DE2012221A1 - Oxyphosphorane enthaltende photopolymerisierbare Massen - Google Patents
Oxyphosphorane enthaltende photopolymerisierbare MassenInfo
- Publication number
- DE2012221A1 DE2012221A1 DE19702012221 DE2012221A DE2012221A1 DE 2012221 A1 DE2012221 A1 DE 2012221A1 DE 19702012221 DE19702012221 DE 19702012221 DE 2012221 A DE2012221 A DE 2012221A DE 2012221 A1 DE2012221 A1 DE 2012221A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- photopolymerizable
- percent
- weight
- photopolymerizable compositions
- oxyphosphoranes
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 38
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 16
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 12
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 claims description 9
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 9
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 claims description 9
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 7
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 5
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 claims description 4
- 229920001059 synthetic polymer Polymers 0.000 claims description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims 1
- -1 aliphatic alcohols Chemical class 0.000 description 20
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 8
- JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N epsilon-caprolactam Chemical compound O=C1CCCCCN1 JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 6
- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 6
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 5
- 239000010408 film Substances 0.000 description 5
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 5
- 150000003951 lactams Chemical class 0.000 description 5
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C=C INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical group N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229940123973 Oxygen scavenger Drugs 0.000 description 4
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 4
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 4
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VHRGRCVQAFMJIZ-UHFFFAOYSA-N cadaverine Chemical compound NCCCCCN VHRGRCVQAFMJIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 4
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 4
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 4
- HVLLSGMXQDNUAL-UHFFFAOYSA-N triphenyl phosphite Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 HVLLSGMXQDNUAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OFRPDYZEDQPSGV-UHFFFAOYSA-N C1(=CC=CC=C1)C(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1.P(OC)(OC)OC Chemical compound C1(=CC=CC=C1)C(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1.P(OC)(OC)OC OFRPDYZEDQPSGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OAKIQKUEERYNIC-UHFFFAOYSA-N C1(=CC=CC=C1)C(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1.P(OC1=CC=CC=C1)(OC1=CC=CC=C1)OC1=CC=CC=C1 Chemical compound C1(=CC=CC=C1)C(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1.P(OC1=CC=CC=C1)(OC1=CC=CC=C1)OC1=CC=CC=C1 OAKIQKUEERYNIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QSJXEFYPDANLFS-UHFFFAOYSA-N Diacetyl Chemical group CC(=O)C(C)=O QSJXEFYPDANLFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 3
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 3
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 3
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- TYFQFVWCELRYAO-UHFFFAOYSA-N suberic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCC(O)=O TYFQFVWCELRYAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MVDKKZZVTWHVMC-UHFFFAOYSA-N 2-hexadecylpropanedioic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCC(C(O)=O)C(O)=O MVDKKZZVTWHVMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 2-naphthol Chemical compound C1=CC=CC2=CC(O)=CC=C21 JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N Formamide Chemical compound NC=O ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- WURBFLDFSFBTLW-UHFFFAOYSA-N benzil Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1 WURBFLDFSFBTLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 2
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000011010 flushing procedure Methods 0.000 description 2
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 2
- CIZZAGVXFHLAPP-UHFFFAOYSA-N hexanedioic acid;methane Chemical compound C.OC(=O)CCCCC(O)=O CIZZAGVXFHLAPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical class CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002763 monocarboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- PEZVWXXAUZTXJR-UHFFFAOYSA-N n-[[3-[(prop-2-enoylamino)methyl]phenyl]methyl]prop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)NCC1=CC=CC(CNC(=O)C=C)=C1 PEZVWXXAUZTXJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 2
- AQSJGOWTSHOLKH-UHFFFAOYSA-N phosphite(3-) Chemical class [O-]P([O-])[O-] AQSJGOWTSHOLKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N phosphorous acid Chemical compound OP(O)O OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 2
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 2
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 2
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 2
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 2
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOAHJDHKFWSLKE-UHFFFAOYSA-N 1,2-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC=CC1=O WOAHJDHKFWSLKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AYCHMDFSAXFEEI-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenylethane-1,2-dione triethyl phosphite Chemical compound C1(=CC=CC=C1)C(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1.P(OCC)(OCC)OCC AYCHMDFSAXFEEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 1,3-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC(N)=C1 WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWGJDPKCLMLPJW-UHFFFAOYSA-N 1,8-diaminooctane Chemical compound NCCCCCCCCN PWGJDPKCLMLPJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYBFGAFWCBMEDG-UHFFFAOYSA-N 1-[3,5-di(prop-2-enoyl)-1,3,5-triazinan-1-yl]prop-2-en-1-one Chemical compound C=CC(=O)N1CN(C(=O)C=C)CN(C(=O)C=C)C1 FYBFGAFWCBMEDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJELTSYBAHKXRW-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-triallyloxy-1,3,5-triazine Chemical compound C=CCOC1=NC(OCC=C)=NC(OCC=C)=N1 BJELTSYBAHKXRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TURITJIWSQEMDB-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-[(2-methylprop-2-enoylamino)methyl]prop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NCNC(=O)C(C)=C TURITJIWSQEMDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMRCTEPOPAZMMN-UHFFFAOYSA-N 2-undecylpropanedioic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(C(O)=O)C(O)=O WMRCTEPOPAZMMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTZQJVGOFCCDQA-UHFFFAOYSA-N 3-methylhexane-1,6-diamine Chemical compound NCCC(C)CCCN LTZQJVGOFCCDQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 4,4'-diaminodiphenylmethane Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1CC1=CC=C(N)C=C1 YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZIHTWJGPDVSGE-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-aminocyclohexyl)methyl]cyclohexan-1-amine Chemical compound C1CC(N)CCC1CC1CCC(N)CC1 DZIHTWJGPDVSGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFFRSDWQMJYQNE-UHFFFAOYSA-N 6-azaniumylhexylazanium;hexanedioate Chemical compound [NH3+]CCCCCC[NH3+].