DE1567469B1 - Verfahren zur gleichzeitigen Abtrennung von Aluminiumchlorid und Titantetrachlorid aus den bei der Chlorierung oder Hydrochlorierung von Silicium anfallenden Reaktionsgasen - Google Patents
Verfahren zur gleichzeitigen Abtrennung von Aluminiumchlorid und Titantetrachlorid aus den bei der Chlorierung oder Hydrochlorierung von Silicium anfallenden ReaktionsgasenInfo
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Description
1 2
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur gleich- Das Kennzeichnende der Erfindung ist darin zu
zeitigen trockenen Abtrennung von Aluminiumchlorid sehen, daß die Reaktionsgase über einen Reaktionsund
Titantetrachlorid aus den bei der Chlorierung turm mit festem Alkali-oder Erdalkalihalogenid oder
von Silicium und Silicium enthaltenden Stoffen deren Mischungen in Gegenwart geringer Mengen
anfallenden flüchtigen Reaktionsprodukten durch 5 eines metallischen Reduktionsmittels bei Tempera-Überleiten
der Reaktionsprodukte über festes Alkali- türen von mehr als 1000C, vorzugsweise von mehr als
und/oder Erdalkalihalogenid bei erhöhter Temperatur. 150° C5 geleitet werden, und die gebildete Metall-
Die bei der Hydrochlorierung von handelsüblichem chlorid-Alkalihalogenid- und/oder Erdalkalihalogenid-Ferrosilicium
entstehenden Reaktionsprodukte SiCl4, schmelze vom festen Alkalihalogenid und/oder Erd-SiHCl3
und Wasserstoff, welche unter anderem zur io alkalihalogenid abgezogen wird.
Herstellung von hochdispersem Siliciumdioxid durch Wie überraschenderweise gefunden wurde, reagiert
Flammenhydrolyse verwendet werden können, ent- dampfförmiges AlCl3 selbst in großer Verdünnung im
halten neben geringen Mengen TiCl4 etwa 2 Gewichts- Chlorsilane enthaltenden Reaktionsgas praktisch vollprozent
AlCl3 als Verunreinigung. Die Abtrennung ständig mit festem, auf über 1000C aufgeheiztem
von AlCl3 aus den Reaktionsprodukten, ζ. B. durch 15 Alkali- oder Erdalkalihalogenid unter Bildung der
Abkühlung der Gasgemische oder durch eine Naß- oberhalb 1000C schmelzenden komplexen Verbindunwäsche,
z. B. mit flüssigem SiCl4, stellt ein nicht zu gen. Diese Umsetzung kommt erstaunlicherweise
unterschätzendes Problem des Prozesses dar, da es nicht nach oberflächiger Reaktion an den Alkali- oder
sowohl in Gasphase als auch in Lösung sehr stark zur ErdalkalihalogenidstückenzumErliegen.Diegeschmol-Übersättigung
neigt und daher leicht zu Verstopfung 20 zene Komplexverbindung tropft vielmehr ab, und der
Anlaß geben kann. Umsatz mit weiteren AlCl3 setzt sich auf den Alkali-
Dagegen läßt sich Titantetrachlorid durch eine oder Erdalkalihalogenidstücken fort.
Naßwäsche mit z. B. flüssigem, im Kreislauf geführtem Es wurde ferner gefunden, daß sich auch das
SiCl4 abtrennen. Es darf allerdings der TiCl4-Gehalt Titantetrachlorid gleichzeitig mit dem Aluminiumder
Waschflüssigkeit im Hinblick auf die Phasen- 25 chlorid aus den Reaktionsgasen entfernen läßt, wenn
gleichgewichtslage eine bestimmte zulässige Größe die Reaktionsgase über festes Alkali- oder Erdalkalikeinesfalls
überschreiten, so daß eine fortgesetzte halogenid in Gegenwart eines metallischen Reaktions-Entnahme
und Aufbereitung großer Mengen Wasch- mittels, vorzugsweise Alumimumpulver oder Zinkstaub,
flüssigkeit unvermeidbar sind. geleitet werden, wobei das Titantetrachlorid zu
Es ist aus der USA.-Patentschrift 3 038 781 bekannt, 30 Titantrichlorid reduziert wird, das sich unter Bildung
aus Gemischen von Schwermetallchloriden, wie z.B. von komplexen Verbindungen in der AlCl3-Alkali-bzw.
