[go: up one dir, main page]

DE10250541B9 - Elektronisches Bauteil mit Unterfüllstoffen aus Thermoplasten und Verfahren zu dessen Herstellung - Google Patents

Elektronisches Bauteil mit Unterfüllstoffen aus Thermoplasten und Verfahren zu dessen Herstellung Download PDF

Info

Publication number
DE10250541B9
DE10250541B9 DE10250541A DE10250541A DE10250541B9 DE 10250541 B9 DE10250541 B9 DE 10250541B9 DE 10250541 A DE10250541 A DE 10250541A DE 10250541 A DE10250541 A DE 10250541A DE 10250541 B9 DE10250541 B9 DE 10250541B9
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
thermoplastic
electronic component
contacts
flip
chip
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE10250541A
Other languages
English (en)
Other versions
DE10250541B3 (de
Inventor
Gerald Ofner
Christian Birzer
Stephan STÖCKL
Michael Bauer
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Infineon Technologies AG
Original Assignee
Infineon Technologies AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority to DE10250541A priority Critical patent/DE10250541B9/de
Application filed by Infineon Technologies AG filed Critical Infineon Technologies AG
Priority to JP2004547404A priority patent/JP4545591B2/ja
Priority to PCT/DE2003/003463 priority patent/WO2004040640A1/de
Priority to US10/515,517 priority patent/US20060088954A1/en
Priority to CNB2003801025133A priority patent/CN100449719C/zh
Priority to EP03776797A priority patent/EP1556890A1/de
Priority to KR1020057007606A priority patent/KR100789349B1/ko
Publication of DE10250541B3 publication Critical patent/DE10250541B3/de
Application granted granted Critical
Publication of DE10250541B9 publication Critical patent/DE10250541B9/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • H10W74/01
    • H10W74/012
    • H10W70/687
    • H10W74/15
    • H10W95/00
    • H10W72/072
    • H10W72/073
    • H10W72/29
    • H10W72/354
    • H10W74/117
    • H10W90/724
    • H10W90/734

Landscapes

  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

Elektronisches Bauteil (1) mit Außenkontakten (10) und mit einem Halbleiterchip (2), der Flip-Chip-Kontakte (3) auf seiner aktiven Oberseite (4) aufweist, die auf Kontaktanschlußflächen (5) eines Umverdrahtungssubstrats (6) fixiert sind, wobei der durch die Flip-Chip-Kontakte (3) auftretende Zwischenraum (7) zwischen dem Umverdrahtungssubstrat (6) und dem Halbleiterchip (2) als einem Unterfüllstoff (9) einen Thermoplast (8) aufweist, dadurch gekennzeichnet, daß die Glasübergangstemperatur des Thermoplast (8), unterhalb der Schmelztemperatur eines Lötmaterials der Außenkontakte (10) liegt.

