[go: up one dir, main page]

DE2849962A1 - Fotografischer film - Google Patents

Fotografischer film

Info

Publication number
DE2849962A1
DE2849962A1 DE19782849962 DE2849962A DE2849962A1 DE 2849962 A1 DE2849962 A1 DE 2849962A1 DE 19782849962 DE19782849962 DE 19782849962 DE 2849962 A DE2849962 A DE 2849962A DE 2849962 A1 DE2849962 A1 DE 2849962A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
ococ
layer
photographic film
film according
film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE19782849962
Other languages
English (en)
Other versions
DE2849962C2 (de
Inventor
Naoto Abe
Masao Ishihara
Masayoshi Mayama
Koichi Nagayasu
Toshiaki Shibue
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Inc filed Critical Konica Minolta Inc
Publication of DE2849962A1 publication Critical patent/DE2849962A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE2849962C2 publication Critical patent/DE2849962C2/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/76Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
    • G03C1/85Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by antistatic additives or coatings
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/76Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
    • G03C1/7614Cover layers; Backing layers; Base or auxiliary layers characterised by means for lubricating, for rendering anti-abrasive or for preventing adhesion
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/162Protective or antiabrasion layer

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
  • Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)

Description

PAT E N TAN AVALT E
DR. ING. E. HOFFMANN (1930-1976) · D I PL.-I N G. W. E ITLE - D R. RER. NAT. K. H OFFMAN N . D I PL.-ING. W. LEHN
DIPL.-ING. K. FOCHSLE · DR. RER. NAT. B. HANSEN ARABELLASTRASSE 4 (STERN HAUS) · D-8000 MO N CH EN 81 · TELEFON (089) 9Π087 · TELEX 05-29619 (PATHE)
31 412 o/fg
Konishiroku Photo Industry Co., Ltd., Tokyo / Japan
Fotografischer Film
Die Erfindung betrifft lichtempfindliche fotografische Materialien. Sie betrifft insbesondere fotografische Filme, mit antistatischen Schichten auf der Rückseite, wodurch die Kratzfestigkeit des Filmes verbessert wird.
Kratzer bilden sich manchmal auf der Oberfläche von fotografischen Filmen während des Entwickeins oder der Behandlung des Filmes bei der Verarbeitung und beim Vergrössern durch Kontakt oder Reibung des Filmes mit den Apparaturen. Die Kratzer werden im allgemeinen an den Rückseiten der Filme gebildet, die leicht in Berührung mit den Apparaturen kommen, und sie stören aus praktischen Gründen beim Vergrössern oder beim Projezieren erheblich.
Kratzer werden nicht nur während der Behandlungsstufen sondern auch bei den Herstellungsstufen der Filme erzeugt. Man ist derzeit bestrebt, die Hersteliungs- und Verarbeitungsstufen zu beschleunigen, und daher ist es wünschenswert, fotografische Filme zu erhalten, welche kratzfeste Rückseiten haben, wodurch das Erfordernis der schnelleren Herstellung- und Bearbeitung gewährleistet wird.
909821/0645
Bisher sind zahlreiche Versuche gemacht worden, die Kratzfestigkeit der rückseitigen Schichten von fotografischen Filmen zu verbessern. Man hat z.B. als Massnahme zur Verbesserung der Kratzfestigkeit nicht nur die mechanische Festigkeit der rückseitigen Schichten von fotografischen Filmen erhöht, sondern auch die Reibungsfriktion vermindert. Die bekannten fotografischen Filme, die ein Schmiermittel auf der rückseitigen Schicht enthalten, verlieren jedoch den grossten Teil oder einen Teil des Schmiermittels während der Verarbeitung und damit geht auch die Wirkung verloren. Dies ist erklärlich, wenn ein Antistatikum während der Verarbeitung gelöst wird. Als Ergebnis erhält man Kratzer, die bei der nachfolgenden Verarbeitung entstehen.
Ist Schmiermittel in zu grossen Mengen auf der Rückseite enthalten, so dass man einen Teil davon verlieren könnte, so werden dadurch beim Filmtransport während der Herstellung Schwierigkeiten erzeugt, die man als Rutschschwierigkeiten bezeichnet. Bekannte fotografische Filme mit einer rutschenden rückseitigen Schicht können die erforderlichen Rutscheigenschaften beibehalten und verbessern die Kratzfestigkeit während der Zeit zwischen Herstellung bis zu einigen Verarbeitungsstufen.
Die Rutschfestigkeit kann jedoch nicht während und nach der Verarbeitung aufrechterhalten werden, wenn man nicht eine Massnahme vorsieht, beispielsweise um den Film in einem Bad zu verarbeiten, das während der Verarbeitung ein Schmiermittel enthält.
