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CN1468154A - 形成涂层的方法和设备 - Google Patents

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CN1468154A CNA018167527A CN01816752A CN1468154A CN 1468154 A CN1468154 A CN 1468154A CN A018167527 A CNA018167527 A CN A018167527A CN 01816752 A CN01816752 A CN 01816752A CN 1468154 A CN1468154 A CN 1468154A
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Abstract

一种用常压等离子放电体在基体上形成涂层的方法。本方法包括将雾化的液体和/或固体涂层形成材料导入常压等离子放电体和/或由其得到的离子化气流中，并将基体置于雾化的涂层形成材料中。本申请还述及将聚合物形成材料进行聚合的方法，并进一步述及在基体上形成涂层所用的设备。

Description

形成涂层的方法和设备
本发明涉及一种在基体上形成涂层的方法，特别是用常压等离子体放电技术在基体上形成涂层的方法，涉及一种可形成聚合物的材料进行聚合的方法，且进一步涉及在基体上形成涂层的设备。
基体可因各种原因被覆涂层，例如保护基体不受腐蚀、提供隔氧功能、改善与其它材料的粘接性、增加表面活性以及基体生物相容性方面的原因。改善或涂覆基体表面的常用方法是将基体放入一个反应器内并经等离子放电体处理。这种处理方法的许多实例是本领域所熟知的，例如US 5876753公开一种对目标材料加一固体表面的方法，该方法包括通过低功率可变负荷循环脉冲等离子体沉积过程将含碳化合物施加到表面，EP-A-0896035公开一种带有基体和涂层的器件，通过将包括至少一种有机化合物或单体的气体进行等离子体聚合而在基体上涂覆涂层。本申请最初优先权日后首先公开的DE 19924108描述了一种将染料和防腐剂涂覆于基体上的方法。该方法包括将液膜涂层施涂于基体上，随后是一层等离子体聚合物保护涂层。用气态单体和低压等离子体形成等离子体聚合物涂层。
但是，这些等离子体表面处理方法要求基体处于减压条件下，因而需要有真空室。典型的涂层形成气体压力在5到25Nm-2(1常压＝1.01×105Nm-2)。由于需要减压，表面处理的成本很高，局限于间歇处理工艺，且形成涂层的材料必须是气态和/或蒸汽形式，以维持减压条件。
本发明人发现，将常压等离子放电体与雾化的液体和/或固体涂层形成材料相结合可克服上述基体表面等离子体处理方法的缺点。
因此，按照本发明，提供一种在基体上形成涂层的方法，本方法包括将雾化的液体和/或固体涂层形成材料导入常压等离子放电体和/或由其得到的离子化气流中，并将基体置于雾化的涂层形成材料中。
应当理解的一点是，按本发明的涂层形成材料是一种可用来制备任何适宜涂层的材料，例如包括可用来增长成膜或用来化学改性现有表面的材料。
本发明还提供一种将聚合物形成材料进行聚合的方法，方法包括将聚合物形成材料进行雾化，并将聚合物形成材料置于常压等离子放电体中。
本发明进一步涉及在基体上形成涂层的设备，该设备包括用来产生等离子放电体的装置，使用时，将基体放置其中，用来提供在等离子放电体中雾化的涂层形成材料的雾化器和将涂层形成材料提供给雾化器的装置。
任何能产生常压等离子体辉光放电的常规装置都可用于本发明，例如常压等离子体喷射器、常压微波辉光放电和常压等离子辉光放电。这类装置一般采用氦气稀释剂和高频(例如＞1kHZ)电源，借助彭宁电离机理产生均匀的辉光放电(参见Kanazawa等人在J.Phys.D：Appl.Phys.1988， 21，838的文章，Okazaki等人在Proc.Jpn.Symp.PlasmaChen.1989， 2，95的文章，Kanazawa等人在Nuclear Instruments andMethods in Physical Research 1989，B37/38,842的文章和Yokoyama等人在J.Phys.D：Appl.Phys.1990， 23，374的文章)。
涂层形成材料可用任何常规装置进行雾化，例如超声波气嘴。优选雾化器所产生的涂层形成材料液滴尺寸从10到100μm、更优选10到50μm。适用于本发明的雾化器是来自Sono-Tek Corporation，Milton，New York，USA的超声波气嘴。本发明的设备可包括多个特殊用途的雾化器，例如在设备用来由两种不同的涂层形成材料在基体上形成共聚物涂层的情况中，其中的单体不混溶或处于不同相态，如第一种为固体而第二种为气体或液体。
本发明可用来形成许多类型的基体涂层。基体上形成的涂层类型由所用的涂层形成材料决定，且本发明可用来将涂层形成单体(共)聚合到基体上。涂层形成材料可以是有机或无机类，固、液或气体或它们的化合物。适宜的有机类涂层形成材料包括羧酸酯、甲基丙烯酸酯、丙烯酸酯、苯乙烯、甲基丙烯腈、烯烃或二烯烃类，例如甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸丁酯和其甲基丙烯其它烷基酯，以及相应的丙烯酸酯，包括有机官能化甲基丙烯酸酯和丙烯酸酯，包括甲基丙烯酸缩水甘油酯、甲基丙烯酸三甲氧基甲硅基丙酯、甲基丙烯酸烯丙酯、甲基丙烯酸羟乙酯、甲基丙烯酸羟丙酯、甲基丙烯酸二烷基氨基链烷醇酯和(甲基)丙烯酸氟代链烷醇酯，甲基丙烯酸，丙烯酸，富马酸及其酯，衣康酸(和酯)，马来酸酐，苯乙烯，α-甲基苯乙烯，卤代烯烃，例如乙烯基卤化物像氯化乙烯和氟化乙烯和氟代烯烃像全氟烯烃，丙烯腈，甲基丙烯腈，乙烯，丙烯，烯丙基胺，乙烯基二卤化物，丁二烯，丙烯酰胺如N-异丙基丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺，环氧化合物如缩水甘油氧丙基三甲氧基硅烷、缩水甘油醇、氧化苯乙烯、一氧化丁二烯、乙二醇二缩水甘油醚、甲基丙烯酸缩水甘油酯、双酚A二缩水甘油醚(及其低聚物)、氧化乙烯基环己烯，导电聚合物如吡咯和噻吩及其衍生物，和含磷化合物如二甲基烯丙基膦酸酯。适宜的无机类涂层形成材料包括金属和金属氧化物，包括胶态金属。有机金属化合物也是适用的涂层形成材料，包括金属烃氧化物，如钛酸酯、烃氧基锡、锆酸酯和锗及铒的烃氧化物。但是，本发明人发现，本发明特别适用于为基体提供氧化硅-或硅烷基涂层，所用的涂层组合物包括含硅材料。适用于本发明方法的含硅材料包括硅烷(例如硅烷、烷基卤化硅烷、烷氧基硅烷)和线形(如聚二甲基硅氧烷)及环状硅氧烷(如八甲基环四硅氧烷)，包括有机官能化线形及环状硅氧烷(如含Si-H的、卤官能化的和卤烷基官能化的线形及环状硅氧烷，如四甲基环四硅氧烷和三(一氟丁基)三甲基环三硅氧烷)。可使用不同含硅材料的混合物，例如用以适应特殊需要的基体涂层的物理性能(如热性能、光学性能如折射率和粘弹性)。
此外，在氧化条件下，本发明可用来在基体上形成含氧涂层。例如，可由雾化的含硅涂层形成材料在基体上形成氧化硅基涂层。在减压条件下，本方法可用来形成无氧涂层，例如可由雾化的含硅涂层材料在基体上形成碳化硅基涂层。
也可采用含非氧气体的等离子体发生条件，例如惰性气体、空气、轻骑、氮气和氨气，在含氮气的气氛中，氮可结合到基体表面，在含氮气和氧气的气氛中，硝酸盐可结合基体表面和/或在基体表面形成。在将基体表面用涂层形成材料处理之前这些气体也可用来预处理基体表面。例如，通过将含氧材料如氧气或水导入等离子体能产生含氧等离子体。并且，在基体上形成的涂层可在等离子体条件范围内进行后处理。例如，硅烷衍生的涂层可进一步通过含氧等离子体处理而被氧化
本发明优于现有技术之处在于，由于本发明方法是在常压条件下实施的，雾化的液体和/或固体涂层形成材料二者可用来形成基体涂层。并且，涂层形成材料可在无载气存在的条件下导入到等离子放电体或由其得到的气流中，即它们例如可通过直接注入的方法直接导入，由此将涂层形成材料直接导入到等离子体中。
如上所述，本发明人发现，本发明特别适用于用含硅材料在基体上形成氧化硅基或硅氧烷基涂层。在氧化条件即含氧气氛下，可由雾化的含硅材料在基体上形成氧化硅基涂层，而在非氧化条件下，可由雾化的含硅单体在基体上形成硅氧烷聚合物，例如线形、支化或树脂型氧化硅聚合物。通过使用有机和含硅单体的混合物可在基体表面形成硅氧烷-有机共聚物。并且，在基体表面可形成一氧化硅基涂层，然后此涂层再被另外的材料如有机或硅氧烷聚合物所涂覆。例如，当硅氧烷与有机聚合物混合并由所述混合物形成一个基质时，由于有机聚合物和硅氧烷的表面能不同，硅氧烷将迁移到基质的有机聚合物体的表面。若此基质经随后的常压等离子体处理，则基质表面的硅氧烷被氧化，形成氧化硅基涂层。该氧化硅基涂层随后按本发明进行处理，在雾化的含硅单体存在下，将其进一步进行常压等离子体处理，在上面形成一硅氧烷涂层。但是，本发明也适用于在基体上形成有机涂层，例如聚丙烯酸或全氟有机涂层。
要被涂覆的基体包括任何材料，例如金属、陶瓷、塑料、硅氧烷、织物或无纺布、天然橡胶、合成纤维、纤维素材料和粉末。但是，基体的尺寸受限于产生常压等离子放电体装置的体积大小，即受限于产生等离子体装置电极间的距离。对于典型的等离子体产生装置而言，在从5到50mm，例如从12到26mm的缝隙间产生等离子体。因此，本发明特别适用于涂覆薄膜、纤维和粉末，
通过本发明方法涂覆的基体可有各种用途。例如，在氧化气氛中生成的氧化硅基涂层可提高基体的阻隔性和/或扩散性，且能提高另外材料粘接到基体表面的能力，卤官能化的有机或硅氧烷涂层(如全氟烯烃)可提高疏水性、疏油性、耐油性和土壤抗污性和/或基体的释放性，可提高纤维的手感柔软性；聚丙烯酸聚合物涂层可用作粘接层来促进多层结构的基体表面或其一部分的粘接性。涂层中包括胶态金属可为基体提供表面电导性，或提高其光学性能。聚噻吩和聚吡咯可提供电导性聚合物涂层，也可为金属基体提供耐腐蚀性。
当采用包括等离子体处理过程在内的方法涂覆涂层时，会出现的一个问题是形成涂层所用材料的化学性质可能有损失。因此，本发明的主要优点是涂层形成材料的化学性质在所形成的涂层内基本保留下来。例如，在用丙烯酸作为涂层形成材料的情况下，羧酸官能团在所形成的涂层中基本保持下来。
本发明还提供一种通过上述过程来生产具有多层涂层的基体的方法。在此情况下，基体每反复通过一次常压等离子辉光放电体就施涂一层涂层。在此情况下，优选通过卷绕方式或卷绕过程(reel to reelprocess)将基体运送过常压等离子辉光放电体的方法使基体一个连续的基座上被涂覆，其中基体由第一卷轴运过辉光放电体并以恒定速度送到第二卷轴上，以确保全部基体在辉光放电体中有一个预定的停留时间。每个基体可一或多次通过辉光放电体，由此在第一次通过时的第一或称供料卷轴在第二次通过时变为基体收集卷轴，而第一次通过时的基体收集卷轴在第二次通过时反过来变为供料卷轴，两个卷轴在每次通过结束时对调角色。或者将基体通过一系列常压辉光放电室。
按本发明涂覆于基体的涂层的用途优选包括层合粘合剂、例如食品包装用途的隔氧层或隔潮层和例如在平板显示应用中作为有机发光二极管器件中或器件上的组成部分。
现在参照附图详细说明本发明，图1示出按本发明装置的具体实施方案。
图1所示的按本发明设备包括产生常压等离子放电体的装置(一般标为10)，和一个雾化器(一般标为12)，连有为雾化器12提供涂层形成材料的注射泵14。产生放电体10的装置包括高电压15kHZ交流电源20，所提供的间隔12mm的面对面放置的电极22和24，较低电压的电极22被一个玻璃介质板26罩起来。雾化器12包括Sono-tek*8700-120超音速喷嘴30，并连接一个Sono-tek*06-05108宽频带超声波发生器32。雾化器12位于接地电极24内的O型环34上。被涂基体40放在电极22和24间的玻璃介质板26上。
上述参照附图1描述的设备用于下述所有工序。
(*Sono-tek Corporation，Milton，New York 12547，USA)
实施例1
在异丙醇和环己烷的1∶1混合物中将一片聚乙烯薄膜进行超声波洗涤并放到玻璃板上。在排空残留气体后，以1900sccm的速率和1.02×105Nm-2的压力导入等离子放电气体。使用两种放电气体，氦气和99％氦气/1％氧气的混合气。吹扫10分钟后，开启注射泵14并使涂层形成材料以3×10-5mls-1的速率流入。使用两种涂层形成材料，八甲基环四硅氧烷(下文称为D4)和四甲基环四硅氧烷(下文称为D4H)。当涂层形成材料到达超音速喷嘴时，开启超声波发生器(2.5W)来启动涂层形成材料的雾化过程，通过在对面放置的电极间施加1.5kV电压使常压等离子放电体被激发。使涂层形成材料进行沉积10分钟，然后将基体移出并在真空条件下放置20分钟来除去任何不稳定物质。
上述工序的结果示于下表1。用X射线光电子光谱分析法(KratosES300)对基体表面进行元素分析，用分光光度计(Aquila Instrumentsnkd-6000)来确定薄膜厚度。采用固着2μl去离子水液滴，利用视频俘获仪(AST产品VCA2500XE)来测量接触角。
用质谱仪测量基体表面的气体透过速度，结果示于表2。阻隔性改进系数按[涂覆基体的气体透过速度]/[参比样品的气体透过速度]来计算。
表1
样品                XPS分析  接触角(°) 沉积速率(nms-1) 涂层厚度(nm)
 ％C  ％O  ％Si  ％SiOx
  D4理论  50  25  25   0   -     -     -
  D4100％He  43.3  29.3  25.8   -   107.8*     28     279
  D41％O2  25.5  48.5  26.0   74.4   56.4     29     286
  D4H理论  33.3  33.3  33.3   0   -     -     -
  D4H100％He  32.5  39.1  28.4   -   102.3     82
  D4H1％O2  9.2  61.4  29.5   81.5   湿润     244
*清洁聚乙烯的接触角为105.8°
表2
样品  阻隔性改进系数
清洁聚乙烯  1.0(按定义)
D4，100％He  0.9
D4，1％O2  6.8
D4H，100％He  0.9
D4H，1％O2  4.5
基体表面的ATR-FTIR研究表明D4和D4H涂层形成材料发生了开环聚合反应，在基体表面形成聚硅氧烷。特别是对后者的ATR-FTIR研究表明聚硅氧烷涂层保留了大部分D4H中的Si-H官能团。
对按上述方法在玻璃表面制成的涂层进行NMR研究表明通过D4和D4H涂层形成材料的聚合反应在基体表面形成的聚硅氧烷包括二价(CH3)2SiO2/2结构单元和三价CH3SiO3/2结构单元，即聚硅氧烷为树脂型。
实施例2
用玻璃基体和丙烯酸为涂层形成材料，并单用氦气为放电气体，重复实施例1的方法。在分析前将涂层从基体上移出。
涂层的FTIR和固态NMR分析证实丙烯酸已聚合成聚丙烯酸。FTIR和NMR的数据都表明不饱和C＝C键都耗尽。
实施例3
使用尼龙和聚乙烯基体重复实施例2的方法。
将涂层与市售聚丙烯酸进行FTIR对比分析表明丙烯酸已在基体表面聚合成聚丙烯酸。
按上面实施例1进行X射线光电子光谱分析、薄膜厚度分析和接触角测量，结果示于下表3。
表3
样品 XPS分析 接触角(°) 接触角(癸烷(°))
％C ％O ％CO2H
理论 60.0  40.0  33.3 - -
市售聚丙烯酸 63.3  36.7  29.9 湿润 -
实施例3涂层 62.6  37.4  26.4 湿润 231±95
用质谱仪测定气体透过涂覆的聚乙烯膜的速度，按上述实施例1计算的阻隔性改进系数超过未处理的聚乙烯基体和市售聚丙烯酸，结果示于下表4。
表4
样品 阻隔性改进系数
未处理的基体 1.0(按定义)
市售聚丙烯酸 1.1±0.1
实施例3涂层 7.2±0.9
按下述方法对带涂层的尼龙基体进行搭接剪切试验。将两个涂覆的尼龙基体面对面地互相搭接，产生1cm2的搭接面，基体在2kg重量和70℃下固化60分钟。然后通过用拉伸机将基体以5mm/分钟的速度拉开，并记录下破坏前的最大负荷，确定为每一搭接件的粘合强度。带涂层的基体破坏前经受的最大负荷为74±11Ncm-2。而由未涂覆的尼龙制成的搭接件的对比试验则显示无粘合性。
实施例4
用玻璃基体和1H，1H，2H-全氟-1-辛烯(CF3(CF2)5CH＝CH2)作为涂层形成材料，重复实施例2的方法。
按上面实施例1进行X射线光电子光谱分析、FTIR分析和接触角测量(用水和癸烷)，结果示于下表5。XPS和FTIR分析结果表明玻璃基体涂层富含CF2和CF3，按实施例1测定水和癸烷接触角。
表5
    XPS分析 接触角(水)(°) 接触角(癸烷)(°)
％C ％F     ％O
理论 38.1  61.9     -     - -
实施例4涂料 38.0  60.0     2.1     118.9±3.0 61.1±2.2
接触角测量结果表明涂层给玻璃基体充分赋予了疏水性和疏油性。

Claims (24)

1.一种在基体上形成涂层的方法，该方法包括将雾化的液体和/或固体涂层形成材料导入常压等离子放电体和/或由其得到的离子化气流中，并将基体置于雾化的涂层形成材料中。
2.按权利要求1的方法，特征在于涂层形成材料通过直接注入方法导入。
3.按权利要求1或2的方法，特征在于涂层形成材料是含硅材料。
4.按权利要求3的方法，特征在于涂层形成材料选自二甲基硅氧烷和带有硅-氢键的硅氧烷。
5.按权利要求1或2的方法，特征在于等离子体是在含氧气氛中产生的。
6.按权利要求1或2的方法，特征在于涂层形成材料是一种有机或有机金属材料。
7.按权利要求6的方法，特征在于涂层形成材料选自丙烯酸和全氟烯烃。
8.按权利要求1或2的方法，特征在于基体包括金属、陶瓷、塑料、织物或无纺布、天然橡胶、合成纤维、纤维素材料和粉末。
9.按权利要求1或2任一项的方法，特征在于涂层可提高基体的粘合性、释放性、气体阻隔性、隔潮性、电导性和热导性、光学性能、绝缘性、亲水性、疏水性和/或疏油性。
10.一种按权利要求1或2任一项方法制备具有多层涂层的基体的方法，通过将所述基体反复通过常压等离子辉光放电体或将所述基体通过一系列常压等离子体辉光放电室的方法来施涂涂层。
11.按权利要求1或2任一项的方法，特征在于雾化的液体和/或固体涂层形成材料的化学性质在所形成的涂层中基本保留下来。
12.按权利要求1或2任一项的方法，特征在于通过采用一个卷轴装置将基体进行连续涂覆。
13.按权利要求1或2任一项的方法，特征在于涂层形成材料导入前通过将基体置于等离子体中来对基体进行预处理。
14.按权利要求1或2任一项的方法，特征在于基体上所形成的涂层通过置于等离子体中进行后处理。
15.按权利要求13的方法，特征在于通过常压等离子体辉光放电的方式施加等离子体。
16.按权利要求15的方法，特征在于将含氧材料加入到等离子体中。
17.按权利要求16的方法，特征在于含氧材料选自氧气和水。
18.用于常压条件下在基体上形成涂层的设备，该设备包括包括产生常压等离子辉光放电体的装置，使用时，将基体放置其中，用来提供在等离子放电体中雾化的涂层形成材料的雾化器和将涂层形成材料提供给雾化器的装置。
19.按权利要求18的设备，特征在于雾化器是超音速喷嘴。
20.按权利要求18或19的设备，特征在于基体固定在一个卷轴或卷绕装置上，使基体能够进行连续涂覆。
21.一种按权利要求1、2或6任一项方法制备的带涂层基体。
22.按权利要求21的带涂层基体，特征在于雾化的液体和/或固体涂层形成材料的化学性质在所得到的涂层中保留下来。
23.按权利要求1、2或6任一项方法形成的带涂层基体作为层合粘合剂、隔氧或隔潮层或在有机发光二极管中的应用。
24.一种在常压条件下将液体和/或固体涂层形成材料进行(共)聚合的方法，方法包括将单体材料雾化并将雾化的单体材料置于常压等离子放电体中。
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WO (1) WO2002028548A2 (zh)

Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101049054A (zh) * 2004-11-05 2007-10-03 陶氏康宁爱尔兰有限公司 等离子体系统
CN102046261A (zh) * 2008-06-06 2011-05-04 P2I有限公司 过滤介质
CN102083544A (zh) * 2008-07-04 2011-06-01 Abb研究有限公司 用于对工件进行静电涂覆的装置和减少其污染的方法
CN101175868B (zh) * 2005-05-12 2011-08-17 陶氏康宁爱尔兰有限公司 借助底漆将胶粘体粘结到基底上
CN102212963A (zh) * 2010-04-01 2011-10-12 固特异轮胎和橡胶公司 增强帘子线的大气压等离子体处理和在橡胶制品中的应用
CN103794462A (zh) * 2013-12-24 2014-05-14 苏州市奥普斯等离子体科技有限公司 一种超声波雾化等离子体处理装置
CN102355789B (zh) * 2004-11-05 2014-06-11 陶氏康宁爱尔兰有限公司 用于等离子体处理表面的工艺
CN104025719A (zh) * 2011-11-09 2014-09-03 道康宁法国公司 基材的等离子体处理
CN101932638B (zh) * 2007-12-27 2014-11-05 蓝星有机硅法国简易股份有限公司 硅氧烷自粘合剂、其生产方法、使用其的复合物及其应用
US9433971B2 (en) 2012-10-04 2016-09-06 The Goodyear Tire & Rubber Company Atmospheric plasma treatment of reinforcement cords and use in rubber articles
US9441325B2 (en) 2012-10-04 2016-09-13 The Goodyear Tire & Rubber Company Atmospheric plasma treatment of reinforcement cords and use in rubber articles
CN106164334A (zh) * 2014-04-15 2016-11-23 住友金属矿山株式会社 包覆膜、包覆膜的形成方法以及发光二极管器件
CN107532375A (zh) * 2014-11-27 2018-01-02 建筑研究和技术有限公司 表面改性聚烯烃纤维
CN108080228A (zh) * 2017-10-26 2018-05-29 中国船舶重工集团公司第七二五研究所 一种线路板防水防腐涂层及其制备方法
CN109267037A (zh) * 2018-11-21 2019-01-25 新疆大学 常压等离子体增强化学气相沉积方法及采用该方法的设备
CN111519168A (zh) * 2020-06-09 2020-08-11 江苏菲沃泰纳米科技有限公司 一种保护涂层及其制备方法
US12305070B2 (en) 2020-06-09 2025-05-20 Jiangsu Favored Nanotechnology Co., Ltd. Protective coating and preparation method therefor

Families Citing this family (126)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB9712338D0 (en) 1997-06-14 1997-08-13 Secr Defence Surface coatings
TR200400076T4 (tr) 2000-10-04 2004-02-23 Dow Corning Ireland Limited Bir kılıf oluşturmaya yarayan metot ve aparat
US6821379B2 (en) 2001-12-21 2004-11-23 The Procter & Gamble Company Portable apparatus and method for treating a workpiece
GB0208263D0 (en) * 2002-04-10 2002-05-22 Dow Corning Protective coating composition
TW200409669A (en) * 2002-04-10 2004-06-16 Dow Corning Ireland Ltd Protective coating composition
GB0208261D0 (en) * 2002-04-10 2002-05-22 Dow Corning An atmospheric pressure plasma assembly
TW200308187A (en) * 2002-04-10 2003-12-16 Dow Corning Ireland Ltd An atmospheric pressure plasma assembly
GB0211354D0 (en) 2002-05-17 2002-06-26 Surface Innovations Ltd Atomisation of a precursor into an excitation medium for coating a remote substrate
GB0212848D0 (en) * 2002-06-01 2002-07-17 Surface Innovations Ltd Introduction of liquid/solid slurry into an exciting medium
EA010388B1 (ru) * 2003-01-31 2008-08-29 Дау Корнинг Айэлэнд Лимитед Электродный узел для генерации плазмы
DE10319058A1 (de) * 2003-04-25 2004-12-02 Carl Freudenberg Kg Silikonisierte Einlagestoffe, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung
US7431989B2 (en) * 2003-05-06 2008-10-07 Tribofilm Research, Inc. Article with lubricated surface and method
US8092643B2 (en) * 2003-06-16 2012-01-10 Ionfield Systems, Llc Method and apparatus for cleaning and surface conditioning objects using plasma
US20060272674A1 (en) * 2005-06-02 2006-12-07 Cerionx, Inc. Method and apparatus for cleaning and surface conditioning objects using plasma
CN1806066A (zh) * 2003-06-16 2006-07-19 赛润克斯公司 清洗和消毒探针、插管、针具、吸管和喷嘴的表面的大气压力非热等离子区设备
US20060162740A1 (en) * 2005-01-21 2006-07-27 Cerionx, Inc. Method and apparatus for cleaning and surface conditioning objects using non-equilibrium atmospheric pressure plasma
US20060162741A1 (en) * 2005-01-26 2006-07-27 Cerionx, Inc. Method and apparatus for cleaning and surface conditioning objects with plasma
US8092644B2 (en) * 2003-06-16 2012-01-10 Ionfield Systems, Llc Method and apparatus for cleaning and surface conditioning objects using plasma
US20060272675A1 (en) * 2005-06-02 2006-12-07 Cerionx, Inc. Method and apparatus for cleaning and surface conditioning objects using plasma
US8366871B2 (en) * 2003-06-16 2013-02-05 Ionfield Holdings, Llc Method and apparatus for cleaning and surface conditioning objects using plasma
WO2005021833A2 (en) * 2003-08-28 2005-03-10 Surface Innovations Limited Apparatus for the coating and/or conditioning of substrates
GB0323295D0 (en) * 2003-10-04 2003-11-05 Dow Corning Deposition of thin films
US7758928B2 (en) 2003-10-15 2010-07-20 Dow Corning Corporation Functionalisation of particles
EP1673162A1 (en) 2003-10-15 2006-06-28 Dow Corning Ireland Limited Manufacture of resins
EP1702010A4 (en) * 2003-12-16 2008-12-31 Sun Chemical Corp METHOD FOR FORMING A RADIATION-RESISTABLE COATING AND A COATED ARTICLE
GB0406049D0 (en) 2004-03-18 2004-04-21 Secr Defence Surface coatings
EP1582270A1 (en) * 2004-03-31 2005-10-05 Vlaamse Instelling voor Technologisch Onderzoek Method and apparatus for coating a substrate using dielectric barrier discharge
GB2418379A (en) * 2004-09-23 2006-03-29 Reckitt Benckiser Cleansing wipes
GB0410749D0 (en) * 2004-05-14 2004-06-16 Dow Corning Ireland Ltd Coating apparatus
US20060060085A1 (en) * 2004-09-22 2006-03-23 Ptak Thaddeus J Composite filter media
EP1650254A1 (de) 2004-10-22 2006-04-26 Carl Freudenberg KG Dichtung mit reduziertem Drehmoment, Verfahren zur Herstellung, deren Verwendung als Dichtung für Klappenventile und Klappenventil
DE102004051781A1 (de) * 2004-10-22 2006-04-27 Carl Freudenberg Kg Dichtung mit reduziertem Drehmoment, Verfahren zu deren Herstellung, deren Verwendung als Dichtung für Klappenventile und Klappenventil
GB0423685D0 (en) 2004-10-26 2004-11-24 Dow Corning Ireland Ltd Improved method for coating a substrate
MX2007005123A (es) * 2004-10-29 2007-06-25 Dow Global Technologies Inc Revestimientos resistentes a la abrasion a traves de deposicion de vapor quimica mejorada de plasma.
JP4926394B2 (ja) * 2004-11-30 2012-05-09 株式会社ブリヂストン トラバース塗装工程の前処理方法およびトラバース塗装方法
GB0504384D0 (en) 2005-03-03 2005-04-06 Univ Durham Method for producing a composite coating
GB0506051D0 (en) * 2005-03-24 2005-04-27 Univ Durham A method for producing an aldehyde functionalised surface
US20060237030A1 (en) * 2005-04-22 2006-10-26 Cerionx, Inc. Method and apparatus for cleaning and surface conditioning objects with plasma
EP1741826A1 (en) 2005-07-08 2007-01-10 Nederlandse Organisatie voor Toegepast-Natuuurwetenschappelijk Onderzoek TNO Method for depositing a polymer layer containing nanomaterial on a substrate material and apparatus
EP1785198A1 (en) * 2005-11-14 2007-05-16 Vlaamse Instelling voor Technologisch Onderzoek A method for atmospheric plasma deposition of conjugated polymer coatings
GB2434369B (en) 2006-01-20 2010-08-25 P2I Ltd Plasma coated electrical or electronic devices
GB2434368B (en) * 2006-01-20 2010-08-25 P2I Ltd Plasma coated laboratory consumables
US7250195B1 (en) 2006-02-27 2007-07-31 Ionic Fusion Corporation Molecular plasma deposition of colloidal materials
EP2013395B1 (en) 2006-05-02 2014-04-02 Dow Corning Ireland Limited Web sealing device
KR101273231B1 (ko) 2006-05-02 2013-06-11 다우 코닝 아일랜드 리미티드 유체 치환 시스템
JP5043394B2 (ja) * 2006-09-29 2012-10-10 東京エレクトロン株式会社 蒸着装置およびその運転方法
GB0621520D0 (en) 2006-10-28 2006-12-06 P2I Ltd Novel products
GB0703172D0 (en) * 2007-02-19 2007-03-28 Pa Knowledge Ltd Printed circuit boards
EP1978038A1 (en) 2007-04-02 2008-10-08 Vlaamse Instelling Voor Technologisch Onderzoek (Vito) A method for producing a coating by atmospheric pressure plasma technology
PL1978067T3 (pl) * 2007-04-02 2010-07-30 Nitto Europe N V Przekładka rozdzielająca
GB0713830D0 (en) 2007-07-17 2007-08-29 P2I Ltd Novel products method
WO2009030763A2 (fr) * 2007-09-06 2009-03-12 Universite Libre De Bruxelles Procédé pour déposer une couche fluorée à partir d'un monomère précurseur
JP2011507683A (ja) * 2007-12-21 2011-03-10 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 流体濾過システム
JP2011523911A (ja) * 2008-05-22 2011-08-25 ダウ・コーニング・コーポレイション 縫製されていない継ぎ目を製造するための方法及び組成物
EP2251453B1 (en) 2009-05-13 2013-12-11 SiO2 Medical Products, Inc. Vessel holder
WO2013170052A1 (en) 2012-05-09 2013-11-14 Sio2 Medical Products, Inc. Saccharide protective coating for pharmaceutical package
US7985188B2 (en) 2009-05-13 2011-07-26 Cv Holdings Llc Vessel, coating, inspection and processing apparatus
EP2442833B1 (en) 2009-06-16 2018-10-17 TheraDep Technologies, Inc. Wound healing device
US9458536B2 (en) 2009-07-02 2016-10-04 Sio2 Medical Products, Inc. PECVD coating methods for capped syringes, cartridges and other articles
GB2475685A (en) 2009-11-25 2011-06-01 P2I Ltd Plasma polymerization for coating wool
JP2011144412A (ja) 2010-01-13 2011-07-28 Honda Motor Co Ltd プラズマ成膜装置
GB201000538D0 (en) 2010-01-14 2010-03-03 P2I Ltd Liquid repellent surfaces
US8445074B2 (en) 2010-04-01 2013-05-21 The Goodyear Tire & Rubber Company Atmospheric plasma treatment of tire cords
US11624115B2 (en) 2010-05-12 2023-04-11 Sio2 Medical Products, Inc. Syringe with PECVD lubrication
JP2011252085A (ja) 2010-06-02 2011-12-15 Honda Motor Co Ltd プラズマ成膜方法
CN102986304A (zh) 2010-07-21 2013-03-20 道康宁法国公司 基材的等离子体处理
US9878101B2 (en) 2010-11-12 2018-01-30 Sio2 Medical Products, Inc. Cyclic olefin polymer vessels and vessel coating methods
ES2764117T3 (es) 2010-12-13 2020-06-02 Theradep Tech Inc Dispositivos médicos implantables
USD681706S1 (en) * 2010-12-30 2013-05-07 Sulzer Metco (Us), Inc. Neutrode stack
US9272095B2 (en) 2011-04-01 2016-03-01 Sio2 Medical Products, Inc. Vessels, contact surfaces, and coating and inspection apparatus and methods
WO2012146348A1 (en) 2011-04-27 2012-11-01 Dow Corning France Plasma treatment of substrates
EP2532716A1 (en) 2011-06-10 2012-12-12 Eppendorf AG A substrate having hydrophobic moiety-repelling surface characteristics and process for preparing the same
GB201112369D0 (en) 2011-07-19 2011-08-31 Surface Innovations Ltd Polymeric structure
GB201112516D0 (en) 2011-07-21 2011-08-31 P2I Ltd Surface coatings
DE102011052306A1 (de) 2011-07-29 2013-01-31 Jokey Plastik Sohland Gmbh Verfahren zur Erzeugung einer permeationshemmenden Beschichtung von Kunststoffbehältern und Beschichtungsanlage
GB201113610D0 (en) 2011-08-08 2011-09-21 Surface Innovations Ltd Product and method
US8778462B2 (en) 2011-11-10 2014-07-15 E I Du Pont De Nemours And Company Method for producing metalized fibrous composite sheet with olefin coating
US11116695B2 (en) 2011-11-11 2021-09-14 Sio2 Medical Products, Inc. Blood sample collection tube
WO2013071138A1 (en) 2011-11-11 2013-05-16 Sio2 Medical Products, Inc. PASSIVATION, pH PROTECTIVE OR LUBRICITY COATING FOR PHARMACEUTICAL PACKAGE, COATING PROCESS AND APPARATUS
US8741393B2 (en) 2011-12-28 2014-06-03 E I Du Pont De Nemours And Company Method for producing metalized fibrous composite sheet with olefin coating
SI2623215T1 (sl) * 2012-02-01 2014-09-30 Bioenergy Capital Ag Hidrofilna plazemska obloga
EP2809453B1 (en) * 2012-02-02 2016-11-02 Centre de Recherche Public Henri Tudor Superamphiphobic surfaces by atmospheric plasma polymerization
US8545951B2 (en) * 2012-02-29 2013-10-01 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Endotracheal tubes and other polymer substrates including an anti-fouling treatment
WO2014004359A1 (en) * 2012-06-24 2014-01-03 The Gates Corporation Carbon cord for reinforced rubber products and the products
US20150297800A1 (en) 2012-07-03 2015-10-22 Sio2 Medical Products, Inc. SiOx BARRIER FOR PHARMACEUTICAL PACKAGE AND COATING PROCESS
US9133412B2 (en) 2012-07-09 2015-09-15 Tribofilm Research, Inc. Activated gaseous species for improved lubrication
EP2882894A1 (en) 2012-08-09 2015-06-17 E. I. du Pont de Nemours and Company Improved barrier fabrics
CN104854257B (zh) 2012-11-01 2018-04-13 Sio2医药产品公司 涂层检查方法
WO2014078666A1 (en) 2012-11-16 2014-05-22 Sio2 Medical Products, Inc. Method and apparatus for detecting rapid barrier coating integrity characteristics
WO2014085348A2 (en) 2012-11-30 2014-06-05 Sio2 Medical Products, Inc. Controlling the uniformity of pecvd deposition on medical syringes, cartridges, and the like
US9764093B2 (en) 2012-11-30 2017-09-19 Sio2 Medical Products, Inc. Controlling the uniformity of PECVD deposition
EP2945994B1 (en) 2013-01-18 2018-07-11 Basf Se Acrylic dispersion-based coating compositions
US20160015898A1 (en) 2013-03-01 2016-01-21 Sio2 Medical Products, Inc. Plasma or cvd pre-treatment for lubricated pharmaceutical package, coating process and apparatus
JP6160498B2 (ja) * 2013-03-08 2017-07-12 住友金属鉱山株式会社 被覆はんだ材料およびその製造方法
CA2904611C (en) 2013-03-11 2021-11-23 Sio2 Medical Products, Inc. Coated packaging
US9937099B2 (en) 2013-03-11 2018-04-10 Sio2 Medical Products, Inc. Trilayer coated pharmaceutical packaging with low oxygen transmission rate
EP2967134A4 (en) 2013-03-13 2017-04-26 Celanese Acetate LLC Smoke filters for reducing components in a smoke stream
US9863042B2 (en) 2013-03-15 2018-01-09 Sio2 Medical Products, Inc. PECVD lubricity vessel coating, coating process and apparatus providing different power levels in two phases
CN104069968B (zh) * 2013-03-28 2017-01-04 株式会社Enjet 喷雾嘴和使用该喷雾嘴的涂敷系统
ITMI20130855A1 (it) 2013-05-27 2014-11-28 Univ Milano Bicocca Metodo di rivestimento con film polimerico di un substrato mediante deposizione e successiva polimerizzazione per trattamento a plasma di una composizione monomerica.
US9988536B2 (en) 2013-11-05 2018-06-05 E I Du Pont De Nemours And Company Compositions for surface treatments
WO2015095019A1 (en) 2013-12-17 2015-06-25 E. I. Du Pont De Nemours And Company Nonwoven fabric with low ice adhesion
GB201403558D0 (en) 2014-02-28 2014-04-16 P2I Ltd Coating
KR101485980B1 (ko) * 2014-03-03 2015-01-27 주식회사 기가레인 코팅 장치
DE102014103025A1 (de) * 2014-03-07 2015-09-10 Ernst-Moritz-Arndt-Universität Greifswald Verfahren zur Beschichtung eines Substrates, Verwendung des Substrats und Vorrichtung zur Beschichtung
JP6455508B2 (ja) 2014-03-25 2019-01-23 住友金属鉱山株式会社 被覆はんだ材料およびその製造方法
WO2015148471A1 (en) 2014-03-28 2015-10-01 Sio2 Medical Products, Inc. Antistatic coatings for plastic vessels
WO2015171727A1 (en) 2014-05-07 2015-11-12 E. I. Du Pont De Nemours And Company Polyimide web separator for use in an electrochemical cell
US10566106B2 (en) 2014-08-18 2020-02-18 The Boeing Company Conjugated polymer coatings and methods for atmospheric plasma deposition thereof
KR101532883B1 (ko) * 2014-09-02 2015-07-02 성균관대학교산학협력단 전이금속 디칼코게나이드 박막의 형성 방법
GB2556518B (en) 2015-06-09 2022-05-18 P2I Ltd Coatings
KR20180017113A (ko) 2015-06-09 2018-02-20 피2아이 리미티드 코팅
AU2016275276A1 (en) 2015-06-09 2018-02-01 P2I Ltd Method for forming a coating on an electronic or electrical device
BR112018003051B1 (pt) 2015-08-18 2022-12-06 Sio2 Medical Products, Inc Tubo de coleta de sangue submetido a vácuo
WO2017058969A1 (en) * 2015-10-02 2017-04-06 Corning Incorporated Removable glass surface treatments and methods for reducing particle adhesion
EP3411159A1 (en) 2016-02-01 2018-12-12 TheraDep Technologies, Inc. Systems and methods for delivering therapeutic agents
DE102016124209A1 (de) 2016-12-13 2018-06-14 Jokey Plastik Wipperfürth GmbH Beschichtungsvorrichtung und Beschichtungsverfahren für Kunststoffbehälter
EP4289520A3 (en) 2017-08-23 2024-03-13 Molecular Plasma Group SA Soft plasma polymerization process for a mechanically durable superhydrophobic nanostructured coating
US11690998B2 (en) 2017-10-31 2023-07-04 Theradep Technologies, Inc. Methods of treating bacterial infections
FR3077821B1 (fr) 2018-02-09 2020-12-18 Coating Plasma Ind Film de protection a base de silicium pour adhesif, son procede de fabrication et ses utilisations
EP3799964A1 (fr) * 2019-10-02 2021-04-07 ETA SA Manufacture Horlogère Suisse Procdede de fabrication d'une piece mecanique epilamee
EP3881941A1 (en) * 2020-03-17 2021-09-22 Molecular Plasma Group SA Plasma coating method and apparatus for biological surface modification
EP3940106A1 (de) * 2020-07-15 2022-01-19 TI Automotive Engineering Centre (Heidelberg) GmbH Verfahren zum beschichten einer rohrleitung und rohrleitung
EP4136974A1 (en) 2021-08-20 2023-02-22 Fixed Phage Limited Plasma treatment process and apparatus therefor
CN114460114B (zh) * 2022-04-13 2022-06-21 季华实验室 样品分析方法、装置、设备及存储介质
LU503697B1 (en) * 2023-03-20 2024-09-23 Luxembourg Inst Science & Tech List Plasma-polymer surface coating

Family Cites Families (70)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4212719A (en) * 1978-08-18 1980-07-15 The Regents Of The University Of California Method of plasma initiated polymerization
JPS59160828A (ja) * 1983-03-01 1984-09-11 Fuji Photo Film Co Ltd 磁気記録媒体
US4588641A (en) * 1983-11-22 1986-05-13 Olin Corporation Three-step plasma treatment of copper foils to enhance their laminate adhesion
JPH0753764B2 (ja) 1986-03-28 1995-06-07 ト−メ−産業株式会社 ビニルモノマ−の重合法
DE3705482A1 (de) * 1987-02-20 1988-09-01 Hoechst Ag Verfahren und anordnung zur oberflaechenvorbehandlung von kunststoff mittels einer elektrischen koronaentladung
GB8713986D0 (en) * 1987-06-16 1987-07-22 Shell Int Research Apparatus for plasma surface treating
DE3827628A1 (de) † 1988-08-16 1990-03-15 Hoechst Ag Verfahren und vorrichtung zur oberflaechenvorbehandlung eines formkoerpers aus kunststoff mittels einer elektrischen koronaentladung
DE3925539A1 (de) † 1989-08-02 1991-02-07 Hoechst Ag Verfahren und vorrichtung zum beschichten eines schichttraegers
JP2811820B2 (ja) * 1989-10-30 1998-10-15 株式会社ブリヂストン シート状物の連続表面処理方法及び装置
US5185132A (en) * 1989-12-07 1993-02-09 Research Development Corporation Of Japan Atomspheric plasma reaction method and apparatus therefor
JP2990608B2 (ja) * 1989-12-13 1999-12-13 株式会社ブリヂストン 表面処理方法
JP2897055B2 (ja) * 1990-03-14 1999-05-31 株式会社ブリヂストン ゴム系複合材料の製造方法
US5366770A (en) * 1990-04-17 1994-11-22 Xingwu Wang Aerosol-plasma deposition of films for electronic cells
US5206463A (en) * 1990-07-24 1993-04-27 Miraco, Inc. Combined rigid and flexible printed circuits and method of manufacture
JP3194148B2 (ja) * 1991-01-21 2001-07-30 イーシー化学株式会社 金属の表面処理方法
GB9102768D0 (en) 1991-02-09 1991-03-27 Tioxide Group Services Ltd Coating process
JPH04295818A (ja) 1991-03-26 1992-10-20 Seiko Epson Corp コンタクトレンズの製造方法
DE4111384C2 (de) * 1991-04-09 1999-11-04 Leybold Ag Vorrichtung zur Beschichtung von Substraten
JP3283889B2 (ja) * 1991-07-24 2002-05-20 株式会社きもと 防錆処理方法
JP3286816B2 (ja) * 1992-12-24 2002-05-27 イーシー化学株式会社 大気圧グロ−放電プラズマ処理法
JP3445632B2 (ja) 1993-02-26 2003-09-08 科学技術振興事業団 薄膜の製造方法とその装置
JPH06330326A (ja) 1993-03-26 1994-11-29 Shin Etsu Chem Co Ltd シリカ薄膜の製造方法
US5414324A (en) * 1993-05-28 1995-05-09 The University Of Tennessee Research Corporation One atmosphere, uniform glow discharge plasma
JPH0762546A (ja) 1993-08-25 1995-03-07 Shinko Electric Co Ltd 大気圧プラズマ表面処理装置
FR2713511B1 (fr) 1993-12-15 1996-01-12 Air Liquide Procédé et dispositif de création d'une atmosphère d'espèces gazeuses excitées ou instables.
US6342275B1 (en) * 1993-12-24 2002-01-29 Seiko Epson Corporation Method and apparatus for atmospheric pressure plasma surface treatment, method of manufacturing semiconductor device, and method of manufacturing ink jet printing head
JP3064182B2 (ja) 1994-06-14 2000-07-12 松下電工株式会社 大気圧プラズマ粉体処理方法及びその装置
FI103647B1 (fi) * 1994-06-17 1999-08-13 Valmet Paper Machinery Inc Menetelmä ja sovitelma paperiradan päällystämiseksi
JP3508789B2 (ja) 1994-07-04 2004-03-22 セイコーエプソン株式会社 基板の表面処理方法
US5540959A (en) * 1995-02-21 1996-07-30 Howard J. Greenwald Process for preparing a coated substrate
WO1996031997A1 (en) * 1995-04-07 1996-10-10 Seiko Epson Corporation Surface treatment apparatus
DE19525453A1 (de) * 1995-07-13 1997-01-16 Eltex Elektrostatik Gmbh Vorrichtung zum Ablösen der gasförmigen laminaren Grenzschicht
DE19546187C2 (de) * 1995-12-11 1999-04-15 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren und Einrichtung zur plasmagestützten Oberflächenbehandlung
AUPN820396A0 (en) 1996-02-21 1996-03-14 Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation Method for reducing crazing in a plastics material
US5876753A (en) 1996-04-16 1999-03-02 Board Of Regents, The University Of Texas System Molecular tailoring of surfaces
US5968377A (en) 1996-05-24 1999-10-19 Sekisui Chemical Co., Ltd. Treatment method in glow-discharge plasma and apparatus thereof
JP3624566B2 (ja) 1996-07-11 2005-03-02 日新電機株式会社 イオン照射装置
WO1998010116A1 (en) 1996-09-05 1998-03-12 Talison Research Ultrasonic nozzle feed for plasma deposited film networks
DE59700524D1 (de) * 1996-12-23 1999-11-11 Sulzer Metco Ag Wohlen Indirektes Plasmatron
JP3899597B2 (ja) 1997-01-30 2007-03-28 セイコーエプソン株式会社 大気圧プラズマ生成方法および装置並びに表面処理方法
US6014235A (en) 1997-06-03 2000-01-11 Lucent Technologies Inc. Optical-loop buffer that enhances the extinction ratio of the buffered signal
JP3478068B2 (ja) 1997-06-11 2003-12-10 富士ゼロックス株式会社 定着装置
GB9715508D0 (en) * 1997-07-24 1997-10-01 Scapa Group Plc Industrial fabrics and method of treatment
DE19732901C1 (de) † 1997-07-30 1998-11-26 Tdz Ges Fuer Innovative Oberfl Vorrichtung zur Koronabehandlung der Oberfläche eines Substrats
AU744202B2 (en) 1997-08-08 2002-02-21 Board Of Regents Non-fouling, wettable coated devices
GB9717368D0 (en) 1997-08-18 1997-10-22 Crowther Jonathan Cold plasma metallization
DE19742619C1 (de) 1997-09-26 1999-01-28 Siemens Ag Verfahren und Vorrichtung zur Einbringung pulverförmiger Feststoffe oder Flüssigkeiten in ein induktiv gekoppeltes Plasma
WO1999039842A1 (de) * 1998-02-05 1999-08-12 Empa Eidgenössische Materialprüfungs- Und Forschungsanstalt; Polare polymerartige beschichtung
US6368665B1 (en) * 1998-04-29 2002-04-09 Microcoating Technologies, Inc. Apparatus and process for controlled atmosphere chemical vapor deposition
DE19826550C2 (de) † 1998-06-15 2001-07-12 Siemens Ag Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen eines Pulveraerosols
US6705127B1 (en) * 1998-10-30 2004-03-16 Corning Incorporated Methods of manufacturing soot for optical fiber preforms and preforms made by the methods
JP3704983B2 (ja) 1998-12-25 2005-10-12 セイコーエプソン株式会社 表面処理装置
JP2000212753A (ja) 1999-01-22 2000-08-02 Sekisui Chem Co Ltd 表面処理品の製造方法
JP4096454B2 (ja) 1999-05-11 2008-06-04 コニカミノルタホールディングス株式会社 プラスティック支持体の表面処理装置及びプラスティック支持体の表面処理方法
EP1198610A4 (en) * 1999-05-14 2004-04-07 Univ California LOW TEMPERATURE COMPATIBLE PLASMA FLOW DEVICE WITH LARGE PRESSURE RANGE
DE19924108B4 (de) 1999-05-26 2007-05-03 Robert Bosch Gmbh Plasmapolymerbeschichtung und Verfahren zu deren Herstellung
US6331689B1 (en) * 1999-06-15 2001-12-18 Siemens Aktiengesellschaft Method and device for producing a powder aerosol and use thereof
JP2001074907A (ja) * 1999-09-06 2001-03-23 Sekisui Chem Co Ltd ディスプレイ用反射防止フィルム及びその製造方法
JP3399887B2 (ja) 1999-09-22 2003-04-21 パール工業株式会社 プラズマ処理装置
DE29919142U1 (de) * 1999-10-30 2001-03-08 Agrodyn Hochspannungstechnik GmbH, 33803 Steinhagen Plasmadüse
JP2001158976A (ja) * 1999-12-02 2001-06-12 Showa Aluminum Kan Kk 大気圧低温プラズマにより処理したｄｉ缶及びその製造方法
FR2801814B1 (fr) 1999-12-06 2002-04-19 Cebal Procede de depot d'un revetement sur la surface interne des boitiers distributeurs aerosols
JP2003523053A (ja) 2000-02-11 2003-07-29 ダウ・コーニング・アイルランド・リミテッド 大気圧プラズマシステム
DE10011276A1 (de) * 2000-03-08 2001-09-13 Wolff Walsrode Ag Verwendung eines indirrekten atomosphärischen Plasmatrons zur Oberflächenbehandlung oder Beschichtung bahnförmiger Werkstoffe sowie ein Verfahren zur Behandlung oder Beschichtung bahnförmiger Werkstoffe
DE10017846C2 (de) 2000-04-11 2002-03-14 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren zum Abscheiden einer Polymerschicht und Verwendung derselben
JP2002057440A (ja) 2000-06-02 2002-02-22 Sekisui Chem Co Ltd 放電プラズマ処理方法及びその装置
FR2814382B1 (fr) 2000-09-28 2003-05-09 Cebal Procede de depot d'un revetement interne dans un recipient en matiere plastique
TR200400076T4 (tr) 2000-10-04 2004-02-23 Dow Corning Ireland Limited Bir kılıf oluşturmaya yarayan metot ve aparat
MY138190A (en) 2000-10-26 2009-05-29 Dow Corning Ireland Ltd An Irish Company An atmospheric pressure plasma assembly
WO2002040742A1 (en) * 2000-11-14 2002-05-23 Sekisui Chemical Co., Ltd. Method and device for atmospheric plasma processing

Cited By (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102355789B (zh) * 2004-11-05 2014-06-11 陶氏康宁爱尔兰有限公司 用于等离子体处理表面的工艺
CN101049054A (zh) * 2004-11-05 2007-10-03 陶氏康宁爱尔兰有限公司 等离子体系统
CN101175868B (zh) * 2005-05-12 2011-08-17 陶氏康宁爱尔兰有限公司 借助底漆将胶粘体粘结到基底上
CN101932638B (zh) * 2007-12-27 2014-11-05 蓝星有机硅法国简易股份有限公司 硅氧烷自粘合剂、其生产方法、使用其的复合物及其应用
CN102046261A (zh) * 2008-06-06 2011-05-04 P2I有限公司 过滤介质
CN102083544A (zh) * 2008-07-04 2011-06-01 Abb研究有限公司 用于对工件进行静电涂覆的装置和减少其污染的方法
CN102212963A (zh) * 2010-04-01 2011-10-12 固特异轮胎和橡胶公司 增强帘子线的大气压等离子体处理和在橡胶制品中的应用
CN104025719A (zh) * 2011-11-09 2014-09-03 道康宁法国公司 基材的等离子体处理
US9433971B2 (en) 2012-10-04 2016-09-06 The Goodyear Tire & Rubber Company Atmospheric plasma treatment of reinforcement cords and use in rubber articles
US9441325B2 (en) 2012-10-04 2016-09-13 The Goodyear Tire & Rubber Company Atmospheric plasma treatment of reinforcement cords and use in rubber articles
CN103794462A (zh) * 2013-12-24 2014-05-14 苏州市奥普斯等离子体科技有限公司 一种超声波雾化等离子体处理装置
CN103794462B (zh) * 2013-12-24 2016-11-23 苏州市奥普斯等离子体科技有限公司 一种超声波雾化等离子体处理装置
CN106164334A (zh) * 2014-04-15 2016-11-23 住友金属矿山株式会社 包覆膜、包覆膜的形成方法以及发光二极管器件
TWI632198B (zh) * 2014-04-15 2018-08-11 住友金屬礦山股份有限公司 被覆膜形成方法
CN107532375A (zh) * 2014-11-27 2018-01-02 建筑研究和技术有限公司 表面改性聚烯烃纤维
CN108080228A (zh) * 2017-10-26 2018-05-29 中国船舶重工集团公司第七二五研究所 一种线路板防水防腐涂层及其制备方法
CN109267037A (zh) * 2018-11-21 2019-01-25 新疆大学 常压等离子体增强化学气相沉积方法及采用该方法的设备
CN111519168A (zh) * 2020-06-09 2020-08-11 江苏菲沃泰纳米科技有限公司 一种保护涂层及其制备方法
US12305070B2 (en) 2020-06-09 2025-05-20 Jiangsu Favored Nanotechnology Co., Ltd. Protective coating and preparation method therefor

Also Published As

Publication number Publication date
EA200300440A1 (ru) 2003-08-28
MXPA03002988A (es) 2004-12-06
WO2002028548A2 (en) 2002-04-11
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DE60101747T3 (de) 2008-04-03
EP1326718B1 (en) 2004-01-07
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CN1261233C (zh) 2006-06-28
EP1326718B2 (en) 2007-09-05
ES2214444T3 (es) 2004-09-16
BR0114200B1 (pt) 2011-05-03
ATE257412T1 (de) 2004-01-15
PT1326718E (pt) 2004-04-30
KR100823858B1 (ko) 2008-04-21
EP1326718A2 (en) 2003-07-16
DK1326718T3 (da) 2004-04-13
JP5349726B2 (ja) 2013-11-20
JP2004510571A (ja) 2004-04-08
KR20030068543A (ko) 2003-08-21
DE60101747D1 (de) 2004-02-12
EA006831B1 (ru) 2006-04-28
AU2001290097A1 (en) 2002-04-15
DE60101747T2 (de) 2004-10-14
US7455892B2 (en) 2008-11-25
ES2214444T5 (es) 2008-02-16
TR200400076T4 (tr) 2004-02-23

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