DE1180215B - Loesung von Resinaten der Edelmetalle und/oder Unedelmetalle in Chlorkohlenwasserstoffen zur Erzeugung von auf Traegerwerkstoffen ein-gebrannten duennen Edelmetallschichten bzw. Unedelmetalloxydschichten fuer elektrotechnische Zwecke - Google Patents
Loesung von Resinaten der Edelmetalle und/oder Unedelmetalle in Chlorkohlenwasserstoffen zur Erzeugung von auf Traegerwerkstoffen ein-gebrannten duennen Edelmetallschichten bzw. Unedelmetalloxydschichten fuer elektrotechnische ZweckeInfo
- Publication number
- DE1180215B DE1180215B DED38945A DED0038945A DE1180215B DE 1180215 B DE1180215 B DE 1180215B DE D38945 A DED38945 A DE D38945A DE D0038945 A DED0038945 A DE D0038945A DE 1180215 B DE1180215 B DE 1180215B
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- resinates
- metals
- solution
- layers
- precious
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 title claims description 15
- 150000008280 chlorinated hydrocarbons Chemical class 0.000 title claims description 14
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 title claims description 8
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 title claims description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 7
- 239000010953 base metal Substances 0.000 title claims description 6
- 239000012876 carrier material Substances 0.000 title claims description 4
- CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N tetralin Chemical compound C1=CC=C2CCCCC2=C1 CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 36
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 17
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 claims description 5
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 2
- HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanol Chemical compound OC1CCCCC1 HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 7
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 6
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 4
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical group 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- UEJJHQNACJXSKW-UHFFFAOYSA-N 2-(2,6-dioxopiperidin-3-yl)-1H-isoindole-1,3(2H)-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)N1C1CCC(=O)NC1=O UEJJHQNACJXSKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTXXTMOWISPQSJ-UHFFFAOYSA-N 4,4,4-trifluorobutan-2-one Chemical class CC(=O)CC(F)(F)F BTXXTMOWISPQSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQACOLQNOUYJCE-FYZZASKESA-N Abietic acid Natural products CC(C)C1=CC2=CC[C@]3(C)[C@](C)(CCC[C@@]3(C)C(=O)O)[C@H]2CC1 BQACOLQNOUYJCE-FYZZASKESA-N 0.000 description 1
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052770 Uranium Inorganic materials 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 239000010426 asphalt Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000005034 decoration Methods 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- 230000029142 excretion Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 229910000464 lead oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N oxolead Chemical compound [Pb]=O YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052573 porcelain Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001923 silver oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- DNYWZCXLKNTFFI-UHFFFAOYSA-N uranium Chemical compound [U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U] DNYWZCXLKNTFFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 1
- -1 xylene Chemical class 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/06—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with metals
- C03C17/10—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with metals by deposition from the liquid phase
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B1/00—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Description
- Lösung von Resinaten der Edelmetalle und/oder Umedelmetalle in Chlorkohlenwasserstoffen zur Erzeugung von auf Trägerwerkstoffen eingebrannten dünnen Edelmetallschichten bzw. Unedelmetalloxydschichten für elektrotechnische Zwecke Die Erfindung bezieht sich auf eine Flüssigkeit, die die Resinate von Edelmetallen und/oder Unedelmetallen in Chlorkohlenwasserstofen gelöst enthält und zurErzeugung aufTrägerwerkstoffen eingebrannter dünner Edelmetallschichroen bzw. Unedelmetalloxydschichten für elektrotechnische Zwecke dient.
- Es ist bekannt, dünne Schichten aus Edelmetallen oder Umedelmetallen bzw. deren Oxyden- dadurch herzustellen, daß man diese Metalle bzw. ihre Oxyde im Vakuum auf geeignete Trägerwerkstoffe aufdampft. Nach diesem Verfahren der Vakuumbedampfung kann man Schichtstärken unmeßbarer Feinheit bis zu sehr dicken Schichten, beispielsweise von 1 mm, herstellen. Derartige aufgedampfte Edelmetallschichten, wie beispielsweise Goldschichten, legierte Schichten aus Gold und Silber sowie Metalloxydschichten, z. B. Zinnoxyd, Indiumoxyd oder Bleioxyd, haben bei der Herstellung sogenannter Metallwiderstände oder Metalloxydwiderstände, aber auch bei der Herstellung von Halbleitern, Kondensatoren, Mikroschaltungen von elektronischen Rechenanlagen u. a. m. eine große Bedeutung erhalten.