ES. ist deshalb ein Ziel der Erfindung, einen fotografischen Film zu zeigen, der eine rückseitige antistatische Schicht
909821/0645
aufweist, die eine hervorragende Kratzfestigkeit vor und nach der Verarbeitung ergibt.
Ein weiteres Ziel der Erfindung ist es, einen fotografischen Film zu zeigen, der die gleichen oder verschiedene Rutscheigenschaften vor und nach der Verarbeitung aufweist, so dass er für das jeweilige Verfahren und die jeweilige Betriebsweise geeignet ist.
Es ist ein weiteres Ziel der Erfindung, einen fotografischen Film aufzuzeigen, dessen rückseitige Schichten in der Lage sind, eine ausreichende Gleitfähigkeit vor und nach dem Verarbeiten zu bewirken, selbst wenn sie nicht mit einem ein Schmiermittel enthaltenden Bad zur Zeit der Verarbeitung behandelt werden.
Es wurde nun gefunden, dass die Ziele der Erfindung erreicht werden können bei einem fotografischen Film, der auf einer Seite eines Trägers eine lichtempfindliche Emulsionsschicht aufweist und andere Schichten auf der Rückseite, wobei als rückseitige Schichten vorgesehen sind (1) wenigstens eine Schicht, enthaltend eine Verbindung der nachfolgenden Formel
(I) und ein hydrophobes Polymer (erste Schicht) und (2) wenigstens eine Schicht aus einem antistatischen Mittel (zweite Schicht), wobei die erste Schicht näher an dem Träger sich befindet als die zweite Schicht und die Verbindung mit der Formel (I) folgende Formel hat
CH2OR1
R4OCH2-C-CH2OR2 (I)
CH2OR3
In der Formel (I) bedeutet R- einen Carbonsäurerest mit 12 bis 24 Kohlenstoffatomen und R2, R3 und R4 stellen unabhängig
90 9 821/064S
voneinander Wasserstoffatome oder organische Säurereste mit 1 bis 24 Kohlenstoffatomen dar.
Als Carbonsäurereste mit 12 bis 24 Kohlenstoffatomen können erwähnt werden Reste, die sich von gesättigten Monocarbonsäuren ableiten, wie Laurinsäure, Palmitinsäure und Stearinsäure, die sich von ungesättigten Carbonsäuren ableiten, wie Oleinsäure, Linolensäure und Linolsäure, Reste von aromatischen Carbonsäuren, wie Benzoesäure, Naphthalincarbonsäure und Phthalsäure,und Carbonsäuren, bei denen das Wasserstoffatom bei den vorher erwähnten Carbonsäuren durch eine Hydroxygruppe oder ein Halogenatom wie Fluorchlor oder Brom ersetzt ist. Als organische Säurereste mit 1 bis 24 Kohlenstoffatomen, die durch die Reste R2, R3 und R4 wiedergegeben werden, können beispielsweise erwähnt werden, Carbonsäurereste entsprechend R- und Ketocarbonsäurereste, die sich von Acetessigsäure, p-Acety!benzoesäure, Benzoylessigsäure und dergleichen ableiten.
Unter den Verbindungen der Formel (I), die erfindungsgemäss verwendet werden können, werden besonders bevorzugt solche, bei denen R- und R^ geradkettige Carbonsäurereste mit 12 bis 24 Kohlenstoffatomen sind. Noch bevorzugter sind solche bei denen R4 ein geradkettiger Carbonsäurerest mit 12 bis 24 Kohlenstoffatomen ist.
Verbindungen der Formel (I) können alleine oder zusammen verwendet werden. . "*
909821/0645
—* 9 —
Typische Beispiele für Verbindungen der Formel (I) sind die folgenden:
CH2OH
l. H35C17COOCH2-C-CH2
CH2OH
CH2OH
20H
CH2OH
3. H49C24COOCh2-C-Ch2OCOC11H23
CH2OH
CH2OH
CCh
297211H2
CH2OCOC15H31
CH2OCOC11H23
5. H23C11COOCH2-C-CH2OCOe11H23
CH2OCOC11H23
909821 /0645
- 1ο -
CH2 OCOCH3 7H35
CH2 OCOC3H7
CH2 OH 3H27
31
CH2 OCOC15H 27
CH2 OCOC13H 27
CH2 OCOC13H 31
CH2 OCOC17H 5H31
31
CH2 OCOC15H 5
H2OCOC17H3
11. H19C9COOCH2-C-CH2OCO
CHOC
CH2OCOC17H35
12. HOCH0-C-CH0OCOc0H1T £ \ <· ο LI
CH2OCOC15H31
CH2OCOC15H31
13. H-XCOOCH0-C-CH0OCOCh0COCH0 j 2 j 2 2
CH2OCOC21H43
CH2OCOC17H31 14.
CH2OCOC15H31
909821/0645
Beispiele für die Herstellung von den Verbindungen der Formel (I) werden nachfolgend angeführt.
Herstellung 1 (Verbindung Nr. 1)
In einen 2oo ml Kurzhalsrundkolben, der mit einem Veresterungsrohr und einem Kühler ausgerüstet ist, wurden 3,4g Pentaerythrit, 14,2 g Stearinsäure, o,5 g p-Toluolsulfonsäure und 1oo ml Toluol vorgelegt. Die Transveresterung wurde unter Rückfluss der Mischung bei 12o°C (Aussentemperatur) durchgeführt, während man das in situ gebildete Wasser entfernte.
Nach Beendigung der Entfernung des Wassers wurde das Reaktionsgemisch gekühlt und mehrere Male in einem Scheidetrichter mit Wasser zur Entfernung der p-Toluolsulfonsäure gewaschen. Man erhielt eine wachsartige Substanz, die mehrere Male mit "Methanol gewaschen wurde, um nicht-umgesetztes Material zu entfernen, wobei man das gewünschte Produkt, Pentaerythrit- -distearat erhielt. Die Elementar- und NMR-Analysen zeigten, dass die Verbindung die gewünschte Struktur hatte.
