DE10023662A1 - Verfahren zur Einstellung von Belichtungsparametern eines Laserbelichters - Google Patents
Verfahren zur Einstellung von Belichtungsparametern eines LaserbelichtersInfo
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Abstract
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Einstellung veränderlicher Belichtungsparameter eines Laserbelichters (2), umfassend Laserleistung, Fokuseinstellung, Abtastgeschwindigkeit und/oder Vorschubgeschwindigkeit bei der Belichtung eines fotoempfindlichen Materials, insbesondere bei Belichtungstests. Um den Zeit- und Arbeitsaufwand für die Ermittlung der richtigen Belichtungseinstellung zu verringern, wird gemäß einer Erfindungsalternative vorgeschlagen, mindestens einen Teil der Belichtungsparameter vor der Einstellung auf der Grundlage von Belichter-unabhängigen Kenndaten, umfassend Materialdicke, Materialempfindlichkeit, materialspezifische Testmuster und/oder materialspezifische Auswertungskriterien des zu belichtenden fotoempfindlichen Materials zu berechnen und die berechneten Belichtungsparameter anschließend automatisch einzustellen.
Description
Die Erfindung bezieht sich auf das Gebiet von Laserbelichtern und insbesondere
auf deren Abstimmung zwecks Optimierung der Bildqualität eines in einem Laser
belichter belichteten und anschließend entwickelten fotoempfindlichen Materials,
insbesondere bei Belichtungstests, bei einem Wechsel zwischen verschiedenen
fotoempfindlichen Materialien oder bei einer Veränderung von deren Eigenschaf
ten.
Die Abstimmung von handelsüblichen Laserbelichtern auf das zu belichtende fo
toempfindliche Material, wie z. B. Filme, Papiere oder Druckplatten, die gewöhnlich
bei einem Wechsel des Materials oder bei einer herstellerseitigen Veränderung
von dessen Eigenschaften vorgenommen werden muss, erfolgt üblicherweise an
hand von Testbelichtungen. Bei diesen Testbelichtungen wird in Abhängigkeit vom
verwendeten Material ein bestimmtes Testmuster ausgewählt und das fotoemp
findliche Material im Laserbelichter mit dem Testmuster belichtet, um es nach der
Entwicklung auszuwerten, wobei die Kriterien der Auswertung je nach verwende
tem Material unterschiedlich sind. Für jede von mehreren möglichen Belichterauf
lösungen wird eine separate Testreihe durchgeführt, bei der das verwendete Ma
terial nacheinander einem Filtertest und einem Lichttest unterzogen wird, um
durch die Auswertung der entwickelten Testmuster zu überprüfen, ob sich mit der
gewählten Belichtereinstellung optimale Ergebnisse erzielen lassen. Zusätzlich
wird für jedes Material ein Fokustest durchgeführt, um die Fokuseinstellung des
Belichters im Hinblick auf das verwendete Material zu überprüfen.
Die Durchführung dieser Testbelichtungen erfordert jedoch einen verhältnismäßig
großen Zeit- und Arbeitsaufwand. So beträgt der erforderliche Zeitaufwand bei fünf
möglichen Belichterauflösungen und einer durchschnittlichen Dauer von 10 Minu
ten pro Test nahezu 2 Stunden, um die elf erforderlichen Tests (5 Filtertests, 5
Lichttests und 1 Fokustest) durchzuführen. Bei Verwendung von zwei verschiede
nen Materialien, zum Beispiel Film und Offsetfolie, sind bereits 22 Tests und damit
der doppelte Zeitaufwand erforderlich.
Wenn das Ergebnis der Testbelichtungen nicht den Erwartungen entspricht, müs
sen die Testbelichtungen nach einer Veränderung eines Teils der Belichterein
stellungen erneut durchgeführt werden.
Veränderungen in der Prozesskette Belichter - Material - Entwicklungsautomat,
wie beispielsweise chargenabhängige Veränderungen des fotoempfindlichen Ma
terials oder durch Alterung von Entwicklerchemikalien bedingte Veränderungen
können ebenfalls eine Wiederholung der Testbelichtungen erforderlich machen.
Die Durchführung der Testbelichtungen erfolgt gewöhnlich nach den Anweisungen
des Herstellers des jeweils verwendeten fotoempfindlichen Materials, der vor einer
Markteinführung die standardmäßig am besten geeigneten Belichtereinstellungen
ermittelt und diese dem Kunden unter Nennung der jeweiligen Herstellerkennung
mitteilt. Die von verschiedenen Herstellern verwendeten Herstellerkennungen sind
jedoch von unterschiedlicher Art und enthalten keine Angaben über materialspezi
fische Eigenschaften, wie Materialdicke oder Materialempfindlichkeit, die es dem
Kunden gestatten würden, daraus auf seinen Eigenbedarf zugeschnittene Belich
tungsparameter abzuleiten.
Ausgehend hiervon liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, bei einem Verfahren
der eingangs genannten Art den Zeit- und Arbeitsaufwand für die Ermittlung der
richtigen Belichtereinstellung zu verringern.
Diese Aufgabe wird gemäß einem ersten Aspekt der Erfindung dadurch gelöst,
dass mindestens ein Teil der Belichtungsparameter vor der Einstellung auf der
Grundlage von belichterunabhängigen Kenndaten, umfassend Materialdicke, Ma
terialempfindlichkeit, materialspezifische Testmuster und/oder materialspezifische
Auswertungskriterien des zu belichtenden fotoempfindlichen Materials berechnet
wird.
Diesem Aspekt der Erfindung liegt der Gedanke zugrunde, die Anweisung zur
Durchführung der Testbelichtungen durch belichterunabhängige materialspezifi
sche Kenndaten zu ersetzen, die sich als Grundlage zur Berechnung von geeig
neten Belichtungsparametern sowie zur Automatisierung eines Belichtungsvor
gangs und insbesondere von Testbelichtungen durch eine entsprechende auto
matische Steuerung des Laserbelichters auf der Grundlage der berechneten Be
lichtungsparameter eignen.
Als belichterunabhängige Kenndaten werden materialspezifische Daten wie Mate
rialdicke, Materialempfindlichkeit, materialspezifische Testmuster und/oder materi
alspezifische Auswertungskriterien bezeichnet, die sich ohne Bezug auf einen be
stimmten Laserbelichter angeben lassen, wobei diese Kenndaten allerdings auch
Daten, wie eine Belichterauflösung umfassen können, wenn sich diese material
spezifische Belichterauflösung für beliebige Laserbelichter eignet.
Aus den belichterunabhängigen Kenndaten werden dann in einem bestimmten La
serbelichter oder in einem daran angeschlossenen Computer die belichterspezifi
schen Belichtungsparameter berechnet, wobei in die Berechnung neben den be
lichterunabhängigen Kenndaten belichterspezifische Kenndaten, wie beispielswei
se Laserdiodenstrom, Laserdiodenleistung, Filter oder Blende einfließen.
Die belichterunabhängigen Kenndaten sind vorzugsweise auf einem Datenträger,
wie beispielsweise einer CD-ROM oder Diskette gespeichert, der vom Laserbe
lichter oder einem mit dem Laserbelichter verbundenen Rechner ausgelesen wer
den kann, oder können vom Kunden direkt über Datenleitungen abgerufen wer
den, wie beispielsweise über das Internet von einer Homepage des Herstellers
des Belichter oder des fotoempfindlichen Materials. Die Gesamtheit der belichte
runabhängigen Kenndaten eines zu belichtenden Materials wird im folgenden in
Anlehnung an entsprechende Bezeichnungen auf dem Computersektor als Mate
rialtreiber bezeichnet.
Um eine schnelle Verarbeitung der Kenndaten zu ermöglichen, sieht eine bevor
zugte Ausgestaltung der Erfindung vor, dass vor der Belichtung eines fotoempfind
lichen Materials von einem in den Laserbelichter integrierten Prozessor oder ei
nem Prozessor eines an den Laserbelichter angeschlossenen Computers aus
dessen Materialtreiber unter Verwendung vorgegebener Algorithmen geeignete
Belichtungsparameter, wie Laserleistung, Fokuseinstellung, Abtastgeschwindigkeit
und/oder Vorschubgeschwindigkeit berechnet werden, wobei der Algorithmus zur
Berechnung der Laserleistung als Variable zumindest die Materialempfindlichkeit,
ausgedrückt als Energiedichte, und vorzugsweise weiter eine für das Material ge
eignete Belichterauflösung und eine von der Belichterauflösung abhängige Ab
tastgeschwindigkeit enthält, während der Algorithmus zur Berechnung der Fo
kuseinstellung als Variable zumindest die Materialdicke enthält.
Vorzugsweise wird bei der Berechnung der Fokuseinstellung von einem Refe
renzfokuspunkt ausgegangen, der zuvor bei einer definierten Temperatur für ein
Referenzmaterial mit einer definierten Materialdicke ermittelt worden ist, wobei der
Algorithmus zur Berechnung der Fokuseinstellung als Variable die Differenz zwi
schen der Materialdicke des zu belichtenden fotoempfindlichen Materials und der
definierten Materialdicke sowie eine ggf. vorhandene Differenz zwischen der defi
nierten Temperatur und einer bei der Belichtung herrschenden Temperatur ent
hält.
Um bei einem Wechsel zwischen verschiedenen fotoempfindlichen Materialien ei
nen schnellen Zugriff auf die Materialtreiber zu ermöglichen, sieht eine weitere be
vorzugte Ausgestaltung der Erfindung vor, dass eine Mehrzahl von Materialtrei
bern als Datenbank in einem internen Speicher des Laserbelichters oder in einem
Speicher eines daran angeschlossenen Computers gespeichert ist, von wo ein
benötigter Materialtreiber mittels eines Dienst- oder Verwaltungsprogramms abge
rufen wird, das nachfolgend in Anlehnung an eine entsprechende Bezeichnung auf
dem Computersektor als Materialmanagers bezeichnet wird. Um den Abruf der
Materialtreiber zu vereinfachen, ist vorzugsweise jedes der Mehrzahl von fo
toempfindlichen Materialien in der Datenbank mit einer Adresse versehen, auf die
durch Eingabe eines Herstellercodes und eines Materialcodes zugegriffen wird,
wodurch Verwechslungen zwischen ähnlichen Materialcodes unterschiedlicher
Hersteller vermieden werden können. Die Eingabe des Hersteller- und Mate
rialcodes kann zum Beispiel an einem Bedienfeld des Belichters, mittels einer Ta
statur oder eines Mauszeigers auf einer Bildschirmoberfläche des Computers oder
mittels eines Barcode-Lesegerätes erfolgen, mit dem zwecks Vermeidung von
Verwechslungen auf dem fotoempfindlichen Material selbst angebrachte Barcodes
gelesen werden.
Für fotoempfindliche Materialien mit unbekannten Kenndaten lassen sich die ein
zustellenden Belichtungsparameter durch Belichtungstests ermitteln, deren Anzahl
reduziert werden kann, wenn gemäß einer weiteren bevorzugten Ausgestaltung
oder einem zweiten Aspekt der Erfindung die notwendige Laserleistung ermittelt
wird, indem das fotoempfindliche Material im Verlaufe eines einzigen Belichtungs
tests nacheinander bei einer Mehrzahl von Laserleistungsstufen des Belichters
belichtet wird, wobei die Zunahme der Laserleistung zwischen zwei benachbarten
Laserleistungsstufen auf einer logarithmischen Leistungsskala konstant ist, und
indem das belichtete Material im Anschluss an den Belichtungstest entwickelt und
ausgewertet wird.
Weiter kann bei einer Mehrzahl von möglichen Belichterauflösungen die Anzahl
der Testbelichtungen auf eine verringert werden, wenn der Laserbelichter gemäß
einer weiteren bevorzugten Ausgestaltung der Erfindung während der Initialisie
rungsphase über den gesamten Bereich seiner möglichen Einstellungen vermes
sen wird, die Laserleistung für eine erste Belichterauflösung entsprechend den
Herstellerangaben oder nach Erfahrung ausgewählt und die Laserleistungen für
die weiteren Belichterauflösungen darauf aufbauend unter Berücksichtigung der
bei der Vermessung erhaltenen Ergebnisse mathematisch berechnet und einge
stellt werden.
Da der Prozess der Belichtung des fotoempfindlichen Materials Veränderungen
unterliegen kann, zum Beispiel durch Abnahme der Laserleistung des Laserbe
lichters, sieht eine weitere bevorzugte Ausgestaltung oder ein dritter Aspekt der
Erfindung vor, das belichtete fotoempfindliche Material zu entwickeln, um ein
Testmuster zu erstellen, das Testmuster anschließend auszuwerten, und in Ab
hängigkeit vom Ergebnis der Auswertung ggf. einen Teil oder sämtliche der Be
lichtungsparameter automatisch zu verändern. Vorzugsweise erfolgt die Auswer
tung mittels eines Messgerätes, beispielsweise mittels eines Densitometers, das
die Differenz zwischen einem tatsächlichen Istwert der optischen Dichte des er
zeugten Testmusters und einem vorgegebenen Sollwert misst. Aus der gemesse
nen Differenz wird anschließend ein Korrekturwert berechnet, der ebenfalls als Va
riable in einen oder mehrere der zur Berechnung der Belichtungsparameter ver
wendeten Algorithmen eingeht.
Zweckmäßigerweise wird einer der Belichtungsparameter als Führungswert aus
gewählt, beispielsweise der Wert der Energiedichte im Entwickler, bei dessen Be
rechnung der bei der Auswertung des Testmusters ermittelte Korrekturwert als Va
riable eingeht, während die anderen Belichtungsparameter bei einer Veränderung
des Führungswertes entsprechend einer vorgegebenen Beziehung verändert wer
den.
Da auch durch Einflüsse innerhalb des Entwicklungsprozesses Veränderungen
hervorgerufen werden können, beispielsweise durch Alterung von Entwicklerche
mikalien in einem dem Belichter nachgeschalteten Entwicklungsautomaten, und da
sich diese Einflüsse nicht notwendigerweise durch eine Korrektur der Belichtungs
parameter im Belichter kompensieren lassen, sieht eine weitere vorteilhafte Aus
gestaltung der Erfindung vor, den bei der Auswertung des Testmusters ermittelten
Korrekturwert alternativ oder zusätzlich zur Regelung des Entwicklungsprozesses
im Entwicklungsautomaten heranzuziehen.
Im folgenden wird die Erfindung anhand eines in der Zeichnung dargestellten
Ausführungsbeispiels näher erläutert. Es zeigen:
Fig. 1 eine schematische Geräteübersicht zur Veranschaulichung des erfindungs
gemäßen Verfahrens;
Fig. 2 ein Blockdiagramm zur Veranschaulichung des Zusammenwirkens der ein
zelnen Geräte bei der Belichtung und Entwicklung eines fotoempfindlichen Materi
als.
Die in Fig. 1 dargestellten Geräte zur Belichtung und Entwicklung von fotoempfind
lichem Material (1), wie beispielsweise Offsetfolie oder Film, bestehen im Wesent
lichen aus einem Laserbelichter (2), beispielsweise einem von der Anmelderin
unter der Bezeichnung Herkules vertriebenen Innentrommelbelichter, einem daran
angeschlossenen PC (3) oder einer Workstation zur Steuerung des Laserbelich
ters (2), einem Filmentwicklungsautomat (4), in dem das im Laserbelichter (2) be
lichtete Material (1) entwickelt wird, sowie einem Messgerät (5) zum Auswerten ei
nes mitbelichteten und mitentwickelten Testmusters (6) auf einem Rand des fo
toempfindlichen Materials (1).
Der PC (3) umfasst eine Tastatur (7), eine Maus (nicht dargestellt), ein CD-ROM
Laufwerk (8) und einen Anschluss an eine Datenleitung (9) zur Übermittlung von
Informationen aus externen Datenbanken, zum Beispiel über das Internet, und ist
ggf. an einer weiteren Schnittstelle mit einem Bar-Code-Lesegerät (10) (Fig. 1)
zum Ablesen von Bar-Codes (11) auf dem fotoempfindlichen Material (1) verbun
den.
Das Messgerät (5) ist im vorliegenden Ausführungsbeispiel ein Densitometer zur
Messung der optischen Dichte und/oder eines Rastertonwertes des jeweiligen
Testmusters (6) sowie zur Durchführung von vergleichenden Dichtemessungen,
und vorzugsweise ein SIMPLE-Densitometer, mit dem die Differenz zwischen ei
nem Sollwert und dem tatsächlichen Istwert der optischen Dichte des jeweiligen
Testmusters (6) gemessen wird.
Der Laserbelichter (2), der PC (3), der Entwicklungsautomat (4) und das Densito
meter (5) entsprechen ansonsten im Aufbau herkömmlichen Geräten der jeweili
gen Art, die auf dem Fachgebiet bekannt und gebräuchlich sind, und sollen daher
hier nicht näher beschrieben werden. An Stelle eines mit dem Laserbelichter (2)
verbundenen PCs (3) können auch in den Laserbelichter (2) integrierte Hardware-
Komponenten verwendet werden, die zusätzlich in diesen eingebaut werden oder
bereits vorhanden sind und mitgenutzt werden, wie beispielsweise ein RIP-
Prozessor des Belichters (2) an Stelle eines Prozessors (12) (Fig. 2) des PCs (3).
Wie am besten in Fig. 2 dargestellt, umfasst die Software (13) des PCs (3) ein
nachfolgend als Materialmanager (14) bezeichnetes Dienst- oder Verwaltungspro
gramm, das mittels der Tastatur (7) oder des Mauszeigers oder einer Bedienbox
(15) auf dem Laserbelichter (2) aufrufbar ist. Der Materialmanager (14) dient zur
Verwaltung einer Reihe von nachfolgend als Materialtreiber (16) bezeichneten in
ternen Datenbanken in einem Speicher (17) des PCs (3), die jeweils eine Reihe
von belichterneutralen oder belichterunabhängigen Kenndaten für jedes auf dem
Belichter (2) zu belichtende fotoempfindliche Material (1) umfassen.
Diese Materialtreiber (16), die zum Beispiel vom Hersteller des Belichters (2) oder
vom Hersteller des fotoempfindlichen Materials (1) bereitgestellt werden, umfas
sen als belichterneutrale Kenndaten u. a. die Dicke des fotoempfindlichen Materials
(1) in µm, die Länge des fotoempfindlichen Materials (1) in m, die Materialpolarität
(positiv/negativ), die Materialempfindlichkeit als Energiedichte in mJ/m2, ein für das
jeweilige Material (1) besonders gut geeignetes Testmuster (6) in Post Script oder
als Kennzahl, sowie ein materialspezifisches Auswertekriterium als Wert oder als
Kennzahl. Die Bereitstellung der Materialtreiber (16) erfolgt zum Beispiel auf einer
CD-ROM zum Versand an den Benutzer und zum Auslesen über das CD-ROM-
Laufwerk (8) des PCs (3) oder auf einer Internet-Homepage zum Herabladen der
Dateien über die Datenleitung (9).
Bei einer Eingabe einer vom Benutzer gewünschten Belichterauflösung, eines
Herstellercodes, zum Beispiel einem Namenskürzel des Herstellers des gerade zu
belichtenden Materials (1), sowie eines Materialcodes, zum Beispiel einem Materi
alkürzel, an der Tastatur (7), durch Anklicken mit dem Mauszeiger auf einer Bild
schirmoberfläche eines Monitors (16) des PCs (3) oder durch Auslesen eines Bar-
Codes (11) auf dem Material (1) oder seiner Verpackung mittels des Bar-Code-
Lesegeräts (10) wird über den Prozessor (12) der entsprechende Materialtreiber
(16) als Datenbank vom Materialmanager (14) aus dem Speicher (17) abgerufen
und an den Laserbelichter (2) übermittelt, wo die Kenndaten in einem Speicher
(19) des Belichters (2) gespeichert werden.
Anschließend werden die Daten aus dem Zwischenspeicher im RIP (20) oder in
einem anderen Prozessor des Belichters (2) bearbeitet und durch entsprechende
Algorithmen mit belichterinternen oder belichterabhängigen Kenndaten, beispiels
weise Kenndaten für den eingestellten Laserdiodenstrom in A, verwendete Filter
oder Blenden verknüpft, um daraus die Belichtungsparameter für die anschließen
de Belichtung des fotoempfindlichen Materials (1) zu berechnen, insbesondere die
Laserleistung in W, der Laserpunktdurchmesser in µm, die Fokusposition oder Fo
kuseinstellung in µm, die Vorschubgeschwindigkeit in m/s und die Scan- oder Ab
tastgeschwindigkeit in m/s.
Die Kenndaten der Materialtreiber (16) und die ebenfalls im Speicher (19) des Be
lichters (2) gespeicherten belichterinternen Kenndaten sind derart gewählt, dass
diese Daten vom Prozessor (20) unmittelbar als Variablen in einen entsprechen
den Algorithmus eingesetzt werden können, aus dem dann einer der gewünschten
Belichtungsparameter errechnet wird. Vorzugsweise werden für die Materialtreiber
(16) und die belichterinternen Kenndaten übereinstimmende Einheitensysteme
gewählt, um eine Umrechnung zu vermeiden. Beispielsweise sind sämtliche Daten
im SI-System angegeben.
Als Beispiel lautet der Algorithmus für die Laserleistung P in W oder J/s wie folgt:
P = (Ev × v)/A (1)
wobei Ev die Materialempfindlichkeit des fotoempfindlichen Materials als Energie
dichte in 10-3 J/m2, A die eingegebene Auflösung umgerechnet aus Pixel/cm in 1/m
und v die Abtast- oder Scangeschwindigkeit in m/s ist.
Die Abtast- oder Scangeschwindigkeit v wird zum Beispiel bei einem Hohlbettbe
lichter nach folgendem Algorithmus berechnet:
v = 2 π × a × n (2)
wobei a der Abstand vom Drehspiegel zum fotoempfindlichen Material in m und n
die Drehzahl des Drehspiegels in 1/s ist.
Für ein Material (1) mit unbekannter Materialempfindlichkeit kann die tatsächlich
erforderliche Laserleistung durch einen einzigen Belichtungstest ermittelt werden,
bei dem das Material (1) im Belichter (2) nacheinander mit verschiedenen Laser
leistungen belichtet wird, wobei ein bestimmtes Testmuster (6) für jede Belichtung
vorgegeben wird. Zwischen zwei benachbarten oder aufeinanderfolgenden Be
lichtungen wird die Laserleistung so verändert, dass das Maß der Veränderung,
d. h. die Differenz zwischen zwei benachbarten Leistungsstufen, auf einer log
arithmischen Leistungsskala konstant bleibt. Das heißt, bei niedrigen Laserleistun
gen ist die Zunahme der Laserleistung zwischen zwei Belichtungseinstellungen
gering und nimmt mit zunehmender Laserleistung exponentiell zu.
Nach der Belichtung wird das Material (1) im Entwickler (4) entwickelt und die bei
der Belichtung erzeugten Testmuster (6) mit dem Densitometer (5) ausgewertet,
um aus den bei der Belichtung erzeugten Testmustern (6) dasjenige zu ermitteln,
bei dem die Differenzen zwischen den Istwerten der optischen Dichte des Testmu
sters (6) und entsprechenden gespeicherten Sollwerten am geringsten sind. Die
zugehörigen Belichtungsparameter für das ermittelte Testmuster (6) werden an
schließend ähnlich wie die Materialtreiber (16) im Speicher (17) gespeichert, um
sie bei Bedarf, d. h. bei einer erneuten Belichtung desselben Materials (1) im Be
lichter (2) wieder abzurufen.
Zur Berechnung der Fokuseinstellung beinhaltet der Belichter (2) einen soge
nannten Referenzfokuspunkt, der werksseitig mit einem Referenzmaterial vorge
gebener Dicke für dieses Material ermittelt wird. Bei Verwendung eines anderen
Materials wird vom Prozessor (20) die Differenz zwischen der Dicke des Refe
renzmaterials und der im Materialtreiber (16) enthaltenen Dicke des verwendeten
Materials (1) ermittelt und in Abhängigkeit von dieser Differenz eine entsprechen
de Änderung der Fokuseinstellung vorgenommen. In entsprechender Weise kön
nen Verschiebungen der Fokusposition bei höheren oder niedrigen Temperaturen
berechnet und ausgeglichen werden, indem die Differenz zu einer Referenztempe
ratur ermittelt und die Ausdehnung bzw. Kontraktion des Materials infolge dieser
Temperaturdifferenz berechnet wird, bevor die berechnete Ausdehnung bzw.
Kontraktion dann durch Veränderung des Fokuspunktes kompensiert wird.
Da eine gleichbleibende Qualität des belichteten und entwickelten fotoempfindli
chen Materials (1) eine ausreichende Stabilität der Prozessparameter über den
gesamten Belichtungs- und Entwicklungsprozess voraussetzt, die aus verschiede
nen Gründen nicht immer gewährleistet ist, wird das Material (1) nicht nur bei den
Belichtungstests für unbekannte Materialien sondern vorzugsweise bei jedem Be
lichtungsvorgang mit einem Testmuster versehen, das nach der Belichtung und
Entwicklung des Materials ausgewertet wird. Das Testmuster liegt wie das darge
stellte Testmuster (6) vorzugsweise außerhalb des Satzspiegels in der Nähe von
einem der Ränder des Materials (1). Das jeweils verwendete Testmuster (6) ist
materialabhängig und stammt aus dem Materialtreiber (16), von wo es mit Hilfe
des Materialmanagers (14) ausgelesen wird, bevor das fotoempfindliche Material
(1) im Belichter (2) automatisch mit dem ausgelesenen Testmuster (6) belichtet
wird. Das Testmuster (6) kann eine Vielzahl verschiedener Formen annehmen und
zum Beispiel drei verschiedene Teilbereiche umfassen, von denen einer zur Kon
trolle der optischen Dichte eine 100%-ige Schwärzung aufweist, einer zur Kon
trolle des Rastertonwerts eine 50%-ige Rasterfläche aufweist und für vergleichen
de Dichtemessungen mit diversen Raster-/Strich- und Punktmustern sowie Kombi
nationen derartiger Muster versehen ist.
Nach seiner Belichtung durchläuft das fotoempfindliche Material (1) zuerst den
Entwicklungsautomaten (4), in dem es mit Hilfe von Entwicklerchemikalien entwic
kelt wird, und anschließend das Densitometer (5), in dem die Testmuster (6) bei
stehendem oder bewegtem Material (1) mit einem entsprechenden Referenztest
muster verglichen werden, um eventuell vorhandene Differenzen zwischen den
jeweiligen Istwerten der optischen Dichte des Testmusters (6) und vorgegebenen
Sollwerten der optischen Dichte des Referenztestmusters zu ermitteln.
Das Ergebnis des Vergleichs wird vom Densitometer (5) an den PC (3) übermittelt
und im Speicher (17) abgelegt, von wo es in regelmäßigen Zeitintervallen ausge
lesen und vom Prozessor (12) ausgewertet wird. Bei der Auswertung können Art,
Ort und Größe der Differenz zwischen Soll- und Istwert sowie ggf. eine zeitliche
Veränderung dieser Differenz mit entsprechenden gespeicherten Differenzwerten
verglichen werden, deren Ursache bekannt ist oder die werksseitig bei einer Kali
brierung des Belichters (2) durch eine gezielte Veränderung von Belichtungspara
metern herbeigeführt worden sind. Aus der Art, dem Ort und der Größe der Diffe
renzen sowie ggf. deren zeitlicher Veränderung können anschließend Rückschlüs
se auf die Ursache der Differenzen gezogen und diese dann durch entsprechende
Gegenmaßnahmen beseitigt werden. Alternativ kann jeder Materialtreiber (16) ei
ne zuvor ermittelte Gradations- oder Schwärzungskurve für das zugehörige Mate
rial (1) enthalten, die vom Materialmanager (14) zum Prozessor (12) zugeführt und
dort mit einer bei der Auswertung des Testmusters (6) ermittelten Gradations- und
Schwärzungskurve verglichen wird. Dadurch lassen sich ebenfalls vorhandene
Differenzen oder Abweichungen ermitteln, die dann durch entsprechende Gegen
maßnahmen beseitigt werden können.
Die Gegenmaßnahmen zur Beseitigung der Differenzen oder Abweichungen be
stehen zweckmäßig darin, einen entsprechenden Führungswert des Belichters (2),
zum Beispiel dessen Energiedichte, in einer Weise zu verändern, die den aufge
tretenen Differenzen entgegenwirkt. Das heißt, wenn die optische Dichte des
Testmusters durchweg kleiner als die optische Dichte des Referenztestmusters ist,
wird bei einem Material mit positiver Materialpolarität, das bei der Belichtung ge
schwärzt wird, die Laserleistung vergrößert, um die Schwärzung zu verstärken.
Ggf. können neben dem Führungswert weitere Parameter verändert werden, wenn
dies erforderlich ist, wobei diese Veränderung proportional zu Veränderung des
Führungswertes oder unabhängig von diesem erfolgen kann.
Da die Qualität des belichteten und entwickelten Materials (1) nicht nur durch die
Belichtungsparameter sondern auch durch die Prozessparameter des Entwick
lungsautomaten (4) beeinflusst werden, zum Beispiel durch eine Qualitätseinbu
ßen verursachende Alterung von Entwicklerchemikalien, ist es zweckmäßig, bei
Feststellung gewisser, durch die Entwicklung verursachter Abweichungen oder
Veränderungen der Testmuster (6) nicht die Belichtungsparameter zu verändern,
sondern für eine entsprechende Veränderung der Prozessparameter des Ent
wicklungsautomaten (4) zu sorgen. Im einfachsten Fall kann dies zum Beispiel ei
ne Erneuerung der Entwicklerchemikalien im Entwicklungsautomaten (4) sein, die
vorzugsweise ebenfalls prozessorgesteuert in Abhängigkeit vom Ergebnis der
Testmusterauswertung erfolgt.
Claims (18)
1. Verfahren zur Einstellung veränderlicher Belichtungsparameter eines Laserbe
lichters, umfassend Laserleistung, Fokuseinstellung, Abtastgeschwindigkeit
und/oder Vorschubgeschwindigkeit bei der Belichtung eines fotoempfindlichen
Materials, insbesondere bei Belichtungstests, dadurch gekennzeichnet, dass
mindestens ein Teil der Belichtungsparameter vor der Einstellung auf der
Grundlage von belichterunabhängigen Kenndaten, umfassend Materialdicke,
Materialempfindlichkeit, materialspezifische Testmuster und/oder materialspe
zifische Auswertungskriterien des zu belichtenden fotoempfindlichen Materials
berechnet wird, und dass die berechneten Belichtungsparameter anschließend
automatisch eingestellt werden.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Belichtungs
parameter von einem in den Laserbelichter (2) integrierten oder mit diesem
verbundenen Prozessor (12 bzw. 20) auf der Grundlage vorgegebener Algo
rithmen berechnet werden.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass ein Algorithmus
zur Berechnung der Abtastgeschwindigkeit und/oder der Vorschubgeschwin
digkeit als Variable eine einzugebende materialspezifische Belichterauflösung
enthält.
4. Verfahren nach Anspruch 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, dass ein Algo
rithmus zur Berechnung der Laserleistung als Variable eine in Form einer
Energiedichte ausgedrückte Materialempfindlichkeit enthält.
5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass der Algorithmus
zur Berechnung der Laserleistung als Variable weiter eine spezifische oder
eingegebene Belichterauflösung und eine Abtastgeschwindigkeit enthält.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 2 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass
ein Algorithmus zur Berechnung der Fokuseinstellung als Variable zumindest
die Materialdicke enthält.
7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass bei der Berech
nung der Fokuseinstellung von einem zuvor für ein Referenzmaterial mit einer
definierten Materialdicke ermittelten Referenzfokuspunkt ausgegangen wird,
und dass der Algorithmus zur Berechnung der Fokuseinstellung als Variable
eine Differenz zwischen der definierten Materialdicke und der Materialdicke
des zu belichtenden fotoempfindlichen Materials enthält.
8. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass der Referenzfo
kuspunkt bei einer definierten Temperatur ermittelt wird, und dass der Algo
rithmus zur Berechnung der Fokuseinstellung als Variable eine Differenz zwi
schen der definierten Temperatur und einer bei der Belichtung herrschenden
Temperatur enthält.
9. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass
aus Datenbanken (16) mit den belichterunabhängigen Kenndaten einer Mehr
zahl von fotoempfindlichen Materialien (1) die Kenndaten des jeweils zu be
lichtenden fotoempfindlichen Materials (1) ausgewählt werden.
10. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass jedes der Mehr
zahl von fotoempfindlichen Materialien (1) in der Datenbank (16) mit einer
Kennzeichnung versehen ist.
11. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass die Kennzeich
nung einen Herstellercode und einen Materialcode umfasst.
12. Verfahren nach einem der Ansprüche 9 bis 11, dadurch gekennzeichnet,
dass die Datenbank (16) mit den belichterunabhängigen Kenndaten in einem
Speicher (17 bzw. 19) des Belichters (2) oder eines damit verbundenen Com
puters (3) gespeichert wird, und dass bei Eingabe von einer der Kennzeich
nungen die zugehörigen Kenndaten ausgelesen und zur Berechnung der Be
lichtungsparameter an den Prozessor (12 bzw. 20) übermittelt werden.
13. Verfahren zur Einstellung veränderlicher Belichtungsparameter eines Laserbe
lichters, umfassend Laserleistung, Fokuseinstellung, Abtastgeschwindigkeit
und/oder Vorschubgeschwindigkeit bei der Belichtung eines fotoempfindlichen
Materials, insbesondere nach einem der Ansprüche 1 bis 12, dadurch ge
kennzeichnet, dass das fotoempfindliche Material mit einem materialspezifi
schen Testmuster (6) belichtet wird, das bei einer nachfolgenden Entwicklung
des Materials (1) in einem Entwickler (4) mitentwickelt wird, dass das mitent
wickelte Testmuster (6) anschließend ausgewertet wird, und dass in Abhän
gigkeit vom Ergebnis der Auswertung ein Teil der Belichtungsparameter
und/oder Prozessparameter des Entwicklers (4) automatisch verändert wer
den.
14. Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, dass einer der Be
lichtungsparameter als Führungswert ausgewählt wird, und dass bei einer
Veränderung des Führungswertes andere Belichtungsparameter mit verändert
werden.
15. Verfahren nach Anspruch 13 oder 14, dadurch gekennzeichnet, dass das
Testmuster (6) in einem Densitometer ausgewertet wird.
16. Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekenn
zeichnet, dass die einzustellenden Belichtungsparameter für ein fotoempfind
liches Material (1) mit unbekannten Kenndaten durch Belichtungstests ermittelt
werden.
17. Verfahren nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, dass der Laserbe
lichter (4) während seiner Initialisierung über den gesamten Bereich der mögli
chen Einstellungen vermessen wird, dass die Laserleistung für eine erste Be
lichterauflösung entsprechend den Herstellerangaben oder nach Erfahrung
ausgewählt wird, und dass die Laserleistungen für die weiteren Belichterauflö
sungen darauf aufbauend unter Berücksichtigung der bei der Vermessung er
haltenen Ergebnisse mathematisch berechnet und eingestellt werden.
18. Verfahren zur Einstellung veränderlicher Belichtungsparameter eines Laserbe
lichters, umfassend Laserleistung, Fokuseinstellung, Abtastgeschwindigkeit
und/oder Vorschubgeschwindigkeit, bei der Belichtung eines fotoempfindlichen
Materials, insbesondere nach einem der Ansprüche 1 bis 17, dadurch ge
kennzeichnet, dass das fotoempfindliche Material (1) zur Ermittlung der La
serleistung im Verlaufe eines einzigen Belichtungstests nacheinander bei einer
Mehrzahl von Laserleistungsstufen des Belichters (4) belichtet wird, wobei die
Zunahme der Laserleistung zwischen zwei benachbarten Laserleistungsstufen
auf einer logarithmischen Leistungsskala konstant ist, und dass das belichtete
Material (1) im Anschluss an den Belichtungstest entwickelt und ausgewertet
wird, um die am besten geeignete Laserleistungsstufe zu bestimmen.
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| DE10023662A DE10023662B4 (de) | 2000-05-13 | 2000-05-13 | Verfahren zur Einstellung von Belichtungsparametern eines Laserbelichters |
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102005045288A1 (de) * | 2005-09-22 | 2007-03-29 | Heidelberger Druckmaschinen Ag | Verfahren zur Steuerung eines Bebilderungsvorganges und Belichtungsgerät für die Bebilderung einer Druckform |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7212226B2 (en) * | 2003-03-25 | 2007-05-01 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Image density control apparatus and image formation apparatus |
| CN114132048A (zh) * | 2021-12-13 | 2022-03-04 | 深圳市先地图像科技有限公司 | 一种利用激光直接成像设备曝光网版的方法及相关设备 |
| CN114265286A (zh) * | 2021-12-29 | 2022-04-01 | 深圳市先地图像科技有限公司 | 一种网版曝光方法、装置、存储介质及相关设备 |
Citations (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3738242A (en) * | 1971-06-11 | 1973-06-12 | B Lee | Adaptive illumination source intensity control device |
| JPS59216165A (ja) * | 1983-05-25 | 1984-12-06 | Canon Inc | 光プリンタの露光量制御装置 |
| US4563694A (en) * | 1983-02-10 | 1986-01-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Image information recording apparatus |
| US4782365A (en) * | 1985-11-05 | 1988-11-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photographic printing apparatus and paper magazine for use therewith |
| JPS63286810A (ja) * | 1987-05-20 | 1988-11-24 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | 基板露光装置 |
| US4907021A (en) * | 1985-08-05 | 1990-03-06 | Canon Kabushiki Kaisha | Projection exposure apparatus |
| US5227840A (en) * | 1991-06-03 | 1993-07-13 | Eastman Kodak Company | Automated photographic contact printing system |
| US5748225A (en) * | 1995-03-31 | 1998-05-05 | Agfa Division, Bayer Corporation | Condition sensitive method and apparatus for imaging a lithographic printing plate |
| JPH1158817A (ja) * | 1997-05-26 | 1999-03-02 | Ricoh Co Ltd | 画像形成装置 |
| DE19746331A1 (de) * | 1997-10-21 | 1999-04-29 | Gerhard Theimer | Verfahren und Gerät zur Vorbestimmung druckformabhängig optimal an Kopiergeräten einzustellender Belichtungswerte bei der Druckformenbelichtung |
| DE19825828A1 (de) * | 1998-06-10 | 1999-12-16 | Agfa Gevaert Ag | Kontrollelement für ein strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial und Verfahren zum Bestimmen der Belichtungsenergie für ein strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial mittels eines Kontrollelements |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02266757A (ja) * | 1989-04-07 | 1990-10-31 | Minolta Camera Co Ltd | レーザービームプリンタ用露光方法 |
| US5212569A (en) * | 1989-06-29 | 1993-05-18 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Light beam scanning apparatus capable of changing the scanning density |
| US5212562A (en) * | 1989-07-25 | 1993-05-18 | Canon Kabushiki Kaisha | Image signal reproducing apparatus having memory function |
| AU661205B2 (en) * | 1992-11-25 | 1995-07-13 | Eastman Kodak Company | Multi-user digital laser imaging system |
| US5663554A (en) * | 1995-01-17 | 1997-09-02 | Agfa Division, Bayer Corporation | Weak lens focus adjusting mechanism based upon thickness of scanned material and imagesetter using same |
| JPH08305213A (ja) * | 1995-04-28 | 1996-11-22 | Canon Inc | 画像形成装置 |
| EP0744652A1 (de) * | 1995-05-20 | 1996-11-27 | Agfa-Gevaert N.V. | Bildaufzeichnungsvorrichtung mit Bildbildendem Gerät und vertikalem Behandlungsgerät |
-
2000
- 2000-05-13 DE DE10023662A patent/DE10023662B4/de not_active Expired - Fee Related
-
2001
- 2001-05-09 WO PCT/DE2001/001754 patent/WO2001089198A1/de not_active Ceased
-
2002
- 2002-11-05 US US10/288,214 patent/US6737628B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3738242A (en) * | 1971-06-11 | 1973-06-12 | B Lee | Adaptive illumination source intensity control device |
| US4563694A (en) * | 1983-02-10 | 1986-01-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Image information recording apparatus |
| JPS59216165A (ja) * | 1983-05-25 | 1984-12-06 | Canon Inc | 光プリンタの露光量制御装置 |
| US4907021A (en) * | 1985-08-05 | 1990-03-06 | Canon Kabushiki Kaisha | Projection exposure apparatus |
| US4782365A (en) * | 1985-11-05 | 1988-11-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photographic printing apparatus and paper magazine for use therewith |
| JPS63286810A (ja) * | 1987-05-20 | 1988-11-24 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | 基板露光装置 |
| US5227840A (en) * | 1991-06-03 | 1993-07-13 | Eastman Kodak Company | Automated photographic contact printing system |
| US5748225A (en) * | 1995-03-31 | 1998-05-05 | Agfa Division, Bayer Corporation | Condition sensitive method and apparatus for imaging a lithographic printing plate |
| JPH1158817A (ja) * | 1997-05-26 | 1999-03-02 | Ricoh Co Ltd | 画像形成装置 |
| DE19746331A1 (de) * | 1997-10-21 | 1999-04-29 | Gerhard Theimer | Verfahren und Gerät zur Vorbestimmung druckformabhängig optimal an Kopiergeräten einzustellender Belichtungswerte bei der Druckformenbelichtung |
| DE19825828A1 (de) * | 1998-06-10 | 1999-12-16 | Agfa Gevaert Ag | Kontrollelement für ein strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial und Verfahren zum Bestimmen der Belichtungsenergie für ein strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial mittels eines Kontrollelements |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| JP 63286810 A In: Patent Abstracts of Japan * |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102005045288A1 (de) * | 2005-09-22 | 2007-03-29 | Heidelberger Druckmaschinen Ag | Verfahren zur Steuerung eines Bebilderungsvorganges und Belichtungsgerät für die Bebilderung einer Druckform |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6737628B2 (en) | 2004-05-18 |
| US20030052251A1 (en) | 2003-03-20 |
| WO2001089198A1 (de) | 2001-11-22 |
| DE10023662B4 (de) | 2010-04-01 |
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