JP2001230299A - 基板処理設備 - Google Patents
基板処理設備Info
- Publication number
- JP2001230299A JP2001230299A JP2000041668A JP2000041668A JP2001230299A JP 2001230299 A JP2001230299 A JP 2001230299A JP 2000041668 A JP2000041668 A JP 2000041668A JP 2000041668 A JP2000041668 A JP 2000041668A JP 2001230299 A JP2001230299 A JP 2001230299A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- substrate processing
- processing line
- line
- horizontal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
- B65G49/00—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for
- B65G49/05—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles
- B65G49/06—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles for fragile sheets, e.g. glass
- B65G49/063—Transporting devices for sheet glass
- B65G49/064—Transporting devices for sheet glass in a horizontal position
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
- B65G49/00—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for
- B65G49/05—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles
- B65G49/06—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles for fragile sheets, e.g. glass
- B65G49/062—Easels, stands or shelves, e.g. castor-shelves, supporting means on vehicles
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
- B65G49/00—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for
- B65G49/05—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles
- B65G49/06—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles for fragile sheets, e.g. glass
- B65G49/067—Sheet handling, means, e.g. manipulators, devices for turning or tilting sheet glass
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
- B65G49/00—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for
- B65G49/05—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles
- B65G49/06—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles for fragile sheets, e.g. glass
- B65G49/068—Stacking or destacking devices; Means for preventing damage to stacked sheets, e.g. spaces
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
- B65G2249/00—Aspects relating to conveying systems for the manufacture of fragile sheets
- B65G2249/02—Controlled or contamination-free environments or clean space conditions
Landscapes
- Weting (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ラインの総長を低減でき、且つ処理途中の基
板表面の乾燥を防止できるＵターン形式の基板処理設備
を提供する。 【解決手段】 直線状の第１の基板処理ライン１０の出
側に、直線状の第２の基板処理ライン２０をＬ字状に接
続する。第２の基板処理ライン２０の出側に、直線状の
第３の基板処理ライン３０をＬ字状に接続する。第１の
基板処理ライン１０は、基板９０を側方に傾斜させた状
態で、水平方向に搬送しながら、前半部で薬液処理を行
い、後半部で洗浄処理を行う。第２の基板処理ライン２
０及び第３の基板処理ライン３０は、基板９０を水平状
態で水平方向に搬送しながら洗浄処理を行う。各ライン
交差部に、基板９０の搬送方向を転換する移載式の方向
転換装置５０1 ，５０2 を配置する。第１の方向転換装
置５０1 は、基板９０の表面に洗浄処理を行いつつ方向
転換を行い、且つ、基板９０を傾斜状態から水平状態へ
戻す。第２の方向転換装置５０2 は、基板９０の表面に
洗浄処理を行いつつ方向転換を行う。
板表面の乾燥を防止できるＵターン形式の基板処理設備
を提供する。 【解決手段】 直線状の第１の基板処理ライン１０の出
側に、直線状の第２の基板処理ライン２０をＬ字状に接
続する。第２の基板処理ライン２０の出側に、直線状の
第３の基板処理ライン３０をＬ字状に接続する。第１の
基板処理ライン１０は、基板９０を側方に傾斜させた状
態で、水平方向に搬送しながら、前半部で薬液処理を行
い、後半部で洗浄処理を行う。第２の基板処理ライン２
０及び第３の基板処理ライン３０は、基板９０を水平状
態で水平方向に搬送しながら洗浄処理を行う。各ライン
交差部に、基板９０の搬送方向を転換する移載式の方向
転換装置５０1 ，５０2 を配置する。第１の方向転換装
置５０1 は、基板９０の表面に洗浄処理を行いつつ方向
転換を行い、且つ、基板９０を傾斜状態から水平状態へ
戻す。第２の方向転換装置５０2 は、基板９０の表面に
洗浄処理を行いつつ方向転換を行う。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶用ガラス基板
等の基板表面にエッチング等のウエット処理を行う基板
処理設備に関し、更に詳しくは、その基板を水平方向に
搬送しながら処理する連続式の基板処理設備に関する。
等の基板表面にエッチング等のウエット処理を行う基板
処理設備に関し、更に詳しくは、その基板を水平方向に
搬送しながら処理する連続式の基板処理設備に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶用ガラス基板の製造プロセスでは、
レジスト膜の形成、エッチング及び剥離の各工程が順番
に基板に実施され、更にこれらの組み合わせが何回も基
板に繰り返される。それぞれの処理設備は、多数枚の基
板を定位置で順番にバッチ処理する枚葉式と、多数枚の
基板を水平方向に搬送しながら連続的に処理する連続式
とに大別される。
レジスト膜の形成、エッチング及び剥離の各工程が順番
に基板に実施され、更にこれらの組み合わせが何回も基
板に繰り返される。それぞれの処理設備は、多数枚の基
板を定位置で順番にバッチ処理する枚葉式と、多数枚の
基板を水平方向に搬送しながら連続的に処理する連続式
とに大別される。
【０００３】連続式の基板処理設備としては、従来はエ
ッチング液等による薬液処理から水洗処理まで１本の直
線状ラインで行う直進形式の設備が一般的とされていた
が、スペースの有効利用の点や搬入位置と搬出位置が遠
く離れる点で問題があるため、最近では２本の基板処理
ラインを、搬送ラインを介してＵ字形に接続したＵター
ン形式の設備（例えば特開平１１−３０２８７５号公報
参照）が主流になりつつある。