- Derartige aufgedampfte dünne Schichten haben jedoch zwei Nachteile. Sie haften relativ schlecht auf ihren Unterlagen, als welche vorzugsweise Glas oder andere Dielektrica dienen, und sind auch bei größerer Stärke löcherig. Dadurch wird die Kontaktierung der Schichten -erschwert, während infolge der oft sehr ungleichmäßig großen Löcher innerhalb der Schichten die Streuung der elektrischen Werte sehr groß ist.
- Es lag daher der Gedanke nahe, dünne Schichten für elektrotechnische, Zwecke dadurch herzustellen, daß man die seit längerer Zeit zur Dekoration von Porzellan und Glas verwendeten Edehnetallpräparate, wie Glanzgold, Glanzplatin oder Mischungen solcher Edelmetallpräparate, bzw. die ebenfalls seit vielem Jahren bekannten Umedelmetalle in Form ihrer Resinate gebrauchte.
- Es zeigte sich jedoch, daß die handelsüblichen Präparate, wie Glanzgold oder die verschiedenen Metalllüster, für die Zwecke der Herstellung von dünnen Schichten ungeeignet sind. Die Edelmetall-Glanzpräparate enthalten außer den Edelmetallen noch soggenannte Haftoxyde, das sind Unedehnetallsalm der Abietinsäure in verschiedenen Mengenverhältnissen, wodurch sie zur Erzielung exakter elektrischer Werte, beispielsweise von elektrischen Widerständen, ungeeignet sind. Auch ist ihre auf Pinselauftragung, Siebdruckverfahren. oder Spritzen eingestellte Viskosität viel zu groß, so daß man mit ihnen sehr dünne Metallschichten bzw. Metalloxydschichten nicht erzeugen kann. Es lag daher nahe, sehr genau dinierte Lösungen. der Edelmetallresinate au verwenden, bei denen an Stelle der in den Dekorationspräparaten enthaltenen Mischungen ätherischer Öle Lösungsmittel von genau bekannter Zusammensetzung verwendet werden. Da.-bei wurde angestrebt, ein möglichst rasch verdunstendes Lösungsmittel von großer Lösekraft für die Metallresinate zu verwenden. Als solche boten sich insbesondere die Chlorkohlenwasserstoffe, wie Triehloräthylen, Tetrcachlorkohlenstoff oder Chloroform, an.
- Derartige Lösungen von Metallresinaten lassen sich zwar sehr stark verdünnen, so daß außerordentlich dünne Metallfilme bzw. Oxydfihne hergestellt werden können, wenn man die Schichten auf ihren Trägern, vorzugsweise Glas, bei höheren Temperaturen, beispielsweise zwischen 500 und 700° C, in einen Ofen einbrennt. Es zeigte sich indessen, daß die U-sungen. der Resinate in Chlorkohlenwassexstoffen unbeständig sind, wodurch die eingebrannten Schichten aus solchen Lösungen mit derr Zeit laufend andere' Werte, beispielsweise des elektrischen Widerstandes oder der Kapazität, ergeben.. Auch zeigen. sich in den Schichten unregelmäßige Sprünge, die auf die nach dem Verdunsten des Lösungsmittels beim Einbrennen sehr spröden Metallresinate zurückzuführen sind. Kleine Zusätze von Asphalt, wie solche bei den Dekorationspräparaten zur Vermeidung von Sprüngen in der Metallschicht beim Einbrand üblich sind, brachten: nur eine geringfügige Verbesserung, ebenso wie kleine Zusätze von Rhodium- oder Iridiumresinaten.
