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DE2720560A1 - Verbesserte photopolymerisierbare massen fuer die herstellung von druckplatten und reliefformen - Google Patents

Verbesserte photopolymerisierbare massen fuer die herstellung von druckplatten und reliefformen

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DE2720560A1
DE2720560A1 DE19772720560 DE2720560A DE2720560A1 DE 2720560 A1 DE2720560 A1 DE 2720560A1 DE 19772720560 DE19772720560 DE 19772720560 DE 2720560 A DE2720560 A DE 2720560A DE 2720560 A1 DE2720560 A1 DE 2720560A1
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relief
photopolymerizable
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photopolymerizable compositions
monomers
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BASF SE
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    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
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Description

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Verbesserte photopolymerisierbare Massen für die Herstellung von Druckplatten und Reliefformen
Die Erfindung betrifft verbesserte photopolymerisierbare Massen für die Herstellung von Druckplatten und Reliefformen, die überwiegend aus einer Mischung mindestens einer niedermolekularen Verbindung mit mindestens einer olefinisch ungesättigten photopolymerisierbaren Doppelbindung und einem damit verträglichen organischen polymeren Bindemittel bestehen, die zur verbesserten Bildwiedergabe und insbesondere zur verbesserten Ausbildung von Zwischentiefen bei der Reliefformherstellung Zusätze bestimmter organischer Verbindungen in kleiner Menge enthalten.
Photopolymerisierbare Massen für die Herstellung von Druckplatten und Reliefformen sind vielfach beschrieben worden, wobei sowohl flüssige als auch feste Massen verwendet werden können. So beschreibt z.B. die DT-OS 20 40 390 flüssige Harzmassen auf der Basis von Mischungen aus 5 bis 55 Gew.% ungesättigten Monomeren wie Acryl- oder Allylverbindungen und 95 bis 45 Gew„# eines ungesättigten Polyesters, die in bekannten Mengen einen Photoinitiator und einen Inhibitor gegen die thermische Polymerisation enthalten und zur Herstellung von Reliefdruckformen durch bildmäßige Belichtung von Schichten der Massen und anschließendes Auswaschen der unbelichteten Schichtanteile mit einem Entwicklerlösungsmittel dienen. Stellt man z.B. mit solchen bekannten Massen Reliefdruckplatten in den in der Druckindustrie üblichen Reliefstärken von ca. 0,5 bis 1 mm her, so zeigen diese meist nicht die gewünschte scharfe Relieffeinstruktur und oft zu kleine Reliefflankenwinkel.
Es ist bekannt, daß man verbesserte Reliefdruckformen erhalten kann, wenn man bei der Belichtung der Photopolymerplatten durch das bildtragende Negativ gewisse Kunstgriffe anwendet, mit mehrschichtigen Photopolymerschichten arbeitet oder unter der eigentlichen Photopolymerschicht andere Schichten anordnet, die
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die Ausbildung der Reliefformen beeinflussen. Diese Verfahren sind jedoch umständlich.
Der vorliegenden Erfindung lag die Aufgabe zugrunde, durch geringe chemische Zusätze zu photopolymerisierbaren Massen zu erreichen, daß bei der bekannten Herstellung von Reliefformen daraus die Reliefstruktur verbessert wird.
Es wurde nun überraschend gefunden, daß photopolymerisierbare Massen für die Herstellung von Druckplatten und Reliefformen auf der Basis einer einen Photoinitiator enthaltenden Mischung mindestens einer niedermolekularen Verbindung mit mindestens einer olefinisch ungesättigten photopolymerisierbaren Doppelbindung mit mindestens einem damit verträglichen organischen polymeren Bindemittel deutlich verbesserte Reliefstrukturen geben, wenn sie in homogener Verteilung in einer Menge von etwa 0,0001 bis 1 und bevorzugt von 0,0001 bis 0,1 Gew.^, bezogen auf die Gesamtmasse, eine Anthron-Verbindung enthalten. Von ihnen haben sich als besonders geeignet und in kleinsten Mengen wirksam das 9»9'-Dianthronyl und das ΙΟ,ΙΟ'-Bisanthron erwiesen.
