CN1812071B - 基板处理装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种基板处理装置，用于减少设置所必需的占地面积，可以用简单的结构以倾斜姿态搬送基板，降低设备成本。搬送方向转换部(40)转换搬送方向，通过该倾斜搬送部(49)，在大致维持通过第一搬送路(41)的梯度而处于倾斜姿态的状态不变的条件下，将在第一处理部(20)实施处理后的基板搬送到第二搬送路(43)。液体供给部向由此倾斜搬送部(49)搬送的基板(B)的主面供给处理液。在第二搬送路(43)以及第二处理部(30)，使由倾斜搬送部(49)保持为倾斜姿态的基板，以原姿态在与第一处理部20相反方向上进行搬送和处理。

Description

基板处理装置

技术领域

本发明涉及一种使用于液晶显示装置、PDP(plasma display panel：等离子显示器)、或各种半导体装置的制造工序，对液晶显示用玻璃基板、PDP用玻璃基板、半导体芯片或光掩模用玻璃基板等的各种基板分别实施规定处理的基板处理装置。

背景技术

一直以来，公知有下述基板处理装置：例如，如专利文献1所示，各处理部配置为俯看大致呈“コ”字形状，对基板实施抗蚀膜涂敷处理、曝光处理、显影处理等预先设定的一系列处理。此基板处理装置具有：将从基板容纳箱取出的基板向单方向搬送的同时施加规定处理的第一搬送路51；使完成了在此第一搬送路51的处理的基板的搬送方向转换的反转路径53；将从此反转路径53接到的基板向与第一搬送路51的搬送方向相反方向搬送的同时对基板施加规定处理的第二搬送路52，装置整体是俯视大致呈“コ”字形状的结构。

在此专利文献1所示的基板处理装置中，上述反转路径53具有在使基板倾斜状态搬送的倾斜搬送机构，通过此倾斜状态的基板搬送，可以减少在对基板供给处理液时从基板溅出的液体。

此外，作为将水平状态的基板变为倾斜姿态的机构，提案有专利文献2所示的基板姿态变更装置。此基板姿态变更装置，如专利文献2的图2所示，具有将基板B以倾斜姿态搬送的部分支承型滚柱93，在此部分支承型滚柱93的上游侧设置的、将水平姿态的基板B变更为倾斜姿态并引导到部分支承型滚柱93的入口侧移动装载装置3，通过让具备与基板B的搬送方向垂直的轴心且并列设置的多个单位滚柱R1～R5各自在水平姿态和倾斜姿态之间做姿态变更的多个子气缸C1～C5，让基板B在水平姿态和倾斜姿态之间变更姿态。

专利文献1：JP特开2000-31239号公报。

专利文献2：JP特开平9-226916号公报。

但是，在使用了上述的基板姿态变更装置的基板处理装置中，为了将水平姿态的基板变更为倾斜姿态，需要复杂的机构(专利文献2的图2等)，成本也会增高。此外，由于将此基板姿态变更装置追加并设置到了基板搬送路上，势必增大了为设置基板处理装置而需要的占地面积。

发明内容

本发明是鉴于这种状况而提出的，目的在于提供一种基板处理装置，其能够减少设置所需的占地面积，用简单的机构以倾斜姿态搬送基板，并能够降低设备的成本。

本发明的基板处理装置具备：第一处理部，其在向预先设定的方向搬送基板的同时处理该基板；第二处理部，其与上述第一处理部大致平行地配置，在向与上述预先设定的方向相反方向搬送基板的同时处理该基板；搬送方向转换部，其在上述第一处理部的基板搬送结束端和上述第二处理部的基板搬送开始端之间搬送基板的同时，将在上述第一处理部的基板搬送方向转换为在上述第二处理部的基板搬送方向，该基板处理装置的特征在于，上述搬送方向转换部具有：第一搬送路，其从上述第一处理部的基板搬送结束端接受基板，且朝向上述第一处理部的基板搬送方向具有梯度；第二搬送路，其朝向上述第二处理部的基板搬送开始端搬送基板，并朝向上述第二处理部的基板搬送方向具有梯度，并且，上述第二搬送路具有的梯度是向与上述第一搬送路具有的朝向上述第一处理部的基板搬送方向的梯度相反的方向倾斜的梯度；倾斜搬送部，其在大致维持基于上述第一搬送路具有的上述梯度而倾斜的基板的姿态的状态下向第二搬送路搬送基板；液体供给单元，其向由上述倾斜搬送部搬送的基板的主面供给处理液。

这种结构中，将在第一处理部实施处理后的基板，由搬送方向转换部转换搬送方向，并通过该倾斜搬送部，在大致维持因第一搬送路的梯度而处于倾斜姿态不变的状态下，搬送到第二处理部。液体供给单元对由此倾斜搬送部搬送的基板的主面供给处理液，在第二处理部，将此基板向与第一处理部相反方向搬送的同时进行处理。

本发明的基板处理装置在上述基板处理装置的基础上，上述第二搬送路具有的朝向上述第二处理部的基板搬送方向的梯度是向与上述第一搬送路具有的朝向上述第一处理部的搬送方向的梯度相反的方向倾斜的梯度。

此结构如下的结构：相对基板搬送方向、具有与第一搬送路的梯度相反方向倾斜的梯度的第二搬送路，在大致保持由基板搬送部产生的倾斜状态不变的状态下，将大致保持着因第一搬送路梯度引起的倾斜姿态且从倾斜搬送部搬来

的基板，朝向第二处理部的基板搬送开始端搬送，从而从第一搬送路和基板搬送部向第二搬送路，不变更基板的该倾斜姿态地搬送基板。

本发明的基板处理装置，在上述基板处理装置的基础上，在上述第一搬送路设置有搬送方向转换装置，该搬送方向转换装置在维持由该第一搬送路的梯度赋予的基板倾斜姿态不便的状态下，将基板搬送方向转换到与上述第一处理部的基板搬送方向垂直的方向。

上述倾斜搬送部，使从上述搬送方向转换装置接受到的基板，向与上述第一处理部的基板搬送方向相同并且与该倾斜搬送部的基板搬送方向垂直的方向倾斜，并搬送该基板。

在此结构中，在维持由第一搬送路的梯度赋予的基板倾斜姿态不变的状态下，通过搬送方向转换装置，转换基板的搬送方向，在倾斜搬送部中，不变更在第一搬送路倾斜的基板的状态，搬送此方向转换后的基板，保持到此时的倾斜姿态不变的状态下搬送到第二搬送路。

本发明的基板处理装置，在上述基板处理装置的基础上，在上述第二搬送路还设置有搬送方向转换装置，该搬送方向转换装置，在维持由上述倾斜搬送部搬送的基板的倾斜姿态不变的状态下，将基板搬送方向转换到上述第二处理部的基板搬送方向。

根据此结构，在将基板从倾斜搬送部搬送到第二搬送路后，维持到此时的倾斜姿态不变的状态下，朝向第二处理部转换基板搬送方向，将基板搬送到第二处理部。

本发明的基板处理装置，在上述基板处理装置的基础上，在上述第一处理部或第二处理部设置有基板交接机构，其形成有与上述第一搬送路或第二搬送路的梯度相同的梯度，在从基板容纳箱取出放入基板的基板搬送机械手之间交接基板，将基板载置在上述第一处理部或第二处理部。

根据此结构，即使在第一处理部或第二处理部，由其梯度使基板成为倾斜姿态，可以在基板处理时提高在基板表面上的处理液的处理，而提高处理效率。此外，通过基板交接机构，可以在具有梯度的第一处理部或第二处理部与基板搬送机械臂之间流畅地进行基板的交接。

根据本发明，因为倾斜搬送部大致保持因第一处理部的梯度而成为倾斜姿态的状态不变，将在第一处理部实施处理后的基板搬送到第二处理部，所以可以用简单的机构以倾斜姿态搬送基板，相应能够降低此部分的设备成本。此外，由于在由倾斜搬送部进行的搬送中，液体供给单元对基板供给处理液，所以没有必要仅为了设置液体供给单元而留出多余的设置面积，所以可以减少该基板处理装置设置所必需的占地面积。

根据本发明，第二搬送路，大致保持由于基板搬送部而倾斜的状态不变，朝向第二处理部的基板搬送开始端搬送基板，所以到第二处理部为止，可用简单的机构以倾斜姿态搬送基板，相应能够得到降低设备成本的效果。

根据本发明，即使不设置复杂结构的基板姿态更换机构，也可以将由于第一搬送路梯度而倾斜的基板，保持原姿态不变地转换搬送方向，搬送到第二搬送路。

根据本发明，即使不设置复杂结构的基板姿态立起机构，也可以使通过第一搬送路的梯度以及倾斜搬送部成为倾斜状态的基板，保持原姿态不变，将到此时为止的基板搬送方向转换到在第二处理部的基板搬送方向，将基板搬送到第二处理部。

根据本发明，即使在第一处理部或第二处理部，由其梯度而使基板成为倾斜姿态，可以在基板处理时提高在基板表面上的处理液的处理，提高处理效率，通过基板交接机构，可以在具有梯度的第一处理部或第二处理部与基板搬送机械臂之间流畅地进行基板的交接。

附图说明

图1是表示本发明第一实施方式涉及的基板处理装置的概略的俯视图。

图2是从各侧面看到的表示图1所示的基板处理装置的概略的图，图2A是表示从第一处理部开始的搬送方向转换部的侧视图，图2B是搬送方向转换部的侧面立体图，图2C是表示从搬送方向转换部开始的第二处理部的侧视图。

图3是表示基板立起装置的一个实施方式的说明图，其中图3A是表示水平姿态的基板B被载置在基板立起装置上的侧视图，图3B是与图3A相同状态的后视图，图3C是表示基板立起装置上的基板转移到了第一处理部的基板搬送路的状态的侧视图，图3D是与图3C相同的后视图。

图4是表示基板处理装置的一部分的立体图，是表示基板在第一处理部被搬送的状态的图。

图5是表示基板处理装置的一部分的立体图，是表示搬入第一搬送路的基板被搬出到倾斜搬送部的状态的图。

图6是表示基板处理装置的一部分的立体图，是表示搬入到第二搬送路的基板向第二处理部搬出的状态的图。

图7是表示基板升降装置附近的第一搬送路的俯视图。

图8A、图8B、图8C是分别表示基板交接时的基板升降装置的动作的图，是从图4的+X方向看到的侧视图。

图9是表示交接基板时搬送方向转换部的各部分的动作、从图4的-Y方向看到的概略侧视图，图9A是表示基板升降装置附近的第一搬送路部分的侧视图，图9B是表示从基板升降装置到倾斜搬送部以及基板升降装置所涉及的第一搬送路、倾斜搬送部以及第二搬送路部分的图，图9C是表示基板升降装置附近的第二搬送路部分的侧视图。

图10是从侧面看到的表示本发明的第二实施方式涉及的基板处理装置的说明图，图10A是表示本发明的第二实施方式涉及的基板处理装置的第一处理部的概略结构的侧视图，图10B是表示本发明的第二实施方式涉及的基板处理装置的第二处理部的概略结构的侧视图。

具体实施方式

图1是表示本发明第一实施方式涉及的基板处理装置概略的俯视图。图2是从各个侧面看到的表示图1所示的基板处理装置概略的图，图2A是表示从第一处理部开始的搬送方向转换部的侧视图，图2B是搬送方向转换部的侧面立体图，图2C是表示从第二处理部开始的搬送方向转换部的侧视图。

本实施方式涉及的基板处理装置10是对基板B实施预先设定的一系列处理的装置，如图1所示，具有：在将从基板容纳箱C搬出的基板B向图1的右方向搬送的同时对此基板B实施一系列处理的第一处理部20；将完成在此第一处理部20的处理的基板B向与第一处理部20的搬送方向相反方向搬送的同时实施进一步处理的第二处理部30。这些第一处理部20和第二处理部30，通过将基板B从第一处理部20的下游侧转运到第二处理部30的上游侧的搬送方向转换部40来相互连接。为此，基板处理装置10成为俯视大致为“コ”字形状的状态。

另一方面，在基板处理装置10的第一处理部20的上游侧和第二处理部30的下游侧相应的地方，配置有容纳基板B的多个基板收纳箱C和具有从此基板容纳箱C取出放入基板B的机械手部R的分度器部11。成为处理对象的基板B从基板容纳箱C依次被机械手部R搬出并被搬送到第一处理部20。结束了处理的基板B通过机械手部R从第二处理部30返回到基板容纳箱C。

如图1和图2A所示，第一处理部20具备：基板立起装置21，其接受通过机械手部R以水平姿态从基板容纳箱C搬送来的基板B，并将基板B的姿态变更为与第一处理部20内的基板搬送路(搬送路)29的梯度相配合的倾斜姿态；紫外线照射部22，其对以与上述梯度配合的倾斜姿态被搬送的基板B，照射紫外线来分解处理附着在该基板B上的由有机物构成的污垢。在本实施方式中，第一处理部20内的基板搬送路(搬送路)29，以多根基板搬送滚柱12朝向基板搬送方向并成为前端向下的下坡的方式形成。

通过机械手部R以水平姿态从基板容纳箱C搬出来的基板B，以水平姿态被载置在基板立起装置21的基板载置部211的销2111上，如果此基板载置部211通过气缸212下降，则基板载置部211上的基板转移到基板搬送路29上。如图2A所示，基板搬送路29具有朝向基板搬送方向前端向下的下坡。由此，基板B在转移到具有下坡的基板搬送路29时，从水平姿态切换到倾斜姿态。

在紫外线照射部22，以从上下夹持着第一处理部20的方式设置有紫外线灯221，由省略了图示的驱动马达的驱动来旋转驱动基板搬送滚柱12而被搬送的基板B，通过对表面和背面照射来自这些紫外线灯221的紫外线，附着在基板B的有机物的污垢分解，使得在之后的洗涤处理中容易被清除。

如图2C所示，第二处理部30的基板搬送路39的构成如下，即，多根基板搬送滚柱12以相对基板搬送方向形成上坡的方式，朝向下游侧(图2的左方)前端上升地并列设置。如图1以及图2C所示，此第二处理部30具备：干燥部31，其对从搬送方向转换部40开始以沿着基板搬送路39的上坡的倾斜姿态搬送来的基板B实施干燥处理；基板搬出部32，其用于使机械手部R接受基板B。在此基板搬出部32设置有基板立起装置21，该基板立起装置21将通过干燥部31实施了干燥处理的基板B的倾斜姿态恢复到水平姿态，以便可由机械手部R接收基板B。

干燥部31对在搬送方向转换部40进行了洗涤处理后的基板B实施干燥处理。在干燥部31设置有以从上下夹持着基板搬送路39的方式配设的一对风刀311。各风刀311具有在各自的对向面侧向宽度方向延长的长尺状的喷气孔，来自省略图示的压缩空气源的洁净压缩空气从这些喷气孔喷出。由此，润湿的基板B在由基板搬送滚柱12的搬送而通过风刀311之间时，由从上下风刀311的喷气孔喷出的干燥用的洁净空气吹掉附着在其表面和背面的洗涤液，由此基板B的表面和背面干燥。

在基板搬出部32，在干燥部31实施了干燥处理的基板B，通过基板立起装置21，姿态从沿着基板搬送路39的倾斜姿态变更为水平姿态。即，通过基板立起装置21的基板载置部211的销2111，将在基板搬送滚柱12上的倾斜姿态的基板B，从基板搬送滚柱12之间向上方举起而处于水平姿态，成为机械手部R可接到的状态。

搬送方向转换部40，将从第一处理部20搬送来的基板B，以不改变其朝向和倾角的方式搬送到第二处理部30(图1和图2B)。即，基板B在第一处理部20的下游侧，成为具有与基板搬送路29的下坡相同角度的倾斜状态，但搬送方向转换部40，保持相对此基板B的基板搬送方向前端向下的倾斜姿态不变，将基板搬送方向转换90度，搬送到第二处理部30的上游侧，再将基板搬送方向转换90度，保持此时的倾斜姿态不变，朝向第二处理部30搬送基板B。

如图1以及图2B所示，搬送方向转换部40，具备：将基板B连接到第一处理部20的下游侧来配设的第一搬送路41；在此第一搬送路41设置的基板升降装置60；将从此基板升降装置60接收的基板B以倾斜姿态搬送的倾斜搬送部49；对由此倾斜搬送部49搬送的基板B供给处理液的液体供给部42；在第二处理部30的上游侧并列设置的第二搬送路43；将在液体供给部42实施了处理的基板B从倾斜搬送部49转移到第二搬送路43的基板升降装置80。

被搬入到液体供给部42的基板B由从处理液供给装置(液体供给单元)421供给的处理液进行基板表面处理。即，在从第一处理部20向第二处理部30搬送基板B的动作的同时，对基板B进行预先设定的处理。

如果将基板B从倾斜搬送部49搬送到第二搬送路43，则由基板升降装置80基板搬送方向进一步改变90度。此外，在基板升降装置80的基板搬送方 向上游侧，设置有精加工用的水洗淋浴431。被搬入基板搬送路39的基板B，在接收到从此水洗淋浴431撒出的洗涤水后，从第二搬送路43朝向第二处理部30搬送。基板升降装置80的基板载置部分以及第二搬送路43，相对第二搬送路43的基板搬送方向前端向上地倾斜，保持由倾斜搬送部49保持的基板倾斜状态(在与倾斜搬送部49的基板搬送方向垂直的方向，从水平状态开始倾斜的状态)不变，向与第一处理部20的基板搬送方向的相反方向搬送基板B。

图3是表示基板立起装置21的一个实施方式的说明图，其中图3A是表示水平姿态的基板B被载置在基板立起装置21上的侧视图，图3B是与图3A相同状态的后视图，图3C是表示基板立起装置21上的基板B转移到第一处理部20的基板搬送路29的状态的侧视图，图3D是与图3C相同的后视图。

在本实施方式中，基板立起装置21设置在第一处理部20的基板搬送方向上游侧和第二处理部30的基板搬送方向下游侧。如图3中的各图所示，基板立起装置21具有载置基板B的基板载置部211以及使此基板载置部211升降的升降机构即气缸212。基板载置部211，通过4根销2111支承基板B的下表面，这些销2111可从基板搬送滚柱12彼此的间隙向基板搬送路29的上方突出。

此基板载置部211，通过气缸212的升降，在销2111的上端位于由基板搬送滚柱12形成的基板搬送路29上方的上方位置L1和销2111的上端位于基板搬送路29下方的下方位置L2之间变换位置。

通过这样构成的基板立起装置21，在基板载置部211被设定位于上方位置L1的状态，如图3A所示，将由机械手部R(在图3省略图示)从基板容纳箱C搬出的基板B载置到基板载置部211的销2111的上端。在此状态，如果通过气缸212使基板载置部211下降，则基板载置部211所支承的基板B，如图3C所示，转移到第一处理部20内的基板搬送路29(基板搬送滚柱12)上，以后，通过基板搬送滚柱12的旋转驱动，在第一处理部20内被搬送。

此外，如图3C所示，在第二处理部30的基板搬送滚柱12上载置有基板B的状态，通过基板立起装置21的基板载置部211上升，基板B从第二处理部30转移到基板载置部211，成为可向机械手部R交接基板B的状态。

详细说明基板处理装置10的基板搬送。图4、图5以及图6是表示基板 处理装置10的一部分的立体图，表示从第一处理部20的下游侧到搬送方向转换部40和第二处理部30的上游侧之间涉及的部分。具体来说，图示图1以及图2中的紫外线照射部22(基板搬送路29)、第一搬送路41、基板升降装置60、倾斜搬送部49、第二搬送路43、基板升降装置80以及干燥部31(基板搬送路39)(省略紫外线灯221以及风刀311的图示)。此外，图4表示基板B在第一处理部20被搬送的状态，图5表示搬入第一搬送路41的基板B被搬出到倾斜搬送部49的状态，图6表示搬送到第二搬送路43的基板B向第二处理部30搬出的状态。另外，在图4～图6中，X-X方向为宽度方向，Y-Y方向为前后方向，特别是-X方向为左方，+X方向为右方，-Y方向为前方，+Y方向为后方。

说明从第一处理部20的基板搬送方向下游侧到搬送方向转换部40以及第二处理部30的基板搬送方向上游侧之间涉及的部分的基板B的搬送动作。从图1以及图2所示的分度器部11移动到第一处理部20的基板B，由第一处理部20的基板搬送路29向图4的+Y方向搬送，经过紫外线照射部22，被搬送到第一搬送路41。如果基板B被搬送到第一搬送路41，如图5所示，由基板升降装置60变换基板B的搬送方向，开始向该图+X方向搬送基板B。并且，如图5所示，基板B从基板升降装置60被交接到倾斜搬送部49，由倾斜搬送部49将基板B搬送到第二搬送路43的基板升降装置80。如果基板B被搬送到基板升降装置80，则基板B从基板升降装置80被交接到第二搬送路43的分开基板搬送滚柱121，基板B的搬送方向被变换为朝向第二处理部30的方向。此后，如图6所示，基板B由分开割板搬送滚柱121朝向第二处理部30的基板搬送路39被搬送。此基板B，经过干燥部31被搬送到第二处理部30的下游侧，被取到分度器部11。

接着用图4至图6详细地说明从第一处理部20的基板搬送方向下游侧到搬送方向转换部40以及第二处理部30的基板搬送方向上游侧所涉及的部分的结构。搬送方向转换部40，具备：在第一处理部20的基板搬送路29的下游侧设置的第一搬送路41以及基板升降装置60；在与由第一处理部20以及第二处理部30的基板搬送方向垂直的方向搬送基板B的倾斜搬送部49；在第二处理部30的上游侧设置的第二搬送路43以及基板升降装置80。

在基板处理装置10内具备：沿第一处理部20的基板搬送路29且相对设 置到第一搬送路41的基板搬送方向前端向下倾斜的第一框架13；从第二搬送路43开始沿第二处理部30的基板搬送路39且朝向基板搬送方向前端向上倾斜设置的第二框架14；在第一处理部20以及第二处理部30之间架设的后方框架15以及前方框架16。

在第一处理部20内的一对第一框架13的上边部之间以等间距并列设置多根基板搬送滚柱12，由此，朝向基板搬送方向前端向下地形成有第一处理部20的基板搬送路29和设置有基板升降装置60的第一搬送路41。此外，多根相同的基板搬送滚柱12，在第二处理部30中的一对第二框架14的上边部之间以等间距并列设置，由此向基板搬送方向前端向上地形成设置有基板升降装置80的第二搬送路43和第二处理部30的基板搬送路39。

第一处理部20的基板搬送路29设置到第一搬送路41为止。在第一搬送路41，在前后方向等间距地分别并列设置有基板搬送滚柱12和左右分开的一对分开基板搬送滚柱121。同样地，第二处理部30的基板搬送路39从第二搬送路43开始设置，在第二搬送路43，在前后方向等间距地分别并列设置有基板搬送滚柱12和左右分开的一对分开基板搬送滚柱121。这些分开基板搬送滚柱121通过具备规定的驱动马达的省略图示的驱动机构绕轴心驱动旋转。

除上述图4至图6，还参照图7至图9说明第一搬送路41以及第二搬送路43的基板升降装置60、80的结构。图7是表示基板升降装置60附近的第一搬送路41的俯视图，图8A、图8B、图8C是表示基板交接时的基板升降装置60动作的图，是从图4的+X方向看的侧视图。图9是表示交接基板时搬送方向转换部40的各部分的动作、从图4的-Y方向看的概略侧视图，图9A是表示基板升降装置60附近的第一搬送路41部分的侧视图，图9B是表示从基板升降装置60到倾斜搬送部49以及基板升降装置80所涉及的第一搬送路41、倾斜搬送部49以及第二搬送路43部分的图，图9C是表示基板升降装置80附近的第二搬送路43部分的侧视图。

如图7所示，基板升降装置60可在第一搬送路41的分开基板搬送滚柱121之间做升降动作地设置着。此基板升降装置60具备俯视呈矩形形状的前后方向为长尺状的滚柱支承框体61和在此滚柱支承框体61的前后方向一对边壁之间等间距架设的多根方向转换滚柱62。

如图8A所示，基板升降装置60的基板载置面以与基板搬送路29和第一 搬送路41相同的倾角设置，在从第一处理部20搬送基板B时，方向转换滚柱62位于下降到分开基板搬送滚柱121的下方的下方位置。由此，基板B，不会因分开基板搬送滚柱121的驱动而干涉方向转换滚柱62，被搬送到基板升降装置60的上方(图8B、图9A)。

如图4至图6所示，倾斜搬送部49的基板搬送滚柱12，带有与形成在第一处理部20以及第一搬送路41的前端向下的倾斜和形成在第二处理部30以及第二搬送路43的前端向上的倾斜相同的倾斜，架设在后方框架15以及前方框架16之间。此外，如图9B所示，倾斜搬送部49的基板搬送滚柱12，配置在相比配置有第一搬送路41以及第二搬送路43的基板搬送滚柱12以及分开基板搬送滚柱121的高度还高的位置，倾斜搬送部49中的基板B的搬送路，设定为高于第一搬送路41的基板搬送路。

第二处理部30所具备的基板升降装置80，虽然没有特别的图示，但是是与基板升降装置60相同的结构，具备滚柱支承框体81和方向转换滚柱82。并且，如图9B所示，基板升降装置80，在与倾斜搬送部49的基板搬送滚柱12的基板搬送位置相同的高度位置等待，从此基板搬送滚柱12接受基板B。此后，基板升降装置80，如果载置了基板B，则如图9C所示，下降到第二处理部30的分开基板搬送滚柱121的下方位置，基板B转移到第二搬送路43的分开基板搬送滚柱121以及基板搬送滚柱12。以后，通过分开基板搬送滚柱121以及基板搬送滚柱12的驱动，基板B朝向第二处理部30的基板搬送路39被搬送。

基板升降装置60以及基板升降装置80，通过由图示省略的气缸升降安装在滚柱支承框体61或81的下部的支承轴63或83，进行该载置部的上述升降动作。

接着，使用图8以及图9更详细地说明由基板升降装置60、80进行的基板B的搬送方向的转换动作。基板B向图4的+Y方向被搬送，经由第一处理部20被搬入第一搬送路41(图8A)，直至搬送到基板升降装置60的上方位置(图8B、图9A)，基板搬送滚柱12以及分开基板搬送滚柱121停止。

并且，基板升降装置60上升到比第一搬送路41的基板搬送滚柱12的基板搬送位置更上方的高度位置且与倾斜搬送部49的基板搬送滚柱12的基板搬送位置相同程度的高度位置(图8C、图9B)。由此，基板B在第一搬送路 41中，从基板搬送滚柱12转移到基板升降装置60上。

在此状态，当基板升降装置60的方向转换滚柱62旋转时，基板B的搬送方向，相对到此时的基板搬送方向(图4的+Y方向)变更90°，转换到图4的+X方向。由此，如图5所示，基板B从基板升降装置60向倾斜搬送部49的基板搬送滚柱12上移动。并且，倾斜搬送部49以及用双点划线表示的基板B表示在图9B上，基板B转移到倾斜搬送部49的基板搬送滚柱12上。如上所述，因为由基板升降装置60的基板载置面、以及倾斜搬送部49的基板搬送滚柱12形成的基板搬送路与第一搬送路41的基板搬送路相同的倾斜，所以从此基板B的基板升降装置60向倾斜搬送部49的基板搬送滚柱12的转移，保持到此时的倾斜姿态不变的状态来进行。另外，在倾斜搬送部49的搬送过程中，从液体供给部42(图1以及图2)向基板B供给处理液。

由倾斜搬送部49的基板搬送滚柱12进行的基板B的搬送过程中，基板升降装置80，上升到与倾斜搬送部49的基板搬送滚柱12形成的基板搬送位置相同高度即上方位置L1(图9B)，旋转驱动方向转换滚柱82。如果基板B被搬送到基板升降装置80上，到达基板升降装置80的大致中心位置，则停止此方向转换滚柱82。如果这样来将基板B载置于基板升降装置80，则如图9C所示，基板升降装置80，下降到第二搬送路43的基板搬送滚柱12以及分开基板搬送滚柱121的下方即下方位置L2为止。由此，基板B从基板升降装置80转移到第二搬送路43的基板搬送滚柱12以及分开基板搬送滚柱121上。

此后，如果旋转驱动第二搬送路43的基板搬送滚柱12以及分开基板搬送滚柱121，则基板B的搬送方向从到此时的搬送方向(图4的+X方向)变更90°，转换到图4的-Y方向。并且，如图6所示，基板B被从第二搬送路43朝向第二处理部30搬送。另外，在此过程中，从水洗淋浴431对基板B喷射洗涤水来实施精加工的水洗处理。

这样，根据本发明实施方式涉及的基板处理装置10，对从第一处理部20经由搬送方向转换部40搬送到第二处理部30的基板B，即使不采用现有的复杂结构的方向转换装置，也可以在总是维持第一处理部20被赋予的最初的倾斜姿态不变的状态下，进行各部分的处理。

接着，说明本发明的第二实施方式涉及的基板处理装置。图10是从侧面看到的表示本发明的第二实施方式涉及的基板处理装置10’的说明图，图10A 是表示本发明的第二实施方式涉及的基板处理装置10’的第一处理部20’的概略结构的侧视图，图10B是表示第二实施方式涉及的基板处理装置10’的第二处理部30’的概略结构的侧视图。在第二实施方式涉及的基板处理装置10’中，在第一处理部20’和第二处理部30’，基板搬送路29或39，至少水平地形成从基板立起装置21接受基板B的部分。因此，通过机械手部R从基板容纳箱C被搬出的基板B，以水平姿态载置在第一处理部20’的基板搬送路29或第二处理部30’的基板搬送路39。

并且，如图10A所示，在基板搬送路29的基板搬送方向下游侧位置，例如，在紫外线照射部22，通过并列设置的多根基板搬送滚柱12的滚柱而形成的基板搬送面，相对基板搬送方向前端向下，圆滑地与第一搬送路41的倾斜连接。例如，这些部分的基板搬送路29，形成为朝向上方凸出的圆弧状。

此外，在基板处理装置10’中，如图10B所示，第二处理部30’的基板搬送路39，以由基板搬送滚柱12形成的基板搬送面朝向该基板搬送方向下游侧(基板容纳箱C侧)前端向上的方式设置。例如，在干燥部31’附近，此部分的基板搬送路39被设定为向上凸出的圆弧状，在由第二处理部30的基板搬送方向下游侧的基板立起装置21进行基板B的交接的部分，基板搬送面被设定为水平。

另外，本发明不仅限于上述各实施方式所限定的内容，还包含以下的内容。

(1)在上述各实施方式中，第一处理部20的基板搬送路29，朝向搬送方向转换部40形成下坡的倾斜，第二处理部30的基板搬送路39，朝向分度器部11形成上坡的倾斜，但本发明不仅限于这样的第一处理部20以及第二处理部30的梯度。例如，可以是第一处理部20的基板搬送路29为上坡，第二处理部30的基板搬送路39为下坡。此时，搬送方向转换部40，保持通过第一处理部20的上坡而处于倾斜姿态的基板B的姿态不变，将基板B搬送到第二处理部30，保持此基板B的姿态不变，与第二处理部30的下坡的基板搬送连接。

(2)在上述的第一实施方式中，从第一处理部20和第二处理部30的基板搬送方向上游侧到下游侧实施梯度，在第二实施方式中，第一处理部20’的基板搬送方向上游侧的基板搬送面为水平，随着进入基板搬送方向下游侧，形成前端向下的梯度，第二处理部30’的基板搬送方向上游侧形成前端向上的梯 度，基板搬送方向下游侧的基板搬送面为水平，但也可以是由第一处理部20与第二处理部30’的组合、或第一处理部20’与第二处理部30的组合来构成基板处理装置。

(3)此外，本发明涉及的基板处理装置，也可以将第一处理部20和第二处理部30的任意一方或双方做成沿水平方向延伸的水平搬送路。此时，基板B在从第一处理部20被搬送到第一搬送路41时，姿态从水平姿态变更到倾斜姿态，或在从第二搬送路43被搬送到第二处理部30时，姿态从倾斜姿态变更到水平姿态。

(4)此外，在上述各实施方式中，第一处理部20具备紫外线照射部22，第二处理部30具备干燥部31以及基板搬出部32，但是这些仅是一个例子，第一处理部20以及第二处理部30所具备的处理部可以进行适宜的变更，而不仅限于上述内容。

Claims (4)

1.一种基板处理装置，具有：

第一处理部，其在向预先设定的方向搬送基板的同时处理该基板；

第二处理部，其与上述第一处理部大致平行地配置，在向与上述预先设定的方向相反方向搬送基板的同时处理该基板；

搬送方向转换部，其在上述第一处理部的基板搬送结束端和上述第二处理部的基板搬送开始端之间搬送基板的同时，将上述第一处理部的基板搬送方向转换为上述第二处理部的基板搬送方向，

其特征在于，上述搬送方向转换部具有：

第一搬送路，其从上述第一处理部的基板搬送结束端接受基板，并朝向上述第一处理部的基板搬送方向具有梯度；

第二搬送路，其朝向上述第二处理部的基板搬送开始端搬送基板，并朝向上述第二处理部的基板搬送方向具有梯度，并且，上述第二搬送路具有的梯度是向与上述第一搬送路具有的朝向上述第一处理部的基板搬送方向的梯度相反的方向倾斜的梯度；

倾斜搬送部，其在大致维持基于上述第一搬送路具有的上述梯度而倾斜的基板的姿态的状态下向第二搬送路搬送基板；

液体供给单元，其向由上述倾斜搬送部搬送的基板的主面供给处理液。

2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

在上述第一搬送路设置有搬送方向转换装置，该搬送方向转换装置在维持由该第一搬送路的梯度赋予的基板倾斜姿态不变的状态下，将基板搬送方向转换到与上述第一处理部的基板搬送方向垂直的方向，

上述倾斜搬送部，使从上述搬送方向转换装置接受到的基板，向与上述第一处理部的基板搬送方向相同并且与该倾斜搬送部的基板搬送方向垂直的方向倾斜，并搬送该基板。

3.如权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，在上述第二搬送路还设置有搬送方向转换装置，该搬送方向转换装置在维持由上述倾斜搬送部搬送的基板的倾斜姿态不变的状态下，将基板搬送方向转换到上述第二处理部的基板搬送方向。

4.如权利要求1至3中的任意一项所述的基板处理装置，其特征在于，在上述第一处理部或第二处理部设置有基板交接机构，该基板交接机构形成有与上述第一搬送路或第二搬送路的梯度相同的梯度，在从基板容纳箱取出放入基板的基板搬送机械手之间交接基板，将基板载置在上述第一处理部或第二处理部。

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