CN109468611A - 真空镀膜装置 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种真空镀膜装置，包括：第一真空腔室排、第二真空腔室排、第一转移机构、第二转移机构、第一驱动机构、第二驱动机构及基片架，第一真空腔室排、第二转移机构及第二真空腔室排顺次排布以形成循环，基片架的相对两侧均用于装载基片，第一驱动机构用于驱动基片架沿第一方向穿过第一真空腔室排，以使装载于基片架的第一侧的基片完成真空脱气镀膜；第二转移机构用于将基片架由第一真空腔室排转移至第二真空腔室排，以使基片架经由第二驱动机构带动沿第二方向穿过第二真空腔室排，从而以使装载于基片架的第二侧的基片完成真空脱气镀膜；第一转移机构用于将相对两侧重新装载有基片的基片架由第二真空腔室排转移至第一真空腔室排。

Description

真空镀膜装置

技术领域

本发明涉及真空镀膜技术领域，尤其涉及一种真空镀膜装置。

背景技术

传统的真空镀膜装置运行一次通常只能对装载于其基片架一侧的单个基片进行真空脱气镀膜，当采用上述真空镀膜装置对大批量的基片进行真空脱气镀膜加工时，将会导致基片的加工工时浪费严重，能源消耗大，生产效率低。

发明内容

基于此，有必要提供一种能够提高基片的真空脱气镀膜效率的真空镀膜装置。

一种真空镀膜装置，包括：第一真空腔室排、第二真空腔室排、第一转移机构、第二转移机构、第一驱动机构、第二驱动机构及基片架，所述第一转移机构、所述第一真空腔室排、所述第二转移机构及所述第二真空腔室排顺次排布以形成循环，所述第一真空腔室排及所述第二真空腔室排均位于所述第一转移机构与所述第二转移机构之间，由所述第一转移机构至所述第二转移机构的方向为第一方向，由所述第二转移机构至所述第一转移机构的方向为第二方向；所述基片架的相对两侧均用于装载基片，所述第一驱动机构用于驱动所述基片架沿所述第一方向穿过所述第一真空腔室排，以使装载于所述基片架的第一侧的所述基片完成真空脱气镀膜；所述第二转移机构用于将所述基片架由所述第一真空腔室排转移至所述第二真空腔室排，以使所述基片架经由所述第二驱动机构带动沿所述第二方向穿过所述第二真空腔室排，从而以使装载于所述基片架的第二侧的所述基片完成真空脱气镀膜；所述第一转移机构用于将相对两侧重新装载有所述基片的所述基片架由所述第二真空腔室排转移至所述第一真空腔室排。

在其中一个实施例中，所述第一真空腔室排包括沿所述第一方向顺次排布的第一缓冲真空室、第一真空镀膜室及第二缓冲真空室，所述第二真空腔室排包括沿所述第二方向顺次排布的第三缓冲真空室、第二真空镀膜室及第四缓冲真空室。

在其中一个实施例中，所述第一缓冲真空室包括沿所述第一方向顺次排布且真空度逐渐增大的进口真空室、进口真空锁定室及进口真空过渡室，所述第四缓冲真空室包括沿所述第二方向顺次排布且真空度逐渐减小的出口真空过渡室、出口真空锁定室及出口真空室。

在其中一个实施例中，所述进口真空室与所述出口真空室并排且对齐设置，所述进口真空锁定室与所述出口真空锁定室并排且对齐设置，所述进口真空过渡室与所述出口真空过渡室并排且对齐设置，所述第一真空镀膜室与所述第二真空镀膜室并排且对齐设置，所述第二缓冲真空室与所述第三缓冲真空室并排且对齐设置。

在其中一个实施例中，还包括第一箱体、第二箱体、第三箱体、第四箱体、第五箱体、第一隔板、第二隔板、第三隔板、第四隔板及第五隔板，所述第一箱体、所述第二箱体、所述第三箱体、所述第四箱体及第五箱体沿所述第一方向顺次排布；所述第一隔板将所述第一箱体分割成所述进口真空室与所述出口真空室；所述第二隔板将所述第二箱体分割成所述进口真空锁定室与所述出口真空锁定室；所述第三隔板将所述第三箱体分割成所述进口真空过渡室与所述出口真空过渡室；所述第四隔板将所述第四箱体分割成所述第一真空镀膜室与所述第二真空镀膜室；所述第五隔板将所述第五箱体分割成所述第二缓冲真空室与所述第三缓冲真空室。

