DE2401115A1

DE2401115A1 - Lichtempfindliche platte und lichtempfindliches material fuer die elektrophotographie

Info

Publication number: DE2401115A1
Application number: DE2401115A
Authority: DE
Inventors: Tsuyoshi Eida; Katsuhiko Nishide
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 1973-01-10
Filing date: 1974-01-10
Publication date: 1974-07-18
Also published as: JPS4994336A; US3864126A

Description

PATENTANWALTSBÜRO TlEDTKE - BüHLING "

TEL. (089) 53 96 53-56 TELEX: 524845 tipat CABLE ADDRESS: Garmaniapatent München

A H V I f I

8000 München 2

Bavariaring 4

Postfach 202403> ¹O. Januar 1974

B 5791

Canon Kabushiki Kaisha
Tokyo, Japan

Lichtempfindliche Platte und lichtempfindliches Material für

die Elektrophotographie

Die Erfindung betrifft lichtempfindliche Materialien und lichtempfindliche Platten für die Elektrophotographie. Insbesondere betrifft sie den Zusatz einer Elektronenakzeptor-Verbindung zum Zwecke der Sensibilisierung eines organischen, photoleitenden Materials.

Es ist bekannt, daß eine Anzahl organischer Verbindungen zur Herstellung eines photoleitenden Körpers für die Elektrophotographie Verwendung findet. Während diese organischen

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Deutsche Bank (München) Kto. 51/61 070 Dresdner Bank (München) Kto. 3939 844 Postscheck (München) Kto. 670 43-804

Verbindungen im Vergleich zu anorganischen photoleitfähigen Verbindungen mehrere Vorteile zeigen, haben sie noch einige Nachteile, die beseitigt werden sollten. Ein ernsthafter Nachteil besteht darin, daß sie außerordentlich schwach empfindlich sind und ihr Maximum der Spektralabsorption in·den meisten Fällen außerhalb des UV-Bereiches liegt, so daß sie für praktische Zwecke nicht in geeigneter Weise anwendbar sind.

Es ist auch bekannt, daß der vorgenannte Nachteil vermieden werden kann, indem man dem organischen photoleitenden Körper Elektronenakzeptor-Verbindungen zusetzt, die 'tf -Säuren oder Lewis-Säuren genannt werden. Beispielsweise liefert gemäß der japanischen Patentauslegeschrift 16578/1967 der Zusatz von weniger als 10 Mol-% eines Elektronenakzeptors zu einem organischen photoleitenden Material eine besonders hohe Photoempfindlichkeit für den UV-Bereich. In der US-PS 3 484 2 37 wird eine große Menge einer Elektronenakzeptor-Verbindung zugesetzt, d.h. 49 bis 12 3 Mol-% Trinitrofluorenon werden als Elektronenakzeptor dem Poly-9-Vinylcarbazol des organischen photoleitfähigen Materials zugesetzt, um eine hohe Empfindlichkeit für weißes Licht zu erreichen.

Da jedoch die bei diesen Sensibilxsierungsmethoden verwendeten Elektronenakzeptoren hochpolare Gruppen tragen,

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sind sie im allgemeinen in organischen Lösungsmitteln unlöslich oder gut kristallin..Der Nachteil ist, daß die Arten der verwendbaren Lösungsmittel begrenzt sind und es daher schwierig ist, bei der Darstellung einer photoempfindlichen Schicht ein hierfür geeignetes Lösungsmittel willkürlich auszuwählen. Weiterhin ist es schwierig, eine ebene photoempfindliche Schicht zu bilden, da die Elektronenakzeptoren außerordentlich leicht kristallisieren, wenn ihre Lösungsmittel beim BeschichtungsVorgang verdampfen. Da die Elektronenakzeptor-Verbindungen wenig löslich sind, ist ihre zusetzbare Menge begrenzt, was oft zur Folge hat, daß bei praktischen Anwendungen die Sensibilisierungswirkung des Elektronenaktzeptors nicht voll erreicht werden kann. Da außerdem die Verträglichkeit des Elektronenakzeptors mit dem organischen photoleitfähigen Material gering ist, kristallisiert die Akzeptor-Verbindung nach verhältnismäßig kurzer Lagerzeit an der Oberfläche der photoempfindlichen Schicht aus, so daß eine Verwendbarkeit nicht mehr gegeben ist.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, neue Elektronenakzeptor-Verbindungen zu schaffen, die als Sensibilisator in Verbindung mit organischen, photoleitfähigen Materialien eingesetzt werden können. Weiterhin soll die Löslichkeit der Elektronenakzeptoren in organischen Lösungsmitteln verbessert werden, so daß die Menge des zuzusetzenden Elektronen-akzeptors

