DE4339267A1 - Kochstelle mit einer elektronischen Steuerung mit kontinuierlicher Leistungszufuhr, insbesondere PureHalogen-Kochstelle - Google Patents
Kochstelle mit einer elektronischen Steuerung mit kontinuierlicher Leistungszufuhr, insbesondere PureHalogen-KochstelleInfo
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- DE4339267A1 DE4339267A1 DE19934339267 DE4339267A DE4339267A1 DE 4339267 A1 DE4339267 A1 DE 4339267A1 DE 19934339267 DE19934339267 DE 19934339267 DE 4339267 A DE4339267 A DE 4339267A DE 4339267 A1 DE4339267 A1 DE 4339267A1
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Description
Die Erfindung betrifft eine Kochstelle mit einer elektronischen
Steuerung mit kontinuierlicher Leistungszufuhr, insbesondere
PureHalogen-Kochstelle, bei der mit Temperatursensoren die
Temperaturen von Unterbau, Isolator oder Reflektor und
Glaskeramik erfaßt werden.
Bei den bekannten Haushalt-Kochfeldern wird die Heizleistung
durch Vorgabe vom Benutzer fest eingestellt und elektronisch
oder elektromechanisch an die Heizelemente weitergegeben. Dabei
ist in der Praxis die in den Topf fließende Energie stark von
der Netzspannung, den Heizkörperwiderständen, der
Topfbeschaffenheit und der Topftemperatur abhängig. Dies hat
zur Folge, daß man bei gleichen Einstellungen bei ein und
demselben Gerät unterschiedliche Kochzeiten hat oder
unterschiedliche Einstellungen wählen muß, um gleiche Kochzeiten
zu erhalten.
Es ist Aufgabe der Erfindung, eine Kochstelle der eingangs
erwähnten Art so auszugestalten, daß jeder Benutzer unabhängig
von der Netzspannung, den Bauteiltoleranzen und vom verwendeten
Topf bei gleicher Einstellung die gleiche Kochzeit erhält.
Diese Aufgabe wird nach der Erfindung dadurch gelöst, daß im
Mikroprozessor der Steuerung ein thermisches Ersatzschaltbild
gespeichert ist, das dem Wärmefluß der Kochstelle zwischen
Heizelement, Unterbau, Isolator oder Reflektor, Glaskeramik
und Topf entspricht, und daß der Mikroprozessor in Abhängigkeit
von den gemessenen Temperaturen den Wärmefluß in den Topfboden
oder die Durchschnittstemperatur der Glaskeramik und daraus
den Wärmefluß in den Topfboden errechnet und die entsprechende
Steuerung der elektrischen Leistung des Heizelementes veranlaßt.
Über das thermische Ersatzschaltbild kann mit Hilfe der
gemessenen Temperaturen der Wärmefluß in dem Topfboden errechnet
und geregelt werden, so daß ein automatischer Ausgleich der
von Fall zu Fall unterschiedlichen Größen von Netzspannung,
Bauelementen und Topf erfolgt und somit ein automatischer
Kochvorgang erzielbar ist.
Kochstellen der eingangs erwähnten Art sind im Prinzip ähnlich
aufgebaut. Sie bestehen aus einem oder mehreren Heizelementen
(Heizwendel, Halogenlampen), einer aus Glaskeramik bestehenden
Abdeckung, einer Isolation oder einem Reflektor, die bzw. der
nach unten und seitlich abschließt, und einem Unterbau zum
Befestigen der Kochstelle in der Kochmulde.
Die thermischen Vorgänge in einer Kochstelle können mittels
eines physikalischen Modells - eines thermischen
Ersatzschaltbildes - nachvollzogen werden. Dabei sind die
thermischen Kapazitäten der wichtigsten Bauteile, wie Isolator
oder Reflektor und Glaskeramik und die thermischen Widerstände
zwischen den Bauteilen und der Umgebung sowie die Abhängigkeiten
der Direktstrahlungsanteile von den Reflexionseigenschaften
des Topfes maßgebend. Diese konkreten Parameter variieren
naturlich zwischen den Heizkörperbauformen und werden für jede
Bauform ermittelt.
Nach einer Ausgestaltung ist daher vorgesehen, daß das
thermische Ersatzschaltbild den thermischen Widerstand des
Topfes den thermischen Widerstand von der Glaskeramik zu dem
Topf, den thermischen Widerstand von dem Isolator oder Reflektor
zu der Glaskeramik, den thermischen Widerstand von der
Glaskeramik zu dem Isolator oder Reflektor, den thermischen
Widerstand von dem Unterbau zu der Glaskeramik, die
Wärmekapazität des Topfes, die Wärmekapazität der Glaskeramik,
die Wärmekapazität des Isolators oder Reflektors und die
Direktstrahlungsanteile des Isolators oder Reflektors, der
Glaskeramik und des Topfes umfaßt.
Für die Einstellung ist nach einer Ausgestaltung vorgesehen,
daß mit einem Stellglied der Wärmefluß in den Topfboden
vorgebbar ist und daß der Mikroprozessor diesen anhand des
jeweils berechneten Wärmeflusses regelt, oder daß mittels eines
Stellgliedes die gewünschte Temperatur des Topfbodens
einstellbar ist und daß der Mikroprozessor diese anhand der
jeweils berechneten Temperaturen regelt.
Ist nach einer Ausgestaltung vorgesehen, daß aus dem Wärmefluß
in den Topfboden eine Anzeige ableitbar ist, die die An- oder
Abwesenheit eines Topfes auf der Glaskeramik oder die Qualität
des Topfes angibt, dann kann auf einfache Weise eine
Topferkennung erhalten werden. Für die Anzeige ist vorzugsweise
vorgesehen, daß als Anzeige ein Anzeigemittel vorgesehen ist,
das als Ampel ausgebildet ist und einen anwesenden oder
qualitativ guten Topf durch ein grünes Signal und einen
abwesenden oder qualitativ schlechten Topf durch ein rotes
Signal kennzeichnet, sowie einen weder besonders guten noch
schlechten Topf durch ein gelbes Signal. Nach einer weiteren
Ausgestaltung ist vorgesehen, die Entscheidung, welches Signal
der Ampel angezeigt wird, mittels Furry Logic aus den
berechneten Temperaturen und Wärmeflüssen abzuleiten.
Um eine Überhitzung zu vermeiden, wird zudem vorgesehen, daß
bei abwesendem Topf die elektrische Leistung des Heizelementes
reduziert ist.
Zur Ermittlung der Temperatur des Topfbodens kann vorgesehen
sein, daß mittels Meßzyklen mit unterschiedlicher
Leistungszufuhr die Temperatur des Topfbodens meß- und
berechenbar ist.
Eine erste Möglichkeit zur Ermittlung des Wärmeflusses sieht
vor, daß zur Ermittlung des Wärmeflusses in den Topfboden die
elektrische Leistung, die Temperatur des Unterbaues, die
Temperatur des Isolators oder Reflektors und die Temperatur
der Glaskeramik gemessen wird, und daß der Wärmefluß in den
Topfboden aus der Summe zwischen dem Direktanteil der gestrahlten
Energie in den Topf und der thermischen Energie von der
Glaskeramik zum Topfboden gebildet ist.
Eine alternative Möglichkeit dazu ist dadurch gekennzeichnet,
daß zur Ermittlung des Wärmeflusses in den Topfboden die
elektrische Leistung, die Temperatur des Unterbaues, die
Temperatur des Isolators oder Reflektors sowie der
Reflexionskoeffizient des Topfbodens gemessen wird, daß der
Wärmefluß von der Glaskeramik zum Topfboden eine Funktion der
elektrischen Leistung und der Temperatur der Glaskeramik ist
und daß diese Funktion im Mikroprozessor gespeichert ist.
Die Erfindung wird anhand der beiliegenden Zeichnungen näher
erläutert. Es zeigen:
Fig. 1 schematische eine Glaskeramik-Kochstelle,
Fig. 2 das Ersatzschaltbild für den Isolator oder
Reflektor einer PureHalogen-Kochstelle,
Fig. 3 das Ersatzschaltbild für die Glaskeramik einer
PureHalogen-Kochstelle,
Fig. 4 das Ersatzschaltbild einer PureHalogen-Kochstelle
für die Beheizung von oben im Beharrungszustand,
Fig. 5 das theoretische Ersatzschaltbild einer
PureHalogen-Kochstelle für die Beheizung von unten
mit einem fremden Heizkörper,
Fig. 6 das Ersatzschaltbild für eine
PureHalogen-Kochstelle und
Fig. 7 eine Steuereinheit mit Mikroprozessor für die
elektronische Leistungsregelung der Kochstelle.
In Fig. 1 ist eine Kochstelle mit Glaskeramik schematisch
dargestellt. Ein Topf 1,T steht auf einer Glaskeramikplatte
2,K, die zum Unterbau 4,U hin durch eine Isolation oder einen
Reflektor 3,R abgedeckt ist. Heizelemente 5, z. B. Halogenlampen,
sind unterhalb der Glaskeramik 2,K innerhalb der Isolation
oder des Reflektors 3,R angeordnet. Die Kochstelle hat
thermische Widerstände Rt des Topfes 1,T, Rkt zwischen der
Glaskeramik 2,K und dem Topf 1,T, Rrk zwischen der Isolation
oder dem Reflektor 3,R und der Glaskeramik 2,K sowie Rru
zwischen der Isolation oder dem Reflektor 3,R und dem Unterbau
4,U.
Fig. 2 zeigt das thermische Ersatzschaltbild eines Isolators
oder eines Reflektors 3,R, es umfaßt die Reihenschaltung der
thermischen Widerstände Rrk und Rru. Am Verbindungspunkt der
beiden thermischen Widerstände ist der Kondensator Cr
angeschaltet, der die Wärmekapazität des Isolators oder des
Reflektors 3,R angibt. Die Temperaturen Tk, Tt und Tu
entsprechen den Temperaturen an der Glaskeramik 2,K, an der
Isolation oder des Reflektors 3,R und an dem Unterbau 4,U.
Mit Idr ist der Direktstrahlungsanteil auf den Isolator oder
Reflektor 3,R angegeben, während mit Irk der Wärmefluß von
der Isolation oder dem Reflektor 3,R zu der Glaskeramik 2,K
und mit Iru der Wärmefluß von der Isolation oder dem Reflektor
3,R zu dem Unterbau 4,U angegeben sind. Schließlich gibt Ir
den Wärmefluß in die Kapazität Cr der Isolation oder des
Reflektors 3,R an.
Fig. 3 zeigt das thermische Ersatzschaltbild der Glaskeramik
einer PureHalogen-Kochstelle mit der Reihenschaltung aus den
thermischen Widerständen Rkt und Rkr. Am Verbindungspunkt der
beiden thermischen Widerstände ist der Kondensator Ck
angeschaltet, der die Wärmekapazität der Glaskeramik 2,K angibt.
Die Temperaturen Tt, Tk und Tr entsprechen den Temperaturen
am Topf 1,T, an der Glaskeramik 2,K und an der Isolation oder
dem Reflektor 3,R. Mit Idk ist der Direktstrahlungsanteil in
die Glaskeramik 2,K angegeben, während mit Irk der Wärmefluß
zwischen der Isolation oder dem Reflektor 3,R und der
Glaskeramik 2,K und mit Ikt der Wärmefluß zwischen der
Glaskeramik 2,K und dem Topf 1,T angegeben sind. Schließlich
gibt Ik den Wärmefluß in die Kapazität Ck der Glaskeramik 2,K
an.
In Fig. 4 ist das Ersatzschaltbild einer PureHalogen-Kochstelle
für die Beheizung von oben im Beharrungszustand angegeben.
Die Reihenschaltung umfaßt die thermischen Widerstände Rtk,
Rkr, Rru und Ru, d. h. den thermischen Widerstand Rtk zwischen
dem Topf 1,T und der Glaskeramik 2,K, den thermischen Widerstand
Rkr zwischen der Glaskeramik 2,K und der Isolation oder dem
Reflektor 3,R, den thermischen Widerstand Rru zwischen der
Isolation oder dem Reflektor 3,R und dem Unterbau 4,U und den
thermischen Widerstand Ru des Unterbaues 4,U. Die Temperaturen
Tt, Tk, Tr und Tu treten an dem Topf 1,T, an der Glaskeramik
2,K, an der Isolation oder dem Reflektor 3,R und an dem Unterbau
4,U auf. Mit Iru ist der Wärmefluß von der Isolation oder dem
Reflektor 3,R zu dem Unterbau 4,U gekennzeichnet.
In der Fig. 5 wird das theoretische Ersatzschaltbild einer
PureHalogen-Kochstelle für die Beheizung von unten mit einem
oder mehreren fremden Heizelementen dargestellt. Es umfaßt
die Reihenschaltung der thermischen Widerstände Rur, Rkr, Rkt
und Rt, d. h. den thermischen Widerstand Rur zwischen dem
Unterbau 4,U und der Isolation oder dem Reflektor 3,R, den
thermischen Widerstand Rkr zwischen der Glaskeramik 2,K und
der Isolation oder dem Reflektor 3,R, den thermischen Widerstand
Rkt zwischen der Glaskeramik 2,K und dem Topf 1,T und den
thermischen Widerstand Rt des Topfes 1,T.
An dem Verbindungspunkt zwischen den thermischen Widerständen
Rur und Rkr ist die Kapazität Cr der Isolation oder des
Reflektors 3,R angeschaltet. Die Kapazität Ck der Glaskeramik
2,K ist an dem Verbindungspunkt der thermischen Widerstände
Rkr und Rkt angeschaltet und schließlich ist an dem
Verbindungspunkt der beiden thermischen Widerstände Rkt und
Rt die Kapazität Ct des Topfes 1,T angeschaltet. Die
Temperaturen Tu, Tr, Tk und Tt geben die Temperaturen am
Unterbau 4,U, an der Isolation oder dem Reflektor 3,R, an der
Glaskeramik 2,K und am Topf 1,T an. Mit Ir, Ik und It sind
die Wärmeflüsse in die Kondensatoren Cr, Ck und Ct, d. h. die
Wärmekapazitäten von Isolation oder Reflektor 3,R, von der
Glaskeramik 2,K und dem Topf 1,T angegeben, während Iru dem
Wärmefluß zwischen der Isolation oder dem Reflektor 3,R und
dem Unterbau r,U, Irk dem Wärmefluß zwischen der Isolation
oder dem Reflektor 3,R und der Glaskeramik 2,K und Ikt dem
Wärmefluß zwischen der Glaskeramik 2,K und dem Topf 1,T
entsprechen.
Das Ersatzschaltbild nach Fig. 6 für eine PureHalogen-Kochstelle
ist mit dem thermischen Widerstand Rkr zwischen der Glaskeramik
2,K und der Isolation oder dem Reflektor 3,R ergänzt. Außerdem
sind die Direktstrahlungsanteile Idr in die Isolation oder
den Reflektor 3,R, Idk in die Glaskeramik 2,K und Idt in den
Topf 1,T eingetragen, während mit I die gesamte elektrische
Leistung gekennzeichnet ist. Die Temperaturen Tu, Tr, Tk und
Tt entsprechen den in Fig. 5 angegebenen Temperaturen.
Bei einem ersten Ausführungsbeispiel werden die elektrische
Leistung I (I als Abkurzung für Strom, weil die elektrische
Leistung den "Wärmestrom" darstellt) sowie die Temperaturen
des Unterbaues 4,U, des Reflektors 3,R und der Glaskeramik
2,K gemessen und zwar mit Hilfe von Temperatursensoren. Aus
den gemessenen Temperaturen wird der Direktanteil in den
Reflektor 3,R berechnet:
Idr = f(Tu, Tr, Tk)
Der Direktanteil in den Reflektor 3,R ist abhängig vom
Reflexionskoeffizienten des Topfbodens und der elektrischen
Leistung. Ist der Direktanteil in den Reflektor 3,R bekannt,
dann kann der Reflexionskoeffizient rt des Topfbodens berechnet
werden (Fig. 2):
rt = f(Idr, I)
Der ermittelte Wert für rt wird für die Berechnung der
Direktanteile in die Glaskeramik 2,K und in den Topf 1,T
eingesetzt:
Idk = f(rt)
Idt = f(rt)
Idt = f(rt)
Aus dem Ersatzschaltbild nach Fig. 3 wird der Wärmefluß Ikt
zwischen der Glaskeramik 2,K und dem Topfboden berechnet:
Ikt = f(Idk, Tk, Tr)
Der Wärmefluß in den Topfboden ist die Summe aus dem
Direktanteil dar gestrahlten Energie in den Topf Idt und der
thermischen Energie Ikt, die von der Glaskeramik 2,K in den
Topfboden übertragen wird.
Bei einem zweiten Ausführungsbeispiel werden die elektrische
Leistung und die Temperaturen Tr des Reflektors 3,R und Tu
des Unterbaues 4,U sowie der Reflexionskoeffizient des
Topfbodens erfaßt. Sind die elektrische Leistung I und der
Reflexionskoeffizient rt des Topfbodens bekannt, dann können
die Direktanteile Idr in den Reflektor 3,R, Idk in die
Glaskeramik 2,K und Idt in den Topf 1,T berechnet werden:
Idr = f(rt), Idk = f(rt) und Idt = f(rt)
Aus dem Ersatzschaltbild für den Reflektor 3,R nach Fig. 2
werden der Wärmefluß Irk von dem Reflektor 3,R zu der
Glaskeramik 2,K und die Temperatur Tk der Glaskeramik 2,K
errechnet:
Irk = f(Idk, Tk, Tr)
Tk = f(Tr, Irk)
Tk = f(Tr, Irk)
Aus dem Ersatzschaltbild für die Glaskeramik nach Fig. 3 wird
der Wärmefluß Ikt zwischen der Glaskeramik 2,K und dem Topfboden
des Topfes 1,T berechnet:
Ikt = f(Idk, Irk)
Der Wärmefluß von der Glaskeramik 2,K nach außen ist eine
Funktion der elektrischen Leistung I und der Temperatur Tk
der Glaskeramik 2,K. Diese Funktion wird im Mikroprozessor
µP einer Steuereinheit der Kochstelle nach Fig. 7 gespeichert.
Ein Vergleich zwischen dem gemessenen Wärmefluß und dem Wert
für freie Abstrahlung kann zur Topferkennung ausgenutzt werden.
Die Entscheidung über Topfanwesenheit kann über Fuzzy Logic
aus den Parametern Reflexionskoeffizient des Topfes,
Glaskeramiktemperatur sowie Wärmefluß in dem Topf ermittelt
werden, wobei diese Parameter in Fuzzy-Sets umgewandelt sind.
Über ein Parameterfeld, das die wichtigsten Größen der
Kochstelle - z. B. Strahlungsleistung in den Topf,
Kontaktleistung in den Topf, Reflexionskoeffizient des Topfes,
Temperatur der Glaskeramik - enthält, kann eine Qualitätsgröße
für den Topf abgeleitet werden.
Dieses Parameterfeld kann über die entsprechende Gestaltung
von Membership-Funktionen (für eine Fuzzy-Logic-Auswertung)
gebildet werden.
Im folgenden wird die Vorgehensweise zur Bestimmung der
Komponenten eines physikalischen Modells für eine Pure
Halogen-Kochstelle beschrieben.
Die Wärmekapazität der Komponenten des Kochsystems können aus
den Materialeigenschaften berechnet werden:
C=m * c
C = Wärmekapazität
m = Masse des Körpers
c = spezifische Wärmekapazität (Materialeigenschaft)
m = Masse des Körpers
c = spezifische Wärmekapazität (Materialeigenschaft)
Für eine PureHalogen-Kochstelle mit einem Durchmesser von 180 mm
ergeben sich z. B. folgende Werte:
Die Direktanteile der thermischen Leistung in die verschiedenen
Komponenten hängen von deren Reflexionseigenschaften ab. Da
diese Direktanteile ein Teil des Modells sind, müssen sie
ermittelt werden.
Als erste Näherung werden die Direktanteile der gestrahlten
Energie theoretisch berechnet.
- 1. Die Lampe strahlt 50% der Energie senkrecht nach oben und 50% senkrecht nach unten.
- 2. Die Komponenten haben ideale Spektralkurven.
- 3. Die Energie wird nur durch Strahlung abgegeben (keine Konvektion)
rt - Reflexionskoeffizient Topf
at - Absorptionskoeffizient Topf
rr - Reflexionskoeffizient Reflektor
ar - Absorptionskoeffizient Reflektor
tk - Transmissionskoeffizient Glaskeramik
ak - Absorptionskoeffizient Glaskeramik
L - Leistung
at - Absorptionskoeffizient Topf
rr - Reflexionskoeffizient Reflektor
ar - Absorptionskoeffizient Reflektor
tk - Transmissionskoeffizient Glaskeramik
ak - Absorptionskoeffizient Glaskeramik
L - Leistung
Theoretisch ergeben sich folgende Werte für die Direktanteile
der gestrahlten Energie:
- 1. Direktanteil Reflektor Ir = ar · L/2 · (1+rt·tk²)/(1-rt·rr·tk²)
- 2. Direktanteil Keramik Ik = ak · L/2 · [(1+rt·tk²) : (1+rr)]/(1-rt·rr·tk²)
- 3. Direktanteil Topf It = at · tk · L/2 · (1+rr)/(1-rt·rr·tk²)
Um die thermischen Widerstände der Komponenten der Kochstelle
zu ermitteln, wurden Versuche mit einem definierten Verbraucher
gefahren, dessen thermische Kapazität und thermischer Widerstand
zur Umgebung bekannt waren.
Die Kochstelle wird von unten mit einem fremden Heizkörper
aufgeheizt. Auf der Kochstelle steht ein Verbraucher mit einer
bekannten Wärmekapazität (z. B. Alublock). Es werden die
Temperaturen des Unterbaus, des Reflektors, der Keramik und
des Verbrauchers gemessen. Wenn die thermischen Kapazitäten
der einzelnen Komponenten bekannt sind, können anhand der
gemessenen Temperaturen die thermischen Widerstände zwischen
den einzelnen Komponenten berechnet werden. Aus Fig. 2 folgt:
It = (Ct · dTr/dt) + Tt/Rt (Wärmefluß in den Verbraucher)
Rkt = (Tk - Tt)/It (thermischer Widerstand Keramik-Verbraucher
Ik = (Ck · dTk/dt) (Wärmefluß in die Glaskeramik)
Irk = It + Ik (Wärmefluß Reflektor Glaskeramik)
Rkt = (Tr - Tk)/Irk (thermischer Widerstand Glaskeramik-Topf)
Rkt = (Tk - Tt)/It (thermischer Widerstand Keramik-Verbraucher
Ik = (Ck · dTk/dt) (Wärmefluß in die Glaskeramik)
Irk = It + Ik (Wärmefluß Reflektor Glaskeramik)
Rkt = (Tr - Tk)/Irk (thermischer Widerstand Glaskeramik-Topf)
Da in den meisten Fällen die Keramik eine höhere Temperatur
als der Reflektor hat, findet in der Praxis eine
Wärmeübertragung von oben nach unten statt. Um die Widerstände
für diesen Fall zu berechnen, wird die Kochstelle über denselben
Verbraucher von oben beheizt, bis ein Beharrungszustand erreicht
wird. Wenn der thermische Widerstand Verbraucher-Glaskeramik
bekannt ist, können anhand der Beharrungstemperaturen die
thermischen Widerstände innerhalb der Kochstelle berechnet
werden. Aus Fig. 3 folgt:
Itu = (Tt - Tk)/Rkt Wärmefluß Topf-Unterbau
Rkr = (Tk - Tr)/Itu thermischer Widerstand Keramik-Reflektor
Rru = (Tr - Tu)/Itu thermischer Widerstand Reflektor-Unterbau
Rkr = (Tk - Tr)/Itu thermischer Widerstand Keramik-Reflektor
Rru = (Tr - Tu)/Itu thermischer Widerstand Reflektor-Unterbau
Mit den oben berechneten Werten ist das Modell für die
Kochstelle definiert. Um diese Werte zu verbessern, werden
weitere Versuche gefahren, wobei die theoretischen mit den
praktischen Werten verglichen werden und die nötigen Korrekturen
im Modell vorgenommen werden.
Um ein realitätsnahes Modell zu erhalten, ist es wichtig, daß
die Mitteltemperatur der Glaskeramik erfaßt wird. Dies läßt
sich beispielsweise mit Hilfe von zwei oder mehreren
Thermoelementen erreichen, die so angeordnet sind, daß man
eine Mitteltemperatur der Glaskeramik messen kann. Um einen
ausreichenden thermischen Kontakt zur Heizfläche zu
gewährleisten, müssen diese an die Heizfläche angedrückt werden.
Ebenso können Thermoelemente in die Heizfläche integriert
werden, indem sie eingewalzt oder eingelassen werden.
Aus der DE-PS 21 39 828 sind in die Heizfläche integrierte
Thermosensoren bekannt, welche aus zwei parallel geführten
Leiterbahnen begrenzten Glaskeramiktemperaturmeßwiderständen
bestehen. Diese Leiterbahnen werden mittels Siebdruck oder
anderer Methoden auf die Glaskeramikunterseite aufgebracht
und eingebrannt. Der stark temperaturabhängige elektrische
Widerstand, der zwischen den Leiterbahnen eingegrenzten
Glaskeramik stellt den eigentlichen Temperaturmeßwiderstand
dar. Bei einer gewissen Anordnung der Leiterbahnen wäre es
möglich, daß direkt die Mitteltemperatur der Glaskeramik erfaßt
wird.
In der Anwendung sind die Unbekannten in unserem Modell der
Widerstand Glas-Keramik-Topfboden und der Reflexionskoeffizient
des Topfbodens. In der ersten praktischen Ausführung werden
die Temperaturen der Glaskeramik, des Reflektors und des
Unterbaus gemessen.
Die Meßsignale werden über einen Multiplexer MUX an den Eingang
eines A/D-Wandlers übertragen, dessen Ausgangssignal vom
Mikroprozessor µP eingelesen wird. Die Auswahl des zu messenden
Kanals wird vom Mikroprozessor µP gesteuert. Die Meßsignale
werden mit einem entsprechenden Programm ausgewertet und anhand
der Ergebnisse steuert der Mikroprozessor µP die Leistungszufuhr
zu dem Heizelement HE, wie Fig. 7 zeigt.
Mit einem Stellglied StG kann die Temperatur Tk der Glaskeramik
2,K oder der Wärmefluß von der Glaskeramik 2,K zum Topfboden
vorgegeben werden. Über das im Mikroprozessor µP gespeicherte
Modell kann die Regelgröße für das Heizelement HE errechnet
werden. Die Temperatursensoren S1, S2 und S3 geben die
Temperatursignale, z. B. des Unterbaues 4,U, des Reflektors
3,R und der Glaskeramik 2,K an den Multiplexer MUX Eine Anzeige
A, die z. B. als Ampel ausgebildet ist, gibt ein Kennzeichen
ab, das die An- oder Abwesenheit eines Topfes auf der
Glaskeramik anzeigt oder eine Qualitätsaussage über den Topf
darstellt. Bei der Ampel zeigt grün die Anwesenheit und rot
die Abwesenheit des Topfes an.
Das Gesamt-Ersatzschaltbild der Kochstelle ist in Fig. 6
dargestellt. Aus diesem Ersatzschaltbild werden der Wärmefluß
Iru zwischen Reflektor 3,R und Unterbau 4,U sowie der Wärmefluß
Irk zwischen Reflektor 3,R und Glaskeramik 2,K ermittelt:
Iru = f(Tr, Tu) = Rru· (Tr-Tu)
Irk = f(Tr, Tk) = Rrk· (Tr-Tk).
Irk = f(Tr, Tk) = Rrk· (Tr-Tk).
Claims (12)
1. Kochstelle mit einer elektronischen Steuerung mit
kontinuierlicher Leistungszufuhr, insbesondere
PureHalogen-Kochstelle, bei der mit Temperatursensoren
die Temperaturen von Unterbau, Isolator oder Reflektor
und Glaskeramik erfaßt werden,
dadurch gekennzeichnet,
daß im Mikroprozessor (µP) der Steuerung (Fig. 7) ein thermisches Ersatzschaltbild (Fig. 6) gespeichert ist, das dem Wärmefluß (I) der Kochstelle zwischen Heizelement (5, HE), Unterbau (4,U), Isolator oder Reflektor (3,R), Glaskeramik (2,K) und Topf (1,T) entspricht, und
daß der Mikroprozessor (µP) in Abhängigkeit von den gemessenen Temperaturen (Tu des Unterbaues U, Tk der Glaskeramik K und/oder Tr des Isolators oder Reflektors den Wärmefluß in den Topfboden oder die Durchschnittstemperatur der Glaskeramik (2,K) und daraus den Wärmefluß in den Topfboden errechnet und die entsprechende Steuerung der elektrischen Leistung (I) des Heizelementes (HE) veranlaßt.
dadurch gekennzeichnet,
daß im Mikroprozessor (µP) der Steuerung (Fig. 7) ein thermisches Ersatzschaltbild (Fig. 6) gespeichert ist, das dem Wärmefluß (I) der Kochstelle zwischen Heizelement (5, HE), Unterbau (4,U), Isolator oder Reflektor (3,R), Glaskeramik (2,K) und Topf (1,T) entspricht, und
daß der Mikroprozessor (µP) in Abhängigkeit von den gemessenen Temperaturen (Tu des Unterbaues U, Tk der Glaskeramik K und/oder Tr des Isolators oder Reflektors den Wärmefluß in den Topfboden oder die Durchschnittstemperatur der Glaskeramik (2,K) und daraus den Wärmefluß in den Topfboden errechnet und die entsprechende Steuerung der elektrischen Leistung (I) des Heizelementes (HE) veranlaßt.
2. Kochstelle nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
daß das thermische Ersatzschaltbild (Fig. 6) den
thermischen Widerstand (Rt) des Topfes (1,T) den
thermischen Widerstand (Rkt) von der Glaskeramik (2,K)
zu dem Topf (1,T), den thermischen Widerstand (Rtk) von
dem Isolator oder Reflektor (3,R) zu der Glaskeramik (2,K),
den thermischen Widerstand (Rkt) von der Glaskeramik (2,K)
zu dem Isolator oder Reflektor (3,R), den thermischen
Widerstand (Rur) von dem Unterbau (4,U) zu der Glaskeramik
(2,K), die Wärmekapazität (Ct) des Topfes (1,T), die
Wärmekapazität (Ck) der Glaskeramik (2,K), die
Wärmekapazität (Ct) des Isolators oder Reflektors (3,R)
und die Direktstrahlungsanteile (Idr, Idk, Idt) des
Isolators oder Reflektors (3,R), der Glaskeramik (2,K)
und des Topfes (1,T) umfaßt.
3. Kochstelle nach Anspruch 1 und 2,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Berechnung über Fuzzy-Logic geschieht, und das
thermische Ersatzschaltbild durch entsprechend
ausgestaltete Membership-Funktionen gebildet ist.
4. Kochstelle nach einem der Ansprüche 1 bis 3,
dadurch gekennzeichnet,
daß mit einem Stellglied (StG) der Wärmefluß in den Topfboden vorgebbar ist und
daß der Mikroprozessor (µP) diesen anhand des jeweils berechneten Wärmeflusses regelt.
dadurch gekennzeichnet,
daß mit einem Stellglied (StG) der Wärmefluß in den Topfboden vorgebbar ist und
daß der Mikroprozessor (µP) diesen anhand des jeweils berechneten Wärmeflusses regelt.
5. Kochstelle nach einem der Ansprüche 1 bis 4,
dadurch gekennzeichnet,
daß aus dem Wärmefluß (It) in den Topfboden eine Anzeige
(A) ableitbar ist, die die An- oder Abwesenheit eines
Topfes (1,T) auf der Glaskeramik (2,K) oder die Qualität
des Topfes (1,T) angibt.
6. Kochstelle nach Anspruch 5,
dadurch gekennzeichnet,
daß als Anzeige (A) ein Anzeigemittel vorgesehen ist,
das als Ampel ausgebildet ist und einen anwesenden oder
qualitativ guten Topf (1,T) durch ein grünes Signal, einen
abwesenden oder qualitativ schlechten Topf (1,T) durch
ein rotes Signal, sowie einen qualitativ mittleren Topf
durch ein gelbes Signal kennzeichnet.
7. Kochstelle nach Anspruch 5 oder 6,
dadurch gekennzeichnet,
daß bei abwesendem Topf (1,T) die elektrische Leistung
(I) des Heizelementes (HE) reduziert ist.
8. Kochstelle nach einem der Ansprüche 1 bis 7,
dadurch gekennzeichnet,
daß mittels Meßzyklen mit unterschiedlicher Leistungszufuhr
die Temperatur (Tt) des Topfbodens meß- und berechenbar
ist.
9. Kochstelle nach Anspruch 8,
dadurch gekennzeichnet,
daß mittels eines Stellgliedes (StG) die gewünschte
Temperatur (Tt) des Topfbodens einstellbar ist und
daß der Mikroprozessor (µP) diese anhand der jeweils
berechneten Temperaturen regelt.
10. Kochstelle nach einem der Ansprüche 1 bis 9,
dadurch gekennzeichnet,
daß zur Ermittlung des Wärmeflusses in den Topfboden die
elektrische Leistung (I), die Temperatur (Tu) des
Unterbaues (4,U), die Temperatur (Tk) des Isolators oder
Reflektors (3,R) und die Temperatur (Tk) der Glaskeramik
(2,K) gemessen wird, und
daß der Wärmefluß in den Topfboden aus der Summe zwischen dem Direktanteil der gestrahlten Energie (Idt) in den Topf (1,T) und der thermischen Energie (Ikt) von der Glaskeramik (2,K) zum Topfboden gebildet ist.
daß der Wärmefluß in den Topfboden aus der Summe zwischen dem Direktanteil der gestrahlten Energie (Idt) in den Topf (1,T) und der thermischen Energie (Ikt) von der Glaskeramik (2,K) zum Topfboden gebildet ist.
11. Kochstelle nach einem der Ansprüche 1 bis 9,
dadurch gekennzeichnet,
daß zur Ermittlung des Wärmeflusses in den Topfboden die
elektrische Leistung (I), die Temperatur (Tu) des
Unterbaues (4,U), die Temperatur (Tk) des Isolators oder
Reflektors (3,R) sowie der Reflexionskoeffizient (rt)
des Topfbodens gemessen wird,
daß der Wärmefluß (Ikt) von der Glaskeramik (2,K) zum
Topfboden eine Funktion der elektrischen Leistung (I)
und der Temperatur (Tk) der Glaskeramik (2,K) ist, und
daß diese Funktion im Mikroprozessor (µP) gespeichert
ist.
12. Kochstelle nach einem der Ansprüche 10 oder 11,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Berechnungen durch Fuzzy-Logic erfolgen und die
nötigen Ersatzschaltbilder als Membership-Funktionen im
Mikroprozessor (µP) abgespeichert sind.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19934339267 DE4339267C2 (de) | 1993-11-18 | 1993-11-18 | Verfahren zur Steuerung der Heizleistung einer Kochstelle mit einer elektronischen Steuerung mit kontinuierlicher Leistungszufuhr, insbesondere PureHalogen-Kochstelle |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19934339267 DE4339267C2 (de) | 1993-11-18 | 1993-11-18 | Verfahren zur Steuerung der Heizleistung einer Kochstelle mit einer elektronischen Steuerung mit kontinuierlicher Leistungszufuhr, insbesondere PureHalogen-Kochstelle |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE4339267A1 true DE4339267A1 (de) | 1995-05-24 |
| DE4339267C2 DE4339267C2 (de) | 1995-09-21 |
Family
ID=6502817
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE19934339267 Expired - Fee Related DE4339267C2 (de) | 1993-11-18 | 1993-11-18 | Verfahren zur Steuerung der Heizleistung einer Kochstelle mit einer elektronischen Steuerung mit kontinuierlicher Leistungszufuhr, insbesondere PureHalogen-Kochstelle |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE4339267C2 (de) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8020314B2 (en) * | 2008-10-31 | 2011-09-20 | Corning Incorporated | Methods and apparatus for drying ceramic green bodies with microwaves |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102006016956B4 (de) * | 2006-04-11 | 2009-10-08 | Electrolux Home Products Corp. N.V. | Verfahren zum Bestimmen der von einem Gargut aufgenommenen Wärme in einem Gargerät und Gargerät zur Durchführung des Verfahrens |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2139828C3 (de) * | 1971-08-09 | 1974-02-14 | Jenaer Glaswerk Schott & Gen., 6500 Mainz | Temperaturmeßwiderstand mit großer Temperaturwechselbeständigkeit aus Glaskeramik |
| DE3703768C2 (de) * | 1987-02-07 | 1988-11-24 | Fissler Gmbh, 6580 Idar-Oberstein, De | |
| US5149944A (en) * | 1990-06-26 | 1992-09-22 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Electric cooking appliance |
-
1993
- 1993-11-18 DE DE19934339267 patent/DE4339267C2/de not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US5149944A (en) * | 1990-06-26 | 1992-09-22 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Electric cooking appliance |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| DE-Z: "Sicherheit und Komfort haben Vorrang", elektrohandel, Nr. 3, 1993, S. 57-63 * |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8020314B2 (en) * | 2008-10-31 | 2011-09-20 | Corning Incorporated | Methods and apparatus for drying ceramic green bodies with microwaves |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE4339267C2 (de) | 1995-09-21 |
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