[O-]C(=O)CCCCC([O-])=O UFFRSDWQMJYQNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 101000718623 Bacillus subtilis (strain 168) RNA polymerase sigma-K factor Proteins 0.000 description 1
- KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-N Carbamic acid Chemical class NC(O)=O KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001006 Constantan Inorganic materials 0.000 description 1
- 101001062993 Escherichia coli (strain K12) RNA polymerase sigma factor FliA Proteins 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N Hydroxylamine Chemical compound ON AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHWNWJKBPDFINM-UHFFFAOYSA-N Laurolactam Chemical compound O=C1CCCCCCCCCCCN1 JHWNWJKBPDFINM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N N-Methylolacrylamide Chemical compound OCNC(=O)C=C CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101001023209 Vibrio parahaemolyticus serotype O3:K6 (strain RIMD 2210633) RNA polymerase sigma factor for flagellar operon Proteins 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GKXVJHDEWHKBFH-UHFFFAOYSA-N [2-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=CC=C1CN GKXVJHDEWHKBFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDLQZKYLHJJBHD-UHFFFAOYSA-N [3-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=CC(CN)=C1 FDLQZKYLHJJBHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010539 anionic addition polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004984 aromatic diamines Chemical class 0.000 description 1
- YDLSUFFXJYEVHW-UHFFFAOYSA-N azonan-2-one Chemical compound O=C1CCCCCCCN1 YDLSUFFXJYEVHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000013256 coordination polymer Substances 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 125000004989 dicarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 125000005594 diketone group Chemical group 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000004049 embossing Methods 0.000 description 1
- XJELOQYISYPGDX-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2-chloroacetate Chemical compound ClCC(=O)OC=C XJELOQYISYPGDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- PWSKHLMYTZNYKO-UHFFFAOYSA-N heptane-1,7-diamine Chemical compound NCCCCCCCN PWSKHLMYTZNYKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000004922 lacquer Substances 0.000 description 1
- 229940018564 m-phenylenediamine Drugs 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 229960000907 methylthioninium chloride Drugs 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- FBDUZJOYBNMUHM-UHFFFAOYSA-N n'-ethyl-n'-methylhexane-1,6-diamine Chemical compound CCN(C)CCCCCCN FBDUZJOYBNMUHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N n,n'-methylenebisacrylamide Chemical compound C=CC(=O)NCNC(=O)C=C ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNTMQTKDNSEIFO-UHFFFAOYSA-N n-(hydroxymethyl)-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NCO DNTMQTKDNSEIFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXCJGJYAOVCKLO-UHFFFAOYSA-N n-cyclohexyl-n-hydroxynitrous amide Chemical compound O=NN(O)C1CCCCC1 LXCJGJYAOVCKLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AOHJOMMDDJHIJH-UHFFFAOYSA-N propylenediamine Chemical compound CC(N)CN AOHJOMMDDJHIJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N putrescine Chemical compound NCCCCN KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N pyrrolidin-2-one Chemical compound O=C1CCCN1 HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 125000000467 secondary amino group Chemical group [H]N([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000011877 solvent mixture Substances 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- IUTCEZPPWBHGIX-UHFFFAOYSA-N tin(2+) Chemical class [Sn+2] IUTCEZPPWBHGIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTTGYFREQJCEML-UHFFFAOYSA-N tributyl phosphite Chemical compound CCCCOP(OCCCC)OCCCC XTTGYFREQJCEML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDZBKCUKTQZUTL-UHFFFAOYSA-N triethyl phosphite Chemical compound CCOP(OCC)OCC BDZBKCUKTQZUTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYTQBVOFDCPGCX-UHFFFAOYSA-N trimethyl phosphite Chemical compound COP(OC)OC CYTQBVOFDCPGCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QOPBTFMUVTXWFF-UHFFFAOYSA-N tripropyl phosphite Chemical compound CCCOP(OCCC)OCCC QOPBTFMUVTXWFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ILLOBGFGKYTZRO-UHFFFAOYSA-N tris(2-ethylhexyl) phosphite Chemical compound CCCCC(CC)COP(OCC(CC)CCCC)OCC(CC)CCCC ILLOBGFGKYTZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNGANTDNNWGOIO-UHFFFAOYSA-N tris(hydroxymethyl) phosphite Chemical compound OCOP(OCO)OCO ZNGANTDNNWGOIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920006337 unsaturated polyester resin Polymers 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N urea group Chemical group NC(=O)N XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/029—Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Description
Unser Zeichen: O.Z. 26 669 W/Pä
6700 Ludwigshafen, 13. 3. 1970
Die Erfindung betrifft photopolyraerisierbare Massen auf der Basis
von photopolymerisierbaren äthylenisch ungesättigten Verbindungen/ die als Photoinitiatoren und/oder Sauerstoff-Fänger Oxyphosphorane
enthalten.
Es ist bekannt, z. B. Reliefformen für Druckzwecke herzustellen,
indem man Platten oder Folien aus durch Belichtung vernetzbaren Gemischen von löslichen hochpolymeren Substanzen, wie Polyamiden, i
mit ungesättigten Monomeren, die überwiegend mehr als eine photopolymerisierbare
äthylenisch ungesättigte Doppelbindung enthalten, und Photoinitiatoren durch eine Vorlage belichtet und die unbelichteten
Stellen danach mit geeigneten Lösungsmitteln für die unbelichtete Mischung bis zu der gewünschten Tiefe des Reliefs
entfernt. .