Herstellung 2 (Verbindung Nr. 6)
In einen 3oo ml Kurzhalsrundkolben, der mit einem Veresterungsrohr und einem Kühler ausgerüstet war, wurden 6,8 g Pentaerythrit, 64,1 g Palmitinsäure, 1,o g p-Toluolsulfonsäure und 1 So g Toluol vorgelegt. Die Transveresterung wurde unter Rückfluss der Mischung auf etwa 13o°C (Aussentemperatur) durchgeführt, wobei man das in situ gebildete Wasser entfernte.
Nach Beendigung der Entfernung des Wassers wurde das Reaktionsgemisch mehrere Male - in einem Scheidetrichter mit Wasser zur Entfernung von p-Toluolsulfonsäure gewaschen. Die erhaltene wachsartige Substanz wurde gereinigt, wobei man das gewünschte
909821/0645
Pentaerythrittetrapalmitat erhielt, dessen Struktur durch Elementar- und NMR-Analyse bestätigt wurde.
Herstellung 3 (Verbindung Nr. 9)
In einen 2oo ml Kucrzhalsrundkolben, der mit einem Veresterungsrohr und einem Kühler ausgerüstet war, wurden 3,4 g Pentaerythrit, 16,ο g Palmitinsäure, 14,2 g Myristinsäure, o>5 g p-Toluolsulfonsäure und 1oo ml Benzol vorgelegt. Die Transveresterung wurde unter Rückfluss der Mischung bei 11o°C (Aussentemperatur) durchgeführt, wobei das in situ gebildete Wasser entfernt wurde. Nach Beendigung der Wasserentfernung wurde das Reaktionsgemisch gekühlt und mehrere Male in einem Scheidetrichter mit Wasser zur Entfernung von p-Tuluolsulfonsäure gewaschen. Die erhaltene wachsähnliche Substanz wurde mehrere Male mit Methanol zur Entfernung des nicht-umgesetzten Materials gewaschen, wobei man das erwünschte Pentaerythritdipalmitat-Simyristat erhielt. Die chemische Struktur der Substanz wurde durch Elementar- und NMR-Analyse bestätigt.
Die bei der Erfindung verwendeten hydrophoben Polymere können in Form einer Lösung oder Dispersion beschichtet und getrocknet werden. Vorzugsweise sind es solche, die in sauren, alkalischen oder neutralen Lösungen, wie Verarbeitungsbädern (d.h. Entwicklungs- oder Fixierlösungen oder Waschwässern und dergleichen) unlöslich sind. Als hydrophobe Polymere können erwähnt werden Cellulose-Derivate, wie Cellulose-diacetat, Cellulose-.triacetat, Celluloseacetatbutylat, Cellulosenitrat und Äthylcellulose, Polyvinylacetat, Vinylchlorid/ Vinylydenchlorid-Copolymere, Vinylchlorid/Acrylnitril-Copolymere, Acrylsäureester/Vinylchlorid/Vinylacetat-Copolymere, Vinylidenchlorid/Methylacrylat/Acrylsäure-Copolymere und dergleichen. Von diesen werden als hydrophobe Polymere Cellulose-Derivate und u.a. Cellulose-diacetat bevorzugt.
Zur Herstellung einer Schicht, die eine Verbindung der Formel (I) gemäss der Erfindung.enthält, und ein hydrophobes Polymer (nachfolgend als erste Schicht bezeichnet) werden einer Verbindung der Formel (I) und ein hydrophobes Polymer in einem geeigneten Lösungsmittel unter Bildung der Beschichtungs lösung gelöst, und diese wird dann auf den Träger aufgebracht und nach üblichen Verfahren getrocknet.
Die Konzentration der Verbindung der Formel (I) liegt vorzugsweise im Bereich von o,o1 bis 1 g und insbesondere bei o,o5 bis o,4 g pro 1oo ml des Lösungsmittels. Das Mischungsverhältnis des hydrophoben Polymeren zu der Verbindung der Formel (I) liegt vorzugsweise im Bereich von 1/2 bis 4, vorzugsweise 1 bis 2 Gew.-%, bezogen auf einen Teil der Verbindung der Formel (I).
Die Menge an Verbindung der Formel (I), die zur Beschichtung verwe:
verwendet wird, liegt zwischen 3 und 3oo mg/m fotografischer
Als Lösungsmittel, das hinsichtlich seiner Art nicht besonders begrenzt ist, kann beispielsweise Aceton, Äthylacetat, Methylenchlorid, Äthylendichlorid, Trichloräthylen, Benzol und dergleichen erwähnt werden. Sie können allein oder in Kombination verwendet werden.
Die Beschichtungslösung wird auf den Träger in üblicher Weise durch Tauchbeschichtung, Walzenbeschichtung öder Sprühbeschichten und anschliessend durch übliches Trocknen aufgebracht.
Die erste Schicht kann weiterhin verschiedene Additive, wie Mattierungsmittel, enthalten, die je nach der Verwendung des fotografischen Films benötigt werden.
909821 /0645
Als Antistatika, die erfindungsgemäss verwendet werden können, werden solche genommen, die eine gute Elektroleitfähigkeit haben und die selbst gute Filmbildungseigenschaften haben, oder wenn sie in Kombination mit einem geeigneten Binder verwendet werden, solche wie polymere Elektrolyte.
Beispiele für antistatische Mittel sind Salze von Copolymerisaten aus Styrol und Styrolundecansäure gemäss US-PS 3 333 679, Maleinsäure- oder Maleinimidharze gemäss US-PS 2 279 41 ο, Alkalisalze von Alcylarylpolyathersulfonsäuren und Carbonsäurepolymeren gemäss US-PS 3 525 621, Alkalisalze von Polycarbonsäuren gemäss US-PS 3 63o 742, Polystyrolsäuren gemäss US-PS 2 735 841, quaternäres Salze von Polyvinylpyridin gemäss US-PS 2 787 832 und 3 o72 484, polyquaternäre Alkylaminoacrylate gemäss US-PS 2 882 152, anionische Polymere von Maleinsäure-Derivaten, ionenartige Polymere, Copolymere von quaternären Ammoniumsalζ-Monomeren und einem hydrophoben Monomeren, Copolymere von quaternären Ammoniumsalζ-Monomeren und einem Fluor enthaltendem Monomeren gemäss JA-Patentveröffentlichungen 46-24159, 5o-54672 und 5o-94o53 (Offenlegungsschriften) und JA-PA 51-45458. Besonders vorteilhaft werden solche Antistatika verwendet, die in den japanischen Offenlegungsschriften 46-29159, 5o-54672 und 5o 94o53 und in der japanischen Patentanmeldung 51-45458 beschrieben werden. Es wird bevorzugt, dass die Schicht, die das antistatische Mittel gemäss der Erfindung (anschüessend als zweite Schicht bezeichnet) enthält, anliegend an der Oberseite der vorerwähnten ersten Schicht ist. Um dies zu erreichen, wird ein antistatisches Mittel in einem geeigneten Lösungsmittel unter Bildung einer Lösung gelöst, und erforderlichenfalls wird es zusammen mit einem Binder angewendet unter Ausbildung einer Beschichtungslösung, die dann auf die Oberfläche der ersten Schicht auf dem Träger aufgebracht und getrockent wird. Als Lösungsmittel für antistatische Mittel kann Methanol, Äthanol oder Aceton oder
909821/0645
Mischungen davon verwendet werden. Die Beschichtungslösung kann auf die erste Schicht auf dem Träger in üblicher Weise durch Tauchen, Walzen oder Sprühen aufgebracht werden, und sie wird dort dann in üblicher Weise getrocknet.
Hinsichtlich der Konzentration des antistatischen Mittels in der Beschichtungslösung besteht keine besondere Begrenzung, jedoch wird bevorzugt aus Gründen der Einfachheit beim Beschichten und Trocknen/ dass das antistatische Mittel in einer menge von o,o1 bis 1o Gew.-% vorliegt. Die aufzubringende Menge an antistatischem Mittel liegt im allgemeinen bei einem
fotografischen Film bei 3 bis 3oo mg pro m , wobei man befriedigende antistatische Wirkungen erzielt. Wie schon erwähnt, kann jede Lösungsmittelzusammensetzung für die Beschichtungslösung der zweiten Schicht verwendet werden.
Wenn jedoch das Lösungsmittelsystem die erste Schicht zu stark durchdringt, beeinträchtigt es die Transparenz nach dem Aufbringen der zweiten Schicht. Um dies zu vermeiden, sind 5 und vorzugsweise 1 ο bis 3o % Wasser im Lösungsmittel enthalten. Wird mehr Wasser verwendet, so können die entstehenden Beschichtungslösungen zusammen mit einer Beschichtungshilfe, wie einem oberflächenaktiven Mittel verwendet werden. Wird einer Verbindung der Formel (I) in der ersten Schicht gelöst, so kam je nach der davon enthaltenen Menge die Gleiteigenschaft der zweiten Schicht beeinträchtigt werden, und in diesem Fall gibt man ein Gleitmittel oder ein Antigleitmittel zu der zweiten Schicht, um die Gleiteigenschaften der zweiten Schicht anzupassen. Die Gleiteigenschaften können durch Veränderung der Lösungsmittelzusammensetzung, insbesondere durch Veränderung der Menge an Wasser in der Beschichtungslösung der zweiten Schicht eingestellt werden. Je nach der Verwendung kann die zweite Schicht ein Mattierungsmittel, wie "Siliziumdioxid,
enthalten.Es können weiterhin verschiedene Schichten auf der zweiten Schicht vorgesehen sein, wie eine Gleitschicht, eine Mattierungsschicht, enthaltend Siliziumdioxidteilchen oder eine Schicht die anionisches Material oder andere organische Verbindungen enthält. Die Kratzfestigkeit des so hergestellten Films wird hierbei verbessert und die Elektrifizierung durch Friktion oder Abblättern kann verhindert werden. Ausserdem kann eine Verschlechterung der fotografischen Eigenschaften, wie eine Verminderung der Empfindlichkeit, eine Erhöhung von Trübung ö.der die Veränderung des Gamma-Wertes verhindert werden.
Die vorliegende Erfindung kann bei jedem Träger für ein fotografisches Material angewendet werden. Beispiele für diese Träger sind ein Film aus Cellulose-Triacetat, Polyethylenterephthalat oder laminiertes Papier, das mit einem PoIycarbonat, Polystyrol, Polyolefin oder Polyäthylen beschichtet ist.
Lichtempfindliche Emulsionsschichten enthalten Emulsionen von fotografischen lichtempfindlichem Silberhalogenid.
Die Erfindung wird in den folgenden Beispielen, die keineswegs beschränkend ausgelegt werden sollen, beschrieben.
Beispiel 1
Auf die Oberfläche eines Celluloseacetatfilmes wurde eine Lösung (A) aus 4 g Cellulosediacetat, 3 g der Verbindung Nr. 2, 4oo ml Aceton, 3oo ml Methylenchlorid und 3oo ml Äthylacetat in einer Menge von 3o ml/m aufgebracht und unter Ausbildung einer ersten Schicht getrocknet. Darauf wurde dann eine Lösung (B) aufgetragen, die aus 3 g des Natriumsalzes des Copolymers
909821
aus Styrol/Maleinsäure/p-Aminobenzoesäure, o,1 g Natriumcetylsulfat, 65o ml Methanol, 25o ml Aceton und 1oo ml Wasser bestand, wobei die aufgetragene Menge 2o ml/m betrug, und die zweite Schicht dann getrocknet wurde. Man erhielt einen Cellulosetriacetatfilm mit einer ersten und einer zweiten Schicht, der eine befriedigende Gleitfähigkeit und antistatische Eigenschaften aufwies. Dann wurde eine andere Seite des Films mit einer Zwischenschicht versehen, auf welche dann eine Silberhalogenid-Emulsion aufgetragen wurde, die man trocknete, und so erhielt man einen fotografischen Film (I) gemäss der Erfindung. Die Ergebnisse einer Reihe von Versuchen, nämlich dem Belichten in einer Kamera, dem Verarbeiten und der Herstellung von Abzügen zeigte, dass praktisch keine statischen Markierungen oder Kratzer auf den Abzügen festzustellen waren, und dass keinerlei Verschlechterung der fotografischen Eigenschaften beobachtet wurde.
Zum Vergleich wurde ein fotografischer Film (II) hergestellt, indem man eine Lösung (C), enthaltend die Verbindung Nr. 2, anstelle der Lösung (A), in einer Menge von 3o ml/m für die Beschichtung verwendete, und ein weiterer fotografischer Film
(III) wurde hergestellt, der nur die zweite Schicht enthielt, wobei die Verarbeitung in gleicher Weise erfolgte wie bei dem fotografischen Film (I). Ein fotografischer Film (IV) wurde erhalten in gleicher Weise wie der Film (I) mit der Ausnahme, dass die erste und die zweite Schicht ausgetauscht wurden. Dabei beobachtete man erhebliche Mengen an Verkratzungen bei den Abzügen, die man aus fotografischen Filmen (I), (III) und
(IV) erhielt.
Die Werte für die Reibungsfriktionskoeffizienten (,us) und den kinetischen Friktionskoeffizienten ( ,uk) der Proben,gemessen
909821/0645
gegen eine Platte aus einem Styrol/Butadien-Copolymer werden in Tabelle 1 gezeigt.
Tabelle 1
Film ,us ,uk
Film (I) vor der Verarbeitung o,45 - o,38
nach der Verarbeitung o,34 o,28
Film (II) vor der Verarbeitung o,48 o,42
nach der Verarbeitung o,46 o,45
Film (III) vor der Verarbeitung o,42 of43
nach der Verarbeitung ο,46 ο,44
Film (IV) vor der Verarbeitung o,32 ο,27
nach der Verarbeitung ο,45 ο,44
Beispiel 2
Auf die Oberfläche eines biaxial gereckten kristallisierten Polyäthylenterephthalat wurde (D) aufgetragen in einer Menge
2
von 2ο ml/m und getrocknet u:
Schicht. Lösung (D) enthielt:
von 2o ml/m und getrocknet unter Ausbildung einer ersten
Cellulosetriacetat 3 g
tert.Copolymer aus Vinylidenchlorid,
Methylacrylat und Acrylsäure
(65:35:2, gewichtsbezogen) 1 g
Verbindung Nr. 8 1,5 g
Äthylendichlorid . 65o ml
Methylendichlorid 2oo ml
Phenol 15o ml.
909821 /0645
Anschliessend wurde eine Beschichtungslösung (E) der nach-
folgenden Zusammensetzung in einer Menge von 2o ml/m aufgetragen und getrocknet unter Ausbildung der zweiten Schicht;
"N 7^H"CH"\ N · 2 Br->— 5 g OH OH ^==/^
Resorcin · 5o g
Methanol . 3oo ml
Aceton 5oo ml
Wasser 2oo ml
Die Rückseite des Filmes wurde mit einer Zwischenschicht versehen, auf welche dann eine Silberhalogenidemulsion aufgetragen und getrocknet wurde, und man erhielt so einen fotografischen Film (V) gemäss der Erfindung.
Die Ergebnisse einer praktischen Versuchsreihe, nämlich Fotografieren mit einer Kamera, Entwickeln und Herstellung von Abzügen zeigte, dass weder statische Markierungen noch Kratzer auf den Abzügen festzustellen waren, und dass keinerlei Verschlechterung der fotografischen Eigenschaften festgestellt werden konnten.
Zum Vergleich wurde ein fotografischer Film (VI) hergestellt aus einem biaxial gerechten kristallisierten Polyäthylenterephthalatfilm, indem man eine Lösung (F) anstelle der Lösung (D), die nicht die Verbindung Nr. 8 enthielt, in einer Menge