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und die Auswahl der verwendbaren Lösungsmittel vergrößert werden. Schließlich soll die Verträglichkeit des Elektronenakzeptors in der Photoleitfähigkeitsschicht gesteigert werden, so daß sich eine langdauernde Stabilisierung der photoempfindlichen Schicht ergibt.

Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe dadurch gelöst, daß Elektronenakzeptor-Verbindungen der Formel

COJi,

eingesetzt werden, worin R.,, R₂ und R₃ Nitro, Cyan, Halogen, Trifluormethyl, Acyl, niederes Alkyl, niederes Alkoxy, Aryl, Araükyl' oder Wasserstoff; X Sauerstoff oder die durch Doppelbindungebundene Malonsäuredinitril-Gruppe und R₁^ eine substituierte oder unsubstituierte Alkyloxy-, Alkylamino-, Aralkyloxy-, Aralkylamino-, Aryloxy- oder Arylamino-Gruppe mit 4 bis C-Atomen bedeuten und R.. , R„ und R_ gleich oder verschieden sein können und die C-Atomzahl der niederen Alkyl- oder Alkyloxy-Gruppen aus Gründen der leichten Herstellung vorzugsweise 1 bis 6 beträgt.

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Der durch Einsatz der vorgenannten Verbindungen erzielte zusätzliche Vorteil besteht darin, daß Weichmacher, die bei der Darstellung der photoempfindlichen Schicht zugesetzt werden und deren Empfindlichkeit verringern können, ihrer Menge nach verringert oder vollständig weggelassen werden können. "

Beispielhafte Verbindungen, die verwendet werden können, sind nachfolgend angegeben.

(1) 7-Nitro-9-fluorenon-l-carbonsäurebutylester

(2) 4-Nitro-9-fluorenon-l-carbonsäureoctylamid

(3) 2,7-Ninitro-9-fluorenon-lcarbonsäure-3-methyl-U-isopropylphenylester

(4) S-Nitro-B-brom-S-fluorenon-l-carbonsäure-P-isopropylbenzylester

(5) 2-Nitro-6,7-dichlor-9-fluorenon-1-carbonsäuredihexylamid

(6) 2,7-Dichlor-9-fluorenon-1-carbonsäurebenzylamid

(7) 2,6 ^-Tribrom-g-fluorenon-l-carbonsäurelaurylamid

(8) 7-Cyan-9-fluorenon-l-carbonsäure-U-chlorbuty!ester

(9) 7-Ni"tro-9-fluorenon-2-carbonsäurecetylamid

(10) 4,5 ^-Trinitro-g-fluorenon^-carbonsäureoctylester

(11) 2 ^-Dichlor-g-fluorenon-S-carbonsäure-P-anisidino

(12) 2-Cyan-9-fluorenon-3-carbonsäure-P-aceto-phenylester

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(13) 2,7-Dinitro-9-fluorenon-4-carbonsäurehexylester