Die Lichtempfindlichkeit solcher photopolymerisierbarer Massen
in den Platten, d. h. ihre Eigenschaft, bei der Einwirkung von
Licht an den belichteten Stellen in den unlöslichen Zustand überzugehen,
hängt weitgehend von der Konzentration der durch das Licht aus dem Photoinitiator gebildeten Radikale ab. Diese Primärradikale werden jedoch durch anwesenden molekularen Sauerstoff , ™
bevorzugt abgefangen. Daher nimmt die Lichtempfindlichkeit der
photopolymerisierbaren Massen beim Lagern langsam ab, da trotz Vorsichtsmaßnahmen eine langsame Diffusion des Sauerstoffs in die
photopolymerisierbare Masse, z. B. in das Plattenmaterial, nicht
verhindert werden kann.
Für die Praxis resultiert hieraus für viele Verwendungen die Schwierigkeit, daß die Lichtempfindlichkeit des zu verarbeitenden
photopolymerisierbaren Materials stets vor der Verarbeitung neu ermittelt werden muß, da z, B. bei der Druckplattenherstellung
bei einer Unterbelichtung kein genügend hartes Druckrelief ent- '
steht. Hierzu ist es erforderlich, den gesamten Entwicklungsprozeß
156/68 tiem/m*
- 2 - O.Z. 26 669
des Materials durchzuführen, um die für die erniedrigte Lichtempfindlichkeit
notwendige Belichtungszeit experimentell zu ermitteln. Diese Prüfung ist zeitraubend und bringt, da in den
meisten Fällen Versuchsreihen erforderlich sind, einen nicht unerheblichen Materialverschleiß mit sich.
Bisher wurde in nicht befriedigender Art versucht, durch Zusatz von Substanzen, wie Zinn(II)-salzen bzw. Triphenylphosphin, diesen
unerwünschten Sauerstoffeffekt zu verringern.
Es wurde nun gefunden, daß sich eine wesentliche Verbesserung mit photopolymerisierbaren Massen mit äthylenisch ungesättigten
Monomeren erzielen läßt, denen Oxyphosphorane zugesetzt wurden.
Gegenstand der Erfindung sind somit photopolymerisierbare Massen, die photopolymerisierbare ungesättigte monomere Verbindungen und
vorzugsweise ein Polymeres als Bindemittel enthalten, die einen Gehalt von 0,001 bis 10 Gewichtsprozent der photopolymerisierbaren
Masse eines Oxyphosphorans aufweisen.
Die Oxyphosphorane, die leicht aus ortho-Chinonen bzw. <X -Dlketonen
und Triaryl- oder Trialkylphosphit hergestellt werden können (vgl. P. Ramirez und N. B. Desen, J. Amer. Chem. Soc. 8j? (i960)
2652), wirken hierbei als Photoinitiatoren als auch als Sauerstoff-Fänger.
Sie werden durch molekularen Sauerstoff in das entsprechende ortho-Chinon bzw. Diketon und Triaryl- bzw. Trialkylphosphat
gespalten. Auf diese Weise wird die Lichtempfindlichkeit der Massen durch Luftsauerstoff nicht nur nicht vermindert, sondern sogar
erhöht. Da die beim Zerfall der Oxyphosphorane freiwerdenden Dicarbonylverblndungen
die Absorptionskante der lichtempfindlichen Masse bathochrom verschiebt, wird diese lichtempfindlicher. Der
Zusatz von Oxyphosphoranen, die als Initiatoren und Sauerstoff-Fänger (zusammen mit anderen Photoinitiatoren wirken sie primär
als Sauerstoff-Fänger) wirken, verkürzt somit die Belichtungszelten
der Oxyphosphorane enthaltenden Platten, Lacke, Folien oder Filme aus den photopolymerisierbaren Massen, zudem verhindern sie eine
unerwünschte Verlängerung der Belichtungszeiten der diese Stoffe enthaltenden photopolymerisierbaren Massen über einen bestimmten
Zeltraum.
109839/1724 " 5 -
- 5 - O. Z. 26 669
Die zugesetzte Menge an Oxyphosphoranen liegt im Bereich von
O,00Γ bis 10,0, bevorzugt von 0,1 bis 5 Gewichtsprozent, bezogen
auf das Gewicht der photopolymerisierbaren Schicht.
Geeignete Oxyphosphorane sind besonders die Addukte von <*" -Diketonen,
wie Diacetyl, Phenanthrenehinon oder Benzil mit Triaryl-
oder Trialkylphosphiten, wie Triphenylphosphit, Trimethylphosphit,
Triäthylphosphit, Tripropylphosphit, Tributylphosphit, Trlamylphosphit
oder Tri-2-äthylhexylphosphit. Auch Phosphite mit verschiedenen Resten und Gemische von verschiedenen Oxyphosphoranen
sind verwendbar.
Als photopolymerisierbare äthylenisch ungesättigte monomere Ver-
bindungen kommen die üblichen äthylenisch ungesättigten Monomeren |j
in Präge, die für sich oder-in Gegenwart eines Photoinitiators
photopolymerisiert werden können. Als Monomere, die in Verbindung
mit ungesättigten Polyestern in Form der bekannten ungesättigten Polyesterharze insbesondere für die Herstellung von Überzügen
geeignet sind, seien Styrol, Acrylate und Methacrylate von ein- und zweiwertigen aliphatischen Alkoholen mit 1 bis 12 C-Atomen,
Acrylsäure, Methacrylsäure bzw. deren Amide genannt.
Im Fall der Verwendung der photopolymerisierbaren Massen zur Herstellung
von Reliefformen für Druckzwecke ist es bevorzugt, Monomere
mit mindestens zwei photopolymerisierbaren äthylenisch ungesättigten Doppelbindungen zu verwenden; Sie können in untergeord- ,.*
neten Mengen, d. h. in Mengen von unter- 50 Gewichtsprozent, bevor- ™
zugt unter 25 Gewichtsprozent, durch Monomere mit nur einer äthylenisch ungesättigten Doppelbindung ersetzt sein, falls eine solche
Modifikation der Massen gewünscht ist. Recht geeignete Monomere mit mindestens zwei äthylenisch ungesättigten Doppelbindungen sind,
besonders bei der Anwendung im Gemisch mit Polyamiden als polymere
Bindemittel, sind solche, die einen Siedepunkt von Über 100 0C
bei Normaldruck aufweisen und zu mindestens 20 % mit mitverwendeten
polymeren Bindemitteln verträglich sind. Sehr geeignete Mono^
mere enthalten neben den Doppelbindungen noch Amidgruppen^ wie
von der Acryl- und/oder Methacrylsäure abgeleitete Amide. Genannt seien die Alkylen-bis-CmethOacrylamide, wie Methylen-bis-acrylamid,
Methylen-bis-rnethacrylamid, die Bis-acrylamide, Bis-meth-
1098 39/17 2 4 . " 4 "
- 4 - O.Z. 26 669
acrylamide von aliphatischen, cycloaliphatischen und aromatischen
Di- oder Polyaminen mit 2 bis 12 C-Atomen, wie von Äthylendiamin,
Propylendiamin, Butylendiamin, Pentamethylendiamin, Hexamethylendiamin, Octamethylendiamin, Xylylendiamin sowie ferner von anderen
Diaminen, von Tri- bzw. Polyaminen, die auch verzweigt und durch Heteroatome, wie Sauerstoff-, Stickstoff- oder Schwefelatome
unterbrochen sein können. Sehr geeignet sind Diäther aus 1 Mol eines aliphatischen Diols oder Polyols und 2 Mol N-Methylol-(methacrylamid.
Gut geeignet sind auch photopolymerisierbare Monomere, die, gegebenenfalls neben Amidgruppen, noch Urethan- oder Harnstoffgruppen
enthalten, wie die Umsetzungsprodukte von Mono-(meth)-acrylaten von aliphatischen Diolen mit Diisocyanaten oder
die entsprechenden Umsetzungsprodukte von Mono-(meth)-acrylamiden von Diaminen mit Diisocyanaten. Von Stickstoff enthaltenden Monomeren
sind ferner geeignet Triacrylformal (1.3.5-Triacryloylhexahydro-s-triazin)
oder Triallylcyanurat. Weiterhin geeignet sind die Di-, Tri- oder Tetra-acrylate oder Methacrylate von zwei
oder mehrwertigen Alkoholen und Phenolen, z. B. Di- und Triäthylenglykol-di(meth)acrylat.
Die Verwendung bi- oder mehrfunktioneller polymerisierbarer Monomerer ist jedoch nicht auf die oben genannte
Auswahl begrenzt. Sie schließt auch andere Monomere mit mindestens zwei polymerisierbaren Doppelbindungen ein, sofern diese
zu mindestens 20 % mit den gegebenenfalls mitverwendeten polymeren
Bindemitteln verträglich sind, was sich durch einen einfachen Handversuch leicht feststellen läßt.
Die Monomeren mit mehr als einer polymerisierbaren olefinischen Doppelbindung können in photopolymerisierbaren Massen, die zur Herstellung
von Reliefformen dienen sollen, in untergeordneter Menge,
bevorzugt in einer Menge von weniger als JO Gewichtsprozent der
Gesamtmonomerenmenge, durch Monomere mit nur einer polymerisierbaren olefinischen Doppelbindung ersetzt sein, wie aromatische
Kohlenwasserstoffe, z.B. Styrol oder Vinyltoluol, Acrylamide oder Methacrylamide und deren Substitutionsprodukte, wie N-Methylol-(meth)acrylamid
oder deren Äther oder Ester oder Monoester von olefinisch ungesättigten Carbonsäuren mit 3 bis 5 Kohlenstoffatomen
und aliphatischen Di- oder Polyolen, z. B. Mono(meth)acrylate von
Sthylenglykol, Diäthylenglykol, Triäthylenglykol, Glycerin, 1,1,1-Trimethylolpropan,
oder 1,4-Butandiol. Die Auswahl hängt u. a. von
109839/1724 " 5 ■
- 5 - O.ζ...26 669
der Verwendungsart der lichtempfindlichen bzw. durch Photopolymerisation härtbaren Mischungen ab»
■Sehr geeignete photopolymerisierbare bzw. härtbare Massen, die
zur Herstellung von Re lief formen besonders geeignet" sind, enthalten
10 bis 50 und insbesondere 20 bis 40-Gewichtsprozent an Monomeren
und 90 bis 50 und insbesondere 80 bis 60 Gewichtsprozent an
festen Polymeren, wie löslichen Polyamiden als Bindemittel.
Als feste Polymere, die in den photopolymerisierbaren Massen, insbesondere den lichtempfindlichen Schichten, wie Platten, Filme
oder Pollen, enthalten sein können, sind die festen, in organischen Lösungsmitteln löslichen synthetischen und halbsynthetischen
Polymeren geeignet, die zur Herstellung von photopolymerisierbaren Schichten, Insbesondere für die Herstellung von Reliefformen für
Druckzwecke, bekannt bzw. üblich sind. So z„ B. die in der US-Patentschrift
2 760 863 aufgeführten Polymeren. Genannt seien Vinylpalymerisate, wie Polyvinylchlorid, Vinylidenchlorid-Polymerisate,
gegebenenfalls partiell verseifte Copolymere aus Vinylchlorid
und Vinylestern von Monocarbonsäuren, Polymere aus überwiegenden Mengen von olefinisch ungesättigten Carbonsäuren mit .5
bis 5 Kohlenstoffatomen und/oder deren Estern und/oder Amiden, z. B. von Acrylsäure, Methacrylsäure und deren Estern mit
Alkanolen mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen, von Acrylamid oder Methacrylamid.
Auch Polymere auf der Basis von Styrol oder Vinylestern von Monocarbonsäuren mit 2 bis 11 Kohlenstoffatomen, wie von g
Vinylacetat und Vinylchloracetat, sind geeignet. Genannt seien
auch die Polymeren auf Basis von Methacryl- und Acrylsäuremonoester von aliphatischen Diolen und' PoIyölen, wie von A'thylenglykol,
1,4-Butandiol oder Glycerin. Schließlich können auch lösliche
Cellulosederivate, Polyester und Polyäther verwendet werden.
Besonders geeignete Polymere für die erfindungsgemäßen Massen
sind dies in üblichen organischen und insbesondere alkoholischen
Lösungsmitteln löslichen linearen synthetischen Polyamide mit wiederkehrenden Amidgruppen in der Molekülhauptketbe. Von ihnen werden
Mischpolyamide, die in üblichen Lösungsmitteln oder Lösungsmittelgemischeri,
wie in niederen aliphatischen Alkoholen, Alkohol-Wasser-Gemisöhen
oder Gemischen von Alkoholen mit anderen -Lösungs-
\ ' ' 1 0 9 8 3 8 /1 7-2 4 ■ " 6 "
- 6 - O.Z. 26 669
mitteln, ζ. B. Benzol-Alkohol-Wasser-Gemische, oder in Ketonen,
Estern oder aromatischen Kohlenwasserstoffen löslich sind, bevorzugt. Dies sind z. B. Mischpolyamide, die in üblicher Weise durch
Polykondensation oder Polymerisation, z. B. aktivierte anionische Polymerisation, aus zwei oder mehreren Lactamen mit 5 bis 13 Ringgliedern
hergestellt worden sind. Solche Lactame sind beispielsweise Pyrrolidon, Caprolactam, önantholactam, Capryllactam, Laurinlactam
bzw. entsprechende C-substituierte Lactame, wie C-Methyl-£- caprolactam, £-Äthyl-£-caprolactam oder i-Äthylönanthlactam. Anstelle
der Lactame können die ihnen zugrundeliegenden Aminocarbonsäuren polykondensiert worden sein. Weitere geeignete Mischpolyamide
sind Polykondensationsprodukte aus Salzen vom Typ Diamin/ Dicarbonsäure, die aus mindestens drei polyamidbildenden Ausgangs-
™ stoffen hergestellt worden sind. Hierfür geeignete Dicarbonsäuren
bzw. Diamine sind bevorzugt aliphatische Dicarbonsäuren mit 4 bis 20 Kohlenstoffatomen, wie Adipinsäure, Korksäure, Sebacinsäure,
Dodecandicarbonsäure, sowie entsprechende Substitutionsprodukte,
wie <rt, oc -Diäthyladipinsäure, oC-Äthylkorksäure, Heptadecandicarbonsäure-1,8
oder Heptadecandicarbonsäure-1,9» bzw. deren Gemische sowie aliphatische oder aromatische Ringsysteme enthaltende
Dicarbonsäuren. Geeignete Diamine sind besonders aliphatische oder cycloaliphatische Diamine mit 2 primären und/oder sekundären
Aminogruppen, insbesondere mit 4 bis 20 Kohlenstoffatomen, wie Pentamethylendiamin, Hexamethylendiamin, Heptamethylendiamin,
Octarnethylendiamin oder C- und/oder N-substituierte Derivate die-
fe ser Amine, wie N-Methyl-N-Äthyl-hexamethylendiamin, 1,6-Diamino-4-methylhexan,
4,4'-Diaminodicyclohexylmethan oder 4,4'-Diaminodicyclohexylpropan,
ferner aromatische Diamine, wie m-Phenylendiamin, m-Xylylendiamin oder 4,4'-Diaminodiphenylmethan, wobei
bei allen Ausgangsstoffen die Brückenglieder zwischen den beiden Carbonsäuregruppen bzw. Aminogruppen auch durch Heteroatome, z. B.
Sauerstoff-, Stickstoff- oder Schwefelatome unterbrochen sein können. Besonders geeignete Mischpolyamide sind solche, die durch
Mischkondensation eines Gemisches aus einem oder mehreren Lactamen, insbesondere Caprolactam, und mindestens einem Dicarbonsäure/Diamin-Salz
hergestellt worden sind, z. B. aus £-Caprolactam, Hexamethylendiammonium-adipat
und 4,4'-Diaminodlcyclohexylmethanadipat.
Geeignete Photoinitiatoren, die zusammen mit den Oxyphosphoranen
109839/1724 ~ 7 "
^ ■ ' " - - 7 - O.ζ, 26 669
den photopolymerisierbaren Massen zugesetzt werden können, sind .
die üblichen Photoinitiatoren, besonders vicinale Ketaldonylverbindungen,
wie Diacetyl oder Benzil; oT-Ketaldonylalkohole, wie
Benzoin, Acyloinather wie Benzoinmethyläther, c<-substituierte
aromatische Acyloine, wie of-Methyl- oder oC-Methyiolbenzoin. Die
zusätzlichen Photoinitiatoren werden im allgemeinen, sofern erwünscht, in den üblichen Mengen, insbesondere in Mengen von 0,01
bis 10 und insbesondere von 0,01 bis 3 Gewichtsprozent, bezogen auf die photapolymerisierbaren Massen, diesen zugesetzt. Inhibitoren,
die den photopolymerisierbaren Massen ferner in üblichen kleinen Mengen, ζ. B. in Mengen von 0,01 bis 2,0 Gewichtsprozent,
zugesetzt werden können, sind beispielsweise Hydrochinon, p-Methoxyphenol,
p-Chinon, Kupfer-I-chlorid, Methylenblau,- ß-Naphthylamin,
ß-Naphthol, Phenole oder die .Salze des N-Nitroso-Cyclöhexyl- i|
hydroxylamins. ·
Aus den erfindungsgemäßen photopolymerisierbaren Massen, welche
Öxyphosphorane enthalten, können nach üblichen Verfahren z.B.
Platten, Filme oder Folien hergestellt werden^ z. B. durch Lösen
der Komponenten, Entfernen des Lösungsmittels und anschließendes Pressen, Extrudieren oder Walzen des feinverteilten Gemisches.
Ferner können die Lösurlgen der Komponenten der photopolymerisierbaren
Massen zu Folien oder Filmen gegossen werden. Die Öxyphosphorane werden bevorzugt den Lösungen der Komponenten der
photopolymerisierbaren Massen vor deren Verarbeitung zu lichtempfindlichen
Schichten oder Lacken zugesetzt. Jedoch können sie ..,-..-auch
zu einem späteren Zeitpunkt dem fertigen Gemisch unmittelbar vor der Herstellung der lichtempfindlichen Schichten zugesetzt
wenden. In jedem Falle sollte für eine homogene. Verteilung der
Öxyphosphorane gesorgt werden.
Zum Belichten der photopolymerisierbaren Massen sind Lampen, die
Licht der Wellenlänge 2000 - 7000 nm emittieren, wie Kohlenbogenlampen,
Quecksilberdampflampen, Xenonlampen oder Leuchtstoffröhren geeignet.
Die in den folgenden Beispielen und Vergleichsversuchen genannten
Teile und Prozente beziehen sich auf das Gewicht, sofern nicht
anders angegeben.
109839/1724 . - 8 -
- 8 - O.ζ. 26 669
Beispiele 1 bis 20
Zur Prüfung werden jeweils in 100 Teilen Formamid 22 Teile des Diäthers aus 1 Mol Äthylenglykol und 2 Molen N-Methylolacrylamid,
20 Teile m-Xylylenbisacrylamid, 8 Teile Trläthylenglykoldiacrylat
und das jeweilige Oxyphosphoran mit und ohne Zusatz von Benzoinmethyläther
gelöst. Art und Menge des den verschiedenen Ansätzen zugesetzten Oxyphosphorans sowie die Menge des gegebenenfalls
zugesetzten Benzoinmethyläthers (BMA*) gibt Tabelle 1 an. Jeweils 2 ml der Lösungen werden in einem Quarzröhrchen in einem Röhrentisch
mit L 40 W/70-Lampen der Firma Osram belichtet. Die Verfolgung des Temperaturverlaufs der Ansätze während der Belichtung
geschieht mit einem eingetauchten Eisen/Konstantan-Thermoelement über einen Millivoltschreiber (Meßbereich 1-5 mV). Es werden
ausgewertet:
a) tlnd : Induktionszeit, d. h. die Zeit, bis der Polymerisations
beginn sich durch Temperaturanstieg anzeigt;
b) t : Gipfelzeit, d. h. die Zeit, bis die Polymerisations-
wärme ihr Maximum erreicht hat;
c) max. Peakhöhe: die maximal erreichte Temperatur. Die Höhe des
Temperaturpeaks wird in mm angegeben.
Nähere Angaben zu den Versuchen und deren Ergebnisse gibt Tabelle wieder. Ansätze, denen Trimethylolphosphit, Triphenylphosphit und
Triphenylphosphin stets 0,5prozentig allein als Initiator zugesetzt wurden, zeigten bei der Bestrahlung keine Polymerisation.
- 9 109839/1724
| Oxyphosphoran-Zusatz Addukt aus: "■. |
Diace tyl-Tr ime thyl - phosphit (0,5) |
BMS- Zusatz |
Tabelle | 1 | Wartezeit von Sauerstoff- Spülung bis zur Belichtung (Min.) |
(Sek.) | max. (Sek.) |
max* Peakhöhe (mm) |
CD * |
I | |
| Beispiel Nr. |
A s (Vergleiehs- versueh) |
0,1 | Sauer stoff- Spülung (Min.) |
0 | 7,7 | 55,0 | 133 | -■■•■ι· | i | ||
| B (Vergleichs versuch) - |
0,1 | 0 | 0 | 37,4 | 93,5 | 134 | |||||
| 1 | ■mm | 20 | 0 | 3*5 | 146,0 | 81,5 | |||||
| 2 | , , si ■ ' . | - | 0 | 0 | 26,6 | 110,0 | 118 | ||||
| 3 | tt | - | 5 | 30 | 2,6 | 88,0 | 117 | ||||
| • 4 | Diacetyl-Triäthyl- phosphit (0,5) |
0,1 | 5 | * 0 | 4,2 | .59,4 | 131,5 | ||||
| 5 | ■■ ' . " '■" ■ ' | 0,1 | 0 | 0 | 9,0 | 55,4 | 153,0 | Q | |||
| 6 | 0,1 | 15: | 50 ' | 2,5 | 48,8 | 147,5 | CSI | ||||
| 7 | t» | 15 | 0 | 15,4 | 132 | 82 | ro σ\ |
||||
| 8 | - | 0 | ο | 17,6 | 81,4 | 151 | ΟΛ | ||||
| 9 | - | 5 | : ■ V 5 | 3,3 | 70,4 | 148 ' ' · | VO | ||||
| 10 | 0,1 | 5 | ο | 11,0 | .55>O | 173 | |||||
| 11 | 0,1 | 10 | 5 '■, . | sofort | 44,0 | 166 | |||||
| 10 | |||||||||||
Beispiel Oxyphosphoran-Zusatz BMÄ- Sauer-Nr.
Addukt aus: Zusatz stoff-
Wartezeit von Sauerstoff-
Spülung Spülung bis zur
Belichtung (Min.) (Min.)
'ind. max.
max. Peakhöhe
(Sek.) (Sek.) (mm)
12
Benzil-Trimethylphosphit (0,5)
| 13 | ti | |
| 14 | It | |
| 15 | »t | |
| 16 | Benzil-Triäthyl- phosphit (0,5) |
|
| O | ||
| CD | 17 | |
| OO | 18 | tt |
| CO | 19 | Benzil-Triphenyl- |
| phosphit | ||
| 20 | (0,1 % gesättigt) | |
|
K>
■P- |
21 | tt |
| tt | ||
0,1
| O | O | 3,3 | langsamer Anstieg |
N> O \ |
1
t—■ |
| 5 | O | 10,0 | 60,5 100 | ■rmV N; N) N) |
O |
| 10 | O | 10,0 | 90,6 123 | I | |
| 5 | O | 8,8 | 77 135 | ||
| O | O | 6,2 | langsamer Anstieg |
||
| 5 | O | 24,2 | 61,6 99,5 | ||
| 20 | O | 22,0 | 69,3 118,5 | O | |
| O | O | 22 | 61,6 79,5 | CsI • |
|
| 5 | O | 92,4 | 156,2 122 | ro σ\ |
|
| 10 | O | 92,4 | 156,2 122 | 0\ ΟΛ VO |
|
-H-' O.Z. 26 669
Beispiele 22 bis 29 ' :
In je JOO Volumenteilen Methanol werden 100 Teile eines Copolyamids
aus gleichen Teilen Caprolactam, Hexamethylendiaminadipat
und Bis(4-Iaminocyclohexyl)methan-adipatJ 22 Teile des Diäthers
aus 1 Mol A'thylenglykol und 2 Molen N-Methylol-acrylamid, 20
Teile m-Xylylen-bisacrylamid, 8 Teile Triäthylenglykol-diacrylat,
1 Teil Oxyphosphoran und 0,1 Teil Natriumsalz des N-Nitrosocyclohexylhydroxylamins
gelöst. Aus"den Lösungen wurden Photopolymerplatten gegossen und diese anschließend auf einem Belichtungstisch
mit L 40 W/70-Lampen der Firma Osram belichtet* wobei
Jeweils die erforderliche Belichtungszeit zur Erzielung eines guten Reliefs ermittelt wurde. Nach Auswaschen der unbelichteten d
Teile der Photopolymerplatte mit einem Alkohol/Wasser-Gemisch erhält man Reliefplatten, die die zum Drucken notwendigen Qualitäten
und mechanischen Eigenschaften aufweisen.
In Tabelle 2 sind Art und Menge der zugesetzten Initiatoren (Oxyphosphorane
und/oder Benzoinmethyläther (BMA"))und die erforderliche Belichtungszeit im Verhältnis zu der Belichtungszeit bei
Zusatz von 1 Teil Benzoinmethyläther (BMÄ) als alleinigem Initiator
(Vergleichsversuch V) angegeben. Es zeigt sich/ daß die
Oxyphosphorane selbst als Initiatoren wirken und bei Zusatz zu BMÄ-haltigen' Photopolymerplatten eine Verkürzung der Belichtungszeit
zu erzielen ist.
- 12 -■
109839/1724
Beispiel Nr.
Zusatz von Oxyphosphoran Addukt aus:
(Teile) BMÄ Belichtungszeit
in % der Belichtungszeit des Vergleichsversuchs V,
(Teile) die gleich 100 gesetzt wurde
V 22
Diacetyl-Trimethylphosphit (D
| co OO |
ORIC | 23 | Diacetyl-Trimethylphosphl (D |
| <ο | ζ Γ* ' |
24 | Diacetyl-Triäthylphosphit (1) |
| CP V>J | 25 | Diacetyl-Triäthylphosphit (1) |
|
| I ' | 26 | Benzil-Trimethylphosphit (D |
|
| m σ |
27 | Benzil-Trimethylphosphit (D |
|
| 28 | Benzil-Triphenylphosphit (D |
||
| 29 | Benzil-Triphenylphosphit (D |
||
100 500
6o
300
6o
100
80 100
-
-
Claims (4)
1. Photopolymerisierbare Massen, die photopolymerisierbare äthylenisch ungesättigte monomere Verbindungen und vorzugsweise
ein Polymeres als Bindemittel enthalten, gekenrizeichnet
durch einen Oeha'lt. eines- Oxyphosphorans in einer Menge von 0,001
bis 10 Gewichtsprozent der.photopolymerisierbaren Masse.
2. Photopolymerisierbare Massen gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß sie zusätzlich in einer Menge.von 0,01 bis
10 Gewichtsprozent der photopolymerisierbaren Masse einen
weiteren Photoinitiator enthalten.
3- Photopolymerisierbare Massen gemäß einem der Ansprüche 1 oder
2, dadurch gekennzeichnet, daß sie zumindest überwiegend aus
einem Gemisch aus
a) 10 bis 50 Gewichtsprozent mindestens einer monomeren Verbindung
mit mindestens zwei·photopolymerisierbaren äthylenisch
ungesättigten Doppelbindungen oder einem Gemisch mindestens einer solchen Verbindung mit .weniger als 30 Gewichtsprozent,
bezogen auf die Gesamtmonomeren, mindestens einer monomeren Verbindung mit nur einer photopolyinerisierbaren
äthyleniseh ungesättigten Verbindung,
b) 50 bis 90 .Gewichtsprozent eines bei Raumtemperatur festen*
; in einem organischen Lösungsmittel löslichen synthetischen
Polymeren als Bindemittel
bestehen, ; , ■".". ' ,- ; ; ".' .:
4. Photopolymerisierbare Massen gemäß Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet,
daß das bei Raumtemperatur feste, in eiiiein organischen
Lösungsmittel lösliche synthetische Polymere ein lineares
synthetisches Polyamid mit wiederkehrenden Amidgruppen in der Molekülhauptkette ist.
Badische Anilin- & Sodä-FaBrik AG
·' ' ■"■ ■■'■■■■■ Lv
■ : 109839/1724 , , J^
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19702012221 DE2012221A1 (de) | 1970-03-14 | 1970-03-14 | Oxyphosphorane enthaltende photopolymerisierbare Massen |
| US122996A US3682808A (en) | 1970-03-14 | 1971-03-10 | Photopolymerizable compositions containing oxyphosphoranes |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19702012221 DE2012221A1 (de) | 1970-03-14 | 1970-03-14 | Oxyphosphorane enthaltende photopolymerisierbare Massen |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE2012221A1 true DE2012221A1 (de) | 1971-09-23 |
Family
ID=5765117
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE19702012221 Pending DE2012221A1 (de) | 1970-03-14 | 1970-03-14 | Oxyphosphorane enthaltende photopolymerisierbare Massen |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US3682808A (de) |
| DE (1) | DE2012221A1 (de) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2332290A1 (fr) * | 1975-11-21 | 1977-06-17 | Espe Pharm Praep | Masses a base d'esters acryliques, polymerisables au moyen de rayons ultra-violets |
| FR2383462A1 (fr) * | 1977-03-08 | 1978-10-06 | Teijin Ltd | Support pour plaque d'impression |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2909992A1 (de) * | 1979-03-14 | 1980-10-02 | Basf Ag | Photopolymerisierbare aufzeichnungsmassen, insbesondere zur herstellung von druckplatten und reliefformen |
| DE3443221A1 (de) * | 1984-11-27 | 1986-06-05 | ESPE Fabrik pharmazeutischer Präparate GmbH, 8031 Seefeld | Bisacylphosphinoxide, ihre herstellung und verwendung |
| WO1986006730A1 (en) * | 1985-05-17 | 1986-11-20 | M&T Chemicals, Inc. | Aqueous alkaline developable, uv curable urethane acrylate compounds and compositions useful for forming solder mask coatings |
| US20040087687A1 (en) * | 2002-10-30 | 2004-05-06 | Vantico A&T Us Inc. | Photocurable compositions with phosphite viscosity stabilizers |
-
1970
- 1970-03-14 DE DE19702012221 patent/DE2012221A1/de active Pending
-
1971
- 1971-03-10 US US122996A patent/US3682808A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2332290A1 (fr) * | 1975-11-21 | 1977-06-17 | Espe Pharm Praep | Masses a base d'esters acryliques, polymerisables au moyen de rayons ultra-violets |
| FR2383462A1 (fr) * | 1977-03-08 | 1978-10-06 | Teijin Ltd | Support pour plaque d'impression |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US3682808A (en) | 1972-08-08 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE2064742A1 (de) | ||
| DE2821500A1 (de) | Verfahren zum entfernen der oberflaechenklebrigkeit von einer gehaerteten, radikalisch polymerisierten harzmasse | |
| DE1121928B (de) | Lichtempfindliche Platte zur Herstellung von Druckformen | |
| DE2749639A1 (de) | Lichtempfindliche polymermasse | |
| EP0553662A1 (de) | Lichtempfindliches Gemisch zur Herstellung von Relief- und Druckformen | |
| DE2232365A1 (de) | Durch uv-bestrahlung polymerisierbare gemische | |
| DE2362005C2 (de) | Verfahren zum Wasserfestmachen von photopolymeren Druckformen | |
| DE1905012C3 (de) | Photopolymerisierbares Aufzeichnungsmaterial zum Herstellen von Reliefs | |
| DE2012221A1 (de) | Oxyphosphorane enthaltende photopolymerisierbare Massen | |
| DE1522469C3 (de) | Verfahren zum Herstellen von Reliefdruckformen | |
| DE1522463C3 (de) | Verfahren zum Herstellen von Reliefdruckformen | |
| DE2644986A1 (de) | Photopolymerisierbare masse fuer die herstellung von reliefdruckformen | |
| CH637412A5 (de) | Photopolymerisierbare massen fuer die herstellung von druckplatten und reliefformen. | |
| DE1669723A1 (de) | Indigoide Farbstoffe enthaltende Platten,Folien oder Filme aus photopolymerisierbaren Massen | |
| DE2720559A1 (de) | Verbesserte photopolymerisierbare massen fuer die herstellung von druckplatten und reliefformen | |
| DE3324642A1 (de) | Verfahren zur stabilisierung von photopolymerisierbaren mischungen | |
| DE1447932C3 (de) | Photopolymerisierbares Material | |
| DE2015711A1 (en) | Alpha-phenyl-ethyl alcohol photoinitiators | |
| DE2061288C3 (de) | Verfahren zur Herstellung einer Zurichtefolie für den Hochdruck | |
| EP0373473B1 (de) | Photopolymerisierbares elastomeres Gemisch und dieses enthaltendes Aufzeichnungsmaterial für die Herstellung von ozonresistenten Flexodruckformen | |
| DE1447929A1 (de) | Verfahren zum Herstellen von Reliefformen fuer Druckzwecke | |
| DE1447927A1 (de) | Verfahren zum Herstellen von Reliefformen fuer Druckzwecke | |
| DE2309062C3 (de) | Verfahren zur Herstellung von Reliefbildern und dafür brauchbare Gemische und Aufzeichnungsmaterialien | |
| DE2012220A1 (en) | Stabilizing indigoide dyes in photo-crosslink-able compns | |
| DE1669722A1 (de) | Ketooxetane enthaltende photopolymerisierbare Massen |