von 2o ml/m auftrug und trocknete. Weiterhin wurde verglichen ein fotografischer Film (VII), der nur die zweite Schicht enthielt* und die Verarbeitung und Prüfung erfolgte in gleicher Weise wie beim Film (V). Es wurden erhebliche Mengen an Kratzern in den Abzügen, die man aus den fotografischen Filmen (VI) und
909821/0645
- 2ο -
(VII) erhielt, festgestellt.
Die Werte für ,us und .uk dieser Proben beim Reiben gegen eine Platte aus Styrol/Butadien-Copolymer werden in Tabelle 2 gezeigt.
Tabelle 2 Film
,US ,uk
o,45 o,48
o,31 o,32
o,47 o,42
o, 44 o,45
o,42 o,38
o,43 o,46
Film (V) vor der Verarbeitung nach der Verarbeitung
Film (VI) vor der Verarbeitung - nach der Verarbeitung
Film (VII) vor der Verarbeitung nach der Verarbeitung
Beispiel 3
c
Auf einen Cellulosetriacetatfilm wurdein einer Menge von 2o ml/m eine Lösung (G) mit nachfolgender Zusammensetzung aufgetragen und getrocknet:
Cellulosediacetet 3 g
Verbindung Nr. 9 2g
Sil-rziumdioxidteilchen 1 g
Aceton 44o ml
Äthylendichlorid 25o ml
Methylendichlorid 2oo ml
Darauf wurde in einer Menge von 2o ml/m eine Lösung (H) aufgetragen und getrocknet, die die nachfolgende Zusammensetzung hatte, und die eine zweite Schicht bildete. Man erhielt so einen antistatischen Triacetatfilm welcher die ersten und zwnitnn Schichten enthielt:
CH2
f 1 f^
GO + COOCH2(CF2CF2)2H
OCHCHCHN (CH) C£-
OH
Triäthylaminsalz von Steary!phosphorsäureester ' o,1 g
Aceton 5oo ml
Methanol 25o ml
Wasser 35o ml
Die Rückseite des Filmes wurde mit einer Zwischenschicht versehen, und auf diese wurde eine Silberhalogenidemulsion aufgetragen und getrocknet und so erhielt man einen fotografischen Film (VIII) gemäss der Erfindung.
Die Ergebnisse einer Reihe von Praxisversuchen, bei denen man mit einer Kamera fotografierte und den Film entwickelte und Abzüge herstellte, zeigte, dass keinerlei statische Markierungen oder Kratzer in den Abzügen vorlagen und dass keine Verschlechterung der fotografischen Eigenschaften beobachtet werden konnte.
Zum Vergleich wurde ein fotografischer Film (IX) hergestellt, indem man eine Lösung (H), die nicht die Verbindung Nr. 9 ent-
2 hielt, anstelle der Dispersion (G) in einer Menge von 2o ml/m auftrug. Daneben wurde ein fotografischer Film (X) hergestellt, der nur die zweite Schicht enrhielt, wobei die Weiterverarbeitung in gleicher Weise erfolgte wie bei dem fotografischen Film (VIIIl. Es wurden erhebliche Mengen Kratzer in den Abzügen festgestellt, die man aus den fotografischen Filmen (IX) und (X) erhielt.
909821 /0645
Die Werte für ,us und ,uk dieser Proben beim Reiben gegen eine Platte aus Styrol/Butadien-Copolymer werden in Tabelle gezeigt.
Tabelle 3
Film ,us ,uk
Film (VIII) vor der Verarbeitung ο,31 ο,32
nach der Verarbeitung o,35 o,3o
Film (IX) vor der Verarbeitung o,43 o,42
nach der Verarbeitung o,47 o,45
Film (X) vor der Verarbeitung ο,37 ο,35
nach der Verarbeitung o,96 ο ,45
Beispiel
Ein Cellulosetriacetatfilm wird mit einer Lösung (I) in einer
2
Menge von 2o ml/m beschichtet und sung folgende Zusammensetzung hat:
Menge von 2o ml/m beschichtet und getrocknet, wobei die Lö-
Cellulosediacetat 2 g
Verbindung Nr. 13 2g
Aceton 4oo ml
Methylenchlorid 3oo ml
Methanol 3oo ml
AnschlLessend wurde die Lösung (J) in einer Menge von 2o ml/m aufgetragen und getrocknet:
909821/0 6-4
n;L:n2=50:50
2 g.
Methanol Aceton Wasser
65o ml 2oo ml 15o ml
Die Rückseite des Filmes wurde mit einer Zwischenschicht versehen, auf welche dann eine Silberhalogenidemulsion aufgetragen und getrocknet wurde, wobei man einen fotografischen Film (X) gemäss der Erfindung erhielt. Zum Vergleich wurde ein fotografischer Film (XI) in gleicher Weise hergestellt, wobei aber die Lösungen (I) urid (J) gegen eine Lösung (K) ausgetauscht wurde, die folgende Zusammensetzung hatte:
• COOCH-C-CCH-N 2I 2
OH
Celluloseciatecat Verbindung Nr. 13 Aceton Methylenchlorid Methanol
CH-CH,
COOCH2(CF2CF2J2H
2 g
2 g
2 ml
4oo ml
3oo ml
3 oo
i-'^n? 1 / rrn/. r>
Die Beschichtung wurde in einer Menge von 2o ml/m durchgeführt.
Beide Filme wurden in gleicher Weise wie in Beispiel 1 verarbeitet. Es wurde eine beträchtliche Zahl Kratzer auf Abzügen aus dem fotografischen Film (XI) festgestellt. >
Die Werte für ,us und ,uk der fotografischen Filme nach Reiben gegen eine Platte aus Styrol/Butadien-Copolymer wird in Tabelle 4 gezeigt.
Tabelle 4
Film
Film (XI) vor der Verarbeitung nach der Verarbeitung
Film (XII) vor der Verarbeitung nach der Verarbeitung
/US
,uk
ο, 38 o,37
ο. 3o o,26
ο, 31 o,29
ο, 47 o,46
909821/0645