在其中一个实施例中，所述第一真空镀膜室内设有第一镀膜靶，所述第一镀膜靶用于向沿所述第一方向经过所述第一镀膜靶并装载于所述基片架的第一侧的所述基片溅射沉积膜层。

在其中一个实施例中，当基片架沿所述第一方向经过所述第一镀膜靶时，所述基片架的第一侧朝向所述第一镀膜靶，且所述基片架的第二侧背离所述第一镀膜靶。

在其中一个实施例中，所述第二真空镀膜室内设有第二镀膜靶，所述第二镀膜靶用于向沿所述第二方向经过所述第二镀膜靶并装载于所述基片架的第二侧的所述基片溅射沉积膜层。

在其中一个实施例中，当所述基片架沿所述第二方向经过所述第二镀膜靶时，所述基片架的第一侧背离所述第二镀膜靶，且所述基片架的第二侧朝向所述第二镀膜靶。

在其中一个实施例中，所述第一转移机构包括第一移载台和用于与所述基片架相配合的第一传动组件，所述第一传动组件与所述第一移载台连接，所述第一移载台能够通过所述第一传动组件带动所述基片架沿第三方向及第四方向移动，所述第一传动组件能够带动所述基片架沿所述第一方向移动，所述第三方向为由所述第二真空腔室至所述第一真空腔室排的方向，所述第四方向为由所述第二真空腔室至所述第一真空腔室排的方向。

在其中一个实施例中，所述第二转移机构用于在真空条件下将所述基片架由所述第一真空腔室排转移至所述第二真空腔室排。

在其中一个实施例中，所述第二转移机构包括真空转移室、第二移载台及用于与所述基片架相配合的第二传动组件，所述第二移载台设于所述真空转移室内，所述第二传动组件与所述第二移载台连接，所述第二移载台能够通过所述第二传动组件带动所述基片架沿第三方向及第四方向移动，所述第二传动组件能够带动所述基片架沿所述第二方向移动，所述第三方向为由所述第二真空腔室至所述第一真空腔室排的方向，所述第四方向为由所述第二真空腔室至所述第一真空腔室排的方向。

在其中一个实施例中，还包括第一真空泵组和第二真空泵组，所述第一真空泵组用于抽取所述第一真空腔室排内的空气，所述第二真空泵组用于抽取所述第二真空腔室排内的空气。

上述真空镀膜装置，运行时，第一驱动机构驱动基片架沿第一方向穿过第一真空腔室排，以使装载于基片架的第一侧的基片完成真空脱气镀膜，然后，第二转移机构将基片架由第一真空腔室排转移至第二真空腔室排，以使基片架经由第二驱动机构带动沿第二方向穿过第二真空腔室排，从而以使装载于基片架的第二侧的基片完成真空脱气镀膜，接着当卸载完基片架相对两侧完成镀膜的基片以后，第一转移机构将相对两侧重新装载有基片的基片架由第二真空腔室排转移至第一真空腔室排，以实现对重新装载于基片架相对两侧的基片的下一个真空镀膜循环，因此，上述真空镀膜装置通过第一驱动机构、第二转移机构、第二驱动机构及第一转移机构的相互配合，能够实现对装载于基片架相对两侧的基片的真空脱气镀膜和连续输送，大大提高了基片的真空脱气镀膜效率，降低生产成本，自动化和连续化程度高，能源消耗少。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为一实施例中真空镀膜装置的结构示意图；

图2为一实施例中真空镀膜装置的剖面示意图；

图3为图2中A处的放大示意图；

图4为图2中B处的放大示意图；

图5为图2中C处的放大示意图；

图6为一实施例中真空镀膜装置的另一结构示意图。

具体实施方式

为了便于理解本发明，下面将参照相关附图对本发明进行更全面的描述。附图中给出了本发明的较佳实施方式。但是，本发明可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施方式。相反地，提供这些实施方式的目的是使对本发明的公开内容理解的更加透彻全面。

需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“内”、“外”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。

如图1及图2所示，一实施例中的真空镀膜装置10包括第一真空腔室排100、第二真空腔室排200、第一转移机构300、第二转移机构400、第一驱动机构500、第二驱动机构600及基片架700。第一转移机构300、第一真空腔室排100、第二转移机构400及第二真空腔室排200顺次排布以形成循环。第一真空腔室排100及第二真空腔室排200均位于第一转移机构300与第二转移机构400之间。由第一转移机构300至第二转移机构400的方向为第一方向，由第二转移机构400至第一转移机构300的方向为第二方向。基片架700的相对两侧均用于装载基片20。第一驱动机构500用于驱动基片架700沿第一方向穿过第一真空腔室排100，以使装载于基片架700的第一侧的基片20完成真空脱气镀膜；第二转移机构400用于将基片架700由第一真空腔室排100转移至第二真空腔室排200，以使基片架700经由第二驱动机构600带动沿第二方向穿过第二真空腔室排200，从而以使装载于基片架700的第二侧的基片20完成真空脱气镀膜；第一转移机构300用于将相对两侧重新装载有基片20的基片架700由第二真空腔室排200转移至第一真空腔室排100。

上述真空镀膜装置10，运行时，第一驱动机构500驱动基片架700沿第一方向穿过第一真空腔室排100，以使装载于基片架700的第一侧的基片20完成真空脱气镀膜，然后，第二转移机构400将基片架700由第一真空腔室排100转移至第二真空腔室排200，以使基片架700经由第二驱动机构600带动沿第二方向穿过第二真空腔室排200，从而以使装载于基片架700的第二侧的基片20完成真空脱气镀膜，接着当卸载完基片架700相对两侧完成镀膜的基片20以后，第一转移机构300将相对两侧重新装载有基片20的基片架700由第二真空腔室排200转移至第一真空腔室排100，以实现对重新装载于基片架700相对两侧的基片20的下一个真空镀膜循环，因此，上述真空镀膜装置10通过第一驱动机构500、第二转移机构400、第二驱动机构600及第一转移机构300的相互配合，能够实现对装载于基片架700相对两侧的基片20的真空脱气镀膜和连续输送，大大提高了基片20的真空脱气镀膜效率，降低生产成本，自动化和连续化程度高，能源消耗少。

如图1所示，在本实施例中，第一方向及第二方向均为线性方向，具体的，第一方向为X方向，第二方向为Y方向。在一实施例中，第一真空腔室排100包括沿第一方向顺次排布的第一缓冲真空室110、第一真空镀膜室120及第二缓冲真空室130，第二真空腔室排200包括沿第二方向顺次排布的第三缓冲真空室210、第二真空镀膜室220及第四缓冲真空室230。第一缓冲真空室110用于对承载于基片架700相对两侧的基片20进行镀膜前的真空脱气，以去除基片20内残余的水分及其他杂质；第一真空镀膜室120用于对承载于基片架700的第一侧的基片20进行真空镀膜，第二缓冲真空室130和第三缓冲真空室210用于对承载于基片架700的第二侧的基片20进行镀膜前的真空脱气；第二真空镀膜室220用于对承载于基片架700的第二侧的基片20进行真空镀膜，第四缓冲真空室230用于对承载于基片架700相对两侧的基片20进行镀膜后的真空传输。

进一步地，在本实施例中，第一缓冲真空室110包括沿第一方向顺次排布且真空度逐渐增大的进口真空室112、进口真空锁定室114及进口真空过渡室116，第四缓冲真空室230包括沿第二方向顺次排布且真空度逐渐减小的出口真空过渡室232、出口真空锁定室234及出口真空室236。

具体在本实施例中，进口真空室112、进口真空锁定室114及进口真空过渡室116通过阀门150依次连通，进口真空过渡室116、第一真空镀膜室120及第二缓冲真空室130依次连通，第三缓冲真空室210、第二真空镀膜室220及出口真空过渡室232依次连通，出口真空过渡室232、出口真空锁定室234及出口真空室236通过阀门150依次连通。

进一步地，进口真空室112与出口真空室236并排且对齐设置，进口真空锁定室114与出口真空锁定室234并排且对齐设置，进口真空过渡室116与出口真空过渡室232并排且对齐设置，第一真空镀膜室120与第二真空镀膜室220并排且对齐设置，第二缓冲真空室130与第三缓冲真空室210并排且对齐设置。

在一实施例中，以图1所示的视角为例，当第二真空腔室排200位于第一真空腔室排100的正上方时，出口真空室236位于进口真空室112的正上方，出口真空锁定室234位于进口真空锁定室114的正上方，出口真空过渡室232位于进口真空过渡室116的正上方，第二真空镀膜室220位于第一真空镀膜室120的正上方，第三缓冲真空室210位于第二缓冲真空室130的正上方。

类似地，在另一实施例中，当第二真空腔室排200位于第一真空腔室排100的正下方时，出口真空室236位于进口真空室112的正下方，出口真空锁定室234位于进口真空锁定室114的正下方，出口真空过渡室232位于进口真空过渡室116的正下方，第二真空镀膜室220位于第一真空镀膜室120的正下方，第三缓冲真空室210位于第二缓冲真空室130的正下方。当第二真空腔室排200位于第一真空腔室排100的正前方，或者第二真空腔室排200位于第一真空腔室排100的正后方时，出口真空室236与进口真空室112、出口真空锁定室234与进口真空锁定室114、出口真空过渡室232与进口真空过渡室116、第二真空镀膜室220与第一真空镀膜室120，以及第三缓冲真空室210与第二缓冲真空室130的位置关系与第二真空腔室排200位于第一真空腔室排100的正下方时的情况类似。在此不再一一赘述。

如图1所示，在一实施例中，第一真空镀膜室120内设有第一镀膜靶122，第一镀膜靶122用于向沿第一方向经过该第一镀膜靶122并装载于基片架700的第一侧的基片20溅射沉积膜层，以实现对装载于基片架700的第一侧的基片20的镀膜加工。

进一步地，当基片架700沿第一方向经过第一镀膜靶122时，基片架700的第一侧朝向第一镀膜靶122，且基片架700的第二侧背离第一镀膜靶122。如此设置，当第一镀膜靶122在对沿第一方向经过该第一镀膜靶122并装载于基片架700的第一侧的基片20溅射沉积膜层时，由于基片架700能够对第一镀膜靶122溅射的沉积膜层进行隔挡，从而可以避免第一镀膜靶122溅射的沉积膜层出射到装载于基片架700的第二侧的基片20上，避免该装载于基片架700的第二侧的基片20被第一镀膜靶122溅射的沉积膜层误镀。

进一步地，在一实施例中，第二真空镀膜室220内设有第二镀膜靶222，第二镀膜靶222用于向沿第二方向经过该第二镀膜靶222并装载于基片架700的第二侧的基片20溅射沉积膜层，以实现对装载于基片架700的第二侧的基片20的镀膜加工。

进一步地，当基片架700沿第二方向经过第二镀膜靶222时，基片架700的第一侧背离第二镀膜靶222，且基片架700的第二侧朝向第二镀膜靶222。如此设置，当第一镀膜靶122在对沿第二方向经过该第二镀膜靶222并装载于基片架700的第二侧的基片20进行溅射沉积膜层时，由于基片架700能够对第二镀膜靶222溅射的沉积膜层进行隔挡，从而可以避免第二镀膜靶222溅射的沉积膜层出射到装载于基片架700的第一侧的基片20上，避免该装载于基片架700的第一侧镀膜完成的基片20被第二镀膜靶222溅射的沉积膜层二次镀膜。

如图1及图2所示，在一实施例中，上述真空镀膜装置10还包括第一箱体800、第二箱体810、第三箱体820、第四箱体830、第五箱体850、第一隔板860、第二隔板870、第三隔板880、第四隔板890及第五隔板892。第一箱体800、第二箱体810、第三箱体820、第四箱体830及第五箱体850沿第一方向顺次排布；第一隔板860将第一箱体800分割成进口真空室112与出口真空室236；第二隔板870将第二箱体810分割成进口真空锁定室114与出口真空锁定室234；第三隔板880将第三箱体820分割成进口真空过渡室116与出口真空过渡室232；第四隔板890将第四箱体830分割成第一真空镀膜室120与第二真空镀膜室220；第五隔板892将第五箱体850分割成第二缓冲真空室130与第三缓冲真空室210。

如图3所示，进一步地，在一实施例中，第一转移机构300包括第一移载台320和用于与基片架700相配合的第一传动组件340，第一传动组件340与第一移载台320连接，第一移载台320能够通过第一传动组件340带动基片架700沿第三方向及第四方向移动，第一传动组件340能够带动基片架700沿第一方向移动，第三方向为第一真空腔室排100至第二真空腔室排200的方向，第四方向为由第二真空腔室至第一真空腔室排100的方向，进而以实现基片架700由第二真空腔室排200向第一真空腔室排100的连续转移，在本实施例中，第三方向及第四方向为线性方向，第三方向为Z方向，第四方向为W方向，第三方向与第一方向及第二方向垂直，第四方向与第一方向及第二方向垂直。

如图3所示，进一步地，第一传动组件340包括用于与基片架700相配合的多个第一带轮342、多个第一同步带344及第一驱动件。多个第一带轮342转动设于第一移载台320上并沿第一方向顺次间隔排布，各个第一同步带344套设在任意相邻的两个第一带轮342上，第一驱动件与其中一个第一带轮342连接，第一驱动件能够驱动与其连接的一个第一带轮342转动，以通过各个第一同步带344带动其余的第一带轮342同步转动，进而带动基片架700沿第一方向移动。

在一实施例中，进一步地，第二转移机构400用于在真空条件下将基片架700由第一真空腔室排100转移至第二真空腔室排200。通过上述结构的设置，从而可以减小基片架700在大气中的暴露时间，从而大大减少了基片架700吸收的大气中的水分及其他杂质的数量，使得基片架700自身的真空脱气负担大大减小，避免基片架700沿第二方向穿过第二真空腔室排200的过程中因基片架700自身吸收的大气中的水分及其他杂质的过量释放而影响承载于基片架700两侧的基片20的镀膜质量。

如图1及图4所示，进一步地，第二转移机构400包括真空转移室420、第二移载台440及用于与基片架700相配合的第二传动组件460，真空转移室420与第二缓冲真空室130及第三缓冲真空室210连通，第二移载台440设于真空转移室420内，第二传动组件460与第二移载台440连接，第二移载台440能够通过第二传动组件460带动基片架700沿第三方向及第四方向移动，第二传动组件460能够带动基片架700沿第二方向移动，进而以实现基片架700在真空条件下由第一真空腔室排100向第二真空腔室排200的连续转移。

如图4所示，进一步地，第二传动组件460包括用于与基片架700相配合的多个第二带轮462、蜗杆464、多个蜗轮466及第三驱动件，多个第二带轮462转动设于第二移载台440上并沿第二方向顺次间隔排布，且第二带轮462上设有啮轮468，蜗杆464转动设于第二移载台440上，多个蜗轮466固定间隔套设于蜗杆464上并与多个啮轮468一一对应啮合，第三驱动件与蜗杆464连接，第三驱动件能够驱动蜗杆464绕自身的轴向转动，以通过多个蜗轮466与多个啮轮468的啮合传动带动多个第二带轮462同步转动，进而带动基片架700沿第二方向移动。

如图5所示，在一实施例中，第一驱动机构500包括多个用于与基片架700相配合的多个第三带轮520、多个第二同步带540及第四驱动件，多个第三带轮520转动设于第一真空腔室排100内并沿第一方向顺次间隔排布，各个第二同步带540套设在任意相邻的两个第三带轮520上，第四驱动件与其中一个第三带轮520连接，第四驱动件能够驱动与其连接的一个第三带轮520转动，以通过各个第二同步带540带动其余的第三带轮520同步转动，进而带动基片架700沿第一方向穿过第一真空腔室排100。

如图5所示，进一步地，在一实施例中，第二驱动机构600包括多个用于与基片架700相配合的多个第四带轮620、多个第三同步带640及第五驱动件，多个第四带轮620转动设于第二真空腔室排200内并沿第二方向顺次间隔排布，各个第三同步带640套设在任意相邻的两个第四带轮620上，第五驱动件与其中一个第四带轮620连接，第五驱动件能够驱动与其连接的一个第四带轮620转动，以通过各个第三同步带640带动其余的第四带轮620同步转动，进而带动基片架700沿第二方向穿过第二真空腔室排200。

如图1及图6所示，在一实施例中，上述真空镀膜装置10还包括第一真空泵组900和第二真空泵组910，第一真空泵组900用于抽取第一真空腔室排100内的空气，第二真空泵组910用于抽取第二真空腔室排200内的空气。

进一步地，在本实施例中，第一真空泵组900包括第一粗真空泵组920、第二粗真空泵组930及第一扩散真空泵组940，第一扩散真空泵组940与第二粗真空泵组930连接，第一粗真空泵组920用于抽取进口真空室112内的空气，第一扩散真空泵组940用于在第二粗真空泵组930的配合下抽取进口真空锁定室114、进口真空过渡室116、第一真空镀膜室120及第二缓冲真空室130内的空气。

进一步地，第二真空泵组910包括第三粗真空泵组950、第四粗真空泵组960及第二扩散真空泵组970，第二扩散真空泵组970与第四粗真空泵组960连接，第三粗真空泵组950用于抽取出口真空室236内的空气，第二扩散真空泵组970用于在第四粗真空泵组960的配合下抽取出口真空锁定室234、出口真空过渡室232、第二真空镀膜室220及第三缓冲真空室210内的空气。

进一步地，上述真空镀膜装置10还包括第三真空泵组980，第三真空泵组980用于抽取真空转移室420内的空气。在本实施例中，第三真空泵组980包括第三扩散真空泵组982和第四扩散真空泵组984，第三扩散真空泵组982与第二粗真空泵组930连接，第三扩散真空泵组982用于在第二粗真空泵组930的配合下抽取真空转移室420内的空气，第四扩散真空泵组984与第四粗真空泵组960连接，第四扩散真空泵组984用于在第四粗真空泵组960的配合下抽取真空转移室420内的空气。

如图6所示，在一实施例中，上述真空镀膜装置10还包括电控柜990和电源柜992，电控柜990用于控制真空镀膜装置10的参数调节，电源柜992用于向真空镀膜装置10提供电力。

以上实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (13)

1.一种真空镀膜装置，其特征在于，包括：第一真空腔室排、第二真空腔室排、第一转移机构、第二转移机构、第一驱动机构、第二驱动机构及基片架，所述第一转移机构、所述第一真空腔室排、所述第二转移机构及所述第二真空腔室排顺次排布以形成循环，所述第一真空腔室排及所述第二真空腔室排均位于所述第一转移机构与所述第二转移机构之间，由所述第一转移机构至所述第二转移机构的方向为第一方向，由所述第二转移机构至所述第一转移机构的方向为第二方向；所述基片架的相对两侧均用于装载基片，所述第一驱动机构用于驱动所述基片架沿所述第一方向穿过所述第一真空腔室排，以使装载于所述基片架的第一侧的所述基片完成真空脱气镀膜；所述第二转移机构用于将所述基片架由所述第一真空腔室排转移至所述第二真空腔室排，以使所述基片架经由所述第二驱动机构带动沿所述第二方向穿过所述第二真空腔室排，从而以使装载于所述基片架的第二侧的所述基片完成真空脱气镀膜；所述第一转移机构用于将相对两侧重新装载有所述基片的所述基片架由所述第二真空腔室排转移至所述第一真空腔室排。

2.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述第一真空腔室排包括沿所述第一方向顺次排布的第一缓冲真空室、第一真空镀膜室及第二缓冲真空室，所述第二真空腔室排包括沿所述第二方向顺次排布的第三缓冲真空室、第二真空镀膜室及第四缓冲真空室。

3.根据权利要求2所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述第一缓冲真空室包括沿所述第一方向顺次排布且真空度逐渐增大的进口真空室、进口真空锁定室及进口真空过渡室，所述第四缓冲真空室包括沿所述第二方向顺次排布且真空度逐渐减小的出口真空过渡室、出口真空锁定室及出口真空室。

4.根据权利要求3所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述进口真空室与所述出口真空室并排且对齐设置，所述进口真空锁定室与所述出口真空锁定室并排且对齐设置，所述进口真空过渡室与所述出口真空过渡室并排且对齐设置，所述第一真空镀膜室与所述第二真空镀膜室并排且对齐设置，所述第二缓冲真空室与所述第三缓冲真空室并排且对齐设置。

5.根据权利要求3所述的真空镀膜装置，其特征在于，还包括第一箱体、第二箱体、第三箱体、第四箱体、第五箱体、第一隔板、第二隔板、第三隔板、第四隔板及第五隔板，所述第一箱体、所述第二箱体、所述第三箱体、所述第四箱体及第五箱体沿所述第一方向顺次排布；所述第一隔板将所述第一箱体分割成所述进口真空室与所述出口真空室；所述第二隔板将所述第二箱体分割成所述进口真空锁定室与所述出口真空锁定室；所述第三隔板将所述第三箱体分割成所述进口真空过渡室与所述出口真空过渡室；所述第四隔板将所述第四箱体分割成所述第一真空镀膜室与所述第二真空镀膜室；所述第五隔板将所述第五箱体分割成所述第二缓冲真空室与所述第三缓冲真空室。

6.根据权利要求2所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述第一真空镀膜室内设有第一镀膜靶，所述第一镀膜靶用于向沿所述第一方向经过所述第一镀膜靶并装载于所述基片架的第一侧的所述基片溅射沉积膜层。

7.根据权利要求6所述的真空镀膜装置，其特征在于，当基片架沿所述第一方向经过所述第一镀膜靶时，所述基片架的第一侧朝向所述第一镀膜靶，且所述基片架的第二侧背离所述第一镀膜靶。

8.根据权利要求2所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述第二真空镀膜室内设有第二镀膜靶，所述第二镀膜靶用于向沿所述第二方向经过所述第二镀膜靶并装载于所述基片架的第二侧的所述基片溅射沉积膜层。

9.根据权利要求8所述的真空镀膜装置，其特征在于，当所述基片架沿所述第二方向经过所述第二镀膜靶时，所述基片架的第一侧背离所述第二镀膜靶，且所述基片架的第二侧朝向所述第二镀膜靶。

10.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述第一转移机构包括第一移载台和用于与所述基片架相配合的第一传动组件，所述第一传动组件与所述第一移载台连接，所述第一移载台能够通过所述第一传动组件带动所述基片架沿第三方向及第四方向移动，所述第一传动组件能够带动所述基片架沿所述第一方向移动，所述第三方向为由所述第二真空腔室至所述第一真空腔室排的方向，所述第四方向为由所述第二真空腔室至所述第一真空腔室排的方向。

11.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述第二转移机构用于在真空条件下将所述基片架由所述第一真空腔室排转移至所述第二真空腔室排。

12.根据权利要求11所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述第二转移机构包括真空转移室、第二移载台及用于与所述基片架相配合的第二传动组件，所述第二移载台设于所述真空转移室内，所述第二传动组件与所述第二移载台连接，所述第二移载台能够通过所述第二传动组件带动所述基片架沿第三方向及第四方向移动，所述第二传动组件能够带动所述基片架沿所述第二方向移动，所述第三方向为由所述第二真空腔室至所述第一真空腔室排的方向，所述第四方向为由所述第二真空腔室至所述第一真空腔室排的方向。

13.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于，还包括第一真空泵组和第二真空泵组，所述第一真空泵组用于抽取所述第一真空腔室排内的空气，所述第二真空泵组用于抽取所述第二真空腔室排内的空气。