[go: up one dir, main page]

DE2520489A1 - Photopolymerisierbare massen - Google Patents

Photopolymerisierbare massen

Info

Publication number
DE2520489A1
DE2520489A1 DE19752520489 DE2520489A DE2520489A1 DE 2520489 A1 DE2520489 A1 DE 2520489A1 DE 19752520489 DE19752520489 DE 19752520489 DE 2520489 A DE2520489 A DE 2520489A DE 2520489 A1 DE2520489 A1 DE 2520489A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
compound
photoinitiator
groups
general formula
epoxy
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE19752520489
Other languages
English (en)
Other versions
DE2520489C2 (de
Inventor
George H Smith
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
3M Co
Original Assignee
Minnesota Mining and Manufacturing Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from CA000224450A external-priority patent/CA1291760C/en
Application filed by Minnesota Mining and Manufacturing Co filed Critical Minnesota Mining and Manufacturing Co
Publication of DE2520489A1 publication Critical patent/DE2520489A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE2520489C2 publication Critical patent/DE2520489C2/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/029Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/46Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • C08F2/50Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/08Processes
    • C08G18/10Prepolymer processes involving reaction of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen in a first reaction step
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/83Chemically modified polymers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G59/00Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
    • C08G59/18Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
    • C08G59/68Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the catalysts used

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Other Resins Obtained By Reactions Not Involving Carbon-To-Carbon Unsaturated Bonds (AREA)