Claims (1)

  1. PATENTANWÄLTE
    DR. ING. E. HOFFMANN (1930-1976) · DIPL.-I NG. W.EITLE . DR. RER. NAT. K. HOFFMANN · DIPL.-ING. W. LEH N
    DIPL.-ING. K. FOCHSLE · DR. RER. NAT. B. HANSEN ARABELLASTRASSE 4 (STERN HAUS) . D-8000 MONCH EN 81 · TELEFON (089) 911087 · TELEX 05-29619 (PATH E)
    31 412 o/fg
    Konishiroku Photo Industry Co., Ltd., Tokyo / Japan . Fotografischer Film
    Patentansprüche
    ii Fotografischer Film, gekennzeichnet durch
    (A) einen Träger
    (B) wenigstens eine lichtempflindliche Emulsionsschicht an einer Seite des Trägers, und
    (C) wenigstens eine Schicht, die eine Verbindung der Formel (I) und ein hydrophobes Polymer (erste Schicht) enthält, und wenigstens eine Schicht, welche ein Antistatikum (zweite Schicht) enthält, wobei die erste und zweite Schicht an der Gegend-Seite, von (B) sich, befinden, und die erste Schicht näher am Träger ist als die zweite Schicht, wobei die Verbindung der Formel (I) die folgende Formel hat
    CH0OR1
    ,21
    R4OCH2-C-CH2OR2 (I)
    CH2OR3
    worin bedeuten:
    R.J einen Carbonsäurerest mit 12 bis 24 Kohlenstoffatomen und R2,R3 und R„ unabhängig voneinander Wasserstoffatome oder organische
    Säurereste mit 1 bis 24 Kohlenstoffatomen.
    2. Fotografischer Film gemäss Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass R1, R2 und R3 geradkettige Carbonsäurereste mit 12 bis 24 Kohlenstoffatomen sind.
    3. Fotografischer Film gemäss Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet , dass R4 ein geradkettiger Carbonsäurerest mit 12 bis 24 Kohlenstoffatomen ist.
    9 0 9 8 2 1 / 0 e 4 B
    4. Fotografischer Film gemäss Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Verbindung mit der Formel (I ) aus den folgenden Verbindungen ausgewählt 'ist:
    CH-OH I 2
    I
    CH2OH
    CH0OH I 2
    CH2OH
    CH0OH I 2
    CH2OH
    CH0OH I 2
    CH2OCOC15H31
    CH2OCOC11H23
    5. H23C11COOCH2-C-
    CH2OCOC15H31 CH2OCOC15H31
    CH2OCOCH3
    7. H31C15COOCH2-C-CH2OCOc17H35
    CH2OCOC3H7
    CH2OH
    CH2OCOC15H31
    909821/064S
    9.
    CH2OCOC13H27
    CH2OCOC13H27
    CH0OCOC,-Η.,, I i 1 / Jl
    10. H,, C1 cCOOCH^-C-CH-OCOC, .H.,, 31 15 Z j JL Ib Jl
    CH2OCOC15H31
    CH0OCOC1 .,H-ς
    11. H1QCQC00CHo-C-CH0OCO-Vy iy y ζ ι ζ \^—■/
    CH2OCOC11H23
    CH2OCOC17H35
    12. HOCH2-C-CH2OCOC8H17
    CH2OCOC15H31
    13. H3CCOOCH2-C-Ch2OCOCH2COCH3 CH2OCOC21H43
    CH2OCOC17H31
    14.
    CH2OCOC15H31
    5. Fotografischer Film gemäss Anspruch 1, dadurch g e kennzeichnet , dass das hydrophobe Polymer ein Cellulose-Derivat ist.
    6. Fotografischer Film gemäss Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet , dass das Cellulose-Derivat Cellulosetriacetat ist.
    7. Fotografischer Film gemäss Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , dass das Antistatikum ein hochmolekularer Elektrolyt ist.
    O9 8 ? 1 / D 6 h5
    8. Fotografischer Film gemäss Anspruch 1, dadurch g e kennzeichnet, dass die zweite Schicht gebildet wird unter Verwendung eines Beschichtungslösungsmittels, das im wesentlichen nicht die erste Schicht auflöst.
    909821
DE2849962A 1977-11-19 1978-11-17 Fotografisches Aufzeichnungsmaterial Expired DE2849962C2 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13924677A JPS5484720A (en) 1977-11-19 1977-11-19 Photographic film

