WO2024043342A1

WO2024043342A1 - 弾性波装置

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Publication number: WO2024043342A1
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Inventors: 克也大門; 翔永友
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Filing date: 2023-08-25
Publication date: 2024-02-29
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Abstract

フィルタ装置の小型化を進めることができ、かつ挿入損失を小さくすることができる、弾性波装置を提供する。　本発明に係る弾性波装置は、ニオブ酸リチウムからなる圧電層を含む圧電膜と、圧電層上に設けられており、第１のバスバーと、複数の第１の電極指とを有する第１の櫛形電極と、第２のバスバーと、複数の第１の電極指と間挿し合っている複数の第２の電極指とを有する第２の櫛形電極と、平面視したときに、第１の電極指及び第２の電極指が並ぶ方向において、第１の電極指及び第２の電極指と並ぶように、それぞれ圧電層上に設けられている複数の第３の電極指と、隣り合う第３の電極指同士を接続している接続電極とを有し、第１の櫛形電極および第２の櫛形電極とは異なる電位に接続される、第３の電極とを備える。第１の電極指、第２の電極指及び第３の電極指が並んでいる順序は、第１の電極指から開始した場合において、第１の電極指、第３の電極指、第２の電極指及び第３の電極指を１周期とする順序である。平面視したときに、電極指延伸方向において、複数の第１の電極指の先端及び第２のバスバーの間に位置しており、接続電極を含まず、かつ電極指直交方向に延びている領域、第１のギャップ領域Ｇ１並びに第２のギャップ領域Ｇ２のうち少なくともいずれかの、少なくとも一部に質量付加膜が設けられている。

Description

弾性波装置

　本発明は、弾性波装置に関する。

　従来、弾性波装置は、携帯電話機のフィルタなどに広く用いられている。近年においては、下記の特許文献１に記載のような、厚み滑りモードのバルク波を用いた弾性波装置が提案されている。この弾性波装置においては、支持体上に圧電層が設けられている。圧電層上に、対となる電極が設けられている。対となる電極は圧電層上において互いに対向しており、かつ互いに異なる電位に接続される。上記電極間に交流電圧を印加することにより、厚み滑りモードのバルク波を励振させている。

米国特許第１０４９１１９２号明細書

　弾性波装置とは、例えば弾性波共振子であり、例えばラダー型フィルタに用いられる。ラダー型フィルタにおいて良好な特性を得るためには、複数の弾性波共振子間において、静電容量比を大きくする必要がある。この場合、ラダー型フィルタにおける一部の弾性波共振子の静電容量を大きくする必要がある。

　弾性波共振子の静電容量を大きくするためには、例えば、弾性波共振子を大型にすることを要する。よって、当該弾性波共振子をラダー型フィルタに用いる場合には、ラダー型フィルタが大型になりがちである。特に、静電容量の小さい、厚み滑りモードのバルク波を利用する弾性波共振子を有するラダー型フィルタは大型化してしまう。

　本発明者らは、弾性波装置の構成を以下の構成とすることにより、弾性波装置がフィルタ装置に用いられた場合に、大型化せずして好適なフィルタ波形を得られることを見出した。当該構成とは、入力電位に接続される電極、及び出力電位に接続される電極の間に、基準電位などの、入力電位及び出力電位と異なる電位に接続される電極を配置する構成である。

　加えて、本発明者らは、単に上記構成を採用しても、挿入損失を十分に小さくできないおそれがあることも見出した。

　本発明の目的は、フィルタ装置の小型化を進めることができ、かつ挿入損失を小さくすることができる、弾性波装置を提供することにある。

　本発明に係る弾性波装置のある広い局面では、ニオブ酸リチウムからなる圧電層を含む圧電膜と、前記圧電層上に設けられており、第１のバスバーと、前記第１のバスバーに一端がそれぞれ接続されている複数の第１の電極指とを有する第１の櫛形電極と、前記圧電層上に設けられており、第２のバスバーと、前記第２のバスバーに一端がそれぞれ接続されており、前記複数の第１の電極指と間挿し合っている複数の第２の電極指とを有する第２の櫛形電極と、平面視したときに、前記第１の電極指及び前記第２の電極指が並ぶ方向において、前記第１の電極指及び前記第２の電極指と並ぶように、それぞれ前記圧電層上に設けられている複数の第３の電極指と、隣り合う前記第３の電極指同士を接続している接続電極とを有し、前記第１の櫛形電極および前記第２の櫛形電極とは異なる電位に接続される、第３の電極とが備えられており、前記第１の櫛形電極及び前記第２の櫛形電極のうち一方が入力電位に接続され、前記第１の櫛形電極及び前記第２の櫛形電極のうち他方が出力電位に接続され、前記第１の電極指、前記第２の電極指及び前記第３の電極指が並んでいる順序が、前記第１の電極指から開始した場合において、前記第１の電極指、前記第３の電極指、前記第２の電極指及び前記第３の電極指を１周期とする順序であり、前記接続電極が、隣り合う前記第３の電極指の少なくとも前記第１のバスバー側の先端同士を接続しており、前記接続電極が少なくとも前記第１のバスバー及び前記複数の第２の電極指の先端の間に位置しており、前記第１の電極指、前記第２の電極指及び前記第３の電極指が延びる方向を電極指延伸方向とし、前記電極指延伸方向と直交する方向を電極指直交方向とし、平面視したときに、前記電極指延伸方向において、前記複数の第２の電極指の先端及び前記接続電極の間に位置しており、前記電極指直交方向に延びている領域が第１のギャップ領域であり、該接続電極及び前記第１のバスバーの間に位置しており、前記電極指直交方向に延びている領域が第２のギャップ領域であり、平面視したときに、前記電極指延伸方向において、前記複数の第１の電極指の先端及び前記第２のバスバーの間に位置しており、前記接続電極を含まず、かつ前記電極指直交方向に延びている領域、前記第１のギャップ領域並びに前記第２のギャップ領域のうち少なくともいずれかの、少なくとも一部に質量付加膜が設けられている。

　本発明に係る弾性波装置の他の広い局面では、ニオブ酸リチウムからなる圧電層を含む圧電膜と、前記圧電層上に設けられており、第１のバスバーと、前記第１のバスバーに一端がそれぞれ接続されている複数の第１の電極指とを有する第１の櫛形電極と、前記圧電層上に設けられており、第２のバスバーと、前記第２のバスバーに一端がそれぞれ接続されており、前記複数の第１の電極指と間挿し合っている複数の第２の電極指とを有する第２の櫛形電極と、平面視したときに、前記第１の電極指及び前記第２の電極指が並ぶ方向において、前記第１の電極指及び前記第２の電極指と並ぶように、それぞれ前記圧電層上に設けられている複数の第３の電極指と、隣り合う前記第３の電極指同士を接続している接続電極とを有し、前記第１の櫛形電極および前記第２の櫛形電極とは異なる電位に接続される、第３の電極とが備えられており、前記第１の櫛形電極及び前記第２の櫛形電極のうち一方が入力電位に接続され、前記第１の櫛形電極及び前記第２の櫛形電極のうち他方が出力電位に接続され、前記第１の電極指、前記第２の電極指及び前記第３の電極指が並んでいる順序が、前記第１の電極指から開始した場合において、前記第１の電極指、前記第３の電極指、前記第２の電極指及び前記第３の電極指を１周期とする順序であり、前記接続電極が、隣り合う前記第３の電極指の少なくとも前記第１のバスバー側の先端同士を接続しており、前記接続電極が少なくとも前記第１のバスバー及び前記複数の第２の電極指の先端の間に位置しており、前記第１の電極指、前記第２の電極指及び前記第３の電極指が延びる方向を電極指延伸方向とし、前記電極指延伸方向と直交する方向を電極指直交方向とし、平面視したときに、前記電極指延伸方向において、前記複数の第２の電極指の先端及び前記接続電極の間に位置しており、前記電極指直交方向に延びている領域が第１のギャップ領域であり、該接続電極及び前記第１のバスバーの間に位置しており、前記電極指直交方向に延びている領域が第２のギャップ領域であり、平面視したときに、前記電極指延伸方向において、前記複数の第１の電極指の先端及び前記第２のバスバーの間に位置しており、前記接続電極を含まず、かつ前記電極指直交方向に延びている領域、前記第１のギャップ領域並びに前記第２のギャップ領域のうち少なくともいずれかにおいて、前記圧電膜に貫通孔が設けられており、平面視したときに、前記貫通孔が設けられている領域において、前記第１の電極指、前記第２の電極指及び前記第３の電極指が設けられていない全ての部分に、前記貫通孔が位置している。

　本発明によれば、フィルタ装置の小型化を進めることができ、かつ挿入損失を小さくすることができる、弾性波装置を提供することができる。

図１は、本発明の第１の実施形態に係る弾性波装置の模式的正面断面図である。図２は、本発明の第１の実施形態に係る弾性波装置の模式的平面図である。図３は、本発明の第１の実施形態における第１～第３の電極指付近を示す模式的正面断面図である。図４は、本発明の第１の実施形態及び第１の比較例の弾性波装置における通過特性を示す図である。図５は、ｄ／ｐを限りなく０に近づけた場合のＬｉＮｂＯ_３のオイラー角（０°，θ，ψ）に対する比帯域のマップを示す図である。図６は、本発明の第２の実施形態に係る弾性波装置の模式的平面図である。図７は、本発明の第２の実施形態及び第１の比較例の弾性波装置における通過特性を示す図である。図８は、本発明の第３の実施形態に係る弾性波装置の模式的平面図である。図９は、本発明の第３の実施形態及び第１の比較例の弾性波装置における通過特性を示す図である。図１０は、本発明の第４の実施形態及び第２の比較例の弾性波装置における、第１～第４のギャップ領域の幅が１．５μｍである場合においての通過特性を示す図である。図１１は、本発明の第４の実施形態及び第２の比較例の弾性波装置における、第１～第４のギャップ領域の幅が５μｍである場合においての通過特性を示す図である。図１２は、本発明の第５の実施形態及び第２の比較例の弾性波装置における、第１～第４のギャップ領域の幅が１．５μｍである場合においての通過特性を示す図である。図１３は、本発明の第５の実施形態及び第２の比較例の弾性波装置における、第１～第４のギャップ領域の幅が５μｍである場合においての通過特性を示す図である。図１４は、本発明の第６の実施形態に係る弾性波装置の模式的平面図である。図１５は、本発明の第７の実施形態に係る弾性波装置の模式的平面図である。図１６は、本発明の第８の実施形態に係る弾性波装置の模式的平面図である。図１７は、本発明の第９の実施形態に係る弾性波装置の模式的平面図である。図１８は、本発明の第１０の実施形態に係る弾性波装置の模式的平面図である。図１９は、本発明の第１１の実施形態における第１の弾性波共振子の模式的平面図である。図２０は、本発明の第１１の実施形態における第１～第３の電極指付近を示す模式的正面断面図である。図２１は、本発明の第１２の実施形態に係る弾性波装置の模式的平面図である。図２２は、本発明の第１２の実施形態及び第１の比較例の弾性波装置における通過特性を示す図である。図２３は、本発明の第１３の実施形態に係る弾性波装置の模式的平面図である。図２４は、本発明の第１４の実施形態に係る弾性波装置の模式的平面図である。図２５は、本発明の第１４の実施形態及び第１の比較例の弾性波装置における通過特性を示す図である。図２６は、本発明の第１５の実施形態に係る弾性波装置の模式的平面図である。図２７（ａ）は、厚み滑りモードのバルク波を利用する弾性波装置の外観を示す略図的斜視図であり、図２７（ｂ）は、圧電層上の電極構造を示す平面図である。図２８は、図２７（ａ）中のＡ－Ａ線に沿う部分の断面図である。図２９（ａ）は、弾性波装置の圧電膜を伝搬するラム波を説明するための模式的正面断面図であり、図２９（ｂ）は、弾性波装置における、圧電膜を伝搬する厚み滑りモードのバルク波を説明するための模式的正面断面図である。図３０は、厚み滑りモードのバルク波の振幅方向を示す図である。図３１は、厚み滑りモードのバルク波を利用する弾性波装置の共振特性を示す図である。図３２は、隣り合う電極の中心間距離をｐ、圧電層の厚みをｄとした場合のｄ／ｐと共振子としての比帯域との関係を示す図である。図３３は、厚み滑りモードのバルク波を利用する弾性波装置の平面図である。図３４は、スプリアスが現れている参考例の弾性波装置の共振特性を示す図である。図３５は、比帯域と、スプリアスの大きさとしての１８０度で規格化されたスプリアスのインピーダンスの位相回転量との関係を示す図である。図３６は、ｄ／２ｐと、メタライゼーション比ＭＲとの関係を示す図である。図３７は、ｄ／ｐを限りなく０に近づけた場合のＬｉＮｂＯ_３のオイラー角（０°，θ，ψ）に対する比帯域のマップを示す図である。図３８は、音響多層膜を有する弾性波装置の正面断面図である。図３９は、ラム波を利用する弾性波装置を説明するための部分切り欠き斜視図である。

　以下、図面を参照しつつ、本発明の具体的な実施形態を説明することにより、本発明を明らかにする。

　なお、本明細書に記載の各実施形態は、例示的なものであり、異なる実施形態間において、構成の部分的な置換または組み合わせが可能であることを指摘しておく。

　図１は、本発明の第１の実施形態に係る弾性波装置の模式的正面断面図である。図２は、第１の実施形態に係る弾性波装置の模式的平面図である。なお、図１は、後述する交叉領域Ｅの中央領域Ｆにおける模式的正面断面図である。図２においては、各電極を、ハッチングを付して示す。図２以外の模式的平面図においても同様に、電極にハッチングを付すことがある。

　図１に示す弾性波装置１０は、厚み滑りモードを利用可能に構成されている。弾性波装置１０は音響結合型フィルタである。以下において、弾性波装置１０の構成を説明する。

　弾性波装置１０は、圧電性基板１２と、機能電極１１とを有する。圧電性基板１２は圧電性を有する基板である。具体的には、圧電性基板１２は、支持部材１３と、圧電膜としての圧電層１４とを有する。圧電層１４は圧電体からなる層である。一方で、本明細書において圧電膜とは、圧電性を有する膜であって、必ずしも圧電体からなる膜を指すものではない。もっとも、本実施形態では、圧電膜は単層の圧電層１４であり、圧電体からなる膜である。なお、本発明においては、圧電膜は、圧電層１４を含む積層膜であってもよい。本実施形態では、支持部材１３は、支持基板１６と、絶縁層１５とを含む。支持基板１６上に絶縁層１５が設けられている。絶縁層１５上に圧電層１４が設けられている。もっとも、支持部材１３は支持基板１６のみにより構成されていてもよい。なお、支持部材１３は必ずしも設けられていなくともよい。

　圧電層１４は第１の主面１４ａ及び第２の主面１４ｂを有する。第１の主面１４ａ及び第２の主面１４ｂは互いに対向している。第１の主面１４ａ及び第２の主面１４ｂのうち、第２の主面１４ｂが支持部材１３側に位置している。

　圧電層１４はニオブ酸リチウムからなる。より具体的には、本実施形態では、圧電層１４に用いられているニオブ酸リチウムは、ＺカットのＬｉＮｂＯ_３である。このＬｉＮｂＯ_３のオイラー角（φ，θ，ψ）は、（０°，０°，９０°）である。もっとも、圧電層１４のオイラー角（φ，θ，ψ）は上記に限定されない。なお、本明細書において、ある部材がある材料からなるとは、弾性波装置の電気的特性が大幅に劣化しない程度の微量な不純物が含まれる場合を含む。

　圧電層１４の第１の主面１４ａに、機能電極１１が設けられている。図２に示すように、機能電極１１は、１対の櫛形電極と、第３の電極１９とを有する。１対の櫛形電極は、具体的には、第１の櫛形電極１７及び第２の櫛形電極１８である。第１の櫛形電極１７は入力電位に接続される。第２の櫛形電極１８は出力電位に接続される。第３の電極１９は、本実施形態においては、基準電位に接続される。なお、第３の電極１９は、必ずしも基準電位に接続されなくともよい。第３の電極１９は、第１の櫛形電極１７及び第２の櫛形電極１８とは異なる電位に接続されればよい。もっとも、第３の電極１９が基準電位に接続されることが好ましい。

　なお、第１の櫛形電極１７は出力電位に接続されてもよい。第２の櫛形電極１８は入力電位に接続されてもよい。このように、第１の櫛形電極１７は、入力電位及び出力電位のうち一方の電位に接続されればよい。第２の櫛形電極１８は、入力電位及び出力電位のうち他方の電位に接続されればよい。

　第１の櫛形電極１７及び第２の櫛形電極１８は、圧電層１４の第１の主面１４ａに設けられている。第１の櫛形電極１７は、第１のバスバー２２と、複数の第１の電極指２５とを有する。複数の第１の電極指２５の一端はそれぞれ、第１のバスバー２２に接続されている。第２の櫛形電極１８は、第２のバスバー２３と、複数の第２の電極指２６とを有する。複数の第２の電極指２６の一端はそれぞれ、第２のバスバー２３に接続されている。

　第１のバスバー２２及び第２のバスバー２３は互いに対向している。複数の第１の電極指２５と複数の第２の電極指２６とは互いに間挿し合っている。第１の電極指２５及び第２の電極指２６が延びる方向と直交する方向において、第１の電極指２５及び第２の電極指２６は交互に並んでいる。

　第３の電極１９はミアンダ状の形状を有する。具体的には、第３の電極１９は、複数の接続電極２４と、複数の第３の電極指２７とを有する。複数の接続電極２４及び複数の第３の電極指２７は、圧電層１４の第１の主面１４ａに設けられている。隣り合う第３の電極指２７同士が、接続電極２４により接続されている。この構造が繰り返されることにより、第３の電極１９の形状が、ミアンダ状の形状とされている。

　より詳細には、隣接する２本の第３の電極指２７の、第１のバスバー２２側の先端同士、または第２のバスバー２３側の先端同士が、接続電極２４により接続されている。例えば、複数の第３の電極指２７のうち、電極指直交方向における両端以外の第３の電極指２７は、第１のバスバー２２側の先端及び第２のバスバー２３側の先端の双方に、１つずつの接続電極２４が接続されている。該第３の電極指２７は、各接続電極２４により、両隣の第３の電極指２７と接続されている。この構造が繰り返されることにより、第３の電極３９の形状が、ミアンダ状の形状とされている。

　なお、本発明では、接続電極２４は、少なくとも第１のバスバー２２側に位置していればよい。接続電極２４が、複数の第３の電極指２７同士を電気的に接続していればよい。

　図２に示すように、複数の第３の電極指２７は、複数の第１の電極指２５及び複数の第２の電極指２６と平行に延びている。第１の電極指２５及び第２の電極指２６が並ぶ方向において、第１の電極指２５及び第２の電極指２６と並ぶように、複数の第３の電極指２７がそれぞれ設けられている。よって、第１の電極指２５、第２の電極指２６及び第３の電極指２７は、一方向において並んでいる。

　以下においては、第１の電極指２５、第２の電極指２６及び第３の電極指２７が延びる方向を電極指延伸方向とし、電極指延伸方向と直交する方向を電極指直交方向とする。第１の電極指２５、第２の電極指２６及び第３の電極指２７が並んでいる方向を電極指配列方向としたときに、電極指配列方向は、電極指直交方向と平行である。本明細書においては、第１の電極指２５、第２の電極指２６及び第３の電極指２７をまとめて、単に電極指と記載することがある。

　図３は、第１の実施形態における第１～第３の電極指付近を示す模式的正面断面図である。

　複数の電極指が並んでいる順序は、第１の電極指２５から開始した場合において、第１の電極指２５、第３の電極指２７、第２の電極指２６及び第３の電極指２７を１周期とする順序である。よって、複数の電極指が並んでいる順序は、第１の電極指２５、第３の電極指２７、第２の電極指２６、第３の電極指２７、第１の電極指２５、第３の電極指２７、第２の電極指２６…というように続く。入力電位をＩＮ、出力電位をＯＵＴ、基準電位をＧＮＤにより表わし、複数の電極指の順序を接続される電位の順序として表わすと、ＩＮ、ＧＮＤ、ＯＵＴ、ＧＮＤ、ＩＮ、ＧＮＤ、ＯＵＴ…というように続く。

　本実施形態では、複数の電極指が設けられている領域において、電極指直交方向における両端部に位置している電極指は、いずれも第３の電極指２７である。なお、該領域において、電極指直交方向における端部に位置している電極指は、第１の電極指２５、第２の電極指２６及び第３の電極指２７のうちいずれの種類の電極指であってもよい。

　本実施形態では、機能電極１１においては、隣り合う複数対の第１の電極指２５及び第３の電極指２７の中心間距離と、隣り合う複数対の第２の電極指２６及び第３の電極指２７の中心間距離とは、いずれも同じである。もっとも、隣り合う電極指同士の中心間距離は一定ではなくともよい。

　機能電極１１の各電極指は積層金属膜からなる。具体的には、各電極指においては、圧電層１４側から、Ｔｉ層、ＡｌＣｕ層及びＴｉ層がこの順序で積層されている。なお、各電極指の材料は上記に限定されない。あるいは、各電極指は単層の金属膜からなっていてもよい。

　本実施形態においては、複数の第２の電極指２６の先端はそれぞれ、電極指延伸方向において、ギャップを隔てて、第１のバスバー２２側の接続電極２４と対向している。平面視したときに、電極指延伸方向において、複数の第２の電極指２６の先端及び接続電極２４の間に位置しており、電極指直交方向に延びている領域が第１のギャップ領域Ｇ１である。

　第１のバスバー２２側の接続電極２４は、電極指延伸方向において、ギャップを隔てて、第１のバスバー２２と対向している。平面視したときに、該接続電極２４及び第１のバスバー２２の間に位置しており、電極指直交方向に延びている領域が第２のギャップ領域Ｇ２である。

　複数の第１の電極指２５の先端はそれぞれ、電極指延伸方向において、ギャップを隔てて、第２のバスバー２３側の接続電極２４と対向している。平面視したときに、電極指延伸方向において、複数の第１の電極指２５の先端及び第２のバスバー２３側の接続電極２４の間に位置しており、電極指直交方向に延びている領域が第３のギャップ領域Ｇ３である。

　第２のバスバー２３側の接続電極２４は、電極指延伸方向において、ギャップを隔てて、第２のバスバー２３と対向している。平面視したときに、該接続電極２４及び第２のバスバー２３の間に位置しており、電極指直交方向に延びている領域が第４のギャップ領域Ｇ４である。以下においては、第１のギャップ領域Ｇ１、第２のギャップ領域Ｇ２、第３のギャップ領域Ｇ３及び第４のギャップ領域Ｇ４をまとめて、単にギャップ領域と記載することがある。

　弾性波装置１０は、厚み滑りモードのバルク波を利用可能に構成された弾性波共振子である。図２に示すように、弾性波装置１０は、複数の励振領域Ｃを有する。複数の励振領域Ｃにおいて、厚み滑りモードのバルク波や、他のモードの弾性波が励振される。なお、図２においては、複数の励振領域Ｃのうち２つの励振領域Ｃのみを示している。

　全ての励振領域Ｃのうち一部の複数の励振領域Ｃは、電極指直交方向から見たときに、隣り合う第１の電極指２５及び第３の電極指２７が重なり合う領域であり、かつ隣り合う第１の電極指２５及び第３の電極指２７の中心間の領域である。残りの複数の励振領域Ｃは、電極指直交方向から見たときに、隣り合う第２の電極指２６及び第３の電極指２７が重なり合う領域であり、かつ隣り合う第２の電極指２６及び第３の電極指２７の中心間の領域である。これらの励振領域Ｃが、電極指直交方向において並んでいる。

　機能電極１１において、第３の電極１９を除いた構成は、ＩＤＴ（Ｉｎｔｅｒｄｉｇｉｔａｌ　Ｔｒａｎｓｄｕｃｅｒ）電極の構成と同様である。電極指直交方向から見たときに、隣り合う第１の電極指２５及び第２の電極指２６が重なり合っている領域が交叉領域Ｅである。もっとも、交叉領域Ｅは、電極指直交方向から見たときに、隣り合う第１の電極指２５及び第３の電極指２７、または隣り合う第２の電極指２６及び第３の電極指２７が重なり合っている領域であるともいえる。交叉領域Ｅは複数の励振領域Ｃを含む。なお、交叉領域Ｅ及び励振領域Ｃは、機能電極１１の構成に基づいて定義される、圧電層１４の領域である。

　交叉領域Ｅは、中央領域Ｆと、１対のエッジ領域とを含む。１対のエッジ領域は、具体的には、第１のエッジ領域Ｈ１及び第２のエッジ領域Ｈ２である。第１のエッジ領域Ｈ１及び第２のエッジ領域Ｈ２は、電極指延伸方向において中央領域Ｆを挟み、互いに対向するように配置されている。第１のエッジ領域Ｈ１は第１のバスバー２２側に位置している。第２のエッジ領域Ｈ２は第２のバスバー２３側に位置している。第１のエッジ領域Ｈ１は第１のギャップ領域Ｇ１と隣接している。第２のエッジ領域Ｈ２は第３のギャップ領域Ｇ３と隣接している。

　複数の第３の電極指２７は、交叉領域Ｅの外側に至っている。具体的には、複数の第３の電極指２７の一部は、第１のギャップ領域Ｇ１及び第３のギャップ領域Ｇ３に位置している。

　弾性波装置１０は、１対の質量付加膜２８Ａ及び質量付加膜２８Ｂを有する。質量付加膜２８Ａは、第１のギャップ領域Ｇ１及び第１のエッジ領域Ｈ１にわたり設けられている。質量付加膜２８Ｂは、第３のギャップ領域Ｇ３及び第２のエッジ領域Ｈ２にわたり設けられている。なお、質量付加膜２８Ａ及び質量付加膜２８Ｂは、中央領域Ｆには設けられていない。

　質量付加膜２８Ａは帯状の形状を有する。具体的には、質量付加膜２８Ａは、第１のエッジ領域Ｈ１において、圧電層１４の第１の主面１４ａ、複数の第１の電極指２５上、複数の第２の電極指２６上及び複数の第３の電極指２７上にわたり設けられている。質量付加膜２８Ａは、第１のギャップ領域Ｇ１において、第１の主面１４ａ、複数の第1の電極指２５上及び複数の第３の電極指２７上にわたり設けられている。質量付加膜２８Ａは、平面視において、複数の電極指及び電極指間の領域に重なるように、連続的に設けられている。

　本明細書において平面視とは、図１における上方に相当する方向から、支持部材１３及び圧電膜の積層方向に沿って見ることをいう。なお、図１においては、例えば、支持基板１６側及び圧電層１４側のうち、圧電層１４側が上方である。さらに、本明細書において平面視は、主面対向方向から見ることと同義であるとする。主面対向方向とは、圧電層１４の第１の主面１４ａ及び第２の主面１４ｂが対向し合う方向である。より具体的には、主面対向方向は、例えば、第１の主面１４ａの法線方向である。

　質量付加膜２８Ｂは、第２のエッジ領域Ｈ２及び第３のギャップ領域Ｇ３において、圧電層１４の第１の主面１４ａ及び複数の電極指上にわたり設けられている。質量付加膜２８Ｂは、平面視において、複数の電極指及び電極指間の領域と重なるように、連続的に設けられている。

　質量付加膜２８Ａ及び質量付加膜２８Ｂの材料としては、酸化ケイ素が用いられている。もっとも、質量付加膜２８Ａ及び質量付加膜２８Ｂの材料は上記に限定されない。

　本実施形態の特徴は、以下の構成を有することにある。１）平面視において、第１の櫛形電極１７の第１の電極指２５と、第２の櫛形電極１８の第２の電極指２６との間に、第３の電極１９の第３の電極指２７が設けられていること。２）質量付加膜２８Ａ及び質量付加膜２８Ｂが第１のギャップ領域Ｇ１及び第３のギャップ領域Ｇ３に設けられていること。

　なお、質量付加膜は、第１のギャップ領域Ｇ１、第２のギャップ領域Ｇ２、第３のギャップ領域Ｇ３及び第４のギャップ領域Ｇ４のうち少なくともいずれかの、少なくとも一部に設けられていればよい。本実施形態においては、上記構成を有することによって、弾性波装置１０がフィルタ装置に用いられる場合において、フィルタ装置の小型化を進めることができ、かつ挿入損失を小さくすることができる。この効果の詳細を、本実施形態及び第１の比較例を比較することにより、以下において示す。

　第１の比較例は、質量付加膜が設けられていない点において第１の実施形態と異なる。第１の比較例においては、圧電層はＺカットのニオブ酸リチウムからなる。第１の実施形態及び第１の比較例において、通過特性を比較した。第１の実施形態の構成を有する弾性波装置１０の設計パラメータは以下の通りである。

　圧電層：材料…ＬｉＮｂＯ_３、オイラー角（φ，θ，ψ）…（０°，０°，９０°）、厚み…４００ｎｍ
　第１～第３の電極指：層構造…圧電層側からＴｉ層／ＡｌＣｕ層／Ｔｉ層、各層の厚み…圧電層側から１０ｎｍ／３９０ｎｍ／４ｎｍ
　第１～第３の電極指の順序を接続される電位により表わした順序：ＩＮ、ＧＮＤ、ＯＵＴ、ＧＮＤの順序が繰り返される。
　隣り合う電極指同士の中心間距離：１．４μｍ
　デューティ比：０．３
　第１のエッジ領域及び第２のエッジ領域の電極指延伸方向に沿う寸法：１μｍ
　質量付加膜の厚み：２５ｎｍ

　第１の比較例では、質量付加膜が設けられていない点以外においては、第１の実施形態と同じ設計パラメータとした。

　図４は、第１の実施形態及び第１の比較例の弾性波装置における通過特性を示す図である。図４では、Ｓ２１通過特性を示している。図４以外の通過特性を示す図においても同様である。

　まず、図４に示すように、１個の第１の実施形態に係る弾性波装置１０においても、フィルタ波形を好適に得られることがわかる。弾性波装置１０は音響結合型フィルタである。より詳細には、図２に示すように、弾性波装置１０は、隣り合う第１の電極指２５及び第３の電極指２７の中心間に位置する励振領域Ｃと、隣り合う第２の電極指２６及び第３の電極指２７の中心間に位置する励振領域Ｃとを有する。これらの励振領域Ｃにおいて、厚み滑りモードのバルク波を含む複数のモードの弾性波が励振される。これらのモードを結合させることにより、１個の弾性波装置１０においても、フィルタ波形を好適に得ることができる。

　よって、弾性波装置１０をフィルタ装置に用いる場合に、フィルタ装置を構成する弾性波共振子が少ない個数でも、フィルタ波形を好適に得ることができる。従って、フィルタ装置の小型化を進めることができる。

　加えて、図４に示すように、第１の実施形態においては、第１の比較例よりも、通過帯域の中央付近において、ロスが小さくなっていることがわかる。従って、弾性波装置１０がフィルタ装置に用いられる場合においては、挿入損失を小さくすることができる。

　以下において、第１の実施形態の構成をより詳細に説明する。

　第１の実施形態では、質量付加膜２８Ａは、第１のギャップ領域Ｇ１の電極指延伸方向における一部に設けられている。質量付加膜２８Ａは、第１のギャップ領域Ｇ１における電極指直交方向における全体に設けられている。

　質量付加膜２８Ｂは、第３のギャップ領域Ｇ３の電極指延伸方向における一部に設けられている。質量付加膜２８Ｂは、第３のギャップ領域Ｇ３における電極指直交方向における全体に設けられている。

　もっとも、上述したように、質量付加膜は、第１のギャップ領域Ｇ１、第２のギャップ領域Ｇ２、第３のギャップ領域Ｇ３及び第４のギャップ領域のうち少なくともいずれかの、少なくとも一部に設けられていればよい。例えば、質量付加膜２８Ａは、第１のギャップ領域Ｇ１の電極指延伸方向における少なくとも一部、及び電極指直交方向における少なくとも一部に設けられていればよい。あるいは、例えば、質量付加膜２８Ａ及び質量付加膜２８Ｂのうち、質量付加膜２８Ａのみが設けられていても構わない。

　なお、第１の実施形態では、質量付加膜２８Ａは、第１のエッジ領域Ｈ１の全体に設けられている。質量付加膜２８Ｂは、第２のエッジ領域Ｈ２の全体に設けられている。

　図１に示すように、支持部材１３は、支持基板１６と絶縁層１５とからなる。圧電性基板１２は、支持基板１６と、絶縁層１５と、圧電層１４との積層体である。すなわち、圧電層１４及び支持部材１３は、圧電層１４の第１の主面１４ａ及び第２の主面１４ｂが対向している方向から見たときに、重なっている。

　支持基板１６の材料としては、例えば、シリコンなどの半導体や、酸化アルミニウムなどのセラミックスなどを用いることができる。絶縁層１５の材料としては、酸化ケイ素または酸化タンタルなどの、適宜の誘電体を用いることができる。

　絶縁層１５には凹部が設けられている。絶縁層１５上に、凹部を塞ぐように、圧電膜としての圧電層１４が設けられている。これにより、中空部が構成されている。この中空部が空洞部１０ａである。第１の実施形態では、支持部材１３の一部及び圧電膜の一部が、空洞部１０ａを挟み互いに対向するように、支持部材１３と圧電膜とが配置されている。もっとも、支持部材１３における凹部は、絶縁層１５及び支持基板１６にわたり設けられていてもよい。あるいは、支持基板１６のみに設けられた凹部が、絶縁層１５により塞がれていてもよい。凹部は、例えば、圧電層１４に設けられていても構わない。なお、空洞部１０ａは、支持部材１３に設けられた貫通孔であってもよい。

　空洞部１０ａは、本発明における音響反射部である。音響反射部により、弾性波のエネルギーを圧電層１４側に効果的に閉じ込めることができる。音響反射部は、平面視において、支持部材１３における、機能電極１１の少なくとも一部と重なる位置に設けられていればよい。より具体的には、平面視において、第１の電極指２５、第２の電極指２６及び第３の電極指２７のそれぞれの少なくとも一部が、音響反射部と重なっていればよい。平面視において、複数の励振領域Ｃが、音響反射部と重なっていることが好ましい。

　なお、音響反射部は、後述する、音響多層膜などの音響反射膜であってもよい。例えば、支持部材の表面上に、音響反射膜が設けられていてもよい。

　図２に示すように、第１の実施形態では、質量付加膜２８Ａ及び電極指が積層されている部分においては、圧電層１４側から、電極指及び質量付加膜２８Ａがこの順序で積層されている。もっとも、質量付加膜２８Ａ及び電極指が積層されている部分においては、圧電層１４側から、質量付加膜２８Ａ及び電極指がこの順序で積層されていてもよい。質量付加膜２８Ｂ及び電極指が積層されている部分においても同様である。

　上記のように、質量付加膜２８Ａ及び質量付加膜２８Ｂの材料は、酸化ケイ素に限定されない。もっとも、質量付加膜２８Ａ及び質量付加膜２８Ｂの材料として、酸化ケイ素、酸化タングステン、酸化ニオブ、酸化タンタル及び酸化ハフニウムからなる群から選択された少なくとも１種の誘電体が用いられていることが好ましい。それによって、弾性波装置１０がフィルタ装置に用いられる場合において、挿入損失をより確実に小さくすることができる。

　機能電極１１においては、隣り合う電極指同士の中心間距離は一定である。なお、隣り合う電極指同士の中心間距離は一定ではなくともよい。この場合には、隣り合う第１の電極指２５及び第３の電極指２７の中心間距離、並びに隣り合う第２の電極指２６及び第３の電極指２７の中心間距離のうち、最も長い距離をｐとする。もっとも、第１の実施形態のように、隣り合う電極指同士の中心間距離が一定である場合においては、いずれの隣り合う電極指同士の中心間距離も、距離ｐである。

　圧電膜の厚みをｄとしたときに、ｄ／ｐが０．５以下であることが好ましく、ｄ／ｐが０．２４以下であることがより好ましい。これにより、厚み滑りモードのバルク波が好適に励振される。なお、本実施形態では、厚みｄは圧電層１４の厚みである。

　なお、本発明の弾性波装置は、必ずしも厚み滑りモードのバルク波を利用可能に構成されていなくともよい。本発明の弾性波装置は、板波を利用可能に構成されていてもよい。この場合には、励振領域は、図２に示す交叉領域Ｅである。

　第１の実施形態においては、圧電層１４はＺカットのＬｉＮｂＯ_３からなる。もっとも、圧電層１４は回転Ｙカットのニオブ酸リチウムからなっていてもよい。この場合には、弾性波装置１０の比帯域は、圧電層１４に用いられているニオブ酸リチウムのオイラー角（φ，θ，ψ）に依存する。比帯域とは、共振周波数をｆｒ、反共振周波数をｆａとしたときに、（｜ｆａ－ｆｒ｜／ｆｒ）×１００［％］により表される。

　ｄ／ｐを限りなく０に近づけた場合における、弾性波装置１０の比帯域と、圧電層１４のオイラー角（φ，θ，ψ）との関係を導出した。なお、オイラー角におけるφは０°とした。

　図５は、ｄ／ｐを限りなく０に近づけた場合のＬｉＮｂＯ_３のオイラー角（０°，θ，ψ）に対する比帯域のマップを示す図である。

　図５のハッチングを付して示した領域Ｒが、少なくとも２％以上の比帯域が得られる領域である。領域Ｒの範囲を近似すると、下記の式（１）、式（２）及び式（３）で表される範囲となる。なお、オイラー角（φ，θ，ψ）におけるφが０°±１０°以内の範囲である場合には、θ及びψと、比帯域との関係は、図５に示す関係と同様である。

　（０°±１０°の範囲内，０°～２５°，任意のψ）　　…式（１）
　（０°±１０°の範囲内，２５°～１００°，０°～７５°［（１－（θ－５０）^２／２５００）］^１／２　または　１８０°－７５°［（１－（θ－５０）^２／２５００）］^１／２～１８０°）　　…式（２）
　（０°±１０°の範囲内，１８０°－４０°［（１－（ψ－９０）^２／８１００）］^１／２～１８０°，任意のψ）　　…式（３）

　上記式（１）、式（２）または式（３）のオイラー角の範囲であることが好ましい。それによって、比帯域を十分に広くすることができる。これにより、弾性波装置１０をフィルタ装置に好適に用いることができる。

　以下において、第２～第５の実施形態を示す。第２～第５の実施形態は、質量付加膜２８Ａ及び質量付加膜２８Ｂの位置、並びに圧電層１４の材料のうち少なくとも一方において、第１の実施形態と異なる。具体的には、第２の実施形態及び第３の実施形態では、圧電層１４はＺカットのニオブ酸リチウムからなるが、第４の実施形態及び第５の実施形態では、圧電層１４は回転Ｙカットのニオブ酸リチウムからなる。上記の点以外においては、第２～第５の実施形態の弾性波装置は第１の実施形態と同様の構成を有する。

　なお、第２～第５の実施形態では、質量付加膜２８Ａ及び質量付加膜２８Ｂが、いずれかのギャップ領域に設けられている。よって、第２～第５の実施形態においても、第１の実施形態と同様に、弾性波装置がフィルタ装置に用いられる場合において、フィルタ装置の小型化を進めることができ、かつ挿入損失を小さくすることができる。

　第２～第５の実施形態においては、質量付加膜２８Ａが設けられているギャップ領域においては、該ギャップ領域の電極指直交方向における全体に、質量付加膜２８Ａが設けられている。同様に、質量付加膜２８Ｂが設けられているギャップ領域においては、該ギャップ領域の電極指直交方向における全体に、質量付加膜２８Ｂが設けられている。

　図６は、第２の実施形態に係る弾性波装置の模式的平面図である。

　本実施形態は、質量付加膜２８Ａが、第１のエッジ領域Ｈ１、第１のギャップ領域Ｇ１及び第２のギャップ領域Ｇ２にわたり設けられている点において、第１の実施形態と異なる。本実施形態は、質量付加膜２８Ｂが、第２のエッジ領域Ｈ２、第３のギャップ領域Ｇ３及び第４のギャップ領域Ｇ４にわたり設けられている点においても、第１の実施形態と異なる。

　質量付加膜２８Ａは、第１のエッジ領域Ｈ１から、第２のギャップ領域Ｇ２にわたり、電極指延伸方向において連続的に設けられている。そのため、質量付加膜２８Ａは、平面視において、第１のバスバー２２側の接続電極２４と重なっている。質量付加膜２８Ａは、第１のギャップ領域Ｇ１及び第２のギャップ領域Ｇ２の、電極指延伸方向における全体に設けられている。

　質量付加膜２８Ｂは、第２のエッジ領域Ｈ２から、第４のギャップ領域Ｇ４にわたり、電極指延伸方向において連続的に設けられている。そのため、質量付加膜２８Ｂは、平面視において、第２のバスバー２３側の接続電極２４と重なっている。質量付加膜２８Ｂは、第３のギャップ領域Ｇ３及び第４のギャップ領域Ｇ４の、電極指延伸方向における全体に設けられている。

　第２の実施形態及び第１の比較例において、通過特性を比較した。第２の実施形態の構成を有する弾性波装置の設計パラメータは、以下の通りである。なお、該設計パラメータは、図４に示した比較に係る第１の実施形態における設計パラメータと同じである。

　図７は、第２の実施形態及び第１の比較例の弾性波装置における通過特性を示す図である。

　図７に示すように、第２の実施形態においては、第１の比較例よりも、通過帯域の中央付近及び低域側において、ロスが小さくなっていることがわかる。

　図８は、第３の実施形態に係る弾性波装置の模式的平面図である。

　本実施形態は、質量付加膜２８Ａが第１のエッジ領域Ｈ１に設けられておらず、かつ第１のギャップ領域Ｇ１及び第２のギャップ領域Ｇ２にわたり設けられている点において、第１の実施形態と異なる。本実施形態は、質量付加膜２８Ｂが第２のエッジ領域Ｈ２に設けられておらず、かつ第３のギャップ領域Ｇ３及び第４のギャップ領域Ｇ４にわたり設けられている点においても、第１の実施形態と異なる。

　質量付加膜２８Ａは、第１のギャップ領域Ｇ１から第２のギャップ領域Ｇ２にわたり、電極指延伸方向において連続的に設けられている。そのため、質量付加膜２８Ａは、平面視において、第１のバスバー２２側の接続電極２４と重なっている。質量付加膜２８Ａは、第１のギャップ領域Ｇ１及び第２のギャップ領域Ｇ２の、電極指延伸方向における全体に設けられている。

　質量付加膜２８Ｂは、第３のギャップ領域Ｇ３から第４のギャップ領域Ｇ４にわたり、電極指延伸方向において連続的に設けられている。そのため、質量付加膜２８Ｂは、平面視において、第２のバスバー２３側の接続電極２４と重なっている。質量付加膜２８Ｂは、第３のギャップ領域Ｇ３及び第４のギャップ領域Ｇ４の、電極指延伸方向における全体に設けられている。

　第３の実施形態及び第１の比較例において、通過特性を比較した。第３の実施形態の構成を有する弾性波装置の設計パラメータは、図４に示した比較に係る第１の実施形態における設計パラメータと同じである。

　図９は、第３の実施形態及び第１の比較例の弾性波装置における通過特性を示す図である。

　図９に示すように、第３の実施形態においては、第１の比較例よりも、通過帯域の中央付近及び低域側において、ロスが小さくなっていることがわかる。

　以下において、第４の実施形態について説明する。なお、第４の実施形態においては、質量付加膜の位置は、図２に示す第１の実施形態と同じである。第４の実施形態は、圧電層が回転Ｙカットのニオブ酸リチウムからなる点において、第１の実施形態と異なる。

　第４の実施形態及び第２の比較例において、通過特性を比較した。第２の比較例は、質量付加膜が設けられていない点において第４の実施形態と異なる。第２の比較例においては、圧電層は回転Ｙカットのニオブ酸リチウムからなる。

　なお、当該比較においては、第１～第４のギャップ領域の幅を２通りとした。ギャップ領域の幅は、ギャップ領域の電極指延伸方向に沿う寸法である。一方の比較においては、第１～第４のギャップ領域の幅を１．５μｍとした。他方の比較においては、第１～第４のギャップ領域の幅を５μｍとした。第４の実施形態の構成を有する弾性波装置の設計パラメータは、以下の通りである。

　圧電層：材料…ＬｉＮｂＯ_３、オイラー角（φ，θ，ψ）…（０°，２１７．５°，０°）、厚み…４００ｎｍ
　第１～第３の電極指：層構造…圧電層側からＴｉ層／ＡｌＣｕ層／Ｔｉ層、各層の厚み…圧電層側から１０ｎｍ／３９０ｎｍ／４ｎｍ
　第１～第３の電極指の順序を接続される電位により表わした順序：ＩＮ、ＧＮＤ、ＯＵＴ、ＧＮＤの順序が繰り返される。
　隣り合う電極指同士の中心間距離：１．４μｍ
　デューティ比：０．３
　第１のエッジ領域及び第２のエッジ領域の電極指延伸方向に沿う寸法：１μｍ
　第１～第４のギャップ領域の幅：１．５μｍまたは５μｍ
　質量付加膜の厚み：２５ｎｍ

　第２の比較例においては、質量付加膜が設けられていない点以外においては、第４の実施形態と同じ設計パラメータとした。

　図１０は、第４の実施形態及び第２の比較例の弾性波装置における、第１～第４のギャップ領域の幅が１．５μｍである場合においての通過特性を示す図である。図１１は、第４の実施形態及び第２の比較例の弾性波装置における、第１～第４のギャップ領域の幅が５μｍである場合においての通過特性を示す図である。

　図１０に示すように、第１～第４のギャップ領域の幅が１．５μｍの場合には、第４の実施形態においては、第２の比較例よりも、通過帯域の高域側及び低域側において、ロスを小さくすることができている。

　図１１に示すように、第１～第４のギャップ領域の幅が５μｍの場合には、第２の比較例の通過特性では、通過帯域内において大きなリップルが生じている。これに対して、第４の実施形態の通過特性では、通過帯域内のリップルは、第２の比較例におけるリップルよりも小さくなっている。よって、第４の実施形態では、ロスを小さくすることができる。

　もっとも、図１０及び図１１を比較すると、圧電層が回転Ｙカットのニオブ酸リチウムからなる場合には、第１～第４のギャップ領域の幅が狭いことによって、通過帯域内におけるリップルをより一層抑制できることがわかる。

　以下において、第５の実施形態について説明する。なお、第５の実施形態においては、質量付加膜の位置は、図６に示す第２の実施形態と同じである。第５の実施形態は、圧電層が回転Ｙカットのニオブ酸リチウムからなる点において、第２の実施形態と異なる。

　第５の実施形態及び第２の比較例において、通過特性を比較した。なお、当該比較においては、第１～第４のギャップ領域の幅を２通りとした。一方の比較においては、第１～第４のギャップ領域の幅を１．５μｍとした。他方の比較においては、第１～第４のギャップ領域の幅を５μｍとした。第５の実施形態の構成を有する弾性波装置の設計パラメータは、図１０及び図１１に示した比較に係る第４の実施形態における設計パラメータと同じである。

　図１２は、第５の実施形態及び第２の比較例の弾性波装置における、第１～第４のギャップ領域の幅が１．５μｍである場合においての通過特性を示す図である。図１３は、第５の実施形態及び第２の比較例の弾性波装置における、第１～第４のギャップ領域の幅が５μｍである場合においての通過特性を示す図である。

　図１２に示すように、第５の実施形態においては、第１～第４のギャップ領域の幅が１．５μｍである場合には、第２の比較例よりも、通過帯域の高域側及び低域側において、ロスを小さくすることができている。

　図１３に示すように、第１～第４のギャップ領域の幅が５μｍの場合には、第２の比較例の通過特性では、通過帯域内において大きなリップルが生じている。これに対して、第５の実施形態の通過特性では、通過帯域内のリップルは、第２の比較例におけるリップルよりも小さくなっている。よって、第５の実施形態では、ロスを小さくすることができる。

　もっとも、図１２及び図１３を比較すると、圧電層が回転Ｙカットのニオブ酸リチウムからなる場合には、第１～第４のギャップ領域の幅が狭いことによって、通過帯域内におけるリップルをより一層抑制できることがわかる。

　第１～第５の実施形態においては、例えば図２に示すように、第３の電極１９はミアンダ状の形状を有する。第３の電極１９における全ての接続電極２４のうち一部の複数の接続電極２４は、複数の第２の電極指２６の先端と、第１のバスバー２２との間に設けられている。残りの複数の接続電極２４は、複数の第１の電極指２５の先端と、第２のバスバー２３との間に設けられている。

　もっとも、第３の電極１９は、ミアンダ状の形状を有していなくともよい。接続電極２４は、少なくとも、複数の第２の電極指２６の先端と第１のバスバー２２との間に設けられていればよい。なお、接続電極２４が複数の第１の電極指２５の先端及び第２のバスバー２３の間に設けられていない場合には、第３のギャップ領域Ｇ３及び第４のギャップ領域は構成されていない。第３の電極１９がミアンダ状の形状を有しない例を、第６の実施形態により示す。

　図１４は、第６の実施形態に係る弾性波装置の模式的平面図である。

　本実施形態は、第３の電極３９の構成において第１の実施形態と異なる。本実施形態は、第３のギャップ領域Ｇ３及び第４のギャップ領域Ｇ４が構成されておらず、第５のギャップ領域Ｇ５が構成されている点においても、第１の実施形態と異なる。よって、本実施形態は、質量付加膜の位置においても、第１の実施形態と異なる。上記の点以外においては、本実施形態の弾性波装置は第１の実施形態の弾性波装置１０と同様の構成を有する。

　第３の電極３９においては、接続電極は第３のバスバー３４である。第３の電極３９の接続電極としての第３のバスバー３４は、複数の第３の電極指２７同士を電気的に接続している。具体的には、第３のバスバー３４は、第１のバスバー２２と、複数の第２の電極指２６の先端との間の領域に位置している。この領域には、複数の第１の電極指２５も位置している。もっとも、絶縁膜３７によって、第３のバスバー３４及び複数の第１の電極指２５は、互いに電気的に絶縁されている。

　より具体的には、第３のバスバー３４は、複数の第１の接続電極３４Ａと、１つの第２の接続電極３４Ｂとを含む。各第１の接続電極３４Ａは、隣り合う２本の第３の電極指２７の先端同士を接続している。第１の接続電極３４Ａ及び２本の第３の電極指２７により、Ｕ字状の電極が構成されている。複数の第１の接続電極３４Ａ同士を、第２の接続電極３４Ｂが接続している。この第２の接続電極３４Ｂ及び複数の第１の電極指２５の間に、絶縁膜３７が設けられている。

　より詳細には、圧電層１４の第１の主面１４ａに、複数の第１の電極指２５の一部を覆うように、絶縁膜３７が設けられている。絶縁膜３７は、第１のバスバー２２と、複数の第２の電極指２６の先端との間の領域に設けられている。絶縁膜３７は帯状の形状を有する。

　絶縁膜３７は、第３の電極３９の第１の接続電極３４Ａ上には至っていない。そして、絶縁膜３７上及び複数の第１の接続電極３４Ａ上にわたり、第２の接続電極３４Ｂが設けられている。より具体的には、第２の接続電極３４Ｂは、バー部３４ａと、複数の突出部３４ｂとを有する。バー部３４ａから、各突出部３４ｂが、各第１の接続電極３４Ａに向かい延びている。各突出部３４ｂは、各第１の接続電極３４Ａに接続されている。これにより、複数の第３の電極指２７同士が、第１の接続電極３４Ａ及び第２の接続電極３４Ｂによって、電気的に接続されている。

　本実施形態では、第３のバスバー３４は、第１のバスバー２２と、複数の第２の電極指２６の先端との間の領域に位置している。そのため、複数の第２の電極指２６の先端はそれぞれ、電極指延伸方向において、ギャップを隔てて、第３のバスバー３４と対向している。一方で、複数の第１の電極指２５の先端はそれぞれ、電極指延伸方向において、ギャップを隔てて、第２のバスバー２３と対向している。

　平面視したときに、電極指延伸方向において、複数の第１の電極指２５の先端及び第２のバスバー２３の間に位置しており、電極指直交方向に延びている領域が第５のギャップ領域Ｇ５である。第５のギャップ領域Ｇ５は第２のエッジ領域Ｈ２と隣接している。

　なお、第１のギャップ領域Ｇ１及び第２のギャップ領域Ｇ２は、第１の実施形態と同様に構成されている。具体的には、平面視したときに、電極指延伸方向において、複数の第２の電極指２６の先端及び接続電極としての第３のバスバー３４の間に位置しており、電極指直交方向に延びている領域が第１のギャップ領域Ｇ１である。平面視したときに、第３のバスバー３４及び第１のバスバー２２の間に位置しており、電極指直交方向に延びている領域が第２のギャップ領域Ｇ２である。以下においては、第５のギャップ領域Ｇ５及び他のギャップ領域を含めて、単にギャップ領域と記載することがある。

　第５のギャップ領域Ｇ５、並びに図２に示す第３のギャップ領域Ｇ３及び第４のギャップ領域Ｇ４は、以下の点において一致している。これらの領域は、複数の第１の電極指２５の先端及び第２のバスバー２３の間に位置しており、接続電極を含まず、かつ電極指直交方向に延びている領域である。

　図１４に示すように、質量付加膜２８Ａは、第１のギャップ領域Ｇ１及び第１のエッジ領域Ｈ１にわたり設けられている。質量付加膜２８Ｂは、第５のギャップ領域Ｇ５及び第２のエッジ領域Ｈ２にわたりに設けられている。

　本実施形態の特徴は、以下の構成を有することにある。１）平面視において、第１の櫛形電極１７の第１の電極指２５と、第２の櫛形電極１８の第２の電極指２６との間に、第３の電極１９の第３の電極指２７が設けられていること。２）質量付加膜２８Ａ及び質量付加膜２８Ｂが第１のギャップ領域Ｇ１及び第５のギャップ領域Ｇ５に設けられていること。

　なお、質量付加膜は、第１のギャップ領域Ｇ１、第２のギャップ領域Ｇ２及び第５のギャップ領域Ｇ５のうち少なくともいずれかの、少なくとも一部に設けられていればよい。本実施形態においては、上記構成を有することによって、弾性波装置がフィルタ装置に用いられる場合において、フィルタ装置の小型化を進めることができ、かつ挿入損失を小さくすることができる。

　第１～第６の実施形態においては、質量付加膜２８Ａ及び質量付加膜２８Ｂは帯状の形状を有する。質量付加膜２８Ａ及び質量付加膜２８Ｂはそれぞれ、電極指延伸方向から見たときに、複数の第１の電極指２５、複数の第２の電極指２６及び複数の第３の電極指２７と重なっている。もっとも、質量付加膜の形状は帯状に限定されない。質量付加膜の形状が帯状の形状でない場合の例を、第７～第１０の実施形態により示す。

　第７の実施形態及び第８の実施形態は、質量付加膜の位置のみが第１の実施形態と異なる。もっとも、第７の実施形態及び第８の実施形態では、質量付加膜は、第１のギャップ領域Ｇ１、第２のギャップ領域Ｇ２、第３のギャップ領域Ｇ３及び第４のギャップ領域Ｇ４のうち少なくともいずれかの、少なくとも一部に設けられている。

　第９の実施形態及び第１０の実施形態は、質量付加膜の位置のみが第６の実施形態と異なる。もっとも、第９の実施形態及び第１０の実施形態では、質量付加膜は、第１のギャップ領域Ｇ１、第２のギャップ領域Ｇ２及び第５のギャップ領域Ｇ５のうち少なくともいずれかの、少なくとも一部に設けられている。第７～第１０の実施形態においても、第１の実施形態または第６の実施形態と同様に、弾性波装置がフィルタ装置に用いられる場合において、フィルタ装置の小型化を進めることができ、かつ挿入損失を小さくすることができる。

　図１５は、第７の実施形態に係る弾性波装置の模式的平面図である。

　本実施形態は、質量付加膜４８Ａ及び質量付加膜４８Ｂの位置において第１の実施形態と異なる。上記の点以外においては、本実施形態の弾性波装置は第１の実施形態の弾性波装置１０と同様の構成を有する。本実施形態においては、第１のギャップ領域Ｇ１、第２のギャップ領域Ｇ２、第３のギャップ領域Ｇ３及び第４のギャップ領域Ｇ４が構成されている。

　本実施形態においては、第１のギャップ領域Ｇ１及び第１のエッジ領域Ｈ１にわたり、複数の質量付加膜４８Ａが設けられている。複数の質量付加膜４８Ａは、電極指直交方向において並んでいる。他方、第２のギャップ領域Ｇ２には、質量付加膜４８Ａは設けられていない。

　各質量付加膜４８Ａは、電極指延伸方向から見たときに、複数の電極指のうち１本の電極指と重なっている。各質量付加膜４８Ａは、平面視において、１本の第２の電極指２６と重なっている。なお、質量付加膜４８Ａは、平面視において、第１の電極指２５または第３の電極指２７と重なっていてもよい。

　第３のギャップ領域Ｇ３及び第２のエッジ領域Ｈ２にわたり、複数の質量付加膜４８Ｂが設けられている。複数の質量付加膜４８Ｂは、電極指直交方向において並んでいる。他方、第４のギャップ領域Ｇ４には、質量付加膜４８Ｂは設けられていない。

　各質量付加膜４８Ｂは、電極指延伸方向から見たときに、複数の電極指のうち１本の電極指と重なっている。各質量付加膜４８Ｂは、平面視において、１本の第１の電極指２５と重なっている。なお、質量付加膜４８Ｂは、平面視において、第２の電極指２６または第３の電極指２７と重なっていてもよい。

　図１６は、第８の実施形態に係る弾性波装置の模式的平面図である。

　本実施形態は、質量付加膜４８Ａが、第１のエッジ領域Ｈ１、第１のギャップ領域Ｇ１及び第２のギャップ領域Ｇ２にわたり設けられている点において、第７の実施形態と異なる。本実施形態は、質量付加膜４８Ｂが、第２のエッジ領域Ｈ２、第３のギャップ領域Ｇ３及び第４のギャップ領域Ｇ４にわたり設けられている点においても、第７の実施形態と異なる。上記の点以外においては、本実施形態の弾性波装置は第７の実施形態の弾性波装置と同様の構成を有する。

　質量付加膜４８Ａは、第１のエッジ領域Ｈ１から、第２のギャップ領域Ｇ２にわたり、電極指延伸方向において連続的に設けられている。質量付加膜４８Ａは、平面視において、第１のバスバー２２側の接続電極２４と重なっている。質量付加膜４８Ａは、第１のギャップ領域Ｇ１及び第２のギャップ領域Ｇ２の、電極指延伸方向における全体に設けられている。

　質量付加膜４８Ｂは、第２のエッジ領域Ｈ２から、第４のギャップ領域Ｇ４にわたり、電極指延伸方向において連続的に設けられている。質量付加膜４８Ｂは、平面視において、第２のバスバー２３側の接続電極２４と重なっている。質量付加膜４８Ｂは、第３のギャップ領域Ｇ３及び第４のギャップ領域Ｇ４の、電極指延伸方向における全体に設けられている。

　図１７は、第９の実施形態に係る弾性波装置の模式的平面図である。

　本実施形態は、質量付加膜４８Ａ及び質量付加膜４８Ｂの位置において第６の実施形態と異なる。上記の点以外においては、本実施形態の弾性波装置は第６の実施形態の弾性波装置と同様の構成を有する。本実施形態においては、第１のギャップ領域Ｇ１、第２のギャップ領域Ｇ２及び第５のギャップ領域Ｇ５が構成されている。

　第１のギャップ領域Ｇ１及び第１のエッジ領域Ｈ１にわたり、複数の質量付加膜４８Ａが設けられている。複数の質量付加膜４８Ａは、電極指直交方向において並んでいる。他方、第２のギャップ領域Ｇ２には、質量付加膜４８Ａは設けられていない。

　第５のギャップ領域Ｇ５及び第２のエッジ領域Ｈ２にわたり、複数の質量付加膜４８Ｂが設けられている。複数の質量付加膜４８Ａは、電極指直交方向において並んでいる。

　各質量付加膜４８Ｂは、電極指延伸方向から見たときに、複数の電極指のうち１本の電極指と重なっている。一部の複数の質量付加膜４８Ｂはそれぞれ、平面視において、１本の第１の電極指２５と重なっている。残りの複数の質量付加膜４８Ｂはそれぞれ、平面視において、１本の第３の電極指２７と重なっている。なお、質量付加膜４８Ｂは、平面視において、第２の電極指２６と重なっていてもよい。

　図１８は、第１０の実施形態に係る弾性波装置の模式的平面図である。

　本実施形態は、質量付加膜４８Ａが、第１のエッジ領域Ｈ１、第１のギャップ領域Ｇ１及び第２のギャップ領域Ｇ２にわたり設けられている点において、第９の実施形態と異なる。上記の点以外においては、本実施形態の弾性波装置は第９の実施形態の弾性波装置と同様の構成を有する。

　図１９は、第１１の実施形態における第１の弾性波共振子の模式的平面図である。図２０は、第１１の実施形態における第１～第３の電極指付近を示す模式的正面断面図である。

　図１９及び図２０に示すように、本実施形態は、第３の電極３９が圧電層１４の第２の主面１４ｂに設けられている点において、第６の実施形態と異なる。上記の点以外においては、本実施形態の弾性波装置は第６の実施形態の弾性波装置と同様の構成を有する。

　本実施形態の第３の電極３９の平面視における配置は、第６の実施形態と同様である。よって、平面視したときに、第１の電極指２５及び第２の電極指２６が並ぶ方向において、第１の電極指２５及び第２の電極指２６と並ぶように、複数の第３の電極指２７がそれぞれ圧電層１４の第２の主面１４ｂに設けられている。平面視において、複数の電極指が並んでいる順序は、第１の電極指２５から開始した場合において、第１の電極指２５、第３の電極指２７、第２の電極指２６及び第３の電極指２７を１周期とする順序である。

　第３の電極３９が圧電層１４の第２の主面１４ｂに設けられている場合においても、各ギャップ領域は、第６の実施形態と同様に定義することができる。

　具体的には、平面視したときに、複数の第２の電極指２６の先端及び接続電極としての第３のバスバー３４の間に位置しており、電極指直交方向に延びている領域が第１のギャップ領域Ｇ１である。平面視したときに、第３のバスバー３４及び第１のバスバー２２の間に位置しており、電極指直交方向に延びている領域が第２のギャップ領域Ｇ２である。平面視したときに、電極指延伸方向において、複数の第１の電極指２５の先端及び第２のバスバー２３の間に位置しており、電極指直交方向に延びている領域が第５のギャップ領域Ｇ５である。

　質量付加膜２８Ａは、第１のギャップ領域Ｇ１及び第１のエッジ領域Ｈ１にわたり設けられている。質量付加膜２８Ｂは、第５のギャップ領域Ｇ５及び第２のエッジ領域Ｈ２にわたり設けられている。それによって、本実施形態においても、第６の実施形態と同様に、弾性波装置がフィルタ装置に用いられる場合において、フィルタ装置の小型化を進めることができ、かつフィルタ特性の劣化を抑制することができる。

　なお、圧電層１４の第２の主面１４ｂに第３の電極３９が設けられている構成は、本発明の他の形態にも適用することができる。例えば、図２に示す第１の実施形態と同様の第３の電極１９が第２の主面１４ｂに設けられていてもよい。この場合には、第１のギャップ領域Ｇ１、第２のギャップ領域Ｇ２、第３のギャップ領域Ｇ３及び第４のギャップ領域Ｇ４が定義される。

　本発明においては、ギャップ領域に貫通孔が設けられていてもよい。この場合には、質量付加膜は設けられていなくともよい。この例を以下において示す。

　図２１は、第１２の実施形態に係る弾性波装置の模式的平面図である。なお、図２１においては、電極及び圧電層１４を、ハッチングを付して示す。図２１以外の模式的平面図においても同様に、電極及び圧電層１４にハッチングを付すことがある。

　弾性波装置５０は音響結合型フィルタである。弾性波装置５０は、第１の実施形態と同様の圧電性基板１２と、機能電極１１とを有する。弾性波装置５０においては、第１のギャップ領域Ｇ１、第２のギャップ領域Ｇ２、第３のギャップ領域Ｇ３及び第４のギャップ領域Ｇ４が構成されている。

　弾性波装置５０は、第１の実施形態と同様に、複数の励振領域Ｃを有し、交叉領域Ｅを有する。弾性波装置５０は厚み滑りモードを利用可能に構成されている。もっとも、弾性波装置５０は板波を利用可能に構成されていてもよい。

　圧電層１４はＺカットのニオブ酸リチウムからなる。もっとも、圧電層１４は回転Ｙカットのニオブ酸リチウムからなっていてもよい。

　図２１に示すように、圧電膜としての圧電層１４に複数の貫通孔５４ｃが設けられている。全ての貫通孔５４ｃのうち、一部の複数の貫通孔５４ｃは、第１のギャップ領域Ｇ１に位置している。より具体的には、第１のギャップ領域Ｇ１において、第１の電極指２５、第２の電極指２６及び第３の電極指２７が設けられていない全ての部分に、貫通孔５４ｃが位置している。

　全ての貫通孔５４ｃのうち、残りの複数の貫通孔５４ｃは、第３のギャップ領域Ｇ３に位置している。第３のギャップ領域Ｇ３において、第１の電極指２５、第２の電極指２６及び第３の電極指２７が設けられていない全ての部分に、貫通孔５４ｃが位置している。なお、圧電膜が圧電層１４を含む積層膜である場合、貫通孔５４ｃが該積層膜を貫通していればよい。

　本実施形態の特徴は、以下の構成を有することにある。１）平面視において、第１の櫛形電極１７の第１の電極指２５と、第２の櫛形電極１８の第２の電極指２６との間に、第３の電極１９の第３の電極指２７が設けられていること。２）第１のギャップ領域Ｇ１及び第３のギャップ領域Ｇ３において、圧電膜としての圧電層１４に貫通孔５４ｃが設けられていること。３）平面視したときに、貫通孔５４ｃが設けられている領域において、第１の電極指２５、第２の電極指２６及び第３の電極指２７が設けられていない全ての部分に、貫通孔５４ｃが位置していること。

　もっとも、第１のギャップ領域Ｇ１、第２のギャップ領域Ｇ２、第３のギャップ領域Ｇ３及び第４のギャップ領域Ｇ４の少なくともいずれかにおいて、圧電層１４に貫通孔５４ｃが設けられていればよい。この場合に、平面視したときに、貫通孔５４ｃが設けられている領域において、電極指が設けられていない全ての部分に、貫通孔５４ｃが位置していればよい。上記構成を有することにより、弾性波装置５０がフィルタ装置に用いられる場合において、フィルタ装置の小型化を進めることができ、かつ挿入損失を小さくすることができる。これを、本実施形態及び第１の比較例を比較することにより、以下において示す。

　第１の比較例は、圧電層に貫通孔が設けられていない点において第１２の実施形態と異なる。第１の比較例においては、圧電層はＺカットのニオブ酸リチウムからなる。第１２の実施形態及び第１の比較例において、通過特性を比較した。第１２の実施形態の構成を有する弾性波装置５０の設計パラメータは以下の通りである。

　圧電層：材料…ＬｉＮｂＯ_３、オイラー角（φ，θ，ψ）…（０°，０°，９０°）、厚み…４００ｎｍ
　第１～第３の電極指：層構造…圧電層側からＴｉ層／ＡｌＣｕ層／Ｔｉ層、各層の厚み…圧電層側から１０ｎｍ／３９０ｎｍ／４ｎｍ
　第１～第３の電極指の順序を接続される電位により表わした順序：ＩＮ、ＧＮＤ、ＯＵＴ、ＧＮＤの順序が繰り返される。
　隣り合う電極指同士の中心間距離：１．４μｍ
　デューティ比：０．３

　第１の比較例においては、貫通孔が設けられていない点以外においては、第１２の実施形態と同じ設計パラメータとした。

　図２２は、第１２の実施形態及び第１の比較例の弾性波装置における通過特性を示す図である。

　まず、図２２に示すように、１個の第１２の実施形態に係る弾性波装置５０においても、フィルタ波形を好適に得られることがわかる。よって、弾性波装置５０をフィルタ装置に用いる場合に、フィルタ装置を構成する弾性波共振子が少ない個数でも、フィルタ波形を好適に得ることができる。従って、フィルタ装置の小型化を進めることができる。

　加えて、図２２に示すように、第１２の実施形態においては、第１の比較例よりも、通過帯域の中央付近及び低域側において、ロスが小さくなっていることがわかる。従って、弾性波装置５０がフィルタ装置に用いられる場合においては、挿入損失を小さくすることができる。

　以下において、貫通孔５４ｃの配置のみが第１２の実施形態と異なる、第１３の実施形態及び第１４の実施形態を示す。第１３の実施形態及び第１４の実施形態においても、第１２の実施形態と同様に、弾性波装置がフィルタ装置に用いられる場合において、フィルタ装置の小型化を進めることができ、かつ挿入損失を小さくすることができる。

　図２３は、第１３の実施形態に係る弾性波装置の模式的平面図である。

　本実施形態では、圧電膜としての圧電層１４に、第２のギャップ領域Ｇ２及び第４のギャップ領域Ｇ４において複数の貫通孔５４ｃが設けられている。圧電層１４には、第１のギャップ領域Ｇ１及び第３のギャップ領域Ｇ３においては、貫通孔５４ｃが設けられていない。平面視したときに、貫通孔５４ｃが設けられている領域において、電極指が設けられていない全ての部分に、貫通孔５４ｃが位置している。

　図２４は、第１４の実施形態に係る弾性波装置の模式的平面図である。

　本実施形態では、圧電膜としての圧電層１４に、第１のギャップ領域Ｇ１、第２のギャップ領域Ｇ２、第３のギャップ領域Ｇ３及び第４のギャップ領域Ｇ４において複数の貫通孔５４ｃが設けられている。平面視したときに、貫通孔５４ｃが設けられている領域において、電極指が設けられていない全ての部分に、貫通孔５４ｃが位置している。

　本実施形態及び第１の比較例において、通過特性を比較した。本実施形態の構成を有する弾性波装置の設計パラメータは、図２２に示した比較に係る第１２の実施形態における設計パラメータと同じである。

　図２５は、第１４の実施形態及び第１の比較例の弾性波装置における通過特性を示す図である。

　図２５に示すように、第１４の実施形態においては、第１の比較例よりも、通過帯域の中央付近及び低域側において、ロスが小さくなっていることがわかる。

　ギャップ領域に貫通孔が設けられた構成は、ギャップ領域が第１のギャップ領域Ｇ１、第２のギャップ領域Ｇ２及び第５のギャップ領域Ｇ５である場合においても適用することができる。この例を、第１５の実施形態により示す。

　図２６は、第１５の実施形態に係る弾性波装置の模式的平面図である。

　本実施形態においては、機能電極は、第６の実施形態と同様に構成されている。本実施形態では、第３のギャップ領域Ｇ３及び第４のギャップ領域Ｇ４は構成されていない。本実施形態では、第１のギャップ領域Ｇ１、第２のギャップ領域Ｇ２及び第５のギャップ領域Ｇ５が構成されている。

　本実施形態の特徴は、以下の構成を有することにある。１）平面視において、第１の櫛形電極１７の第１の電極指２５と、第２の櫛形電極１８の第２の電極指２６との間に、第３の電極１９の第３の電極指２７が設けられていること。２）第１のギャップ領域Ｇ１及び第５のギャップ領域Ｇ５において、圧電膜としての圧電層１４に貫通孔５４ｃが設けられていること。３）平面視したときに、貫通孔５４ｃが設けられている領域において、第１の電極指２５、第２の電極指２６及び第３の電極指２７が設けられていない全ての部分に、貫通孔５４ｃが位置していること。

　なお、第１のギャップ領域Ｇ１、第２のギャップ領域Ｇ２及び第５のギャップ領域Ｇ５のうち少なくともいずれかにおいて、圧電膜としての圧電層１４に貫通孔５４ｃが設けられていればよい。この場合に、平面視したときに、貫通孔５４ｃが設けられている領域において、電極指が設けられていない全ての部分に、貫通孔５４ｃが位置していればよい。上記構成を有することにより、弾性波装置がフィルタ装置に用いられる場合において、フィルタ装置の小型化を進めることができ、かつ挿入損失を小さくすることができる。

　以下において、機能電極がＩＤＴ電極である例を用いて、厚み滑りモードの詳細を説明する。なお、ＩＤＴ電極は第３の電極指を有しない。後述するＩＤＴ電極における「電極」は、電極指に相当する。以下の例における支持部材は、本発明における支持基板に相当する。以下においては、基準電位をグラウンド電位と記載することもある。

　図２７（ａ）は、厚み滑りモードのバルク波を利用する弾性波装置の外観を示す略図的斜視図であり、図２７（ｂ）は、圧電層上の電極構造を示す平面図であり、図２８は、図２７（ａ）中のＡ－Ａ線に沿う部分の断面図である。

　弾性波装置１は、ＬｉＮｂＯ_３からなる圧電層２を有する。圧電層２は、ＬｉＴａＯ_３からなるものであってもよい。ＬｉＮｂＯ_３やＬｉＴａＯ_３のカット角は、Ｚカットであるが、回転ＹカットやＸカットであってもよい。圧電層２の厚みは、特に限定されないが、厚み滑りモードを効果的に励振するには、４０ｎｍ以上、１０００ｎｍ以下であることが好ましく、５０ｎｍ以上、１０００ｎｍ以下であることがより好ましい。圧電層２は、対向し合う第１，第２の主面２ａ，２ｂを有する。第１の主面２ａ上に、電極３及び電極４が設けられている。ここで電極３が「第１電極」の一例であり、電極４が「第２電極」の一例である。図２７（ａ）及び図２７（ｂ）では、複数の電極３が、第１のバスバー５に接続されている。複数の電極４は、第２のバスバー６に接続されている。複数の電極３及び複数の電極４は、互いに間挿し合っている。電極３及び電極４は、矩形形状を有し、長さ方向を有する。この長さ方向と直交する方向において、電極３と、隣りの電極４とが対向している。電極３，４の長さ方向、及び、電極３，４の長さ方向と直交する方向はいずれも、圧電層２の厚み方向に交叉する方向である。このため、電極３と、隣りの電極４とは、圧電層２の厚み方向に交叉する方向において対向しているともいえる。また、電極３，４の長さ方向が図２７（ａ）及び図２７（ｂ）に示す電極３，４の長さ方向に直交する方向と入れ替わってもよい。すなわち、図２７（ａ）及び図２７（ｂ）において、第１のバスバー５及び第２のバスバー６が延びている方向に電極３，４を延ばしてもよい。その場合、第１のバスバー５及び第２のバスバー６は、図２７（ａ）及び図２７（ｂ）において電極３，４が延びている方向に延びることとなる。そして、一方電位に接続される電極３と、他方電位に接続される電極４とが隣り合う１対の構造が、上記電極３，４の長さ方向と直交する方向に、複数対設けられている。ここで電極３と電極４とが隣り合うとは、電極３と電極４とが直接接触するように配置されている場合ではなく、電極３と電極４とが間隔を介して配置されている場合を指す。また、電極３と電極４とが隣り合う場合、電極３と電極４との間には、他の電極３，４を含む、ホット電極やグラウンド電極に接続される電極は配置されない。この対数は、整数対である必要はなく、１．５対や２．５対などであってもよい。電極３，４間の中心間距離すなわちピッチは、１μｍ以上、１０μｍ以下の範囲が好ましい。また、電極３，４の幅、すなわち電極３，４の対向方向の寸法は、５０ｎｍ以上、１０００ｎｍ以下の範囲であることが好ましく、１５０ｎｍ以上、１０００ｎｍ以下の範囲であることがより好ましい。なお、電極３，４間の中心間距離とは、電極３の長さ方向と直交する方向における電極３の寸法（幅寸法）の中心と、電極４の長さ方向と直交する方向における電極４の寸法（幅寸法）の中心とを結んだ距離となる。

　また、弾性波装置１では、Ｚカットの圧電層を用いているため、電極３，４の長さ方向と直交する方向は、圧電層２の分極方向に直交する方向となる。圧電層２として他のカット角の圧電体を用いた場合には、この限りでない。ここにおいて、「直交」とは、厳密に直交する場合のみに限定されず、略直交（電極３，４の長さ方向と直交する方向と分極方向とのなす角度が例えば９０°±１０°の範囲内）でもよい。

　圧電層２の第２の主面２ｂ側には、絶縁層７を介して支持部材８が積層されている。絶縁層７及び支持部材８は、枠状の形状を有し、図２８に示すように、貫通孔７ａ，８ａを有する。それによって、空洞部９が形成されている。空洞部９は、圧電層２の励振領域Ｃの振動を妨げないために設けられている。従って、上記支持部材８は、少なくとも１対の電極３，４が設けられている部分と重ならない位置において、第２の主面２ｂに絶縁層７を介して積層されている。なお、絶縁層７は設けられずともよい。従って、支持部材８は、圧電層２の第２の主面２ｂに直接または間接に積層され得る。

　絶縁層７は、酸化ケイ素からなる。もっとも、酸化ケイ素の他、酸窒化ケイ素、アルミナなどの適宜の絶縁性材料を用いることができる。支持部材８は、Ｓｉからなる。Ｓｉの圧電層２側の面における面方位は（１００）や（１１０）であってもよく、（１１１）であってもよい。支持部材８を構成するＳｉは、抵抗率４ｋΩｃｍ以上の高抵抗であることが望ましい。もっとも、支持部材８についても適宜の絶縁性材料や半導体材料を用いて構成することができる。

　支持部材８の材料としては、例えば、酸化アルミニウム、タンタル酸リチウム、ニオブ酸リチウム、水晶などの圧電体、アルミナ、マグネシア、サファイア、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、炭化ケイ素、ジルコニア、コージライト、ムライト、ステアタイト、フォルステライトなどの各種セラミック、ダイヤモンド、ガラスなどの誘電体、窒化ガリウムなどの半導体などを用いることができる。

　上記複数の電極３，４及び第１，第２のバスバー５，６は、Ａｌ、ＡｌＣｕ合金などの適宜の金属もしくは合金からなる。弾性波装置１では、電極３，４及び第１，第２のバスバー５，６は、Ｔｉ膜上にＡｌ膜を積層した構造を有する。なお、Ｔｉ膜以外の密着層を用いてもよい。

　駆動に際しては、複数の電極３と、複数の電極４との間に交流電圧を印加する。より具体的には、第１のバスバー５と第２のバスバー６との間に交流電圧を印加する。それによって、圧電層２において励振される厚み滑りモードのバルク波を利用した、共振特性を得ることが可能とされている。また、弾性波装置１では、圧電層２の厚みをｄ、複数対の電極３，４のうちいずれかの隣り合う電極３，４の中心間距離をｐとした場合、ｄ／ｐは０．５以下とされている。そのため、上記厚み滑りモードのバルク波が効果的に励振され、良好な共振特性を得ることができる。より好ましくは、ｄ／ｐは０．２４以下であり、その場合には、より一層良好な共振特性を得ることができる。

　弾性波装置１では、上記構成を備えるため、小型化を図ろうとして、電極３，４の対数を小さくしたとしても、Ｑ値の低下が生じ難い。これは、両側の反射器における電極指の本数を少なくしても、伝搬ロスが少ないためである。また、上記電極指の本数を少なくできるのは、厚み滑りモードのバルク波を利用していることによる。弾性波装置で利用したラム波と、上記厚み滑りモードのバルク波の相違を、図２９（ａ）及び図２９（ｂ）を参照して説明する。

　図２９（ａ）は、日本公開特許公報　特開２０１２－２５７０１９号公報に記載のような弾性波装置の圧電膜を伝搬するラム波を説明するための模式的正面断面図である。ここでは、圧電膜２０１中を矢印で示すように波が伝搬する。ここで、圧電膜２０１では、第１の主面２０１ａと、第２の主面２０１ｂとが対向しており、第１の主面２０１ａと第２の主面２０１ｂとを結ぶ厚み方向がＺ方向である。Ｘ方向は、ＩＤＴ電極の電極指が並んでいる方向である。図２９（ａ）に示すように、ラム波では、波が図示のように、Ｘ方向に伝搬していく。板波であるため、圧電膜２０１が全体として振動するものの、波はＸ方向に伝搬するため、両側に反射器を配置して、共振特性を得ている。そのため、波の伝搬ロスが生じ、小型化を図った場合、すなわち電極指の対数を少なくした場合、Ｑ値が低下する。

　これに対して、図２９（ｂ）に示すように、弾性波装置１では、振動変位は厚み滑り方向であるから、波は、圧電層２の第１の主面２ａと第２の主面２ｂとを結ぶ方向、すなわちＺ方向にほぼ伝搬し、共振する。すなわち、波のＸ方向成分がＺ方向成分に比べて著しく小さい。そして、このＺ方向の波の伝搬により共振特性が得られるため、反射器の電極指の本数を少なくしても、伝搬損失は生じ難い。さらに、小型化を進めようとして、電極３，４からなる電極対の対数を減らしたとしても、Ｑ値の低下が生じ難い。

　なお、厚み滑りモードのバルク波の振幅方向は、図３０に示すように、圧電層２の励振領域Ｃに含まれる第１領域４５１と、励振領域Ｃに含まれる第２領域４５２とで逆になる。図３０では、電極３と電極４との間に、電極４が電極３よりも高電位となる電圧が印加された場合のバルク波を模式的に示してある。第１領域４５１は、励振領域Ｃのうち、圧電層２の厚み方向に直交し圧電層２を２分する仮想平面ＶＰ１と、第１の主面２ａとの間の領域である。第２領域４５２は、励振領域Ｃのうち、仮想平面ＶＰ１と、第２の主面２ｂとの間の領域である。

　上記のように、弾性波装置１では、電極３と電極４とからなる少なくとも１対の電極が配置されているが、Ｘ方向に波を伝搬させるものではないため、この電極３，４からなる電極対の対数は複数対ある必要はない。すなわち、少なくとも１対の電極が設けられてさえおればよい。

　例えば、上記電極３がホット電位に接続される電極であり、電極４がグラウンド電位に接続される電極である。もっとも、電極３がグラウンド電位に、電極４がホット電位に接続されてもよい。弾性波装置１では、少なくとも１対の電極は、上記のように、ホット電位に接続される電極またはグラウンド電位に接続される電極であり、浮き電極は設けられていない。

　図３１は、図２８に示す弾性波装置の共振特性を示す図である。なお、この共振特性を得た弾性波装置１の設計パラメータは以下の通りである。

　圧電層２：オイラー角（０°，０°，９０°）のＬｉＮｂＯ_３、厚み＝４００ｎｍ。
　電極３と電極４の長さ方向と直交する方向に見たときに、電極３と電極４とが重なっている領域、すなわち励振領域Ｃの長さ＝４０μｍ、電極３，４からなる電極の対数＝２１対、電極間中心距離＝３μｍ、電極３，４の幅＝５００ｎｍ、ｄ／ｐ＝０．１３３。
　絶縁層７：１μｍの厚みの酸化ケイ素膜。
　支持部材８：Ｓｉ。

　なお、励振領域Ｃの長さとは、励振領域Ｃの電極３，４の長さ方向に沿う寸法である。

　弾性波装置１では、電極３，４からなる電極対の電極間距離は、複数対において全て等しくした。すなわち、電極３と電極４とを等ピッチで配置した。

　図３１から明らかなように、反射器を有しないにも関わらず、比帯域が１２．５％である良好な共振特性が得られている。

　ところで、上記圧電層２の厚みをｄ、電極３と電極４との電極の中心間距離をｐとした場合、前述したように、弾性波装置１では、ｄ／ｐは０．５以下、より好ましくは０．２４以下である。これを、図３２を参照して説明する。

　図３１に示した共振特性を得た弾性波装置と同様に、但しｄ／ｐを変化させ、複数の弾性波装置を得た。図３２は、このｄ／ｐと、弾性波装置の共振子としての比帯域との関係を示す図である。

　図３２から明らかなように、ｄ／ｐ＞０．５では、ｄ／ｐを調整しても、比帯域は５％未満である。これに対して、ｄ／ｐ≦０．５の場合には、その範囲内でｄ／ｐを変化させれば、比帯域を５％以上とすることができ、すなわち高い結合係数を有する共振子を構成することができる。また、ｄ／ｐが０．２４以下の場合には、比帯域を７％以上と高めることができる。加えて、ｄ／ｐをこの範囲内で調整すれば、より一層比帯域の広い共振子を得ることができ、より一層高い結合係数を有する共振子を実現することができる。従って、ｄ／ｐを０．５以下とすることにより、上記厚み滑りモードのバルク波を利用した、高い結合係数を有する共振子を構成し得ることがわかる。

　図３３は、厚み滑りモードのバルク波を利用する弾性波装置の平面図である。弾性波装置８０では、圧電層２の第１の主面２ａ上において、電極３と電極４とを有する１対の電極が設けられている。なお、図３３中のＫが交叉幅となる。前述したように、本発明の弾性波装置では、電極の対数は１対であってもよい。この場合においても、上記ｄ／ｐが０．５以下であれば、厚み滑りモードのバルク波を効果的に励振することができる。

　弾性波装置１では、好ましくは、複数の電極３，４において、いずれかの隣り合う電極３，４が対向している方向に見たときに重なっている領域である励振領域Ｃに対する、上記隣り合う電極３，４のメタライゼーション比ＭＲが、ＭＲ≦１．７５（ｄ／ｐ）＋０．０７５を満たすことが望ましい。その場合には、スプリアスを効果的に小さくすることができる。これを、図３４及び図３５を参照して説明する。図３４は、上記弾性波装置１の共振特性の一例を示す参考図である。矢印Ｂで示すスプリアスが、共振周波数と反共振周波数との間に現れている。なお、ｄ／ｐ＝０．０８として、かつＬｉＮｂＯ_３のオイラー角（０°，０°，９０°）とした。また、上記メタライゼーション比ＭＲ＝０．３５とした。

　メタライゼーション比ＭＲを、図２７（ｂ）を参照して説明する。図２７（ｂ）の電極構造において、１対の電極３，４に着目した場合、この１対の電極３，４のみが設けられるとする。この場合、一点鎖線で囲まれた部分が励振領域Ｃとなる。この励振領域Ｃとは、電極３と電極４とを、電極３，４の長さ方向と直交する方向すなわち対向方向に見たときに電極３における電極４と重なり合っている領域、電極４における電極３と重なり合っている領域、及び、電極３と電極４との間の領域における電極３と電極４とが重なり合っている領域である。そして、この励振領域Ｃの面積に対する、励振領域Ｃ内の電極３，４の面積が、メタライゼーション比ＭＲとなる。すなわち、メタライゼーション比ＭＲは、メタライゼーション部分の面積の励振領域Ｃの面積に対する比である。

　なお、複数対の電極が設けられている場合、励振領域の面積の合計に対する全励振領域に含まれているメタライゼーション部分の割合をＭＲとすればよい。

　図３５は弾性波装置１の構成に従って、多数の弾性波共振子を構成した場合の比帯域と、スプリアスの大きさとしての１８０度で規格化されたスプリアスのインピーダンスの位相回転量との関係を示す図である。なお、比帯域については、圧電層の膜厚や電極の寸法を種々変更し、調整した。また、図３５は、ＺカットのＬｉＮｂＯ_３からなる圧電層を用いた場合の結果であるが、他のカット角の圧電層を用いた場合においても、同様の傾向となる。

　図３５中の楕円Ｊで囲まれている領域では、スプリアスが１．０と大きくなっている。図３５から明らかなように、比帯域が０．１７を超えると、すなわち１７％を超えると、スプリアスレベルが１以上の大きなスプリアスが、比帯域を構成するパラメータを変化させたとしても、通過帯域内に現れる。すなわち、図３４に示す共振特性のように、矢印Ｂで示す大きなスプリアスが帯域内に現れる。よって、比帯域は１７％以下であることが好ましい。この場合には、圧電層２の膜厚や電極３，４の寸法などを調整することにより、スプリアスを小さくすることができる。

　図３６は、ｄ／２ｐと、メタライゼーション比ＭＲと、比帯域との関係を示す図である。上記弾性波装置において、ｄ／２ｐと、ＭＲが異なる様々な弾性波装置を構成し、比帯域を測定した。図３６の破線Ｄの右側のハッチングを付して示した部分が、比帯域が１７％以下の領域である。このハッチングを付した領域と、付していない領域との境界は、ＭＲ＝３．５（ｄ／２ｐ）＋０．０７５で表される。すなわち、ＭＲ＝１．７５（ｄ／ｐ）＋０．０７５である。従って、好ましくは、ＭＲ≦１．７５（ｄ／ｐ）＋０．０７５である。その場合には、比帯域を１７％以下としやすい。より好ましくは、図３６中の一点鎖線Ｄ１で示すＭＲ＝３．５（ｄ／２ｐ）＋０．０５の右側の領域である。すなわち、ＭＲ≦１．７５（ｄ／ｐ）＋０．０５であれば、比帯域を確実に１７％以下にすることができる。

　図３７は、ｄ／ｐを限りなく０に近づけた場合のＬｉＮｂＯ_３のオイラー角（０°，θ，ψ）に対する比帯域のマップを示す図である。図３７において示す、ハッチングを付して示した複数の領域Ｒがそれぞれ、２％以上の比帯域が得られる領域である。なお、オイラー角（φ，θ，ψ）におけるφが０°±５°の範囲内である場合には、θ及びψと比帯域との関係は、図３７に示す関係と同様である。圧電層がタンタル酸リチウム（ＬｉＴａＯ_３）からなる場合においても、オイラー角（０°±５°の範囲内，θ，ψ）におけるθ及びψと、ＢＷとの関係は、図３７に示す関係と同様である。

　従って、圧電層を構成しているニオブ酸リチウムまたはタンタル酸リチウムのオイラー角（φ，θ，ψ）におけるφが０°±５°の範囲内であり、θ及びφが、図３７に示す複数の領域Ｒのいずれかの範囲内であれば、比帯域を十分に広くすることができ、好ましい。

　図３８は、音響多層膜を有する弾性波装置の正面断面図である。

　弾性波装置８１では、圧電層２の第２の主面２ｂに音響多層膜８２が積層されている。音響多層膜８２は、音響インピーダンスが相対的に低い低音響インピーダンス層８２ａ，８２ｃ，８２ｅと、音響インピーダンスが相対的に高い高音響インピーダンス層８２ｂ，８２ｄとの積層構造を有する。音響多層膜８２を用いた場合、弾性波装置１における空洞部９を用いずとも、厚み滑りモードのバルク波を圧電層２内に閉じ込めることができる。弾性波装置８１においても、上記ｄ／ｐを０．５以下とすることにより、厚み滑りモードのバルク波に基づく共振特性を得ることができる。なお、音響多層膜８２においては、その低音響インピーダンス層８２ａ，８２ｃ，８２ｅ及び高音響インピーダンス層８２ｂ，８２ｄの積層数は特に限定されない。低音響インピーダンス層８２ａ，８２ｃ，８２ｅよりも、少なくとも１層の高音響インピーダンス層８２ｂ，８２ｄが圧電層２から遠い側に配置されておりさえすればよい。

　上記低音響インピーダンス層８２ａ，８２ｃ，８２ｅ及び高音響インピーダンス層８２ｂ，８２ｄは、上記音響インピーダンスの関係を満たす限り、適宜の材料で構成することができる。例えば、低音響インピーダンス層８２ａ，８２ｃ，８２ｅの材料としては、酸化ケイ素または酸窒化ケイ素などを挙げることができる。また、高音響インピーダンス層８２ｂ，８２ｄの材料としては、アルミナ、窒化ケイ素または金属などを挙げることができる。

　図３９は、ラム波を利用する弾性波装置を説明するための部分切り欠き斜視図である。

　弾性波装置９１は、支持基板９２を有する。支持基板９２には、上面に開いた凹部が設けられている。支持基板９２上に圧電層９３が積層されている。それによって、空洞部９が構成されている。この空洞部９の上方において圧電層９３上に、ＩＤＴ電極９４が設けられている。ＩＤＴ電極９４の弾性波伝搬方向両側に、反射器９５，９６が設けられている。図３９において、空洞部９の外周縁を破線で示す。ここでは、ＩＤＴ電極９４は、第１，第２のバスバー９４ａ，９４ｂと、複数本の第１の電極指９４ｃ及び複数本の第２の電極指９４ｄとを有する。複数本の第１の電極指９４ｃは、第１のバスバー９４ａに接続されている。複数本の第２の電極指９４ｄは、第２のバスバー９４ｂに接続されている。複数本の第１の電極指９４ｃと、複数本の第２の電極指９４ｄとは間挿し合っている。

　弾性波装置９１では、上記空洞部９上のＩＤＴ電極９４に、交流電界を印加することにより、板波としてのラム波が励振される。そして、反射器９５，９６が両側に設けられているため、上記ラム波による共振特性を得ることができる。

　このように、本発明の弾性波装置は、板波を利用するものであってもよい。なお、図３９に示す例では、図１などに示す圧電層１４の第１の主面１４ａに相当する主面に、ＩＤＴ電極９４、反射器９５及び反射器９６が設けられている。一方で、本発明の弾性波装置では、第１の主面１４ａに１対の櫛形電極が設けられており、第１の主面１４ａまたは第２の主面１４ｂに複数の第３の電極指が設けられている。本発明の弾性波装置が板波を利用するものである場合、第１～第１５の実施形態における圧電層１４の第１の主面１４ａに、上記反射器９５及び反射器９６が設けられていればよい。この場合、平面視したときに、１対の櫛形電極及び複数の第３の電極指を、電極指直交方向において、反射器９５及び反射器９６が挟んでいればよい。

　第１～第１５の実施形態の弾性波装置においては、例えば、支持部材及び圧電膜としての圧電層の間に、音響反射膜としての、図３８に示す音響多層膜８２が設けられていてもよい。具体的には、支持部材の少なくとも一部及び圧電膜の少なくとも一部が、音響多層膜８２を挟み互いに対向するように、支持部材と圧電膜とが配置されていてもよい。この場合、音響多層膜８２において、低音響インピーダンス層と高音響インピーダンス層とが交互に積層されていればよい。音響多層膜８２が、弾性波装置における音響反射部であってもよい。

　厚み滑りモードのバルク波を利用する第１～第１５の実施形態の弾性波装置においては、上記のように、ｄ／ｐが０．５以下であることが好ましく、０．２４以下であることがより好ましい。それによって、より一層良好な共振特性を得ることができる。

　さらに、厚み滑りモードのバルク波を利用する第１～第１５の実施形態の弾性波装置の励振領域においては、上記のように、ＭＲ≦１．７５（ｄ／ｐ）＋０．０７５を満たすことが好ましい。より具体的には、励振領域に対する、第１の電極指及び第３の電極指、並びに第２の電極指及び第３の電極指のメタライゼーション比をＭＲとしたときに、ＭＲ≦１．７５（ｄ／ｐ）＋０．０７５を満たすことが好ましい。この場合には、スプリアスをより確実に抑制することができる。

１…弾性波装置
２…圧電層
２ａ，２ｂ…第１，第２の主面
３，４…電極
５，６…第１，第２のバスバー
７…絶縁層
７ａ…貫通孔
８…支持部材
８ａ…貫通孔
９…空洞部
１０…弾性波装置
１０ａ…空洞部
１１…機能電極
１２…圧電性基板
１３…支持部材
１４…圧電層
１４ａ，１４ｂ…第１，第２の主面
１５…絶縁層
１６…支持基板
１７，１８…第１，第２の櫛形電極
１９…第３の電極
２２，２３…第１，第２のバスバー
２４…接続電極
２５～２７…第１～第３の電極指
２８Ａ，２８Ｂ…質量付加膜
３４…第３のバスバー
３４Ａ，３４Ｂ…第１，第２の接続電極
３４ａ…バー部
３４ｂ…突出部
３７…絶縁膜
３９…第３の電極
４８Ａ，４８Ｂ…質量付加膜
５０…弾性波装置
５４ｃ…貫通孔
８０，８１…弾性波装置
８２…音響多層膜
８２ａ，８２ｃ，８２ｅ…低音響インピーダンス層
８２ｂ，８２ｄ…高音響インピーダンス層
９１…弾性波装置
９２…支持基板
９３…圧電層
９４…ＩＤＴ電極
９４ａ，９４ｂ…第１，第２のバスバー
９４ｃ，９４ｄ…第１，第２の電極指
９５，９６…反射器
２０１…圧電膜
２０１ａ，２０１ｂ…第１，第２の主面
４５１，４５２…第１，第２領域
Ｃ…励振領域
Ｅ…交叉領域
Ｆ…中央領域
Ｇ１～Ｇ５…第１～第５のギャップ領域
Ｈ１，Ｈ２…第１，第２のエッジ領域
Ｒ…領域
ＶＰ１…仮想平面

Claims

　ニオブ酸リチウムからなる圧電層を含む圧電膜と、
　前記圧電層上に設けられており、第１のバスバーと、前記第１のバスバーに一端がそれぞれ接続されている複数の第１の電極指と、を有する第１の櫛形電極と、
　前記圧電層上に設けられており、第２のバスバーと、前記第２のバスバーに一端がそれぞれ接続されており、前記複数の第１の電極指と間挿し合っている複数の第２の電極指と、を有する第２の櫛形電極と、
　平面視したときに、前記第１の電極指及び前記第２の電極指が並ぶ方向において、前記第１の電極指及び前記第２の電極指と並ぶように、それぞれ前記圧電層上に設けられている複数の第３の電極指と、隣り合う前記第３の電極指同士を接続している接続電極と、を有し、前記第１の櫛形電極および前記第２の櫛形電極とは異なる電位に接続される、第３の電極と、
を備え、
　前記第１の櫛形電極及び前記第２の櫛形電極のうち一方が入力電位に接続され、前記第１の櫛形電極及び前記第２の櫛形電極のうち他方が出力電位に接続され、
　前記第１の電極指、前記第２の電極指及び前記第３の電極指が並んでいる順序が、前記第１の電極指から開始した場合において、前記第１の電極指、前記第３の電極指、前記第２の電極指及び前記第３の電極指を１周期とする順序であり、
　前記接続電極が、隣り合う前記第３の電極指の少なくとも前記第１のバスバー側の先端同士を接続しており、前記接続電極が少なくとも前記第１のバスバー及び前記複数の第２の電極指の先端の間に位置しており、
　前記第１の電極指、前記第２の電極指及び前記第３の電極指が延びる方向を電極指延伸方向とし、前記電極指延伸方向と直交する方向を電極指直交方向とし、平面視したときに、前記電極指延伸方向において、前記複数の第２の電極指の先端及び前記接続電極の間に位置しており、前記電極指直交方向に延びている領域が第１のギャップ領域であり、該接続電極及び前記第１のバスバーの間に位置しており、前記電極指直交方向に延びている領域が第２のギャップ領域であり、
　平面視したときに、前記電極指延伸方向において、前記複数の第１の電極指の先端及び前記第２のバスバーの間に位置しており、前記接続電極を含まず、かつ前記電極指直交方向に延びている領域、前記第１のギャップ領域並びに前記第２のギャップ領域のうち少なくともいずれかの、少なくとも一部に質量付加膜が設けられている、弾性波装置。
　複数の前記接続電極が設けられており、前記複数の接続電極のうち一部が、隣り合う前記第３の電極指の前記第２のバスバー側の先端同士を接続しており、
　前記複数の第１の電極指の先端及び前記第２のバスバーの間に位置している領域のうち、平面視したときに、前記電極指延伸方向において、前記複数の第１の電極指の先端及び前記接続電極の間に位置しており、前記電極指直交方向に延びている領域が第３のギャップ領域であり、該接続電極及び前記第２のバスバーの間に位置しており、前記電極指直交方向に延びている領域が第４のギャップ領域である、請求項１に記載の弾性波装置。
　前記第１のギャップ領域及び前記第３のギャップ領域にそれぞれ、前記質量付加膜が設けられている、請求項２に記載の弾性波装置。
　前記第１のギャップ領域、前記第２のギャップ領域、前記第３のギャップ領域及び前記第４のギャップ領域にそれぞれ、前記質量付加膜が設けられている、請求項３に記載の弾性波装置。
　前記接続電極が、隣り合う前記第３の電極指の先端のうち、前記第１のバスバー側の先端同士のみを接続しており、
　平面視したときに、前記電極指延伸方向において、前記複数の第１の電極指の先端及び前記第２のバスバーの間に位置しており、前記電極指直交方向に延びている領域が第５のギャップ領域である、請求項１に記載の弾性波装置。
　前記第１のギャップ領域及び前記第５のギャップ領域にそれぞれ、前記質量付加膜が設けられている、請求項５に記載の弾性波装置。
　前記第１のギャップ領域、前記第２のギャップ領域及び前記第５のギャップ領域にそれぞれ、前記質量付加膜が設けられている、請求項６に記載の弾性波装置。
　前記電極指直交方向において、前記第１の電極指及び前記第２の電極指が重なり合っている領域が交叉領域であり、前記交叉領域が、中央領域と、前記中央領域を前記電極指延伸方向において挟み、互いに対向するように配置されている第１のエッジ領域及び第２のエッジ領域と、を含み、
　前記第１のエッジ領域及び前記第２のエッジ領域にそれぞれ、前記質量付加膜が設けられている、請求項３、４、６または７のいずれか１項に記載の弾性波装置。
　前記電極指延伸方向から見たときに、１つの前記質量付加膜が、前記複数の第１の電極指、前記複数の第２の電極指及び前記複数の第３の電極指と重なるように設けられている、請求項１～８のいずれか１項に記載の弾性波装置。
　前記電極指直交方向において、複数の前記質量付加膜が並んでおり、
　前記電極指延伸方向から見たときに、１つの前記質量付加膜が、前記複数の第１の電極指、前記複数の第２の電極指及び前記複数の第３の電極指のうち１本の電極指と重なるように設けられている、請求項１～８のいずれか１項に記載の弾性波装置。
　前記質量付加膜の材料として、酸化ケイ素、酸化タングステン、酸化ニオブ、酸化タンタル及び酸化ハフニウムからなる群から選択された少なくとも１種の誘電体が用いられている、請求項１～１０のいずれか１項に記載の弾性波装置。
　ニオブ酸リチウムからなる圧電層を含む圧電膜と、
　前記圧電層上に設けられており、第１のバスバーと、前記第１のバスバーに一端がそれぞれ接続されている複数の第１の電極指と、を有する第１の櫛形電極と、
　前記圧電層上に設けられており、第２のバスバーと、前記第２のバスバーに一端がそれぞれ接続されており、前記複数の第１の電極指と間挿し合っている複数の第２の電極指と、を有する第２の櫛形電極と、
　平面視したときに、前記第１の電極指及び前記第２の電極指が並ぶ方向において、前記第１の電極指及び前記第２の電極指と並ぶように、それぞれ前記圧電層上に設けられている複数の第３の電極指と、隣り合う前記第３の電極指同士を接続している接続電極と、を有し、前記第１の櫛形電極および前記第２の櫛形電極とは異なる電位に接続される、第３の電極と、
を備え、
　前記第１の櫛形電極及び前記第２の櫛形電極のうち一方が入力電位に接続され、前記第１の櫛形電極及び前記第２の櫛形電極のうち他方が出力電位に接続され、
　前記第１の電極指、前記第２の電極指及び前記第３の電極指が並んでいる順序が、前記第１の電極指から開始した場合において、前記第１の電極指、前記第３の電極指、前記第２の電極指及び前記第３の電極指を１周期とする順序であり、
　前記接続電極が、隣り合う前記第３の電極指の少なくとも前記第１のバスバー側の先端同士を接続しており、前記接続電極が少なくとも前記第１のバスバー及び前記複数の第２の電極指の先端の間に位置しており、
　前記第１の電極指、前記第２の電極指及び前記第３の電極指が延びる方向を電極指延伸方向とし、前記電極指延伸方向と直交する方向を電極指直交方向とし、平面視したときに、前記電極指延伸方向において、前記複数の第２の電極指の先端及び前記接続電極の間に位置しており、前記電極指直交方向に延びている領域が第１のギャップ領域であり、該接続電極及び前記第１のバスバーの間に位置しており、前記電極指直交方向に延びている領域が第２のギャップ領域であり、
　平面視したときに、前記電極指延伸方向において、前記複数の第１の電極指の先端及び前記第２のバスバーの間に位置しており、前記接続電極を含まず、かつ前記電極指直交方向に延びている領域、前記第１のギャップ領域並びに前記第２のギャップ領域のうち少なくともいずれかにおいて、前記圧電膜に貫通孔が設けられており、
　平面視したときに、前記貫通孔が設けられている領域において、前記第１の電極指、前記第２の電極指及び前記第３の電極指が設けられていない全ての部分に、前記貫通孔が位置している、弾性波装置。
　複数の前記接続電極が設けられており、前記複数の接続電極のうち一部が、隣り合う前記第３の電極指の前記第２のバスバー側の先端同士を接続しており、
　平面視したときに、前記複数の第１の電極指の先端及び前記第２のバスバーの間に位置している領域のうち、前記電極指延伸方向において、前記複数の第１の電極指の先端及び前記接続電極の間に位置しており、前記電極指直交方向に延びている領域が第３のギャップ領域であり、該接続電極及び前記第２のバスバーの間に位置しており、前記電極指直交方向に延びている領域が第４のギャップ領域である、請求項１２に記載の弾性波装置。
　前記第１のギャップ領域及び前記第３のギャップ領域のそれぞれにおいて、前記圧電膜に前記貫通孔が設けられている、請求項１３に記載の弾性波装置。
　前記第１のギャップ領域、前記第２のギャップ領域、前記第３のギャップ領域及び前記第４のギャップ領域のそれぞれにおいて、前記圧電膜に前記貫通孔が設けられている、請求項１４に記載の弾性波装置。
　前記接続電極が、隣り合う前記第３の電極指の先端のうち、前記第１のバスバー側の先端同士のみを接続しており、
　平面視したときに、前記電極指延伸方向において、前記複数の第１の電極指の先端及び前記第２のバスバーの間に位置しており、前記電極指直交方向に延びている領域が第５のギャップ領域である、請求項１２に記載の弾性波装置。
　前記第１のギャップ領域及び前記第５のギャップ領域のそれぞれにおいて、前記圧電膜に前記貫通孔が設けられている、請求項１６に記載の弾性波装置。
　前記第１のギャップ領域、前記第２のギャップ領域及び前記第５のギャップ領域のそれぞれにおいて、前記圧電膜に前記貫通孔が設けられている、請求項１７に記載の弾性波装置。
　厚み滑りモードのバルク波を利用可能に構成されている、請求項１～１８のいずれか１項に記載の弾性波装置。
　前記圧電膜に積層されている支持部材をさらに備え、
　前記支持部材及び前記圧電膜の積層方向に沿って見た平面視において、前記支持部材における、前記複数の第１の電極指、前記複数の第２の電極指及び前記複数の第３の電極指と重なる位置に音響反射部が形成されており、
　隣り合う前記第１の電極指及び前記第３の電極指の中心間距離、並びに、隣り合う前記第２の電極指及び前記第３の電極指の中心間距離のうち、最も長い距離をｐとした場合において、前記圧電膜の厚みをｄとした場合、ｄ／ｐが０．５以下である、請求項１～１８のいずれか１項に記載の弾性波装置。
　ｄ／ｐが０．２４以下である、請求項２０に記載の弾性波装置。
　前記音響反射部が空洞部であり、前記支持部材の一部及び前記圧電膜の一部が、前記空洞部を挟み互いに対向するように、前記支持部材と前記圧電膜とが配置されている、請求項２０または２１に記載の弾性波装置。
　前記音響反射部が、相対的に音響インピーダンスが高い高音響インピーダンス層と、相対的に音響インピーダンスが低い低音響インピーダンス層と、を含む、音響反射膜であり、前記支持部材の少なくとも一部及び前記圧電膜の少なくとも一部が、前記音響反射膜を挟み互いに対向するように、前記支持部材と前記圧電膜とが配置されている、請求項２０または２１に記載の弾性波装置。
　隣り合う前記第１の電極指及び前記第３の電極指が、前記電極指直交方向において重なり合っている領域であり、かつ隣り合う前記第１の電極指及び前記第３の電極指の中心間の領域、並びに、隣り合う前記第２の電極指及び前記第３の電極指が、前記電極指直交方向において重なり合っている領域であり、かつ隣り合う前記第２の電極指及び前記第３の電極指の中心間の領域が励振領域であり、
　前記励振領域に対する、前記第１の電極指及び前記第３の電極指、並びに前記第２の電極指及び前記第３の電極指のメタライゼーション比をＭＲとしたときに、ＭＲ≦１．７５（ｄ／ｐ）＋０．０７５を満たす、請求項２０～２３のいずれか１項に記載の弾性波装置。
　前記圧電層を構成しているニオブ酸リチウムのオイラー角（φ，θ，ψ）が、以下の式（１）、式（２）または式（３）の範囲にある、請求項１～２４のいずれか１項に記載の弾性波装置。
　（０°±１０°の範囲内，０°～２５°，任意のψ）　　…式（１）
　（０°±１０°の範囲内，２５°～１００°，０°～７５°［（１－（θ－５０）^２／２５００）］^１／２　または　１８０°－７５°［（１－（θ－５０）^２／２５００）］^１／２～１８０°）　　…式（２）
　（０°±１０°の範囲内，１８０°－４０°［（１－（ψ－９０）^２／８１００）］^１／２～１８０°，任意のψ）　　…式（３）