Es war überraschend, daß ein Zusatz bereits in kleinster Menge die Ausbildung der gewünschten Reliefformen deutlich verbessert und die photopolymerisierbaren Massen in ihren sonstigen Eigenschaften nicht wesentlich beeinflußt.
Zur besseren Beurteilung der Güte einer Reliefstruktur in verschiedenen Reliefelementen zieht man mit Vorteil die Ausmessung von Zwischentiefen in Rasterfeldern verschiedener Rasterweite und Tonwerte und von negativen Punkten mit 1IOO,um Durchmesser in einer Volltonfläche heran» In Figur 1 ist gezeigt, wie nach der Belichtung einer Schicht L aus einer photopolymerisierbaren Masse mit aktinischem Licht durch ein Negativ N und Entwicklung durch Auswaschen der unpolymerisierten Anteile der Schicht L mit einem Entwicklerlösungsraittel ein Relief mit einer Reliefhöhe hR und den Zwischentiefen t eines Rasters mit einem
-H-
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50 $-igen Tonwert erzeugt wird» Diese Meßgröße für die Zwischentiefe eines Rasters mit einem 50 #-igen Tonwert wird nachstehend als t (50) abgekürzt. In Figur 2 ist das gleiche für einen im Negativ N lichtundurchlässigen Punkt mit einem Durchmesser von 0,4 mm innerhalb einer im Verhältnis dazu großen lichtdurchlässigen Fläche dargestellt, nachstehend "negativer Punkt" genannt, wobei hier die Zwischentiefen mit t (nP^OO) abgekürzt werden. Wie in den nachstehenden Beispielen gezeigt ist, kann mit den erfindungsgemäßen Massen eine gravierende Verbesserung der Zwischentiefen und damit der Ausbildung der Relieffeinstruktur erreicht werden.
Als organisciie polymere Bindemittel für die photopolymerisierbaren Massen für die Herstellung von Druckplatten und Reliefformen kommen die bekannten dafür verwendeten Polymeren in Frage, wobei sie mit den mitverwendeten Monomeren im allgemeinen verträglich und - für den Fachmann selbstverständlich - in den Entwicklerlösungsmxtteln löslich oder dispergierbar sein sollen, um ein Auswaschen der unbelichteten und unvernetzten Anteile einer Schicht L der photopolymerisierbaren Massen nach ihrer bildmäßigen Belichtung zu ermöglichen. Als geeignete polymere optisch gesättigte oder ungesättigte Bindemittel seien genannt lineare Polyamide und besonders alkohollösliche „Copolyamide, wie sie in der FR-PS 1 520 856 beschrieben sind, Cellulosederivate, insbesondere wäßrig-alkalisch auswaschbare Cellulosederivate, Vinylalkohol-Polymere und Polymere und Copolymere von Vinylestern aliphatischer Monocarbonsäuren mit 1 bis 4 C-Atomen, wie von Vinylacetat, mit unterschiedlichem Verseifungsgrad, Polyurethane, Polyätherurethane und Polyesterurethane, und insbesondere Polyesterharze, wie sie insbesondere in der genannten DT-OS 20 40 390 beschrieben sind. Von den durch Umsetzung von ungesättigten und ggf. gesättigten zwei- und ggf. mehrbasischen Carbonsäuren mit Di- und ggf. Polyalkoholen hergestellten Polyestern linearer oder verzweigter Natur sind solche mit einer höheren Säurezahl und insbesondere einer Säurezahl zwischen 75 und I60 bevorzugt, da sie
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in den Massen zu einer guten Dispergierbarkeit oder Löslichkeit in alkalisch-wäßrigen Entwicklerlösungsmitteln führen. Bezüglich der Zusammensetzung und Herstellung von ungesättigten Polyesterharzen sei auf die vorhandene Literatur, z.B. das Buch von H.V. Boenig, Unsaturated Polyesters, Structure and Properties, Amsterdam 1964 verwiesen.