- Überraschenderweise wurde nun gefunden, daß ein Zusatz von Tetrahydronaph;thalin, kurz Tetralin genannt, die Zersetzung der Metallresinate in Chlorkohlenwasserstoffen vollständig verhindert, wodurch es gelingt, aus derartigen Lösungen auch innerhalb einer langen Zeitperiode stets dünne Schichten zu erzeugen, die stets gleichmäßige, reproduzierbare elektrische Werte ergeben, was mit den bekannten Lösungen aus Metallresinaten in Chlorkohlenwasserstoffen nicht der Fall ist.
- Tetralin ist eine völlig neutrale Flüssigkeit von großer Lösungsfähigkeit für alle Harze und Resinate und Wachse und geht beim Zusatz zu der Lösung keine chemische Verbindung mit einem ihrer Bestandteile ein. Seine stabilisierende Wirkung auf die Resinatlösu:ngen in Chlorkohlenwasserstofffen kann nicht vollkommen erklärt werden. Es wird jedoch vermutet, daß die sehr starke Affinität zu Sauerstoff die trüben, vielfach opaliszierenden Zersetzungsprodukte der Resinate in Chlorkohlenwasserstoffen oxydiert und wieder in Lösung bringt bzw. in Lösung hält, ähnlich der Wirkung eines Katalysators. Versetzt man beispielsweise eine trübe Lösung von Zinnresinat in Trichloräthylen oder Chloroform mit Tetralin, so findet innnerhalb kurzer Zeit, beim Erwärmen sofort, eine Lösung dieser trüben Ausscheidung, deren Zusammensetzung bis jetzt nicht ermittelt werden konnte, statt, und man erhält eine völlig klare Resinatlösung, wie sie zur Herstellung dünner Schichten nach dem Einbrennverfahren unerläßlich ist.
- Der Zusatz von Tetralin zu den Lösungen der Resinate in Chlorkohlenwasserstoffen hat außerdem noch den Vorteil, daß dasselbe wie ein Weichmacher den spröden Film beim Einbrennen so lange weich hält, bis der Kohlenstoff der Resinate restlos verbrannt ist.
- Versuche haben ergeben, daß das Tetralin der Lösungsflüssigkeit in Mengen zwischen 0,01 und 10 Volumprozent des Chlorkahlenwasserstoffgehalts hinzugesetzt werden muß, um die Wirkung der Erfindung zu erzielen. Die Menge des Zusatzes hängt im Einzelfall von den verwendeten Metallresinaten bzw. der Mischung dieser Resinate ab. Je unedler das Metall des Resinats ist, ein um so größerer Zusatz an Tetralin scheint nötig zu sein, um die Zersetzung der Resinatlösung zu verhindern. Während Gold- und Platinlösungen eine sehr kleine Menge an Tetralin benötigen, braucht Silber die zwei- bis dreifache Menge und die sehr urständigen Resinate des Zinks, Cadmiums und Zinns noch bedeutend mehr. Andererseits sind die Resinate des Indlums, Wismuts und Urans sehr beständig und benötigen daher eine sehr kleine Menge Tetralin.
- Ein genauer Prozentsatz von Tetralin der zur Stabilisierung dea7 verschiedenen Resinate läßt sich im voraus nicht angeben, da auch die Art der Herstellung der Resinate von großem Einfiuß auf ihre Zersetzungsneigung ist. Ob die Chlorkohlenwassarstoffe, die sich bekanntlich mit der Zeit und insbesondere unter Lichteinwirkung unter Bildung von sehr kleinen Mengen von Salzsäure zersetzen, ebenfalls einen Einfiuß auf die Zersetzungsgeschwindigkeit der erfindungsgemäßen Resinatlösungen haben, konnte bis jetzt nicht geklärt werden.
- Normalerweise haben sich Zusätze von 0,2 bis 20/0 Tetrahydronaphthalin bzw. Tetralin als am wirksamsten im Sinne der Erfindung gezeigt.
