DE1065943B - Verfahren zur Herstellung einer Flächenhalbleiteranordnung mit Schutzschicht-Zus. z. Pat. 969 465 - Google Patents
Verfahren zur Herstellung einer Flächenhalbleiteranordnung mit Schutzschicht-Zus. z. Pat. 969 465Info
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- DE1065943B DE1065943B DENDAT1065943D DE1065943DA DE1065943B DE 1065943 B DE1065943 B DE 1065943B DE NDAT1065943 D DENDAT1065943 D DE NDAT1065943D DE 1065943D A DE1065943D A DE 1065943DA DE 1065943 B DE1065943 B DE 1065943B
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-
- H10P14/6308—
-
- H10P14/6324—
-
- H10W74/131—
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- Conductive Materials (AREA)
Description
DEUTSCHES PATENTAMT
kl. 21g 11/02
INTERNAT. KL. HOlI
94:
S 45103 VIII c/21g
BEKANNTMACHUNG
DER ANMELDUNG
UND AUSGABE DER
AÜSLEGESCHR1FT: 24. SEPTEMBER 1959
Im
nung,
nung,
Patent 969 465 ist eine Flächenhalbleiteranordbeispielsweise
Flächcnriclitteiter, Flächentransistor
od. dgl., mit scharfen Übergängen zwischen Zonen unterschiedlichen Leitungstypus, z. B. einem
oder mehreren p-n-Übcrgängen, beschrieben, welche dadurch gekennzeichnet ist, daß die Oberfläche des
Halbleiterkörpers mindestens längs des scharfen Überganges bzw. der scharfen Übergänge mit einer
festen Schutzschicht bedeckt ist, die_ elektrisch jsoliert,
feucJTtjgkeitsundurchlässjg istV äut der riaib-'|p\tni^r¥nrhft^diifr]iJ^AVTiin.'sipp
„foaftet und aus anvorzugsweise einem Oxyd, bei
organischem Stoff,
spielsweise Quarz, besteht.
spielsweise Quarz, besteht.
Die Erfindung betrifft ein besonders einfaches und sicheres Verfahren zur Flerstellung einer Oxydschicht
auf dem Halbleiterkörper aus einem Oxyd des !HaIbleitergrunrlmaterials.
Das gemäß der' Erfindung vorili'schlagene
verfahren zur Herstellung einer Flächcnhalbleiteranordnung mit scharfen pn- oder pnp- bzw.
npn-Ubergängen, bei der die Oberfläche des Halbleiterkörpers mindestens längs des scharfen Überganges
bzw. der scharfen Übergänge mit einer festen, feuchtigkeitsundurchlässigen, elektrisch isolierenden
und auf der Halbleiteroberfläche haftenden Schutzschicht bedeckt ist, besteht darin, daß die Schutzschicht
durch anodische Oxydation mittels Phosphorsäure als Elektrolyt hergestellt wird.
Die Durchführung gestaltet sich z. B. folgendermaßen: Als Elektrolyt dient wasserfreie Phosphorsäure.
Der mit dem Schutzüberzug zu versehene Gerroaniumkörper wird als Anode geschaltet und mit
Herzu überziehenden Oberfläche in den Elektrolyten eingetaucht. Die Kathode besteht ebenfalls aus Germanium.
Das Absinken des Stromes auf einen mfni-'
malen Sättigungswert zeigt das Ende der Schichtbildung. Durch Wahl der gegebenenfalls allmählich
erhöhten Spannung läßt sich die Isoliereigenschaft in gewünschtem Maße einstellen. An Stelle von Germanium
sind auch Silizium-Hälbleiteranorrintingen
oder Halbleileranordmingcn aus Verbindungen eier
TV. Gruppe des Periodischen Systems untereinander oder aus Verbindungen _von. Elementen der III.
_uhd'yj, Ii. und IV. Gruppe des Periodischen Systems
'sowie" aus halbleitenden Mehrfachverbindungen der
genannten Stoffe in gleicher Weise zu behandeln.
Es war bekannt, polymerisiertes Glykolborat als Elektrolyt bei einer anodischen Oxydationsbehandlung
von Germanium zu verwenden. Dieser Elektrolyt führt jedoch bei η-leitendem Germanium zur Bildung
Verfahren zur Herstellung
einer Flächenhalbleiteranordnung
mit Schutzschicht
Zusatz zum Patent 969 465
Anmelder:
Siemens & Halske Aktiengesellschaft,
Siemens & Halske Aktiengesellschaft,
Berlin und München,
München 2, Witteisbacherplatz 2
München 2, Witteisbacherplatz 2
Dipl.-Chem. Georg Rosenberger, München,
ist als Erfinder genannt worden
ist als Erfinder genannt worden
einer p-leitenden Oberflächenschicht, während es bei
der Herstellung der Schutzschichten bei den im Hauptpatent beschriebenen Anordnungen gerade darauf
ankommt, daß der Leitungstvpus der zu überziehenden Halbleiteroberfläche nicht beeinflußt wird.
rDies wird von Phosphorsäure als Elektrolyt geleistet,"
die außerdem den Vorzug hat, auch bei Silizium zu der gewünschten Oberflächenschicht ?m führen.
Claims (1)
- PATENTANSPRUCH:Verfahren zur Herstellung einer Flächenhalblciteranordnung mit scharfen pn- oder pnp- bzw. npn-Übergängen, bei der die Oberfläche des Halbleiterkörpers mindestens längs des scharfen Überganges bzw. der scharfen Übergänge mit einer festen, feuchtigkeitsundurchlässigen, elektrisch isolierenden und auf der Halbleiteroberfläche haftenden Schutzschicht bedeckt ist, nach Patent 969 465, dadurch gekennzeichnet, daß die Schutzschicht durch anodische OxyjdjjttiorLtiiiitels Phosphorsäure als Elektrolyt hergestellt wird.In Betracht gezogene Druckschriften:
»Das Elektron«, Bd. 5, 1951/52, Heft 13/14, S. 429bis 439;»Zeitschrift für Elektrochemie«, Bd. 58, 1954,Nr. S, S. 283 bis 321.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DES0045103 | 1955-08-08 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE1065943B true DE1065943B (de) | 1959-09-24 |
Family
ID=7485399
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DENDAT1065943D Pending DE1065943B (de) | 1955-08-08 | Verfahren zur Herstellung einer Flächenhalbleiteranordnung mit Schutzschicht-Zus. z. Pat. 969 465 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE1065943B (de) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3345275A (en) * | 1964-04-28 | 1967-10-03 | Westinghouse Electric Corp | Electrolyte and diffusion process |
| DE2413608A1 (de) * | 1974-03-21 | 1975-10-02 | Licentia Gmbh | Verfahren zum herstellen von halbleiterbauelementen |
-
0
- DE DENDAT1065943D patent/DE1065943B/de active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3345275A (en) * | 1964-04-28 | 1967-10-03 | Westinghouse Electric Corp | Electrolyte and diffusion process |
| DE2413608A1 (de) * | 1974-03-21 | 1975-10-02 | Licentia Gmbh | Verfahren zum herstellen von halbleiterbauelementen |
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