Als polymere Bindemittel sind für die Herstellung von Reliefdruckformen für den Flexodruck auch elastomere Dien-Polymere und -Copolymere wie von Butadien und/oder Isopren geeignet, von denen Blockcopolymeren aus Butadien- und/oder Isopren-Homopolymerblöcken und Polymerblöcken aus Styrol oder <*-Methylstyrol besonders geeignet sind.
Der Gehalt der Mischung an polymerem Bindemittel beträgt im allgemeinen etwa 45 bis 90 und insbesondere 45 bis 80 Gew.Si, bezogen auf die Menge an Polymerem und photopolymerisierbaren Monomeren.
Als niedermolekulare Verbindungen mit mindestens einer olefinisch ungesättigten photopolymerisierbaren Doppelbindung sind die für Photopolymerdruckplatten verwendeten Monomeren besonders geeignet, soweit sie mit den jeweils gewählten polymeren Bindemitteln verträgliche Mischungen bilden und einen Siedepunkt von über 1000C bei Atmosphärendruck haben. Bevorzugt sind Monomere mit zwei- oder mehr olefinisch ungesättigten photopolymerisierbaren Doppelbindungen allein oder deren Mischungen mit Monomeren mit nur einer olefinisch ungesättigten photopolymerisierbaren Doppelbindung, wobei der Anteil der Monomeren mit nur einer Doppelbindung im allgemeinen nur etwa 5 bis 50 Gew.% und bevorzugt 5 bis 30 Gew.% der Gesamtmonomerenmenge beträgt. Die Art der verwendeten Monomeren richtet sich weitgehend nach der Art des mitverwandten polymeren Bindemittels. So sind bei Mischungen mit ungesättigten Polyesterharzen besonders zwei- oder mehr Doppelbindungen enthaltende Allylverbindungen wie Maleinsäuredialkylester, Allylacrylat, Diallylphthalat,
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Trimellithsäuredi- und -triallylester oder Äthylenglykolbisallylcarbonat, sowie Di- und Polyacrylate und -methacrylate geeignet, wie sie durch Veresterung von Diolen oder Polyolen mit Acrylsäure oder Methacrylsäure hergestellt werden können, wie die Di- und Tri(meth)acrylate von Athylenglykol, Diäthylenglykol, Triäthylenglykol, Polyäthylenglykol mit einem Molekulargewicht bis etwa 500, 1,2-Propandiol, 1,3-Propandiol, Neopentylglykol (2,2-Dimethylpropandiol) l^-Butandiol, 1,1,1-Trimethylolpropan, Glycerin oder Pentaerithrit, ferner die Monoacrylate und Monomethacrylate solcher Diole und Polyole, wie z.B„ Athylenglykol-, Di-, Tri- oder Tetraäthylenglykolmonoacrylat, Monomere mit zwei- oder mehr olefinisch ungesättigten Bindungen, die Urethangruppen und/oaer Amidgruppen enthalten, wie die aus aliphatischen Diolen der vorstehend genannten Art, organischen Diisocyanaten und Hydroxyalkyl(meth)acrylaten hergestellten niedermolekularen Verbindungen. Genannt seien auch Acrylsäure, Methacrylsäure sowie deren Derivate wie (Meth)acrylamid, N-Hydroxymethyl(meth)acrylamid oder die (Meth)acrylate von Monoalkoholen mit 1 bis 6 C-Atomenä Mischungen von Allylmonomeren mit Di- oder Polyacrylaten sind sehr geeignet.