ッチング液等による薬液処理から水洗処理まで１本の直
線状ラインで行う直進形式の設備が一般的とされていた
が、スペースの有効利用の点や搬入位置と搬出位置が遠
く離れる点で問題があるため、最近では２本の基板処理
ラインを、搬送ラインを介してＵ字形に接続したＵター
ン形式の設備（例えば特開平１１−３０２８７５号公報
参照）が主流になりつつある。
【０００４】Ｕターン形式の基板処理設備では、例えば
第１の基板処理ラインでエッチング液等による薬液処理
とこれに続く水洗処理の一部が行われ、残りの水洗処理
が第２の基板処理ラインで行われる。第１の基板処理ラ
インで処理を終えた基板は、例えはロボットを使用した
移載機構によって第２の基板処理ラインに受け渡され
る。
第１の基板処理ラインでエッチング液等による薬液処理
とこれに続く水洗処理の一部が行われ、残りの水洗処理
が第２の基板処理ラインで行われる。第１の基板処理ラ
インで処理を終えた基板は、例えはロボットを使用した
移載機構によって第２の基板処理ラインに受け渡され
る。
【０００５】第１の基板処理ライン及び第２の基板処理
ラインでは、基板の表面に散布された液体の除去を促進
するために、基板を側方に傾斜させて搬送する傾斜処理
が行われることもある。
ラインでは、基板の表面に散布された液体の除去を促進
するために、基板を側方に傾斜させて搬送する傾斜処理
が行われることもある。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】従来のＵターン形式の
基板処理設備は、直進形式のものに比べると、工場内の
スペースを有効に活用できる上に、第１の基板処理ライ
ンに基板を搬入する位置と第２の基板処理ラインから基
板を取り出す位置とを接近させることができるなど、利
点が多いが、その一方では以下のような問題がある。
基板処理設備は、直進形式のものに比べると、工場内の
スペースを有効に活用できる上に、第１の基板処理ライ
ンに基板を搬入する位置と第２の基板処理ラインから基
板を取り出す位置とを接近させることができるなど、利
点が多いが、その一方では以下のような問題がある。
【０００７】第１の基板処理ラインと第２の基板処理ラ
インがロボット等による移載機構によって連結され、こ
の部分で処理が行われないため、ラインの総長が直進形
式のものより長くなり、設置スペースが必要以上に増大
する問題がある。
インがロボット等による移載機構によって連結され、こ
の部分で処理が行われないため、ラインの総長が直進形
式のものより長くなり、設置スペースが必要以上に増大
する問題がある。
【０００８】第１の基板処理ラインから第２の基板処理
ラインへ基板を移載する途中に基板の表面が乾燥する危
険性がある。処理途中に基板の表面が局部的にしろ乾燥
した場合はシミの発生や薬液のこびりつき、処理の均一
性不良など、処理後の製品に不良を発生させる原因をつ
くる危険性がある。
ラインへ基板を移載する途中に基板の表面が乾燥する危
険性がある。処理途中に基板の表面が局部的にしろ乾燥
した場合はシミの発生や薬液のこびりつき、処理の均一
性不良など、処理後の製品に不良を発生させる原因をつ
くる危険性がある。
【０００９】本発明の目的は、ラインの総長を低減で
き、且つ処理途中の乾燥を防止できるＵターン形式の基
板処理設備を提供することにある。
き、且つ処理途中の乾燥を防止できるＵターン形式の基
板処理設備を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の基板処理設備は、基板を水平方向に搬送し
ながらその表面にウエット処理を行う直線状の第１の基
板処理ラインと、第１の基板処理ラインの出口側にＬ字
状に接続され、第１の基板処理ラインから引き続いて基
板を水平方向に搬送しながらその表面にウエット処理を
行う直線状の第２の基板処理ラインと、第２の基板処理
ラインの出口側に、第１の基板処理ラインの側方に並列
するようにＬ字状に接続され、第２の基板処理ラインか
ら引き続いて基板を水平方向に搬送しながらその表面に
ウエット処理を行う直線状の第３の基板処理ラインと、
第１の基板処理ラインと第２の基板処理ラインの交差部
及び第２の基板処理ラインと第３の基板処理ラインの交
差部にそれぞれ配置されて基板の搬送方向を転換する方
向転換装置とを具備している。
に、本発明の基板処理設備は、基板を水平方向に搬送し
ながらその表面にウエット処理を行う直線状の第１の基
板処理ラインと、第１の基板処理ラインの出口側にＬ字
状に接続され、第１の基板処理ラインから引き続いて基
板を水平方向に搬送しながらその表面にウエット処理を
行う直線状の第２の基板処理ラインと、第２の基板処理
ラインの出口側に、第１の基板処理ラインの側方に並列
するようにＬ字状に接続され、第２の基板処理ラインか
ら引き続いて基板を水平方向に搬送しながらその表面に
ウエット処理を行う直線状の第３の基板処理ラインと、
第１の基板処理ラインと第２の基板処理ラインの交差部
及び第２の基板処理ラインと第３の基板処理ラインの交
差部にそれぞれ配置されて基板の搬送方向を転換する方
向転換装置とを具備している。
【００１１】本発明の基板処理設備では、並列配置され
た２つの基板処理ラインを連結する連結ラインで、基板
の搬送と合わせてそのウエット処理が行われるので、ラ
イン総長の低減が可能となり、且つ、処理途中の乾燥防
止が可能となる。
た２つの基板処理ラインを連結する連結ラインで、基板
の搬送と合わせてそのウエット処理が行われるので、ラ
イン総長の低減が可能となり、且つ、処理途中の乾燥防
止が可能となる。
【００１２】方向転換装置は、基板の表面にウエット処
理を行いつつ方向転換を行うものが、基板の乾燥をより
効果的に防止できる点から好ましい。
理を行いつつ方向転換を行うものが、基板の乾燥をより
効果的に防止できる点から好ましい。
【００１３】方向転換装置は又、下流側に接続される基
板処理ラインに続く複数の基板搬送ローラと、複数の基
板搬送ローラの間を昇降する複数の昇降アームのそれぞ
れに基板搬送ローラとほぼ直角な方向の複数のローラが
取付けられたリフターとを有するものが好ましい。この
装置構成によると、基板を回転させることなく、その搬
送方向が変更されるので、構造が簡単となる。
板処理ラインに続く複数の基板搬送ローラと、複数の基
板搬送ローラの間を昇降する複数の昇降アームのそれぞ
れに基板搬送ローラとほぼ直角な方向の複数のローラが
取付けられたリフターとを有するものが好ましい。この
装置構成によると、基板を回転させることなく、その搬
送方向が変更されるので、構造が簡単となる。
【００１４】第１の基板処理ラインは、基板を側方に傾
斜させて搬送する傾斜処理ラインであり、第２の基板処
理ライン及び第３の基板処理ラインは基板を水平姿勢で
搬送する水平処理ラインであることが好ましい。このラ
イン構成によると、傾斜姿勢での複雑な方向転換操作が
不要となり、ライン交差部に配置される方向転換装置の
構造が簡略化される。
斜させて搬送する傾斜処理ラインであり、第２の基板処
理ライン及び第３の基板処理ラインは基板を水平姿勢で
搬送する水平処理ラインであることが好ましい。このラ
イン構成によると、傾斜姿勢での複雑な方向転換操作が
不要となり、ライン交差部に配置される方向転換装置の
構造が簡略化される。
【００１５】第１の基板処理ラインを傾斜処理ラインと
し、第２の基板処理ライン及び第３の基板処理ラインを
水平処理ラインとしたライン構成の場合、第１の基板処
理ラインと第２の基板処理ラインの交差部に配置された
方向転換装置は、基板を傾斜状態から水平状態に変更す
る角度変更装置を兼ねる構成が好ましい。この装置構成
によると、上記交差部の構成が簡単になる。
し、第２の基板処理ライン及び第３の基板処理ラインを
水平処理ラインとしたライン構成の場合、第１の基板処
理ラインと第２の基板処理ラインの交差部に配置された
方向転換装置は、基板を傾斜状態から水平状態に変更す
る角度変更装置を兼ねる構成が好ましい。この装置構成
によると、上記交差部の構成が簡単になる。
【００１６】上記ライン構成の場合、第１の基板処理ラ
インは、薬液処理部とこれに続く水洗処理部の一部とを
構成し、第２の基板処理ライン及び第３の基板処理ライ
ンは、残りの水洗処理部を構成するライン構成が好まし
い。これによると、第２の基板処理ライン及び第３の基
板処理ラインを水平処理ラインとしたにもかかわらず、
水洗処理効率の低下が回避される。また、ここでの薬液
処理部は、基板の搬送方向に並列配置されると共に、そ
れぞれが水平面に対して基板の傾斜方向と同方向に傾斜
し、且つ、垂直面に対して互いに内側を向くように傾斜
した１対のスリットノズルにより、基板の表面に薬液を
供給する構成が好ましい。これによると、薬液処理が傾
斜状態で行われるにもかかわらず、基板の表面上に十分
な量の薬液が液溜まりとなって保持される。
インは、薬液処理部とこれに続く水洗処理部の一部とを
構成し、第２の基板処理ライン及び第３の基板処理ライ
ンは、残りの水洗処理部を構成するライン構成が好まし
い。これによると、第２の基板処理ライン及び第３の基
板処理ラインを水平処理ラインとしたにもかかわらず、
水洗処理効率の低下が回避される。また、ここでの薬液
処理部は、基板の搬送方向に並列配置されると共に、そ
れぞれが水平面に対して基板の傾斜方向と同方向に傾斜
し、且つ、垂直面に対して互いに内側を向くように傾斜
した１対のスリットノズルにより、基板の表面に薬液を
供給する構成が好ましい。これによると、薬液処理が傾
斜状態で行われるにもかかわらず、基板の表面上に十分
な量の薬液が液溜まりとなって保持される。
【００１７】即ち、傾斜処理は本来、基板上の洗浄水を
速やかに除去する必要がある水洗処理には有効である
が、流れむら防止のために基板上に所定量の薬液を所定
時間保持する必要がある薬液処理には不向きである。第
１の基板処理ラインを水平処理ラインとして薬液処理の
みを行い、第２の基板処理ライン及び第３の基板処理ラ
インを傾斜処理ラインとして水洗処理のみを行えば、こ
の矛盾は解消されるが、薬液処理に必要なライン長は、
水洗処理に必要なライン長に比べて極端に短いので、並
列配置される第１の基板処理ラインと第３の基板処理ラ
インの寸法的な振り分けが難しくなり、ライン構成が不
合理となる。
速やかに除去する必要がある水洗処理には有効である
が、流れむら防止のために基板上に所定量の薬液を所定
時間保持する必要がある薬液処理には不向きである。第
１の基板処理ラインを水平処理ラインとして薬液処理の
みを行い、第２の基板処理ライン及び第３の基板処理ラ
インを傾斜処理ラインとして水洗処理のみを行えば、こ
の矛盾は解消されるが、薬液処理に必要なライン長は、
水洗処理に必要なライン長に比べて極端に短いので、並
列配置される第１の基板処理ラインと第３の基板処理ラ
インの寸法的な振り分けが難しくなり、ライン構成が不
合理となる。
【００１８】この不合理を解消するために、本発明者ら
はライン構成について鋭意検討を行った。その結果、水
洗処理については、水洗処理ラインの上流部で基板を傾
斜させれば、それ以降では基板を水平姿勢に戻しても、
処理効率が殆ど低下しないことが判明した。また、薬液
処理については、上記の一対のスリットノズルによって
基板上に薬液を保持すれば、傾斜処理であっても効率的
な薬液処理が可能なことが判明した。これらにより、第
１の基板処理ラインの長さと第３の基板処理ラインの長
さの不釣り合いを回避しつつ、上記矛盾が解消されるこ
とになる。
はライン構成について鋭意検討を行った。その結果、水
洗処理については、水洗処理ラインの上流部で基板を傾
斜させれば、それ以降では基板を水平姿勢に戻しても、
処理効率が殆ど低下しないことが判明した。また、薬液
処理については、上記の一対のスリットノズルによって
基板上に薬液を保持すれば、傾斜処理であっても効率的
な薬液処理が可能なことが判明した。これらにより、第
１の基板処理ラインの長さと第３の基板処理ラインの長
さの不釣り合いを回避しつつ、上記矛盾が解消されるこ
とになる。
【００１９】なお、上記の一対のスリットノズルは、薬
液処理だけでなく洗浄処理にも有効であり、また、傾斜
搬送される基板の表面処理だけでなく裏面処理にも有効
である。更に、傾斜処理ラインもつ基板処理設備であれ
ば、その設備構成を問わず有効である。例えば、ブラシ
ング洗浄では、ブラシの前にこの組み合わせノズルを配
置することにより、ブラシ部に水溜まりが形成され、ブ
ラシング時の水切れが防止されることにより、基板への
傷つきが防止される。ブラシ後の場合は、ブラシング時
に発生したパーティクルが水溜まり中に浮遊してその再
付着が防止される。薬液処理での裏面処理に用いた場合
は、このスリットノズルによって一度薬液をかけて洗い
流すことにより、薬液が乾燥して発生する汚れやシミが
防止される。
液処理だけでなく洗浄処理にも有効であり、また、傾斜
搬送される基板の表面処理だけでなく裏面処理にも有効
である。更に、傾斜処理ラインもつ基板処理設備であれ
ば、その設備構成を問わず有効である。例えば、ブラシ
ング洗浄では、ブラシの前にこの組み合わせノズルを配
置することにより、ブラシ部に水溜まりが形成され、ブ
ラシング時の水切れが防止されることにより、基板への
傷つきが防止される。ブラシ後の場合は、ブラシング時
に発生したパーティクルが水溜まり中に浮遊してその再
付着が防止される。薬液処理での裏面処理に用いた場合
は、このスリットノズルによって一度薬液をかけて洗い
流すことにより、薬液が乾燥して発生する汚れやシミが
防止される。
【００２０】
【発明の実施の形態】以下に本発明の好ましい実施形態
を図面に基づいて説明する。図１は同実施形態に係る基
板処理設備のレイアウト図、図２は同基板処理設備に設
けられた第１の基板処理ラインの構成図、図３は第１の
基板処理ラインに設けられた薬液処理部でのノズル配置
状態の説明図、図４は第１の基板処理ラインと第２の基
板処理ラインの交差部に設けられた方向転換装置の構成
図である。
を図面に基づいて説明する。図１は同実施形態に係る基
板処理設備のレイアウト図、図２は同基板処理設備に設
けられた第１の基板処理ラインの構成図、図３は第１の
基板処理ラインに設けられた薬液処理部でのノズル配置
状態の説明図、図４は第１の基板処理ラインと第２の基
板処理ラインの交差部に設けられた方向転換装置の構成
図である。
【００２１】本実施形態の基板処理設備は、液晶用ガラ
ス基板のエッチング処理に使用されるものである。この
基板処理設備は、図１に示すように、直線状の第１の基
板処理ライン１０、第１の基板処理ライン１０の出口側
にＬ字状に接続された第２の処理ライン２０、及び第２
の処理ライン２０の出口側に、第１の基板処理ライン１
０の側方に並列するようにＬ字状に接続された第３の処
理ライン３０を備えている。これら基板処理ラインは、
液晶用ガラス基板９０（以下、単に基板９０という）を
水平方向に搬送しながらエッチング処理及びこれに付随
する各種処理を行う。
ス基板のエッチング処理に使用されるものである。この
基板処理設備は、図１に示すように、直線状の第１の基
板処理ライン１０、第１の基板処理ライン１０の出口側
にＬ字状に接続された第２の処理ライン２０、及び第２
の処理ライン２０の出口側に、第１の基板処理ライン１
０の側方に並列するようにＬ字状に接続された第３の処
理ライン３０を備えている。これら基板処理ラインは、
液晶用ガラス基板９０（以下、単に基板９０という）を
水平方向に搬送しながらエッチング処理及びこれに付随
する各種処理を行う。
【００２２】第１の基板処理ライン１０の入口側には、
当該基板処理設備に基板９０を搬入するために第１の移
載ロボット４０1 が設けられている。第１の移載ロボッ
ト４０1 は、乾燥装置６０の更に出側に横行し、処理後
の基板９０を当該基板処理設備から搬出するロボットと
しても使用される。第１の基板処理ライン１０と第２の
基板処理ライン２０の交差部には第１の方向転換装置５
０1 が設けられている。第２の基板処理ライン２０と第
３の基板処理ライン３０の交差部には第２の方向転換装
置５０2 が設けられている。第３の処理ライン３０の出
口側には、第２の移載ロボット４０2 を介して乾燥装置
６０が設けられている。
当該基板処理設備に基板９０を搬入するために第１の移
載ロボット４０1 が設けられている。第１の移載ロボッ
ト４０1 は、乾燥装置６０の更に出側に横行し、処理後
の基板９０を当該基板処理設備から搬出するロボットと
しても使用される。第１の基板処理ライン１０と第２の
基板処理ライン２０の交差部には第１の方向転換装置５
０1 が設けられている。第２の基板処理ライン２０と第
３の基板処理ライン３０の交差部には第２の方向転換装
置５０2 が設けられている。第３の処理ライン３０の出
口側には、第２の移載ロボット４０2 を介して乾燥装置
６０が設けられている。
【００２３】ここで、第１の基板処理ライン１０のライ
ン長と、第２の移載ロボット４０2、乾燥装置６０を含
めた第３の基板処理ライン３０のライン長は、ほぼ同じ
に設定されている。
ン長と、第２の移載ロボット４０2、乾燥装置６０を含
めた第３の基板処理ライン３０のライン長は、ほぼ同じ
に設定されている。
【００２４】第１の基板処理ライン１０は、基板９０を
側方へ所定角度で傾斜させた状態で処理を行う傾斜処理
ラインである。この基板処理ライン１０は、基板受入部
１１、エッチング部１２、液避け部１３及び水洗部１４
を直列に連結した構造になっている。第１の移載ロボッ
ト４０1 と基板受入部１１の間、各部の間、及び水洗部
１４と第１の方向転換装置５０1 の間は、基板９０を通
過させるためのスリット状の開口部１５を有する隔壁１
６により仕切られている。
側方へ所定角度で傾斜させた状態で処理を行う傾斜処理
ラインである。この基板処理ライン１０は、基板受入部
１１、エッチング部１２、液避け部１３及び水洗部１４
を直列に連結した構造になっている。第１の移載ロボッ
