DE1095079B

DE1095079B - Verfahren und Vorrichtung zum galvanischen Abscheiden von UEberzuegen seltener Metalle, insbesondere radioaktiver Metalle

Info

Publication number: DE1095079B
Application number: DEN13120A
Authority: DE
Inventors: Charles Franklin Hendee; Walter Brown; Samuel Fine
Original assignee: Philips Gloeilampenfabrieken NV
Current assignee: Koninklijke Philips NV
Priority date: 1955-12-30
Filing date: 1956-12-21
Publication date: 1960-12-15
Also published as: US2959532A; GB836731A; FR1163683A

Description

Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum galvanischen Abscheiden von Metallschichten aus seltenen Metallen, insbesondere radioaktiven Metallen, und ferner auf eine Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens.

Es ist in der Galvanotechnik an sich bekannt, bei einem Verfahren zur Abscheidung von Metallschichten ein inaktives, absorbierendes Material mit der Lösung des niederzuschlagenden Metalls zu benetzen und dieses absorbierende Material unter anodischer Schaltung auf die Kathode zu drücken. Diese Maßnahme wird z. B. vorgenommen, wenn kleine Metalloberflächen oder befestigte Metallteile, die in diesem Fall dann nicht demontiert zu werden brauchen, galvanisiert werden müssen oder wenn ein leicht zu transportierendes Gerät erforderlich ist, damit das Gerät möglichst kompakt ist, oder aber in den Fällen, bei denen eine Galvanisierung in einem Gerät mit Hilfe von mit Elektrolyten gespeisten, sich schnell über die Oberfläche bewegenden Elementen stattfindet. Der Erfindung liegt die Erkenntnis zugrunde, daß ein solches Verfahren auch besondere Vorteile hat beim Niederschlagen von seltenen Metallen, weil in dieser Weise bedeutend weniger Metall verlorengeht und dünnere, gleichmäßigere Schichten abgeschieden werden können als bei dem Verfahren, bei dem das Metall aus einer wäßrigen Elektrolytlösung abgeschieden wird. Ferner ist bei Verwendung radioaktiver Metalle die Reinigung der Apparatur hierbei ein weniger großes Problem.

Es besteht aber die Gefahr, daß das abgeschiedene Metall sich teilweise wieder löst, wenn nach Unterbrechung des Galvanisierstromes, nachdem die gewünschte Schicht auf die Kathode niedergeschlagen ist, diese gespült wird, wodurch Löcher in der abgeschiedenen Metallschicht gebildet werden.

Dieser Nachteil wird erfindungsgemäß dadurch behoben, daß das Spülen ohne Unterbrechung des Galvanisierstromes vorgenommen wird.

Als Anode wird z. B. Graphit oder ein seltenes Metall verwendet. Obwohl beim Verfahren nach der Erfindung jede Art von inaktivem, absorbierendem Material, wie Filtrierpapier, Asbestschichten, poröses gesintertes keramisches Material und Glasfasern, benutzt werden kann, wird vorzugsweise ein Gel, wie ein Silicium-Dioxydgel, ein Pektingel, hydratierte Stärke, Gelatine oder Gelatine enthaltende Materialien verwendet, da unter Anwendung solcher Gele eine gleichmäßigere Überzugsschicht erzielt wird.

Eine Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach der Erfindung, bestehend aus einer mit einem inaktiven, absorbierenden Material bedeckten Anode, einer Kathode von gleicher Form wie das inaktive, absorbierende Material und Mittel, durch welche die Kathode mit dem inaktiven, absorbierenden Material Verfahren und Vorrichtung

zum galvanischen Abscheiden

von Überzügen seltener Metalle,

insbesondere radioaktiver Metalle

Anmelder:

N. V. Philips' Gloeilampenfabrieken,
Eindhoven (Niederlande)

Vertreter: Dr. rer. nat. P. Roßbach, Patentanwalt,
Hamburg I₁ Mönckebergstr. 7

Beanspruchte Priorität:
V. St v. Amerika vom 30. Dezember 1955

Charles Franklin. Hendee, Irvington-on-Hudson, N. Y., Walter Brown, White Plains, N. Y.,

und Samuel Fine, New York, N. Y. (V. St. A.),

sind als Erfinder genannt worden

in Kontakt gebracht werden kann, ist gekennzeichnet durch die Anordnung eines mit Löchern versehenen, in der Galvanisierebene verlaufenden Rohres für die Spülflüssigkeit zum Spülen der Kathode, des inaktiven, absorbierenden Materials und der Anode.

In der Zeichnung ist im Schnitt ein Apparat dargestellt, mittels dessen das Verfahren nach der Erfindung in geeigneter Weise durchgeführt werden kann. Darin bezeichnet 1 eine Gelatineschicht, die mit einer Lösung von Fe⁵⁵Cl₃ in Salzsäure benetzt ist. Die Schicht 1 liegt auf einer Graphitanode 2, die auf einer Metallelektrode 3 befestigt ist.

Die Kupferplatte 4, welche die gleichen Oberflächenabmessungen wie die Schicht 1 hat, stellt die Kathode dar und ist an der Elektrode 5 befestigt. Mittels des Handgriffs 6 wird die Kathode 4 gegen die Schicht 1 gedrückt, wobei die Elektrode 5 von den Führungsbahnen 7 geleitet wird. Der Handgriff 6 und die Führungsbahn 7 bestehen aus einem elektrisch nichtleitenden Material, wie Kunstharz. Durch die Leiter 8 und 9 wird 2 Minuten lang eine Spannung von 3 V zwischen der Anode 2 und der Kathode 5 angelegt. Darauf wird der Apparat ohne Beseitigung der Spannung mit Wasser aus einem Rohr 10 durch die Öffnungen 11 hindurch bespritzt. Das verunreinigte Wasser 12 wird

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über die öffnung 13 im Glasgefäß 14 aufgefangen. Darauf werden die Elektroden getrennt und gespült, worauf die Spannung beseitigt wird. Es hat sich dann eine dünne Schicht Fe⁵⁵ auf das Kupfer niedergeschlagen.

Der galvanische Apparat kann mit Füßen 16 in der z. B. aus Glas bestehenden Hülle 15 untergebracht werden.

Claims

Patentansprüche:

1. Verfahren zum galvanischen Abscheiden von Überzügen seltener Metalle, insbesondere radioaktiver Metalle, wobei mit der Lösung des niederzuschlagenden Metalls ein inaktives, absorbierendes Material benetzt und eine Kathode auf das an einer Anode befestigte, benetzte Material gedrückt und anschließend die gewünschte Schicht auf der Kathode niedergeschlagen und nachher gespült wird, dadurch gekennzeichnet, daß das Spülen ohne Unterbrechung des Galvanisierstromes vorgenommen wird.

2. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 1, bestehend aus einer mit einem inaktiven, absorbierenden Material bedeckten Anode, einer Kathode von gleicher Form wie das inaktive, absorbierende Material, und Mittel, durch welche die Kathode mit dem inaktiven, absorbierenden Material in Kontakt gebracht werden kann, gekennzeichnet durch die Anordnung eines mit Löchern (11) versehenen, in der Galvanisierebene verlaufenden Rohres (10) für die Spülflüssigkeit zum Spülen der Kathode, des inaktiven, absorbierenden Materials und der Anode.

3. Vorrichtung nach Anspruch 2, gekennzeichnet durch die Anordnung einer durch ein inaktives Gel, wie ein Silicium-Dioxydgel, ein Pektingel, ein Gelatinegel, hydratisierte Stärke oder Filtrierpapier, Asbest, gesintertes keramisches Material oder Glasfasern als inaktives, absorbierendes Material bedeckten Anode.

4. Vorrichtung nach Anspruch 2, gekennzeichnet durch die Anordnung einer Anode aus Graphit.

In Betracht gezogene Druckschriften:
Deutsche Patentschriften Nr. 854 867, 934 620;
österreichische Patentschrift Nr. 4957.

Hierzu 1 Blatt Zeichnungen