- Weitere Versuche haben ergeben, daß das Tetralin in den erfindungsgemäß verwendeten Resinatlösungen bis zu 509/o auch durch höherwertige Alkohole, vorzugsweise durch Hexalin oder Methylhexalzn, ersetzt werden kann. Diese Lösungsmittel haben einen sehr hohen Siedepunkt und eine hohe Verdunstungszahl. Sie zeigen daher hervorragende Eigenschaften als Weichmacher für die Metallschicht bzw. Metalloxydschicht während des Einbrennens der Resinate und verhindern ein Aufspringen und Löcherigwerden des Films.
- Schließlich kann der Chlorkohlenwasserstoff der erfindungsgemäß verwendeten Resinatlösung noch bis zu 609/o durch einen leichtflüssigen aromatischen Kohlenwasserstoff, wie beispielsweise Xylol, ersetzt werden. Dies ist vielfach dann von Wichtigkeit, wenn die Verdunstungszeit der Lösungen abgeändert werden soll. Während Chloroform eine Verdunstungszahl von 2,5 (Äther 1) aufweist, hat Xylol eine solche von 13,5.
Claims (3)
- Patentansprüche: 1. Lösung von Resinaten der Edelmetalle und/ oder Uredelmetalle in Chlorkohlenwasserstoffen zur Erzeugung von auf Trägerwerkstoffen eingebrannten dünnen Edelmetallschichten bzw. Unedelmetalloxydschichten für elektrotechnische Zwecke, dadurch gekennzeichnet, daß sie zur Stabilisierung und Verhinderung der Zersetzung der Metallresinate zwischen 0,01 und 10 Volumprozent Tetrahydronaphthalin enthält.
- 2. Lösung von Resinaten nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie das Tetrahydronaphthalin bis zu 5011/o durch Hexalin oder Methylhexalin ersetzt enthält.
- 3. Lösung von Resinaten nach den Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß sie die Chlorkohlenwasserstoffe bis zu 60 % durch einen oder mehrere leichtflüchtige aromatische Kohlenwasserstoffe ersetzt enthält. In Betracht gezogene Druckschriften: Französische Patentschrift Nr. 1053 490.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DED38945A DE1180215B (de) | 1962-05-18 | 1962-05-18 | Loesung von Resinaten der Edelmetalle und/oder Unedelmetalle in Chlorkohlenwasserstoffen zur Erzeugung von auf Traegerwerkstoffen ein-gebrannten duennen Edelmetallschichten bzw. Unedelmetalloxydschichten fuer elektrotechnische Zwecke |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DED38945A DE1180215B (de) | 1962-05-18 | 1962-05-18 | Loesung von Resinaten der Edelmetalle und/oder Unedelmetalle in Chlorkohlenwasserstoffen zur Erzeugung von auf Traegerwerkstoffen ein-gebrannten duennen Edelmetallschichten bzw. Unedelmetalloxydschichten fuer elektrotechnische Zwecke |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE1180215B true DE1180215B (de) | 1964-10-22 |
Family
ID=7044437
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DED38945A Pending DE1180215B (de) | 1962-05-18 | 1962-05-18 | Loesung von Resinaten der Edelmetalle und/oder Unedelmetalle in Chlorkohlenwasserstoffen zur Erzeugung von auf Traegerwerkstoffen ein-gebrannten duennen Edelmetallschichten bzw. Unedelmetalloxydschichten fuer elektrotechnische Zwecke |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE1180215B (de) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2735484A1 (de) * | 1977-08-05 | 1979-02-15 | Siemens Ag | Verfahren zur herstellung von dickfilm-varistoren |
| DE3716640A1 (de) * | 1986-05-19 | 1987-11-26 | Harima Chemicals Inc | Verfahren zur erzeugung eines metallueberzuges auf einem substratmetall |
| DE4026061C1 (de) * | 1990-08-17 | 1992-02-13 | Heraeus Sensor Gmbh, 6450 Hanau, De |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR1053490A (fr) * | 1952-04-07 | 1954-02-02 | Johnson | Perfectionnements au revêtement des métaux par d'autres métaux ou alliages |