ト４０1 と基板受入部１１の間、各部の間、及び水洗部
１４と第１の方向転換装置５０1 の間は、基板９０を通
過させるためのスリット状の開口部１５を有する隔壁１
６により仕切られている。
【００２５】基板受入部１１は、図２に示すように、ラ
イン長手方向に並列された複数の搬送ロール１１ａ，１
１ａ・・を備えている。複数の搬送ロール１１ａ，１１
ａ・・は側方へ所定角度で傾斜している。
イン長手方向に並列された複数の搬送ロール１１ａ，１
１ａ・・を備えている。複数の搬送ロール１１ａ，１１
ａ・・は側方へ所定角度で傾斜している。
【００２６】エッチング部１２は、ライン長手方向に並
列された複数の搬送ロール１２ａ，１２ａ・・と、一対
のスリットノズル１２ｂ，１２ｂとを備えている。複数
の搬送ロール１２ａ，１２ａ・・は、前記搬送ロール１
１ａ，１１ａ・・と同様に側方へ所定角度で傾斜してい
る。一対のスリットノズル１２ｂ，１２ｂは、エッチン
グ部１２の下流部に配置され、搬送ロール１２ａ，１２
ａ・・の上方にこれらと平行に下向きに設けられること
により、搬送ロール１２ａ，１２ａ・・上を搬送される
基板９０の表面に搬送方向２位置で一方の側縁から他方
の側縁へ直線状にエッチング液を吹き付ける。より具体
的には、これらのスリットノズル１２ｂ，１２ｂは、図
３に示すように、垂直面に対して所定の角度で内側へ傾
斜して設けられている。これにより、スリットノズル１
２ｂ，１２ｂから基板９０上へ噴射されたエッチング液
は、スリットノズル１２ｂ，１２ｂの間で蒲鉾形状に盛
り上がりった液溜まり８０を形成する。
列された複数の搬送ロール１２ａ，１２ａ・・と、一対
のスリットノズル１２ｂ，１２ｂとを備えている。複数
の搬送ロール１２ａ，１２ａ・・は、前記搬送ロール１
１ａ，１１ａ・・と同様に側方へ所定角度で傾斜してい
る。一対のスリットノズル１２ｂ，１２ｂは、エッチン
グ部１２の下流部に配置され、搬送ロール１２ａ，１２
ａ・・の上方にこれらと平行に下向きに設けられること
により、搬送ロール１２ａ，１２ａ・・上を搬送される
基板９０の表面に搬送方向２位置で一方の側縁から他方
の側縁へ直線状にエッチング液を吹き付ける。より具体
的には、これらのスリットノズル１２ｂ，１２ｂは、図
３に示すように、垂直面に対して所定の角度で内側へ傾
斜して設けられている。これにより、スリットノズル１
２ｂ，１２ｂから基板９０上へ噴射されたエッチング液
は、スリットノズル１２ｂ，１２ｂの間で蒲鉾形状に盛
り上がりった液溜まり８０を形成する。
【００２７】液避け部１３は、前記搬送ローラと同様に
傾斜した１又は複数の搬送ロール１３ａ，１３ａ・・を
備えている。
傾斜した１又は複数の搬送ロール１３ａ，１３ａ・・を
備えている。
【００２８】水洗部１４は、前記搬送ロールと同様に傾
斜した複数の搬送ロール１４ａ，１４ａ・・と、スリッ
トノズル１４ｂと、全面シャワーノズル１４ｃとを備え
ている。スリットノズル１４ｂは、水洗部１４の最上流
部に配置され、搬送ロール１４ａ，１４ａ・・の上方に
これらと平行に下向きに設けられることにより、搬送ロ
ール１２ａ，１２ａ・・上を搬送される基板９０の表面
に一方の側縁から他方の側縁へ直線状に洗浄用の純水を
吹き付ける。全面シャワーノズル１４ｃは、搬送ロール
１４ａ，１４ａ・・の上方に配置されることにより、搬
送ロール１２ａ，１２ａ・・上を搬送される基板９０の
表面に全面的に洗浄用の純水を吹き付ける。
斜した複数の搬送ロール１４ａ，１４ａ・・と、スリッ
トノズル１４ｂと、全面シャワーノズル１４ｃとを備え
ている。スリットノズル１４ｂは、水洗部１４の最上流
部に配置され、搬送ロール１４ａ，１４ａ・・の上方に
これらと平行に下向きに設けられることにより、搬送ロ
ール１２ａ，１２ａ・・上を搬送される基板９０の表面
に一方の側縁から他方の側縁へ直線状に洗浄用の純水を
吹き付ける。全面シャワーノズル１４ｃは、搬送ロール
１４ａ，１４ａ・・の上方に配置されることにより、搬
送ロール１２ａ，１２ａ・・上を搬送される基板９０の
表面に全面的に洗浄用の純水を吹き付ける。
【００２９】第２の基板処理ライン２０及び第３の基板
処理ライン３０は、いずれも基板９０を非傾斜、即ち水
平状態で処理を行う水平処理ラインであり、非傾斜、即
ち水平姿勢の搬送ロール２０ａ，２０ａ・・及び搬送ロ
ール３０ａ，３０ａ・・を備えている。これらの基板処
理ライン２０及び３０は水洗部であり、搬送ロール２０
ａ，２０ａ・・及び３０ａ，３０ａ・・の各上方に全面
シャワーノズル２０ｃ及び３０ｃを備えている。
処理ライン３０は、いずれも基板９０を非傾斜、即ち水
平状態で処理を行う水平処理ラインであり、非傾斜、即
ち水平姿勢の搬送ロール２０ａ，２０ａ・・及び搬送ロ
ール３０ａ，３０ａ・・を備えている。これらの基板処
理ライン２０及び３０は水洗部であり、搬送ロール２０
ａ，２０ａ・・及び３０ａ，３０ａ・・の各上方に全面
シャワーノズル２０ｃ及び３０ｃを備えている。
【００３０】第１の基板処理ライン１０と第２の基板処
理ライン２０の交差部に配置される第１の方向転換装置
５０1 は、図４に示すように、下流側に配置された第２
の基板処理ライン２０内の搬送ロール２０ａ，２０ａ・
・に連続するように水平配置された複数の搬送ロール５
０ａ，５０ａ・・と、搬送ロール５０ａ，５０ａ・・に
組み合わされたリフター５０ｄと、その上方に設けられ
た全面シャワーノズル５０ｃとを備えている。
理ライン２０の交差部に配置される第１の方向転換装置
５０1 は、図４に示すように、下流側に配置された第２
の基板処理ライン２０内の搬送ロール２０ａ，２０ａ・
・に連続するように水平配置された複数の搬送ロール５
０ａ，５０ａ・・と、搬送ロール５０ａ，５０ａ・・に
組み合わされたリフター５０ｄと、その上方に設けられ
た全面シャワーノズル５０ｃとを備えている。
【００３１】リフター５０ｄは、昇降フレーム５１と、
これに取付けられた複数の支持部材５２，５２・・と、
基板駆動機構５４とを有している。複数の支持部材５
２，５２・・は、搬送ロール５０ａ，５０ａ・・と干渉
しないように各ロール間に平行に配置されており、各支
持部材５２には、搬送ロール５０ａ，５０ａ・・に対し
て回転軸が直角方向を向いた複数の支持ローラ５３，５
３・・が、搬送ロール５０ａ，５０ａ・・の回転軸方向
に所定の間隔で取付けられている。両端の支持部材５
２，５２では、支持ローラ５３，５３・・は、基板９０
の支持のために鍔付きローラとされている。
これに取付けられた複数の支持部材５２，５２・・と、
基板駆動機構５４とを有している。複数の支持部材５
２，５２・・は、搬送ロール５０ａ，５０ａ・・と干渉
しないように各ロール間に平行に配置されており、各支
持部材５２には、搬送ロール５０ａ，５０ａ・・に対し
て回転軸が直角方向を向いた複数の支持ローラ５３，５
３・・が、搬送ロール５０ａ，５０ａ・・の回転軸方向
に所定の間隔で取付けられている。両端の支持部材５
２，５２では、支持ローラ５３，５３・・は、基板９０
の支持のために鍔付きローラとされている。
【００３２】基板駆動機構５４は、一端側の支持部材５
２側に設けられた３つの搬送ロール５４ａ，５４ａ，５
４ａと、中間の搬送ロール５４ａに対応して他端側の支
持部材５２側に設けられた単一の搬送ロール５４ｂと、
一端側の中間の搬送ロール５４ａ上から他端側の搬送ロ
ール５４ｂ上へ掛け渡された長尺の搬送ロール５４ｃと
を備えている。
２側に設けられた３つの搬送ロール５４ａ，５４ａ，５
４ａと、中間の搬送ロール５４ａに対応して他端側の支
持部材５２側に設けられた単一の搬送ロール５４ｂと、
一端側の中間の搬送ロール５４ａ上から他端側の搬送ロ
ール５４ｂ上へ掛け渡された長尺の搬送ロール５４ｃと
を備えている。
【００３３】一端側に設けられた３つの搬送ロール５４
ａ，５４ａ，５４ａは、モータ５４ｄ，５４ｄ，５４ｄ
により回転駆動されると共に、シリンダ５４ｅにより使
用位置と退避位置の間を直進駆動される。使用位置で
は、搬送ロール５４ａ，５４ａ，５４ａは一端側の支持
部材５２に取付けられた複数の支持ローラ５３，５３・
・の間に進入し、退避位置では支持ローラ５３，５３・
・の間から退出する。他端側に設けられた搬送ロール５
４ｂは、他端側の支持部材５２に支持ローラ５３，５３
・・と共に取付けられており、具体的には中間の２つの
支持ローラ５３，５３の間に配置されている。長尺の搬
送ロール５４ｃは、中間の搬送ロール５４ａを駆動する
モータ５４ｄにより回転駆動される一方で、モータ５４
ｄの回転を搬送ロール５４ｂに伝達してこれを回転させ
る。搬送ロール５４ａ，５４ａ，５４ａ及び５４ｃは、
モータ５４ｄ，５４ｄ，５４ｄ及びシリンダ５４ｅと共
に、昇降フレーム５１から独立して設けられている。
ａ，５４ａ，５４ａは、モータ５４ｄ，５４ｄ，５４ｄ
により回転駆動されると共に、シリンダ５４ｅにより使
用位置と退避位置の間を直進駆動される。使用位置で
は、搬送ロール５４ａ，５４ａ，５４ａは一端側の支持
部材５２に取付けられた複数の支持ローラ５３，５３・
