CN201206164Y - 折合式真空装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种折合式真空装置，供至少一片基板输送通过，并包括：一个第一腔体单元、一个第二腔体单元、一个连接第一、二腔体单元的真空连接单元、多个第一靶材，及多个第二靶材。该第一腔体单元包括第一内壁与第一外壁，及多个形成在第一内壁与第一外壁间的第一腔室。该第二腔体单元包括第二内壁与第二外壁，及多个形成在第二内壁与第二外壁间的第二腔室。所述第一靶材分别安装在第一内壁或/及第一外壁上且连通第一腔室。所述第二靶材分别安装在第二内壁或/及第二外壁上且连通第二腔室。藉由第一、二腔体单元的对折连接，以及第一、二靶材的选择安装设计，能达到减少占用空间及生产效率高的功效。

Description

折合式真空装置

技术领域

本实用新型是一种真空装置，特别是涉及一种供镀膜作业使用的折合式真空装置。

背景技术

在半导体、电机电子与光电产业中，许多制程都需要在真空装置中进行镀膜，而且随着制品需求的不同，有些基板需要经过多道镀膜步骤以形成多种不同材质的膜层，目前市面上已出现一种如图1所示的真空装置1，能用于供多数片连续排列的基板10输送通过，其包括多个长串连接排列的中空腔体11、一个用于带动基板10输送通过所述腔体11的输送单元12，及多个分别安装在腔体11的一侧上且用于在基板10上镀膜的靶材13。腔体11的数量对应于所设定的镀膜层数，每一腔体11具有一个可被控制启闭的腔室111。

镀膜时，操作人员将基板10直立排放在输送单元12上，利用输送单元12送入腔体11中，并循着箭头所示方向通过所述腔室111中，藉由靶材13分别在基板10上镀膜，最后再将基板10送出。当然，在实际操作时，为了加速制程，一般会持续地将基板10接连放置在输送单元12上，以连续不断地进行镀膜作业。

虽然上述真空装置1的每一靶材13都会在基板10表面镀上不同膜层，但是由于该真空装置1只是呈现单线排列，所以当腔体11的数目较多时，真空装置1的延伸长度会相当长，此时，厂房就需要占用较宽敞的地方来摆放真空装置1，此将导致所需成本较高。此外，当基板10需要镀上的膜层数目较真空装置1设置的腔体11的数目多，或是需要在基板10的双侧表面上都要镀膜时，操作人员必须分批多次地将基板10重复送入真空装置1，进行不同材质的镀膜，此将造成生产效率较低。

实用新型内容

本实用新型的主要目的，是在于提供一种减少占用空间且生产效率较高的折合式真空装置。

本实用新型的一种折合式真空装置，供至少一基板输送通过，并包括：一第一腔体单元、一第二腔体单元、一真空连接单元、多个第一靶材，及多个第二靶材。该第一腔体单元包括内、外间隔相对的一第一内壁与一第一外壁、间隔相对地形成在第一内壁与第一外壁间两端的一第一入口与一第一出口，及多个彼此连接串列地形成在第一入口与第一出口间的第一腔室，所述基板会由第一入口进入，通过所述第一腔室以后再由第一出口输出。该第二腔体单元与第一腔体单元对应并列，并包括内、外间隔相对的一第二内壁与一第二外壁、间隔相对地形成在第二内壁与第二外壁间两端的一第二出口与一第二入口，及多个彼此连接串列地形成在第二出口与第二入口间的第二腔室，该第二内壁邻近第一内壁，且第二外壁远离第一内壁，所述基板会由第二入口进入，通过所述第二腔室以后再由第二出口输出。该真空连接单元是连接第一腔体单元与第二腔体单元，并包括一安装在第一出口旁侧的第一回转件，及一安装在第二入口旁侧的第二回转件，第一回转件将输出第一出口的基板转向输送至第二回转件，且第二回转件再将基板转向送入第二入口。所述第一靶材分别安装在第一内壁或/及第一外壁上且连通第一腔室，乃用于在所述基板上镀膜。所述第二靶材分别安装在第二内壁或/及第二外壁上且连通第二腔室，乃用于在所述基板上镀膜。

本实用新型的有益效果在于：将第一、二腔体单元对折成两段，所以能减小所占用的空间，降低所需成本，此外再依照需要选择安装第一、二靶材，以提升腔体利用率达到减少占用空间以及生产效率较高的功效。

附图说明

图1是一种以往真空装置的装置示意图；

图2是本实用新型的折合式真空装置的一第一较佳实施例的一简单示意图；

图3是本实用新型的折合式真空装置的一第二较佳实施例的一简单示意图；

图4是本实用新型的折合式真空装置的一第三较佳实施例的一简单示意图；及

图5是本实用新型的折合式真空装置的一第四较佳实施例的一简单示意图。

具体实施方式

下面结合附图及实施例对本实用新型进行详细说明：

为了方便说明，以下的实施例，相同的元件以相同的标号表示。

如图2所示，本实用新型折合式真空装置的第一较佳实施例，是供多数片连续排列的基板2输送通过，每一基板2具有内外相反的内侧面21与外侧面22。该折合式真空装置包括：双线平行排列的一第一腔体单元3与一第二腔体单元4、一连接第一腔体单元3与第二腔体单元4的真空连接单元5、一用于输送所述基板2的输送机构6、多个分别安装在第一腔体单元3上的第一靶材7，及多个分别安装在第二腔体单元4上的第二靶材8。

该第一腔体单元3包括内、外间隔相对且左右长向延伸的一第一内壁31与一第一外壁32、左右间隔相对地形成在第一内壁31与第一外壁32两端间的一第一入口33与一第一出口34、多个彼此连接串列地形成在第一入口33与第一出口34间的第一腔室35，及多个分别安装在两相邻的第一腔室35间的第一阀门36。所述第一腔室35都是真空状态。第一阀门36可受计算机控制而开启或关闭，能用以控制第一腔室35间的连通与否，图2中第一阀门36为开启状态。

该第二腔体单元4与第一腔体单元3结构相同且对应并列，并包括内、外间隔相对且左右长向延伸的一第二内壁41与一第二外壁42、左右间隔相对地形成在第二内壁41与第二外壁42两端间的一第二出口43与一第二入口44、多个彼此连接串列地形成在第二出口43与第二入口44间的第二腔室45，及多个分别安装在两相邻的第二腔室45间的第二阀门46。该第二内壁41邻近第一内壁31，且第二外壁42远离第一内壁31。第二腔室45也是真空状态，且第二阀门46同样是用来控制第二腔室45的连通与否，在此不再详细说明。

该真空连接单元5包括一安装在第一出口34旁侧的第一回转件51、一安装在第二入口44旁侧的第二回转件52，及一连接在第一回转件51与第二回转件52间的连接腔体53。该连接腔体53具有一连接腔室531。该真空连接单元5还包括一安装在连接腔体53的外侧上且连通该连接腔室531的连接靶材54。本实施例的第一、二回转件51、52可被控制而顺时钟旋转，当然也可以设计为逆时钟旋转。另外，该真空连接单元5也可以省略连接靶材54的设置，甚至也可以连同连接腔体53一起省略，而让第一、二回转件51、52直接转动接触。

该输送机构6包括一带动基板2朝一第一方向91输送通过所述第一腔室35的第一输送单元61、一带动基板2朝一第二方向92输送通过所述第二腔室45的第二输送单元62，及一带动基板2朝一第三方向93输送通过连接腔室531的第三输送单元63。第一方向91是由第一入口33朝向第一出口34，第二方向92是由第二入口44朝向第二出口43且与第一方向91平行相反，而第三方向93则是由第一回转件51朝向第二回转件52且垂直于第一、二方向91、92。第一、二、三输送单元61、62、63都包括一长向延伸的轨道(图未示)、多个设于轨道上的滚轮(图未示)，以及多个受滚轮带动而移动并用于载送基板2的载具(图未示)，但是因为输送机构6并非本实用新型改良的重点，所以不再详细说明。

所述第一靶材7分别安装在第一腔体单元3的第一外壁32上且对应连通第一腔室35，用于在输送通过的基板2上镀膜。所述第一靶材7可为不同材质，且每一第一腔室35内可搭配第一靶材7设置有不同的镀膜系统(图未示)，用于在基板2上成形不同材质的膜层。当然第一靶材7的数量也可以依照设计增减，甚至也可以视需要开启或关闭，藉以改变镀膜层数。

所述第二靶材8与第一靶材7结构类似，分别安装在第二腔体单元4的第二外壁42上且连通第二腔室45，同样用于在输送通过的基板2上镀膜。所述第二靶材8可为不同材质，且每一第二腔室45内也会搭配第二靶材8设置有不同的镀膜系统(图未示)，用于在基板2上成形不同材质的膜层。同样的，第二靶材8的数量也能依设计增减，甚至也可以视需要开启或关闭，藉以改变镀膜层数。

操作人员将基板2摆放在第一输送单元61左侧，第一输送单元61会沿着第一方向91，将基板2由第一入口33送入第一腔体单元3，通过所述第一腔室35时，藉由第一靶材7在基板2的外侧面22镀上不同膜层，以后再由第一出口34输出。接着第一回转件51承接输出第一出口34的基板2，并顺时钟旋转90°后将基板2由第一方向91转往第三方向93送至第三输送单元63，带动基板2沿着第三方向93通过连接腔室531，藉由连接靶材54在基板2的外侧面22再镀上另一膜层，而后将基板2输送到第二回转件52，且第二回转件52会顺时钟旋转90°后将基板2由第三方向93转往第二方向92送至第二输送单元62。令基板2由第二入口44进入第二腔体单元4，通过所述第二腔室45，并藉由第二靶材8在基板2的外侧面22镀上不同膜层，再由第二出口43输出，此时基板2的外侧面22就能依序镀上所需膜层。

参阅图3，本实用新型折合式真空装置的第二较佳实施例，本实施例的构造大致与第一实施例相同，不同的部分在于：改变第二靶材8的安装位置，令第二靶材8安装在第二腔体单元4的第二内壁41上，如此一来，当通过第一腔体单元3，而完成外侧面22镀膜的基板2，被输送通过第二腔体单元4时，第二靶材8就会在基板2的内侧面21上镀膜，使得基板2的内、外侧面21、22上皆镀设有膜层。本实施例可省略连接靶材54的设置，当然也可以视需要增设，在此不再详细说明。

参阅图4，本实用新型折合式真空装置的第三较佳实施例，本实施例的构造与第一、二实施例相似，不同的部分在于：增加第一、二靶材7、8的设置位置，在第一腔体单元3的第一内壁31与第一外壁32上皆安装有第一靶材7，并在第二腔体单元4的第二内壁41与第二外壁42上也各别安装有第二靶材8。当基板2通过第一腔体单元3时，第一靶材7就会在基板2的内、外侧面21、22上分别镀膜，使得基板2的内、外侧面21、22上皆镀设有膜层，且当基板2再通过第二腔体单元4时，第二靶材8也会在基板2的内、外侧面21、22上分别镀膜，使得基板2的内、外侧面21、22上再依需要增加不同膜层。同样地，本实施例可省略连接靶材54的设置，当然也可以视需要增加设置在连接腔体53的单一内侧、或单一外侧或内、外两侧，在此不再详细说明。

参阅图5，本实用新型折合式真空装置的第四较佳实施例，本实施例的构造与第二实施例大致雷同，不同的部分在于：本实施例增加第一靶材7的安装，令第一靶材7分别安装在第一腔体单元3的第一内壁31与第一外壁32上，所以，当基板2通过第一腔体单元3时，第一靶材7就会在基板2的内、外侧面21、22上分别镀设膜层。

当然本实用新型第一、二靶材7、8的安装位置及数量，不以上述第一～四实施例为限，在此不再详细说明。须进一步说明的是，当然本实用新型也可以直接如第三实施例般设置，使用时只要视所需情况关闭不同位置的第一、二靶材7、8，如此就能达到如同第一、二、四实施例的效果，甚至也可以有其它不同的安装方式。

由上述说明可知，本实用新型折合式真空装置在设计上，是将原本设置上需要一长串排列的腔体单元，对折成两段腔体单元3、4，并藉由真空连接单元5连接，所以能避免以往单线延伸会造成真空装置的延伸长度过长的缺失，并能减小所占用的空间，降低所需成本。此外，本实用新型还能配合需要选择在第一、二腔体单元3、4上安装第一、二靶材7、8，使得本实用新型在镀膜工作上更为多元化且完成度高，故能提升腔体利用率，可减少基板2送入真空装置的次数，生产效率较高，所以本实用新型具有减少占用空间以及生产效率较高的功效，确实能够达到本实用新型的目的，而可供产业上利用。

Claims (8)

1.一种折合式真空装置，供至少一片基板输送通过，其特征在于包括：一个第一腔体单元、一个与第一腔体单元对应并列的第二腔体单元、一个连接第一腔体单元与第二腔体单元的真空连接单元、多个安装在第一腔体单元上的第一靶材，及多个安装在第二腔体单元上的第二靶材，

该第一腔体单元包括内、外间隔相对的一片第一内壁与一片第一外壁、间隔相对地形成在第一内壁与第一外壁两端间的一个第一入口与一个第一出口，及多个彼此连接串列地形成在第一入口与第一出口间且供所述基板通过的第一腔室；

该第二腔体单元包括内、外间隔相对的一片第二内壁与一片第二外壁、间隔相对地形成在第二内壁与第二外壁两端间的一个第二出口与一个第二入口，及多个彼此连接串列地形成在第二出口与第二入口间且供所述基板通过的第二腔室，该第二内壁邻近第一内壁，且第二外壁远离第一内壁；

该真空连接单元包括一个安装在第一出口旁侧承接由第一出口输出的基板并转向送出的第一回转件，及一个安装在第二入口旁侧且将第一回转件送来的基板转向送入第二入口的第二回转件；

所述第一靶材分别安装在第一内壁与第一外壁的其中一片壁上且连通第一腔室；及

所述第二靶材分别安装在第二内壁与第二外壁的其中一片壁上且连通第二腔室。

2.如权利要求1所述的折合式真空装置，其特征在于：第一靶材是安装在第一外壁上，且第二靶材是安装在第二外壁上。

3.如权利要求2所述的折合式真空装置，其特征在于：第一靶材还安装在第一内壁上，且第二靶材还安装在第二内壁上。

4.如权利要求1所述的折合式真空装置，其特征在于：第一靶材是安装在第一外壁上，且第二靶材是安装在第二内壁上。

5.如权利要求4所述的折合式真空装置，其特征在于：第一靶材还安装在第一内壁上。

6.如权利要求1所述的折合式真空装置，其特征在于：该真空连接单元还包括一个连接在第一回转件与第二回转件间以供基板通过的连接腔体。

7.如权利要求6所述的折合式真空装置，其特征在于：该连接腔体具有一个连接腔室，该真空连接单元还包括至少一个安装在连接腔体上且连通该连接腔室的连接靶材。

8.如权利要求1所述的折合式真空装置，其特征在于：还包括一个用于输送所述基板的输送机构，该输送机构包括一个带动基板朝一第一方向输送通过所述第一腔室的第一输送单元、一个带动基板朝一第二方向输送通过所述第二腔室的第二输送单元，及一个带动基板朝一第三方向输送通过真空连接单元的第三输送单元，第一方向是由第一入口朝向第一出口，第二方向是由第二入口朝向第二出口且与第一方向平行相反，而第三方向则是由第一回转件朝向第二回转件且垂直于第一、二方向。

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