Tantal-, Niobium- und Wolframchlorid das Alu- Erdalkalihalogenidschmelze löst und mit ihr abläuft,
minium- und Eisenchlorid abzutrennen, indem man Die Abscheidung von AlCl3 allein gelingt, wenn die
die Dämpfe dieser Chloride über festes Kochsalz bei gasförmigen Reaktionsprodukte über festes Alkali-Temperaturen
zwischen 250 und 55O0C leitet, wobei 35 oder Erdalkalihalogenid, insbesondere Kochsalz, bei
Aluminium- und Eisenchlorid mit Kochsalz eine Temperaturen von mehr als 100° C, vorzugsweise von
Schmelze bilden und abgezogen werden können, mehr-als 1500C, geleitet wird. Das Gasgemisch wird
während die übrigen Chloride in der Dampfphase hierzu über einen mit NaCl-Stücken gefüllten, beheizverbleiben,
ten Reaktionsturm geführt und anschließend das
Nach einem anderen bekannten Verfahren gemäß 40 SiCl4 durch Tiefkühlung vollständig auskondensiert,
der belgischen Patentschrift 644 997 kann Aluminium- In den SiCl4-Kondensaten kann man den Gehalt an
chlorid von Verunreinigungen, wie z. B. von Haloge- AlCl3 und in der ablaufenden Schmelze des NaClniden
des Titans, Vanadiums und insbesondere des Turms das Verhältnis NaCl: AlCl3 bestimmen,
Eisens in der Weise abgetrennt werden, indem in Turms das Verhältnis NaCl zu AlCl3 bestimmen.
Gegenwart von metallischem Aluminium die Ver- 45 Der AlCl3-Gehalt der SiCl4-Kondensate beträgt
unreinigungen durch Reduktion in nicht sublimierbare, gleichbleibend 0,01 °/0. Die vom NaCl-Turm abnicht
flüchtige Produkte übergeführt werden und Alu- laufende Salzschmelze hat stets einen Schmelzpunkt
miniumchlorid aus dieser Mischung abgedampft wird. von 150 bis 152° C, das entspricht einer molekularen
Ferner ist es aus der deutschen Auslegeschrift Zusammensetzung von 48 Molprozent NaCl und
1150 661 bekannt, bei der Gewinnung von Hexa- 50 52 Molprozent AlCl3 und damit weitgehend der bei
chlordisiloxan aus seinen Gemischen mit Titantetra- 155,5° C schmelzenden Komplexverbindung Na(AlCl4).
chlorid letzteres bei erhöhten Drücken und Tempera- Die Vollständigkeit der AlCl3-Abtrennung wurde in
türen in einen Autoklav durch Reduktion mit metal- Abhängigkeit von der Temperatur der NaCl-Charge
lischen Reduktionsmitteln in TiCl3 zu überführen, im Absorptionsturm geprüft, und zwar im Bereich von
wobei dieses als Schlamm ausfällt und von der flüssigen 55 120 bis 45O0C.
Hexachlordisiloxanphase abgetrennt wird. Es konnte festgestellt werden, daß der AlCl3-Gehalt
Der Erfindung lag jedoch die Aufgabenstellung der SiCl4-Kondensate merklich zunimmt, wenn die
zugrunde, ein Verfahren zur gleichzeitigen und Temperatur im NaCl-Turm über 400° C liegt,
trockenen Abscheidung von Aluminiumchlorid und Es hat sich als vorteilhaft erwiesen, den Erstarrungs-
Titantetrachlorid aus den bei der Chlorierung oder 60 punkt der ablaufenden Salzschmelze abzusenken,
Hydrochlorierung von Silicium und Silicium ent- indem statt reinem Kochsalz eine gleichmolare
haltenden Ausgangsmaterialien, wie Siliciumlegierun- homogene Mischung von NaCl und KCl im Absorpgen,
Siliciden, Kieselsäure und ihren Verbindungen tionsturm vorgelegt wurde. Die ablaufende Salzanfallenden
Reaktionsgase durch Überleiten der schmelze hatte in diesem Falle folgende Zusammen-Reaktionsgase
über festes Alkali- oder Erdalkali- 65 setzung:
halogenid bei erhöhter Temperatur anzugeben, mittels q _ ηγ ^ ο/ Al = 15 79 °/
welchem die oben beschriebenen Nachteile und Na = 528°/ K = 741°/
Schwierigkeiten vermieden werden können. ' '
3 4
Das Verhältnis NaCl: KCl im Ablauf betrug Anlage zur Trennung der beiden Komponenten
1:0,825. Ihr Schmelzpunkt lag bei 115°C. Der zugeführt werden.
AlCl3-Gehalt des Siliciumtetrachlorides betrug nach
AlCl3-Gehalt des Siliciumtetrachlorides betrug nach
der Behandlung wie bei Verwendung von reinem Beispiel 1
Kochsalz 0,01%. 5
Kochsalz 0,01%. 5
Auch die Bromide der angegebenen Alkalimetalle, Ein aus dem Si-Chlorierungsprozeß anfallendes
wie z. B. Kaliumbromid, sind zur Abtrennung von Gasgemisch aus 2,6 m3 Wasserstoff und 1,32 m3
AlCl3 geeignet. AlCl3 und KBr bilden nämlich ein bei SiCl4-Dampf (das sind 10 kg SiCl4) enthält als Ver-
1040C schmelzendes Eutektikum mit 66 Molprozent unreinigungen 0,2 kg AlCl3 und 0,010 kg TiCl4, das
KBr. Setzt man AlCl3-Dampf mit festem KBr bei io entspricht 2 % AlCl3 und 0,1 % TiCl4, bezogen auf die
etwa 250° C um, so entsteht das Doppelsalz KBr · AlCl3 Menge SiCl4.
mit einem Schmelzpunkt von 213 0C. Zur Abtrennung des AlCl3 leitet man dieses Gas-
Ebenso sind zur Abtrennung von AlCl3 auch die gemisch durch einen mit NaCl-Stücken gefüllten und
Halogenide des Lithiums geeignet, z. B. bildet Lithium- auf 160° C geheizten Turm. Dabei reagiert AlCl3 mit
chlorid mit AlCl3 ein bei 114° C schmelzendes Eutek- 15 NaCl unter Bildung von 0,3 kg des bei 152° C schmel-
tikum mit 41 Molprozent LiCl, und bei der Umsetzung zenden Komplexes Na(AlCl4), der abläuft und in einer
von AlCl3-Dampf mit festem LiCl läuft bei etwa Vorlage gesammelt wird.
180° C das bei 143,5° C schmelzende Doppelsalz Das TiCl4 wird in einer Stufe mit AlCl3 abgeschieden,
LiCl/AlCl3 ab. indem man der Kochsalzcharge geringe Mengen
In gleicher Weise wie mit Alkalihalogeniden gelingt 20 Aluminiumpulver zusetzt. Das TiCl4 wird dabei zu
auch mit Erdalkalihalogeniden, insbesondere MgCl2, TiCl3 reduziert, das mit NaCl den in der ablaufenden
die Abscheidung von AlCl3. MgCl2 und AlCl3 bilden NaAlCl4-Schmelze löslichen Komplex Na3TiCl6 bildet,
ein bei 186° C schmelzendes Eutektikum mit 16 Mol- zur Reduktion von 0,10 kg TiCl4 werden beispiels-
prozent MgCl2. Läßt man jedoch AlCl3-Dampf mit weise 5 g Aluminiumpulver benötigt. Es entstehen
festem MgCl2 reagieren, so bildet sich bei Temperaturen 25 0,08 kg TiCl3. Der AlCl3-Gehalt des Gasgemisches
über 250° C die Doppelverbindung MgCl2- 2AlCl3, die beträgt nach der Behandlung
<0,01%, bezogen auf
einen Schmelzpunkt von 228° C besitzt. die Menge SiCl4, während TiCl4 nicht mehr nachweis-
Es ist nun ein wesentlicher Teil der Erfindung, das bar ist.
bisher noch nicht einbezogene Titantetrachlorid aus B e i s d i e 1 2
den eingangs erwähnten Reaktionsgasen unter Berück- 30
den eingangs erwähnten Reaktionsgasen unter Berück- 30
sichtigung der vorstehenden Ergebnisse gleichzeitig In gleicher Weise wie im Beispiel 1 werden die
mit dem AlCl3, durch Zugabe von Metallpulvern, AlCl3- und TiCl4-haltigen Gasgemische aus Wasserz.
B. Aluminium oder Zink, vorzugsweise jedoch stoff und Siliciumtetrachlorid durch eine auf minpulverförmigem
Aluminium, zum Alkali- bzw. Erd- destens 140° C heiße feinstückige Schüttung einer
alkalihalogenid abzuscheiden. 35 homogenen, äquimolaren Mischung aus NaCl und
TiCl4 reagiert bei Temperaturen über 100° C, KCl geführt. Die von der Schüttung ablaufende
insbesondere bei Anwesenheit von AlCl3, mit dem Salzschmelze besteht aus 71,3% Cl; 15,8% Al; 5,3%
Aluminiumpulver unter Bildung von TiCl3, das sich Na und 7,6 % K. Ihr Schmelzpunkt liegt bei 1150C.
als Na3TiCl6 in der Schmelze löst und mit dieser In einem Teil dieser Schmelze wird so viel Alumiabgezogen
werden kann. 4° niumpulver dispergiert, daß der Gehalt an letzterem Man kann die Abtrennung des TiCl4 in einer von etwa 1 % beträgt. Diese Aluminiumdispersion wird
der Abtrennung des AlCl3 getrennten Reaktionsstufe nach dem Erstarren und Zerkleinern der NaCl: KClvornehmen,
indem man das Aluminiumpulver nicht Schüttung beigefügt, wobei sie bei den herrschenden
der NaCl-Charge des Turms, sondern der ablaufenden Betriebstemperaturen vollständig schmilzt und das
NaAlCl4-Schmelze zusetzt und die Al: NaAlCl4- 45 Aluminiumpulver auf der NaCl: KCl-Schüttung verDispersion
in einem zweiten Reaktionsturm mit dem teilt, so daß nun auch das TiCl4 unter Bildung von
TiCl4 des Gasgemisches reagieren läßt: Diese Ver- Na3TiCl6 bzw. K3TiCl6 gleichzeitig mit dem AlCl3 aus
fahrensweise hat den Vorteil, daß das metallische den Gasgemischen abgeschieden wird.
Reduktionsmittel gleichmäßig verteilt zur Reaktion Der Gehalt der Gasgemische nach dieser Behandlung kommt und von dem Gasstrom auch nicht fortgeblasen 50 an AlCl3 beträgt <0,01 % und der von TiCl4 <0,005 %. werden kann.
Reduktionsmittel gleichmäßig verteilt zur Reaktion Der Gehalt der Gasgemische nach dieser Behandlung kommt und von dem Gasstrom auch nicht fortgeblasen 50 an AlCl3 beträgt <0,01 % und der von TiCl4 <0,005 %. werden kann.
Ferner ist es möglich, das Aluminiumpulver der Beispiel 3
abgelaufenen NaAlCl4-Schmelze zuzumischen, diese
abgelaufenen NaAlCl4-Schmelze zuzumischen, diese
erkalten und erstarren zu lassen und stückig dem Salz Entsprechend dem Beispiel 1 werden die mit AlCl3
des Reaktionsturms beizugeben. 55 und TiCl4 verunreinigten Reaktionsgase durch einen
Eine partielle Abscheidung von AlCl3 mit NaCl bei auf 2800C geheizten und mit Stücken aus völlig
Temperaturen zwischen 400 und 5000C ist ebenfalls wasserfreiem MgCl2 gefüllten Reaktionsturm geleitet,
möglich. Bei Temperaturen über 400° C besitzt Der MgCl2-Charge sind 20 g Aluminiumpulver pro
NaAlCl4 nämlich bereits einen erheblichen AlCl3- Kilogramm MgCl2 in feinverteilter Form beigegeben.
Dampfdruck, z. B. bei 500° C schon etwa 25 Torr, so 60 Es läuft eine von einer geringen Menge TiCl3 leicht
daß die AlCl3-Abtrennung mit steigender Temperatur rotgefärbte Schmelze der Zusammensetzung
immer unvollständiger wird, während bei Temperaturen über 500° C kein AlCl3 auf diesem Wege mehr MgCl2 · 2 AlCl3
abgeschieden werden kann.
immer unvollständiger wird, während bei Temperaturen über 500° C kein AlCl3 auf diesem Wege mehr MgCl2 · 2 AlCl3
abgeschieden werden kann.