・の間に進入し、退避位置では支持ローラ５３，５３・
・の間から退出する。他端側に設けられた搬送ロール５
４ｂは、他端側の支持部材５２に支持ローラ５３，５３
・・と共に取付けられており、具体的には中間の２つの
支持ローラ５３，５３の間に配置されている。長尺の搬
送ロール５４ｃは、中間の搬送ロール５４ａを駆動する
モータ５４ｄにより回転駆動される一方で、モータ５４
ｄの回転を搬送ロール５４ｂに伝達してこれを回転させ
る。搬送ロール５４ａ，５４ａ，５４ａ及び５４ｃは、
モータ５４ｄ，５４ｄ，５４ｄ及びシリンダ５４ｅと共
に、昇降フレーム５１から独立して設けられている。
【００３４】ここで、昇降フレーム５１は、搬送ロール
５０ａ，５０ａ・・が形成する水平な搬送面に対して所
定角度で傾斜している。より具体的には、上流側の第１
の基板処理ライン１０における搬送ロールの傾斜方向と
同じ方向に同じ角度で傾斜している。そして、支持ロー
ラ５３，５３・・により形成される基板支持面を第１の
基板処理ライン１０における基板搬送面に連続させるこ
とができ、また、その基板支持面を搬送ロール５０ａ，
５０ａ・・が形成する水平な搬送面より下方に下降させ
ることができる。
５０ａ，５０ａ・・が形成する水平な搬送面に対して所
定角度で傾斜している。より具体的には、上流側の第１
の基板処理ライン１０における搬送ロールの傾斜方向と
同じ方向に同じ角度で傾斜している。そして、支持ロー
ラ５３，５３・・により形成される基板支持面を第１の
基板処理ライン１０における基板搬送面に連続させるこ
とができ、また、その基板支持面を搬送ロール５０ａ，
５０ａ・・が形成する水平な搬送面より下方に下降させ
ることができる。
【００３５】これにより、上流側の第１の基板処理ライ
ン１０から搬送されてくる基板９０は、搬送ロール５４
ａ，５４ａ，５４ａ，５４ｂ及び５４ｃにより引き続き
搬送方向へ駆動されることにより、第１の基板処理ライ
ン１０における基板搬送面と同じ傾斜でリフター５０ｄ
上へ移載され、更に、リフター５０ｄ上から搬送ロール
５０ａ，５０ａ・・が形成する水平な搬送面へ移載され
る。
ン１０から搬送されてくる基板９０は、搬送ロール５４
ａ，５４ａ，５４ａ，５４ｂ及び５４ｃにより引き続き
搬送方向へ駆動されることにより、第１の基板処理ライ
ン１０における基板搬送面と同じ傾斜でリフター５０ｄ
上へ移載され、更に、リフター５０ｄ上から搬送ロール
５０ａ，５０ａ・・が形成する水平な搬送面へ移載され
る。
【００３６】なお、搬送ロール５４ａ，５４ａ，５４ａ
及び５４ｂは基板９０を両方のエッジ部で下から支持
し、搬送ロール５４ｃは基板９０を上方から押さえるこ
とにより、基板９０に搬送力を与える。搬送ロール５４
ａ，５４ａ，５４ａを退避位置へ移動させるのは、リフ
ター５０ｄの昇降を阻害しないためである。
及び５４ｂは基板９０を両方のエッジ部で下から支持
し、搬送ロール５４ｃは基板９０を上方から押さえるこ
とにより、基板９０に搬送力を与える。搬送ロール５４
ａ，５４ａ，５４ａを退避位置へ移動させるのは、リフ
ター５０ｄの昇降を阻害しないためである。
【００３７】第２の基板処理ライン２０と第３の基板処
理ライン３０の交差部に配置される第２の方向転換装置
５０2 は、水平な搬送ロール５０ａ，５０ａ・・が、上
流側に配置された第２の基板処理ライン２０内の搬送ロ
ール２０ａ，２０ａ・・に連続している点、及びリフタ
５０ｄが非傾斜で、基板９０を水平に支持する点を除
き、第１の方向転換装置５０1 と同じである。
理ライン３０の交差部に配置される第２の方向転換装置
５０2 は、水平な搬送ロール５０ａ，５０ａ・・が、上
流側に配置された第２の基板処理ライン２０内の搬送ロ
ール２０ａ，２０ａ・・に連続している点、及びリフタ
５０ｄが非傾斜で、基板９０を水平に支持する点を除
き、第１の方向転換装置５０1 と同じである。
【００３８】第１の基板処理ライン１０の上流側に配置
され、第３の基板処理ライン３０との間を往復する第１
の移載ロボット４０1 は、基板９０を吸着保持する上下
２段のロボットハンド４１，４２を備えている。
され、第３の基板処理ライン３０との間を往復する第１
の移載ロボット４０1 は、基板９０を吸着保持する上下
２段のロボットハンド４１，４２を備えている。
【００３９】下段のロボットハンド４１は、第１の基板
処理ライン１０の上流側で基板９０の搬入に使用され
る。このロボットハンド４１は、その上に基板９０を吸
着により保持すると共に、駆動部４２によりＸ軸方向、
Ｙ軸方向及びＺ軸方向に駆動され、更に、水平面を基準
として両側に回転駆動される。このようなロボットハン
ド４１の駆動により、第１の移載ロボット４０1 は、処
理すべき基板９０を図示されないバケットから水平状態
で取り出した後、第１の基板処理ライン１０における基
板９０の傾斜角度と同じ角度で側方へ傾斜させ、この状
態で第１の基板処理ライン１０の受入部１１内に搬入す
る。
処理ライン１０の上流側で基板９０の搬入に使用され
る。このロボットハンド４１は、その上に基板９０を吸
着により保持すると共に、駆動部４２によりＸ軸方向、
Ｙ軸方向及びＺ軸方向に駆動され、更に、水平面を基準
として両側に回転駆動される。このようなロボットハン
ド４１の駆動により、第１の移載ロボット４０1 は、処
理すべき基板９０を図示されないバケットから水平状態
で取り出した後、第１の基板処理ライン１０における基
板９０の傾斜角度と同じ角度で側方へ傾斜させ、この状
態で第１の基板処理ライン１０の受入部１１内に搬入す
る。
【００４０】一方、上段のロボットハンド４２は、乾燥
装置６０の下流側で、基板９０の搬出に使用される。こ
のロボットハンド４２は、下段のロボットハンド４１と
実質同一の構成であって、基板９０を乾燥装置６０から
図示されないバケットへ水平姿勢のまま移載する。
装置６０の下流側で、基板９０の搬出に使用される。こ
のロボットハンド４２は、下段のロボットハンド４１と
実質同一の構成であって、基板９０を乾燥装置６０から
図示されないバケットへ水平姿勢のまま移載する。
【００４１】第３の基板処理ライン３０の下流側に配置
される第２の移載ロボット４０2 は、ロボットハンドが
１段であることを除き、第１の移載ロボット４０1 と同
じ構成であり、そのロボットハンド４３による操作で、
基板９０を第３の基板処理ライン３０から乾燥装置６０
へ水平姿勢のまま移載する。
される第２の移載ロボット４０2 は、ロボットハンドが
１段であることを除き、第１の移載ロボット４０1 と同
じ構成であり、そのロボットハンド４３による操作で、
基板９０を第３の基板処理ライン３０から乾燥装置６０
へ水平姿勢のまま移載する。
【００４２】乾燥装置６０はスピンロータと呼ばれる回
転式の枚葉式乾燥装置であり、槽内に搬入された基板９
０を回転させて遠心力により乾燥する。
転式の枚葉式乾燥装置であり、槽内に搬入された基板９
０を回転させて遠心力により乾燥する。
【００４３】次に、本実施形態の基板処理設備において
基板９０をエッチング処理する方法について述べる。
基板９０をエッチング処理する方法について述べる。
【００４４】図示されないバケットにより当該基板処理
設備に搬入された複数枚の基板９０が、第１の移載ロボ
ット４０1 （特にその下段のロボットハンド４１）によ
り順次第１の基板処理ライン１０の受入部１１内に搬入
される。このとき、各基板９０は、第１の基板処理ライ
ン１０における基板９０の傾斜角度、即ち搬送ローラの
傾斜角度と同じ角度で予め側方へ傾斜した状態で、受入
部１１内の搬送ローラ１１ａ，１１ａ・・上に載置され
る。こうすることにより、搬入装置である第１の移載ロ
ボット４０1 が傾斜装置を兼ね、処理ライン内で基板９
０を傾斜させる必要がなくなるため、処理ラインの全長
が抑制され、基板処理設備が小型化される。
設備に搬入された複数枚の基板９０が、第１の移載ロボ
ット４０1 （特にその下段のロボットハンド４１）によ
り順次第１の基板処理ライン１０の受入部１１内に搬入
される。このとき、各基板９０は、第１の基板処理ライ
ン１０における基板９０の傾斜角度、即ち搬送ローラの
傾斜角度と同じ角度で予め側方へ傾斜した状態で、受入
部１１内の搬送ローラ１１ａ，１１ａ・・上に載置され
る。こうすることにより、搬入装置である第１の移載ロ
ボット４０1 が傾斜装置を兼ね、処理ライン内で基板９
０を傾斜させる必要がなくなるため、処理ラインの全長
が抑制され、基板処理設備が小型化される。
【００４５】第１の基板処理ライン１０における基板９
０の傾斜角度θ１は、基板９０の大きさと処理内容によ
って変化するが、５〜２０°の範囲内が好ましい。この
傾斜角度θ１が小さすぎると、液の流れが悪くなり、液
の置換がスムーズに行われなくなることにより、処理ム
ラ等が生じる。大きすぎる場合は液の流れが速くなり、
基板９０の全面に液が行き渡らなくなることにより、基
板９０の均一処理が困難になる。
０の傾斜角度θ１は、基板９０の大きさと処理内容によ