(14) 2sSjT-Trinitro-g-fluorenon-^-carbonsaurelaurylester

(15) 2,7-Dichlor-9-fluorenon-4-carbonsäure-2-P-chlorphenoxyäthy!ester

(16) 2,T-Dicyan-S-fluorenon-H-carbonsäure-N-methyl-N-dodecylamid

(17) 2-Benzoyl-7-nitril-9-fluorenon-4-carbonsäure-2-äthpxyläthyIamid

(18) 2TNitro-6-Cyan-9-fluorenon-l-carbonsäurecerylester

(19) 4,5-Dinitro-7-acetyl-9-fluorenon-2-carbonsäure-P-chlorbenzy!ester

(20) 4,5,7-Trinitro-9-fluorenon-2-carbonsäuredecylamid

(21) 7-Chlor-8-methyl-9-fluorenon-2-carbonsäurehexylamid

(22) 4,5-Dichlor-7-methoxy-9-fluorenon-2-carbonsäuresteary!ester

(23) 2-Benzyl-5 ,7-dinitro-9-fluorenon-4-carbons^luretetradecylamid

(24) 8-Trifluormethyl-9-fluorenon-2-carbonsäure rotylester

(25) 2 ^-Dinitro-g-dicyanjnethylenf luoren-4-carb .nsäurehexylester

(26) 2-Cyan-9-dicyanmethylenfluoren-3-carbonsäureäthoxyäthyIe s ter

(27) 1,e-Dichlor-g-dicyanmethylenfluoren-4-carbonsäuremyristylester

(28) e^-Dibrom-g-dicyanmethylenfluoren-l-carbonsäure-3,»-xyUdid

(29) 2,5,7-Trinitro-9-dicyanmethylenfluoren-4-carbonsäurestearylamid

(30) 4,5,7-Trinitro-9-dicyanmethylenfluoren-2-carbonsäureoleylester

Die obigen Verbindungen können allgemein aus den entsprechenden 9-Fluorenoncarbonsäuren dargestellt werden und 9-Fluorenoncarbonsäureester oder -amide können nach üblichen Verfahren der Ester- oder Amid-Darstellung erhalten werden. 9-Dicyanmethylenfluorenoncarbonsäureester und -amide können hergestellt werden, indem man die entsprechende.9-Fluorenoncarbonsäure mit Malononitril (Malonsäuredinitril) umsetzt und anschließend verestert oder das Amid bildet oder, indem man 9-Fluorenoncarbonsäureester oder -amide mit Malononitril umsetzt.

Typische Verfahren zur Darstellung der obigen Verbindungen sind nachfolgend angegeben.

Darstellungsbeispiel 1;

2,7-Dinitro-9-fluorenon-4-carbonsäurehexylester £Nr.(13) der oben genannten Verbindungen]

3,11+ g (0,01 Mol) 2,4-Dinitro-9-fluorenon-4-carbonsäure wurde in 50 ml Hexylalkohol durch Erhitzen gelöst und nach Zusatz von 3 Tropfen Schwefelsäure 4 Stunden bei 150°C gehalten.

Nach der Abkühlung wurde der ausgefallene gelbe Kristall

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abfiltriert und das Filtrat wurde unter vermindertem Druck zur Trockne destilliert. Der Rückstand wurde mit dem obigen Kristall aus η-Hexan umkristallisiert, wobei man 2,86 g Endprodukt erhielt.
Elementaranalyse:

berechnet	gefunden
60,29 %	60,40 %
4,56 %	4,51 %
7,03 %	6,98 %

H
N

Darstellungsbaispiel 2

2,7-Dinitro-9-dicyan-methylenfluorenon-4-carbonsSurehexylester (25)

3,98 g (0,01 Mol) 2,7-£>initro-9-fluorenon-4-carbonsäurehexylester wurde unter Erhitzung in 200 ml Methanol unter Rückfluß gekocht und nach Zusatz von 1,98 g (0,03 Mol) Malononitril und 2 Tropfen Piperidin weitere 20 Stunden unter Rückfluß gekocht. Nach Abdestillation des Lösungsmittels wurde er aus η-Hexan umkristallisiert, und man erhielt dann 3,03 g des Endproduktes .
Elementaranalyse:

berechnet gefunden

C 61,87 % 61,52 %

H 4,07 % 3,99 %

0 12,55 % 12,48 %

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Darstellungsbeispiel 3

4,5,7-Trinitro-9-fluorenon-2-carbonsäureoctylester (10)

3,59 g (0,01 Mol) 4,5,7-Trinitro-9-fluorenon-2-carbonsäure wurde 5 Stunden in 30 ml Thionylchlorid unter Rückfluß gehalten und durch Abdestillation überschüssigen Thionylchlorids getrocknet. Das so erhaltene Säurechlorid wurde in 50 ml Octylalkohol 3 Stunden auf 80 C erhitzt; dann wurde der Octylalkohol unter vermindertem Druck abdestilliert. Der Rückstand wurde aus Hexan umkristallisiert, wobei man 3,6 3 g eines hellgelben Endproduktes erhielt.
Elementaranalyse:

berechnet gefunden

C 56,04 % 56,17 %

H . 4,50 % 4,46 %

0 . 8,91 % . 8,86 %

Darstellungsbeispiel 4

4,5,7-Trinitro-9-fluorenon-2-carbonsäuredecylamid (20)

3,78 g (0,01 Mol) 4,5,7-Trinitro-9-fluorenon-2-carbonsäurechlorid, das wie in Darstellungsbeispiel 3 hergestellt worden war·, wurde mit 50 ml Decylamin 3 Stunden auf 80⁰C erhitzt. Dann wurde das Decylamin unter Vakuum abdestilliert. Der.Rückstand wurde' aus Hexan umkristallisiert. Man erhielt 4,06 g eines hellgelben Endproduktes.