Wählt man Mischungen mit Polyamiden als polymere Bindemittel, so eignen sich von den genannten Monomerarten neben den Di- und Polyacrylaten besonders solche, die zusätzlich zu den Doppelbindungen noch Amid- und/ode" Lrethangruppen enthalten wie Derivate von Acrylamiden, z,B„ die Umsetzungsprodukte von 2 Mol N-Hydroxymethylacrylamid mit 1 Mol eines aliphatischen Diols wie Ä'thylenglykol, Xylylenbisacrylamid oder Alkylenbisacrylamide mit 1 bis 8 C-Atomen im Alkylenrest. Für die Herstellung wäßrig-alkalisch entwickelbarer Druckplatten mit Polyvinylalkohol als polymeres Bindemittel eignen sich besonders wasserlösliche Monomere wie z.B. Hydroxyäthyl(meth)acrylat oder Mono- und Di(meth)acrylate von Polyäthylenglykolen mit einem Molekulargewicht von etwa 200 bis 500.
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Die Mengen an den Monomeren oder den Monomeren beträgt im allgemeinen etwa 10 bis 55 und insbesondere 20 bis 55 Gew.*, bezogen auf die Menge an Polymerem und photopolymerisierbaren Monomeren und wird u.a. von ihrer Verträglichkeit mit dem Polymeren und der gewünschten Härte der resultierenden Druckform bestimmt.
Die photopolymerisierbaren Massen enthalten in bekannter Weise in Mengen von 0,01 bis 10 und insbesondere 0,01 bis 3 Gew.?, bezogen auf die genannte Mischung, an Photoinitiatoren, als die praktisch alle Verbindungen geeignet sind, die bei Einwirkung von aktinischem Licht Radikale zu bilden vermögen, die eine Polymerisation auslösen» Als Photoinitiatoren kommen z.B. in Frage Acyloine und Acyloinäther aromatische Diketone und deren Derivate, mehrkernige Chinone, Acidinderivate, Phenazinderivate. Sehr geeignet sind Benzoin- und cL-Hydroxymethylbenzoin sowie deren Alkyläther mit 1 bis 8 C-Atomen wie Benzoin-isopropyläther, <aL-Hydroxymethyl-benzoinmethyläther oder Benzoinmethyläther, Benzilmonoketale wie Benzil-mono-dimethylketal, Benzilmono-methyl-äthyl-ketal, Benzil-mono-methyl-benzylketal oder Benzil-mono-neopentylketal.
Es ist zweckmäßig, den photopolymerisierbaren Massen auch bekannte Inhibitoren gegen die thermische Polymerisation zuzusetzen, wie Hydrochinon, p-Methoxyphenol, Dinitrobenzol, p-Chinon, Methylenblau, ß-Naphthol, N-Nitrosamine wie N-Nitrosodiphenylamin, Phenothiazin, Phosphorigsäureester wie Triphenylphosphit oder die Salze und insbesondere die Alkali- und Aluminiumsalze des N-Nitroso-cyclohexyl-hydroxylamins.
Die Massen können auch weitere übliche Zusätze enthalten wie Weichmacher, gesättigte niedermolekulare Verbindungen mit Amidgruppen, Wachse usw.
Als flüssige photopolymerisierbare Massen, die sich sehr bewährt haben, seien Mischungen genannt aus:
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a) ^5 bis 75 Gew.% eines ungesättigten Polyesters einer Säurezahl von 100 bis 150,
b) 15 bis 25 und insbesondere 10 bis 20 Gew.ie eines mindestens eine Allylgruppe enthaltenden Monomeren mit zwei C-C-Doppelbindungen,
c) 5 bis 25 Gew.% eines Monomeren mit mindestens einer (Meth)-acrylat-Gruppe,
d) 1 bis 10 Gew.? einer gesättigten oder ungesättigten niedermolekularen Verbindung mit mindestens einer Amidgruppe,
e) 0,2 bis 4 Gew.% eines Photoinitiators,
f) 0,003 bis 1 Gew.? eines thermischen Inhibitors und
g) 0,0001 bis 1 und insbesondere 0,0001 bis 0,1 Gew.% 9,9'-Dianthranyl oder ΙΟ,ΙΟ'-Bisanthron.
Die Verarbeitung der photopolymerisierbaren Massen zu Photopolymerdruckplatten, die schichtförmig die Massen als reliefformende Schicht aufweisen, kann in an sich bekannter Weise -erfolgen und ist von der Art der Mischung und davon abhängig, ob die Masse flüssig oder fest ist» Die Verarbeitung der Druckplatten zu Reliefformen erfolgt in bekannter Art durch bildmäßiges Belichten mit aktinischem Licht mit Lichtquellen, die Maxima der Emission im Bereich der Absorption der Photoinitiatoren, im allgemeinen im Bereich von 300 bis 400 nm besitzen oder einen ausreichenden Anteil von Licht dieses Wellenlängenbereiches aufweisen, wie Quecksilbermitteldruckstrahler, aber auch Hoch- und Niederdruckstrahler, oder superaktinische LeuchstoffrÖhren.
Nach der bildmäßigen Belichtung werden die nichtbelichteten Anteile der Schicht in bekannter Art mechanisch entfernt oder
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mit Entwicklerlüsungsmitteln ausgewaschen und die resultierende Druckformen getrocknet, in manchen Fällen zweckmäßigerweise noch voll nachbelichtet.
Die in den folgenden Beispielen und Vergleichsversuchen genannten Teile und Prozente beziehen sich, soweit nicht anders angegeben, auf das Gewicht. Teile verhalten sich zu Volumenteilen wie Kilogramm zu Liter,
Beispiel 1
Zu 650 Teilen eines ungesättigten Polyesters aus Fumarsäure, Trimellitsäureanhydrid und Diäthylenglykol mit einer Säurezahl von 140 werden ^00 Teile eines Gemisches gleicher Mengen von Teträthylenglykoldimethacrylat und Diallylphthalat, 55 Teile Methacrylamid, 2 Teile Hydrochinon und 8 Teilen Benzoinäthyläther zugemischt. Der resultierenden flüssigen Masse werden 15 ppm Bisanthron zugemischt„
In an sich bekannter Art werden aus der Masse Reliefdruckformen hergestellt ο Hierzu werden die flüssigen schichtförmigen Massen auf mit Haftlack versehene Stahlbleche als Träger gegossen, mit einem Rakel Schichtstärken von 800 ,um eingestellt und danach die Schichten unter Vermeidung von Lufteinschlüssen mit einer 9/Um starken transparenten Polyesterfolie abgedeckt. Die flüssigen Harzschichten werden durch auf die Polyesterfolie aufgelegte Negative mit einer handelsüblichen UV-Mitteldrucklampe bildmäßig belichtet. Negative und Polyesterfolien werden entfernt und danach die unbelichteten Anteile der Massenschichten mit einer 0,5 %-igen wäßrigen Soda-Lösung ausgewaschen. Die resultierenden Reliefformen werden getrocknet und jeweils 2 Minuten nachbelichtet.
Die Auswertung der hergestellten Reliefstrukturen, die in Tabelle 1 wiedergegeben ist, zeigt die vorteilhafte Ausbildung
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klebfreier, scharf ausgebildeter Flanken mit vorteilhaften Zwischentiefen eines Rasters mit einem 50 %-igen Tonwert (t (50)) und eines negativen Punkts (t (nP400)).