Description

MINNESOTA MINING AND MANUFACTURING COMPANY Saint Paul, Minnesota, V.St.A.
" Photopolymerisierbare Massen "
Priorität: 8. Mai 1974, V.St.A., Nr. 467 899 2, April 1975, V.St.A., Nr.
Es sind "bereits photopolymerisierbare Massen auf der Basis von Epoxyharzen bekannt, die PhotosensiMlisatoren enthalten, doch haben sie einen oder mehrere Nachteile. Beispielsweise sind in der US-PS 3 074 869 photopolymerisierbare Massen beschrieben, die Epoxyverbindungen und ein Nitrosoamin als Photosensibilisator enthalten. Massen dieser Art erfordern eine verhältnismäßig lange Belichtung mit einer Strahlungsquelle hoher Intensität, um eine vollständige Polymerisation zu bewirken.
In den TB-psen 3 205 157 und 3 708 296 sind photopolymerisierbare Massen beschrieben, die neben Epoxyverbindungen Aryldiazoniumsalze bzw. Aryldiazoniumsalze von Halogen enthaltenden komplexen Anionen enthalten. Diese Massen sind auf Grund ihrer geringen thermischen Stabilität nur beschränkt brauchbar, ihre
609842/0995
ORIGINAL INSPECTED
spektrale Empfindlichkeit ist auf den ultravioletten Bereich des Spektrums beschränkt, und während der Photopolymerisation wird Stickstoff entwiekelt, was zur Bildung von feinen Löchern und Bläschen in dickeren Beschichtungen führt.
Bei Verwendung dieser bekannten Arylcliazoniumsalze zur Photopolymerisation von Oxetanen oder Gemischen von Oxetanen mit Epoxyharzen, wie dies beispielsweise in der US-PS 3 835 003 beschrieben ist, treten die gleichen Schwierigkeiten auf. Obwohl in mehreren Patentschriften verschiedene Methoden zum Stabilisieren von Gemischen aus Diazoniumsalzen und Epoxiden beschrieben wurden, sind diese Methoden aus mehreren Gründen unbefriedigend. Beispielsweise beträgt die Erhöhung der Stabilität nur einige Tage. Ferner werden die Massen durch den Zusatz von Stabilisatoren verunreinigt, was zu einer Verminderung der Geschwindigkeit der Photopolymerisation und zu einer Erweichung des Produkts führt; vgl.uS-PSen 3 711 390, 3 711 931, 3 816 278, 3 816 280, 3 816 281, 3 817 850 und 3 817 845.
In der US-PS 3 450 613 ist eine photopolyrnerisierbare Masse beschrieben, die das Reaktionsprodukt eines Epoxy-Prepolymers mit einer olefinisch ungesättigten organischen Verbindung, einen Photosensibilisator, und gegebenenfalls polyfunktionelle Säuren oder Basen enthält. Bei Belichtung mit ultraviolettem Licht geliert diese Masse auf Grund der strahlungsinduzierten Polymerisation des olefinisch ungesättigten Teils des Reaktionsprodukts. Eine vollständige Aushärtung der Masse wird durch Erhitzen erreicht. Hierbei erfolgt eine Umsetzung des Epoxyharzan-
6 0 9 8 4 2/0935
teils der Masse. Massen dieser Art sind beschränkt brauchbar, da sie sowohl eine Strahlungsquelle als auch eine Wärmequelle zur vollständigen Polymerisation und Aushärtung erfordern. Außerdem sind diese Massen empfindlich gegen Sauerstoff und haben eine schlechte thermische Stabilität.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, photopolymerisierbare Massen auf der Basis von kationisch polymerisierbaren organischen Verbindungen zu schaffen, die einen Photoinitiator enthalten, und die im ultravioletten und sichtbaren Spektralbereich, das heißt bei Wellenlängen von etwa 300 bis 700/am, empfindlich sind und die bei Bestrahlung innerhalb dieses Wellenlängenbereiches oder bei der Behandlung mit Elektronenstrahlen innerhalb eines verhältnismäßig kürzen Zeitraums ausgehärtet werden können. Diese Aufgabe läßt sich überraschenderweise lösen, wenn man neue komplexe Salze als Photoinitiatoren verwendet.
Gegenstand der Erfindung sind somit photopolymerisierbare Massen auf der Basis von kationisch polymerisierbaren organischen Verbindungen, die einen Photoinitiator enthalten, und die dadurch gekennzeichnet sind, daß der Photoinitiator ein aromatisches Jodoniumkomplexsalz der allgemeinen Formel ι
(D
fi Π 9 B h 7 / 0 (i.') fj
ist, in der Ar und Ar aromatische Reste mit 4 Ms 20 Kohlenstoffatomen, nämlich Phenyl-, Thienyl-, Furanyl- oder Pyrazolylgruppen, bedeuten, Z ein Sauerstoff- oder Schwefelatom, die
Il I I
Gruppe S=O, C=O, O=S=O, oder R-N, wobei R ein Wasserstoffatom,
Il I I
einen niederen Alkylrest oder einen Acylrest bedeutet, eine
Kohlenstoff-Kohlenstoff-Bindung oder die Gruppe R1-C-R0 darstellt, wobei R^ und Rp Wasserstoffatome, Alkylreste mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen oder Alkenylreste mit 2 bis 4 Kohlenstoffatomen bedeuten, η den Wert 0 oder 1 hat und yP ein Tetrafluoborat-, Hexafluophosphat-, Hexafluoarsenat-, Hexachloroantimonat- oder Hexafluoantimonat-Anion ist. Gegebenenfalls
enthalten diese Massen noch einen Sensibilisator.
Die photopolymerisierbaren Massen der Erfindung sind im ultravioletten und sichtbaren Spektralbereich empfindlich, sie lassen sich rasch ohne Anwendung von Wärme zu Polymerisaten mit guten physikalischen Eigenschaften aushärten. Beispielsweise ergeben photopolymerisierbare Massen auf der Basis von Epoxyverbindungen Polymere mit hoher Zähigkeit, Abriebsbeständigkeit, guter
Haftung an Metall, Glas, Kunststoffen, Holz und anderen Oberflächen und guter Chemikalienbeständigkeit. Die Massen der Erfindung zeichnen sich durch gute Haltbarkeit und thermische
Stabilität aus. Infolgedessen können diese Massen auch bei höheren Temperaturen eingesetzt werden. Gemische von Oxetanen,
Vinyläthern oder Lactonen mit Epoxyverbindungen ergeben photopolymerisierbare Massen mit wertvollen Eigenschaften. Durch
Variation der Bestandteile und Mengenverhältnisse können diese Massen den entsprechenden Verwendungszwecken angepaßt werden.
6 0 9 8/42/0995
Die aromatischen Jodoniumkationen sind stabil und bekannt; vgl. z.B. dieUS-PSen 3 565 906, 3 712 920, 3 759 989 und 3 763 187; F. Beringer et al., Diaryliodonium Salts IX, J. Am. Chem. Soc. 81, 342-51 (1959) und F. Beringer et al., Diaryliodonium Salts XXIII, J. Chem. Soc. 1964, 442-51; F. Beringer;et al., Iodonium Salts Containing Heterocyclic Iodine, J. Org. Chem. 30, 1141-8 (1965).
1 2 Typische Beispiele für die Reste Ar und Ar sind aromatische Reste mit 4 bis 20 Kohlenstoffatomen, nämlich Phenyl-, Thienyl-, Furanyl- und Pyrazolylgruppen. Diese aromatischen Gruppen können einen oder mehrere ankondensierte Benzolringe enthalten, beispielsweise Naphthylringe, Benzothienyl-, Dibenzothienyl-, Benzofuranyl- und Dibenzofuranylringe. Diese aromatischen Reste können durch eine oder mehrere Gruppen der folgenden Art substituiert sein: Halogenatome, Nitro-, Hydroxyl-, Carboxyl-, Anilino- oder N-Alkylanilinogruppen, Estergruppen, beispielsweise Alkoxycarboxylgruppen, wie die Methoxycarbonyl-, Äthoxycarbonyl- oder Phenoxycarbonylgruppe, Sulfoestergruppen, beispielsweise Alkoxysulfonylgruppen, wie die Methoxysulfonyl-, Butoxysulfonyl- oder Phenoxysulfonylgruppe, Amidogruppen, beispielsweise Acetamido-, Butyramido- oder Athylsulfonamidogruppen, Carbamylgruppen, wie die Carbamyl-, N-Alkylcarbamyl- oder N-Phenylcarbamylgruppen, SuIfamylgruppen, wie die SuIfamyl-, N-Alkylsulfamyl-, N,N-Dialkylsulfamyl- oder N-Phenylsulfamylgruppen, Alkoxyreste, wie die Methoxy-, Äthoxy- oder Butoxygruppe, Arylreste, wie die Phenylgruppe, Alkylreste, wie die Methyl-, Äthyl- oder Butylgrup-
609 8 42/0995
pe, Aryloxyreste, wie die Phenoxygruppe, Alkylsulfonylreste, wie die Methylsulfonyl- oder Äthylsulfonylgruppe, Arylsulfonylreste, wie die Phenylsulfonylgruppe, Perfluoralkylreste, wie die Trifluormethyl- oder Perfluoräthylgruppe, und Perfluoralkylsulfonylreste, wie die Trifluorraethylsulfonyl- oder Perfluorbutylsulfonylgruppe.
Spezielle Beispiele für erfindungsgemäß verwendbare Photoini-tiatoren der allgemeinen Formel I sind Diphenyljodonium-tetrafluoborat, Di-(4-methylphenyl)-jodonium-tetrafluoborat, Phenyl-4-methylphenyljodonium-tetrafluoborat, Di-(4-heptylphenyl)-jodonium-tetrafluoborat, Di (3-nitrophenyl)-öodonium-hexafluophosphat, Di-(4-chlorphenyl)-jodonium-hexafluophosphat, Di-(naphthyl)-jodonium-tetrafluoborat, Di-(4-trifluormethylphenyl)-jodonium-tetrafluoborat, Diphenyloodonium-hexafluophosphat, Di-(4~methylphenyl)-jodonium-hexafluophosphat, Diphenyljodonium-hexafluoarsenat, Di-(4-phenoxyphenyl)-jodonium-tetrafluoborat, Phenyl-2-thi enylj odonium-hexafluophosphat, 3,5-Dimethylpyrazolyl-4-phenyl j odonium-hexaf luophosphat, Diphenyljodonium-hexachloroantimonat, Diphenyljodonium-hexafluoantimbnat, 2,2f-Diphenyljodonium-tetrafluoborat, Di-(2i 4-dichlorphenyl)-Jodonium-hexafluophosphat, Di -(4-bromphenyl)-jοdonium-hexafluophosphat,
U 60984270995
-7- 2 5 2 O A 8 O
Di- (4-methoxyphenyl)-jodonium-hexafluophosphat, Di- ( 3-carboxyphenyl) - jodonium-hexaf luophosphat,
Di-(3-methoxycarbonylphenyl)-jodonium-hexafluophosphat, Di-(3-methoxysulfonyiphenyl)-jodonium-hexafluophosphat,
Di-(4-acetamidophenyl)-jodonium-hexafluophosphat und Di-(2-benzothienyl)~jodonium-hexafluophosphat.
Die bevorzugt verwendeten Jodoniumkomplexsalze der allgemeinen Formel I sind die Diaryljodonium-hexafluophosphate, wie Diphenyl ο ο donium-hexaf luophosphat. Diese Salze werden bevorzugt, weil sie im allgemeinen eine höhere thermische Stabilität aufweisen, die Geschwindigkeit der Photopolymerisation stärker beschleunigen und in inerten organischen Lösungsmitteln besser löslich»sind als andere aromatische Jodoniumsalze von komplexen Anionen.
Die Verbindungen der allgemeinen Formel I können durch doppelte Umsetzung aus den entsprechenden einfachen aromatischen Jodoniumsalzen, beispielsweise dem Diphenyljodonium-bisulfat, nach dem in J. Am. Chera. Soc, Bd. 81 (1959), S. 342, beschriebenen Verfahren hergestellt werden. Beispielsweise wird das Komplexsalz Diphenyljodonium-tetrafluoborat durch Zusatz einer Lösung von 29,2 g (150 mMol) Silberfluoborat, 2 g Fluoborsäure und 0,5 g phosphoriger Säure in 30 ml Wasser bei 60°C zu einer Lösung von 44 g (139 mMol) Diphenyljodonium-
hergestellt.
Chlorid / Das sich abscheidende Silberhalogenid wird abfiltriert und das Filtrat eingedampft. Es wird das Diphenyljodonium-fluoborat erhalten, das sich durch Umkristallisation
6098 42/0 99 5
reinigen läßt.
Die einfachen aromatischen Jodoniumsalze können nach dem in J. Am. Chem. Soc, Bd. 81 (1959), S. 342, beschriebenen Verfahren hergestellt werden, beispielsweise
(1) durch Kupplung von zwei aromatischen Verbindungen mit Jodylsulfat in Schwefelsäure,
(2) durch Kupplung von zwei aromatischen Verbindungen mit einem Jodat in einem Gemisch von Essigsäure, Essigsäureanhydrid und Sehwefelsäure,
(3) durch Kupplung von zwei aromatischen Verbindungen mit einem Jodacylat in Gegenwart einer Säure und
(4) durch Kondensation einer Jodosoverbindung, eines Jodosodiacetats oder einer Jodoxyverbindung mit einer anderen aromatischen Verbindung in Gegenwart einer Säure.
Diphenyljοdonium-bisulfat wird nach der Methode (3) hergestellt, beispielsweise durch Zusatz eines Gemisches von 35 ml konzentrierter Schwefelsäure und 50 ml Essigsäureanhydrid bei einer Temperatur unterhalb 50C innerhalb eines Zeitraumes von 8 Stunden unter starkem Rühren zu einem Gemisch von 55,5 ml Benzol, 50 ml Essigsäureanhydrid und 53,5 g Kaliumjodat. Das Gemisch wird eine weitere Stunde bei 0 bis 5°C und sodann 48 Stunden bei Raumtemperatur gerührt und hierauf mit 300 ml Diäthyläther behandelt. Beim Eindampfen scheidet sich das rohe Diphenyljοdonium-bisulfat aus. Es läßt sich durch Umkristallisation reinigen.
609842/0935
Als Epoxidverbindungen kommen für die photopolymerisierbaren Massen der Erfindung alle organischen Verbindungen in Frage, die einen durch Ringöffnung polymerisierbaren Oxiranring enthalten. Zu diesen Epoxiden gehören die monomeren Epoxyverbindungen und polymere Epoxide. Es können aliphatische, cycloaliphatische, aromatische oder heterocyclische Verbindungen eingesetzt werden. Diese Verbindungen enthalten im allgemeinen mindestens eine reaktionsfähige Epoxygruppe, vorzugsweise zwei oder mehr Epoxygruppen im Molekül. In den polymeren Epoxyverbindungen können zahlreiche Epoxygruppen vorhanden sein. Beispielsweise kann ein Glycidylmethacrylat-Polymerisat mehrere 1000 Epoxygruppen im Molekül enthalten.
Das Spektrum dieser Epoxidverbindungen kann von niedermolekularen monomeren Verbindungen bis zu hochmolekularen Polymerisaten reichen, die in der Art ihrer Hauptkette und der Seiten- · ketten stark variieren können. Beispielsweise kann die Hauptkette von beliebiger Art sein. Als Substituenten der Hauptkette kommen alle Gruppen in Frage, die kein aktives Wasserstoffatom enthalten, das mit einem Oxiranring in Reaktion treten kann. Beispiele für geeignete Substituenten sind Halogenatome, Ester-, Äther-, SuIfonat-, Siloxan-, Nitro-, Amid-, Nitril- und Phosphatgruppen. Das Molekulargewicht der Epoxyverbindungen kann von etwa 58 bis 100 000 oder mehr betragen. Es können auch Gemische verschiedener Epoxyverbindungen in den photopolymerisierbaren Massen der Erfindung verwendet werden.
609842/0995
Die Epoxidverbindungen sind bekannt. Zu ihnen gehören die Epoxide, beispielsweise Epihalogenhydrine, wie Epichlorhydrin, Alkylenoxide, wie Propylenoxid und Styroloxid, Alkenyloxide, wie Butadienoxid, Glycidylester, wie Glycidyläthylester, Epoxyharze des Glycidyltyps, wie der Diglycidyläther von Bisphenol A und von Novolakharzen, wie sie beispielsweise in dem Buch "Handbook of Epoxy Resins" von Lee und Neville, McGraw-Hill Book Co., New York (1-967) beschrieben sind.
Andere verwendbare Epoxyverbindungen enthalten einen oder mehrere Cyclohexenoxidgruppen, wie die Epoxycyclohexancarbonsäureester, beispielsweise der 3>4-Epoxycyclohexancarbonsäure-3,4-epoxycyclohexylmethylester, 3 > 4~Epoxy-2-methylcyclohexancarbonsäure-3» 4~epoxy-2-methylcyclohexylmethylester und Adipinsäure-di-3,4-epoxy-6-methylcyclohexylmethylester. Weitere brauchbare Epoxide dieser Art sind in der US-PS 3 117 099 beschrieben.
Besonders brauchbare Epoxyverbindungen sind die monomeren GIycidyläther der allgemeinen Formel
R(OCH2-CH - CH2)n
in der R einen Alkyl- oder Arylrest bedeutet und η eine ganze Zahl mit einem Wert von 1 bis 6 ist. Spezielle Beispiele für diese Verbindungen sind die Glycidyläther mehrwertiger Phenole, die durch Umsetzen eines mehrwertigen Phenols mit einem Überschuß eines Chlorhydrins, wie Epichlorhydrin, hergestellt werden. Ein spezielles Beispiel ist der Diglycidyläther von
609842/0995
2,2-Bis-(2,3-epoxypropoxyphenol)-propan. Weitere Beispiele für verwendbare Epoxide dieser Art sind in der US-PS 3 018 ' beschrieben.
Im Handel sind zahlreiche Epoxoverbindungen erhältlich, die in den photopolymerisierbaren Massen der Erfindung verwendet werden können. Beispiele für besonders gut zugängliche Epoxyverbindungen sind Propylenoxid, Epichlorhydrin, Styroloxid, Vinylcyclohexenoxid, Glycidol, Glycidylmethacrylat, Diglycidyläther von Bisphenol A, wie sie beispielsweise unter den Warenzeichen "Epon 828«, "DER·«·331", »DER-332» und »DER-334» verkauft v/erden, Vinylcyclohexendioxid, wie es beispielsweise unter dein Warenzeichen "ERL-4206" verkauft wird, der 3,4-Epoxycyclohexencarbonsäure-3j4-epoxycyclohexylmethylester, der unter dem Warenzeichen "ERL-4221" vorkauft wird, der 3,4-Epoxy-6-methylcyclohexencarbonsäuj:'e-3,4-epoxy-6-methylcyclohexylmethylester, der unter dem Warenzeichen "ERL-4201" verkauft wird, der Adipinsäure-di-3,4-epoxy-6-methylcyclohexylmethylester ("ERL-4289"), der Bis-£,3-epoxycyclopentyl)-äther ("ERL-0400"), aliphatische Epoxide, die mit Polypropylenglykol modifiziert sind ("ERL-4050" und «ERL-4052»), Dipentendioxid ("ERL-4269"), epoxidiertes Polybutadien ("Oxiron 2001"), Epoxygruppen enthaltende Silikonharze, flammabweisende Epoxyharze, beispielsweise ein bromiertes Epoxyharz des Bisphenoltyps ("DER-580"), 1,4-Butandioldiglycidyläther ("Araldite RD-2"), Polyglycidyläther von Phenol-Formaldehyd-Novolakharzen ("DEN-431" und »DEN-438»), sowie Resorcin-diglycidyläther ("Kopoxite").
L -J
6098 4 2/09 9 5
Weitere verwendbare Epoxidverbindungen sind die Copolymerisate von Acrylsäureestern des Glycidols, beispielsweise Glycidylacrylat oder Glycidylmethacrylat, mit einer oder mehreren copolymerisierbaren Vinylverbindungen. Spezielle Beispiele für diese Copolymerisate sind 1ri-Styrol-Glycidylmethacrylat- und 1ii-Methylmethacrylat-Glycidylacrylat-Copolymerisate sowie 62,5:24:13,5-Methylmethacrylat-Xthylacrylat-Glycidylmethacrylat-Copolymerisate.
Weitere verwendbare Epoxyverbindungen sind Polyurethane mit Epoxidgruppen, die durch Umsetzen von organischen Polyisocyanaten mit einem dreiwertigen Alkohol oder einem Gemisch eines dreiwertigen Alkohols und eines zweiwertigen Alkohols unter Bildung von Polyurethan-Prepolyraeren mit Isocyanatendgruppen und Umsetzen der Prepolymeren mit aliphatischen Epoxiden mit Hydroxylgruppen hergestellt werden. Weitere Beispiele für verwendbare Epoxyverbindungen dieser Art sind in der US-PS 3 445 436 beschrieben.
Andere erfindungsgemäß verwendbare kationisch polymerisierbar organische Verbindungen, die in den photopolymerisierbaren Massen der Erfindung verwendet werden können, sind Oxetane, Alkylvinyläther und Lactone. Die Oxetane haben die allgemeine Formel R3 R1
O R
*8
B0984 2/0995
in der R,, iU, R5, Rg, Ry und Rg Wasserstoffatome, Alkyl-, Halogenalkyl-, Alkoxy-, Aryloxy-, Aryl- oder Acyloxyreste bedeuten. Als Halogenatome kommen Fluor-, Chlor-, Brom- und Jodatome in Frage. Die verwendbaren Alkylvinyläther haben die allgemeine Formel
(H2C=CH-O)n-R
in der η eine ganze Zahl mit einem Wert von 1 bis 4 ist, und R einen Alkyl- oder Aralkylrest oder einen anderen niedermolekularen oder hochmolekularen organischen Rest bedeutet, der keine basischen Gruppen, beispielsweise primäre oder sekundäre Aminogruppen, enthält, die stärker basisch sind als Triphenylamin. Die erfindungsgemäß verwendbaren Lactone sind bekannt .
Die photopolymerisierbaren Massen der Erfindung können auch Gemische von zwei oder mehr kationisch polymorisierbaren organischen Verbindungen enthalten. Beispielsweise können die photopolymerisierbaren Epoxidverbindungen zur Einstellung der Viskosität, der Verarbeitbarkeit oder der Eigenschaften der ausgehärteten Produkte mit einer gewissen Menge eines Oxetans, Alkylvinyläthers oder Lactons verschnitten werden.
Die photopolymerisierbaren Massen der Erfindung können je nach den verwendeten kationisch polymerisierbaren organischen Verbindungen und den Jodoniumkomplexsalzen beispielsweise als Klebstoffe, Dichtungsmassen, Gieß- und Formmassen, Einbettmassen, Imprägni.er- und Be Schichtungsmas sen, eingesetzt werden;
609842/0 995
Die photopolymerisierbaren Massen der Erfindung können auc'h andere übliche Zusätze enthalten, beispielsweise bis zu etwa 50 Volumprozent oder mehr Füllstoffe, wie Kieselsäure, Talkum, Glasperlen, Ton oder Metallpulver, wie Aluminium, oder Zinkoxid, Viskositätsmodifiziermittel, Weichmacher, Anhydride, kautschukartige Polymerisate, Klebrigmacher und Pigmente.
Die photopolymerisierbaren Massen der Erfindung sind auf Grund der hohen Abriebsbeständigkeit der ausgehärteten Produkte und ihrer Haftung an starren, elastischen oder biegsamen Substraten, wie Metall, Kunststoffen, Gummi, Glas, Papier, Holz oder Keramik, besonders geeignet in der Reproduktionstechnik. Die Aushärtungsprodukte haben eine ausgezeichnete Beständigkeit gegenüber den meisten Lösungsmitteln und Chemikalien,und es lassen sich Abbildungen mit hoher Auflösung herstellen. Anwendungsgebiete sind beispielsweise die Herstellung säure- und alkalibeständiger Abbildungen zum chemischen Walzen, Tiefdruckbildern, Offsetplatten, Anilindruckformen, sieblosen Flachdruckformen, Druckplatten, Schablonen, Mikrobildern für gedruckte Schaltungen, Mikrobildern für die Informationsspeicherung, Dekorationen von Papier, Glas und Metalloberflächen und schwach ausgehärteten Beschichtungen. Die Massen der Erfindung können auch zum Imprägnieren von Substraten, wie Glasfasergewebe, zur Herstellung von lagerstabilen Produkten verwendet werden, die sich für~ zahlreiche Herstellungs- und Reparaturverfahren eignen, bei denen härtbare flüssige Massen schlecht gehandhabt werden können.
609842/0995
Die Photopolymerisation der Massen der Erfindung erfolgt beim Belichten mit beliebigen Strahlungsquellen, wie energiereiche Strahlung mit einer Wellenlänge innerhalb des ultravioletten und sichtbaren Spektralbereiches imitiert. Beispiele für derartige Strahlungsquellen sind Quecksilber-, Xenon-, Kohlenstoffbogen- und Wolframfadenlampen sowie Sonnenlicht. Die Belichtung kann weniger als etwa 1 Sekunde bis 10 Minuten oder mehr betragen, je nach der Menge und der Art der eingesetzten Epoxyverbindung und des Jodoniumkomplexsalzes, der Strahlungsquelle, dem Abstand von der Strahlungsquelle und der Schichtdicke der auszuhärtenden Masse. Die Massen der Erfindung können auch durch Behandlung mit Elektronenstrahlen polymerisiert v/erden. Im allgemeinen beträgt die erforderliche Dosis weniger als 1 megarad bis 10*0 megarad oder mehr. Einer der wesentlichen Vorzüge der Aushärtung mit Elektronenstrahlen ist der, daß stark pigmentierte Massen rascher und wirkungsvoller ausgehärtet werden können als bei Belichtung mit energiereicher Strahlung.
Vermutlich erfolgt die Photopolymerisation durch strahlungsinduzierten Abbau des aromatischen Jodoniumkomplexsalzes unter Bildung einer Lewis-Säure, die die Polymerisation der kationisch polymerisierbaren organischen Verbindungen beschleunigt. Sobald der Abbau des aromatischen Jodoniumkomplexsalzes einsetzt, läuft die Aushärtungsreaktion ab, selbst nachdem die Strahlungsquelle abgeschaltet wurde. Durch Anwendung thermischer Energie während oder' nach der Bestrahlung wird die Aushärtung stark beschleunigt.
L -J
B098A7/099B
- 16 . 2520A89 π
Die erfindungsgemäß verwendeten aromatischen Jodoniumkomplexsalze sind ihrerseits nur im ultravioletten Spektralbereich lichtempfindlich. Durch Sensibilisatoren für bekannte, photolytisch spaltbare organische Halogenverbindungen, wie sie in der US-PS 3 729 313 beschrieben sind, werden sie jedoch für das nahe Ultraviolett und den sichtbaren Bereich des Spektrums sensibilisiert. Beispiele für verwendbare Sensibilisatoren sind aromatische Amine, Aminoketone und gefärbte aromatische polycyclische Kohlenwasserstoffe. Die Verwendung basischer Aminoverbindungen ist nicht bevorzugt, da diese Verbindungen mit der aus dem Photoinitiator entstandenen Lewis-Säure reagieren und die Polymerisation der kationisch polymerisierbaren organischen Verbindungen verlangsamen.
Das aromatische Jodoniumkomplexsalz kann in einer Menge von etwa 0,5 bis 30 Teilen, vorzugsweise von etwa 1 bis 7 Teilen, je 100 Teile der kationisch polymerisierbaren organischen Verbindung verwendet werden. Für photopolymerisierbare Massen, die einen Sensibilisator enthalten,' so daß die Masse gegenüber Strahlung im sichtbaren Spektralbereich empfindlich ist, können etwa 0,01 bis 1,0 Teile, vorzugsweise etwa 0,1 bis 1,0 Teile, Sensibilisator pro Teil aromatisches Jodoniumkomplexsalz verwendet werden.
Die Massen der Erfindung werden durch einfaches Vermischen unter Sicherheitslichtbedingungen des aromatischen Jodoniumkomplexsalzes und des gegebenenfalls verwendeten Sensibilisators mit der kationisch polymerisierbaren organischen Verbindung hergestellt. Gegebenenfalls kann zusätzlich ein iner- _j
6098A2/099S
- 1? - 2520A89 *
tes Lösungsmittel verwendet werden. Beispiele für verwendbare Lösungsmittel sind Aceton, Acetonitril und Methanol sowie andere Lösungsmittel, die mit der kationisch polymerisierbaren organischen Verbindung, dem aromatischen Jodoniumkomplexsalz und dem Sensibilisator nicht reagieren. Als Lösungsmittel kann auch eine flüssige kationisch polymerisierbare organische Verbindung für eine andere flüssige oder feste kationisch polymerisierbare organische Verbindung verwendet werden. Im allgemeinen wird das Lösungsmittel jedoch lediglich zur Einstellung der Viskosität der Masse verwendet. Lösungsmittelfreie Massen können durch einfaches Auflösen des aromatischen Jodoniumkomplexsalzes und des gegebenenfalls verwendeten Sensibilisators in der kationisch polymerisierbaren organischen Verbindung und gegebenenfalls gelindem Erwärmen hergestellt werden.
Die Beispiele erläutern die Erfindung. Teile und Prozentangaben beziehen sich auf das Gewicht, sofern nichts anderes angegeben ist.
Beispiele 1 bis 6
Diphenyljodonium-hexafluophosphat(rait 0pIPFg bezeichnet) in den in Tabelle I angegebenen Mengen wird zu 5 Teilen eines Diglycidyläthers von Bisphenol A mit einem Epoxyäquivalent von etwa 190 (»DER-331") gegeben unr> bei etwa 50°C gründlich eingemischt. Sodann wird Jeder Ansatz in einer Dicke von 0,006 cm auf eine 0,005 cm dicke Polyesterfolie aufgetragen. Proben der Beschichtungen werden sodann mit einer 275 Watt UV-Lampe (General Electric RS) in einem Abstand von 12,7 cm _j
609842/0995
bestrahlt. Die Klebfreizeit der Beschichtungen ist in Tabelle I angegeben.
Tabelle I
Beispiel 12 3^56 (J)2IPF6 (Teile) 0,05 0,10 0;15 0;20 0.25 0;30 Klebfreizeit,
see ; 120 90 80 60 25 · 25
Aus Tabelle I ist ersichtlich, daß die Klebfreizeit von 120 Sekunden bei Iprozentiger Konzentration des Diaryljodoniumkomplexsalzes auf 25 Sekunden bei "einer Konzentration von 5 % des Komplexsalzes abnimmt. Eine Erhöhung der Komplexsalzkonzentration auf 6 % ergibt keine v/eitere Verminderung der Klebfreizeit, weil bei 6 % die Löslichkeit des Komplexsalzes . in der Epoxyverbindung überschritten ist.
Beispiele 7 bis 16
Gemäß Beispiel 1 bis 6 werden aus verschiedenen Epoxyverbindungen und verschiedenen Mengen verschiedener aromatischer Jodoniumkomplexsalze der in Tabelle II angegebenen Art photopolymerisierbare Massen hergestellt. Mit diesen Massen werden_ Beschichtungen hergestellt,- die in einem Abstand von 12,7 cm mit einer UV-Lampe (General Electric RS) bzw. in einem Abstand von 17,8 cm mit einer Quecksilberdampflampe (General Electric H3T7) belichtet werden. Die Klebfreizeit ist in Tabelle II angegeben.
6 0 9842/0995
Epoxy-
verbin-
dun£
Tabelle II Teile Strah-
lungs-
quelTfi
Kleb-
frei-
zeit,
SP1O- - ,
Bei
spiel" --■
"DER-334" Jodonium-
komplex-
salz- . . -
6 UV-Lampe 25
7 "DER-334" Φ2ιρρ6 (&) 6 H3T7 (R) 60
8 "DER-334" Φ-,ΙΒΡ,/^ 4 H3T7 (R) 90
9 "DER-334" Φ2 ΙΒΡ4 2 H3T7 (R) 60
10 "ERL-4221" Φ2ιρρ6 4 H3T7 (R) 90
11 "ERL-4221" Φ2ιρρ6 ■4 H3T7 (R) 180
12 Ptienyl
lycidyl
"ther
Φ2ΙΒΡ^ 4 H3T7 (R) 180
13 "Epon-828" Φ2ιρρ6 2 H3T7 (R) 60
14 "DER-331" Φ2ISbP6^c) (d) 6 UV-Lampe 40
15 "Epon-828" (CH3^)2IPF6 5 UV-Lampe 10
16 Φ2ISbP6
Anmerkung:
(a) Diphenyljodonium-hexafluophosphat
(b) Diphenyljodonium-tetrafluoborat
(c) Diphenyljοdonium-hexafluoantimonat
(d) Ditolyloodonium-hexafluophosphat.
Beispiele 17 bis 23
Gemäß Beispiel 1 werden photopolymerisierbare Massen unter Verwendung der in Tabelle III angegebenen Epoxyverbindungen, aromatischen Jodoniumkomplexsalze und Sebsibilisierungsfarbstoffe hergestellt. Die Klebfreizeit ist ebenfalls in- Tabelle III angegeben.
6098A2/0995
Tabelle III
Beispiel
Epoxyverbin-
dung
Komplexsalz Teils Sensibilisator,
Gew.-^, bezogen auf Komplexsalz
Strahlungs- Kleb
quelle
freizeit, see
17
18
20
21
22
trDER-331IT<
"DER-331"a
"Epon 826"b
"DER-331"a (CH3-^)2IPF6 (β)
'3- (ΟΗ3-φ)2ΙΡΡ6 (β)
Φ2ιρρ6
"DER-331"a Φ2 ΙΡΡ6
"Epon 826"b φ
2-Äthyl-9s10-dimethoxyanthracen
Triphenylarain
(10) UV-Lampe - 10' (10) .UV-Lampe 30
CH=CH-CO-^)-OCH3 (10) UV-Lampe · 10
5,10-Diäthoxy-16-17- (10) H3T7 ' dimethoxyviolanthren·.
Perylen·.
2-Jfchyl-9,10-dimethoxyanthracen
wie in Beispiel 19
Anm.: (a) - Diglycidyläther von Bisphenol A mit einem Epoxyäquivalent von etwa 190.
(b) - Niedrigviskoser Glycidyläther von Bisphenol A mit einem Epoxyäquivalent von etwa 185.
10
(10) . H3T7 ■ ; 10 (9) UV-Lampe 5
(8) UV-Lampe 8
cn ro σ
4> CD CO
Beispiel 24
Eine Lösung von 20 g Diglycidyläther von Bisphenol A mit einem Epoxyäquivalent von etwa 190 ("DKR-331"), 1,0 g Diphenyl jodonium-hexafluophosphat und 0,1 g 2-Äthyl-9,1O-dimeth~ oxyanthracen wird in einer Dicke von 0,076 cm auf eine 0,005 cm dicke Polyesterfolie aufgetragen. Danach wird die Beschichtung mit einer UV-Lampe (General Electric RS) 5 Minuten in einem Abstand von 12,7 cm bestrahlt. Es wird eine harte, ausgehärtete Beschichtung erhalten, die fest an der Polyesterfolie haftet. Die ausgehärtete Probe ist vollständig durchsichtig und. zeigt keine Blasenbildung. Unbelichtete Teile der Beschichtung können mit Aceton ausgewaschen werden. Es hinterbleibt eine scharfe Bildfläche mit deutlicher Zeichnung.
Beispiel 25
Es wird eine Lösung hergestellt, die 5 g einer 5prozentigen Lösung eines 1:1-Styrol-Glycidylmethacrylat~Copolymerisats in Aceton, 0,01 g Diphenyljodonium-hexafluophosphat und 0,005 g 2-Äthyl-9,10-dimethoxyanthracen enthält. Die Lösung wird in einer Dicke von 0,006 cm auf eine 0,005 cm dicke Polyesterfolie aufgetragen und an der Luft getrocknet. Sodann wird die Probe 3 Minuten durch einen V~2 Stufenkeil mit einer Quecksilberdampflampe (General Electric H3T7) in einem Abstand von 17,8 cm belichtet. Hierauf wird die Probe in Aceton getaucht, um die unbelichteten Bereiche bzw. Details auszuwaschen. Es hinterbleiben 7 Stufen des auspolymerisierten Produkts.
609842/0995
Beispiel 26
Ein weiteres Beispiel für die Verwendbarkeit der photopolymerisierbaren Massen ist ihre Verwendung als Lack zum Beschichten von Angelwinden.
Beispiele 27 bis 33
Verschiedene kationisch polymerisierbare organische Verbindungen werden in einer Menge von-jeweils 3 g in Lösungen eingetragen, die 0,15 g Diphenylj οdonium-hexafluophosphat und 0,02 g 2~Äthyl-9,10-dimethoxyanthracen in 1 bis 2 g Methylenchlorid enthalten. Die erhaltenen Lösungen in Reagensgläsern werden in einem Abstand von 12,7 cm mit einer 275 Watt UV-Lampe (General Electric RS) bestrahlt. Es werden folgende Ergebnisse erhalten?
9842/0995
Minnesota Mining and ~~"—— XJv f
Mfi
ing and
Manufacturing Compnay L 297
Die Masse wird aus folgenden Stoffen hergestellt:
Teile
Diglycidyläther des Bisphenol A
("DER-334") 100
Phenylglycidyläther 10
Diphenyl!οdonium-Hexafluorphosphat 2
2-Athyl-9,1O-dimethoxyanthrae en 0,1
Unter sanftein Erhitzen wird der Diglycidyläther des Bisphenol A ("DER-334" ) "und der Phenylglycidyläther gemischt; danach wird das Diphenyliodoniumkoinplexsalz und der Sensibilisator unter Rühren zugegeben, wobei eine klare photopolymerisierbare Lösung erhalten wird.
Die photopolymerisierbare Lösung v/ird auf die Nylonschnurwinden eines Angplschnurführers aufgetragen. Die Schnur wurde vorher auf etwa 500C erhitzt, so daß die Lösung rasch unter Benutzung eines Pinsels die Winden durchtränken kann. Im Abstand von etwa 7»5 cm werden die imprägnierten Winden etwa 2 Minuten mit einer 275 Watt UV-Lampe bestrahlt, wobei die Angelrute langt sam gedreht wird. In gleicher Weise wird eine zweite Schicht aufgezogen.G latte lackierte Winden mit hohem Glanz und Beständigkeit werden erhalten.
Diese Technik des Überzugs von Angelwinden ist viel schneller und einfacher als die üblichen Techniken, bei denen Lacke und Firnisse auf Lösungcmittelbacis verwendet v/erden. / _j
6 0 9 8 4 2/0995
- au-
Bei- kationisch polymerisier- Belichspiel bare organische Verbindung tungs-
zeit,
Ergebnis
sec
HO(
Diäthylenglykoldivinyläther
Chloräthylvinyläther
NHCO2CCH2)^OCH=CH2
.NHCO2(CH2)HOCh=CH2
CH0
,CH
CH
CH,
y-Valerolacton -
Caprolacton
15 5
30 60
90
120
120 Gelierung*
heftige exotherm verlaufende Polymerisation
Gelierung*
unlösliche Haut des entstandenen Polymers
Bildung von festem Polymerisat
Polymerbildung
Polymerbildung
Anm.; * Beim Stehen bilden sich innerhalb weniger als 24 Stunden feste Polymerisate.
Beis piele 34 bis 35
Es v/erden zwei Lösungen hergestellt, die folgende Bestandteile in den angegebenen Gewichtsteilen enthalten.
2/0995
Bestandteil Beispiel 34 Beispiel 35
Diglycidyläther von Bisphenol A 5,0 5,0 mit einem Epoxyäquivalent von
etwa 190 (»DER-331")
Aceton 2,0 2,0
Diphenyljοdonium-hexafluophosphat 0,25
Die beiden Lösungen werden auf Polyesterfolien aufgetragen und sodann getrocknet. Es hinterbleibt ein 17 Mikron dicker Anstrichfilm. Jede Probe wird mit einem Elektronenbeschleuniger von 100 kV und 2,5 mA in einem Abstand von 19 mm bestrahlt. Eine Dosis von 10 megarad verursacht bei Beispiel 34 keine bemerkenswerte Wirkung. Eine Dosis von 3 megarad ist bei der Masse von Beispiel 35 ausreichend, um sie bis zum klebfreien Zustand auszuhärten.
609842/0995

Claims (18)

Patentanspr üc h e
1. Photopolyraerisierbare Massen auf der Basis von kationisch polymerisierbaren organischen Verbindungen, die einen Photoinitiator enthalten, dadurch gekennzeichnet, daß der Photoinitiator ein aromatisches Jodoniumkomplexsalz der allgemeinen Formel ι
(D
1 2
ist, in der Ar und Ar aromatische Reste mit 4 bis 20 Kohlenstoffatomen, nämlich Phenyl-', Thienyl-, Furanyl- oder Pyrazolylgruppen, bedeuten, Z ein Sauerstoff- oder Schwefelatom, die Gruppe S=O, C=O, O=S=O oder R-A, wobei R ein Wasserstoffatom,
It t I
einen niederen Alkylrest oder einen Acylrest bedeutet, eine
Kohlenstoff-Kohlenstoff-Bindung oder die Gruppe R^-C-R2 darstellt, wobei R,. und Rp Viasserstoffatome, Alkylreste mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen oder Alkenylreste mit 2 bis 4 Kohlenstoffatomen bedeuten, η den Wert 0 oder 1 hat und Xr ein Tetrafluoborat-, Hexafluophosphat-, Hexafluoarsenat-, Hexachloroantimonat- oder Hexafluoantimonat-Anion ist.
2. Massen nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die kationisch polymerisierbare organische Verbindung eine Epoxyverbindung mit mindestens einer reaktionsfähigen Epoxygruppe im Molekül ist.
609842/0395
3. Massen nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Epoxyverbindung ein Epichlorhydrin, Alkylenoxid, Alkenyloxid, Glycidylester, Glycidyläther, ein Novolakharz mit Epoxygruppen, ein Copolyraerisat eines Acrylsäureesters von Glycidol mit einer copolymerisierbaren Vinylverbindung oder ein Polyurethan mit Epoxygruppen ist.
4. Massen nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der
Photoinitiator eine Verbindung der allgemeinen Formel I ist,
12 '
in der Ar und Ar gegebenenfalls substituierte Phenylgruppen
bedeuten!.
5. Massen nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der
Photoinitiator eine Verbinduiig der allgemeinen Formel I ist,
1 2
in der Ar und Ar gegebenenfalls substituierte Thienylgrup-
pen bedeuten.
6. Massen nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß der Photoinitiator eine Verbindung der allgemeinen Formel I ist, in der η den Wert O hat.
7. Massen nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß der Photoinitiator eine Verbindung der allgemeinen Formel I ist, i-n der η den Wert 1 hat und Z eine Kohlenstoff-Kohlenstoff-Bindung ist.
8. Massen nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß der Photoinitiator eine Verbindung der allgemeinen Formel I ist,
. in der η den Vert O hat. j
B Π 9 8 k 0 i 0 α 9 r,
2b2ü489
9. Massen nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß der Photoinitiator eine Verbindung der allgemeinen Formel I ist,
1 ?
in der Ar und Ar" Alkylphenylgruppen bedeuten.
10. Massen nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Photoinitiator eine Verbindung der allgemeinen Formel I ist, in der X ein Tetrafluoborat-, Hexafluophosphat- oder Hexafluoantimonat-Anion ist.
11. Massen nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch einen Gehalt von 1 bis 7 Gewichtsteilen des Photoinitiators pro 100 Gewichtsteile der kationisch polymerisierbaren organischen Verbindung.
12. Massen nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch einen zusätzlichen Gehalt von etwa 0,01 bis 1 Gewichtsteil eines Sensibilisierungsfarbstoff es pro Gewichtsteil Photoinitiator.
13· Massen nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die kationisch polymerisierbare organische Verbindung eine Vinyläthergruppe enthält.
14. Massen nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die kationisch polymerisierbare organische Verbindung eine Oxetangruppe enthält.
15. Massen nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die kationisch polymerisierbare Verbindung ein Lacton ist.
6 0 9 8 4 2/0995
16. Massen nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch einen Gehalt von bis zu 50 Volumprozent eines Füllstoffes.
17. Verwendung der photopolymerisierbaren Massen nach Anspruch 1 zur Herstellung von ausgehärteten Beschichtungen.
18. Aromatische Jodoniumkomplexsalze der allgemeinen Formel
(D
1 ? ' ■
in der Ar und Ar aromatische Reste mit 4 bis 20 Kohlenstoffatomen, nämlich Phenyl-, Thienyl-, Furanyl- oder Pyrazolylgruppen, bedeuten, Z ein Sauerstoff- oder Schwefelatom,
lit I
die Gruppe S=O, C~0, O=S=O oder R-N, wobei R ein Wasserstoff-
t t I I
atom, einen niederen Alkylrest oder einen Acylrest bedeutet,
eine Kohlenstoff-Kohlenstoff-Bindung oder die Gruppe R^-C-R5 darstel.lt, wobei R^ und Rp Viasserstoff atome, Alkylreste mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen oder Alkenylreste mit 2 bis 4 Kohlenstoffatomen bedeuten, η den Wert 0 oder 1 hat und λ ein Tetrafluoborat-, Hexafluophosphat^,Hexafluoarsenat-, Hexachloroantimonat- oder Hexafluoantimonat-Anion ist.
6Π98Δ?
DE2520489A 1974-05-08 1975-05-07 Photopolymerisierbare Massen Expired DE2520489C2 (de)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US46789974A 1974-05-08 1974-05-08
US05/564,421 US4394403A (en) 1974-05-08 1975-04-02 Photopolymerizable compositions
CA000224450A CA1291760C (en) 1974-05-08 1975-04-11 Aromatic iodonium complex salt photoinitiators

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE2520489A1 true DE2520489A1 (de) 1976-10-14
DE2520489C2 DE2520489C2 (de) 1983-05-05

Family

ID=27163902

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE2520489A Expired DE2520489C2 (de) 1974-05-08 1975-05-07 Photopolymerisierbare Massen

Country Status (8)

Country Link
US (1) US4394403A (de)
JP (1) JPS50158680A (de)
AU (1) AU497960B2 (de)
BE (1) BE828841A (de)
CH (1) CH617711A5 (de)
DE (1) DE2520489C2 (de)
FR (1) FR2270269B1 (de)
GB (2) GB1491539A (de)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2518639C3 (de) 1974-05-02 1979-05-23 General Electric Co., Schenectady, N.Y. (V.St.A.) Härtbare Zusammensetzungen
DE2853886A1 (de) * 1977-12-16 1979-06-21 Gen Electric Hitzehaertbare zusammensetzungen
DE2853885A1 (de) * 1977-12-16 1979-06-21 Gen Electric Haertbare zusammensetzung und verfahren zum schaeumen derselben
DE2854011A1 (de) * 1978-12-14 1980-07-03 Gen Electric Haertbare zusammensetzungen und verfahren zu deren haertung
US4351708A (en) 1980-02-29 1982-09-28 Ciba-Geigy Corporation Photochemically or thermally polymerizable mixtures

Families Citing this family (222)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4256828A (en) * 1975-09-02 1981-03-17 Minnesota Mining And Manufacturing Company Photocopolymerizable compositions based on epoxy and hydroxyl-containing organic materials
AU517415B2 (en) * 1976-07-09 1981-07-30 General Electric Company Curable polymer composition
US4108747A (en) * 1976-07-14 1978-08-22 General Electric Company Curable compositions and method for curing such compositions
US4090936A (en) 1976-10-28 1978-05-23 Minnesota Mining And Manufacturing Company Photohardenable compositions
US4101513A (en) * 1977-02-02 1978-07-18 Minnesota Mining And Manufacturing Company Catalyst for condensation of hydrolyzable silanes and storage stable compositions thereof
US4130690A (en) * 1977-09-12 1978-12-19 Minnesota Mining And Manufacturing Company Abrasion resistant coatings cured in the presence of PF5, SbF5, or HSbF6
US4231886A (en) * 1979-01-29 1980-11-04 Minnesota Mining And Manufacturing Company Ester solutions of complex salts
US4240131A (en) * 1979-03-14 1980-12-16 Minnesota Mining And Manufacturing Company Sealed lighting element assembly
US4356050A (en) * 1979-12-11 1982-10-26 General Electric Company Method of adhesive bonding using visible light cured epoxies
US4314917A (en) * 1980-02-12 1982-02-09 General Electric Company High-solids epoxy prepolymer coating composition
US4336366A (en) 1980-02-29 1982-06-22 Ciba-Geigy Corporation Thermally polymerizable mixtures and processes for the thermally-initiated polymerization of cationically polymerizable compounds
DE3107087A1 (de) * 1980-02-29 1981-12-24 CIBA-GEIGY AG, 4002 Basel "photopolymerisierbare gemische und verfahren zur photopolymerisation von kationisch polymerisierbaren verbindungen"
US4482679A (en) * 1982-09-18 1984-11-13 Ciba-Geigy Corporation Heat-curable epoxy compositions containing diaryliodosyl salts
US4518676A (en) * 1982-09-18 1985-05-21 Ciba Geigy Corporation Photopolymerizable compositions containing diaryliodosyl salts
US4537725A (en) * 1982-09-18 1985-08-27 Ciba-Geigy Corporation Diaryliodosyl salts
JPS5974103A (ja) * 1982-10-19 1984-04-26 Mitsubishi Electric Corp 紫外線硬化型樹脂組成物
US4683317A (en) * 1983-05-23 1987-07-28 General Electric Company Photopolymerizable organic compositions and diaryliodonium salts used therein
US4882245A (en) * 1985-10-28 1989-11-21 International Business Machines Corporation Photoresist composition and printed circuit boards and packages made therewith
US4937159A (en) * 1985-11-20 1990-06-26 The Mead Corporation Photosensitive materials and compositions containing ionic dye compounds as initiators and thiols as autooxidizers
US4772530A (en) * 1986-05-06 1988-09-20 The Mead Corporation Photosensitive materials containing ionic dye compounds as initiators
USRE33211E (en) * 1986-08-19 1990-05-08 Allied-Signal Inc. Vinyl ether terminated urethane resins
US4751103A (en) * 1986-11-13 1988-06-14 Ashland Oil, Inc. Epoxy primers for polyurethane structural adhesives
US4874450A (en) * 1987-01-29 1989-10-17 The Mead Corporation Laminating transparent or translucent materials using ionic dye-counter ion complexes
US4997717A (en) * 1987-03-27 1991-03-05 Ciba-Geigy Corporation Photocurable abrasives
US4828583A (en) * 1987-04-02 1989-05-09 Minnesota Mining And Manufacturing Company Coated abrasive binder containing ternary photoinitiator system
CA1323949C (en) * 1987-04-02 1993-11-02 Michael C. Palazzotto Ternary photoinitiator system for addition polymerization
US4801392A (en) * 1987-07-02 1989-01-31 The Mead Corporation Magnetic recording compositions containing ionic dye compounds as initiators
GB2243365B (en) * 1987-10-01 1992-04-29 Gen Electric Carboxy iodonium bisulfate salts
US4889792A (en) * 1987-12-09 1989-12-26 Minnesota Mining And Manufacturing Company Ternary photoinitiator system for addition polymerization
US4959297A (en) * 1987-12-09 1990-09-25 Minnesota Mining And Manufacturing Company Ternary photoinitiator system for addition polymerization
US4975300A (en) * 1987-12-31 1990-12-04 Minnesota Mining And Manufacturing Company Method for curing an organic coating using condensation heating and radiation energy
US4882201A (en) * 1988-03-21 1989-11-21 General Electric Company Non-toxic aryl onium salts, UV curable coating compositions and food packaging use
US5015180A (en) * 1989-03-01 1991-05-14 Minnesota Mining And Manufacturing Company Dental article containing light-curable paste
CA2015894A1 (en) * 1989-05-30 1990-11-30 Mohammad Z. Ali High sensitivity photopolymerizable compositions containing hydrogen donating mercaptans
DE69029104T2 (de) 1989-07-12 1997-03-20 Fuji Photo Film Co Ltd Polysiloxane und positiv arbeitende Resistmasse
DE4023247C1 (de) * 1990-07-21 1991-11-21 Th. Goldschmidt Ag, 4300 Essen, De
DE4023556A1 (de) * 1990-07-25 1992-01-30 Goldschmidt Ag Th Haertbare epoxygruppen aufweisende organopolysiloxane, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung als haertbare beschichtungsmittel mit abhaesiven eigenschaften
US5262232A (en) * 1992-01-22 1993-11-16 Minnesota Mining And Manufacturing Company Vibration damping constructions using acrylate-containing damping materials
US5463084A (en) * 1992-02-18 1995-10-31 Rensselaer Polytechnic Institute Photocurable silicone oxetanes
US5362769A (en) * 1992-05-07 1994-11-08 Ormco Corporation Orthodontic adhesives
GB9309275D0 (en) * 1993-05-05 1993-06-16 Smith & Nephew Orthopaedic material
EP0646580B1 (de) * 1993-09-16 2000-05-31 Ciba SC Holding AG Vinyletherverbindungen mit zusätzlichen von Vinylethergruppen verschiedenen funktionellen Gruppen und deren Verwendung zur Formulierung härtbarer Zusammensetzungen
US5856373A (en) * 1994-10-31 1999-01-05 Minnesota Mining And Manufacturing Company Dental visible light curable epoxy system with enhanced depth of cure
US5877229A (en) * 1995-07-26 1999-03-02 Lockheed Martin Energy Systems, Inc. High energy electron beam curing of epoxy resin systems incorporating cationic photoinitiators
WO1998012232A1 (fr) 1996-09-19 1998-03-26 Nippon Soda Co., Ltd. Composition phytocatalytique
JPH1087963A (ja) * 1996-09-20 1998-04-07 Japan Synthetic Rubber Co Ltd 樹脂組成物および繊維質材料成形型
JP3786480B2 (ja) * 1996-10-14 2006-06-14 Jsr株式会社 光硬化性樹脂組成物
JP3626302B2 (ja) * 1996-12-10 2005-03-09 Jsr株式会社 光硬化性樹脂組成物
JP3765896B2 (ja) * 1996-12-13 2006-04-12 Jsr株式会社 光学的立体造形用光硬化性樹脂組成物
US6254954B1 (en) 1997-02-28 2001-07-03 3M Innovative Properties Company Pressure-sensitive adhesive tape
DE59804415D1 (de) * 1997-03-07 2002-07-18 Henkel Kgaa Klebstoffsysteme für ein ein- oder mehrstufiges klebebindungsverfahren, verfahren zur klebebindung von druckschriften
FR2762001B1 (fr) * 1997-04-11 1999-07-02 Rhodia Chimie Sa Amorceurs non toxiques, resines a groupements organofonctionnels reticulables comprenant les amorceurs, et leur utilisation pour la preparation de polymeres stables et non toxiques
US6025406A (en) * 1997-04-11 2000-02-15 3M Innovative Properties Company Ternary photoinitiator system for curing of epoxy resins
US5998495A (en) * 1997-04-11 1999-12-07 3M Innovative Properties Company Ternary photoinitiator system for curing of epoxy/polyol resin compositions
US6085004A (en) * 1998-02-03 2000-07-04 3M Innovative Properties Company Optical fiber connector using photocurable adhesive
US6331080B1 (en) 1998-07-15 2001-12-18 3M Innovative Properties Company Optical fiber connector using colored photocurable adhesive
US6306926B1 (en) 1998-10-07 2001-10-23 3M Innovative Properties Company Radiopaque cationically polymerizable compositions comprising a radiopacifying filler, and method for polymerizing same
CA2353506A1 (en) 1998-11-02 2000-05-11 3M Innovative Properties Company Transparent conductive oxides for plastic flat panel displays
US7343960B1 (en) 1998-11-20 2008-03-18 Rolls-Royce Corporation Method and apparatus for production of a cast component
US6932145B2 (en) 1998-11-20 2005-08-23 Rolls-Royce Corporation Method and apparatus for production of a cast component
CA2357000A1 (en) * 1999-01-08 2000-07-13 3M Innovative Properties Company Dental mill blanks
WO2001012745A1 (fr) * 1999-08-12 2001-02-22 Mitsui Chemicals, Inc. Composition de resine photodurcissable pour materiau d'etancheite et procede correspondant
JP4800535B2 (ja) * 1999-10-28 2011-10-26 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー ナノサイズシリカ粒子を含有する歯科材料
US6387981B1 (en) 1999-10-28 2002-05-14 3M Innovative Properties Company Radiopaque dental materials with nano-sized particles
US6730156B1 (en) 1999-10-28 2004-05-04 3M Innovative Properties Company Clustered particle dental fillers
US6376590B2 (en) 1999-10-28 2002-04-23 3M Innovative Properties Company Zirconia sol, process of making and composite material
US6572693B1 (en) 1999-10-28 2003-06-03 3M Innovative Properties Company Aesthetic dental materials
US6444725B1 (en) 2000-01-21 2002-09-03 3M Innovative Properties Company Color-changing dental compositions
JP2001207150A (ja) * 2000-01-26 2001-07-31 Sony Chem Corp 接着剤組成物
US6852766B1 (en) 2000-06-15 2005-02-08 3M Innovative Properties Company Multiphoton photosensitization system
US7166409B2 (en) * 2000-06-15 2007-01-23 3M Innovative Properties Company Multipass multiphoton absorption method and apparatus
WO2001096959A2 (en) * 2000-06-15 2001-12-20 3M Innovative Properties Company Multidirectional photoreactive absorption method
AU2001266905A1 (en) * 2000-06-15 2001-12-24 3M Innovative Properties Company Microfabrication of organic optical elements
ATE440305T1 (de) * 2000-06-15 2009-09-15 3M Innovative Properties Co Erzeugung eines mehrfarbenbildes mittels eines multiphoton photochemischen verfahren
US7118845B2 (en) * 2000-06-15 2006-10-10 3M Innovative Properties Company Multiphoton photochemical process and articles preparable thereby
US7381516B2 (en) * 2002-10-02 2008-06-03 3M Innovative Properties Company Multiphoton photosensitization system
JP2004503392A (ja) * 2000-06-15 2004-02-05 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー マイクロ流体製品を製造するためのプロセス
US7265161B2 (en) * 2002-10-02 2007-09-04 3M Innovative Properties Company Multi-photon reactive compositions with inorganic particles and method for fabricating structures
US7005229B2 (en) * 2002-10-02 2006-02-28 3M Innovative Properties Company Multiphoton photosensitization method
WO2001096917A2 (en) * 2000-06-15 2001-12-20 3M Innovative Properties Company Multiphoton curing to provide encapsulated optical elements
US6596346B2 (en) * 2000-09-29 2003-07-22 International Business Machines Corporation Silicone elastomer stamp with hydrophilic surfaces and method of making same
US6528555B1 (en) 2000-10-12 2003-03-04 3M Innovative Properties Company Adhesive for use in the oral environment having color-changing capabilities
WO2002079691A1 (en) 2001-03-30 2002-10-10 The Arizona Board Of Regents On Behalf Of The University Of Arizona Materials, methods, and uses for photochemical generation of acids and/or radical species
JP2003073481A (ja) 2001-09-06 2003-03-12 Brother Ind Ltd 活性エネルギー線硬化型組成物、それを含有するインク及びそのインクを使用するプリンタ
JP2003105077A (ja) 2001-09-28 2003-04-09 Brother Ind Ltd 活性エネルギー線硬化型組成物、それを含有するインク及びそのインクを使用するプリンタ
US20030218269A1 (en) * 2001-09-28 2003-11-27 Brother Kogyo Kabushiki Kaisha Image-receiving layer composition and overcoat layer composition for ink-jet recording
US6750266B2 (en) * 2001-12-28 2004-06-15 3M Innovative Properties Company Multiphoton photosensitization system
US6765036B2 (en) * 2002-01-15 2004-07-20 3M Innovative Properties Company Ternary photoinitiator system for cationically polymerizable resins
JP2003212965A (ja) * 2002-01-28 2003-07-30 Brother Ind Ltd 活性エネルギー線硬化型組成物
CA2473861C (en) * 2002-01-31 2012-03-13 3M Innovative Properties Company Dental pastes, dental articles, and methods
US7318991B2 (en) * 2002-03-04 2008-01-15 Wako Pure Chemical Industries, Ltd. Heterocycle-bearing onium salts
EP1348727A3 (de) 2002-03-29 2003-12-03 Brother Kogyo Kabushiki Kaisha Bildempfangsschichtzusammensetzung und Schutzschichtzusammensetzung für Tintenstrahlaufzeichnungsmedien
US7084184B2 (en) * 2002-08-30 2006-08-01 Konica Corporation Actinic ray curable composition, actinic ray curable ink, image forming method, and ink jet recording apparatus
US7232650B2 (en) * 2002-10-02 2007-06-19 3M Innovative Properties Company Planar inorganic device
JP4266310B2 (ja) * 2003-01-31 2009-05-20 ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー. 感光性樹脂組成物および該組成物を用いた樹脂パターンの形成方法
US7495035B2 (en) * 2003-08-12 2009-02-24 Mitsui Chemicals, Inc. Photo-curable resin composition and sealing agent for flat panel display using the same
US7030169B2 (en) * 2003-09-26 2006-04-18 3M Innovative Properties Company Arylsulfinate salts in initiator systems for polymeric reactions
US7064152B2 (en) * 2003-09-26 2006-06-20 3M Innovative Properties Company Arylsulfinate salts in photoinitiator systems for polymerization reactions
US7026367B2 (en) * 2003-09-26 2006-04-11 3M Innovative Properties Company Photoiniators having triarylsulfonium and arylsulfinate ions
US7250452B2 (en) * 2003-09-26 2007-07-31 3M Innovative Properties Company Dental compositions and methods with arylsulfinate salts
US7262228B2 (en) * 2003-11-21 2007-08-28 Curators Of The University Of Missouri Photoinitiator systems with anthracene-based electron donors for curing cationically polymerizable resins
US20050124712A1 (en) * 2003-12-05 2005-06-09 3M Innovative Properties Company Process for producing photonic crystals
ATE439612T1 (de) * 2003-12-05 2009-08-15 3M Innovative Properties Co Prozess zur herstellung von photonischen kristallen
US7166008B2 (en) * 2003-12-22 2007-01-23 3M Innovative Properties Company Method of curing using an electroluminescent light
US7687119B2 (en) * 2005-04-04 2010-03-30 Henkel Ag & Co. Kgaa Radiation-curable desiccant-filled adhesive/sealant
DE602006003545D1 (de) * 2005-04-04 2008-12-18 Nat Starch Chem Invest Strahlenhärtbares, mit trockenmittel gefülltes klebe-/dichtmittel
US20060223978A1 (en) * 2005-04-04 2006-10-05 Shengqian Kong Radiation- or thermally-curable oxetane barrier sealants
US20060223937A1 (en) * 2005-04-04 2006-10-05 Herr Donald E Radiation curable cycloaliphatic barrier sealants
US20070015845A1 (en) * 2005-07-15 2007-01-18 Pentron Clinical Technologies, Llc Dental resin composition, method of manufacture, and method of use thereof
WO2007073482A2 (en) * 2005-12-21 2007-06-28 3M Innovative Properties Company Method and apparatus for processing multiphoton curable photoreactive compositions
US7583444B1 (en) * 2005-12-21 2009-09-01 3M Innovative Properties Company Process for making microlens arrays and masterforms
US8047839B2 (en) * 2005-12-23 2011-11-01 3M Innovative Properties Company Methods of identifying orthodontic adhesives
WO2007112309A2 (en) * 2006-03-24 2007-10-04 3M Innovative Properties Company Process for making microneedles, microneedle arrays, masters, and replication tools
JP2009537870A (ja) * 2006-05-18 2009-10-29 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 抽出構造体を備えた導光体の製造方法及びその方法で製造された導光体
US7491287B2 (en) * 2006-06-09 2009-02-17 3M Innovative Properties Company Bonding method with flowable adhesive composition
WO2008083275A2 (en) * 2006-12-28 2008-07-10 3M Innovative Properties Company Dental filler and methods
TW200838967A (en) 2007-02-02 2008-10-01 Jsr Corp Composition for radiation-curable adhesive, composite, and method for producing the composite
JP4946640B2 (ja) * 2007-06-06 2012-06-06 東洋インキScホールディングス株式会社 剥離シート用感エネルギー線重合性組成物、剥離シート、および剥離シートの製造方法
EP2008636A1 (de) * 2007-06-29 2008-12-31 3M Innovative Properties Company Dentale Zusammensetzung mit polyfunktionalem (Meth)Acrylat mit Urethan-, Harnstoff- oder Amidgruppen, Verfahren zu deren Herstellung und Verwendung
JP4946676B2 (ja) * 2007-07-06 2012-06-06 東洋インキScホールディングス株式会社 剥離シート用感エネルギー線重合性組成物、剥離シート、および剥離シートの製造方法
JP2009013315A (ja) * 2007-07-06 2009-01-22 Toyo Ink Mfg Co Ltd 封止用組成物
JP2009051982A (ja) * 2007-08-29 2009-03-12 Toyo Ink Mfg Co Ltd 硬化型粘接着材料
KR20100080785A (ko) * 2007-09-06 2010-07-12 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 광 출력의 영역 제어를 제공하는 광 추출 구조물을 갖는 도광체
WO2009032815A1 (en) * 2007-09-06 2009-03-12 3M Innovative Properties Company Tool for making microstructured articles
JP2010537867A (ja) 2007-09-06 2010-12-09 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 型を形成する方法及びかかる型を使用して物品を成形する方法
EP2042486A1 (de) * 2007-09-26 2009-04-01 3M Innovative Properties Company Auf Methacrylat basierende Monomere mit einer Urethanbindung, Herstellungsverfahren und Verwendung
JP2011501209A (ja) * 2007-10-11 2011-01-06 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 色共焦点センサ
EP2232531B1 (de) * 2007-12-12 2018-09-19 3M Innovative Properties Company Verfahren zur herstellung von strukturen mit verbesserter kantendefinition
US8605256B2 (en) * 2008-02-26 2013-12-10 3M Innovative Properties Company Multi-photon exposure system
IL196690A0 (en) * 2008-05-29 2011-08-01 Plasan Sasa Ltd Interchangeable door
EP2133064A1 (de) * 2008-06-10 2009-12-16 3M Innovative Properties Company Initiatorsystem mit einem Diarylalkylamin-Derivat, härtbare Zusammensetzung und deren Verwendung
EP2133063A1 (de) 2008-06-10 2009-12-16 3M Innovative Properties Company Initiatorsystem mit Biphenylen-Derivaten, Herstellungsverfahren und Verwendung dafür
US8883948B2 (en) * 2008-07-01 2014-11-11 The Regents Of The University Of Colorado Methods for extensive dark curing based on visible-light initiated, controlled radical polymerization
JP2010241948A (ja) * 2009-04-06 2010-10-28 Shin-Etsu Chemical Co Ltd 放射線硬化性シリコーン組成物
WO2011075553A1 (en) 2009-12-17 2011-06-23 Dsm Ip Assets, B.V. Liquid radiation curable resins for additive fabrication comprising a triaryl sulfonium borate cationic photoinitiator
JP5866686B2 (ja) 2010-01-22 2016-02-17 ディーエスエム アイピー アセッツ ビー.ブイ. 選択的視覚効果を有して層状に硬化可能な液状放射線硬化性樹脂およびその使用方法
EP2380925A1 (de) 2010-04-22 2011-10-26 3M Innovative Properties Company Strahlungshärtbare Zusammensetzung, Herstellungsverfahren dafür und Verwendung
JP5622564B2 (ja) 2010-06-30 2014-11-12 富士フイルム株式会社 感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子
EP2401998A1 (de) 2010-07-02 2012-01-04 3M Innovative Properties Company Dentale Zusammensetzung, Satz aus Teilen und Verwendung davon
TWI556958B (zh) * 2010-09-14 2016-11-11 東京應化工業股份有限公司 基質劑及含嵌段共聚物之層的圖型形成方法
EP2481390A1 (de) 2011-01-31 2012-08-01 3M Innovative Properties Company Dentale Zusammensetzung, Satz aus Teilen und Verwendung davon
EP2670972A2 (de) 2011-02-02 2013-12-11 3M Innovative Properties Company Düse und verfahren zu ihrer herstellung
EP2675421A2 (de) 2011-02-15 2013-12-25 3M Innovative Properties Company Zahnärztliche zusammensetzung mit einer mischung aus einem isocyanurat-monomer und einem tricylclodecan-monomer
EP2502728B1 (de) 2011-03-23 2017-01-04 DSM IP Assets B.V. Leichte und hochfeste, mittels Additivherstellungsverfahren erzeugbare dreidimensionale Artikel
WO2012145282A2 (en) 2011-04-22 2012-10-26 3M Innovative Properties Company Enhanced multi-photon imaging resolution method
CN103608726B (zh) 2011-06-08 2016-11-09 3M创新有限公司 包含聚合物系留的纳米颗粒的光致抗蚀剂
WO2013023138A1 (en) 2011-08-11 2013-02-14 3M Innovative Properties Company Dental composition, method of producing and use thereof
DE102012202377A1 (de) 2011-10-21 2013-04-25 Tesa Se Klebemasse insbesondere zur Kapselung einer elektronischen Anordnung
US9132069B2 (en) 2011-12-01 2015-09-15 3M Innovative Properties Company One component self-adhesive dental composition, process of production and use thereof
JP6433900B2 (ja) 2012-09-12 2018-12-05 コーニング リサーチ アンド ディヴェロップメント コーポレイション 遠隔グリップ多心コネクタ
DE102012222056A1 (de) 2012-12-03 2014-06-05 Tesa Se Lamination starrer Substrate mit dünnen Klebebändern
EP2759514A1 (de) 2013-01-29 2014-07-30 tesa SE Haftklebemasse enthaltend ein verbundenes Nanopartikelnetzwerk, Verfahren zu ihrer Herstellung sowie die Verwendung derselben
DE102013211047B4 (de) 2013-06-13 2015-04-30 MTU Aero Engines AG Verfahren zum Verschließen von Kühlluftbohrungen
WO2015034977A1 (en) 2013-09-09 2015-03-12 3M Innovative Properties Company Dental composition containing polyoxometalates, process of production and use thereof
US10133174B2 (en) 2013-12-06 2018-11-20 3M Innovative Properties Company Liquid photoreactive composition and method of fabricating structures
WO2015119616A1 (en) 2014-02-07 2015-08-13 Eastman Kodak Company Photopolymerizable compositions for electroless plating methods
EP3107523B1 (de) 2014-02-18 2018-10-17 3M Innovative Properties Company Dentale zusammensetzung und verwendung davon
CN106029046B (zh) 2014-02-18 2019-04-05 3M创新有限公司 牙科用组合物及其用途
WO2015126865A1 (en) 2014-02-18 2015-08-27 3M Innovative Properties Company Adhesive bonding composition and use thereof
US9188861B2 (en) 2014-03-05 2015-11-17 Eastman Kodak Company Photopolymerizable compositions for electroless plating methods
WO2016007453A1 (en) 2014-07-10 2016-01-14 3M Innovative Properties Company Two-component self-adhesive dental composition, process of production and use thereof
KR20170070167A (ko) 2014-10-15 2017-06-21 이스트맨 코닥 캄파니 분산된 탄소-코팅된 금속 입자, 제품 및 용도
WO2016066435A1 (de) 2014-10-29 2016-05-06 Tesa Se Klebemassen mit aktivierbaren gettermaterialien
KR101933961B1 (ko) 2014-10-29 2018-12-31 테사 소시에타스 유로파에아 다기능성 실록산 물 스캐빈저를 포함하는 접착제 화합물
EP3212725B1 (de) 2014-10-29 2024-03-06 tesa SE Oled kompatible klebemassen mit silanwasserfängern
WO2016099987A1 (en) 2014-12-16 2016-06-23 3M Innovative Properties Company Cationically curing dental composition containing polymeric particles and use thereof
JP2018508622A (ja) 2015-02-06 2018-03-29 テーザ・ソシエタス・ヨーロピア 黄色度指数の減少した接着剤化合物
DE102015217860A1 (de) 2015-05-05 2016-11-10 Tesa Se Klebeband mit Klebemasse mit kontinuierlicher Polymerphase
EP3091059B1 (de) 2015-05-05 2020-09-09 tesa SE Klebeband mit klebemasse mit kontinuierlicher polymerphase
DE102015210346A1 (de) 2015-06-04 2016-12-08 Tesa Se Verfahren zur Herstellung viskoser Epoxidsirupe und danach erhältliche Epoxidsirupe
DE102015210345A1 (de) 2015-06-04 2016-12-08 Tesa Se Wasserdampfsperrende Klebemasse mit anpolymerisiertem Epoxidsirup
WO2017007676A1 (en) 2015-07-07 2017-01-12 3M Innovative Properties Company Kit of parts containing a cationically hardenable composition and use as dental retraction material
JP6708382B2 (ja) 2015-09-03 2020-06-10 サンアプロ株式会社 硬化性組成物及びそれを用いた硬化体
BR112018011683B1 (pt) 2015-12-08 2021-08-10 3M Innovative Properties Company Kit de partes para uso dental e composição dental autoadesiva, autocurável e autocondicionante para uso dental ou ortodôntico
MX2018011923A (es) 2016-04-04 2019-01-10 Tesa Se Cinta adhesiva sensible a la presion activable por radiacion que tiene reaccion oscura y uso de la misma.
DE102016207540A1 (de) 2016-05-02 2017-11-02 Tesa Se Wasserdampfsperrende Klebemasse mit hochfunktionalisiertem Poly(meth)acrylat
DE102016207550A1 (de) 2016-05-02 2017-11-02 Tesa Se Funktionalisierte (Co)Polymere für Klebesysteme und Klebebänder
US10683266B2 (en) 2016-06-29 2020-06-16 San Apro Ltd. Sulfonium salt, photoacid generator, photocurable composition, and cured product thereof
KR102321241B1 (ko) 2016-07-28 2021-11-02 산아프로 가부시키가이샤 술포늄염, 열 또는 광산 발생제, 열 또는 광 경화성 조성물 및 그 경화체
DE102016213911A1 (de) 2016-07-28 2018-02-01 Tesa Se OLED kompatible Klebemassen mit cyclischen Azasilanwasserfängern
US11248117B2 (en) 2017-07-20 2022-02-15 3M Innovative Properties Company Fluorinated elastomers cured by actinic radiation and methods thereof
EP3706709B1 (de) 2017-11-08 2022-04-06 3M Innovative Properties Company Dentale zusammensetzung mit hohem e-modul
DE102017221072A1 (de) 2017-11-24 2019-05-29 Tesa Se Verfahren zur Herstellung haftklebriger Reaktivklebebänder
US10297370B1 (en) 2017-12-14 2019-05-21 Tesa Se Forming a rigid cable harness with a curable sleeve
WO2019126016A1 (en) 2017-12-18 2019-06-27 3M Innovative Properties Company Fluorinated elastomers cured by actinic radiation and methods thereof
DE102018202545A1 (de) 2018-02-20 2019-08-22 Tesa Se Zusammensetzung zur Erzeugung einer Klebemasse insbesondere zur Kapselung einer elektronischen Anordnung
WO2020046687A1 (en) 2018-08-31 2020-03-05 3M Innovative Properties Company Additive manufacturing method for making non-oxide ceramic articles, and aerogels, xerogels, and porous ceramic articles
DE102018216868A1 (de) 2018-10-01 2020-04-02 Tesa Se Latent reaktiver Klebefilm
WO2020100041A1 (en) 2018-11-14 2020-05-22 3M Innovative Properties Company Storage stable two-component dual cure dental composition
DE102019103120A1 (de) 2019-02-08 2020-08-13 Tesa Se UV-härtbares Klebeband und Verfahren zum Ummanteln von langgestrecktem Gut insbesondere Leitungen
DE102019103122A1 (de) 2019-02-08 2020-08-13 Tesa Se Mit Feuchtigkeit härtbares Klebeband und Verfahren zum Ummanteln von langgestrecktem Gut insbesondere Leitungen
DE102019103123A1 (de) 2019-02-08 2020-08-13 Tesa Se Thermisch erweichbares Klebeband und Verfahren zum Ummanteln von langgestrecktem Gut insbesondere Leitungen
DE102019207550A1 (de) 2019-05-23 2020-11-26 Tesa Se Verfahren zur Herstellung haftklebriger Reaktivklebebänder
EP4010298A1 (de) 2019-08-06 2022-06-15 3M Innovative Properties Company Kontinuierliches verfahren zur generativen fertigung von keramischen gegenständen und keramische gegenstände
EP4106710A1 (de) 2020-02-19 2022-12-28 3M Innovative Properties Company Ascorbinsäurekomponente zur verwendung in einem verfahren zur behandlung der oberfläche eines präparierten zahns
DE102020203952A1 (de) 2020-03-26 2021-09-30 Tesa Se Latent reaktiver Klebefilm
WO2022064292A1 (en) 2020-09-25 2022-03-31 3M Innovative Properties Company Photopolymerizable compositions and reaction products thereof
US11852972B2 (en) * 2020-10-30 2023-12-26 Rohm And Haas Electronic Materials Llc Photoresist compositions and pattern formation methods
WO2022107020A1 (en) 2020-11-23 2022-05-27 3M Innovative Properties Company Coating composition comprising a curable fluoropolymer and a hydrofluorochloropropene and fluoroelastomers therefrom
WO2022112886A1 (en) 2020-11-25 2022-06-02 3M Innovative Properties Company Curable dental compositions and uses thereof
WO2022123391A1 (en) 2020-12-09 2022-06-16 3M Innovative Properties Company A coatable curable fluoropolymer and fluoroelastomers therefrom
EP4267359A1 (de) 2020-12-23 2023-11-01 3M Innovative Properties Company Verfahren zur herstellung von artikeln mit tintenstrahldrucksolen mit metalloxidnanopartikeln
DE102021201094A1 (de) 2021-02-05 2022-08-11 Tesa Se Polyvinylaromat-Polydien-Blockcopolymer basierende Haftklebemassen mit gesteigerter Wärmescherfestigkeit
EP4341354A4 (de) * 2021-05-21 2025-02-19 Henkel AG & Co. KGaA Härtbare zusammensetzung und verwendung davon
DE102021126466A1 (de) 2021-10-13 2023-04-13 Tesa Se Klebeband und Verfahren zum Ummanteln von langgestrecktem Gut insbesondere Leitungen
DE102022105738A1 (de) 2022-03-11 2023-09-14 Tesa Se Aushärtbare Klebemasse mit verbesserter Stanzbarkeit
DE102022105737A1 (de) 2022-03-11 2023-09-14 Tesa Se Aushärtbare Klebemasse mit verbesserter Stanzbarkeit und verbesserten Schockeigenschaften
EP4514304A1 (de) 2022-04-26 2025-03-05 Solventum Intellectual Properties Company Dentalzusammensetzung mit einer resorcin- oder catechol-einheit mit einer komponente und verwendung davon
DE102022117183A1 (de) 2022-07-11 2024-01-11 Tesa Se Unvernetztes Polyepoxid und Klebemasse umfassend dieses Polyepoxid
DE102022124902A1 (de) 2022-09-28 2024-03-28 Tesa Se Kationisch härtbare Klebemasse mit Indikation der Haltefestigkeit
DE102022124905A1 (de) 2022-09-28 2024-03-28 Tesa Se Verfahren zur Ummantelung einer Batteriezelle
DE102022124903A1 (de) 2022-09-28 2024-03-28 Tesa Se Kationisch härtbare Klebemasse mit definierter Färbung im ausgehärteten Zustand
DE102022124904A1 (de) 2022-09-28 2024-03-28 Tesa Se Aushärtbare Haftklebemasse mit verbesserten Klebeeigenschaften
EP4629958A1 (de) 2022-12-06 2025-10-15 Solventum Intellectual Properties Company Oberflächenbehandelter füllstoff, dentalzusammensetzung mit solch einem füllstoff, verfahren zur herstellung und verwendung davon
CN120857914A (zh) 2023-03-01 2025-10-28 舒万诺知识产权公司 陶瓷贴面和用于制作陶瓷贴面的连续增材制造方法
DE102023111054A1 (de) 2023-04-28 2024-10-31 Tesa Se Kationisch härtbare Klebmasse, insbesondere zur Verklebung von metallischen Substraten
DE102023111055A1 (de) 2023-04-28 2024-10-31 Tesa Se Chemikalienbeständiges, reaktives Haftklebeband
WO2025057131A1 (en) 2023-09-15 2025-03-20 Solventum Intellectual Properties Company Curable dental compositions with extended calcium, hydroxide, and enhanced fluoride release
DE102023135599A1 (de) 2023-12-18 2025-06-18 Tesa Se Aushärtbare Haftklebemasse mit hoher Verklebungsfestigkeit und guter Klebkraft im ausgehärteten Zustand
CN120230493A (zh) 2023-12-28 2025-07-01 德莎欧洲股份公司 固化性电绝缘带
DE102024107753A1 (de) 2024-03-19 2025-09-25 Tesa Se Reaktives Klebeband
DE102024107751A1 (de) 2024-03-19 2025-09-25 Tesa Se Chemikalienbeständige, reaktiv aushärtbare Klebemasse und Klebeband

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3074869A (en) * 1960-12-23 1963-01-22 Minnesota Mining & Mfg Photo-sensitive compositions and articles therefrom
US3205157A (en) * 1962-03-13 1965-09-07 North American Aviation Inc Electromagnetic radiation polymerization
GB1071653A (en) 1962-11-14 1967-06-07 British Industrial Plastics Process for copolymerising trioxan
NL135320C (de) 1964-07-31 British Industrial Plastics
US3373221A (en) * 1964-11-04 1968-03-12 Shell Oil Co Reaction products of unsaturated esters of polyepoxides and unsaturated carboxylic acids, and polyisocyanates
US3567453A (en) * 1967-12-26 1971-03-02 Eastman Kodak Co Light sensitive compositions for photoresists and lithography
US3826650A (en) * 1968-08-20 1974-07-30 American Can Co Epoxy photopolymer duplicating stencil
US3691133A (en) * 1971-03-25 1972-09-12 Union Carbon Corp Polyepoxide compositions containing dicyandiamide and an iodonium, phosphonium, or sulfonium salt
US3711390A (en) * 1971-05-18 1973-01-16 J Feinberg Photopolymerizable epoxy systems containing substituted cyclic amides or substituted ureas as gelation inhibitors
US3816280A (en) * 1971-05-18 1974-06-11 American Can Co Photopolymerizable epoxy systems containing cyclic amide gelation inhibitors
BE792102A (fr) * 1971-12-01 1973-05-30 Ciba Geigy Derives du thiadiazole-1,2,4 ayant une action anthelminthique
US3808006A (en) * 1971-12-06 1974-04-30 Minnesota Mining & Mfg Photosensitive material containing a diaryliodium compound, a sensitizer and a color former
US3729313A (en) * 1971-12-06 1973-04-24 Minnesota Mining & Mfg Novel photosensitive systems comprising diaryliodonium compounds and their use