Description

  • Die Erfindung betrifft ein elektronisches Bauteil mit einem Halbleiterchip, der Flip-Chip-Kontakte aufweist und auf einem Umverdrahtungssubstrat fixiert ist sowie ein Verfahren zur Herstellung desselben.
  • Aus der US 2002/0027298 A1 ist es bekannt, einen Halbleiterchip auf einer Folie aufzubringen, aus welcher die Umverdrahtung hergestellt wird, wobei der Chip mit einem Thermoplast unterfüllt bzw. eingekapselt wird.
  • Des weiteren ist aus der US 5,918,113 bekannt, einen thermoplastischen Film auf eine Umverdrahtung aufzubringen, worauf der Chip mit einem erweichten Thermoplast plaziert wird.
  • Verschiedene Herstellverfahren mit thermoplastischen Unterfüllen sind aus der US 6,171,887 B1 , der EP 0 639 857 A1 sowie der WO 97/17727 bekannt.
  • Aus der US 2002/0030261 A1 ist es zudem für duroplastische Unterfüller bekannt, die Aufschmelztemperatur der Außen Kontakte geringer als die Chipkontakte zur Umverdrahtung zu halten.
  • Elektronische Bauteile mit Flip-Chip-Kontakten und einem Umverdrahtungssubstrat sind in einem Kunststoffgehäuse aus Duroplasten verpackt. Beim Anbringen von Außenkontakten auf Außenkontaktflächen des Umverdrahtungssubstrats derartiger elektronischer Bauteile oder beim Anlöten der fertigen Außenkontakte auf einen übergeordneten Schaltungsträger versagen unerwarteterweise einige dieser elektronischen Bauteile, obgleich vorher ihre Funktionstüchtigkeit bei Temperaturzyklen zwischen einer obersten Funktionsprüftemperatur von etwa plus 150°C und einer untersten Funktionsprüftemperatur von etwa minus 50°C erfolgreich getestet wurde.
  • Aufgabe der Erfindung ist es, ein elektronisches Bauteil und ein Verfahren zu seiner Herstellung anzugeben, das die Zuverlässigkeit elektronischer Bauteile erhöht.
  • Gelöst wird diese Aufgabe mit dem Gegenstand der unabhängigen Ansprüche. Vorteilhafte Weiterbildungen ergeben sich aus den abhängigen Ansprüchen.
  • Erfindungsgemäß wird ein elektronisches Bauteil mit einem Halbleiterchip geschaffen, der Flip-Chip-Kontakte auf seiner aktiven Oberseite aufweist, die auf Kontaktanschlussflächen eines Umverdrahtungssubstrats fixiert sind. Diese Fixierung kann mittels einer Lötverbindung und/oder mittels eines Leitklebers erfolgen. Der durch die Flip-Chip-Kontakte gebildete Zwischenraum zwischen dem Umverdrahtungssubstrat und dem Halbleiterchip weist als Unterfüllstoff einen Thermoplast auf. Die Glasübergangstemperatur dieses als Unterfüllstoff eingesetzten Thermoplasten liegt unterhalb der Schmelztemperatur des Lötmaterials der Außenkontakte des elektronischen Bauteils.
  • Ein derartiges Bauteil hat den Vorteil, dass beim Anlöten von Außenkontakten auf Außenkontaktflächen und beim Auflöten von Außenkontakten des elektronischen Bauteils auf übergeordnete Schaltungsträger die Ausfälle der elektronischen Bauteile vermindert sind. Mit dem Einfügen eines Thermoplasten, der bei Lötvorgängen im Bereich der Außenkontakte seine Glasübergangstemperatur überschreitet und erweicht und bei erreichen der Löttemperatur in einen schmelzflüssigen Zustand übergeht, wird erreicht, dass Belastungen, wie sie durch Dampfphasenbildungen bei duroplastischen Materialien als Kunststoffgehäusemasse auftreten, abgemildert werden. Der erweichte Thermoplast kann sich plastisch verformen und damit nachgeben ohne das Gefüge zwischen Flip-Chip-Kontakten des Halbleiterchips und Kontaktanschlussflächen auf einem Umverdrahtungssubstrat zu zerstören. Somit wird die Ausfallrate beim Auflöten von Außenkontakten oder beim Auflöten auf übergeordnete Schaltungsträger vermindert.
  • Die Glasübergangstemperatur und damit der Erweichungspunkt liegt jedoch in jedem Fall über der höchsten Funktionsprüftemperatur für elektronische Bauteile, die je nach Anwendungsgebiet zwischen 70 und 150°C liegen kann. Konsumerbauteile werden nicht so hart und damit bei einer geringeren höchsten Funktionsprüftemperatur getestet als kommerzielle Bauteile, wie elektronische Bauteile für die KFZ-Technik, die mit einer höchsten Funktionsprüftemperatur von 150° zyklisch beim Funktionstest belastet werden. Entsprechend höher ist dann auch die Glasübergangstemperatur für den als Unterfüllstoff vorgesehenen Thermoplast zuwählen.
  • Ein weiterer Vorteil dieses elektronischen Bauteils ist es, dass das Gehäuse nicht mehr vor jedem Lötprozess vorgetrocknet werden muss, um die Feuchte auszutreiben, da ein höherer Feuchtegrad mit der Verwendung eines Thermoplastes als Unterfüllstoff toleriert werden kann, ohne dass es zur Zerstörung des Gefüges oder der Struktur des Bauteils kommt.
  • Als Thermoplast kann einer der Stoffe der Gruppe Polyamid, Polyacetal, Polycarbonat, Polyethylen, Polypropylen, Polyethylenterephthalat oder Mischungen derselben eingesetzt werden. Insbesondere durch Mischen dieser Thermoplaste kann der erwünschte Erweichungstemperaturbereich und Schmelztemperaturbereich eingestellt werden. Damit wird sichergestellt, dass bei der höchsten Funktionsprüftemperatur der Thermoplast die gleiche Festigkeit aufweist wie bei Raumtemperatur, zumal erst darüber die die Glasübergangstemperatur für den Thermoplast erreicht wird.
  • Im Gegensatz zum Löten, bei dem ein elektronisches Bauteil nur partiell erwärmt wird und kritische Temperaturen lediglich partiell erreichen kann, werden die elektronischen Bauteile für den Funktionstest vollständig einer höchsten Funktionsprüftemperatur ausgesetzt, die bei 150°C liegen kann. Bei einer derartigen Temperatur soll der Thermoplast die gleiche Konsistenz und Festigkeit aufweisen wie bei Raumtemperatur. Erst bei der wesentlich höheren Löttemperatur der Außenkontakte, die 250°C erreichen kann, weist der Thermoplast als Unterfüllstoff eine plastische Nachgiebigkeit oder schmelzflüssige Eigenschaften auf, die es verhindern, dass die Komponenten des elektronischen Bauteils, insbesondere der Halbleiterchip, die Flip-Chip-Kontakte und die Kontaktanschlußflächen des Umverdrahtungssubstrat beschädigt oder zerstört oder ihre Verbindungen zueinander unterbrochen werden.
  • Eine Kunststoffgehäusepackung, in die der Halbleiterchip und die Flip-Chip-Kontakte eingepackt sind, kann einen Thermoplast mit gleicher Glasübergangstemperatur wie der Unterfüllstoff aufweisen. Dieses hat den Vorteil, dass die Kunststoffgehäusepackung und der Unterfüllstoff in einem einzigen Transfermoldschritt eingebracht werden können.
  • Vor dem Einbringen kann eine sichere Fixierung der Flip-Chip-Kontakte auf entsprechenden Kontaktanschlussflächen des Umverdrahtungssubstrats erfolgen, zumal bei dem erfindungsgemäßen Aufbau des elektronisches Bauteils das Gehäuse hergestellt werden kann, ohne dass der Halbleiterchip vor dem Verpacken mit seinen Flip-Chip-Kontakten durch eine Kunststoff-Folie oder eine Kunststoffschicht auf entsprechende Kontaktanschlussflächen des Umverdrahtungssubstrats gepresst werden muss.
  • Die Kunststoffgehäusepackung kann auch einen Thermoplast mit einer Glasübergangstemperatur aufweisen, der über der Schmelztemperatur des Lötmaterials der Außenkontakte liegt. In diesem Fall wird bei partieller Erreichung der Löttemperatur nur der bei niedrigerer Temperatur erweichende Thermoplast, der als Unterfüllstoff eingesetzt ist, erweichend oder schmelzflüssig nachgeben. Dieses plastische Nachgeben des Unterfüllstoffes reicht jedoch aus, um eine Beschädigung oder Zerstörung der Verbindungen zwischen Halbleiterchip und Umverdrahtungssubstrat zu verhindern. In diesem Fall sind zwei aufeinanderfolgende Transfermoldprozesse erforderlich, um die beiden unterschiedlichen Thermoplaste zunächst als Unterfüllstoff und dann als Kunststoffgehäusepackung aufzubringen.
  • Vorteilhafterweise kann der Thermoplast in einem Temperaturbereich zwischen 200°C und 220°C einen schmelzflüssigen Zustand aufweisen. In einem derartigen schmelzflüssigen Zustand ist der Thermoplast derart nachgebend, dass Belastungen durch Wasserdampfbildung ausgeglichen werden können. Darüber hinaus liegt dieser Temperaturbereich deutlich über einer höchsten Funktionsprüftemperatur und unterhalb einer Löttemperatur der Außenkontakte.
  • Ein Verfahren zur Herstellung eines elektronischen Bauteils weist nachfolgende Verfahrensschritte auf. Zunächst wird ein Umverdrahtungssubstrat mit Kontaktanschlussflächen auf seiner Oberseite und Außenkontaktflächen auf seiner Unterseite hergestellt. In dem Umverdrahtungssubstrat werden die Außenkontaktflächen auf der Unterseite über Durchkontakte und über Umverdrahtungsleitungen mit den Kontaktanschlussflächen auf der Oberseite des Umverdrahtungssubstrats verbunden. Außerdem wird ein Halbleiterchip in Flip-Chip-Technologie mit Flip-Chip-Kontakten auf seiner aktiven Oberseite hergestellt.
  • Stehen sowohl das Umverdrahtungssubstrat als auch der Halbleiterchip mit Flip-Chip-Kontakten zur Verfügung, so werden die Flip-Chip-Kontakte auf das Umverdrahtungssubstrat aufgebracht und elektrisch mit den Kontaktanschlussflächen verbunden. Abschließend kann der Zwischenraum zwischen der aktiven Oberseite des Halbleiterchips und der Oberseite des Umverdrahtungssubstrats mit einem Unterfüllstoff aus Thermoplast aufgefüllt werden.
  • Dieses Verfahren hat den Vorteil, dass zum Auffüllen des Zwischenraums zwischen dem Halbleiterchip und dem Umverdrahtungssubstrat kein Duroplast eingesetzt wird, der insbesondere beim Auflöten von Außenkontakten oder beim Auflöten der Außenkontakte auf einen übergeordneten Schaltungsträger die Verbindung zwischen Halbleiterchip und Umverdrahtungssubstrat bei Auftreten von Feuchte beschädigen oder zerstören könnte.
  • Die Flip-Chip-Kontakte können vor dem Einbringen des Thermoplastes als Unterfüllstoff auf die Kontaktanschlussflächen des Umverdrahtungssubstrats gelötet werden oder mit einem Leitkleber fixiert werden. Da dieser Verfahrensschritt noch vor dem Einbringen des Unterfüllstoffes erfolgt, kann eine sichere, zuverlässige elektrische Verbindung über die Flip-Chip-Kontakte zu dem Umverdrahtungssubstrat und damit zu den Außenkontaktflächen des Umverdrahtungssubstrats geschaffen werden.
  • Der Unterfüllstoff kann bei entsprechender Erwärmung mittels Dispensionstechnik aufgebracht werden, so dass auf eine Hochdruckform verzichtet werden kann. Besteht die Kunststoffgehäusepackung aus dem gleichen Material wie der Unterfüllstoff, so kann gleichzeitig mit dem Unterfüllstoff die Kunststoffgehäusepackung verwirklicht werden. In diesem Fall ist es vorteilhaft, den Thermoplasten mittels Spritzgusstechnik aufzubringen, so dass ein Unterfüllen und ein Formen der Kunststoffgehäusepackung mit einem Schritt ausgeführt werden kann.
  • Vor dem Einbringen des Thermoplastes auf die Oberseite des Umverdrahtungssubstrats wird dieser auf eine Verarbeitungstemperatur oberhalb der höchsten Funktionsprüftemperatur und unterhalb der Schmelztemperatur des Lötmaterials für Außenkontakte erwärmt. Vorzugsweise ist es vorgesehen, den Thermoplasten vor dem Aufbringen auf die Umverdrahtungsstruktur auf Temperaturen zwischen 200 und 220°C zu erwärmen.
  • Die Erfindung wird nun mit Bezug auf die beiliegenden Figuren näher erläutert.
  • 1 zeigt einen schematischen Querschnitt eines elektronischen Bauteils, das auf einem Schaltungsträger aufgebracht ist.
  • 2 zeigt einen schematischen Querschnitt eines kritischen Abschnitts eines elektronischen Bauteils.
  • 3 zeigt einen schematischen Querschnitt eines elektronischen Bauteils mit Kunststoffgehäusepackung, das auf einem Schaltungsträger aufgebracht ist.
  • 1 zeigt einen schematischen Querschnitt eines elektronischen Bauteils 1, das mit seinen Außenkontakten 10 auf einem Schaltungsträger 12 einer übergeordneten elektronischen Schaltung aufgebracht ist. Das elektronische Bauteil 1 besteht im wesentlichen aus zwei Hauptkomponenten, nämlich einem Halbleiterchip 2 und einem Umverdrahtungssubstrat 6.
  • Das Umverdrahtungssubstrat 6 weist im wesentlichen fünf Lagen auf. Ausgehend von seiner Oberseite 13 sind die fünf Lagen zur Unterseite 15 hin wie nachfolgend erläutert gestaffelt. Eine obere Lötstopplage 19, eine obere Umverdrahtungslage 20, eine elektrisch isolierende Kernplatte 21, eine untere Umverdrahtungslage 22 und eine untere Lötstopplage 23. Die untere Lötstopplage 23 bedeckt die Unterseite 15 des Umverdrahtungssubstrats 6 bis auf Außenkontaktflächen 13, auf denen Außenkontakte 10 in Form von Lotbällen aufgelötet sind. Die Außenkontaktflächen 14 gehören zur unteren Umverdrahtungslage 22, die mit der oberen Umverdrahtungslage 20 über Durchkontakte 16 elektrisch verbunden ist. Die obere Lötstopplage 19 lässt von der oberen Umverdrahtungslage 20 nur die Kontaktanschlußflächen 5 frei von Lötstopplack.
  • Der Halbleiterchip 2 weist eine aktive Oberseite 4 und eine passive Rückseite 24 auf. Auf der aktiven Oberseite 4 sind Kontaktflächen 18 angeordnet, die Flip-Chip-Kontakte 3 in Form von Lötbällen bzw. Bumps tragen. Die beiden Hauptkomponenten des elektronischen Bauteils 1 sind über die Flip-Chip-Kontakte 3 des Halbleiterchips 2 und die Kontaktanschlussflächen 5 der oberen Umverdrahtungslage 20 des Umverdrahtungssubstrats 6 elektrisch miteinander verbunden. Ein sich bildender Zwischenraum 7 zwischen der aktiven Oberseite 4 des Halbleiterchips 2 und der Oberseite 13 des Umverdrahtungssubstrats 6 ist mit einem Thermoplast 8 aufgefüllt.
  • Dieser Thermoplast 8 oder das Thermoplastgemisch weist eine Glasübergangstemperatur zwischen 155°C und 250°C auf. Die kritische Phase beim Zusammenbau eines derartigen elektronischen Bauteils 1 und beim Anbau eines derartigen elektronischen Bauteils 1 auf die Oberseite eines Schaltungsträgers 12 liegt beim Erwärmen auf Löttemperatur der Außenkontakte 10.
  • 2 zeigt einen schematischen Querschnitt durch einen kritischen Abschnitt eines elektronischen Bauteils 1. Dieser kritische Abschnitt ist der Zwischenraum 7 zwischen der akti ven Oberseite 4 des Halbleiterchips 2 und der Oberseite 13 des Umverdrahtungssubstrats 6. Dieser Zwischenraum weist eine feste Verbindung in Form von Flip-Chip-Kontakten 3 zwischen den Kontaktflächen 18 des Halbleiterchips 2 und Kontaktanschlussflächen 5 der oberen Umverdrahtungslage 20 des Umverdrahtungssubstrats 6 auf. Da Kunststoffe hygroskopisch sind, nehmen sie bei Zwischenlagerungen Feuchtigkeit auf.
  • Es können sich beim Auflöten von in 2 nicht gezeigten Außenkontakten des elektronischen Bauteils Dampfblasen 25 bilden und einen Druck auf die über die Flip-Chip-Kontakte 3 verbundenen Oberseiten von Umverdrahtungssubstrat 6 und Halbleiterchip 2 ausüben. Diesem Druck kann ein Unterfüllstoff 9 aus dem Thermoplast 8, der den Zwischenraum 7 auffüllt, nachgeben, zumal er im Bereich der Löttemperatur plastisch nachgiebig ist oder schmelzflüssig ist und somit die Belastung durch eine derartige Dampfblase 25 abschwächen kann.
  • Die Gefahr einer Trennung der elektrischen Verbindung der Flip-Chip-Kontakte 3 von den Kontaktanschlußflächen 5 des Umverdrahtungssubstrats 6 ist vermindert. Es bleibt vielmehr die elektrische Verbindung sowohl beim Anlöten der Außenkontakte an die Außenkontaktflächen, wie sie in 1 gezeigt werden, als auch beim Auflöten des elektronischen Bauteils auf einen Schaltungsträger erhalten.
  • 3 zeigt einen schematischen Querschnitt eines elektronischen Bauteils 1 mit Kunststoffgehäusepackung 11, das auf einem Schaltungsträger 12 aufgebracht ist. Komponenten mit gleichen Funktionen wie in den vorhergehenden Figuren werden mit den gleichen Bezugszeichen gekennzeichnet und nicht extra erörtert.
  • Der Unterschied dieses elektronischen Bauteils 1 gegenüber dem in 1 gezeigten Bauteil 1 besteht darin, dass die passive Rückseite des Halbleiterchips 2 nicht frei zugänglich ist wie in 1, sondern mit einer Kunststoffgehäusepakkung 11 bedeckt ist. Diese Kunststoffgehäusepackung 11 weist in dieser Ausführungsform der Erfindung nach 3 den gleichen Thermoplast 8 auf, aus dem bereits der Unterfüllstoff 9 gebildet ist. Der Unterfüllstoff 9 und die Kunststoffgehäusepackung 11 wurden in einem einzigen Transfermoldschritt aufgebracht. Um ein mögliches partielles Deformieren oder Anschmelzen der Kunststoffgehäusepackung 11 beim Löten zu vermeiden, kann die Kunststoffgehäusepackung 11 während des Lötvorgangs teilweise gekühlt werden.
  • 1
    elektronisches Bauteil
    2
    Halbleiterchip
    3
    Flip-Chip-Kontakte
    4
    aktive Oberseite
    5
    Kontaktanschlußflächen
    6
    Umverdrahtungssubstrat
    7
    Zwischenraum
    8
    Thermoplast
    9
    Unterfüllstoff
    10
    Außenkontakte
    11
    Kunststoffgehäusepackung
    12
    Schaltungsträger
    13
    Oberseite des Umverdrahtungssubstrats
    14
    Außenkontaktflächen
    15
    Unterseite des Umverdrahtungssubstrats
    16
    Durchkontakte
    17
    Umverdrahtungsleitungen
    18
    Kontaktflächen
    19
    obere Lötstopplage
    20
    obere Umverdrahtungslage
    21
    Kernplatte
    22
    untere Umverdrahtungslage
    23
    untere Lötstopplage
    24
    passive Rückseite des Halbleiterchips
    25
    Dampfblase

Claims (10)

  1. Elektronisches Bauteil (1) mit Außenkontakten (10) und mit einem Halbleiterchip (2), der Flip-Chip-Kontakte (3) auf seiner aktiven Oberseite (4) aufweist, die auf Kontaktanschlußflächen (5) eines Umverdrahtungssubstrats (6) fixiert sind, wobei der durch die Flip-Chip-Kontakte (3) auftretende Zwischenraum (7) zwischen dem Umverdrahtungssubstrat (6) und dem Halbleiterchip (2) als einem Unterfüllstoff (9) einen Thermoplast (8) aufweist, dadurch gekennzeichnet, daß die Glasübergangstemperatur des Thermoplast (8), unterhalb der Schmelztemperatur eines Lötmaterials der Außenkontakte (10) liegt.
  2. Elektronisches Bauteil nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Thermoplast (8) mindestens einen Stoff der Gruppe Polyamid, Polyacetal, Polycarbonat, Polyethylen, Polypropylen, Polyethylenterephthalat oder Mischungen derselben aufweist.
  3. Elektronisches Bauteil nach Anspruch 1 oder Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass eine Kunststoffgehäusepackung (11) des elektronischen Bauteils (1) einen Thermoplast (8) mit gleicher Glasübergangstemperatur wie der Unterfüllstoff (9) aufweist.
  4. Elektronisches Bauteil nach einem der vorhergehenden Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass der Thermoplast (8) in einem Temperaturbereich zwischen 200°C und 220°C einen schmelzflüssigen Zustand aufweist.
  5. Verfahren zur Herstellung eines elektronischen Bauteils, das folgende Verfahrensschritte aufweist: – Bereitstellen eines Umverdrahtungssubstrats (6) mit Kontaktanschlußflächen (5) auf seiner Oberseite (13) – Bereitstellen eines Halbleiterchips (1) in Flip-Chip-Technologie mit Flip-Chip-Kontakten (3) auf seiner aktiven Oberseite (4), – Aufbringen und elektrisches Verbinden der Flip-Chip-Kontakte (3) auf den Kontaktanschlußflächen (5) des Umverdrahtungssubstrats (6), – Auffüllen eines Zwischenraums (7) zwischen der aktiven Oberseite (4) des Halbleiterchips (2) und der Oberseite (13) des Umverdrahtungssubstrats (6) mit einem Unterfüllstoff (9), der einen Thermoplast (8) aufweist, dessen Glasübergangstemperatur unterhalb der Schmelztemperatur eines Lötmaterials von Außenkontakten (10) des elektronischen Bauteils (1) liegt.
  6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Flip-Chip-Kontakte (3) auf die Kontaktanschlussflächen (5) vor einem Einbringen des Unterfüllstoffes (9) gelötet werden.
  7. Verfahren nach Anspruch 5 oder Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass im wesentlichen gleichzeitig mit dem Einbringen des Unterfüllstoffes (9) eine Kunststoffgehäusepackung (11) aus gleichem Thermoplastmaterial zum Verpacken des Halbleiterchips (2) aufgebracht wird.
  8. Verfahren nach einem der Ansprüche 5 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass der Thermoplast (8) vor dem Aufbringen auf das Umverdrahtungssubstrat (6) auf Temperaturen unterhalb der Schmelztemperatur des Lötmaterials für Außenkontakte (10) erwärmt und in einen schmelzflüssigen Zustand gebracht wird.
  9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass der Thermoplast (8) vor dem Aufbringen auf das Umverdrahtungssubstrat (6) auf Temperaturen zwischen 200° C und 220°C erwärmt und in einen schmelzflüssigen Zustand gebracht wird.
  10. Verfahren nach einem der Ansprüche 5 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass der Thermoplast (8) als Unterfüllstoff (9) mittels Dispensionstechnik oder Spritzgußtechnik aufgebracht wird.
DE10250541A 2002-10-29 2002-10-29 Elektronisches Bauteil mit Unterfüllstoffen aus Thermoplasten und Verfahren zu dessen Herstellung Expired - Fee Related DE10250541B9 (de)

Priority Applications (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10250541A DE10250541B9 (de) 2002-10-29 2002-10-29 Elektronisches Bauteil mit Unterfüllstoffen aus Thermoplasten und Verfahren zu dessen Herstellung
PCT/DE2003/003463 WO2004040640A1 (de) 2002-10-29 2003-10-20 Elektronisches bauteil mit unterfüllstoffen aus thermoplasten und verfahren zu dessen herstellung
US10/515,517 US20060088954A1 (en) 2002-10-29 2003-10-20 Electronic component with cavity fillers made from thermoplast and method for production thereof
CNB2003801025133A CN100449719C (zh) 2002-10-29 2003-10-20 具热塑材料制成下填料的电子组件及其制造方法
JP2004547404A JP4545591B2 (ja) 2002-10-29 2003-10-20 熱可塑性物質からなるアンダーフィル材を有する電子部品、およびその製造方法
EP03776797A EP1556890A1 (de) 2002-10-29 2003-10-20 Elektronisches bauteil mit unterfülstoffen aus thermoplasten und verfahren zu dessen herstellung
KR1020057007606A KR100789349B1 (ko) 2002-10-29 2003-10-20 써모플라스트로 만들어진 캐비티 필러들을 구비한 전자소자 및 그 제조 방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10250541A DE10250541B9 (de) 2002-10-29 2002-10-29 Elektronisches Bauteil mit Unterfüllstoffen aus Thermoplasten und Verfahren zu dessen Herstellung

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE10250541B3 DE10250541B3 (de) 2004-04-15
DE10250541B9 true DE10250541B9 (de) 2004-09-16

Family

ID=32010484

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE10250541A Expired - Fee Related DE10250541B9 (de) 2002-10-29 2002-10-29 Elektronisches Bauteil mit Unterfüllstoffen aus Thermoplasten und Verfahren zu dessen Herstellung

Country Status (7)

Country Link
US (1) US20060088954A1 (de)
EP (1) EP1556890A1 (de)
JP (1) JP4545591B2 (de)
KR (1) KR100789349B1 (de)
CN (1) CN100449719C (de)
DE (1) DE10250541B9 (de)
WO (1) WO2004040640A1 (de)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102004031889B4 (de) * 2004-06-30 2012-07-12 Infineon Technologies Ag Halbleiterbauteil mit einem Gehäuse und einem teilweise in eine Kunststoffgehäusemasse eingebetteten Halbleiterchip und Verfahren zur Herstellung desselben
WO2006043122A1 (en) * 2004-10-21 2006-04-27 Infineon Technologies Ag Semiconductor package and method to produce the same
WO2007017341A1 (de) * 2005-08-11 2007-02-15 Siemens Aktiengesellschaft Fluxing encapsulants - giessharze für dca-anwendungen auf basis kationisch härtbarer epoxidharze
DE102005047856B4 (de) * 2005-10-05 2007-09-06 Infineon Technologies Ag Halbleiterbauteil mit in Kunststoffgehäusemasse eingebetteten Halbleiterbauteilkomponenten, Systemträger zur Aufnahme der Halbleiterbauteilkomponenten und Verfahren zur Herstellung des Systemträgers und von Halbleiterbauteilen
KR101726262B1 (ko) * 2015-01-02 2017-04-13 삼성전자주식회사 패키지 기판용 필름, 이를 사용한 반도체 패키지 및 반도체 패키지를 포함하는 표시 장치

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0639857A1 (de) * 1993-08-20 1995-02-22 International Business Machines Corporation Anordnung und Verfahren zum Erleichtern der Überarbeitung von eingekapselten Bauelementen
WO1997017727A1 (en) * 1995-11-06 1997-05-15 Ford Motor Company A flip-chip assembly
US5918113A (en) * 1996-07-19 1999-06-29 Shinko Electric Industries Co., Ltd. Process for producing a semiconductor device using anisotropic conductive adhesive
US6171887B1 (en) * 1996-02-28 2001-01-09 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor device for a face down bonding to a mounting substrate and a method of manufacturing the same
US20020027298A1 (en) * 2000-09-06 2002-03-07 Noriaki Sakamoto Semiconductor device and method of manufacturing the same
US20020030261A1 (en) * 1999-12-17 2002-03-14 Rolda Ruben A. Multi-flip-chip semiconductor assembly

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0051165A1 (de) * 1980-11-03 1982-05-12 BURROUGHS CORPORATION (a Michigan corporation) Aufnahmevorrichtung für auswechselbare ICs mit thermoplastischer Befestigung
JPH0677811B2 (ja) * 1986-01-20 1994-10-05 株式会社ハイベツク 自動半田付け装置
JP3255891B2 (ja) * 1992-06-25 2002-02-12 日東電工株式会社 フィルムキャリア、これらを用いた半導体装置およびフィルムキャリアの製造方法
JP3088877B2 (ja) * 1992-06-25 2000-09-18 日東電工株式会社 フィルムキャリアの製造方法および半導体装置
US5371404A (en) * 1993-02-04 1994-12-06 Motorola, Inc. Thermally conductive integrated circuit package with radio frequency shielding
US5659203A (en) * 1995-06-07 1997-08-19 International Business Machines Corporation Reworkable polymer chip encapsulant
JPH1167988A (ja) * 1996-10-17 1999-03-09 Ngk Spark Plug Co Ltd 配線基板構造物及び配線基板
US5981312A (en) * 1997-06-27 1999-11-09 International Business Machines Corporation Method for injection molded flip chip encapsulation
JPH11219984A (ja) * 1997-11-06 1999-08-10 Sharp Corp 半導体装置パッケージおよびその製造方法ならびにそのための回路基板
JP3741553B2 (ja) * 1998-11-20 2006-02-01 シャープ株式会社 半導体装置の接続構造および接続方法ならびにそれを用いた半導体装置パッケージ
US6373717B1 (en) * 1999-07-02 2002-04-16 International Business Machines Corporation Electronic package with high density interconnect layer
EP1204136B1 (de) * 1999-07-16 2009-08-19 Panasonic Corporation Verfahren zur Herstellung einer verpackten Halbleiteranordnung
JP4179736B2 (ja) * 1999-07-16 2008-11-12 松下電器産業株式会社 半導体素子実装済部品の製造方法及び半導体素子実装済完成品の製造方法
JP3598245B2 (ja) * 1999-10-21 2004-12-08 松下電器産業株式会社 電子部品の実装方法及び基板モジュール
US6329220B1 (en) * 1999-11-23 2001-12-11 Micron Technology, Inc. Packages for semiconductor die
US6700209B1 (en) * 1999-12-29 2004-03-02 Intel Corporation Partial underfill for flip-chip electronic packages
JP3491827B2 (ja) * 2000-07-25 2004-01-26 関西日本電気株式会社 半導体装置及びその製造方法
US6632704B2 (en) * 2000-12-19 2003-10-14 Intel Corporation Molded flip chip package

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0639857A1 (de) * 1993-08-20 1995-02-22 International Business Machines Corporation Anordnung und Verfahren zum Erleichtern der Überarbeitung von eingekapselten Bauelementen
WO1997017727A1 (en) * 1995-11-06 1997-05-15 Ford Motor Company A flip-chip assembly
US6171887B1 (en) * 1996-02-28 2001-01-09 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor device for a face down bonding to a mounting substrate and a method of manufacturing the same
US5918113A (en) * 1996-07-19 1999-06-29 Shinko Electric Industries Co., Ltd. Process for producing a semiconductor device using anisotropic conductive adhesive
US20020030261A1 (en) * 1999-12-17 2002-03-14 Rolda Ruben A. Multi-flip-chip semiconductor assembly
US20020027298A1 (en) * 2000-09-06 2002-03-07 Noriaki Sakamoto Semiconductor device and method of manufacturing the same

Also Published As

Publication number Publication date
WO2004040640A1 (de) 2004-05-13
DE10250541B3 (de) 2004-04-15
US20060088954A1 (en) 2006-04-27
EP1556890A1 (de) 2005-07-27
CN100449719C (zh) 2009-01-07
JP4545591B2 (ja) 2010-09-15
KR100789349B1 (ko) 2007-12-28
JP2006504275A (ja) 2006-02-02
KR20050050679A (ko) 2005-05-31
CN1751386A (zh) 2006-03-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69426347T2 (de) Verfahren zum Montieren einer Halbleiteranordnung auf einer Schaltungsplatte und eine Schaltungsplatte mit einer Halbleiteranordnung darauf
DE69725926T2 (de) Fügemethode für Substrate und Struktur
DE102011006489B4 (de) Leiterplatte mit eingebautem Halbleiterchip und Verfahren zur Herstellung derselben
DE69532682T2 (de) Nachgiebige zwischenschicht für einen halbleiterchip
DE69201159T2 (de) Anisotropleitendes Material und Verfahren zum Anschliessen integrierter Schaltkreise unter dessen Verwendung.
DE60309422T2 (de) Multichip-modul und Herstellungsverfahren
DE69431023T2 (de) Halbleiteraufbau und Verfahren zur Herstellung
DE69024669T2 (de) Elektrische Verbinderstruktur und Verfahren, einen elektrischen Verbindungsaufbau zu erhalten
DE69525280T2 (de) Herstellungsverfahren einer mit Anschlusshöckern versehenen Halbleiteranordnung vom Filmträgertyp
DE10163799A1 (de) Halbleiterchip-Aufbausubstrat und Verfahren zum Herstellen eines solchen Aufbausubstrates
EP0782765A1 (de) Polymerhöckergitter
DE10045043A1 (de) Halbleiterbauteil und Verfahren zu dessen Herstellung
DE19848834A1 (de) Verfahren zum Montieren eines Flipchips und durch dieses Verfahren hergestellte Halbleiteranordnung
DE102006056363B4 (de) Halbleitermodul mit mindestens zwei Substraten und Verfahren zur Herstellung eines Halbleitermoduls mit zwei Substraten
DE19756185A1 (de) Verfahren zum Herstellen einer Anordnung aus Verbindungskontakten für IC-Chips
DE102011055884A1 (de) Gedruckte Schaltplatine für ein Halbleitergehäuse zum Verbessern der Lötverbindungszuverlässigkeit und Halbleitergehäuse dieselbe enthaltend
DE102009009828A1 (de) Bauteilanordnung und Verfahren zu dessen Herstellung
DE102006001767B4 (de) Halbleitermodul mit Halbleiterchips und Verfahren zur Herstellung desselben
DE10355068A1 (de) Integriertes Schaltkreispackage mit vergrößerter Chip-Klebefläche
EP0948813B1 (de) Chipmodul sowie verfahren zur herstellung eines chipmoduls
DE102004050792A1 (de) Bauelemente-Modul für Hochtemperaturanwendungen und Verfahren zum Herstellen eines derartigen Bauelemente-Moduls
DE10232788A1 (de) Elektronisches Bauteil mit einem Halbleiterchip
DE10223738A1 (de) Verfahren zur Verbindung integrierter Schaltungen und entsprechender Verbund integrierter Schaltungen
DE10250541B9 (de) Elektronisches Bauteil mit Unterfüllstoffen aus Thermoplasten und Verfahren zu dessen Herstellung
DE102004036909A1 (de) Halbleiterbasisbauteil mit Verdrahtungssubstrat und Zwischenverdrahtungsplatte für einen Halbleiterbauteilstapel sowie Verfahren zu deren Herstellung

Legal Events

Date Code Title Description
8100 Publication of patent without earlier publication of application
8397 Reprint of erroneous patent document
8364 No opposition during term of opposition
R119 Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee