[go: up one dir, main page]

EA006831B1 - Способ и устройство для образования покрытия - Google Patents

Способ и устройство для образования покрытия Download PDF

Info

Publication number
EA006831B1
EA006831B1 EA200300440A EA200300440A EA006831B1 EA 006831 B1 EA006831 B1 EA 006831B1 EA 200300440 A EA200300440 A EA 200300440A EA 200300440 A EA200300440 A EA 200300440A EA 006831 B1 EA006831 B1 EA 006831B1
Authority
EA
Eurasian Patent Office
Prior art keywords
coating
substrate
plasma
forming
preceding paragraphs
Prior art date
Application number
EA200300440A
Other languages
English (en)
Other versions
EA200300440A1 (ru
Inventor
Эндрю Гудвин
Патрик Мерлин
Джэс Пол Бэдьял
Люк Уорд
Original Assignee
Дау Корнинг Айэлэнд Лимитед
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=26245097&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=EA006831(B1) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Priority claimed from GB0024230A external-priority patent/GB0024230D0/en
Priority claimed from GB0114877A external-priority patent/GB0114877D0/en
Application filed by Дау Корнинг Айэлэнд Лимитед filed Critical Дау Корнинг Айэлэнд Лимитед
Publication of EA200300440A1 publication Critical patent/EA200300440A1/ru
Publication of EA006831B1 publication Critical patent/EA006831B1/ru

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
    • B05D1/62—Plasma-deposition of organic layers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D7/00—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials
    • B05D7/24—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials for applying particular liquids or other fluent materials
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B17/00—Apparatus for spraying or atomising liquids or other fluent materials, not covered by the preceding groups
    • B05B17/04—Apparatus for spraying or atomising liquids or other fluent materials, not covered by the preceding groups operating with special methods
    • B05B17/06—Apparatus for spraying or atomising liquids or other fluent materials, not covered by the preceding groups operating with special methods using ultrasonic or other kinds of vibrations
    • B05B17/0607—Apparatus for spraying or atomising liquids or other fluent materials, not covered by the preceding groups operating with special methods using ultrasonic or other kinds of vibrations generated by electrical means, e.g. piezoelectric transducers
    • B05B17/0623—Apparatus for spraying or atomising liquids or other fluent materials, not covered by the preceding groups operating with special methods using ultrasonic or other kinds of vibrations generated by electrical means, e.g. piezoelectric transducers coupled with a vibrating horn
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B5/00—Electrostatic spraying apparatus; Spraying apparatus with means for charging the spray electrically; Apparatus for spraying liquids or other fluent materials by other electric means
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
    • B05D1/02—Processes for applying liquids or other fluent materials performed by spraying
    • B05D1/08—Flame spraying
    • B05D1/10—Applying particulate materials
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/448—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials
    • C23C16/4486—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials by producing an aerosol and subsequent evaporation of the droplets or particles
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/50—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges
    • C23C16/503—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges using DC or AC discharges
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24—Generating plasma
    • H05H1/2475—Generating plasma using acoustic pressure discharges
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24—Generating plasma
    • H05H1/2475—Generating plasma using acoustic pressure discharges
    • H05H1/2481—Generating plasma using acoustic pressure discharges the plasma being activated using piezoelectric actuators
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H2240/00—Testing
    • H05H2240/10—Testing at atmospheric pressure

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Acoustics & Sound (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Special Spraying Apparatus (AREA)
  • Silicon Polymers (AREA)
  • Absorbent Articles And Supports Therefor (AREA)
  • Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Multicomponent Fibers (AREA)

Abstract

Способ образования покрытия на подложке с использованием плазменного разряда атмосферного давления. Способ включает в себя введение распыленного жидкого и/или твердого образующего покрытие вещества в плазменный разряд атмосферного давления и/или образующийся при этом поток ионизированного газа, и воздействие на подложку распыленного образующего покрытие вещества. В изобретениии также описан способ полимеризации образующего полимер вещества, а также устройство для образования покрытия на подложке.

Description

Настоящее изобретение относится к способу образования покрытия на подложке, в частности к способу образования покрытия на подложке с использованием плазменного разряда атмосферного давления, к способу полимеризации образующего полимер вещества и, кроме того, к устройству для образования покрытия на подложке.
Покрытия могут наноситься на подложки по множеству причин, например для защиты подложки от коррозии, для создания барьера к окислению, для улучшения сцепления (адгезии) с другими материалами, для увеличения поверхностной активности, а также для обеспечения биомедицинской совместимости подложки. Метод, обычно используемый для модификации или для нанесения покрытия на поверхность подложки, заключается в размещении подложки в реакторном сосуде и в воздействии на него плазменного разряда. В данной области техники известно множество примеров подобной обработки; например, в патенте США 5876753 описан способ присоединения целевых материалов к твердой поверхности, который включает в себя прикрепление содержащих углерод соединений к поверхности с помощью импульсного плазменного осаждения малой мощности с переменным рабочим циклом, а в ЕР-А-0896035 описано устройство, имеющее подложку и покрытие, где покрытие наносится на подложку с помощью плазменной полимеризации газа, содержащего по меньшей мере одно органическое соединение или мономер. В документе ΌΕ 19924108, который был впервые опубликован после даты первоначального приоритета настоящей заявки, описывается способ нанесения на подложки покрытий из красителей и ингибиторов коррозии. Способ включает в себя нанесение покрытия в виде жидкой пленки на подложку и последующего плазменного полимерного защитного покрытия. Плазменное полимерное покрытие образуется с использованием газообразных мономеров и плазмы низкого давления.
Однако при такой плазменной обработке поверхности требуется, чтобы подложка находилась в условиях пониженного давления, а следовательно необходима вакуумная камера. Обычные давления образующего покрытие газа находятся в диапазоне от 5 до 25 Н-м-2 (для сравнения 1 атмосфера = 1,01 х 105 Н-м-2). В результате необходимости создания пониженного давления обработка поверхности является дорогой, ограничена периодической обработкой, а вещества для образования покрытия должны находиться в виде газа и/или пара для поддержания условий пониженного давления.
Авторы настоящего изобретения установили, что вышеуказанные недостатки плазменной обработки поверхности подложки могут быть преодолены с использованием комбинации плазменного разряда атмосферного давления и распыленного жидкого и/или твердого вещества, образующего покрытие.
Таким образом, согласно настоящему изобретению разработан способ образования покрытия на подложке, включающий в себя введение распыленного жидкого и/или твердого вещества, образующего покрытие, в плазменный разряд атмосферного давления и/или в образующийся при этом поток ионизированного газа, и воздействие на подложку распыленного вещества, образующего покрытие.
Следует понимать, что материал, образующий покрытие, или иначе говоря образующее покрытие вещество согласно настоящему изобретению представляет собой вещество, которое можно использовать для получения любого подходящего покрытия, включая, например, вещество, которое можно использовать для выращивания пленки или для химической модификации существующей поверхности.
Настоящее изобретение предлагает также способ полимеризации вещества, образующего полимер, включающий в себя распыление образующего полимер вещества и воздействие на образующее полимер вещество плазменного разряда атмосферного давления.
Настоящее изобретение предлагает также устройство для образования покрытия на подложке, включающее в себя средства для генерирования плазменного разряда атмосферного давления, в который, при использовании, помещена подложка, распылитель для обеспечения распыленного образующего покрытие вещества в плазменном разряде и средства для подачи образующего покрытия вещества в распылитель.
В настоящем изобретении можно использовать любые обычные средства для генерирования плазменного тлеющего разряда атмосферного давления, например, плазменной струи атмосферного давления, микроволнового тлеющего разряда атмосферного давления и тлеющего разряда атмосферного давления. Обычно в таких средствах будут использоваться гелиевые разбавители и высокочастотный (например >1 кГц) источник питания для генерирования гомогенного тлеющего разряда при атмосферном давлении по механизму ионизации Пеннинга (смотри, например, Καηαζα\να с1 а1., ΤΡΙινδΌ: ΛρρΙ.ΡΙινδ. 1988, 21, 838, ΘΓαζαΓί с1 а1., Ргос. 1рп.8утр. Р1а§ша Сйсш. 1989, 2, 95, Καηαζανα с1 а1., М.1с1саг 1п81гитеп18 апй Ме11юЙ5 ίη Рйу81са1 Векеагсй, 1989, В37/38, 842, апй Уокоуата е1 а1., ТРйук.П: Арр1.Рйу8. 1990, 23, 374).
Образующее покрытие вещество может быть распылено с использованием любых обычных средств, например, ультразвуковым распылителем (форсункой). Распылитель предпочтительно производит каплю образующего покрытие вещества размером от 10 до 100 мкм, более предпочтительно от 10 до 50 мкм. Подходящими распылителями для использования в настоящем изобретении являются ультразвуковые форсунки от 8опо-Тек Согрогайоп, Мй1оп. №\\-Уогк. США. Устройство по настоящему изобретению может включать в себя множество распылителей, которые могут быть особенно полезны, например, в том случае, когда устройство должно использоваться для образования полимерного покрытия на под
- 1 006831 ложке из двух различных образующих покрытие веществ, у которых мономеры не смешиваются или находятся в различных фазах, например, первый является твердым веществом, а второй - газом или жидкостью.
Настоящее изобретение можно использовать для образования покрытий подложки множества различных типов. Тип покрытия, которое образуется на подложке, определяется используемым(и) веществом(ами) для образования покрытия, и настоящий способ можно использовать для (со-)полимеризации образующего(их) покрытие мономерного(ых) материала(ов) на поверхности подложки. Образующее покрытие вещество может быть органическим или неорганическим, твердым, жидким или газообразным, или их смесью. Подходящие образующие покрытие органические вещества включают в себя карбоксилаты, метакрилаты, акрилаты, стиролы, метакрилонитрилы, алкены и диены, например, метилметакрилат, этилметакрилат, пропилметакрилат, бутилметакрилат и другие алкилметакрилаты и соответствующие акрилаты, включая органофункционализированные метакрилаты и акрилаты, включая глицидил метакрилат, триметоксисилилпропилметакрилат, аллилметакрилат, гидроксиэтилметакрилат, гидроксипропилметакрилат, диалкиламиноалкилметакрилаты и фторалкил(мет)акрилаты, метакриловую кислоту, акриловую кислоту, фумаровую кислоту и сложные эфиры, итаконовую кислоту (и сложные эфиры), малеиновый ангидрид, стирол, α-метилстирол, галогенированные алкены, например, винилгалогениды, такие как винилхлориды и винилфториды, и фторированные алкены, например, перфторалкены, акрилонитрил, метаркилонитрил, этилен, пропилен, аллиламин, винилиденгалогениды, бутадиены, акриламид, такой как Ν-изопропилакриламид, метакриламид, эпоксисоединения, например, глицидоксипропилтриметоксисилан, глицидол, оксид стирола, монооксид бутадиена, диглицидиловый простой эфир этиленгликоля, глицидил метакрилат, диглицидиловый простой эфир бисфенола А (и его олигомеры), оксид винилциклогексена, токопроводящие полимеры, такие как пиррол и тиофен, и их производные, и фосфорсодержащие соединения, например, диметилаллилфосфонат. Подходящие образующие покрытие неорганические вещества включают в себя металлы и оксиды металлов, включая коллоидные металлы. Также подходящими образующими покрытие веществами могут быть металлоорганические соединения, включая алкоксиды металлов, такие как титанаты, алкоксиды олова, цирконаты и алкоксиды германия и эрбия. Однако авторы настоящего изобретения установили, что настоящее изобретение имеет особенную полезность для создания подложек с покрытием на основе диоксида кремния или силоксана с использованием образующих покрытие композиций, включающих кремнийсодержащие вещества. Подходящие кремнийсодержащие вещества для использования в способе настоящего изобретения включают в себя силаны (например, силан, алкилгалогенсиланы, алкоксисиланы), а также линейные (например, полидиметилсилоксан) и циклические силоксаны (например, октаметилциклотетрасилоксан), включая органофункциональные линейные и циклические силоксаны (например, 8ί-Η содержащие галогенфункциональные и галогеналкил-функциональные линейные и циклические силоксаны, например, тетраметилциклотетрасилоксан и три(нонофторбутил)триметилциклотрисилоксан). Можно использовать смесь различных кремнийсодержащих веществ, например, для модифицирования («подгонки») физических свойств покрытия подложки для конкретных нужд (например, термические свойства, оптические свойства, такие как показатель преломления и вязкоэластичные свойства).
Кроме того, в окислительных условиях настоящий способ можно использовать для образования кислородосодержащего покрытия на подложке. Например, покрытия на основе диоксида кремния могут быть образованы на поверхности подложки из распыленных кремнийсодержащих образующих покрытие веществ. В восстановительных условиях настоящий способ можно использовать для образования не содержащих кислорода покрытий, например, покрытия на основе карбида кремния могут образовываться из распыленных кремнийсодержащих образующих покрытие веществ.
Плазма также может генерироваться в условиях присутствия газов, отличающихся от кислорода, например, благородных (инертных) газов, воздуха, водорода, азота и аммиака. В азотсодержащей атмосфере азот может связываться с поверхностью подложки, а в атмосфере, содержащей как азот, так и кислород, нитраты могут связываться с и/или образовываться на поверхности подложки. Такие газы также можно использовать для предварительной обработки поверхности подложки перед действием образующего покрытие вещества. Например, кислородсодержащая плазменная обработка подложки может привести к улучшенной адгезии, т. е. сцеплению с наносимым покрытием.
Кислородсодержащая плазма генерируется введением кислородсодержащих веществ в плазму, таких как газообразный кислород или вода. Кроме того, покрытие, образующееся на подложке, может быть подвергнуто последующей обработке в различных плазменных условиях. Например, покрытия на основе силоксана могут быть дополнительно окислены кислородсодержащей плазменной обработкой. Кислородсодержащая плазма генерируется введением кислородсодержащих веществ в плазму, таких как газообразный кислород или вода.
Преимуществом настоящего изобретения по сравнению с предшествующим уровнем развития данной области техники является то, что для образования покрытий подложки можно использовать как жидкие, так и твердые распыленные образующие покрытие вещества, поскольку способ настоящего изобретения осуществляют в условиях атмосферного давления. Кроме того, образующие покрытие вещества могут быть введены в плазменный разряд или образующийся поток в отсутствие газа-носителя, то есть
- 2 006831 они могут быть введены непосредственно, например, прямым инжектированием, при этом образующие покрытие вещества инжектируют непосредственно в плазму.
Как указано выше, авторы настоящего изобретения установили заслуживающую особого внимания применимость настоящего изобретения для образования на подложках покрытий на основе диоксида кремния и силоксана с использованием кремнийсодержащих материалов. В окислительных условиях, например, в содержащей кислород атмосфере, покрытия на основе диоксида кремния могут образовываться на поверхности подложки из распыленных кремнийсодержащих веществ, в то время как в неокислительных условиях при распылении кремнийсодержащего мономера на поверхности подложки может образовываться силоксановый полимер, например, линейный, разветвленный или смолистый полимер. Силоксанорганический сополимер может образовываться на поверхности подложки с использованием смеси органического и кремнийорганического мономеров. Кроме того, на поверхности подложки могут быть образованы покрытия на основе диоксида кремния, которые, в свою очередь, могут быть покрыты дополнительным материалом, например, органическим или силоксановым полимером. Например, когда силоксан смешивают с органическим полимером и формуют подложку из указанной смеси, силоксан будет мигрировать к поверхности органического полимерного тела подложки вследствие разности в поверхностной энергии между органическими полимерами и силоксанами. Если затем такую подложку подвергнуть плазменной обработке при атмосферном давлении, силоксан на поверхности подложки окисляется с образованием покрытия на основе диоксида кремния. Такое покрытие на основе диоксида кремния затем может быть подвергнуто обработке в соответствии с настоящим изобретением путем дальнейшего воздействия на него плазменной обработки при атмосферном давлении в присутствии распыленных кремнийсодержащих мономеров, с образованием на нем силоксанового покрытия. Настоящее изобретение также полезно для образования органического покрытия на подложке, например, покрытия из полиакриловой кислоты или перфторорганического покрытия.
Подложка для нанесения покрытия может содержать любой материал, например, металл, керамику, пластик, силоксан, тканые или нетканые волокна, природные волокна, синтетические волокна, целлюлозный материал и порошок. Однако, размер подложки органичен размерами объема, в котором генерируют плазменный разряд атмосферного давления, то есть расстоянием между электродами устройства для генерирования плазмы. В типичном генерирующем плазму устройстве плазма генерируется в зазоре размером от 5 до 50 мм, например от 12 до 25 мм. Таким образом, настоящее изобретение имеет особенную применимость для покрытия пленок, волокон и порошков.
Подложки, на которые наносится покрытие с помощью способа по настоящему изобретению, могут иметь различные применения. Например, покрытия на основе диоксида кремния, образованные в окислительной атмосфере, могут улучшать барьерные и/или диффузионные свойства подложки, и могут усиливать способность дополнительных материалов прилипать к поверхности подложки; галогенфункциональные органические или силоксановые покрытия (например, перфторалкены) могут увеличивать гидрофобность, олеофобность, устойчивость к топливу и почве и/или высвобождающие свойства подложки; полидиметилсилоксановое покрытие может усиливать водостойкость и высвобождающие свойства подложки и могут увеличивать мягкость полотна (ткани) на ощупь; полимерное покрытие из полиакриловой кислоты можно использовать в качестве адгезивного слоя для способствования адгезии к поверхности подложки или как часть ламинированной (слоистой) структуры; добавление коллоидных частиц металлов в покрытия может обеспечить поверхностную проводимость подложки, или улучшить ее оптические свойства. Политиофен и полипиррол дают электропроводящие полимерные покрытия, которые также могут обеспечить коррозионную стойкость металлических подложек.
Одна основная проблема, имеющая склонность появляться при нанесении покрытия на подложки с использованием способа, включающего в себя плазменную обработку, заключается в том, что могут быть утеряны химические свойства вещества, использованного для образования покрытия. Следовательно, основное преимущество настоящего изобретения заключается в том, что химические свойства образующего покрытие вещества по существу сохраняются при образовании покрытия. Например, в случае использования акриловой кислоты в качестве образующего покрытие вещества функциональная группа карбоновой кислоты по существу сохраняется в образованном покрытии.
Настоящее изобретение также относится к способу получения подложки, имеющей многослойное покрытие, образованное с использованием описанных выше способов. В таком случае слой покрытия наносят при каждом повторном проходе подложки через атмосферный плазменный тлеющий разряд. Предпочтительно, в таком случае подложка может быть покрыта непрерывным образом путем ее перемещения через атмосферный плазменный тлеющий разряд с использованием катушечного способа, в котором подложка перемещается с первой катушки через тлеющий разряд на вторую катушку с постоянной скоростью для того, чтобы гарантировать, что вся подложка имеет предварительно определенное время пребывания в тлеющем разряде. Каждая подложка может быть подвергнута одному или нескольким проходам через тлеющий разряд, при этом первая или подающая катушка при первом проходе становится собирающей подложку катушкой во втором проходе, и собирающая подложку катушка в первом проходе, в свою очередь, становится подающей катушкой при втором проходе, т.е. две катушки меняются местами в конце каждого прохода. Альтернативно, подложку можно пропускать через ряд камер с
- 3 006831 атмосферным тлеющим разрядом.
Предпочтительные применения покрытий на подложках, нанесенных в соответствии с настоящим изобретением, включают в себя слоистые адгезивы, барьеры для кислорода и/или влаги, например, для использования при упаковке продуктов питания, а также в качестве компонента в или на органических светоиспускающих диодных устройствах, например, в дисплеях с плоским экраном.
Настоящее изобретение теперь будет проиллюстрировано подробно со ссылкой на прилагающейся чертеж, который демонстрирует вариант осуществления устройства согласно настоящему изобретению.
Устройство согласно настоящему изобретению, показанное на чертеже, включает в себя средство для генерирования плазменного разряда атмосферного давления (в целом обозначенное 10) и распылитель (в целом обозначенный 12), связанный со шприцевым насосом 14 для подачи образующего покрытие вещества в распылитель 12. Средство 10 для генерирования разряда включает в себя работающий на переменном токе с частотой 15 кГц источник электропитания 20 высокого напряжения, подключенный между двумя алюминиевыми электродами 22 и 24, размещенными на расстоянии 12 мм, причем расположенный ниже подвижный электрод 22 защищен стеклянной диэлектрической пластиной 26. Распылитель 12 включает в себя ультразвуковую форсунку 30 типа 8опо-1ек* 8700-120 и связан с широкополосным ультразвуковым генератором 32 типа 8опо1ек* 06-05108. Распылитель 12 находится внутри заземленного электрода 24 на кольце 34. Подложку 40 для нанесения покрытия помещают на стеклянную диэлектрическую пластину 26 между электродами 22 и 24.
Описанное выше со ссылкой на чертеж устройство было использовано для всех описанных далее методов проведения эксперимента ( 8опо-1ек Сотрогайоп, Мй1оп, пе\т Уотк 12547, И8Л).
Пример 1. Кусок подложки из полиэтиленовой пленки промывали с помощью ультразвука в смеси 1:1 изопропилового спирта и циклогексана и помещали на стеклянную пластину. После удаления остаточного газа вводили газ плазменного разряда со скоростью потока 199 стандартных см3/мин при давлении 1,02х105 Н-м-2. Использовали два газа разряда: гелий и смесь 99% гелий/1% кислород. После 10 минут продувания включали шприцевый нанос 14 и давали возможность вытекать образующему покрытие веществу со скоростью 3х10-5 мл-с-1. Использовали два вещества, образующих покрытие, а именно октаметилциклотетрасилоксан (далее упоминаемый как Ό4) и тетраметилциклотетрасилоксан (далее упоминаемый как Ό4Η). Когда образующее покрытие вещество достигало ультразвуковой форсунки, включали ультразвуковой генератор (2,5 Вт) для инициирования распыления образующего покрытие вещества и при атмосферном давлении зажигали плазменный разряд, прикладывая 1,5 кВ к электродам.
Осаждение образующего покрытие вещества проводили в течение 10 мин, после чего подложку удаляли и помещали в вакуум на 20 мин для удаления любого нестабильного вещества.
Результаты вышеуказанного способа показаны ниже в табл.1. Рентгеновский фотоэлектронный спектроскопический анализ (ХР8-анализ) (Кта1о8 Е8300) использовали для проведения элементного анализа поверхности подложки, а спектрофотометр (Ас.|ш1а 1п51гитепк пкд-6000) использовали для определения толщины пленки. Измерения краевого угла проводили с использованием устройства видеозахвата (Л8Т Ртодиск УСЛ2500ХЕ) с использованием фиксированных 2 мкл капелек деионизированной воды.
Измерения газопроницаемости поверхности подложки также проводили с использованием массспектрометра, и результаты представлены в табл. 2. Фактор улучшения барьера рассчитывали как [газопроницаемость подложки с покрытием]/[газопроницаемость исходного образца].
Таблица 1
Образец ХРЗ-аналиэ Краевой угол (°) Скорость осаждения (нм-с-1) Толщина покрытия (нм)
%С %0 %31 %ЗЮХ
теоретический состав 50 25 25 0
Ώ4 100% Не 43,3 29,3 25,8 107,8* 28 279
С4 1% 02 25,5 48,5 26,0 74,4 56,4 29 286
о4н теоретичθский состав 33,3 33,3 33,3 0 '
О4Н 100% Не 32,5 39,1 28,4 102,3 82
О4Н 1% Ог 9,2 61,4 29,5 81,5 смачивается 244
чистый полиэтилен имеет краевой угол 105,8°.
- 4 006831
Таблица 2
ΆΤΚ-ΤΤΙΚ исследования поверхности подложек показали, что полимеризация с открытием цикла образующих покрытие веществ Ό4 и Ό4Η происходила с образованием полисилоксана на поверхности подложки. В частности, ΆΤΒ-ΡΤΙΒ исследования последних показали, что полисилоксановое покрытие сохраняет большую часть 8ί-Η функциональных групп Ό4Η.
ЯМР исследования покрытия, полученного согласно описанному выше способу, на стеклянной поверхности, показало, что полисилоксан образуется на поверхности подложки путем полимеризации образующих покрытие веществ Ό4 и Ό4Η, содержащих двухвалентные (СН3)2§102/2 звенья и трехвалентные СН3§103/2 звенья, то есть полисилоксан является смолистым.
Пример 2. Повторяли способ примера 1 с использованием стеклянной подложки и акриловой кислоты в качестве образующего покрытие вещества и только гелия в качестве газа разряда. Покрытие удаляли с подложки перед анализом.
ΡΤΙΒ и ЯМР исследования твердого состояния покрытия подтвердили, что акриловая кислота заполимеризовалась с образованием полиакриловой кислоты. Как ΡΤΙΡ. так и ЯМР данные показали расходование ненасыщенной С-С связи.
Пример 3. Повторяли способ примера 2, но с использованием нейлоновой и полиэтиленовой подложек.
Сравнение полученного покрытия с коммерчески доступной полиакриловой кислотой путем использования ΡΤΙΒ анализа подтвердило, что образующее покрытие вещество, т.е. акриловая кислота, заполимеризовалось с образованием покрытия из полиакриловой кислоты на поверхностях подложек.
Рентгеновский фотоэлектронный спектроскопический анализ, анализ толщины пленки и измерения краевого угла проводили, как в примере 1 выше. Результаты представлены ниже в табл. 3.
Таблица 3
ХРЗ анализ Краевой угол (°) Скорость осаждения (нм-с’1)
%С %0 % С02Н
Теория 60,0 40,0 33,3 — —
Коммерческая полиакриловая кислота 63,3 36,7 29, 9 смачивается
Покрытие примера 3 62,6 37,4 26, 4 смачивается 231+95
Транспорт газа через полиэтиленовую пленку с покрытием определяли с помощью массспектрометрии, а фактор улучшения барьера рассчитывали как и в вышеприведенном примере 1 относительно необработанной полиэтиленовой подложки и коммерчески доступной полиакриловой кислоты. Результаты представлены ниже в табл. 4.
Таблица^·
Образец Фактор улучшения барьера
Необработанная подложка 1,0 (по определению)
коммерческая полиакриловая кислота 1,1±0,1
Покрытие примера 3 7,2±0,9
Испытание на сдвиг при перекрывании проводили на нейлоновых подложках с покрытием следующим образом. Две противоположные поверхности нейлоновых подложек с перекрытием накладывали друг на друга так, чтобы создать общее перекрывание в 1 см2, и подложки сушили (отверждали) под весом 2 кг при 70°С в течение 60 мин, затем определяли адгезионную прочность каждого соединения пу
- 5 006831 тем растягивания подложек в разные стороны с использованием тензилометра (Ιηκίτοη), регистрируя максимальную нагрузку, достигаемую перед разрывом. Подложки с покрытием выдерживали максимальную нагрузку 74±11 Н-см-2 перед разрывом. Сравнительные соединения, полученные из нейлона без покрытия, не продемонстрировали адгезионных свойств.
Пример 4. Повторяли способ примера 2 с использованием стеклянной подложки и 1Н,1Н,2Нперфтор-1-октена (СЕ3(СЕ2)5СН=СН2) в качестве образующего покрытие вещества.
Рентгеновский фотоэлектронный спектроскопический анализ (ХР8), ΡΤΙΚ анализ и измерения краевых углов (с водой и деканом) проводили как в описанном выше примере 1, а результаты представлены в табл. 5 ниже. ХР8 и ΡΤΙΚ анализы показали, что покрытие стеклянной подложки было обогащено СР2 и СР3, и краевые углы для воды и декана определяли, как в примере 1.
Таблица 5
ХРЗ анализ Краевой угол (вода) (°) Краевой угол (декан) (°)
%С %Г % О
Теория 38,1 61,9
Покрытие примера 4 38,0 60,0 2,1 118,9±3,0 61,1±2,2
Результаты измерения краевого угла показывают, что стеклянной подложке придана с помощью покрытия существенная гидрофобность и олеофобность.

Claims (25)

1. Способ образования покрытия на подложке, включающий в себя введение распыленного жидкого или жидкого и твердого образующего покрытие материала в зону плазменного разряда атмосферного давления и/или в образующийся при этом поток ионизированного газа и воздействие на подложку образующего покрытие распыленного материала в условиях атмосферного давления.
2. Способ по п.1, в котором образующий покрытие материал вводят прямым инжектированием.
3. Способ по п.1 или 2, в котором образующий покрытие материал представляет собой кремнийсодержащий материал.
4. Способ по п.3, в котором образующий покрытие материал выбирают из диметилсилоксана и силоксана, имеющего связи кремний-водород.
5. Способ по любому из предшествующих пунктов, в котором плазму генерируют в кислородсодержащей атмосфере.
6. Способ по п.1 или 2, в котором образующий покрытие материал представляет собой органический или металлоорганический материал.
7. Способ по п.6, в котором образующий покрытие материал выбирают из акриловой кислоты и перфторалкена.
8. Способ по любому из предшествующих пунктов, в котором подложка содержит металл, керамику, пластик, тканые или нетканые волокна, природные волокна, синтетические волокна, целлюлозный материал и порошок.
9. Способ по любому из предшествующих пунктов, в котором покрытие увеличивает адгезивные, высвобождающие, газозащитные, влагозащитные, электро- и теплопроводящие, оптические, диэлектрические, гидрофильные, гидрофобные и/или олеофобные свойства подложки.
10. Способ по любому из предшествующих пунктов, в котором на подложку наносят многослойное покрытие путем повторяющегося пропускания указанной подложки через атмосферный плазменный тлеющий разряд или путем пропускания указанной подложки через ряд камер атмосферного тлеющего разряда.
11. Способ по любому из пп.1-4, 6 или 7, в котором химические свойства распыленного жидкого и/или твердого образующего покрытие материала, по существу, сохраняются в полученном конечном покрытии.
12. Способ по любому из предшествующих пунктов, в котором подложку покрывают непрерывно с использованием катушечного устройства.
13. Способ по любому из предшествующих пунктов, в котором перед введением образующего покрытие материала подложку предварительно обрабатывают путем воздействия плазмы.
14. Способ по любому из предшествующих пунктов, в котором образованное на подложке покрытие подвергают последующей обработке путем воздействия плазмы.
15. Способ по п.13 или 14, в котором плазму создают с помощью тлеющего разряда атмосферного давления.
16. Способ по п.15, в котором в плазму добавляют кислородсодержащий материал.
17. Способ по п.16, в котором кислородсодержащий материал выбирают из группы газообразного
- 6 006831 кислорода и воды.
18. Устройство для осуществления способа по любому из пп.1-17, включающее в себя средства для генерирования плазменного тлеющего разряда атмосферного давления, в который при использовании помещена подложка, распылитель для подачи распыленного образующего покрытие материала в плазменный разряд и средства для подачи образующего покрытие материала в распылитель.
19. Устройство по п.18, в котором распылитель представляет собой ультразвуковой распылитель.
20. Устройство по п.18 или 19, в котором подложка зафиксирована в катушечном устройстве для обеспечения непрерывного нанесения покрытия на подложку.
21. Подложка с нанесенным покрытием, полученным в соответствии со способом по любому из пп.1-17.
22. Подложка с нанесенным покрытием по п.21, у которой химические свойства распыленного жидкого и/или твердого образующего покрытие материала сохраняются в полученном покрытии.
23. Применение подложки с нанесенным покрытием, полученным в соответствии со способом по любому из пп.1-17, в качестве слоистого адгезива.
24. Применение подложки с нанесенным покрытием, полученным в соответствии со способом по любому из пп.1-17, в качестве барьера для кислорода и/или влаги.
25. Применение подложки с нанесенным покрытием, полученным в соответствии со способом по любому из пп.1-17, в качестве компонента в или на органических светоиспускающих диодных устройствах.
EA200300440A 2000-10-04 2001-09-25 Способ и устройство для образования покрытия EA006831B1 (ru)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB0024230A GB0024230D0 (en) 2000-10-04 2000-10-04 Method and apparatus for forming a coating
GB0114877A GB0114877D0 (en) 2001-06-19 2001-06-19 Method and apparatus for forming a coating
PCT/GB2001/004272 WO2002028548A2 (en) 2000-10-04 2001-09-25 Method and apparatus for forming a coating

Publications (2)

Publication Number Publication Date
EA200300440A1 EA200300440A1 (ru) 2003-08-28
EA006831B1 true EA006831B1 (ru) 2006-04-28

Family

ID=26245097

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
EA200300440A EA006831B1 (ru) 2000-10-04 2001-09-25 Способ и устройство для образования покрытия

Country Status (17)

Country Link
US (1) US7455892B2 (ru)
EP (1) EP1326718B2 (ru)
JP (1) JP5349726B2 (ru)
KR (1) KR100823858B1 (ru)
CN (1) CN1261233C (ru)
AT (1) ATE257412T1 (ru)
AU (1) AU2001290097A1 (ru)
BR (1) BR0114200B1 (ru)
DE (1) DE60101747T3 (ru)
DK (1) DK1326718T3 (ru)
EA (1) EA006831B1 (ru)
ES (1) ES2214444T5 (ru)
MX (1) MXPA03002988A (ru)
PT (1) PT1326718E (ru)
TR (1) TR200400076T4 (ru)
TW (1) TW562708B (ru)
WO (1) WO2002028548A2 (ru)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11845105B2 (en) 2017-08-23 2023-12-19 Molecular Plasma Group Sa Soft plasma polymerization process for a mechanically durable superhydrophobic nanostructured coating

Families Citing this family (142)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB9712338D0 (en) 1997-06-14 1997-08-13 Secr Defence Surface coatings
JP5349726B2 (ja) 2000-10-04 2013-11-20 ダウ・コーニング・アイルランド・リミテッド コーティングを形成するための方法および装置
US6821379B2 (en) 2001-12-21 2004-11-23 The Procter & Gamble Company Portable apparatus and method for treating a workpiece
TW200308187A (en) * 2002-04-10 2003-12-16 Dow Corning Ireland Ltd An atmospheric pressure plasma assembly
GB0208263D0 (en) * 2002-04-10 2002-05-22 Dow Corning Protective coating composition
TW200409669A (en) 2002-04-10 2004-06-16 Dow Corning Ireland Ltd Protective coating composition
GB0208261D0 (en) * 2002-04-10 2002-05-22 Dow Corning An atmospheric pressure plasma assembly
GB0211354D0 (en) 2002-05-17 2002-06-26 Surface Innovations Ltd Atomisation of a precursor into an excitation medium for coating a remote substrate
GB0212848D0 (en) 2002-06-01 2002-07-17 Surface Innovations Ltd Introduction of liquid/solid slurry into an exciting medium
EA010388B1 (ru) 2003-01-31 2008-08-29 Дау Корнинг Айэлэнд Лимитед Электродный узел для генерации плазмы
DE10319058A1 (de) * 2003-04-25 2004-12-02 Carl Freudenberg Kg Silikonisierte Einlagestoffe, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung
US7431989B2 (en) * 2003-05-06 2008-10-07 Tribofilm Research, Inc. Article with lubricated surface and method
US20060162740A1 (en) * 2005-01-21 2006-07-27 Cerionx, Inc. Method and apparatus for cleaning and surface conditioning objects using non-equilibrium atmospheric pressure plasma
US8092644B2 (en) * 2003-06-16 2012-01-10 Ionfield Systems, Llc Method and apparatus for cleaning and surface conditioning objects using plasma
US20060272674A1 (en) * 2005-06-02 2006-12-07 Cerionx, Inc. Method and apparatus for cleaning and surface conditioning objects using plasma
US8366871B2 (en) * 2003-06-16 2013-02-05 Ionfield Holdings, Llc Method and apparatus for cleaning and surface conditioning objects using plasma
US20060272675A1 (en) * 2005-06-02 2006-12-07 Cerionx, Inc. Method and apparatus for cleaning and surface conditioning objects using plasma
US8092643B2 (en) * 2003-06-16 2012-01-10 Ionfield Systems, Llc Method and apparatus for cleaning and surface conditioning objects using plasma
CA2528194A1 (en) * 2003-06-16 2005-01-06 Cerionx, Inc. Atmospheric pressure non-thermal plasma device to clean and sterilize the surface of probes, cannulas, pin tools, pipettes and spray heads
US20060162741A1 (en) * 2005-01-26 2006-07-27 Cerionx, Inc. Method and apparatus for cleaning and surface conditioning objects with plasma
GB2419358B (en) * 2003-08-28 2008-01-16 Surface Innovations Ltd Apparatus for the coating and/or conditioning of substrates
GB0323295D0 (en) * 2003-10-04 2003-11-05 Dow Corning Deposition of thin films
JP2007508135A (ja) 2003-10-15 2007-04-05 ダウ・コーニング・アイルランド・リミテッド 粒子の官能基化
JP4896725B2 (ja) 2003-10-15 2012-03-14 ダウ・コーニング・アイルランド・リミテッド シリコーン樹脂の粉末および／または離散ゲル粒子の形成方法、ならびにその方法に使用する装置
BRPI0417284A (pt) * 2003-12-16 2007-04-10 Sun Chemical Corp método de formação de um substrato revestido e substrato revestido
GB0406049D0 (en) 2004-03-18 2004-04-21 Secr Defence Surface coatings
EP1582270A1 (en) * 2004-03-31 2005-10-05 Vlaamse Instelling voor Technologisch Onderzoek Method and apparatus for coating a substrate using dielectric barrier discharge
GB2418379A (en) * 2004-09-23 2006-03-29 Reckitt Benckiser Cleansing wipes
GB0410749D0 (en) * 2004-05-14 2004-06-16 Dow Corning Ireland Ltd Coating apparatus
US20060060085A1 (en) * 2004-09-22 2006-03-23 Ptak Thaddeus J Composite filter media
EP1650254A1 (de) 2004-10-22 2006-04-26 Carl Freudenberg KG Dichtung mit reduziertem Drehmoment, Verfahren zur Herstellung, deren Verwendung als Dichtung für Klappenventile und Klappenventil
DE102004051781A1 (de) * 2004-10-22 2006-04-27 Carl Freudenberg Kg Dichtung mit reduziertem Drehmoment, Verfahren zu deren Herstellung, deren Verwendung als Dichtung für Klappenventile und Klappenventil
GB0423685D0 (en) 2004-10-26 2004-11-24 Dow Corning Ireland Ltd Improved method for coating a substrate
WO2006049794A2 (en) * 2004-10-29 2006-05-11 Dow Global Technologies Inc. Abrasion resistant coatings by plasma enhanced chemical vapor deposition
GB0424532D0 (en) * 2004-11-05 2004-12-08 Dow Corning Ireland Ltd Plasma system
KR101157410B1 (ko) * 2004-11-05 2012-06-21 다우 코닝 아일랜드 리미티드 플라즈마 시스템
JP4926394B2 (ja) * 2004-11-30 2012-05-09 株式会社ブリヂストン トラバース塗装工程の前処理方法およびトラバース塗装方法
GB0504384D0 (en) 2005-03-03 2005-04-06 Univ Durham Method for producing a composite coating
GB0506051D0 (en) * 2005-03-24 2005-04-27 Univ Durham A method for producing an aldehyde functionalised surface
US20060237030A1 (en) * 2005-04-22 2006-10-26 Cerionx, Inc. Method and apparatus for cleaning and surface conditioning objects with plasma
GB0509648D0 (en) * 2005-05-12 2005-06-15 Dow Corning Ireland Ltd Plasma system to deposit adhesion primer layers
EP1741826A1 (en) 2005-07-08 2007-01-10 Nederlandse Organisatie voor Toegepast-Natuuurwetenschappelijk Onderzoek TNO Method for depositing a polymer layer containing nanomaterial on a substrate material and apparatus
EP1785198A1 (en) * 2005-11-14 2007-05-16 Vlaamse Instelling voor Technologisch Onderzoek A method for atmospheric plasma deposition of conjugated polymer coatings
GB2434368B (en) * 2006-01-20 2010-08-25 P2I Ltd Plasma coated laboratory consumables
GB2434369B (en) 2006-01-20 2010-08-25 P2I Ltd Plasma coated electrical or electronic devices
US7250195B1 (en) 2006-02-27 2007-07-31 Ionic Fusion Corporation Molecular plasma deposition of colloidal materials
EP2013396A1 (en) 2006-05-02 2009-01-14 Dow Corning Ireland Limited Fluid replacement system
KR101244674B1 (ko) 2006-05-02 2013-03-25 다우 코닝 아일랜드 리미티드 웹 밀봉 장치
JP5043394B2 (ja) * 2006-09-29 2012-10-10 東京エレクトロン株式会社 蒸着装置およびその運転方法
GB0621520D0 (en) 2006-10-28 2006-12-06 P2I Ltd Novel products
GB0703172D0 (en) * 2007-02-19 2007-03-28 Pa Knowledge Ltd Printed circuit boards
EP1978038A1 (en) 2007-04-02 2008-10-08 Vlaamse Instelling Voor Technologisch Onderzoek (Vito) A method for producing a coating by atmospheric pressure plasma technology
SI1978067T1 (sl) * 2007-04-02 2010-04-30 Nitto Europe Nv Protisprijemna obloga
GB0713830D0 (en) 2007-07-17 2007-08-29 P2I Ltd Novel products method
CN101821020A (zh) * 2007-09-06 2010-09-01 布鲁塞尔大学 由前体单体沉积氟化层的方法
KR101625237B1 (ko) * 2007-12-21 2016-05-27 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 액체 여과 시스템
FR2925911A1 (fr) * 2007-12-27 2009-07-03 Bmuestar Silicones France Sas Silicones-autoadhesifs, procede de fabrication, complexes les utilisant et applications
CN102066511A (zh) * 2008-05-22 2011-05-18 陶氏康宁公司 制备非缝合接缝的方法与组合物
GB0810326D0 (en) * 2008-06-06 2008-07-09 P2I Ltd Filtration media
JP2011526536A (ja) * 2008-07-04 2011-10-13 アーベーベー・リサーチ・リミテッド ワークピースを静電的に被覆するための装置及びそのコンタミネイションを減らす方法
PT2251454E (pt) 2009-05-13 2014-10-01 Sio2 Medical Products Inc Revestimento e inspeção de vaso
US7985188B2 (en) 2009-05-13 2011-07-26 Cv Holdings Llc Vessel, coating, inspection and processing apparatus
EP3415172A1 (en) 2009-06-16 2018-12-19 TheraDep Technologies, Inc. Wound healing device
US9458536B2 (en) 2009-07-02 2016-10-04 Sio2 Medical Products, Inc. PECVD coating methods for capped syringes, cartridges and other articles
GB2475685A (en) 2009-11-25 2011-06-01 P2I Ltd Plasma polymerization for coating wool
JP2011144412A (ja) 2010-01-13 2011-07-28 Honda Motor Co Ltd プラズマ成膜装置
GB201000538D0 (en) 2010-01-14 2010-03-03 P2I Ltd Liquid repellent surfaces
US20110241269A1 (en) * 2010-04-01 2011-10-06 The Goodyear Tire & Rubber Company Atmospheric plasma treatment of reinforcement cords and use in rubber articles
US8445074B2 (en) 2010-04-01 2013-05-21 The Goodyear Tire & Rubber Company Atmospheric plasma treatment of tire cords
US11624115B2 (en) 2010-05-12 2023-04-11 Sio2 Medical Products, Inc. Syringe with PECVD lubrication
JP2011252085A (ja) 2010-06-02 2011-12-15 Honda Motor Co Ltd プラズマ成膜方法
KR20130041810A (ko) 2010-07-21 2013-04-25 다우 코닝 프랑스 기판의 플라즈마 처리
US9878101B2 (en) 2010-11-12 2018-01-30 Sio2 Medical Products, Inc. Cyclic olefin polymer vessels and vessel coating methods
ES2623538T3 (es) 2010-12-13 2017-07-11 TheraDep Technologies, Inc Dispositivos médicos implantables
USD681706S1 (en) * 2010-12-30 2013-05-07 Sulzer Metco (Us), Inc. Neutrode stack
US9272095B2 (en) 2011-04-01 2016-03-01 Sio2 Medical Products, Inc. Vessels, contact surfaces, and coating and inspection apparatus and methods
WO2012146348A1 (en) 2011-04-27 2012-11-01 Dow Corning France Plasma treatment of substrates
EP2532716A1 (en) 2011-06-10 2012-12-12 Eppendorf AG A substrate having hydrophobic moiety-repelling surface characteristics and process for preparing the same
GB201112369D0 (en) 2011-07-19 2011-08-31 Surface Innovations Ltd Polymeric structure
GB201112516D0 (en) 2011-07-21 2011-08-31 P2I Ltd Surface coatings
DE102011052306A1 (de) 2011-07-29 2013-01-31 Jokey Plastik Sohland Gmbh Verfahren zur Erzeugung einer permeationshemmenden Beschichtung von Kunststoffbehältern und Beschichtungsanlage
GB201113610D0 (en) 2011-08-08 2011-09-21 Surface Innovations Ltd Product and method
CN104025719A (zh) * 2011-11-09 2014-09-03 道康宁法国公司 基材的等离子体处理
US8778462B2 (en) 2011-11-10 2014-07-15 E I Du Pont De Nemours And Company Method for producing metalized fibrous composite sheet with olefin coating
WO2013071138A1 (en) 2011-11-11 2013-05-16 Sio2 Medical Products, Inc. PASSIVATION, pH PROTECTIVE OR LUBRICITY COATING FOR PHARMACEUTICAL PACKAGE, COATING PROCESS AND APPARATUS
US11116695B2 (en) 2011-11-11 2021-09-14 Sio2 Medical Products, Inc. Blood sample collection tube
US8741393B2 (en) 2011-12-28 2014-06-03 E I Du Pont De Nemours And Company Method for producing metalized fibrous composite sheet with olefin coating
PT2623215E (pt) * 2012-02-01 2014-07-11 Bioenergy Capital Ag Revestimento hidrófilo por plasma
WO2013113875A1 (en) * 2012-02-02 2013-08-08 Centre De Recherche Public Henri Tudor Superamphiphobic surfaces by atmospheric plasma polymerization
US8545951B2 (en) * 2012-02-29 2013-10-01 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Endotracheal tubes and other polymer substrates including an anti-fouling treatment
EP2846755A1 (en) 2012-05-09 2015-03-18 SiO2 Medical Products, Inc. Saccharide protective coating for pharmaceutical package
EP2864540B1 (en) * 2012-06-24 2017-12-20 Gates Corporation Carbon cord for reinforced rubber products and the products
US20150297800A1 (en) 2012-07-03 2015-10-22 Sio2 Medical Products, Inc. SiOx BARRIER FOR PHARMACEUTICAL PACKAGE AND COATING PROCESS
US9133412B2 (en) 2012-07-09 2015-09-15 Tribofilm Research, Inc. Activated gaseous species for improved lubrication
WO2014025774A1 (en) 2012-08-09 2014-02-13 E. I. Du Pont De Nemours And Company Improved barrier fabrics
US9441325B2 (en) 2012-10-04 2016-09-13 The Goodyear Tire & Rubber Company Atmospheric plasma treatment of reinforcement cords and use in rubber articles
US9433971B2 (en) 2012-10-04 2016-09-06 The Goodyear Tire & Rubber Company Atmospheric plasma treatment of reinforcement cords and use in rubber articles
US9664626B2 (en) 2012-11-01 2017-05-30 Sio2 Medical Products, Inc. Coating inspection method
EP2920567B1 (en) 2012-11-16 2020-08-19 SiO2 Medical Products, Inc. Method and apparatus for detecting rapid barrier coating integrity characteristics
US9764093B2 (en) 2012-11-30 2017-09-19 Sio2 Medical Products, Inc. Controlling the uniformity of PECVD deposition
CN105705676B (zh) 2012-11-30 2018-09-07 Sio2医药产品公司 控制在医用注射器、药筒等上的pecvd沉积的均匀性
WO2014111292A1 (en) 2013-01-18 2014-07-24 Basf Se Acrylic dispersion-based coating compositions
WO2014134577A1 (en) 2013-03-01 2014-09-04 Sio2 Medical Products, Inc. Plasma or cvd pre-treatment for lubricated pharmaceutical package, coating process and apparatus
JP6160498B2 (ja) * 2013-03-08 2017-07-12 住友金属鉱山株式会社 被覆はんだ材料およびその製造方法
US9937099B2 (en) 2013-03-11 2018-04-10 Sio2 Medical Products, Inc. Trilayer coated pharmaceutical packaging with low oxygen transmission rate
KR102167557B1 (ko) 2013-03-11 2020-10-20 에스아이오2 메디컬 프로덕츠, 인크. 코팅된 패키징
EA201591436A1 (ru) 2013-03-13 2015-12-30 СЕЛАНИЗ ЭСИТЕЙТ ЭлЭлСи Дымовые фильтры для уменьшения концентрации компонентов в потоке дыма
US9863042B2 (en) 2013-03-15 2018-01-09 Sio2 Medical Products, Inc. PECVD lubricity vessel coating, coating process and apparatus providing different power levels in two phases
CN104069968B (zh) * 2013-03-28 2017-01-04 株式会社Enjet 喷雾嘴和使用该喷雾嘴的涂敷系统
ITMI20130855A1 (it) 2013-05-27 2014-11-28 Univ Milano Bicocca Metodo di rivestimento con film polimerico di un substrato mediante deposizione e successiva polimerizzazione per trattamento a plasma di una composizione monomerica.
US9988536B2 (en) 2013-11-05 2018-06-05 E I Du Pont De Nemours And Company Compositions for surface treatments
WO2015095019A1 (en) 2013-12-17 2015-06-25 E. I. Du Pont De Nemours And Company Nonwoven fabric with low ice adhesion
CN103794462B (zh) * 2013-12-24 2016-11-23 苏州市奥普斯等离子体科技有限公司 一种超声波雾化等离子体处理装置
GB201403558D0 (en) 2014-02-28 2014-04-16 P2I Ltd Coating
KR101485980B1 (ko) * 2014-03-03 2015-01-27 주식회사 기가레인 코팅 장치
DE102014103025A1 (de) * 2014-03-07 2015-09-10 Ernst-Moritz-Arndt-Universität Greifswald Verfahren zur Beschichtung eines Substrates, Verwendung des Substrats und Vorrichtung zur Beschichtung
WO2015146999A1 (ja) 2014-03-25 2015-10-01 住友金属鉱山株式会社 被覆はんだ材料およびその製造方法
EP3122917B1 (en) 2014-03-28 2020-05-06 SiO2 Medical Products, Inc. Antistatic coatings for plastic vessels
KR101894648B1 (ko) 2014-04-15 2018-09-03 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 피복막, 피복막의 형성 방법 및 발광 다이오드 디바이스
WO2015171727A1 (en) 2014-05-07 2015-11-12 E. I. Du Pont De Nemours And Company Polyimide web separator for use in an electrochemical cell
US10566106B2 (en) 2014-08-18 2020-02-18 The Boeing Company Conjugated polymer coatings and methods for atmospheric plasma deposition thereof
KR101532883B1 (ko) * 2014-09-02 2015-07-02 성균관대학교산학협력단 전이금속 디칼코게나이드 박막의 형성 방법
ES2779071T3 (es) 2014-11-27 2020-08-13 Construction Research & Technology Gmbh Composición aglutinante inorgánica que comprende fibras de poliolefina modificadas en superficie
JP2018517044A (ja) 2015-06-09 2018-06-28 ピーツーアイ リミティド コーティング
GB2556246B8 (en) 2015-06-09 2020-08-19 P2I Ltd Method for forming a coating on an electronic or electrical device
US20200032072A1 (en) 2015-06-09 2020-01-30 P2I Ltd Coating
CA2995225C (en) 2015-08-18 2023-08-29 Sio2 Medical Products, Inc. Pharmaceutical and other packaging with low oxygen transmission rate
KR20180061346A (ko) * 2015-10-02 2018-06-07 코닝 인코포레이티드 제거가능한 유리 표면 처리 및 파티클 부착 감소 방법
EP3411159A1 (en) 2016-02-01 2018-12-12 TheraDep Technologies, Inc. Systems and methods for delivering therapeutic agents
DE102016124209A1 (de) 2016-12-13 2018-06-14 Jokey Plastik Wipperfürth GmbH Beschichtungsvorrichtung und Beschichtungsverfahren für Kunststoffbehälter
CN108080228B (zh) * 2017-10-26 2021-06-01 中国船舶重工集团公司第七二五研究所 一种线路板防水防腐涂层及其制备方法
US11690998B2 (en) 2017-10-31 2023-07-04 Theradep Technologies, Inc. Methods of treating bacterial infections
FR3077821B1 (fr) * 2018-02-09 2020-12-18 Coating Plasma Ind Film de protection a base de silicium pour adhesif, son procede de fabrication et ses utilisations
CN109267037A (zh) * 2018-11-21 2019-01-25 新疆大学 常压等离子体增强化学气相沉积方法及采用该方法的设备
EP3799964A1 (fr) * 2019-10-02 2021-04-07 ETA SA Manufacture Horlogère Suisse Procdede de fabrication d'une piece mecanique epilamee
EP3881941A1 (en) * 2020-03-17 2021-09-22 Molecular Plasma Group SA Plasma coating method and apparatus for biological surface modification
CN111519168B (zh) * 2020-06-09 2022-06-14 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司 一种保护涂层及其制备方法
EP4163417A4 (en) 2020-06-09 2024-07-31 Jiangsu Favored Nanotechnology Co., Ltd. PROTECTIVE COATING AND PREPARATION METHOD THEREFOR
EP3940106A1 (de) * 2020-07-15 2022-01-19 TI Automotive Engineering Centre (Heidelberg) GmbH Verfahren zum beschichten einer rohrleitung und rohrleitung
EP4136974A1 (en) 2021-08-20 2023-02-22 Fixed Phage Limited Plasma treatment process and apparatus therefor
CN114460114B (zh) * 2022-04-13 2022-06-21 季华实验室 样品分析方法、装置、设备及存储介质
LU503697B1 (en) * 2023-03-20 2024-09-23 Luxembourg Inst Science & Tech List Plasma-polymer surface coating

Family Cites Families (70)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4212719A (en) * 1978-08-18 1980-07-15 The Regents Of The University Of California Method of plasma initiated polymerization
JPS59160828A (ja) * 1983-03-01 1984-09-11 Fuji Photo Film Co Ltd 磁気記録媒体
US4588641A (en) * 1983-11-22 1986-05-13 Olin Corporation Three-step plasma treatment of copper foils to enhance their laminate adhesion
JPH0753764B2 (ja) 1986-03-28 1995-06-07 ト−メ−産業株式会社 ビニルモノマ−の重合法
DE3705482A1 (de) * 1987-02-20 1988-09-01 Hoechst Ag Verfahren und anordnung zur oberflaechenvorbehandlung von kunststoff mittels einer elektrischen koronaentladung
GB8713986D0 (en) * 1987-06-16 1987-07-22 Shell Int Research Apparatus for plasma surface treating
DE3827628A1 (de) † 1988-08-16 1990-03-15 Hoechst Ag Verfahren und vorrichtung zur oberflaechenvorbehandlung eines formkoerpers aus kunststoff mittels einer elektrischen koronaentladung
DE3925539A1 (de) † 1989-08-02 1991-02-07 Hoechst Ag Verfahren und vorrichtung zum beschichten eines schichttraegers
JP2811820B2 (ja) * 1989-10-30 1998-10-15 株式会社ブリヂストン シート状物の連続表面処理方法及び装置
US5185132A (en) * 1989-12-07 1993-02-09 Research Development Corporation Of Japan Atomspheric plasma reaction method and apparatus therefor
JP2990608B2 (ja) * 1989-12-13 1999-12-13 株式会社ブリヂストン 表面処理方法
JP2897055B2 (ja) * 1990-03-14 1999-05-31 株式会社ブリヂストン ゴム系複合材料の製造方法
US5366770A (en) * 1990-04-17 1994-11-22 Xingwu Wang Aerosol-plasma deposition of films for electronic cells
US5206463A (en) * 1990-07-24 1993-04-27 Miraco, Inc. Combined rigid and flexible printed circuits and method of manufacture
JP3194148B2 (ja) * 1991-01-21 2001-07-30 イーシー化学株式会社 金属の表面処理方法
GB9102768D0 (en) 1991-02-09 1991-03-27 Tioxide Group Services Ltd Coating process
JPH04295818A (ja) 1991-03-26 1992-10-20 Seiko Epson Corp コンタクトレンズの製造方法
DE4111384C2 (de) * 1991-04-09 1999-11-04 Leybold Ag Vorrichtung zur Beschichtung von Substraten
JP3283889B2 (ja) * 1991-07-24 2002-05-20 株式会社きもと 防錆処理方法
JP3286816B2 (ja) * 1992-12-24 2002-05-27 イーシー化学株式会社 大気圧グロ−放電プラズマ処理法
JP3445632B2 (ja) 1993-02-26 2003-09-08 科学技術振興事業団 薄膜の製造方法とその装置
JPH06330326A (ja) 1993-03-26 1994-11-29 Shin Etsu Chem Co Ltd シリカ薄膜の製造方法
US5414324A (en) * 1993-05-28 1995-05-09 The University Of Tennessee Research Corporation One atmosphere, uniform glow discharge plasma
JPH0762546A (ja) 1993-08-25 1995-03-07 Shinko Electric Co Ltd 大気圧プラズマ表面処理装置
FR2713511B1 (fr) 1993-12-15 1996-01-12 Air Liquide Procédé et dispositif de création d'une atmosphère d'espèces gazeuses excitées ou instables.
JP3700177B2 (ja) * 1993-12-24 2005-09-28 セイコーエプソン株式会社 大気圧プラズマ表面処理装置
JP3064182B2 (ja) 1994-06-14 2000-07-12 松下電工株式会社 大気圧プラズマ粉体処理方法及びその装置
FI103647B1 (fi) * 1994-06-17 1999-08-13 Valmet Paper Machinery Inc Menetelmä ja sovitelma paperiradan päällystämiseksi
JP3508789B2 (ja) 1994-07-04 2004-03-22 セイコーエプソン株式会社 基板の表面処理方法
US5540959A (en) * 1995-02-21 1996-07-30 Howard J. Greenwald Process for preparing a coated substrate
JP3959745B2 (ja) * 1995-04-07 2007-08-15 セイコーエプソン株式会社 表面処理装置
DE19525453A1 (de) * 1995-07-13 1997-01-16 Eltex Elektrostatik Gmbh Vorrichtung zum Ablösen der gasförmigen laminaren Grenzschicht
DE19546187C2 (de) * 1995-12-11 1999-04-15 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren und Einrichtung zur plasmagestützten Oberflächenbehandlung
AUPN820396A0 (en) 1996-02-21 1996-03-14 Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation Method for reducing crazing in a plastics material
US5876753A (en) 1996-04-16 1999-03-02 Board Of Regents, The University Of Texas System Molecular tailoring of surfaces
US5968377A (en) 1996-05-24 1999-10-19 Sekisui Chemical Co., Ltd. Treatment method in glow-discharge plasma and apparatus thereof
JP3624566B2 (ja) 1996-07-11 2005-03-02 日新電機株式会社 イオン照射装置
WO1998010116A1 (en) 1996-09-05 1998-03-12 Talison Research Ultrasonic nozzle feed for plasma deposited film networks
EP0851720B1 (de) * 1996-12-23 1999-10-06 Sulzer Metco AG Indirektes Plasmatron
JP3899597B2 (ja) 1997-01-30 2007-03-28 セイコーエプソン株式会社 大気圧プラズマ生成方法および装置並びに表面処理方法
US6014235A (en) 1997-06-03 2000-01-11 Lucent Technologies Inc. Optical-loop buffer that enhances the extinction ratio of the buffered signal
JP3478068B2 (ja) 1997-06-11 2003-12-10 富士ゼロックス株式会社 定着装置
GB9715508D0 (en) * 1997-07-24 1997-10-01 Scapa Group Plc Industrial fabrics and method of treatment
DE19732901C1 (de) † 1997-07-30 1998-11-26 Tdz Ges Fuer Innovative Oberfl Vorrichtung zur Koronabehandlung der Oberfläche eines Substrats
IL125545A0 (en) 1997-08-08 1999-03-12 Univ Texas Devices having gas-phase deposited coatings
GB9717368D0 (en) * 1997-08-18 1997-10-22 Crowther Jonathan Cold plasma metallization
DE19742619C1 (de) 1997-09-26 1999-01-28 Siemens Ag Verfahren und Vorrichtung zur Einbringung pulverförmiger Feststoffe oder Flüssigkeiten in ein induktiv gekoppeltes Plasma
BR9907692A (pt) * 1998-02-05 2000-11-14 Empa St Gallen Eidgenoessische Revestimento semelhante a polìmero polar
US6368665B1 (en) * 1998-04-29 2002-04-09 Microcoating Technologies, Inc. Apparatus and process for controlled atmosphere chemical vapor deposition
DE19826550C2 (de) † 1998-06-15 2001-07-12 Siemens Ag Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen eines Pulveraerosols
US6705127B1 (en) * 1998-10-30 2004-03-16 Corning Incorporated Methods of manufacturing soot for optical fiber preforms and preforms made by the methods
JP3704983B2 (ja) 1998-12-25 2005-10-12 セイコーエプソン株式会社 表面処理装置
JP2000212753A (ja) 1999-01-22 2000-08-02 Sekisui Chem Co Ltd 表面処理品の製造方法
JP4096454B2 (ja) 1999-05-11 2008-06-04 コニカミノルタホールディングス株式会社 プラスティック支持体の表面処理装置及びプラスティック支持体の表面処理方法
US20020129902A1 (en) * 1999-05-14 2002-09-19 Babayan Steven E. Low-temperature compatible wide-pressure-range plasma flow device
DE19924108B4 (de) 1999-05-26 2007-05-03 Robert Bosch Gmbh Plasmapolymerbeschichtung und Verfahren zu deren Herstellung
US6331689B1 (en) * 1999-06-15 2001-12-18 Siemens Aktiengesellschaft Method and device for producing a powder aerosol and use thereof
JP2001074907A (ja) * 1999-09-06 2001-03-23 Sekisui Chem Co Ltd ディスプレイ用反射防止フィルム及びその製造方法
JP3399887B2 (ja) 1999-09-22 2003-04-21 パール工業株式会社 プラズマ処理装置
DE29919142U1 (de) * 1999-10-30 2001-03-08 Agrodyn Hochspannungstechnik GmbH, 33803 Steinhagen Plasmadüse
JP2001158976A (ja) * 1999-12-02 2001-06-12 Showa Aluminum Kan Kk 大気圧低温プラズマにより処理したｄｉ缶及びその製造方法
FR2801814B1 (fr) 1999-12-06 2002-04-19 Cebal Procede de depot d'un revetement sur la surface interne des boitiers distributeurs aerosols
US20030116281A1 (en) 2000-02-11 2003-06-26 Anthony Herbert Atmospheric pressure plasma system
DE10011276A1 (de) * 2000-03-08 2001-09-13 Wolff Walsrode Ag Verwendung eines indirrekten atomosphärischen Plasmatrons zur Oberflächenbehandlung oder Beschichtung bahnförmiger Werkstoffe sowie ein Verfahren zur Behandlung oder Beschichtung bahnförmiger Werkstoffe
DE10017846C2 (de) 2000-04-11 2002-03-14 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren zum Abscheiden einer Polymerschicht und Verwendung derselben
JP2002057440A (ja) 2000-06-02 2002-02-22 Sekisui Chem Co Ltd 放電プラズマ処理方法及びその装置
FR2814382B1 (fr) * 2000-09-28 2003-05-09 Cebal Procede de depot d'un revetement interne dans un recipient en matiere plastique
JP5349726B2 (ja) 2000-10-04 2013-11-20 ダウ・コーニング・アイルランド・リミテッド コーティングを形成するための方法および装置
MXPA03003661A (es) 2000-10-26 2005-01-25 Dow Corning Ireland Ltd Montaje de plasma a presion atmosferica.
CN1317423C (zh) * 2000-11-14 2007-05-23 积水化学工业株式会社 常压等离子体处理方法及其装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11845105B2 (en) 2017-08-23 2023-12-19 Molecular Plasma Group Sa Soft plasma polymerization process for a mechanically durable superhydrophobic nanostructured coating

Also Published As

Publication number Publication date
EP1326718B2 (en) 2007-09-05
BR0114200A (pt) 2003-12-09
DE60101747T3 (de) 2008-04-03
DK1326718T3 (da) 2004-04-13
EA200300440A1 (ru) 2003-08-28
DE60101747T2 (de) 2004-10-14
WO2002028548A2 (en) 2002-04-11
TW562708B (en) 2003-11-21
US7455892B2 (en) 2008-11-25
ES2214444T5 (es) 2008-02-16
PT1326718E (pt) 2004-04-30
DE60101747D1 (de) 2004-02-12
ATE257412T1 (de) 2004-01-15
MXPA03002988A (es) 2004-12-06
TR200400076T4 (tr) 2004-02-23
CN1468154A (zh) 2004-01-14
EP1326718B1 (en) 2004-01-07
BR0114200B1 (pt) 2011-05-03
WO2002028548A3 (en) 2002-10-17
KR100823858B1 (ko) 2008-04-21
ES2214444T3 (es) 2004-09-16
KR20030068543A (ko) 2003-08-21
US20040022945A1 (en) 2004-02-05
EP1326718A2 (en) 2003-07-16
JP5349726B2 (ja) 2013-11-20
AU2001290097A1 (en) 2002-04-15
CN1261233C (zh) 2006-06-28
JP2004510571A (ja) 2004-04-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EA006831B1 (ru) Способ и устройство для образования покрытия
US7678429B2 (en) Protective coating composition
KR101212967B1 (ko) 플라즈마 시스템
CN101802244B (zh) 大气压等离子体
US7438882B2 (en) Gel and powder making
US20040146660A1 (en) Surface treatment
EA008013B1 (ru) Плазменный агрегат, работающий при атмосферном давлении
KR20140037097A (ko) 기판의 플라즈마 처리
WO2012010299A1 (en) Plasma treatment of substrates
KR20070072899A (ko) 향상된 증착 속도의 플라즈마 강화 화학 기상 방법
EP3004451A1 (en) A polymeric film coating method on a substrate by depositing and subsequently polymerizing a monomeric composition by plasma treatment
EP2279801B1 (en) Coating methods using plasma jet and plasma coating apparatus
Quitzau et al. Modification of polyethylene powder with an organic precursor in a spiral conveyor by hollow cathode glow discharge
Carton et al. Atmospheric Pressure Plasmas: Polymerization
Thomas et al. Coating with atmospheric pressure plasma processes: From large area to µ-structures

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A Lapse of a eurasian patent due to non-payment of renewal fees within the time limit in the following designated state(s)

Designated state(s): AM AZ BY KZ KG MD TJ TM

MM4A Lapse of a eurasian patent due to non-payment of renewal fees within the time limit in the following designated state(s)

Designated state(s): RU