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE2849962A1 true DE2849962A1 (de) 1979-05-23
DE2849962C2 DE2849962C2 (de) 1983-09-01

Family

ID=15240846

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE2849962A Expired DE2849962C2 (de) 1977-11-19 1978-11-17 Fotografisches Aufzeichnungsmaterial

Country Status (3)

Country Link
US (1) US4255515A (de)
JP (1) JPS5484720A (de)
DE (1) DE2849962C2 (de)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2931460A1 (de) * 1978-08-07 1980-02-14 Konishiroku Photo Ind Photographisches aufzeichnungsmaterial
EP0262385A3 (de) * 1986-09-03 1989-08-02 Hoechst Aktiengesellschaft Antistatischer Überzug für Polyesteroberflächen

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5941178B2 (ja) * 1979-12-03 1984-10-05 富士写真フイルム株式会社 写真感光材料
JPS56159640A (en) * 1980-05-13 1981-12-09 Konishiroku Photo Ind Co Ltd Electrophotographic sensitive material
US6004735A (en) * 1998-02-05 1999-12-21 Eastman Kodak Company Stain resistant protective overcoat for imaging elements

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2035015B2 (de) * 1969-07-16 1977-07-21 Konishiroku Photo Industry Co, Ltd, Tokio Photographischer film mit einem schichttraeger, einer lichtempfindlichen halogensilber-gelatine-emulsionsschicht auf der vorderseite des traegers und schutzschichten auf der rueckseite des traegers

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE432945A (de) * 1944-05-02
US3222178A (en) * 1961-10-09 1965-12-07 Eastman Kodak Co Composite film element
US3525621A (en) * 1968-02-12 1970-08-25 Eastman Kodak Co Antistatic photographic elements
US4050934A (en) * 1975-09-22 1977-09-27 Xerox Corporation Electron acceptor monomers and polymers

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2035015B2 (de) * 1969-07-16 1977-07-21 Konishiroku Photo Industry Co, Ltd, Tokio Photographischer film mit einem schichttraeger, einer lichtempfindlichen halogensilber-gelatine-emulsionsschicht auf der vorderseite des traegers und schutzschichten auf der rueckseite des traegers

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2931460A1 (de) * 1978-08-07 1980-02-14 Konishiroku Photo Ind Photographisches aufzeichnungsmaterial
EP0262385A3 (de) * 1986-09-03 1989-08-02 Hoechst Aktiengesellschaft Antistatischer Überzug für Polyesteroberflächen

Also Published As

Publication number Publication date
JPS579057B2 (de) 1982-02-19
DE2849962C2 (de) 1983-09-01
JPS5484720A (en) 1979-07-05
US4255515A (en) 1981-03-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2950287C2 (de) Polymeres Formteil, Verfahren zu seiner Herstellung und seine Verwendung zur Herstellung eines fotografischen Materials
DE2205660C3 (de) Verfahren zum Antistatischausrüsten eines Kunststoffüms oder einer Kunststoffolie
DE2845829A1 (de) Lichtempfindliches fotografisches material mit verbesserten antistatischen beschichtungen
DE1075941B (de) Verfahren zur Verhinderung der elektrostatischen Aufladung an photographischem Material
DE3216840A1 (de) Wasserbestaendiger photographischer traeger
DE2309076A1 (de) Beschichtungsmasse fuer die herstellung von strahlungsempfindlichen aufzeichnungsmaterialien
DE2711239C2 (de)
DE2849962A1 (de) Fotografischer film
DE1284294B (de) Photographisches Aufzeichnungsmaterial mit Gleitschicht
DE2827492A1 (de) Photographischer filmtraeger
DE2144286A1 (de) Lichtempfindliche photographische Materialien
DE3519043A1 (de) Elektrophotographisches aufzeichnungsmaterial
DE1547905A1 (de) Photographischer Film mit antistatischen Eigenschaften
DE2931460C2 (de) Photographisches Aufzeichnungsmaterial
DE2339913A1 (de) Lichtempfindliches fotografisches element
DE1422890A1 (de) Antistatisches photographisches Material und Verfahren zu dessen Herstellung
DE1597543C3 (de) Photographisches Aufzeichnungsmaterial mit Lichthofschutzschicht
DE1772980A1 (de) Lichtempfindliches,photographisches Aufzeichnungsmaterial
DE2211813A1 (de) Lichtempfindliches photographisches Silberhalogenidmaterial mit antistatischen Eigenschaften
DE1447664C3 (de) Verfahren zum antistatischen Schutz von fotografischem Filmmaterial
DE1522438B2 (de) Photographischer film mit antistatischer rueckseitenbeschichtung
DE2414005A1 (de) Antistatisches photographisches material
DE2056361A1 (de) Substrierungsmasse fur Polyester Filmträger
DE2311276A1 (de) Verfahren zur behandlung eines lichtempfindlichen, silberhalogenidhaltigen fotografischen aufzeichnungsmaterials
DE2359553A1 (de) Antistatische photographische materialien

Legal Events

Date Code Title Description
OAP Request for examination filed
OD Request for examination
D2 Grant after examination
8364 No opposition during term of opposition
8339 Ceased/non-payment of the annual fee