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DE10023662A1 - Verfahren zur Einstellung von Belichtungsparametern eines Laserbelichters - Google Patents

Verfahren zur Einstellung von Belichtungsparametern eines Laserbelichters

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DE10023662A1
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laser
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Heidelberger Druckmaschinen AG
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Abstract

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Einstellung veränderlicher Belichtungsparameter eines Laserbelichters (2), umfassend Laserleistung, Fokuseinstellung, Abtastgeschwindigkeit und/oder Vorschubgeschwindigkeit bei der Belichtung eines fotoempfindlichen Materials, insbesondere bei Belichtungstests. Um den Zeit- und Arbeitsaufwand für die Ermittlung der richtigen Belichtungseinstellung zu verringern, wird gemäß einer Erfindungsalternative vorgeschlagen, mindestens einen Teil der Belichtungsparameter vor der Einstellung auf der Grundlage von Belichter-unabhängigen Kenndaten, umfassend Materialdicke, Materialempfindlichkeit, materialspezifische Testmuster und/oder materialspezifische Auswertungskriterien des zu belichtenden fotoempfindlichen Materials zu berechnen und die berechneten Belichtungsparameter anschließend automatisch einzustellen.

Description

Die Erfindung bezieht sich auf das Gebiet von Laserbelichtern und insbesondere auf deren Abstimmung zwecks Optimierung der Bildqualität eines in einem Laser­ belichter belichteten und anschließend entwickelten fotoempfindlichen Materials, insbesondere bei Belichtungstests, bei einem Wechsel zwischen verschiedenen fotoempfindlichen Materialien oder bei einer Veränderung von deren Eigenschaf­ ten.
Die Abstimmung von handelsüblichen Laserbelichtern auf das zu belichtende fo­ toempfindliche Material, wie z. B. Filme, Papiere oder Druckplatten, die gewöhnlich bei einem Wechsel des Materials oder bei einer herstellerseitigen Veränderung von dessen Eigenschaften vorgenommen werden muss, erfolgt üblicherweise an­ hand von Testbelichtungen. Bei diesen Testbelichtungen wird in Abhängigkeit vom verwendeten Material ein bestimmtes Testmuster ausgewählt und das fotoemp­ findliche Material im Laserbelichter mit dem Testmuster belichtet, um es nach der Entwicklung auszuwerten, wobei die Kriterien der Auswertung je nach verwende­ tem Material unterschiedlich sind. Für jede von mehreren möglichen Belichterauf­ lösungen wird eine separate Testreihe durchgeführt, bei der das verwendete Ma­ terial nacheinander einem Filtertest und einem Lichttest unterzogen wird, um durch die Auswertung der entwickelten Testmuster zu überprüfen, ob sich mit der gewählten Belichtereinstellung optimale Ergebnisse erzielen lassen. Zusätzlich wird für jedes Material ein Fokustest durchgeführt, um die Fokuseinstellung des Belichters im Hinblick auf das verwendete Material zu überprüfen.
Die Durchführung dieser Testbelichtungen erfordert jedoch einen verhältnismäßig großen Zeit- und Arbeitsaufwand. So beträgt der erforderliche Zeitaufwand bei fünf möglichen Belichterauflösungen und einer durchschnittlichen Dauer von 10 Minu­ ten pro Test nahezu 2 Stunden, um die elf erforderlichen Tests (5 Filtertests, 5 Lichttests und 1 Fokustest) durchzuführen. Bei Verwendung von zwei verschiede­ nen Materialien, zum Beispiel Film und Offsetfolie, sind bereits 22 Tests und damit der doppelte Zeitaufwand erforderlich.
Wenn das Ergebnis der Testbelichtungen nicht den Erwartungen entspricht, müs­ sen die Testbelichtungen nach einer Veränderung eines Teils der Belichterein­ stellungen erneut durchgeführt werden.
Veränderungen in der Prozesskette Belichter - Material - Entwicklungsautomat, wie beispielsweise chargenabhängige Veränderungen des fotoempfindlichen Ma­ terials oder durch Alterung von Entwicklerchemikalien bedingte Veränderungen können ebenfalls eine Wiederholung der Testbelichtungen erforderlich machen.
Die Durchführung der Testbelichtungen erfolgt gewöhnlich nach den Anweisungen des Herstellers des jeweils verwendeten fotoempfindlichen Materials, der vor einer Markteinführung die standardmäßig am besten geeigneten Belichtereinstellungen ermittelt und diese dem Kunden unter Nennung der jeweiligen Herstellerkennung mitteilt. Die von verschiedenen Herstellern verwendeten Herstellerkennungen sind jedoch von unterschiedlicher Art und enthalten keine Angaben über materialspezi­ fische Eigenschaften, wie Materialdicke oder Materialempfindlichkeit, die es dem Kunden gestatten würden, daraus auf seinen Eigenbedarf zugeschnittene Belich­ tungsparameter abzuleiten.
Ausgehend hiervon liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, bei einem Verfahren der eingangs genannten Art den Zeit- und Arbeitsaufwand für die Ermittlung der richtigen Belichtereinstellung zu verringern.
Diese Aufgabe wird gemäß einem ersten Aspekt der Erfindung dadurch gelöst, dass mindestens ein Teil der Belichtungsparameter vor der Einstellung auf der Grundlage von belichterunabhängigen Kenndaten, umfassend Materialdicke, Ma­ terialempfindlichkeit, materialspezifische Testmuster und/oder materialspezifische Auswertungskriterien des zu belichtenden fotoempfindlichen Materials berechnet wird.
Diesem Aspekt der Erfindung liegt der Gedanke zugrunde, die Anweisung zur Durchführung der Testbelichtungen durch belichterunabhängige materialspezifi­ sche Kenndaten zu ersetzen, die sich als Grundlage zur Berechnung von geeig­ neten Belichtungsparametern sowie zur Automatisierung eines Belichtungsvor­ gangs und insbesondere von Testbelichtungen durch eine entsprechende auto­ matische Steuerung des Laserbelichters auf der Grundlage der berechneten Be­ lichtungsparameter eignen.
Als belichterunabhängige Kenndaten werden materialspezifische Daten wie Mate­ rialdicke, Materialempfindlichkeit, materialspezifische Testmuster und/oder materi­ alspezifische Auswertungskriterien bezeichnet, die sich ohne Bezug auf einen be­ stimmten Laserbelichter angeben lassen, wobei diese Kenndaten allerdings auch Daten, wie eine Belichterauflösung umfassen können, wenn sich diese material­ spezifische Belichterauflösung für beliebige Laserbelichter eignet.
Aus den belichterunabhängigen Kenndaten werden dann in einem bestimmten La­ serbelichter oder in einem daran angeschlossenen Computer die belichterspezifi­ schen Belichtungsparameter berechnet, wobei in die Berechnung neben den be­ lichterunabhängigen Kenndaten belichterspezifische Kenndaten, wie beispielswei­ se Laserdiodenstrom, Laserdiodenleistung, Filter oder Blende einfließen.
Die belichterunabhängigen Kenndaten sind vorzugsweise auf einem Datenträger, wie beispielsweise einer CD-ROM oder Diskette gespeichert, der vom Laserbe­ lichter oder einem mit dem Laserbelichter verbundenen Rechner ausgelesen wer­ den kann, oder können vom Kunden direkt über Datenleitungen abgerufen wer­ den, wie beispielsweise über das Internet von einer Homepage des Herstellers des Belichter oder des fotoempfindlichen Materials. Die Gesamtheit der belichte­ runabhängigen Kenndaten eines zu belichtenden Materials wird im folgenden in Anlehnung an entsprechende Bezeichnungen auf dem Computersektor als Mate­ rialtreiber bezeichnet.
Um eine schnelle Verarbeitung der Kenndaten zu ermöglichen, sieht eine bevor­ zugte Ausgestaltung der Erfindung vor, dass vor der Belichtung eines fotoempfind­ lichen Materials von einem in den Laserbelichter integrierten Prozessor oder ei­ nem Prozessor eines an den Laserbelichter angeschlossenen Computers aus dessen Materialtreiber unter Verwendung vorgegebener Algorithmen geeignete Belichtungsparameter, wie Laserleistung, Fokuseinstellung, Abtastgeschwindigkeit und/oder Vorschubgeschwindigkeit berechnet werden, wobei der Algorithmus zur Berechnung der Laserleistung als Variable zumindest die Materialempfindlichkeit, ausgedrückt als Energiedichte, und vorzugsweise weiter eine für das Material ge­ eignete Belichterauflösung und eine von der Belichterauflösung abhängige Ab­ tastgeschwindigkeit enthält, während der Algorithmus zur Berechnung der Fo­ kuseinstellung als Variable zumindest die Materialdicke enthält.
Vorzugsweise wird bei der Berechnung der Fokuseinstellung von einem Refe­ renzfokuspunkt ausgegangen, der zuvor bei einer definierten Temperatur für ein Referenzmaterial mit einer definierten Materialdicke ermittelt worden ist, wobei der Algorithmus zur Berechnung der Fokuseinstellung als Variable die Differenz zwi­ schen der Materialdicke des zu belichtenden fotoempfindlichen Materials und der definierten Materialdicke sowie eine ggf. vorhandene Differenz zwischen der defi­ nierten Temperatur und einer bei der Belichtung herrschenden Temperatur ent­ hält.
Um bei einem Wechsel zwischen verschiedenen fotoempfindlichen Materialien ei­ nen schnellen Zugriff auf die Materialtreiber zu ermöglichen, sieht eine weitere be­ vorzugte Ausgestaltung der Erfindung vor, dass eine Mehrzahl von Materialtrei­ bern als Datenbank in einem internen Speicher des Laserbelichters oder in einem Speicher eines daran angeschlossenen Computers gespeichert ist, von wo ein benötigter Materialtreiber mittels eines Dienst- oder Verwaltungsprogramms abge­ rufen wird, das nachfolgend in Anlehnung an eine entsprechende Bezeichnung auf dem Computersektor als Materialmanagers bezeichnet wird. Um den Abruf der Materialtreiber zu vereinfachen, ist vorzugsweise jedes der Mehrzahl von fo­ toempfindlichen Materialien in der Datenbank mit einer Adresse versehen, auf die durch Eingabe eines Herstellercodes und eines Materialcodes zugegriffen wird, wodurch Verwechslungen zwischen ähnlichen Materialcodes unterschiedlicher Hersteller vermieden werden können. Die Eingabe des Hersteller- und Mate­ rialcodes kann zum Beispiel an einem Bedienfeld des Belichters, mittels einer Ta­ statur oder eines Mauszeigers auf einer Bildschirmoberfläche des Computers oder mittels eines Barcode-Lesegerätes erfolgen, mit dem zwecks Vermeidung von Verwechslungen auf dem fotoempfindlichen Material selbst angebrachte Barcodes gelesen werden.
Für fotoempfindliche Materialien mit unbekannten Kenndaten lassen sich die ein­ zustellenden Belichtungsparameter durch Belichtungstests ermitteln, deren Anzahl reduziert werden kann, wenn gemäß einer weiteren bevorzugten Ausgestaltung oder einem zweiten Aspekt der Erfindung die notwendige Laserleistung ermittelt wird, indem das fotoempfindliche Material im Verlaufe eines einzigen Belichtungs­ tests nacheinander bei einer Mehrzahl von Laserleistungsstufen des Belichters belichtet wird, wobei die Zunahme der Laserleistung zwischen zwei benachbarten Laserleistungsstufen auf einer logarithmischen Leistungsskala konstant ist, und indem das belichtete Material im Anschluss an den Belichtungstest entwickelt und ausgewertet wird.
Weiter kann bei einer Mehrzahl von möglichen Belichterauflösungen die Anzahl der Testbelichtungen auf eine verringert werden, wenn der Laserbelichter gemäß einer weiteren bevorzugten Ausgestaltung der Erfindung während der Initialisie­ rungsphase über den gesamten Bereich seiner möglichen Einstellungen vermes­ sen wird, die Laserleistung für eine erste Belichterauflösung entsprechend den Herstellerangaben oder nach Erfahrung ausgewählt und die Laserleistungen für die weiteren Belichterauflösungen darauf aufbauend unter Berücksichtigung der bei der Vermessung erhaltenen Ergebnisse mathematisch berechnet und einge­ stellt werden.
Da der Prozess der Belichtung des fotoempfindlichen Materials Veränderungen unterliegen kann, zum Beispiel durch Abnahme der Laserleistung des Laserbe­ lichters, sieht eine weitere bevorzugte Ausgestaltung oder ein dritter Aspekt der Erfindung vor, das belichtete fotoempfindliche Material zu entwickeln, um ein Testmuster zu erstellen, das Testmuster anschließend auszuwerten, und in Ab­ hängigkeit vom Ergebnis der Auswertung ggf. einen Teil oder sämtliche der Be­ lichtungsparameter automatisch zu verändern. Vorzugsweise erfolgt die Auswer­ tung mittels eines Messgerätes, beispielsweise mittels eines Densitometers, das die Differenz zwischen einem tatsächlichen Istwert der optischen Dichte des er­ zeugten Testmusters und einem vorgegebenen Sollwert misst. Aus der gemesse­ nen Differenz wird anschließend ein Korrekturwert berechnet, der ebenfalls als Va­ riable in einen oder mehrere der zur Berechnung der Belichtungsparameter ver­ wendeten Algorithmen eingeht.
Zweckmäßigerweise wird einer der Belichtungsparameter als Führungswert aus­ gewählt, beispielsweise der Wert der Energiedichte im Entwickler, bei dessen Be­ rechnung der bei der Auswertung des Testmusters ermittelte Korrekturwert als Va­ riable eingeht, während die anderen Belichtungsparameter bei einer Veränderung des Führungswertes entsprechend einer vorgegebenen Beziehung verändert wer­ den.
Da auch durch Einflüsse innerhalb des Entwicklungsprozesses Veränderungen hervorgerufen werden können, beispielsweise durch Alterung von Entwicklerche­ mikalien in einem dem Belichter nachgeschalteten Entwicklungsautomaten, und da sich diese Einflüsse nicht notwendigerweise durch eine Korrektur der Belichtungs­ parameter im Belichter kompensieren lassen, sieht eine weitere vorteilhafte Aus­ gestaltung der Erfindung vor, den bei der Auswertung des Testmusters ermittelten Korrekturwert alternativ oder zusätzlich zur Regelung des Entwicklungsprozesses im Entwicklungsautomaten heranzuziehen.
Im folgenden wird die Erfindung anhand eines in der Zeichnung dargestellten Ausführungsbeispiels näher erläutert. Es zeigen:
Fig. 1 eine schematische Geräteübersicht zur Veranschaulichung des erfindungs­ gemäßen Verfahrens;
Fig. 2 ein Blockdiagramm zur Veranschaulichung des Zusammenwirkens der ein­ zelnen Geräte bei der Belichtung und Entwicklung eines fotoempfindlichen Materi­ als.
Die in Fig. 1 dargestellten Geräte zur Belichtung und Entwicklung von fotoempfind­ lichem Material (1), wie beispielsweise Offsetfolie oder Film, bestehen im Wesent­ lichen aus einem Laserbelichter (2), beispielsweise einem von der Anmelderin unter der Bezeichnung Herkules vertriebenen Innentrommelbelichter, einem daran angeschlossenen PC (3) oder einer Workstation zur Steuerung des Laserbelich­ ters (2), einem Filmentwicklungsautomat (4), in dem das im Laserbelichter (2) be­ lichtete Material (1) entwickelt wird, sowie einem Messgerät (5) zum Auswerten ei­ nes mitbelichteten und mitentwickelten Testmusters (6) auf einem Rand des fo­ toempfindlichen Materials (1).
Der PC (3) umfasst eine Tastatur (7), eine Maus (nicht dargestellt), ein CD-ROM Laufwerk (8) und einen Anschluss an eine Datenleitung (9) zur Übermittlung von Informationen aus externen Datenbanken, zum Beispiel über das Internet, und ist ggf. an einer weiteren Schnittstelle mit einem Bar-Code-Lesegerät (10) (Fig. 1) zum Ablesen von Bar-Codes (11) auf dem fotoempfindlichen Material (1) verbun­ den.
Das Messgerät (5) ist im vorliegenden Ausführungsbeispiel ein Densitometer zur Messung der optischen Dichte und/oder eines Rastertonwertes des jeweiligen Testmusters (6) sowie zur Durchführung von vergleichenden Dichtemessungen, und vorzugsweise ein SIMPLE-Densitometer, mit dem die Differenz zwischen ei­ nem Sollwert und dem tatsächlichen Istwert der optischen Dichte des jeweiligen Testmusters (6) gemessen wird.
Der Laserbelichter (2), der PC (3), der Entwicklungsautomat (4) und das Densito­ meter (5) entsprechen ansonsten im Aufbau herkömmlichen Geräten der jeweili­ gen Art, die auf dem Fachgebiet bekannt und gebräuchlich sind, und sollen daher hier nicht näher beschrieben werden. An Stelle eines mit dem Laserbelichter (2) verbundenen PCs (3) können auch in den Laserbelichter (2) integrierte Hardware- Komponenten verwendet werden, die zusätzlich in diesen eingebaut werden oder bereits vorhanden sind und mitgenutzt werden, wie beispielsweise ein RIP- Prozessor des Belichters (2) an Stelle eines Prozessors (12) (Fig. 2) des PCs (3).
Wie am besten in Fig. 2 dargestellt, umfasst die Software (13) des PCs (3) ein nachfolgend als Materialmanager (14) bezeichnetes Dienst- oder Verwaltungspro­ gramm, das mittels der Tastatur (7) oder des Mauszeigers oder einer Bedienbox (15) auf dem Laserbelichter (2) aufrufbar ist. Der Materialmanager (14) dient zur Verwaltung einer Reihe von nachfolgend als Materialtreiber (16) bezeichneten in­ ternen Datenbanken in einem Speicher (17) des PCs (3), die jeweils eine Reihe von belichterneutralen oder belichterunabhängigen Kenndaten für jedes auf dem Belichter (2) zu belichtende fotoempfindliche Material (1) umfassen.
Diese Materialtreiber (16), die zum Beispiel vom Hersteller des Belichters (2) oder vom Hersteller des fotoempfindlichen Materials (1) bereitgestellt werden, umfas­ sen als belichterneutrale Kenndaten u. a. die Dicke des fotoempfindlichen Materials (1) in µm, die Länge des fotoempfindlichen Materials (1) in m, die Materialpolarität (positiv/negativ), die Materialempfindlichkeit als Energiedichte in mJ/m2, ein für das jeweilige Material (1) besonders gut geeignetes Testmuster (6) in Post Script oder als Kennzahl, sowie ein materialspezifisches Auswertekriterium als Wert oder als Kennzahl. Die Bereitstellung der Materialtreiber (16) erfolgt zum Beispiel auf einer CD-ROM zum Versand an den Benutzer und zum Auslesen über das CD-ROM- Laufwerk (8) des PCs (3) oder auf einer Internet-Homepage zum Herabladen der Dateien über die Datenleitung (9).
Bei einer Eingabe einer vom Benutzer gewünschten Belichterauflösung, eines Herstellercodes, zum Beispiel einem Namenskürzel des Herstellers des gerade zu belichtenden Materials (1), sowie eines Materialcodes, zum Beispiel einem Materi­ alkürzel, an der Tastatur (7), durch Anklicken mit dem Mauszeiger auf einer Bild­ schirmoberfläche eines Monitors (16) des PCs (3) oder durch Auslesen eines Bar- Codes (11) auf dem Material (1) oder seiner Verpackung mittels des Bar-Code- Lesegeräts (10) wird über den Prozessor (12) der entsprechende Materialtreiber (16) als Datenbank vom Materialmanager (14) aus dem Speicher (17) abgerufen und an den Laserbelichter (2) übermittelt, wo die Kenndaten in einem Speicher (19) des Belichters (2) gespeichert werden.
Anschließend werden die Daten aus dem Zwischenspeicher im RIP (20) oder in einem anderen Prozessor des Belichters (2) bearbeitet und durch entsprechende Algorithmen mit belichterinternen oder belichterabhängigen Kenndaten, beispiels­ weise Kenndaten für den eingestellten Laserdiodenstrom in A, verwendete Filter oder Blenden verknüpft, um daraus die Belichtungsparameter für die anschließen­ de Belichtung des fotoempfindlichen Materials (1) zu berechnen, insbesondere die Laserleistung in W, der Laserpunktdurchmesser in µm, die Fokusposition oder Fo­ kuseinstellung in µm, die Vorschubgeschwindigkeit in m/s und die Scan- oder Ab­ tastgeschwindigkeit in m/s.
Die Kenndaten der Materialtreiber (16) und die ebenfalls im Speicher (19) des Be­ lichters (2) gespeicherten belichterinternen Kenndaten sind derart gewählt, dass diese Daten vom Prozessor (20) unmittelbar als Variablen in einen entsprechen­ den Algorithmus eingesetzt werden können, aus dem dann einer der gewünschten Belichtungsparameter errechnet wird. Vorzugsweise werden für die Materialtreiber (16) und die belichterinternen Kenndaten übereinstimmende Einheitensysteme gewählt, um eine Umrechnung zu vermeiden. Beispielsweise sind sämtliche Daten im SI-System angegeben.
Als Beispiel lautet der Algorithmus für die Laserleistung P in W oder J/s wie folgt:
P = (Ev × v)/A (1)
wobei Ev die Materialempfindlichkeit des fotoempfindlichen Materials als Energie­ dichte in 10-3 J/m2, A die eingegebene Auflösung umgerechnet aus Pixel/cm in 1/m und v die Abtast- oder Scangeschwindigkeit in m/s ist.
Die Abtast- oder Scangeschwindigkeit v wird zum Beispiel bei einem Hohlbettbe­ lichter nach folgendem Algorithmus berechnet:
v = 2 π × a × n (2)
wobei a der Abstand vom Drehspiegel zum fotoempfindlichen Material in m und n die Drehzahl des Drehspiegels in 1/s ist.
Für ein Material (1) mit unbekannter Materialempfindlichkeit kann die tatsächlich erforderliche Laserleistung durch einen einzigen Belichtungstest ermittelt werden, bei dem das Material (1) im Belichter (2) nacheinander mit verschiedenen Laser­ leistungen belichtet wird, wobei ein bestimmtes Testmuster (6) für jede Belichtung vorgegeben wird. Zwischen zwei benachbarten oder aufeinanderfolgenden Be­ lichtungen wird die Laserleistung so verändert, dass das Maß der Veränderung, d. h. die Differenz zwischen zwei benachbarten Leistungsstufen, auf einer log­ arithmischen Leistungsskala konstant bleibt. Das heißt, bei niedrigen Laserleistun­ gen ist die Zunahme der Laserleistung zwischen zwei Belichtungseinstellungen gering und nimmt mit zunehmender Laserleistung exponentiell zu.
Nach der Belichtung wird das Material (1) im Entwickler (4) entwickelt und die bei der Belichtung erzeugten Testmuster (6) mit dem Densitometer (5) ausgewertet, um aus den bei der Belichtung erzeugten Testmustern (6) dasjenige zu ermitteln, bei dem die Differenzen zwischen den Istwerten der optischen Dichte des Testmu­ sters (6) und entsprechenden gespeicherten Sollwerten am geringsten sind. Die zugehörigen Belichtungsparameter für das ermittelte Testmuster (6) werden an­ schließend ähnlich wie die Materialtreiber (16) im Speicher (17) gespeichert, um sie bei Bedarf, d. h. bei einer erneuten Belichtung desselben Materials (1) im Be­ lichter (2) wieder abzurufen.
Zur Berechnung der Fokuseinstellung beinhaltet der Belichter (2) einen soge­ nannten Referenzfokuspunkt, der werksseitig mit einem Referenzmaterial vorge­ gebener Dicke für dieses Material ermittelt wird. Bei Verwendung eines anderen Materials wird vom Prozessor (20) die Differenz zwischen der Dicke des Refe­ renzmaterials und der im Materialtreiber (16) enthaltenen Dicke des verwendeten Materials (1) ermittelt und in Abhängigkeit von dieser Differenz eine entsprechen­ de Änderung der Fokuseinstellung vorgenommen. In entsprechender Weise kön­ nen Verschiebungen der Fokusposition bei höheren oder niedrigen Temperaturen berechnet und ausgeglichen werden, indem die Differenz zu einer Referenztempe­ ratur ermittelt und die Ausdehnung bzw. Kontraktion des Materials infolge dieser Temperaturdifferenz berechnet wird, bevor die berechnete Ausdehnung bzw. Kontraktion dann durch Veränderung des Fokuspunktes kompensiert wird.
Da eine gleichbleibende Qualität des belichteten und entwickelten fotoempfindli­ chen Materials (1) eine ausreichende Stabilität der Prozessparameter über den gesamten Belichtungs- und Entwicklungsprozess voraussetzt, die aus verschiede­ nen Gründen nicht immer gewährleistet ist, wird das Material (1) nicht nur bei den Belichtungstests für unbekannte Materialien sondern vorzugsweise bei jedem Be­ lichtungsvorgang mit einem Testmuster versehen, das nach der Belichtung und Entwicklung des Materials ausgewertet wird. Das Testmuster liegt wie das darge­ stellte Testmuster (6) vorzugsweise außerhalb des Satzspiegels in der Nähe von einem der Ränder des Materials (1). Das jeweils verwendete Testmuster (6) ist materialabhängig und stammt aus dem Materialtreiber (16), von wo es mit Hilfe des Materialmanagers (14) ausgelesen wird, bevor das fotoempfindliche Material (1) im Belichter (2) automatisch mit dem ausgelesenen Testmuster (6) belichtet wird. Das Testmuster (6) kann eine Vielzahl verschiedener Formen annehmen und zum Beispiel drei verschiedene Teilbereiche umfassen, von denen einer zur Kon­ trolle der optischen Dichte eine 100%-ige Schwärzung aufweist, einer zur Kon­ trolle des Rastertonwerts eine 50%-ige Rasterfläche aufweist und für vergleichen­ de Dichtemessungen mit diversen Raster-/Strich- und Punktmustern sowie Kombi­ nationen derartiger Muster versehen ist.
Nach seiner Belichtung durchläuft das fotoempfindliche Material (1) zuerst den Entwicklungsautomaten (4), in dem es mit Hilfe von Entwicklerchemikalien entwic­ kelt wird, und anschließend das Densitometer (5), in dem die Testmuster (6) bei stehendem oder bewegtem Material (1) mit einem entsprechenden Referenztest­ muster verglichen werden, um eventuell vorhandene Differenzen zwischen den jeweiligen Istwerten der optischen Dichte des Testmusters (6) und vorgegebenen Sollwerten der optischen Dichte des Referenztestmusters zu ermitteln.
Das Ergebnis des Vergleichs wird vom Densitometer (5) an den PC (3) übermittelt und im Speicher (17) abgelegt, von wo es in regelmäßigen Zeitintervallen ausge­ lesen und vom Prozessor (12) ausgewertet wird. Bei der Auswertung können Art, Ort und Größe der Differenz zwischen Soll- und Istwert sowie ggf. eine zeitliche Veränderung dieser Differenz mit entsprechenden gespeicherten Differenzwerten verglichen werden, deren Ursache bekannt ist oder die werksseitig bei einer Kali­ brierung des Belichters (2) durch eine gezielte Veränderung von Belichtungspara­ metern herbeigeführt worden sind. Aus der Art, dem Ort und der Größe der Diffe­ renzen sowie ggf. deren zeitlicher Veränderung können anschließend Rückschlüs­ se auf die Ursache der Differenzen gezogen und diese dann durch entsprechende Gegenmaßnahmen beseitigt werden. Alternativ kann jeder Materialtreiber (16) ei­ ne zuvor ermittelte Gradations- oder Schwärzungskurve für das zugehörige Mate­ rial (1) enthalten, die vom Materialmanager (14) zum Prozessor (12) zugeführt und dort mit einer bei der Auswertung des Testmusters (6) ermittelten Gradations- und Schwärzungskurve verglichen wird. Dadurch lassen sich ebenfalls vorhandene Differenzen oder Abweichungen ermitteln, die dann durch entsprechende Gegen­ maßnahmen beseitigt werden können.
Die Gegenmaßnahmen zur Beseitigung der Differenzen oder Abweichungen be­ stehen zweckmäßig darin, einen entsprechenden Führungswert des Belichters (2), zum Beispiel dessen Energiedichte, in einer Weise zu verändern, die den aufge­ tretenen Differenzen entgegenwirkt. Das heißt, wenn die optische Dichte des Testmusters durchweg kleiner als die optische Dichte des Referenztestmusters ist, wird bei einem Material mit positiver Materialpolarität, das bei der Belichtung ge­ schwärzt wird, die Laserleistung vergrößert, um die Schwärzung zu verstärken. Ggf. können neben dem Führungswert weitere Parameter verändert werden, wenn dies erforderlich ist, wobei diese Veränderung proportional zu Veränderung des Führungswertes oder unabhängig von diesem erfolgen kann.
Da die Qualität des belichteten und entwickelten Materials (1) nicht nur durch die Belichtungsparameter sondern auch durch die Prozessparameter des Entwick­ lungsautomaten (4) beeinflusst werden, zum Beispiel durch eine Qualitätseinbu­ ßen verursachende Alterung von Entwicklerchemikalien, ist es zweckmäßig, bei Feststellung gewisser, durch die Entwicklung verursachter Abweichungen oder Veränderungen der Testmuster (6) nicht die Belichtungsparameter zu verändern, sondern für eine entsprechende Veränderung der Prozessparameter des Ent­ wicklungsautomaten (4) zu sorgen. Im einfachsten Fall kann dies zum Beispiel ei­ ne Erneuerung der Entwicklerchemikalien im Entwicklungsautomaten (4) sein, die vorzugsweise ebenfalls prozessorgesteuert in Abhängigkeit vom Ergebnis der Testmusterauswertung erfolgt.

Claims (18)

1. Verfahren zur Einstellung veränderlicher Belichtungsparameter eines Laserbe­ lichters, umfassend Laserleistung, Fokuseinstellung, Abtastgeschwindigkeit und/oder Vorschubgeschwindigkeit bei der Belichtung eines fotoempfindlichen Materials, insbesondere bei Belichtungstests, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens ein Teil der Belichtungsparameter vor der Einstellung auf der Grundlage von belichterunabhängigen Kenndaten, umfassend Materialdicke, Materialempfindlichkeit, materialspezifische Testmuster und/oder materialspe­ zifische Auswertungskriterien des zu belichtenden fotoempfindlichen Materials berechnet wird, und dass die berechneten Belichtungsparameter anschließend automatisch eingestellt werden.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Belichtungs­ parameter von einem in den Laserbelichter (2) integrierten oder mit diesem verbundenen Prozessor (12 bzw. 20) auf der Grundlage vorgegebener Algo­ rithmen berechnet werden.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass ein Algorithmus zur Berechnung der Abtastgeschwindigkeit und/oder der Vorschubgeschwin­ digkeit als Variable eine einzugebende materialspezifische Belichterauflösung enthält.
4. Verfahren nach Anspruch 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, dass ein Algo­ rithmus zur Berechnung der Laserleistung als Variable eine in Form einer Energiedichte ausgedrückte Materialempfindlichkeit enthält.
5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass der Algorithmus zur Berechnung der Laserleistung als Variable weiter eine spezifische oder eingegebene Belichterauflösung und eine Abtastgeschwindigkeit enthält.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 2 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass ein Algorithmus zur Berechnung der Fokuseinstellung als Variable zumindest die Materialdicke enthält.
7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass bei der Berech­ nung der Fokuseinstellung von einem zuvor für ein Referenzmaterial mit einer definierten Materialdicke ermittelten Referenzfokuspunkt ausgegangen wird, und dass der Algorithmus zur Berechnung der Fokuseinstellung als Variable eine Differenz zwischen der definierten Materialdicke und der Materialdicke des zu belichtenden fotoempfindlichen Materials enthält.
8. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass der Referenzfo­ kuspunkt bei einer definierten Temperatur ermittelt wird, und dass der Algo­ rithmus zur Berechnung der Fokuseinstellung als Variable eine Differenz zwi­ schen der definierten Temperatur und einer bei der Belichtung herrschenden Temperatur enthält.
9. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass aus Datenbanken (16) mit den belichterunabhängigen Kenndaten einer Mehr­ zahl von fotoempfindlichen Materialien (1) die Kenndaten des jeweils zu be­ lichtenden fotoempfindlichen Materials (1) ausgewählt werden.
10. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass jedes der Mehr­ zahl von fotoempfindlichen Materialien (1) in der Datenbank (16) mit einer Kennzeichnung versehen ist.
11. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass die Kennzeich­ nung einen Herstellercode und einen Materialcode umfasst.
12. Verfahren nach einem der Ansprüche 9 bis 11, dadurch gekennzeichnet, dass die Datenbank (16) mit den belichterunabhängigen Kenndaten in einem Speicher (17 bzw. 19) des Belichters (2) oder eines damit verbundenen Com­ puters (3) gespeichert wird, und dass bei Eingabe von einer der Kennzeich­ nungen die zugehörigen Kenndaten ausgelesen und zur Berechnung der Be­ lichtungsparameter an den Prozessor (12 bzw. 20) übermittelt werden.
13. Verfahren zur Einstellung veränderlicher Belichtungsparameter eines Laserbe­ lichters, umfassend Laserleistung, Fokuseinstellung, Abtastgeschwindigkeit und/oder Vorschubgeschwindigkeit bei der Belichtung eines fotoempfindlichen Materials, insbesondere nach einem der Ansprüche 1 bis 12, dadurch ge­ kennzeichnet, dass das fotoempfindliche Material mit einem materialspezifi­ schen Testmuster (6) belichtet wird, das bei einer nachfolgenden Entwicklung des Materials (1) in einem Entwickler (4) mitentwickelt wird, dass das mitent­ wickelte Testmuster (6) anschließend ausgewertet wird, und dass in Abhän­ gigkeit vom Ergebnis der Auswertung ein Teil der Belichtungsparameter und/oder Prozessparameter des Entwicklers (4) automatisch verändert wer­ den.
14. Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, dass einer der Be­ lichtungsparameter als Führungswert ausgewählt wird, und dass bei einer Veränderung des Führungswertes andere Belichtungsparameter mit verändert werden.
15. Verfahren nach Anspruch 13 oder 14, dadurch gekennzeichnet, dass das Testmuster (6) in einem Densitometer ausgewertet wird.
16. Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekenn­ zeichnet, dass die einzustellenden Belichtungsparameter für ein fotoempfind­ liches Material (1) mit unbekannten Kenndaten durch Belichtungstests ermittelt werden.
17. Verfahren nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, dass der Laserbe­ lichter (4) während seiner Initialisierung über den gesamten Bereich der mögli­ chen Einstellungen vermessen wird, dass die Laserleistung für eine erste Be­ lichterauflösung entsprechend den Herstellerangaben oder nach Erfahrung ausgewählt wird, und dass die Laserleistungen für die weiteren Belichterauflö­ sungen darauf aufbauend unter Berücksichtigung der bei der Vermessung er­ haltenen Ergebnisse mathematisch berechnet und eingestellt werden.
18. Verfahren zur Einstellung veränderlicher Belichtungsparameter eines Laserbe­ lichters, umfassend Laserleistung, Fokuseinstellung, Abtastgeschwindigkeit und/oder Vorschubgeschwindigkeit, bei der Belichtung eines fotoempfindlichen Materials, insbesondere nach einem der Ansprüche 1 bis 17, dadurch ge­ kennzeichnet, dass das fotoempfindliche Material (1) zur Ermittlung der La­ serleistung im Verlaufe eines einzigen Belichtungstests nacheinander bei einer Mehrzahl von Laserleistungsstufen des Belichters (4) belichtet wird, wobei die Zunahme der Laserleistung zwischen zwei benachbarten Laserleistungsstufen auf einer logarithmischen Leistungsskala konstant ist, und dass das belichtete Material (1) im Anschluss an den Belichtungstest entwickelt und ausgewertet wird, um die am besten geeignete Laserleistungsstufe zu bestimmen.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102005045288A1 (de) * 2005-09-22 2007-03-29 Heidelberger Druckmaschinen Ag Verfahren zur Steuerung eines Bebilderungsvorganges und Belichtungsgerät für die Bebilderung einer Druckform

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7212226B2 (en) * 2003-03-25 2007-05-01 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Image density control apparatus and image formation apparatus
CN114132048A (zh) * 2021-12-13 2022-03-04 深圳市先地图像科技有限公司 一种利用激光直接成像设备曝光网版的方法及相关设备
CN114265286A (zh) * 2021-12-29 2022-04-01 深圳市先地图像科技有限公司 一种网版曝光方法、装置、存储介质及相关设备

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3738242A (en) * 1971-06-11 1973-06-12 B Lee Adaptive illumination source intensity control device
JPS59216165A (ja) * 1983-05-25 1984-12-06 Canon Inc 光プリンタの露光量制御装置
US4563694A (en) * 1983-02-10 1986-01-07 Canon Kabushiki Kaisha Image information recording apparatus
US4782365A (en) * 1985-11-05 1988-11-01 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photographic printing apparatus and paper magazine for use therewith
JPS63286810A (ja) * 1987-05-20 1988-11-24 Hitachi Electronics Eng Co Ltd 基板露光装置
US4907021A (en) * 1985-08-05 1990-03-06 Canon Kabushiki Kaisha Projection exposure apparatus
US5227840A (en) * 1991-06-03 1993-07-13 Eastman Kodak Company Automated photographic contact printing system
US5748225A (en) * 1995-03-31 1998-05-05 Agfa Division, Bayer Corporation Condition sensitive method and apparatus for imaging a lithographic printing plate
JPH1158817A (ja) * 1997-05-26 1999-03-02 Ricoh Co Ltd 画像形成装置
DE19746331A1 (de) * 1997-10-21 1999-04-29 Gerhard Theimer Verfahren und Gerät zur Vorbestimmung druckformabhängig optimal an Kopiergeräten einzustellender Belichtungswerte bei der Druckformenbelichtung
DE19825828A1 (de) * 1998-06-10 1999-12-16 Agfa Gevaert Ag Kontrollelement für ein strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial und Verfahren zum Bestimmen der Belichtungsenergie für ein strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial mittels eines Kontrollelements

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02266757A (ja) * 1989-04-07 1990-10-31 Minolta Camera Co Ltd レーザービームプリンタ用露光方法
US5212569A (en) * 1989-06-29 1993-05-18 Fuji Photo Film Co., Ltd. Light beam scanning apparatus capable of changing the scanning density
US5212562A (en) * 1989-07-25 1993-05-18 Canon Kabushiki Kaisha Image signal reproducing apparatus having memory function
AU661205B2 (en) * 1992-11-25 1995-07-13 Eastman Kodak Company Multi-user digital laser imaging system
US5663554A (en) * 1995-01-17 1997-09-02 Agfa Division, Bayer Corporation Weak lens focus adjusting mechanism based upon thickness of scanned material and imagesetter using same
JPH08305213A (ja) * 1995-04-28 1996-11-22 Canon Inc 画像形成装置
EP0744652A1 (de) * 1995-05-20 1996-11-27 Agfa-Gevaert N.V. Bildaufzeichnungsvorrichtung mit Bildbildendem Gerät und vertikalem Behandlungsgerät

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3738242A (en) * 1971-06-11 1973-06-12 B Lee Adaptive illumination source intensity control device
US4563694A (en) * 1983-02-10 1986-01-07 Canon Kabushiki Kaisha Image information recording apparatus
JPS59216165A (ja) * 1983-05-25 1984-12-06 Canon Inc 光プリンタの露光量制御装置
US4907021A (en) * 1985-08-05 1990-03-06 Canon Kabushiki Kaisha Projection exposure apparatus
US4782365A (en) * 1985-11-05 1988-11-01 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photographic printing apparatus and paper magazine for use therewith
JPS63286810A (ja) * 1987-05-20 1988-11-24 Hitachi Electronics Eng Co Ltd 基板露光装置
US5227840A (en) * 1991-06-03 1993-07-13 Eastman Kodak Company Automated photographic contact printing system
US5748225A (en) * 1995-03-31 1998-05-05 Agfa Division, Bayer Corporation Condition sensitive method and apparatus for imaging a lithographic printing plate
JPH1158817A (ja) * 1997-05-26 1999-03-02 Ricoh Co Ltd 画像形成装置
DE19746331A1 (de) * 1997-10-21 1999-04-29 Gerhard Theimer Verfahren und Gerät zur Vorbestimmung druckformabhängig optimal an Kopiergeräten einzustellender Belichtungswerte bei der Druckformenbelichtung
DE19825828A1 (de) * 1998-06-10 1999-12-16 Agfa Gevaert Ag Kontrollelement für ein strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial und Verfahren zum Bestimmen der Belichtungsenergie für ein strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial mittels eines Kontrollelements

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
JP 63286810 A In: Patent Abstracts of Japan *

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102005045288A1 (de) * 2005-09-22 2007-03-29 Heidelberger Druckmaschinen Ag Verfahren zur Steuerung eines Bebilderungsvorganges und Belichtungsgerät für die Bebilderung einer Druckform

Also Published As

Publication number Publication date
US6737628B2 (en) 2004-05-18
US20030052251A1 (en) 2003-03-20
WO2001089198A1 (de) 2001-11-22
DE10023662B4 (de) 2010-04-01

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