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2Α0Π15

Elementaranalyse:

berechnet gefunden

C 57,82 % 57,71 %

H 5,27 % 5,32 %

0 11,24 % 11,20 %

Darstellungsbeispiel 5

1,6-Dichlor-9-dicyan-methylenfluorenon-4-carbonsäuremyristylester (27)

2,93 g (0,01 Mol) !,B-Dichlor-G-fluorenon-U-carbonsäure wurde in 300 ml Methylalkohol unter Rückfluß gekocht und nach Zugabe von 2,0 g (0,03 Mol) Malononitril und zwei Tropfen Piperidin weitere 20 Stunden unter Rückfluß pe halten. Nach der Abkühlung wurde der abgeschiedene Kristall abfiltriert, und man erhielt dann 2,31 g 1,G-Dichlor-Q-dicyanmethylenfluorenon-4-carbonsäure, die in 30 ml Thionylchlorid 5 Stunden unter Rückfluß gekocht wurden, um das entsprechende Säurechlorid zu bilden.

Nach Abdestillieren des überschüssigen Thionylchlorids wurde das Säurechlorid 3 Stunden bei 80 C in 40 ml Myristylalkohol unter Rückfluß gekocht und dann der Myristylalkohol unter Vakuum abdestilliert. Nach Umkristallisation aus n-Hexan erhielt man 3,18 g Endprodukt.

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240111

Elementaranalyse

	berechnet	gefunden
C	69,26 %	69,31 %
H	. 6,39 %	6,35 %
N	5,21 % .	5,30 %
Cl	13,19 %	13,12 %

Organische photoleitfähige Materialien, wie sie im vorliegenden Fall verwendet werden, sind vorzugsweise solche, die als Elektronendonator wirken, während die obigen Verbindungen in Kombination mit organischen photoleitfähigen Materialien als Elektronenakzeptor wirken können. Sie umfassen daher niedermolekulare organische photoleitfähige Materialien, wie Amylhydrazonderivate, Oxadiazolderivate, Pyrazolinderivate, Imidazolonderivate, Imidazolinthionderivate, Benzimidazolderivate, Benzoxazolderivate und Benzthiazolderivate; ferner Polymere mit einem heterozyklischen Ring, etwa einem Carbazolring, oder mehrkernige aromatische Ringe, wie etwa den Naphtalin- oder Anthracen-Ring. Diese Verbindungen sind beispielsweise in den japanischen Auslegeschriften Nr. 10966/1959, 812/1961, 18674/1967, 25230/1967 und anderen offenbart.

Beispielhafte Materialien, die bei der vorliegenden Erfindung als organische photoleitfähige Substanzen verwendet werden, sind die folgenden:

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(A) Polymerisate mit einem Carbazolring, wie Poly-9-vinylcarbazol, 9-Vinylcarbazol-Kopolymer, 3-Nitro-9-vinylcarbazol-Kopolymer, S-Methylamino-S-vinylcarbazol-Kopolymer, nitriertes Poly-9-vinylcarbazol, 3,6-Dibrom-9-vinylcarbazol-Kopolymer, Poly-g-vinyl-S-aminocarbazol, chloriertes Poly-9-vinylcarbazol, thiocyaniertes Poly-9-vinylcarbazol, cyaniertes Poly-9-vinylcarbazol, bromiertes Poly-9-vinylcarbazol, 3-Jod-9-vinylcarbazol-Kopolymer, Poly-SjB-dijod-g-vinylcarbazol, Poly-3-benzylidenamino-9-vinylcarbazol, 3,6-Dibrom-9-vinylcarbazol-Ko polymer, otjW-Di-Parbazol-alkan-Derivate, Vinylanthracen-9-vinylcarbazol-Kopolymer, (2 oder 3)-Vinyl-9-alkyl-carbazolpolymer oder •kopolymer (die Alkylgruppe wird unter primären Alkylgruppen, wie Methyl, Äthyl und Propyl ausgewählt.)

(B) Aromatische Aminoderivate, wie Amino-polyphenyl, (Allyliden)azine, N, N·-Dialkyl-N, N'-dibenzylphenylendiamin, N,N,N¹,N'-Tetrabenzyl-phenylendiamin, N,N'-Diphenyl-p-phenylendiamin, N,N'-Dinaphtyl-p-phenylendiamin, 4,4'-Di-dimethylaminophendiphenon.

(C) Diphenylmethane und Triphenylmethane, wie Diphenylmethan-Leucofarbbase und Triphenylmethan-Leucofarbbase

(D) Heterozyklische Verbindungen, wie Oxadiazol, 5-Aminothiazol, 4,1,2-Triazol, Imidazolon, Oxäzol, Imidazol,

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Pyrazolin, Imidazolin, Polyphenylenthiazol, 1,6-Methoxyphenezin, Pyrazolinopyrazolin-Derivate und dgl.

(E) Verbindungen mit einem kondensierten Ring, wie Benzothiazol, Benzimidazol und Benzoxazol, z.B. 2-(¹t^t-Diaminophenyl) -benzoxazol· und 2 - ( 4^f -Dimethylaminophenyl)-benzoxazol, Aminoacridin, Chinoxalin, Diphenylenhydrazone, Pyrrocolin-Derivate; 9,10-Dihydroanthracen-Derivate und dgl.

(F) Verbindungen mit einer Doppelbindung, wie

Acylhydrazon, Äthylen-Derivate, 1,1,6,6-Tetraphenylhexatrien,.und dgl-

(6) Kondensationsprodukte, wie Kondensationsprodukte von Aldehyden und aromatischen Aminen, Reaktionsprodukte von sekundären aromatischen Aminen und aromatischen Halogeniden, Polypyromethan-imidopoly-p-phenylen-ljSji^oxadiazol- und dgl.

(H) Vinylpolymere (außer Polyvinylcarbazol), wie 00-Alkylacrylsäureamid-Polymere, Polyvinylacridin, Poly-JjL,5-diphenyl-3-(f-viny!phenyl)-2-pyrazolinT . Poly-(1,5-diphenylpyrazolin) , Polyaceraphthylen, kernsubstituiertes "Polyacenaphylen , Polyvinylanthracen, Poly-2-vinyldibenzothiophen und dgl.

Stoffe, die gute Ergebnisse bei der erfindungsgemäßen Sensibilisierung dieser organischen photoleitfähigen Materialien

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liefern, sind Polymere mit einem Carbazolring und deren Derivate, aromatische Amino-Derivate, öiphenylmethan- und Triphenylmethan-Derivate.

Zur Ausführung der Erfindung werden die organischen photoleitfähigen Stoffe und die erfindungsgemäßen VerBindungeh in geeigneten Lösungsmitteln gelöst. Die erfindungsgemäßen Verbindungen können in zahlreichen Lösungsmittelarten gelöst werden, so daß das geeignetste Lösungsmittel unter einer großen Zahl je nach dem eingesetzten organischen photoleitfähägen Material ausgewählt werden können. Die Menge der erfindungsgemäßen Verbindung variiert in Abhängigkeit von ihrer Aufgabe. Wenn sie beispielsweise auf ein Substrat, wie Papier, Film und dgl. aufgetragen und als farblose oder fast farblose transparente, lichtempfindliche Schicht eingesetzt wird, wird die Verbindung in dem Verhältnis von 0,01 bis 10 Mol, vorzugsweise 0,1 bis 5 Mol je 100 Mol organisches photoleitfähiges Material zugesetzt. (Wenn das photoleitfähige Material ein Polymerisat ist, wird der Rechnung das Molekulargewicht der Monomereneinheit des Polymerisats zugrundegelegt.) In diesem Fall wird eine hohe Lichtempfindlichkeit für den UV-Bereich erreicht. Wenn auch eine hohe Empfindlichkeit für sicltbares Licht gefordert wird, kann dies durch Zusatz von Farbsensibilisatoren in solcher Menge erreicht werden, daß die photoempfindliche Schicht nicht stark gefärbt wird.

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. 2A01115

Wenn eine hohe Empfindlichkeit für weißes Licht nötig ist, wie bei den hauptsächlichen lichtempfindlichen Platten, und wenn die Färbung der lichtempfindlichen Platte vernachlässigbar ist, kann ein hohes Verhältnis von 10 bis 120 Mol je 100 Mol organisches photoleitendes Material verwendet werden, um die hohe Empfindlichkeit für sichtbares Licht zu erreichen. Die Lösung, welche das photoleitfähige Material und die erfindungsgemäßen Verbindungen enthält, kann nötigenfalls Bindemittelharze und andere Zusatzstoffe enthalten, mit denen ein Substrat beschichtet wird oder die in Spezialfällen in der Form eines Eigen-Substrats Anwendung finden.

Die folgenden Beispiele zeigen Ausführungsformen der Erfindung ohne deren Umfang zu beschränken.

Verglexchsbexspxel I

Den Lösungen, die durch Auflösen von.2,0 g Poly-9-vinylcarbazol in 30 ml der folgenden Lösungsmittel hergestellt worden waren, wurden 10 Mol-% und 100 Mol-% 2,4,7-Trinitrofluorenon (TNF), bezogen auf Poly-9-Vinylcarbazol, zugesetzt. Die Löslichkeit des TNF in den Lösungsmitteln wurde gemessen und in der Tabelle unten angegeben, wobei das Symbol 0 bedeutet, daß TNF löslich ist, und das Symbol X bedeutet, daß TNF unlöslich ist.

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Lösungsmittel

TNF

10 Mol-%

Chlorbenzol

Tetrahydrofuran

Cyclohexan

Pyridin

Dimethylformamid

(DMF)

Di ox an

1,2-Dichloräthan f

Methylenchlorid j
Chloroform I

i
Toluol ' j

Benzol \

Schwefelkohlen- t

\
stoff f

0 0 0

0 0 0 0 X X X

100 Mol-%

X X X 0

0 X X X X X X Mol-% der Verbindungen wie oben aufgeführt

0 0 0 0

0 0 0 0 0 0 0

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Vergleichsbeispiel 2

Lösungen, die durch Auflösen von 2 g Polyvinylcarbazol und 1,6 3 g 2,4,7-Trinitrofluorenon in 30 ml Dimethylformamid hergestellt worden waren, wurden auf eine Al-Platte aufgebracht und 10 Minuten bei 12Q°C unter Bildung einer 13 u, dicken^ photoempfindlichen Schicht getrocknet. Nachdem man die photoempfindliche Schicht an einem dunklen Ort eine Woche gelagert hatte, wurde beobachtet, daß das 2,4,7-Trinitrofluorenon kristallisiert und ausgefallen war. Als bei diesem Beispiel eine photoempfindliche Schicht unter Verwendung einer 3,26 g 2,4,7-Trinitrofluorenon enthaltenden Lösung gebildet worden war, beobachtete man außerdem, daß 2,4,7-Trinitrofluorenon unmittelbar nach Bildung der phatoempfindlichen Schicht ausfiel und auskristallisierte. Die Ausfällung infolge Kristallisation wurde an der Opazität der Schicht und der Unebenheit ihrer Oberfläche .erkannt. Als bei diesem Vergleichsbeispiel die obigen Verbindungen (1) bis (30) anstelle tfon 2,4,7-Trinitrofluorenon eingesetzt wurden, beobachtete man keine Fällung infolge Kristallisation. Außerdem wurde Pyridin anstelle von Dimethylformamid mit glei-chen Ergebnissen verwendet.

Vergleichsbeispiel 3

Drei photoempfindliche Schichten aus Polyvinylcarbazol, Polyvinylcarbazol und 2,4,7_TTrinitrofluorenon bzw. Polyvinylcarbazol und 4,5,7-Trinitrg-9-fluorenon-2-carbonsäureoctylester

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würden auf einen 75 u, dicken Polyesterfilm aufgeschichtet, dessen Oberfläche hydrolphil gemacht worden war. Die Dicke der resultierenden photoempfxndlxchen Schicht wurde auf 4 It- eingestellt. Das Reißen der photoempfindlichen Schicht wurde dadurch geprüft, daß der Polyesterfilm mit der Oberfläche nach außen um Rollen mit den folgenden Durchmessern aufwickelt wurde. In der folgenden Tabelle bedeutet das Bezugssymbol X, daß Risse der photoempfindlichen Schicht auftraten, und das Symbol 0, daß keine, Risse entstanden.

Durchmesser (mm)	Polyvinyl carbazol PVK (ohne Zusatz)	Trinitrofluorenon TNF	100 Molr-%	4,5,7-Trinitro- 9-fiu'orenon-2- carbonsäureoctyl- ester	100 MoI-
6	0	10 Mol-%	0	10 Mol-%	0
5	0	0	• X	0	.0
	X	0	X	0	0
3	X	X	X	0	0
X	X

Beispiel 1

Eine Lösung aus 2 g 1,3,5-Trxphenylpyrazolxn, 2 g PoIyvinylbutyral-Harz, 70,¹I mg 7-Cyan-9-fluorenoή-l-carbonsäure-4-chlorbutylesterjyerbindung(8)j und 50 ml Äthanol wurde auf ein

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Aluminium beschichtetes Papier aufgebracht. Nach dem Trocknen erhielt man eine etwa 6 u, dicke Schicht auf einem photoempfind liehen Papier. Dann wurde das so gebildete photoempfindliche Papier in dunkler.Umgebung geladen und mit einer Filmvergrößerungsanlage, die mit einer 500 W Wolframlampe ausgestattet war,durch eine Positivmikrofilm-Mustervorlage belichtet. Es wurde mit einem flüssigen Entwickler entwickelt, wobei man ein ausgezeichnetes Positiv-Bild erhielt. Die geeignete· Belichtungsmenge betrug 600 Lux . sec.

Beispiel 2

Ein Papier, das zur Verhinderung der Durchdringung mit Lösungsmittel behandelt worden war, wurde mit einer Lösung aus 2 g Ν,Ν,Ν¹,N'-Tetrabenzyl-m-phenylendiamin, 2 g Polystyrol, ItM- mg 2,5,7-Trinitro-9-dicyanmethylenfluorenon-4-carbonsäurestearylamidLVerbindung(29)| und 40 ml Toluol beschichtet und zur Schaffung eines photoempfindlichen Papiers getrocknet. Die Dicke der photoempfindlichen Schicht betrug etwa 7 JX .

Die photoempfindliche Schicht wurde beladen, belichtet und wie in Beispiel 1 entwickelt. Man erhielt ein ausgezeichnetes Bild. Die geeignete Belichtungsmenge betrug 550 lux . sec.

Beispiel 3

Eine Lösung, die durch Auflösen von 2 g Poly-3-methyl-9-vinylcarbazol und 38 mg 2,7-Dinitro-9-Fluorenon-4-carbonsäure-

24Ü1115

hexylesteriVerbindung(13)/ in 35 ml Chlorbenzol hergestellt worden war, und eine Lösung, die durch Auflösen von 11,6 mg 9,9'-Diäthyl-3,3'-dicarbazolyl-phenylmethyljodid (Sensibilisierungt farbstoff) in 5 ml Methylenchlorid hergestellt worden war, wurden zu einer photoempfindlichen Lösung gemischt. Die photoempfindliche Lösung wurde auf einen durchsichtigen Polyesterfilm, auf dem Aluminium dünn abgeschieden war, aufgebracht und zu einem durchsichtigen photoempfindlichen Film mit einer 6 it dicken photoempfindlichen Schicht getrocknet. Die photoempfindliche Schicht wurde geladen, belichtet und wie in Beispiel

1 entwickelt. Man erhielt eine ausgezeichnete Bildkopie. Die geeignete Belichtungsmenge betrug 150 Lux . sec.

Beispiel 4

Eine Aluminiumplatte vrurde mit einer Lösung aus

2 g Poly-9-vinylcarbazol, 4,9 g 4,5,7-Trinitro-9-fluorenon-2-carbonsäureoctylester'Verbindung (10)' und 30 ml Chlorbenzol beschichtet, so daß eine 10JX dicke,trockene Schicht gebildet wurde. Die so hergestellte photoempfindliche Platte wurde an ein Rotationselektrometer angelegt und nach negativer Ladung mit -6 KV mit einer Wolframlampe belichtet (wirksame Beleuchtungsstärke: 14,4 Lux). Die zum Abbau des Ausgangspotentials von 9 50 V auf die Hälfte erforderliche Belichtungsmenge (Halbwerts-Belichtung) betrug 4,4 Lux . sec.

Bei Ersatz des Poly-9-vinylcarbazol durch Poly-3-chlor-

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9-vinylcarbazol betrug die Halbwertsbelichtung 4,0 Lux . sec und bei Verwendung von Poly-3,6-chlor~9-vinylcarbazol betrug die Halbwertsbelichtung 3,6 Lux s see.

Beispiele 5 bis IQ

Die folgenden Verbindungen wurden zur Herstellung photoempfindlicher Platten anstelle von 4,5,7-Trinitro-9-fluorenon-2-carbonsäureoctylester des Beispiels 4 eingesetzt. Die Halbwertsbelichtung der photoempfindlichen Platten wurde wie in Beispiel 4 mit dem Elektrometer gemessen. Die Ergebnisse sind in der folgenden. Tabelle angegeben.

Zusammengefaßt besteht die Erfindung in einem photoempfindlichen Material für die Elektrophotographie, das als Sensibilisator Verbindungen der Formel

enthält, worin R₁, R₂ und R₃ aus der aus Nitro, Cyan, Halogen, Trifluormethyl, Acyl, niederes Alkyl,· niederes Alkoxy, Aryl, Aralkyl und Wasserstoff bestehenden Gruppe, X unter Sauerstoff und Malononitril sowie R₁^ aus der aus substituiertem oder unsubstituiertem Alkyloxy, Alkylamino, Aralkyloxy, Aralkylamino, Aryloxy und Arylamino bestehenden Gruppe ausgewählt werden und wobei R., R₂ und R₃ gleich oder verschieden sein können.

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Beispiel ; zugesetzte

, Verbindung

5 Verbindung

6 Verbindung 5·

7 Verbindung

8 Verbindung

9 ' Verbindung Verbindung

Menge (Mol-% bezogen auf Poly-9-vinyl-carbazol)

Anfangs-*
! potential

	g	(120	Mol-%)	920V
4 ,04	ε	(100	Il \	95OV
5,40	R	( 80	ti \	88OV
3,71	ς	( 50	Il )	900V
2,39	g	( 30	Il \	: 96OV
1,39	g	( 20	Il \	; 960V
1,36

Halbwertsbeliehtungsmenge

5,2 Lux . sec •5,0 » "

6,0 » 11,0 " 18,5
24,0 "

Claims

Patentansprüche

l.j Photoempfindliches Material für die. Elektrophotographie, dadurch gekennzeichnet, daß es eine oder mehrere organische photoleitende Stoffe und eine oder mehrere Verbindungen der Formel

COR,

enthält, worin R^, R~ und R_ gleich oder verschieden sind und Nitro, Cyan, Halogen, Trifluormethyl, Acyl, niederes Alkyl, niederes Alkoxy, Aryl, Aralkyl oder Wasserstoff; X Sauerstoff oder Malononitril und R₁^ substituiertes oder nicht substituiertes Alkyloxy, Alkylamino, Aralkyloxy, Aralkylamino, Aryloxy oder Aralamino mit H bis 30 C-Atomen bedeuten.
2. Photoempfindliches Material nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die durch die Formel dargestellte Verbindung in einem Verhältnis von 0,01 bis 10 Mol je 100 Mol des organischen photoleitenden Materials zugesetzt ist.

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3. Photoempfindliche Platte für die Elektrophotographie, dadurch gekennzeichnet, daß sie eine Schicht aus einem oder mehreren organischen, photoleitfähigen Stoffen und einer oder mehreren Verbindungen der Formel

enthält, worin R., R« und R₃ gleich oder verschieden sein können und Nitro, Cyan, Halogen, Trifluormethyl, Acyl, niederes Alkyl, niederes Alkoxy, Aryl, Aralkyl oder Wasserstoff} X Sauerstoff oder Malononitril und R^ substituiertes oder nicht substituiertes Alkyloxy, Alkylamino, Aralkyloxy, Aralkylamino, Aryloxy oder Arylamino mit 4 bis 30 C-Atomen bedeuten, wobei das Verhältnis dieser Verbindung zu dem organischen photoleitfähigen Material 10 bis 120 Mol zu 100 Mol beträgt.

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