Das aus dem Reinigungsturm abziehende AlCl3- 6g ab. Ihr Schmelzpunkt liegt zwischen 220 und 225° C.
und TiCl4-freie Gasgemisch aus Siliciumtetrachlorid In den Reaktionsgasen ist nach dieser Behandlung
und Wasserstoff kann, falls es für die weitere Verwen- kein TiCl4 mehr nachweisbar. Der AlCl3-Gehalt ist
dung des Gemisches erforderlich sein sollte, einer <0,05 %, bezogen auf die Menge SiCl4.
Die Reaktionsgase werden wie im Beispiel 2 durch, einen mit NaCl-Stücken gefüllten und auf mindestens
140° C geheizten Turm geleitet, wobei das AlCl3 unter Bildung von NaAlCl1 reagiert und abfließt. In dieser
abgelaufenen Schmelze dispergiert man sodann 0,5 Gewichtsprozent Zinkstaub, fördert diese Zn: NaAlCl4-Dispersion
in einen zweiten, ebenfalls mit NaCl-Stücken und auf 1800C geheizten Turm und läßt sie
dort mit dem TiCl4 des Gasgemisches reagieren. Von diesem Turm läuft die NaAlCl4-Schmelze mit nichtumgesetztem
Zinkstaub und einer kleinen Menge Na3TiCl6 ab. Sie kann zur besseren Ausnutzung des
Zinkstaubes mehrfach dem zweiten Turm aufgegeben und anschließend abgelassen werden. Der TiCl4-GeImIt
der Reaktionsgase beträgt nach dieser Behandlung <0,005% und der AlCl3-Gehalt
<0,050/0.
Claims (5)
1. Verfahren zur gleichzeitigen und trockenen Abscheidung von Aluminiumchlorid und Titantetrachlorid
aus den bei der Chlorierung oder Hydrochlorierung von Silicium und Silicium enthaltenden
Ausgangsmaterialien, wie Siliciumlegierungen, Siliciden, Kieselsäure und ihre Verbindungen,
anfallenden Reaktionsgase durch Überleiten der Reaktionsgase über festes Alkali- oder Erdalkalihalogenid
bei erhöhter Temperatur, dadurch gekennzeichnet, daß die Reaktionsgase über einen Reaktionsturm mit festem
Alkali- oder Erdalkalihalogenid oder deren Mischungen in Gegenwart geringer Mengen eines
metallischen Reduktionsmittels bei Temperaturen von mehr als 1000C, vorzugsweise von mehr als
15O0C, geleitet werden und die gebildete Metallchlorid-Alkalihalogenid-
und/oder Erdalkalihalogenidschmelze vom festen Alkalihalogenid und/oder
Erdalkalihalogenid abgezogen wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß als Alkalihalogenid Natriumchlorid
verwendet wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß ein Natrium-Kalium-Halogenidgemisch
verwendet wird.
4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß als metallisches Reduktionsmittel
Aluminiumpulver oder Zinkstaub verwendet wird, das dem festen Alkalihalogenid zugesetzt wird.
5. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Reaktionsgase
zuerst über das feste Alkalihalogenid geleitet werden, dann der ablaufenden Schmelzmischung
das Aluminium- oder Zinkpulver zugesetzt und diese Dispersion anschließend demselben oder
einem weiteren angeschlossenen Reaktionsturm zugeführt wird.
Applications Claiming Priority (1)
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| DED0051692 | 1966-12-02 |
Publications (1)
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|---|---|
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Family Applications (1)
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| DE19661567469 Withdrawn DE1567469B1 (de) | 1966-12-02 | 1966-12-02 | Verfahren zur gleichzeitigen Abtrennung von Aluminiumchlorid und Titantetrachlorid aus den bei der Chlorierung oder Hydrochlorierung von Silicium anfallenden Reaktionsgasen |
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| GB (1) | GB1171817A (de) |
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| DE10057483B4 (de) * | 2000-11-20 | 2013-02-21 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Entfernung von Aluminiumtrichlorid aus Chlorsilanen |
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1967
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- 1967-12-01 US US687146A patent/US3475139A/en not_active Expired - Lifetime
- 1967-12-01 NO NO67170788A patent/NO117849B/no unknown
Non-Patent Citations (1)
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|---|
| None * |
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
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| GB1171817A (en) | 1969-11-26 |
| US3475139A (en) | 1969-10-28 |
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