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
In Betracht gezogene ältere Anmeldung: DE-OS 26 02 574 *
In Betracht gezogene ältere Patente: DE-PS 25 18 639 *

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2518639C3 (de) 1974-05-02 1979-05-23 General Electric Co., Schenectady, N.Y. (V.St.A.) Härtbare Zusammensetzungen
DE2559879C2 (de) * 1974-05-02 1982-03-04 General Electric Co., Schenectady, N.Y. Aromatische Jodoniumsalze
DE2853886A1 (de) * 1977-12-16 1979-06-21 Gen Electric Hitzehaertbare zusammensetzungen
DE2853885A1 (de) * 1977-12-16 1979-06-21 Gen Electric Haertbare zusammensetzung und verfahren zum schaeumen derselben
DE2854011A1 (de) * 1978-12-14 1980-07-03 Gen Electric Haertbare zusammensetzungen und verfahren zu deren haertung
US4351708A (en) 1980-02-29 1982-09-28 Ciba-Geigy Corporation Photochemically or thermally polymerizable mixtures

Also Published As

Publication number Publication date
US4394403A (en) 1983-07-19
GB1491539A (en) 1977-11-09
JPS50158680A (de) 1975-12-22
DE2520489C2 (de) 1983-05-05
FR2270269A1 (de) 1975-12-05
FR2270269B1 (de) 1978-10-13
AU497960B2 (en) 1979-01-25
AU8091775A (en) 1976-11-11
GB1491540A (en) 1977-11-09
BE828841A (fr) 1975-11-07
CH617711A5 (de) 1980-06-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2520489C2 (de) Photopolymerisierbare Massen
DE2639395C2 (de)
DE69734958T2 (de) Fluorierte ionische Sulfonylimide und Sulfonylmethylide, Verfahren zu deren Herstellung sowie deren Anwendung als Photoinitiatoren
DE2618871C3 (de) Verfahren zum Herstellen von Diphenyljodoniumsalzen
CH640222A5 (de) Triarylsulfoniumkomplexsalze, verfahren zu ihrer herstellung und diese salze enthaltende photopolymerisierbare gemische.
DE69610294T2 (de) Durch energie aktivierbare salze mit fluorkohlenstoffanionen
DE2706549C2 (de) Verfahren zur Herstellung von Prepregs
US4378277A (en) Photopolymerizable epoxy-containing compositions
EP0233567A2 (de) Härtbare Mischungen, enthaltend N-Sulfonylaminosulfoniumsalze als kationisch wirksame Katalysatoren
CH635613A5 (de) Verfahren zum verkleben zweier oberflaechen mittels einer klebfolie.
DE2731396A1 (de) Haertbare zusammensetzungen
EP0380010A2 (de) Strahlungsempfindliche, ethylenisch ungesättigte, copolymerisierbare Sulfoniumsalze und Verfahren zu deren Herstellung
EP0115471B1 (de) Verfahren zur Bilderzeugung
DE2012012A1 (de)
DE69111925T2 (de) Aromatische Vinyletherverbindungen und -zusammensetzungen und Verfahren zu deren Herstellung.
JP2020532567A (ja) スルホニウム塩光開始剤、その製造方法、それを含む光硬化性組成物及びその適用
DE2557078C3 (de) Lichtempfindliche Masse
DE2529584A1 (de) Aktinisch induziertes polymerisationsverfahren
DE2339523A1 (de) Latenthaertende epoxyharz-kompositionen
DE602004011341T2 (de) Verfahren zur herstellung von monosulfoniumsalzen, kationische polymerisierungsinitiatoren, vernetzbare zusammensetzungen und vernetzungsprodukte
JPH107680A (ja) 光重合開始剤、これを含有するエネルギー線硬化性組成物及びその硬化物
JPH10245378A (ja) 新規スルホニウム塩、それからなる光重合開始剤及びエネルギー線硬化性組成物
DE2012013C3 (de) Verfahren zur kationischen Polymerisation von olefinisch ungesättigten Monomeren, von Epoxiverbindungen, Äthyleniminen oder Trioxan in Gegenwart von Polymerisationsinitiatoren
JP3424771B2 (ja) 光重合開始剤、これを含有するエネルギー線硬化性組成物及びその硬化物
DE3629701A1 (de) Strahlenhaertung von kationisch polymerisierbaren verbindungen

Legal Events

Date Code Title Description
OD Request for examination
8126 Change of the secondary classification

Free format text: C08K 5/18 C08L 63/00

D2 Grant after examination
8364 No opposition during term of opposition
8328 Change in the person/name/address of the agent

Free format text: TAUCHNER, P., DIPL.-CHEM. DR.RER.NAT. HEUNEMANN, D., DIPL.-PHYS. DR.RER.NAT. RAUH, P., DIPL.-CHEM. DR.RER.NAT. HERMANN, G., DIPL.-PHYS. DR.RER.NAT. SCHMIDT, J., DIPL.-ING. JAENICHEN, H., DIPL.-BIOL. DR.RER.NAT., PAT.-ANWAELTE, 8000 MUENCHEN