-
1962
- 1962-05-18 DE DED38945A patent/DE1180215B/de active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR1053490A (fr) * | 1952-04-07 | 1954-02-02 | Johnson | Perfectionnements au revêtement des métaux par d'autres métaux ou alliages |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2735484A1 (de) * | 1977-08-05 | 1979-02-15 | Siemens Ag | Verfahren zur herstellung von dickfilm-varistoren |
| DE3716640A1 (de) * | 1986-05-19 | 1987-11-26 | Harima Chemicals Inc | Verfahren zur erzeugung eines metallueberzuges auf einem substratmetall |
| DE4026061C1 (de) * | 1990-08-17 | 1992-02-13 | Heraeus Sensor Gmbh, 6450 Hanau, De |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE1446161A1 (de) | Verfahren zum Herstellen eines Supraleiters mit verbesserter Supraleitfaehigkeit und unveraenderten Abmessungen | |
| DE1490927A1 (de) | Widerstand aus einer Tantalnitrid-Schicht | |
| DE2839057A1 (de) | Transparente leitende schichten und verfahren zur herstellung von transparenten leitenden schichten | |
| DE1465702A1 (de) | Verfahren zur Haltbarmachung eines schwer schmelzbaren duennschichtigen Metallwiderstandes | |
| DE1521336A1 (de) | Verfahren zum Herstellen von staebchenfoermigen,auf beiden Stirnflaechen mit gleichfoermigen niederohmigen Kontakten versehenen Koerpern aus Galliumarsenid | |
| DE1489145B2 (de) | Verfahren zur Herstellung einer photoempfindlichen Vorrichtung | |
| DE2550275C2 (de) | Verfahren zum Herstellen von Barrieren für Lötzinn auf Leiterzügen | |
| DE1180215B (de) | Loesung von Resinaten der Edelmetalle und/oder Unedelmetalle in Chlorkohlenwasserstoffen zur Erzeugung von auf Traegerwerkstoffen ein-gebrannten duennen Edelmetallschichten bzw. Unedelmetalloxydschichten fuer elektrotechnische Zwecke | |
| DE2063580A1 (de) | Transparenter Leiter und Verfahren zu seiner Herstellung | |
| DE2125643A1 (de) | Elektrische Leiter und Halbleiterbauelemente sowie Verfahren zu ihrer Herstellung | |
| DE1275221B (de) | Verfahren zur Herstellung eines einen Tunneleffekt aufweisenden elektronischen Festkoerperbauelementes | |
| DE1490950A1 (de) | Zinn-Oxyd-Widerstand | |
| DE1590786B1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Mikro-Miniatur-Schaltungen bzw.Schaltungsbauelementen | |
| DE2406891A1 (de) | Spiegel | |
| DE1948034C3 (de) | Halbleiterelement mit Ohm sehen Kontakt | |
| DE2039514A1 (de) | Methode fuer den Niederschlag von Gallium-phosphid-Widerstandsschichten durch kathodische Zerstaeubung | |
| DE1195135B (de) | Verfahren zur Verbesserung der elektrischen Leitfaehigkeit von auf Unterlagen, wie Glas und Kunststoffen, insbesondere durch Vakuum-bedampfen aufgebrachten duennen, licht-durchlaessigen oxydischen Schichten | |
| DE1590786C (de) | Verfahren zur Herstellung von Mikro Miniatur Schaltungen bzw Schaltungsbauele menten | |
| DE741762C (de) | Verfahren zur Herstellung von Silberpraeparaten niederer Einbrenntemperatur fuer keramische Gegenstaende | |
| DE803919C (de) | Verfahren zur Herstellung einer Kathode einer elektrischen Entladungsroehre | |
| DE1947026B2 (de) | Verfahren zum Herstellen von Metallkontakten an Halbleiterbauelementen | |
| DE914041C (de) | Verfahren zur Herstellung von elektrisch hochwertigen, als Kondensatordielektrikum oder Isolierstoff dienenden Metalloxyden | |
| DE974580C (de) | Verfahren zur Herstellung von Selengleichrichterplatten | |
| DE3135720A1 (de) | Aufbau von metallschichten fuer duennschichtleiterbahnen | |
| DE2540999B2 (de) | Elektrischer Steckkontakt mit einer Kontaktschicht aus einer Silber-Palladium-Legierung |