[go: up one dir, main page]

DE2039728B2 - Verfahren zur herstellung von alkenylalkoxysilanen - Google Patents

Verfahren zur herstellung von alkenylalkoxysilanen

Info

Publication number
DE2039728B2
DE2039728B2 DE19702039728 DE2039728A DE2039728B2 DE 2039728 B2 DE2039728 B2 DE 2039728B2 DE 19702039728 DE19702039728 DE 19702039728 DE 2039728 A DE2039728 A DE 2039728A DE 2039728 B2 DE2039728 B2 DE 2039728B2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
formula
mol
disilane
heated
alkenylalkoxysilanes
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE19702039728
Other languages
English (en)
Other versions
DE2039728A1 (de
DE2039728C3 (de
Inventor
William Henry Midland Mich. Atwell (V.StA.)
Original Assignee
Dow Corning Corp., Midland, Mich. (V.StA.)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dow Corning Corp., Midland, Mich. (V.StA.) filed Critical Dow Corning Corp., Midland, Mich. (V.StA.)
Publication of DE2039728A1 publication Critical patent/DE2039728A1/de
Publication of DE2039728B2 publication Critical patent/DE2039728B2/de
Application granted granted Critical
Publication of DE2039728C3 publication Critical patent/DE2039728C3/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/0834Compounds having one or more O-Si linkage
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/18Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
    • C07F7/1804Compounds having Si-O-C linkages
    • C07F7/1872Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20
    • C07F7/1876Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20 by reactions involving the formation of Si-C linkages

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)

Description

Bisher war bei dem hauptsächlich verwendeten Verfahren zur Herstellung von Alkenylalkoxysilanen der Einsatz eines Katalysators, meist Chloroplatinsäure, erforderlich. Es wurde nun ein Verfahren gefunden, bei dem im Gegensatz hierzu der Einsatz eines Katalysators vermieden wird, so daß die Möglichkeit störender Nebenwirkungen ausgeschlossen ist. Außerdem werden mit dem erfindungsgemäßen Verfahren beträchtlich höhere Ausbeuten erzielt.
Das erfindungsgemäße Verfahren zur Herstellung von Alkenylalkoxysilanen ist dadurch gekennzeichnet, daß
(1) Disilane der allgemeinen Formel
(RO)nSi Si(OR)n
worin R einen Alkylrest mit 1 bis 6 C Atomen, R' einen Alkylrest mit 1 bis 6 C-Atomen oder einen Phenylrest bedeutet und η 1 oder 2 ist. mit
(2) mindestens der stöchiometrischen Menge eines Alkohols der Formel ROH und eines Alkins der Formel R"C=CR", worin R die angegebene Bedeutung hat und R" einen Alkylrest mit 1 bis 6 C-Atomen, einen Phenylrest oder ein WasserstofTatom bedeutet,
auf Temperaturen von mindestens etwa 175°C erhitzt und anschließend die gebildeten Alkenylalkoxysilane isoliert werden.
Beispiele für Alkylreste R in den angegebenen Formeln sind Methyl- (bevorzugt), Äthyl-, Propyl-, Isopropyl-, Butyl-, tert.-Butyl-, Amyl- und Hexylreste. Die entsprechenden Alkoxyreste in dem Disilan (1) sind daher Methoxy-, Äthoxy-, Propoxy-, Isopropoa.y-, Butoxy-, Amyloxy- und Hexoxyreste.
Beispiele Für Alkylreste R' und R" sind dieselben wie für R angegeben. Darüber hinaus kann R' defini
tionsgemäß aucTTein Phenylrest und R" ein Phenylrest oder ein Wasserstoffatom sein- R" ist vorzugsweise ein Wasserstoffatom.
Bei der Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens können die Reaktionspartner (I) und (2) entweder in einem geschlossenen System auf eine Temperatur von mindestens etwa 175° C oder in einem offenen System kontinuierlich auf eine Temperatur von mindestens etwa 3500C erhitzt werden.
ίο Unter der Ausdrucksweise »geschlossenes System« ist zu verstehen, daß die Reaktion unter Luftausschluß und notwendigerweise unter Druck, der von der jeweils gewählten Reaktionstemperatur abhängig ist, in einem Reaktionsgefaß, das von einem zugeschmolzenen Glas-
rohr bis zu einem Druckautoklav reichen kann, durchgeführt wird. Unter diesen Bedingungen -\id Reaktionstemperaturen von mindestens etwa 175° C erforderlich, da bei niedrigeren Temperaturen die Reaktion nicht anspringt oder so langsam verläuft, daß es praktisch unwirtschaftlich ist. Reaktionstemperaturen im Bereich von e'wa 200 bis 250 C haben sich hierbei besonders bewährt.
Unter der Ausdrucksweise »offenes System kontinuierlich« ist zu verstehen, daß die Reaktionsteünehmer kontinuierlich durch ein erhitztes Rohr oder eine ähnliche Vorrichtung unter Atmosphärendruck geleitet werden. Unter diesen Bedingungen sind Reaktionstemperaturen von mindestens etwa j50 C erforderlich; vorzugsweise wird bei 400 bis 450 C gearbeitet. Unabhängig von dem gewählten System sollten Reaktionstemperaturen von 500 C nicht überschritten werden, da hierbei möglicherweise eine Pyrolyse eintritt, wodurch die Ausbeuten an den gewünschten Alkenylalkoxysilanen beträchtlich gesenkt werden.
Unabhängig von dem gewählten System ist ferner die Reihenfolge, in welcher die Reaktionsteilnehmer (11 und (2) miteinander in Berührung kommen. Wichtig ist jedoch, daß das Disilan (1) und das Gemisch (2) gleichzeitig erhitzt werden, um die bestmöglichen Ausbeuten zu erzielen.
Ein Überschuß des Alkohols ist vorteilhaft, da hierdurch höhere Ausbeuten an den gewünschten Alkenylalkoxysilanen erreicht werden.
Beispiel 1
10.5 g (0,05MoI) Disilan der Formel
(CH3O)2Si — Si(OCH3I2
CH3
5,4 g (0,1 Mol) Dimethylacetylen und 3,2 g (0,1 Mol) Methanol wurden in einem verschlossenen Glasrohr 10 Stunden auf 2000C erhitzt. Nach dem Abkühlen wurden die überschüssigen Reaktionsteilnehmer und das als Nebenprodukt gebildete Methyl-trimethoxysilan durch Destillation entfernt. Durch weitere Destillation wurden 3,5 g (44%) des Alkenylalkoxysilans der Formel
CH3
CH3C = CSi(OCH3J2
erhalten.
CH3
Die Struktur dieser Verbindung wurde sowohl durch Infrarotanalyse, kernmagnetische Resonanzmessung und Massenspektralanalyse als auch durch Methylierung unter Bildung der bekannten Verbindung der Formel
CH,
CH3C = CSi(CH3J3
bestätigt.
Beispiel 2
25,9 g (0,145 Mol) Disilan der Formel (CH3I2
CH3OSi — SiOCH3 (CH3^2
Beispiel 4
Zu 21,0 g (0,1 Mol) Disilan der Formel
CH,
(CH3O)2Si -Si(OCH3J2
CH3
IO wurden 3,2 g (0,1 Mol) Methanol zugefügt, die in einer Geschwindigkeit von 10 ml/Std. durch ein auf 4000C erhitztes Quarzrohr geleitet wurden. Gleichzeitig wurde Acetylen in einer Geschwindigkeit von 25 ml/Std. eingeführt. Durch Gas-Flüssigkeits-Chromatographie des Reaktionsgemisches wurde festgestellt, daß das Disilan unter Bildung (22,0 Flächenprozent) des Alkenylalkoxysilans der Formel
20 HC = CSi(OCH3)2
H CH3
23,5 g (0,44 Mol) Dimethylacetylen und 13,9 g (0,44 Mol) Methanol wurden 18 bis 20 Stunden auf 225 C erhitzt. Durch Destillation wurden 7,9 g (38%) des 25 vollständig verbraucht worden war. Alkenylalkoxysilans der Formel
CH3
CH3C = C iOCH,
j I
H (CiI3I2
erhalten.
Die Struktur dieser Verbindung wurde sowohl durch Infrarotanalyse, kernmagnetische Resonanzmessung und Massenspektralanalyse als auch durch Methylierung unter Bildung der bekannten Verbindung der Formel
CH3
CH3C = CSi(CHj)3
bestätigt.
Beispiel 3
21 g (0,1 Mol) Disilan der Formel CH3
(CH3O)2Si — Si(OCH3J2
CH3
10,8 g (0,2 Mol) Dimethylacetylen und 3,2 g (0,1 Mol) Methanol wurden bei 400"C durch ein Quarzrohr geleitet (5 ml/Std.). Durch Gas-Flüssigkeits-Chromatographie wurde festgestellt, daß das Disilan vollständig verbraucht worden war unter Bildung des Alkenylalkoxysilans der Formel Beispiel 5
17,8 g (0.1 Mol) Disilan der Formel
(CH3)2
CH3OSi — SiOCH3
(CH3J2
und ein Gemisch aus 10,8 g (0,2MoI) Dimethylacetylen und 3,2 g (0,1 Mol) Methanol wurden durch ein auf 400° C erhitztes Quarzrohr geleitet (5.0 ml/Std.J. Durch Gas-Flüssigkeits-Chromatographie wurde festgestellt, daß das Disilan unter Bildung des Alkenylalkoxysilans der Formel
CH3
CH3C = CSi(OCH3)2
H CH3
(31,0 Flächenprozent).
CH3
CH3C = CSiOCH3
! I
H (CH3J2
(44,3 Flächenprozent) vollständig verbraucht worden war.
Beispiel 6
19 g (0,1 Mol) Disilan der Formel
CH3
(CH3O)2Si-SiOCH3
(CHj)2
11,0 g (0,2 Mol) Dimethylacetylen und 3,2 g (0,1 Mol) Methanol wurden bei 4000C durch ein Quarzrohr geleitet (5,0 ml/Std.).
Durch Gas - Flüssigkeits - Chromatographie wurde
festgestellt, daß das Disilan unter Bildung der Alkenylalkoxysilane der Formeln
CH3
CH3C = CSiOCH3
H (CH3),
CH3
CH3C = CSi(OCH3)2
H CH3
(20,5 bzw. 19,7 Flächenprozent) vollständig verbraucht worden war.
Physikalische Daten Für die Verbindungen
CH3CH = C(CH3)Si(CH3)(GCH3I2
(Beispiele 1, 3, 6).
Diese Verbindung zeigte die folgenden NMR-Signale:
SiCH3 Singlett bei 9,9 τ,
SiOCH3 Singlett bti 6,56 7,
CCH3 Multiplett bei 8,32 r und
C = CH Multiplett bei 3,98 7
in einem Verhältnis von 3:6:6:1.
Das IR-Spektrum zeigte charakteristische Banden bei 1620 (C = C Stretch), 1375 (CCH3), 1250 (SiCH3) und 1085 (SiOCH3) sowie drei Banden bei 643, 483 und 450 cm'1, die für eis-Verbindungen dieses Typs charakteristisch zu sein scheinen.
Die Massenspektralanalyse ergab ein Molekulargewicht von 160 (berechnet für C7H16O2SIrIoO).
Diese Verbindung wurde unter Bildung des bekannten cis-2-(TrimethylsJlyl)-buten (2) (J.W.Ryan S und J. L. Spei er, Inorganic Chemistry, Bd. 31, S. 2698 [1966]) methyliert.
CH3CH = C(CH3)Si(CH3)2(OCH3)
(Beispiele 2, 5, 6).
Diese Verbindung zeigte die folgenden NMR-Signale:
SiCH3 Singlett bei 9,70 τ,
SiOCH3 Singlett bei 6,55 τ,
CCH3 Multiplett bei 8,20 τ und
C =- CH Multiplett bei 3,95 τ
in einem Verhältnis von 6:3:6:1.
Das IR-Spektrum zeigte charakteristische Banden bei 1620 (C = C Stretch). :375 (CCH3). 1255 (SiCH3) und 1090 (SiOCH3) sowie dr~i Banden bei 635, 435 und 415cm"1, die fur eis-Verbindungen dieses Typs charakteristisch zu sein scheinen.
Die Massenspektralanalyse ergab ein Molekulargewicht von 144 (berechnet Für C7H16OSi: 144).
Diese Verbindung wurde ebenfalls unter Bildung des bekannten cis-2-(Trimethylsilyl)-buten (2) methyliert.
CH2 ^ CHSi(CH3)(OCH3)2
(Beispiel 4).
Diese Verbindung stimmte hinsichtlich der NMR-Signale und der charakteristischen Banden des IR-Spektrums mit einer bekannten Probe von Vinylmethyldimethoxysilan überein (Für den Vergleich wurden interne Standards verwendet).

Claims (2)

Patentansprüche:
1. Verfahren zur Herstellung von Alkenylalkoxysilanen, dadurch gekennzeichnet, daß Disilane der Formel
(RO)JSi Si(0R)„
worin R einen Alkylrest mit 1 bis 6 C-Atomen, R' einen Alkylrest mit 1 bis 6 C-Atomen oder einen Phenylrest bedeuten und η 1 oder 2 ist, mit mindestens der stöchiometrischen Menge eines Alkohols der Formel ROH und eines Alkins der Formel R"C=CR", worin R die angegebene Bedeutung hat und R" einen Alkylrest mit 1 bis 6 C-Atomen, einen Phenylrest oder ein Wasserstoffatom bedeutet, auf mindestens etwa 175"C erhitzt und anschließend die gebildeten Alkenylalkoxysilane isoliert werden.
2. Verfahren gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Reaktionspartner in einem offenen System kontinuierlich auf eine Temperatur von mindestens etwa 350' C erhitzt werden.
DE19702039728 1969-08-11 1970-08-10 Verfahren zur Herstellung von Alkenylalkoxysilanen Expired DE2039728C3 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US84916669A 1969-08-11 1969-08-11

Publications (3)

Publication Number Publication Date
DE2039728A1 DE2039728A1 (de) 1971-02-18
DE2039728B2 true DE2039728B2 (de) 1973-01-11
DE2039728C3 DE2039728C3 (de) 1973-08-30

Family

ID=25305225

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19702039728 Expired DE2039728C3 (de) 1969-08-11 1970-08-10 Verfahren zur Herstellung von Alkenylalkoxysilanen

Country Status (6)

Country Link
US (1) US3576024A (de)
JP (1) JPS506457B1 (de)
BE (1) BE754650A (de)
DE (1) DE2039728C3 (de)
FR (1) FR2056814A5 (de)
GB (1) GB1268167A (de)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS51157053U (de) * 1975-06-09 1976-12-14
US3971884A (en) * 1975-09-12 1976-07-27 National Distillers And Chemical Corporation Ethylene-vinyl acetate silicone rubber adherent laminates and method of production
US3971883A (en) * 1975-09-12 1976-07-27 National Distillers And Chemical Corporation Silicone rubber-ethylene vinyl acetate adhesive laminates and preparation thereof
AU694019B2 (en) * 1995-05-22 1998-07-09 Janoch Industries Pty Ltd Motorized towing vehicle

Also Published As

Publication number Publication date
GB1268167A (en) 1972-03-22
JPS506457B1 (de) 1975-03-14
DE2039728A1 (de) 1971-02-18
FR2056814A5 (de) 1971-05-14
BE754650A (fr) 1971-02-10
US3576024A (en) 1971-04-20
DE2039728C3 (de) 1973-08-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69214306T2 (de) Organopentasiloxan und Verfahren zu seiner Herstellung
EP0291871A2 (de) Verfahren zur Herstellung von Organopolysiloxanen und nach diesem Verfahren herstellbares Organopolysiloxan
DE2365272A1 (de) Beta-aminoaethylsilane und verfahren zur herstellung dieser verbindungen
DE69408919T2 (de) Verfahren zur Herstellung von Polydimethylsiloxanen
DE3138235A1 (de) "hexafluoropropyl-oxy-alkyl-silane"
CH451933A (de) Verfahren zur Herstellung von siliciumorganischen Verbindungen
EP0205891B1 (de) Phenylengruppen-haltige Organosilane, Verfahren zu ihrer Herstellung
DE2039728B2 (de) Verfahren zur herstellung von alkenylalkoxysilanen
DE3023620C2 (de) Organosilane
DE2719008C2 (de)
DE2345923B2 (de) Verfahren zur Herstellung von halogensubstituierten linearen oder verzweigten Organopolysiloxanen
EP0387689A1 (de) Verfahren zur Herstellung von siliciumorganischen Verbindungen
DE2114027A1 (de) Verfahren zur Herstellung von Methallylsilicinnverbindungen
DE69024294T2 (de) Fluorierte zyklische Organosilicium-Verbindungen und Verfahren zu deren Herstellung
CH661928A5 (de) Verfahren zur herstellung funktionell substituierter silane.
DE102010028170B4 (de) Verfahren zur Herstellung metallierter Hydridosilanverbindungen
DE1249276B (de) Verfahren zur Herstellung von Isopropenoxy Siliciumverbindungen
EP0250823B1 (de) Verfahren zur Herstellung von Organooxyhalogensilanen
WO2022037793A1 (de) Verfahren zur herstellung von siloxanen
CH639392A5 (de) Phenoxyalkyl-, thio-phenoxyalkyl- und pyridyloxyalkyl-trialkoxy-silane und verfahren zu ihrer herstellung.
EP0121914B1 (de) Verfahren zur Herstellung von asymmetrischen Disiloxanen
DE1233395B (de) Verfahren zur Herstellung von hydroxymethylsubstituierten Organosiloxanen
DE1668140C3 (de) Acyloxyaminosilane und Verfahren zu deren Herstellung
DE3850870T2 (de) Methode zur Herstellung von Beta substituiertem Allylsilane.
DE901289C (de) Verfahren zur Herstellung neuer Ketondisiloxane

Legal Events

Date Code Title Description
C3 Grant after two publication steps (3rd publication)
E77 Valid patent as to the heymanns-index 1977
8339 Ceased/non-payment of the annual fee