Vergleichsversuch 1
Es wird genau wie in Beispiel 1 verfahren, jedoch der Zusatz von 15 ppm Bisanthron unterlassen. Die Auswertung der Reliefstruktur ist in Tabelle 1 wiedergegeben und zeigt eine unbefriedigende Ausbildung der Zwischentiefen t (50) und t (nP400) sowie der Flanken=,
Tabelle 1
Auswertung der Reliefstrukturen, hergestellt gemäß Beispiel 1 und Vergleichsversuch 1
Mindestbelichtungszeit für
Raster mit 3 iÜ-igem Tonwert		 Beispiel 1 Vgl ο versuch 1
Zwischentiefe für Raster mit
50 #-igem Tonwert t (50)
Z 		20 Sekunden 20 Sekunden
Zwischentiefe des negativen
Punktes 0,4 mm 0 tr,(nP400)		 155 /Um 71 /Um
Flanken 350 /um 48 /um
klebfrei,
scharf
ausgebildet		 klebrig,
unscharf
ausgebildet
Beispiel 2
Eine Lösung von 167 Teilen eines Polystyrol-Polybutadien-Zweiblock(co)polymeren mit einem Gehalt von 20 % an einpolymerisierten Styrol-Einheiten, 0,2 Teilen 2,6-Di-tert-butyl-4-methylphenol, 10 Teilen Hexandiol-1,6-diacrylat, 20 Teilen Laurylacrylat, 2 Teilen von ot-Methylolbenzoinmethyläther und 0,2 Teilen Hydrochinonmonomethyläther in 220 Volumenteilen Tetrahydrofuran
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wird mit 75 ppm Bisanthron, bezogen auf den Peststoffgehalt, vermischt und danach mittels eines Rakels auf eine mit einem Haftvermittler versehene 125 ,um starke Polymerfolie aufgegossen und getrocknet. Die resultierende Photopolymerdruckplatte mit einer 67O .um dicken photopolymerisierbaren Schicht wird bildmäßig belichtet und in einem Sprühwascher mit einem Trichloräthylen-Isopropanol-Gemisch entwickelt. Die Ergebnisse der Auswertung der Reliefstrukturen sind in Tabelle 2 wiedergegeben. Bei nicht verlängerter Mindestbelichtungszeit bildet sich eine vorteilhafte Zwischentiefe aus»
Vergleichsversuch 2
Es wird genau wie in Beispiel 2 verfahren, jedoch die Zumischung von 75 ppm Bisanthron unterlassen. Die Auswertung der Reliefstruktur ist in Tabelle 2 wiedergegeben und zeigt eine unzureichende Ausbildung der Zwischentiefen t (50) und t (nPiOO).
Z Z
Tabelle 2
Auswertung der Reliefstrukturen, hergestellt gemäß Beispiel 2 und Vergleichsversuch 2
Mindestbelichtungszeit für
Raster mit 3 /S-igem Tonwert		 Beispiel 2 Vgl.versuch 2
Zwischentiefe für Raster mit
50 %-igem Tonwert t (50)
Z		 12 Minuten 12 Minuten
Zwischentiefe des negativen
Punktes 0,4 mm (Z) t (nP400)
Z		 70 /um 45 /Um
125 /um 65 ,um
Beispiel 3
Zu 710 Teilen eines ungesättigten Polyesters aus Fumarsäure, Adipinsäure, Trimellithsäureanhydrid und 1,2-Propylenglykol mit
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einer Säurezahl von 105 werden 196 Teile Nonaäthylenglykoldiacrylat, 64 Teile Acrylamid, 185 Teile Acetoxyäthylmethacrylat, 8 Teile Benzoinäthyläther und 1 Teil Hydrochinonmonomethyläther zugemischt. Die resultierende flüssige Phase wird mit 33 ppm 9,9'-Dianthronyl versetzt.
Die Reliefplatten werden wie in Beispiel 1 beschrieben hergestellt. Ihre Auswertung ergeben die in Tabelle 3 aufgeführten Ergebnisse.
Vergleichsversuch 3
Es wird wie in Beispiel 3 verfahren, jedoch unterbleibt die Zumischung des 9>9'-Dianthronyls. An den damit hergestellten Reliefplatten werden die in Tabelle 3 angegebenen Werte gemessen.
Tabelle 3
Auswertung der Reliefstrukturen, hergestellt gemäß Beispiel 3 und Vergleichsversuch 3
Mindestbelichtungszeit für
Raster mit 3 i&-igem Tonwert		 Beispiel 3 Vgl.versuch 3
Zwischentiefe für Raster mit
50 £-igem Tonwert t (50)
Z		 30 Sekunden 30 Sekunden
Zwischentiefe des negativen
Punktes 0,4 mm 0 t (nP400)		 115 /Um 51 /Um
240 7um 42 /um
Beispiel 4
Zu 403 Teilen eines handelsüblichen alkohollöslichen Copolyamide (Ultramid 1 C) in Lösung werden 212 Teile Bis-(methylolaerylamido)· glykoläther, 85 Teile n-Butylbenzolsulfonamid, 1,5 Teile Kalium salz des N-Nitrosocyclohexyl-hydroxyl-amins und 8 Teile Benzoin-
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tetrahydropyranyläther zugemischt. Die Mischung wird mit 70 ppm ΙΟ,ΙΟ'-Bisanthron versetzt.
Aus der Lösung werden nach bekannten Verfahren Polymerschichten auf einem Träger hergestellt, die nach der wie in Beispiel 1 durchgeführten bildmäßigen Belichtung und ihrer Entwicklung mit Isopropanol-Wasser-Gemisch die in Tabelle 4 angegebenen Meßwerte argeben.
Vergleichsversuch 4
Es werden Platten wie in Beispiel 4 hergestellt, jedoch, ohne den ΙΟ,ΙΟ'-Bisanthron-Zusatz. Tabelle 4 enthält die daran gefundenden Ergebnisse.
Tabelle 4
Auswertung der Reliefstrukturen, hergestellt gemäß Beispiel 4 und Vergleichsversuch 4
Mindestbelichtungszeit für
Raster mit 3 %-igem Tonwert		 Beispiel 4 Vgl.versuch 4
Zwischentiefe für Raster
(60L/cm) mit 50 #-igem
Tonwert t (50)		 2,2 Minuten 2,0 Minuten
Zwischentiefe des negativen
Punktes 0,4 mm 0 t (nP400)		 28 .um 14 /um
110 /um 25 /um
BASF Aktiengesellschaft
Zeichn.
809845/0*8*
L e e
r s e ι t e

Claims (4)

BASF Aktiengesellschaft 2720560 Unser Zeichen: O.Z. 32 573 W/ML 6700 Ludwigshafen, den 06.05.1977 Patentansprüche
1. Photopolymerisierbare Massen für die Herstellung von Druckplatten und Reliefformen auf der Basis einer einen Photoinitiator enthaltenden Mischung mindestens einer niedermolekularen Verbindung mit mindestens einer olefinisch ungesättigten photopolymerisierbaren Doppelbindung mit mindestens einem damit verträglichen organischen polymeren Bindemittel, dadurch gekennzeichnet, daß sie in homogener Verteilung in einer Menge von etwa 0,0001 bis 1 Gew.? eine Anthron-Verbindung enthalten»
2. Photopolymerisierbare Masse nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie als Anthron-Verbindung 9,9'-Dianthronyl enthalte
3. Photopolymerisierbare Masse nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie als Anthron-Verbindung ΙΟ,ΙΟ'-Bisanthron enthält.
4. Photopolymerisierbare Masse nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Menge der Anthron-Verbindung 0,0001 bis 0,1 Gew.JS beträgt.
!09/77 809845/048* _2_
ORIGINAL-INSPECTED
DE19772720560 1977-05-07 1977-05-07 Verbesserte photopolymerisierbare massen fuer die herstellung von druckplatten und reliefformen Granted DE2720560A1 (de)

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DE19772720560 DE2720560A1 (de) 1977-05-07 1977-05-07 Verbesserte photopolymerisierbare massen fuer die herstellung von druckplatten und reliefformen
FR7812893A FR2389923B1 (de) 1977-05-07 1978-05-02
JP53052430A JPS6032174B2 (ja) 1977-05-07 1978-05-02 版木及びレリ−フ版木を製造するための改良された光重合可能な物質
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