DE2528585B2 - Verfahren zur Herstellung von dotierten a -Aluminiumoxid-Einkristallen - Google Patents
Verfahren zur Herstellung von dotierten a -Aluminiumoxid-EinkristallenInfo
- Publication number
- DE2528585B2 DE2528585B2 DE2528585A DE2528585A DE2528585B2 DE 2528585 B2 DE2528585 B2 DE 2528585B2 DE 2528585 A DE2528585 A DE 2528585A DE 2528585 A DE2528585 A DE 2528585A DE 2528585 B2 DE2528585 B2 DE 2528585B2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- single crystal
- melt
- ppm
- crystal
- section
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000013078 crystal Substances 0.000 title claims description 62
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 6
- 239000000155 melt Substances 0.000 claims description 18
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 claims description 5
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 10
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N ZrO2 Inorganic materials O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 5
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 5
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 5
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000003908 quality control method Methods 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- JLVVSXFLKOJNIY-UHFFFAOYSA-N Magnesium ion Chemical compound [Mg+2] JLVVSXFLKOJNIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910001430 chromium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010431 corundum Substances 0.000 description 1
- 239000011152 fibreglass Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- -1 iron ions Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910001425 magnesium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052756 noble gas Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B15/00—Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B29/00—Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
- C30B29/10—Inorganic compounds or compositions
- C30B29/16—Oxides
- C30B29/20—Aluminium oxides
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von dotierten a-Aluminiumoxid-Einkristallen durch
Ziehen aus der wenigstens auf 2040° C erhitzten Schmelze mit einem stabförmigen Einkristall aus
«-Aluminiumoxid in einer gegenüber der Schmelze chemisch inerten Atmosphäre.
Ein Verfahren zum Herstellen von «-Aluminiumoxid-Einkristallen ist in der US-PS 37 15 194 offenbart
Danach wird ein derartiger Einkristall dadurch gewonnen, daß ein stabförmiger Keimkristall aus der Schmelze
gezogen wird. Das offenbarte Verfahren wurde zum Herstellen von «-Aluminiumoxid-Einkristallen, z. B. für
optische Fenster, Lager, Gleitringe, Schneidwerkzeuge u. dgl. erfolgreich eingesetzt
Beim Herstellen on «-Aluminiumoxid-Einkristallen aus wasserklarem Aluminiumoxid mi» r-Ebene-Orientierung
gemäß der Lehre des obenerwähnten US-Patentes wurde festgestellt daß sich kein Einkristall mit
kreisförmigem Querschnitt, wie bei anderen Kristallorientierungen üblich, bildete, sondern ein solcher mit
einem stark ellipsenförmigen Querschnitt Die Hauptachse des Materials liegt in der Ebene, die durch die
C-Achse und die Längsachse des Kristalls bestimmt ist. Kristalle mit ellipsenförmigem Querschnitt sind für eine
industrielle Verwendung nicht geeignet. Wenn Einkristalle mit kreisförmigem Querschnitt aus einer Masse
mit ellipsenförmigem Querschnitt hergestellt werden, entsteht überdies ein beträchtlicher Materialverlust.
Bei einer C-Achsenorientierung von 57° steht bei einem bekannten «-Aluminiumoxid-Einkristall mit
r-Ebene-Orientierung eine seiner r-Ebenen senkrecht
zur Wachstumsachse.
Die Verwendung von «-Aluminiumoxid-Einkristallen mit r-Ebene-Orientierung als passive Substrate in
elektronischen Schaltungen, gewinnt im Vergleich zu anderen Kristallorientierungen zunehmend an Bedeutung,
da derartig orientierte Einkristalle bekannte Vorteile mit sich bringen.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren vorzuschlagen, das die Herstellung von
dotierten «-Aluminiumoxid-Einkristallen mit /•-Ebene-Orientierung
und kreisförmigem Querschnitt zum Gegenstand hat.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß man zur Herstellung eines in der r-Ebene
orientierten Einkristalls von kreisförmigem Querschnitt mit einem «-Aluminiumoxid-Einkristallstab, dessen
Längsachse senkrecht zur r-Ebene gerichtet ist, aus einer Schmelze zieht, die außer AI2O3 so viel Cr2Oi
und/oder Fe2O3 und/oder MgO enthält, daß in dem
gezogenen Einkristall wenigstens 90 ppm der entsprechenden Metallionen enthalten sind.
Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung ist in der Zeichnung dargestellt und wird im folgenden näher
beschrieben. Es zeigt
ot F i g. 1 eine für die Ausführung der Erfindung geeignete Vorrichtung,
F i g. la eine Orientierung des stabförmigen Keimkristalles,
der bei der Ausführung der Erfindung benutzt wird,
et Fig. 2a eine Fotografie eines durch das erfindungsgemäße
Verfahren erzeugten λ-Aluminiumoxid-Einkristalls
mit kreisförmigem Querschnitt und r-Ebene-Orientierung,
F i g. 2b eine Fotografie' eines nach bekannten
F i g. 2b eine Fotografie' eines nach bekannten
ot Verfahren hergestellten «-Aluminiumoxid-Einkristalls mit ellipsenförmigem Querschnitt und r-Ebene-Orientierung.
Das erfindungsgemäße Verfahren ist eine Weiterbildung des Verfahrens nach der US-PS 37 15 194. Nach
et dem Verfahren der Erfindung wird ein in der r-Ebene
orientierter Einkristall von kreisförmigem Querschnitt erhalten, wobei der größte Durchmesser des Querschnittes
nicht mehr als 10% größer als der kleinste Durchmesser ist Mit dem erfindungsfejpiäßen Verfahrt«,
ren kann ein schnelles Wachstum des Einkristalls erreicht werden, ohne daß hierdurch die Qualität des
Einkristalls nachteilig beeinflußt wird.
Die Schmelze des erfindungsgemäßen Verfahrens kann 135 ppm Chromionen, vorzugsweise zwischen 240
f j. und 340 ppm; 730 ppm Eisenionen, vorzugsweise
zwischen 950 und 1100 ppm; und 90 ppm Magnesiumionen, vorzugsweise zwischen 120 und 180 ppm,
enthalten. Mit diesen Mengenanteilen werden in der r-Ebene orientierte, leicht gefärbte, durchsichtige
ο? «-Aluminiumoxid-Einkristalle mit kreisförmigen Querschnitten
bei relativ hohen Wachstumsgeschwindigkeiten 'ind leichter Qualitätskontrolle erhalten. Bei
Zusätzen von Chrom zur Schmelze sind die erzeugten Kristalle rosa, bei Eisenzusatz braun und bei Zusetzen
rf von Magnesium orangefarben gefärbt. Bei höheren
Konzentrationen sind die gebildeten Einkristalle mit kreisförmigem Querschnitt stärker gefärbt und fast
undurchsichtig, wobei die erforderlichen Wachstumsgeschwindigkeiten in der Regel niedriger und die
η,) Qualitätskontrolle schwieriger sind.
Um die gewünschte Metallionenkonzentration im «-Aluminiumoxid-Einkristall zu erhalten, werden
Chromoxid Cr2O3 und/oder Eisenoxid Fe2O3 und/oder
Magnesiumoxid MgO der Aluminiumoxidschmelze in
fd entsprechenden Mengen zugesetzt. Wenn erfindungsgemäß
mehrere Oxide zugesetzt werden, ist Magnesium eiwa l,5mal wirksamer als Chrom und etwa 8mal
wirksamer als Eisen. Diese Beziehung kann zur
Bestimmung der Konzentrationsbereiche bei mehreren
Zusätzen verwendet werden, die in der folgenden Tabelle angegeben sind
| Oxid | Gew.-'/. | ppm des | Gew.-% | ppm |
| zusatz | des Oxids | Oxids | Metall | Metall |
| in der | in der | in der | in der | |
| Al2O3- | Al2O3- | Al2O3- | Al2O3- | |
| Schmelze | Schmelze | Schmelze | Scbmclze | |
| Cr2O3 | 0,02 | 200 | 0,0135 | 135 |
| 0,035 | 350 | 0,024 | 240 | |
| 0,05 | 500 | 0,034 | 340 | |
| MgO | 0,015 | 150 | 0,009 | 90 |
| 0,02 | 200 | 0,012 | 120 | |
| 0,03 | 300 | 0,018 | 180 | |
| Fe3O3 | 0,10 | 1000 | 0,073 | 730 |
| 0,13 | 1300 | 0,095 | 950 | |
| 0,15 | 1500 | 0,110 | IiOO |
F i g. 1 zeigt eine in der US-PS 37 15 194 beschriebene
Kristallzüchtungskammer 1. Die Aluminiumoxidschmelze 9 mit einem Zusatz eines oder mehrerer der
angegebenen Oxide befindet sich in einem vorzugsweise aus Iridium bestehenden Tiegel 8. Ein vorzugsweise aus
Iridium bestehender Deckel 16 mit einer mittigen öffnung 17 ruht auf dem Tiegel 8 und dient als
Schutzschild, um den Wärmeverlust der Schmelze 9 herabzusetzen. Der 'Tiegel 8 ist an den Seiten und am
Boden von der Isolierung 15 umgeben. Die Isolierung besteht vorzugsweise aus Zirkoniumdioxid und dient
dazu, die Energie zu verringern, um die Schmelze 9 flüssig zu halten und Temperaturschwankungen auszugleichen,
die von Schwankungen der Netzspannung, von durch Konvektion bedingter Abkühlung aus der
Atmosphäre uid anderen Störungen herrühren. Durch das Rohr 11 wird ein Strahlungspyrometer an die Mitte
des Tiegelbodens herangeführt, um die Temperatur am Boden des Tiegels 8 bestimmen zu können.
Eine beispielsweise aus Aluminiumoxid hergestellte Abdichtung 4 ist von einem vorzugsweise aus
Zirkoniumdioxid bestehenden Rohr 5 getragen. Die Abdichtung 4 dient als ein zweiter Strahlungsschutzschild
und hindert konvektive Strömungen der Atmosphäre daran, in den oberen Teil des Tiegels
einzudringen und den wachsenden Kristall 7 zu erreichen. Die Abdichtung 4 verringert den vertikalen
Temperaturyadienten in der Nähe des wachsenden Einkristalls und verstärkt die Wirksamkeit des Deckels
16.
Die Hülse 6, die beispielsweise aus Siliziumdioxid besteht, enthält die Isolierung 15 und ist ein Teil der
Isolierungseinrichtung, die den Tiegel 8 umgibt Auch das die Abdichtung 4 tragende Rohr 5 gehört zu diesem
isolierenden System.
Der Tiegel 8 und seine Isolierung ruhen auf einem keramischen Träger 12, der beispielsweise aus Zirkoniumdioxid
besteht Die Einrichtung befindet sich unter einem glockenförmigen Gefäß 3, das mit der Bodenplatte
13 dicht verbunden ist. Die Bodenplatte 13 besteht aus einem geeigneten Material, beispielsweise aus silikonverstärkten
Glasfasern. Die im Innern des Tiegels 8 gewünschte, nicht mit der Schmelze im Tiegel
reagierende Atmosphäre, wie Stickstoff oder ein Edelgas wird durch das Sichtrohr 14 eingeführt, das mit
dem Rohr 11 verbunden ist Das Gas strömt durch die Öffnung 18 in das glockenförmige Gefäß 3 ein, durch
welches der stabförmige Keimkristall 2 eingeführt wird.
Der stabförmige Keimkristall 2 ist ein Einkristall aus «-Aluminiumoxid, der mit der Wachstumsachse 30 des
Kristalls 7 eine gemeinsame Längsachse 20 hat Wie die Fig. la zeigt, steht die r-Ebene 40 des stabförmigen
Keimkristalls 2 senkrecht zur Längsachse 20. Ein
ίο solcher stabförmiger Keimkristall kann in üblicher
Weise hergestellt werden und führt zu einem in der r-Ebene orientierten Einkristall.
Bei Verwendung der beschriebenen Apparatur können eines oder mehrere der Oxide von Chromoxid,
π Eisenoxid und Magnesiumoxid der wasserhellen
Schmelze von Aluminiumoxid, beispielsweise vor oder nach dem Schmelzen, zugesetzt werden. Ein Einkristall
wird bei einer Temperatur von 20400C oder höher beispielsweise nach dem in der US-PS 37 15 194
angegebenen Verfahren aus der Schme'r;.e gezogen. Der erhaltene in der r-Ebene orientierte a-Alvminiumoxid-Einkristall
hat, wie die F i g. 2a zeigt, einen kreisförmigen Querschnitt, wobei das eingesetzte Aluminiumoxid
0,026 Gew.-% Cr2Oj, entsprechend 180 ppm Chrom,
enthielt. Dieser Einkristall kann mit dem in der F i g. 2b gezeigten Einkristall mit elliptischem Querschnitt
verglichen werden, der zwar in gleicher Weise, jedoch ohne Zusätze hergestellt wurde.
jo Beispiel 1
Etwa 7000 g gereinigten Aiuminiumoxidbruchs (Saphir) wurden zusammen mit 1,84 g CrzOj (260 ppm) in
einen Iridiumtiegel mit einem inneren Durchmesser von 13 cm, einer Höhe von 25 cm und einer Wandstärke von
0,25 cm gegeben. Der Tiegel wurde in eine Induktionsheizspule eingesetzt, die 10 Windungen 19 aufwies und
einen inneren Durchmesser von 24 cm hatte. Der Tiegel stand auf einem Gestell, das mit pulverförnrgem
Zirkoniumdioxid ausgefüllt war, wobei der Raum
to zwischen den Windungen und dem Tiegel ebenfalls mit pulveförmigem Zirkoniumdioxid ausgefüllt war. Die
Vorrichtung befand sich unter einer Glocke aus Aluminium, die oben eine Öffnung hatte. Innerhalb der
Glocke wurde eine Stickstoffatmosphäre mit etwa 600 ppm Sauerstoff aufrechterhalten. Die Induktionsheizspule wurde von einer bekannten Hochfrequenzinduktionseinheit
mit Energie versorgt wobei die Energiezufuhr so lange gesteigert wurde, bis der induzierte Strom den Iridiumtiegel auf Weißglut
so erhitzte. Die vom Iridiumtiegel übertragene Wärme
schmolz dann die Aluminiumoxidstücke auf, so daß die Schmelze 180 ppm Chrom enthielt Ein stabförmiger
Keimkristall aus «-Aluminiumoxid mit r-Ebene-Orientierung und einem Durchmesser von etwa 7,5 mm wurde
durch die Öffnung ir die Glocke eingeführt, bis der Kristall die Oberfläche der Schmelze berührte. Der
Keimkristalll wurde dann mit einer Ziehgeschwindigkeit von etwa 2,5 mm/Std. aus der Schmelze gezogen, was
125 Stunden dauerte. Auf diese Weise bildete sich ein
M) länglicher Einkristall mit kreisförmigem Querschnitt,
wobei der längste Durchmesser 5,83 cm, der kürzeste Durchmesser 5,75 cm bei einer Länge von -itwa 36 cm
betrug. Der in Fig. 2a gezeigte Einkristall war massiv, rosa gefärbt, durchsichtig und nicht körnig.
Vergleichsbeispiel
In einer Vorrichtung nach dem Beispiel 1 wurden etwa 6200 g gereinigten Aluminiumoxidbruchs (Siiphir)
trtine Zusiue In einen lrfdiumtlegel gegeben. Diese
Vorrichtung war in einer Glocke aus Glas mit einer oberen öffnung versehen. Innerhalb der Glocke wurde
eine Stickstoffatmosphäre mit etwa 3000 ppm Sauerstoff
aufrechterhalten. Es wurde nach dem Beispiel 1 erhitzt, wobei der dort beschriebene stabförmige
Keimkristall eingesetzt wurde. Der Keimkristall wurde dann 110 Stunden lang mit einer Ziehgeschwindigkeit
von etwa 2,3 mm/Std. aus der Schmelze gezogen. Auf diese Weise bildet sich ein länglicher Einkristal! mit
eilipsenförmigem Querschnitt, wobei der größte Durchmesser
6,71 cm, der kleinste dagegen 6,32 cm betrug. Der in Fig. 2b gezeigte Einkristall bestand aus
nichtkörnigem Korund.
Etwa 7000 g gereinigtem Aluminiumoxidbruchs (Saphier) wurden zusammen mit 3,1 g Cr2O3(440 ppm) nach
dem Beispiel I geschmolzen. Die Schmelze enthielt 300 ppm Chrom. Der in Beispiel I beschriebene
stabförmige Keimkristall wurde 103 Stunden lang mit einer Ziehge!;chwindigkeit von etwa 2,5 mm/Std. aus der
Schmelze gebogen. Der erhaltene Einkristall mit einer
Länge von etwa 35 cm hatte im Querschnitt einen größten Durchmesser von 6,15 cm und einen kleinsten
Durchmesser von 6,00 cm, der im (ibrigen dem nach dem Beispiel 1 hergestellten Einkristall entsprach.
Hierzu 2 Blatt Zeichnungen
Claims (1)
- Patentanspruch:Verfahren zur Herstellung von dotierten a-Aluminium-Einkristallen durch Ziehen aus der wenigstens auf 20400C erhitzten Schmelze mit einem stabförmigen Einkristall aus «-Aluminiumoxid in einer gegenüber der Schmelze chemisch inerten Atmosphäre, dadurch gekennzeichnet, daß man zur Herstellung eines in der r-Ebene orientierten Einkristalls von kreisförmigem Querschnitt mit einem «-Aluminiumoxid-Einkristallstab, dessen Längsachse senkrecht zur r-Ebene gerichtet ist, aus einer Schmelze zieht, die außer Al2O3 so viel Cr2O3 und/oder Fe2O3 und/oder MgO enthält, dafl in dem gezogenen Einkristall wenigstens 90 ppm der entsprechenden Metallionen enthalten sind
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US48425774A | 1974-06-28 | 1974-06-28 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE2528585A1 DE2528585A1 (de) | 1976-01-08 |
| DE2528585B2 true DE2528585B2 (de) | 1979-02-22 |
| DE2528585C3 DE2528585C3 (de) | 1979-10-11 |
Family
ID=23923402
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE2528585A Expired DE2528585C3 (de) | 1974-06-28 | 1975-06-26 | Verfahren zur Herstellung von dotierten a -Aluminiumoxid-Einkristallen |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5118999A (de) |
| DE (1) | DE2528585C3 (de) |
| FR (1) | FR2276094A1 (de) |
| GB (1) | GB1515543A (de) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2702145C3 (de) * | 1976-02-09 | 1981-06-04 | Union Carbide Corp., 10017 New York, N.Y. | Verfahren zur Herstellung eines dotierten, in der r-Ebene orientierten α -Aluminiumoxid-Einkristalls von kreisförmigem Querschnitt |
| JP2006151745A (ja) * | 2004-11-29 | 2006-06-15 | Kyocera Corp | 単結晶の製造方法及びそれらを用いた酸化物単結晶 |
| JP4735334B2 (ja) * | 2006-03-02 | 2011-07-27 | 住友金属鉱山株式会社 | 酸化アルミニウム単結晶の製造方法 |
| JP5888198B2 (ja) * | 2012-09-26 | 2016-03-16 | 住友金属鉱山株式会社 | サファイア単結晶の製造装置 |
| FR3095972B1 (fr) * | 2019-05-13 | 2023-07-07 | Safran Aircraft Engines | Moule pour la fabrication d’une pièce par coulée de métal et croissance épitaxiale et procédé de fabrication associé |
-
1975
- 1975-06-26 DE DE2528585A patent/DE2528585C3/de not_active Expired
- 1975-06-27 FR FR7520320A patent/FR2276094A1/fr active Granted
- 1975-06-27 GB GB27222/75A patent/GB1515543A/en not_active Expired
- 1975-06-27 JP JP50079470A patent/JPS5118999A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| FR2276094A1 (fr) | 1976-01-23 |
| JPS554690B2 (de) | 1980-01-31 |
| FR2276094B1 (de) | 1978-09-22 |
| DE2528585C3 (de) | 1979-10-11 |
| JPS5118999A (en) | 1976-02-14 |
| GB1515543A (en) | 1978-06-28 |
| DE2528585A1 (de) | 1976-01-08 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE69428962T2 (de) | Thermische Umwandlung von polykristallinem Aluminiumoxid in festem Zustand zu Saphir unter Verwendung eines Kristallkeimes | |
| EP1259663B1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur züchtung von grossvolumigen orientierten einkristallen | |
| DE2758888C2 (de) | Verfahren zur Herstellung reinster Siliciumeinkristalle | |
| DE2528585C3 (de) | Verfahren zur Herstellung von dotierten a -Aluminiumoxid-Einkristallen | |
| DE3616427C2 (de) | ||
| DE3111657C2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Magnetschichten auf Substraten mit Granatstruktur | |
| DE1646804B2 (de) | Verfahren zur verbesserung der oberflaechenqualitaet von anorganischen oxidmaterialien | |
| DE1421163A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Glas | |
| DE1195023B (de) | Verfahren zur Steigerung des Anlasspunktes von Glasgegenstaenden mit einem SiO-Gehalt von wenigstens 94 Gewichtsprozent aus alkalihaltigen Borsilikatglaesern | |
| DE2140931A1 (de) | Glas niedriger Wärmedehnung | |
| DE3013045C2 (de) | Vorrichtung zum Ziehen von Einkristallbirnen aus Gadolinium-Gallium-Granat | |
| DE2702145C3 (de) | Verfahren zur Herstellung eines dotierten, in der r-Ebene orientierten α -Aluminiumoxid-Einkristalls von kreisförmigem Querschnitt | |
| DE2532969A1 (de) | Verfahren zur herstellung von glas | |
| DE1544281C3 (de) | Verfahren zum Dotieren von Silicium- Halbleitermaterial | |
| US4224099A (en) | Method for producing R-plane single crystal alpha alumina | |
| DE2728314C3 (de) | Verfahren zum Ziehen eines Gadolinium-Gallium-Granat-Einkristalls aus einer Schmelze | |
| DD213514A1 (de) | Verfahren zur herstellung von calciumfluorid-einkristallen fuer optische zwecke | |
| DE1621542A1 (de) | Verfahren zur Behandlung von Metall | |
| DE1596729B2 (de) | Verfahren zur erhoehung der festigkeit von glasgegenstaenden durch ionenaustausch | |
| DE3304060A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur herstellung von einkristallen aus der gasphase | |
| DE2454293A1 (de) | Glaeser fuer dielektrische optische wellenleiter sowie herstellungsverfahren dafuer | |
| DE69200499T2 (de) | Verfahren zum Herstellen eines Glasgegenstandes. | |
| DE1804839B1 (de) | Verfahren zur Verbesserung der mechanischen Festigkeit von Glas | |
| DE1771077C (de) | Quarzglasrohr mit auf der Außenfläche angebrachtem Überzug zur Verwendung bei Temperaturen über 1000 Grad C, insbesondere für die Durchführung halbleitertechnologischer Verfahren | |
| DE2422077A1 (de) | Induktionsheizspule zum tiegelfreien zonenschmelzen |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) |