って変化するが、５〜２０°の範囲内が好ましい。この
傾斜角度θ１が小さすぎると、液の流れが悪くなり、液
の置換がスムーズに行われなくなることにより、処理ム
ラ等が生じる。大きすぎる場合は液の流れが速くなり、
基板９０の全面に液が行き渡らなくなることにより、基
板９０の均一処理が困難になる。
【００４６】受入部１１内に搬入された基板９０は、側
方へ所定角度で傾斜した状態で下流側のエッチング部１
２に搬送される。エッチング部１２では、基板９０の搬
送方向に間隔をあけて配置された一対のスリットノズル
１２ｂ，１２ｂから基板９０上へエッチング液が吹き付
けられる。これにより、基板９０の上面が搬送方向前部
から後部へかけて順次エッチング処理される。
方へ所定角度で傾斜した状態で下流側のエッチング部１
２に搬送される。エッチング部１２では、基板９０の搬
送方向に間隔をあけて配置された一対のスリットノズル
１２ｂ，１２ｂから基板９０上へエッチング液が吹き付
けられる。これにより、基板９０の上面が搬送方向前部
から後部へかけて順次エッチング処理される。
【００４７】エッチング処理中、基板９０は側方へ所定
角度で傾斜した状態で前進する。また、スリットノズル
１２ｂ，１２ｂは、内側に向いて傾斜しているため、基
板９０の上面に供給されたエッチング液は、蒲鉾形状に
盛り上がりった液溜まり８０を形成する。基板９０が側
方へ傾斜することにより、その上に供給されたエッチン
グ液は側方へ速やかに排出され、この現象は下流側での
水洗処理には適するが、エッチング処理、とりわけ制御
精度の高いスリットノズル１２ｂ，１２ｂによる線状供
給処理では、十分な処理を行うことが難しい。しかる
に、スリットノズル１２ｂ，１２ｂを内側へ傾斜させて
基板９０上に液溜まり８０を形成することにより、線状
供給処理であるにもかかわらず十分な処理が行われ、進
行度と制御性の両立が可能となる。
角度で傾斜した状態で前進する。また、スリットノズル
１２ｂ，１２ｂは、内側に向いて傾斜しているため、基
板９０の上面に供給されたエッチング液は、蒲鉾形状に
盛り上がりった液溜まり８０を形成する。基板９０が側
方へ傾斜することにより、その上に供給されたエッチン
グ液は側方へ速やかに排出され、この現象は下流側での
水洗処理には適するが、エッチング処理、とりわけ制御
精度の高いスリットノズル１２ｂ，１２ｂによる線状供
給処理では、十分な処理を行うことが難しい。しかる
に、スリットノズル１２ｂ，１２ｂを内側へ傾斜させて
基板９０上に液溜まり８０を形成することにより、線状
供給処理であるにもかかわらず十分な処理が行われ、進
行度と制御性の両立が可能となる。
【００４８】スリットノズル１２ｂ，１２ｂの傾斜角度
は、ノズル間隔、傾斜角度、薬液供給量、粘度等によっ
て変わるが、図３に示す開き角度θ２で表して１２０〜
１７０°の範囲内が好ましい。この開き角度θ２がおお
きくても小さくても、液溜まり８０が十分に形成され
ず、液流れのムラが発生する危険がある。
は、ノズル間隔、傾斜角度、薬液供給量、粘度等によっ
て変わるが、図３に示す開き角度θ２で表して１２０〜
１７０°の範囲内が好ましい。この開き角度θ２がおお
きくても小さくても、液溜まり８０が十分に形成され
ず、液流れのムラが発生する危険がある。
【００４９】エッチング部１２でエッチング処理を受け
た基板９０は、側方へ所定角度で傾斜した状態のまま液
避け部１３を経て水洗部１４に搬送され、水洗部１４内
を移動する。水洗部１４では、スリットノズル１４ｂか
ら噴出される純水により、基板９０の上面が搬送方向前
部から後部へ順次洗浄される。また、全面シャワーノズ
ル１４ｃから噴出される純水により、その上面が全面的
に洗浄される。基板９０上に供給された純水は、基板９
０が側方へ傾斜しているために、その側方へ速やかに排
出され、これにより液置換が促進されることにより、高
い洗浄効果が得られる。
た基板９０は、側方へ所定角度で傾斜した状態のまま液
避け部１３を経て水洗部１４に搬送され、水洗部１４内
を移動する。水洗部１４では、スリットノズル１４ｂか
ら噴出される純水により、基板９０の上面が搬送方向前
部から後部へ順次洗浄される。また、全面シャワーノズ
ル１４ｃから噴出される純水により、その上面が全面的
に洗浄される。基板９０上に供給された純水は、基板９
０が側方へ傾斜しているために、その側方へ速やかに排
出され、これにより液置換が促進されることにより、高
い洗浄効果が得られる。
【００５０】エッチング部１２から水洗部１４へのエッ
チング液の飛散は、液避け部１３の介在により防止され
る。また、エッチング部１２の下流部にスリットノズル
１２ｂ，１２ｂを配置したのは、受入部１１にて受け入
れた基板９０を高速でエッチング部１２へ移動させると
きの受入部を確保するためと、エッチング処理に適した
移動速度への切り替えポジションを確保するためであ
る。
チング液の飛散は、液避け部１３の介在により防止され
る。また、エッチング部１２の下流部にスリットノズル
１２ｂ，１２ｂを配置したのは、受入部１１にて受け入
れた基板９０を高速でエッチング部１２へ移動させると
きの受入部を確保するためと、エッチング処理に適した
移動速度への切り替えポジションを確保するためであ
る。
【００５１】水洗部１４での洗浄を終えた基板９０は、
第１の方向転換装置５０1 に搬送される。第１の方向転
換装置５０1 では、リフター５０ｄが第１の基板処理ラ
イン１０における基板９０の傾斜角度と同じ角度で傾斜
し、且つ上昇した位置にある。これにより、各列の支持
ローラ５３，５３・・が形成する基板支持面が、搬送ロ
ール５０ａ，５０ａ・・が形成する水平な基板搬送面よ
り上方にあって、第１の基板処理ライン１０における基
板搬送面に連続する。この状態で両端の列で基板駆動機
構５４が作動することにより、基板９０が水洗部１４か
らリフター５０ｂ上に移載される。この移載が終わる
と、基板駆動機構５４が停止し、リフター５０ｄが降下
する。これにより、基板９０はリフター５０ｂ上から搬
送ロール５０ａ，５０・・上へ移載される。この結果、
基板９０は搬送方向を９０°変更して第２の基板処理ラ
イン２０へ搬送される。また、この方向転換と合わせ、
傾斜姿勢が水平姿勢に変更される。
第１の方向転換装置５０1 に搬送される。第１の方向転
換装置５０1 では、リフター５０ｄが第１の基板処理ラ
イン１０における基板９０の傾斜角度と同じ角度で傾斜
し、且つ上昇した位置にある。これにより、各列の支持
ローラ５３，５３・・が形成する基板支持面が、搬送ロ
ール５０ａ，５０ａ・・が形成する水平な基板搬送面よ
り上方にあって、第１の基板処理ライン１０における基
板搬送面に連続する。この状態で両端の列で基板駆動機
構５４が作動することにより、基板９０が水洗部１４か
らリフター５０ｂ上に移載される。この移載が終わる
と、基板駆動機構５４が停止し、リフター５０ｄが降下
する。これにより、基板９０はリフター５０ｂ上から搬
送ロール５０ａ，５０・・上へ移載される。この結果、
基板９０は搬送方向を９０°変更して第２の基板処理ラ
イン２０へ搬送される。また、この方向転換と合わせ、
傾斜姿勢が水平姿勢に変更される。
【００５２】このように、第１の方向転換装置５０1 は
姿勢変更装置を兼ねるので、処理ライン長の抑制に寄与
する。また、方向転換中も全面シャワーノズル５０ｃか
ら噴出される純水により、基板９０の上面が洗浄され続
けるので、これよっても処理ライン長が抑制され、且つ
基板９０の乾燥が防止される。
姿勢変更装置を兼ねるので、処理ライン長の抑制に寄与
する。また、方向転換中も全面シャワーノズル５０ｃか
ら噴出される純水により、基板９０の上面が洗浄され続
けるので、これよっても処理ライン長が抑制され、且つ
基板９０の乾燥が防止される。
【００５３】水平状態で第２の基板処理ライン２０へ搬
送された基板９０は、全面シャワーノズル２０ｃから噴
出される純水により洗浄処理を受けつつ第２の方向転換
装置５０2 へ搬送される。第２の方向転換装置５０2 で
は、その搬送ロール５０ａ，５０ａ・・上に基板９０が
到達すると、水平なリフター５０ｄが上昇し、各列の支
持ローラ５３，５３・・が形成する基板支持面が、下流
側の第３の基板処理ライン３０における基板搬送面に連
続する。このときリフター５０ｄでは、両端の列で支持
ローラ５３，５３・・が駆動される。これにより、基板
９０が搬送方向を９０°変更して第３の基板処理ライン
３０へ搬送される。ここにおける方向転換中も全面シャ
ワーノズル５０ｃから噴出される純水により、基板９０
の上面が洗浄され続けるので、これよっても処理ライン
長が抑制され、且つ基板９０の乾燥が防止される。
送された基板９０は、全面シャワーノズル２０ｃから噴
出される純水により洗浄処理を受けつつ第２の方向転換
装置５０2 へ搬送される。第２の方向転換装置５０2 で
は、その搬送ロール５０ａ，５０ａ・・上に基板９０が
到達すると、水平なリフター５０ｄが上昇し、各列の支
持ローラ５３，５３・・が形成する基板支持面が、下流
側の第３の基板処理ライン３０における基板搬送面に連
続する。このときリフター５０ｄでは、両端の列で支持
ローラ５３，５３・・が駆動される。これにより、基板
９０が搬送方向を９０°変更して第３の基板処理ライン
３０へ搬送される。ここにおける方向転換中も全面シャ
ワーノズル５０ｃから噴出される純水により、基板９０
の上面が洗浄され続けるので、これよっても処理ライン
長が抑制され、且つ基板９０の乾燥が防止される。
【００５４】第３の基板処理ライン３０では、全面シャ
ワーノズル３０ｃから噴出される純水により基板９０の
上面が洗浄される。第３の基板処理ライン３０での洗浄
を終えた基板９０は、第２の移載ロボット４０2 により
乾燥装置６０に搬送され、乾燥後、第１の移載ロボット
４０1 （その上段のロボットハンド４２）により図示さ
れないバケットに送られる。
ワーノズル３０ｃから噴出される純水により基板９０の
上面が洗浄される。第３の基板処理ライン３０での洗浄
を終えた基板９０は、第２の移載ロボット４０2 により
乾燥装置６０に搬送され、乾燥後、第１の移載ロボット
４０1 （その上段のロボットハンド４２）により図示さ
れないバケットに送られる。
【００５５】このように、本実施形態の基板処理設備で
は、第１の基板処理ライン１０のエッチング部１２でエ
ッチング処理を受けた後、水洗部１４、第１の方向転換
装置５０1 、第２の基板処理ライン２０、第２の方向転
換装置５０2 及び第３の基板処理ライン３０で洗浄処理
を受ける。並列する第１の基板処理ライン１０及び第３
の基板処理ライン３０だけでなく、これらを連結する第
２の基板処理ライン２０でも洗浄処理を受け、更には方
向転換装置５０1 及び５０2 でも洗浄処理を受けるの
で、ライン長の大幅短縮が可能となり、且つ基板９０の
乾燥が防止される。
は、第１の基板処理ライン１０のエッチング部１２でエ
ッチング処理を受けた後、水洗部１４、第１の方向転換
装置５０1 、第２の基板処理ライン２０、第２の方向転
換装置５０2 及び第３の基板処理ライン３０で洗浄処理
を受ける。並列する第１の基板処理ライン１０及び第３
の基板処理ライン３０だけでなく、これらを連結する第
２の基板処理ライン２０でも洗浄処理を受け、更には方
向転換装置５０1 及び５０2 でも洗浄処理を受けるの
で、ライン長の大幅短縮が可能となり、且つ基板９０の
乾燥が防止される。
【００５６】また、その洗浄処理では、水洗部１４から
第１の方向転換装置５０1 までは、基板９０が側方に傾
斜した状態で傾斜処理が行われるが、第１の方向転換装
置５０1 から第３の基板処理ライン３０までは、基板９
０が水平な水平処理となる。洗浄処理としては基板９０
の液置換がスムーズな傾斜処理が好都合であるが、洗浄
初期に傾斜処理が行われるため、それ以降を水平処理と
しても、全体としては効率的な洗浄処理が行われる。そ
して、第１の方向転換装置５０1 で基板９０を傾斜姿勢
から水平姿勢に戻すため、方向転換装置５０1 及び５０
2 での方向転換が容易となり、その装置構成が簡略化さ
れる。
第１の方向転換装置５０1 までは、基板９０が側方に傾
斜した状態で傾斜処理が行われるが、第１の方向転換装
置５０1 から第３の基板処理ライン３０までは、基板９
０が水平な水平処理となる。洗浄処理としては基板９０
の液置換がスムーズな傾斜処理が好都合であるが、洗浄
初期に傾斜処理が行われるため、それ以降を水平処理と
しても、全体としては効率的な洗浄処理が行われる。そ
して、第１の方向転換装置５０1 で基板９０を傾斜姿勢
から水平姿勢に戻すため、方向転換装置５０1 及び５０
2 での方向転換が容易となり、その装置構成が簡略化さ
れる。
【００５７】なお、上記実施形態は、薬液としてエッチ
ング液を用いたエッチング処理設備であるが、エッチン
グ液以外の例えば剥離液を用いることもでき、その種類
を特に問うものではない。
ング液を用いたエッチング処理設備であるが、エッチン
グ液以外の例えば剥離液を用いることもでき、その種類
を特に問うものではない。
【００５８】また、第１の基板処理ライン１０、第２の
基板処理ライン２０及び第３の基板処理ライン３０の全
てで基板９０を水平姿勢とすることができる。
基板処理ライン２０及び第３の基板処理ライン３０の全
てで基板９０を水平姿勢とすることができる。
【００５９】
【発明の効果】以上に説明した通り、本発明の基板処理
設備は、並列配置された２つの基板処理ラインを連結す
る連結ラインで、基板の搬送と合わせてそのウエット処
理を行うので、ラインの総長を大幅に低減でき、且つ処
理途中の乾燥を防止できる。
設備は、並列配置された２つの基板処理ラインを連結す
る連結ラインで、基板の搬送と合わせてそのウエット処
理を行うので、ラインの総長を大幅に低減でき、且つ処
理途中の乾燥を防止できる。
【図１】本発明の実施形態に係る基板処理設備のレイア
ウト図である。
ウト図である。
【図２】同基板処理設備に設けられた第１の基板処理ラ
インの構成図である。
インの構成図である。
【図３】第１の基板処理ラインに設けられた薬液処理部
でのノズル配置状態の説明図である。
でのノズル配置状態の説明図である。
【図４】第１の基板処理ラインと第２の基板処理ライン
の交差部に設けられた方向転換装置の構成図である。
の交差部に設けられた方向転換装置の構成図である。
１０ 第１の基板処理ライン １１ 受入部 １１ａ 搬送ロール １２ エッチング部 １２ａ 搬送ロール １２ｂ スリットノズル １３ 液避け部 １３ａ 搬送ロール １４ 水洗部 １４ａ 搬送ロール １４ｂ スリットノズル １４ｃ 全面シャワーノズル ２０ 第２の基板処理ライン ２０ａ 搬送ロール ２０ｃ 全面シャワーノズル ３０ 第３の基板処理ライン ３０ａ 搬送ロール ３０ｃ 全面シャワーノズル ４０1 ，４０2 移載ロボット ４１ ロボットハンド ５０1 ，５０2 方向転換装置 ５０ａ 搬送ロール ５０ｃ 全面シャワーノズル ５０ｄ リフター ６０ 乾燥装置 ９０ 基板
Claims (8)
- 【請求項１】 基板を水平方向に搬送しながらその表面
にウエット処理を行う直線状の第１の基板処理ライン
と、第１の基板処理ラインの出口側にＬ字状に接続さ
れ、第１の基板処理ラインから引き続いて基板を水平方
向に搬送しながらその表面にウエット処理を行う直線状
の第２の基板処理ラインと、第２の基板処理ラインの出
口側に、第１の基板処理ラインの側方に並列するように
Ｌ字状に接続され、第２の基板処理ラインから引き続い
て基板を水平方向に搬送しながらその表面にウエット処
理を行う直線状の第３の基板処理ラインと、第１の基板
処理ラインと第２の基板処理ラインの交差部及び第２の
基板処理ラインと第３の基板処理ラインの交差部にそれ
ぞれ配置されて基板の搬送方向を転換する方向転換装置
とを具備することを特徴とする基板処理設備。 - 【請求項２】 前記方向転換装置は、基板の表面にウエ
ット処理を行いつつ方向転換を行うことを特徴とする請
求項１に記載の基板処理設備。 - 【請求項３】 前記方向転換装置は、下流側に接続され
る基板処理ラインに続く複数の基板搬送ローラと、複数
の基板搬送ローラの間を昇降する複数の昇降アームのそ
れぞれに基板搬送ローラとほぼ直角な方向の複数のロー
ラが取付けられたリフターとを有することを特徴とする
請求項１又は２に記載の基板処理設備。 - 【請求項４】 前記第１の基板処理ラインは、基板を側
方に傾斜させて搬送する傾斜処理ラインであり、前記第
２の基板処理ライン及び第３の基板処理ラインは基板を
水平姿勢で搬送する水平処理ラインであることを特徴と
する請求項１、２又は３に記載の基板処理設備。 - 【請求項５】 第１の基板処理ラインと第２の基板処理
ラインの交差部に配置された方向転換装置は、基板を傾
斜状態から水平状態に変更する角度変更装置を兼ねるこ
とを特徴とする請求項４に記載の基板処理装置。 - 【請求項６】 前記第１の基板処理ラインは、薬液処理
部とこれに続く水洗処理部の一部とを構成し、第２の基
板処理ライン及び第３の基板処理ラインは、残りの水洗
処理部を構成することを特徴とする請求項４又は５に記
載の基板処理設備。 - 【請求項７】 前記薬液処理部及び／又は水洗処理部
は、基板の搬送方向に並列配置されると共に、それぞれ
が水平面に対して基板の傾斜方向と同方向に傾斜し、且
つ、垂直面に対して互いに内側を向くように傾斜した１
対のスリットノズルにより、基板の表面に薬液及び又は
洗浄水を供給する構成であることを特徴とする請求項６
に記載の基板処理設備。 - 【請求項８】 基板を側方に傾斜させて水平方向に搬送
しながらその表面にウエット処理を行う直線状の傾斜処
理ラインと、傾斜処理ライン内を移動する基板の表面及
び／又は裏面に処理液を供給するために、傾斜処理ライ
ン内で基板の搬送方向に並列配置され、それぞれが水平
面に対して基板の傾斜方向と同方向に傾斜すると共に、
垂直面に対して互いに内側を向くように傾斜した１対の
スリットノズルとを備えたことを特徴とする基板処理設
備。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000041668A JP2001230299A (ja) | 2000-02-18 | 2000-02-18 | 基板処理設備 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000041668A JP2001230299A (ja) | 2000-02-18 | 2000-02-18 | 基板処理設備 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001230299A true JP2001230299A (ja) | 2001-08-24 |
Family
ID=18564866
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000041668A Pending JP2001230299A (ja) | 2000-02-18 | 2000-02-18 | 基板処理設備 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001230299A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006196834A (ja) * | 2005-01-17 | 2006-07-27 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
| JP2010182755A (ja) * | 2009-02-03 | 2010-08-19 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置及び基板処理方法 |
| JP2013149942A (ja) * | 2012-01-20 | 2013-08-01 | Mm Tech Co Ltd | 基板表面処理システム及び基板表面処理方法 |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01174920U (ja) * | 1988-05-30 | 1989-12-13 | ||
| JPH09141178A (ja) * | 1995-11-22 | 1997-06-03 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板表面処理装置 |
| JPH11302875A (ja) * | 1998-04-20 | 1999-11-02 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
| JPH11307493A (ja) * | 1998-04-17 | 1999-11-05 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
| JP2000031239A (ja) * | 1998-07-13 | 2000-01-28 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
| JP2000058624A (ja) * | 1998-08-07 | 2000-02-25 | Ribaaberu:Kk | 半導体製造装置 |
-
2000
- 2000-02-18 JP JP2000041668A patent/JP2001230299A/ja active Pending
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01174920U (ja) * | 1988-05-30 | 1989-12-13 | ||
| JPH09141178A (ja) * | 1995-11-22 | 1997-06-03 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板表面処理装置 |
| JPH11307493A (ja) * | 1998-04-17 | 1999-11-05 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
| JPH11302875A (ja) * | 1998-04-20 | 1999-11-02 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
| JP2000031239A (ja) * | 1998-07-13 | 2000-01-28 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
| JP2000058624A (ja) * | 1998-08-07 | 2000-02-25 | Ribaaberu:Kk | 半導体製造装置 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006196834A (ja) * | 2005-01-17 | 2006-07-27 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
| JP2010182755A (ja) * | 2009-02-03 | 2010-08-19 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置及び基板処理方法 |
| JP2013149942A (ja) * | 2012-01-20 | 2013-08-01 | Mm Tech Co Ltd | 基板表面処理システム及び基板表面処理方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4643684B2 (ja) | 液処理装置および液処理方法 | |
| TWI449098B (zh) | 基板處理裝置 | |
| JP4022288B2 (ja) | 基板処理装置 | |
| JP3628919B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
| JP3930278B2 (ja) | 液処理装置および液処理方法 | |
| JP2001230299A (ja) | 基板処理設備 | |
| JP2008159663A (ja) | 基板処理装置 | |
| JP3579348B2 (ja) | 傾斜式液切り装置 | |
| JP2004103978A (ja) | 基板処理方法及び基板処理装置 | |
| JPH1126547A (ja) | ウエット処理装置 | |
| JPH09162159A (ja) | 回転式基板乾燥装置 | |
| JP2001108977A (ja) | 液晶表示装置の製造装置およびその方法 | |
| KR101149455B1 (ko) | 기판의 처리 장치, 반송 장치 및 처리 방법 | |
| KR101204725B1 (ko) | 기판의 처리 장치 | |
| JP3935333B2 (ja) | 液処理装置および液処理方法 | |
| JP4057993B2 (ja) | 液切り装置 | |
| JPH11307493A (ja) | 基板処理装置 | |
| JP3957569B2 (ja) | 液処理装置 | |
| JP4328342B2 (ja) | 基板処理方法及び基板処理装置 | |
| JP3934745B2 (ja) | 基板授受ユニット及びこれを用いたウエット処理装置 | |
| JPH11216430A (ja) | 洗浄装置 | |
| JP6552363B2 (ja) | 基板乾燥装置および基板処理装置 | |
| JPH09321118A (ja) | 基板搬送装置 | |
| JP3537875B2 (ja) | 基板洗浄装置 | |
| JPS61100937A (ja) | ウエハ−の処理方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Effective date: 20070209 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090709 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20090721 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090915 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100323 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20100720 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |