgeschirmten Arbeits- und Eintrittsbereich in die Kammer zwecks Zutritt zu der Quelle der hochenergetischen Strahlung sowie zu den Einrichtungen zum Transportieren einer Bahn, eine Targetbereichsumschließung zum Zutritt zur Inertkammer und den Einrichtungen zum Transportieren der Bahn durch den Elektronenstrahl-Targetbereich mit der Maßgabe, daß die Targetbereichsumschließung und die Bedienungs- und Zu-

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trittsbereiche groß genug dimensioniert sind, um einer Person einen einfachen Zutritt zu gestatten, wobei dieses

Gehäuse mit Hilfe beweglicher Paneele von dem Bedienungs-5

bereich zugänglich ist und die Kammer im Betrieb eine Strahlungsmenge von weniger als 0,25 Millirem je Stunde Strahlung entweichen läßt.

10. Eine Kammer zur Behandlung von harzbeschichteten Bahnmaterialien, enthaltend eine Kammer mit Ein- und Auslaßöffnungen für ein Bahnmaterial sowie Wege für das Bahnmaterial zwischen den öffnungen, eine Quelle für hochenergetische Elektronenstrahlung, ein Elektronen abrschirmendes Gehäuse, welches die Quelle für hochenergetische

Strahlung enthält, einen abgeschirmten Bedienungs- und Zutrittsbereich in die Kammer zwecks Zutritt zu der Quelle der hochenergetischen Strahlung und zu den Einrichtungen zum Transport einer Bahn, eine Targetbereichsumschließung

2Q für den Bedienungszutritt zu der Inertkammer und den Einrichtungen zum Hindurchführen der Bahn durch den Elektronenstrahl-Targetbereich mit der Maßgabe, daß die Targetbereichsumschließung und die Bedienungs- und Zutrittsbereiche ausreichend groß für den Zutritt eines Menschen dimensioniert sind, wobei diese Kammer mittels beweglicher Paneele von dem Bedienungsbereich her zugänglich ist und wobei die Kammer eine Strahlung von weniger als 0,25 Millirem je Stunde Strahlung im Betrieb entweichen läßt.

11. Kammer für eine Quelle einer hochenergetischen Elektronenstrahlung, enthaltend eine Erzeugungsvorrichtungsumhüllung, welche eine elektronenstrahlerzeugende Vorrichtung enthält, einen Targetbereich, welcher das Target für die Elektronenstrahlvorrichtung enthält, sowie einen Zugangsraum, welcher einen abgeschirmten Zugang zu der Kammer und zu der Erzeugungsvorrichtung gestattet.

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12. Kammer nach Anspruch 11, wobei diese Kammer weniger als 0,25 Millirem je Stunde Strahlung im Betrieb

emittiert.
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13- Kammer nach Anspruch 11, wobei diese Kammer eine Einrichtung enthält, mit deren Hilfe eine Bahn, welche ein strahlungshärtbares Harz tragt, in die Kammer hinein und an der Elektronenstrahlvorrichtung vorbeiführbar ist, um das Harz zu härten, wobei die Bahn mit Hilfe der Vorrichtung aus der Kammer hinausförderbar ist.

14. Kammer nach Anspruch 13_s worin ferner alternative Einrichtungen vorgesehen sind, mit deren Hilfe die Bahn

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an der Elektronenstrahlvorrichtung mit ihrer harzbeschichteten Seite oder mit ihrer Rückseite vorbeibewegbar ist, um das Harz zu härten.

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15. Kammer nach Anspruch 11, worin die Wandungen und der Dachbereich Stahl enthalten.

16. Kammer nach Anspruch 15, worin die Wandungen und der Dachbereich außerdem Blei enthalten.

17- Eine Strahlungskammerumschließung, enthaltend eine strahlungsresistente Struktur, eine Einrichtung zum Einbringen einer Materialbahn in diese Struktur, eine Einrichtung zum Vorbeiführen der Bahn an einer in der Struktur vorgesehenen Quelle für Elektronenstrahlung, eine Einrichtung zum Herausbewegen der Bahn aus der Struktur sowie eine Zugangseinrichtung, mit deren Hilfe ein Mensch in die strahlungsresistente Struktur zwecks Reinigung der die Bahn tragenden Vorrichtung einzutreten vermag.

18. Strahlungsumhüllung nach Anspruch 17, worin diese Struktur groß genug dimensioniert . ist, daß die Bahn innerhalb der Struktur von einer sich innerhalb der Struktur be-

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findenden Person handhabbar ist.

19. Strahlungsumhüllung nach Anspruch 17, worin die Eingangs- und Ausgang;
(101,6 mm.) hoch sind.

Eingangs- und Ausgangsöffnungen für die Bahn etwa 4 Zoll

20. Strahlungsumhüllung nach Anspruch 19, worin das Innere der Umhüllung unterteilt ist in wenigstens zwei Innenkammern und worin eine dieser Innenkammern die Quelle der Elektronenstrahlung in einem strahlungsresistenten Material abschirmt.

21. Strahlungsumhüllung nach Anspruch 18, worin die 15

Bahn auf ihrem normalen Weg in und durch die Struktur tragbar ist, während die Strahlungsquelle nicht angeschaltet ist und während eine sich in der Struktur befindliche Person Einstellungen an den Einrichtungen zum Eintragen der

Bahn in die Struktur vornimmt.
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22. Strahlungskammerumhüllung nach Anspruch 17, worin diese Umhüllung weniger als 0,25 Millirem je Stunde Strahlung durchläßt.

23. Umhüllung nach Anspruch 17, worin die strahlungs-

resistente Struktur aus Blei und Stahl bestehende Wände samt Dach besitzt.

24. Umhüllung nach Anspruch 17, worin Eintrittsöffnungen für die Bahn in die Struktur sowie Austrittsöffnungen für die Bahn zum Austritt aus der Struktur vorgesehen sind, welche mehrere Zentimeter hoch sind.

gg 25. Umhüllung nach Anspruch 20, worin eine Innenkammer den Targetbereich für die Elektronenstrahlquelle schließt*

26. Umhüllung nach Anspruch 20, worin eine Innenkammer einen Bedienungszutritt zu den Einrichtungen gestattet, welche die Bahn beim Ein- und Austritt in bzw.

aus der Kammer trägt.

27. Umhüllung nach Anspruch 17, worin die Einrichtung zum Vorbeiführen der Bahn an der Elektronenstrahlungsquelle alternative Einrichtungen aufweist, um Pfade zum Vorbeiführen der Bahn derart zu bilden, daß die eine oder andere Seite direkt der Elektronenstrahlung ausgesetzt ist.

28. Umhüllung nach Anspruch 17, worin die Einrichtung für die Bahn zum Eintritt in die Struktur und die Einrichtung für die Bahn zum Austreten aus der Struktur wenigstens 2,U m (8 Fuß) von einer Elektronenstrahlungsquelle entfernt ist.