WO2020111014A1

WO2020111014A1 - ナノファイバシート、その使用方法、及びその製造方法

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Publication number: WO2020111014A1
Application number: PCT/JP2019/046040
Authority: WO
Inventors: 卓池山; 小林　英男; 東城　武彦; 斉藤　公二; 玉亭楊; 俊逸米内山; 郁夫福田
Original assignee: Kao Corp
Current assignee: Kao Corp
Priority date: 2018-11-26
Filing date: 2019-11-25
Publication date: 2020-06-04
Anticipated expiration: 2021-05-26
Also published as: US20220024172A1; KR20210076142A; KR102366887B1; EP3888491A4; TW202033345A; EP3888491A1; US11679578B2; CN113163931A; TWI831875B; BR112021010211A2; CN113163931B

Abstract

ナノファイバシート（１０）は、基材層（１２）と、該基材層（１２）の一方の面側に配された高分子化合物のナノファイバを含むナノファイバ層（１１）とを備えている。ナノファイバ層（１１）は、その周縁端（１７）の厚みが０．１μｍ以上１０μｍ以下であり、且つ該周縁端（１７）から内方に向かって漸次厚みが増加するグラデーション領域（Ｇ）を有している。ナノファイバ層の周縁端（１７）と、グラデーション領域（Ｇ）において厚みが最大となる最大厚み部（１５）との間隔Ｗ１が３ｍｍ以上である。　ナノファイバシートの製造方法は、ノズル及び捕集部の少なくとも一方を移動させながら、ナノファイバを捕集部上に堆積させることにより、グラデーション領域（Ｇ）を有する所定のナノファイバシートを製造する。

Description

ナノファイバシート、その使用方法、及びその製造方法

　本発明は、ナノファイバシート、その使用方法、及びその製造方法に関する。

　肌に貼り付けて、シミや皺を隠蔽する化粧用シートとして、電界紡糸法（エレクトロスピニング法）によって、ナノサイズの直径の繊維（以下、繊維ともいう）を堆積させた繊維シートが知られている。例えば、特許文献１には、親水化処理された基材シートと、ナノファイバシートと、カバーシートを具備する化粧用シートが記載されている。また、特許文献２には、糊となる成分を配合した美容液をしみこませたナノファイバ不織布からなる化粧用シートが記載されている。

　前記ナノファイバシートの製造方法として、特許文献３には、噴射装置をジグザグに移動させながら、高電圧を印加した吐出口から高分子溶液を吐出させてナノファイバを堆積させる、ナノファイバシートの製造方法が記載されている。また、特許文献４には、捕集シートの端部の外側に降り注いだナノファイバが、捕集シートの裏面側の一部に電気的に吸着される位置にナノファイバのノズルを位置させる製造方法が記載されている。特許文献４によれば、前記製造方法によってナノファイバを捕集シートの裏面側まで回り込むように堆積させたシートが得られることが記載されている。また、特許文献５には、電界紡糸法により得られたナノファイバ不織布の幅方向の端部を除去する端面処理手段を備える製造方法が記載されている。特許文献５によれば、端部まで一定の厚みを有するナノファイバシートを製造することができる。

　また、特許文献６には、ノズルの先端を、円を描くように移動させながらポリウレタン樹脂溶液を吐出させ、直線的に移動し且つ回転するコレクタに、該ポリウレタン樹脂溶液を集積する、ポリウレタンナノファイバー不織布の製造方法が記載されている。更に、特許文献７には、吐出手段を、それと対向配置された捕集面に対して平行な平面内で往復移動させながら、原料液を吐出させる、ナノファイバ膜の製造方法が記載されている。

国際公開２０１４／１２５４０７号特開２０１３－２８５５２号公報特開２００８－１９６０６１号公報特開２０１１－８４８４２号公報特開２０１３－２２７６８８号公報特開２００９－１０８４２２号公報特開２０１１－０８４８４１号公報

　本発明は、基材層と、該基材層の一方の面側に配された高分子化合物のナノファイバを含むナノファイバ層とを備えるナノファイバシートに関する。
　前記ナノファイバ層は、その周縁端の厚みが０．１μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましい。
　前記ナノファイバ層は、その周縁端から内方に向かって漸次厚みが増加するグラデーション領域を３ｍｍ以上有していることが好ましい。

　また、本発明は、前記ナノファイバシートの使用方法に関する。
　前記使用方法は、対象物の表面に前記ナノファイバ層を当接させ、且つ該ナノファイバ層を湿潤させた状態で使用することが好ましい。

　また、本発明は、基材層と、該基材層の一方の面に配置された極薄シートとを備える積層シートに関する。
　前記極薄シートは厚み５．１μｍ以上５００μｍ以下であることが好ましい。
　前記極薄シートは、該極薄シートが適用される被適用部位に応じた輪郭形状を有していることが好ましい。
　前記極薄シートは、その周縁端から内方に向かって厚みが漸次増加するテーパー状の周縁領域を有していることが好ましい。
　前記基材層は、前記極薄シートの前記周縁端から外方に向かって延出する領域を有していることが好ましい。

　また、本発明は、対向電極との間に高電圧を印加したノズルから原料液を吐出させ、電界紡糸法により該原料液から生じたナノファイバを捕集部上に堆積させる、ナノファイバシートの製造方法に関する。
　前記製造方法は、前記ノズル及び前記捕集部の少なくとも一方を移動させながら、前記ナノファイバを前記捕集部上に堆積させることが好ましい。
　前記製造方法は、周縁端から内方に向かって漸次厚みが増加するグラデーション領域を有する所定のナノファイバシートを製造することが好ましい。

　また、本発明は、原料液（紡糸液）を吐出するノズルと、該ノズルと対向するように配され、該ノズルとの間に電界を生じさせる対向電極と、前記原料液を電気的に延伸して生成したナノファイバを集積する捕集部と、前記ノズル及び前記捕集部の少なくとも一方を移動させる機構とを具備するナノファイバシートの製造装置に関する。
　前記製造装置は、制御部内に入力された移動軌道のデータに基づき、前記ノズル及び前記捕集部の少なくとも一方を移動させながら、前記ナノファイバを前記捕集部上に堆積させることが可能になされていることが好ましい。
　前記製造装置は、前記制御部に、軌道計算工程で決定された移動軌道のデータが、入力されているか又は入力可能になされていることが好ましい。

　更に本発明は、ノズルから原料液を吐出させ、該原料液から生じた繊維又は粒子を捕集部上に堆積させて極薄シートを製造する、極薄シートの製造方法に関する。
　極薄シートはその厚さが５．１μｍ以上５００μｍ以下であることが好ましい。
　極薄シートの製造方法は、目的とする前記極薄シートの輪郭形状に関する情報に基づいて、前記ノズル及び前記捕集部の少なくとも一方を移動させながら、該極薄シートの輪郭形状の範囲内に前記原料液を吐出する目的形状形成工程を備えることが好ましい。
　前記目的形状形成工程においては、前記輪郭形状の周縁端から内方に向かって漸次厚みが増加する、幅５ｍｍ以内のテーパー状の周縁領域が形成されるように、前記原料液を吐出することが好ましい。

図１は、本発明のナノファイバシートの一実施形態を模式的に示す平面図である。図２は、図１のＩＩ－ＩＩ線断面図である。図３は、図１に示すナノファイバシートの斜視図である。図４は、図２に示すグラデーション領域の傾斜角度を説明する模式図である。図５は、本発明のナノファイバシートの別の実施形態を模式的に示す図２相当図である。図６は、本発明のナノファイバシートの更に別の実施形態を模式的に示す図２相当図である。図７は、本発明のナノファイバシートの更に別の実施形態を模式的に示す図２相当図である。図８は、図１に示すナノファイバシートの使用方法を説明する模式図である。図９は、本発明のナノファイバシートの製造方法に用いられるナノファイバシートの製造装置の一実施形態を示す斜視図である。図１０は、本発明のナノファイバシートの製造方法によって形成されるナノファイバの堆積体を示す平面図（ａ）と、該平面図のＩＩ－ＩＩ線断面図（ｂ）である。図１１は、堆積工程における第１工程及び第２工程によって形成された第１堆積領域及び第２帯状堆積領域を示す平面図（ａ）と、該平面図のＩＩＩ－ＩＩＩ線断面図（ｂ）である。図１２は、図１に示すナノファイバシートを形成するための移動軌道を示す平面図である。図１３は、計算Ｊ３における条件（１）及び（２）を説明する図である。図１３（ａ）は、条件（１）を満たさない態様を示す模式図であり、図１３（ｂ）は、条件（１）及び（２）を満たす態様を示す模式図であり、図１３（ｃ）は、条件（１）を満たすが、条件（２）を満たさない態様を示す模式図である。図１４は、図１３に示す移動軌道を計算するため処理フローの一例を示すフローチャートである。図１５は、図１に示すナノファイバシートを形成するための別の移動軌道を示す平面図である。図１６は、本発明のナノファイバシートを製造する製造装置の別の実施形態を示す斜視図である。図１７は、本発明のナノファイバシートを製造する製造装置の更に別の実施形態を示す斜視図である。図１８は、本発明のナノファイバシートの製造装置に用いられるカートリッジ部の斜視図である。図１９は、図１８に示すカートリッジ部の分解斜視図である。図２０は、本発明のナノファイバシートの製造装置の更に別の実施形態を示す斜視図である。図２１は、本発明のナノファイバシートの製造装置の更に別の実施形態を示す斜視図である。図２２は、参考例におけるナノファイバ層の断面輪郭曲線を示すグラフである。図２３は、グラデーション領域の特定方法の一例を示す平面図である。

発明の詳細な説明

　化粧用シートを肌に貼り付けると、該化粧用シートを視認できることがあり、化粧用シートの存在が認識されてしまうことがある。特に化粧用シートを肌に貼り付けた後、該化粧用シートの上からファンデーション等の化粧料を付着させた場合、化粧用シートの存在が際立ち、自然な見た目に仕上げることが困難であった。
　特許文献１及び２の化粧用シートは、肌に貼付すると、該化粧用シートが視認され得るため、自然な見た目に仕上げる点が不十分であった。特許文献３～７は、肌に貼付されたナノファイバシートを視認され難くする技術を開示していない。

　したがって本発明は、従来技術の欠点を解消し得るナノファイバシート、その使用方法及びその製造方法、並びにナノファイバシートの製造装置に関する。

　以下本発明を、その好ましい実施形態に基づき図面を参照しながら説明する。図１～図３に、本発明のナノファイバシートの一実施形態を示す。
　ナノファイバシート１０は、図１に示すように、基材層１２と、高分子化合物のナノファイバを含むナノファイバ層１１とを備えている。ナノファイバ層１１の一方の面には基材層１２が配置されている。本実施形態においてナノファイバ層１１と基材層１２とは隣接して配置されている。

　ナノファイバシート１０におけるナノファイバ層１１は、高分子化合物のナノファイバを含む層である。本明細書においてナノファイバとは、その太さを円相当直径で表した場合、一般に１０ｎｍ以上３０００ｎｍ以下、特に１０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下のものである。ナノファイバの太さは、例えば走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）観察によって、繊維を１００００倍に拡大して観察し、その二次元画像から欠陥（ナノ繊維の塊、ナノ繊維の交差部分、ポリマー液滴）を除いた繊維を任意に１０本選び出し、繊維の長手方向に直交する線を引き繊維径を直接読み取ることで測定することができる。

　本実施形態のナノファイバ層１１は、図２に示すように、基材層１２が位置する側とは反対側の面に起伏を有している一方、基材層１２と対向する面は平坦である。以下、ナノファイバ層１１における、基材層１２が位置する側とは反対側の面を第１面Ｓ１、基材層１２と対向する面を第２面Ｓ２という。本実施形態のナノファイバ層１１は、図２に示すように、第１面Ｓ１側が内方に向かって隆起した構造を有している。なお、ナノファイバ層１１は非常に薄いものであるが、説明の便宜上、図２及び図３においてはナノファイバ層１１が非常に大きく描かれている。

　ナノファイバ層１１の周縁端１７は、平面視においてナノファイバ層１１の輪郭を成している。本実施形態において前記周縁端１７は、ナノファイバ層１１において最も厚みが最小となることが好ましい。
　ナノファイバ層１１は、その周縁端１７の厚みＤ１が０．１μｍ以上１０μｍ以下である。ナノファイバ層１１において、その周縁端１７の厚みＤ１が位置によって異なっている場合、該周縁端１７の厚みの最小値及び最大値が上記の範囲内であることが好ましい。
　前記周縁端１７の厚みＤ１（図２参照）は、好ましくは０．３μｍ以上、より好ましくは０．５μｍ以上であり、また１０μｍ以下、好ましくは９μｍ以下、より好ましくは８μｍ以下であり、また好ましくは０．３μｍ以上９μｍ以下、より好ましくは０．５μｍ以上８μｍ以下である。前記の周縁端１７の厚みＤ１は、以下の〔ナノファイバ層の三次元形状の測定方法〕により、測定することができる。

〔ナノファイバ層の三次元形状の測定方法〕
　ナノファイバ層１１の周縁端１７の厚みＤ１は、ナノファイバ層の第１面の表面の三次元形状を、レーザー式三次元形状測定システム（例えば、コムス社製、測定システムＥＭＳ２００２ＡＤ－３Ｄ、及びキーエンス社製　変位センサＬＫ－２０００の組合せ）を用いることによって、測定される。先ず、基材層をオートステージ上に載置してナノファイバシートをセットする。次いで、オートステージをＸ軸方向に移動させながら、レーザー変位計を走査させ、所定の計測ピッチＸ_Ｐでナノファイバ層の第１面の表面の高さを計測する。そして、オートステージをＸ軸と直交するＹ軸方向に、計測ピッチＹ_Ｐでずらして、オートステージをＸ軸方向に移動させながら、レーザー変位計を走査させ、所定の計測ピッチＸ_Ｐでナノファイバ層の第１面の表面の高さを計測する動作を繰り返すことにより、ナノファイバ層の第１面の表面形状データを得る。Ｘ軸方向の計測ピッチは０．２３５ｍｍとし、Ｙ軸方向の計測ピッチＹ_Ｐは０．３５０ｍｍとし、高さ（Ｚ軸）方向の分解能は０．１μｍとする。また、測定範囲は、平面視、即ちＸ軸方向及びＹ軸方向においてナノファイバ層全体が含まれる範囲とし、対象物に応じて計測ピッチは適宜変更しても差し支えない。以上の測定を無荷重下にて行う。そして、測定された三次元形状データに基づいて、ナノファイバ層における周縁端の厚みの測定を行う。以下に前記周縁端との厚みの測定方法の詳細を説明する。特に断らない限り、以下の説明において「厚み」は、三次元形状データに基づいて測定した値のことを意味する。

〔周縁端の厚みの測定方法〕
　先ず、平面視におけるナノファイバ層の輪郭形状を表す平面輪郭線を求める。平面輪郭線は、前記三次元形状データに基づいて取得してもよく、顕微鏡等を用いたナノファイバの拡大観察によって取得してもよい。ナノファイバを含むナノファイバ層は、表面から飛び出した繊維が存在すること、及び局所的に繊維の少ない部分や多い部分が形成されていることが一般的であるので、前記三次元形状データに基づいて得られる厚み等の測定値を位置ごとにプロットしたグラフ、具体的には平面輪郭線や後述する断面輪郭線又は８０％厚み等高線がノイズを含んでいることがある。斯かるノイズを除去する観点から、平面輪郭線、断面輪郭線又は８０％厚み等高線に対し、多項近似式による近似曲線化処理を行う。当該処理により複数の近似曲線が得られる場合は、三次元形状データに最も近い近似曲線を選択する。次いで、平面輪郭線を近似曲線化した平面輪郭曲線を三次元形状データに対応させ、該三次元形状データにおけるナノファイバ層の周縁端を特定し、該周縁端の厚みを測定する。

　なお簡易的には、ナノファイバ層１１の周縁端１７の厚みＤ１は、接触式の膜厚計〔例えば、ミツトヨ社製ライトマチックＶＬ－５０Ａ（Ｒ５ｍｍ超硬球面測定子）〕を使用することによって測定することもできる。測定時に測定対象に加える荷重は０．０１Ｐａとする。

　ナノファイバ層１１は、その周縁端１７から内方に向かって漸次厚みが増加するグラデーション領域Ｇを有している。グラデーション領域Ｇは、周縁端１７から内方に向かって隆起している領域であり、ナノファイバ層１１の周縁端１７を含んでいる。グラデーション領域Ｇは、ナノファイバ層１１の第１面Ｓ１を平面視したとき、後述する内方領域Ｍの輪郭の中央線ＣＬに直交する直交線に沿う断面において、該内方領域Ｍに向かって傾斜している領域である（図２参照）。即ち、前記断面においてナノファイバ層１１の表面が傾斜している領域である。前記直交線に沿う断面は、例えば、図１におけるＩＩ－ＩＩ線断面である。このような断面は、前述した三次元形状データに基づいて求められる。グラデーション領域の特定方法について以下に詳述する。

〔グラデーション領域の特定方法〕
　先ず、前記三次元形状データにおいて、厚みが最大となる位置を頂点位置として特定し、該頂点位置におけるナノファイバ層の厚みを求める。次いで、前記三次元形状データに基づき、厚みが頂点位置の厚みの８０％となる領域の輪郭を示す等高線（以下、「８０％厚み等高線」ともいう）を求め、該等高線の位置を、前記平面輪郭曲線とともに前記三次元形状データに反映させる。例えば、図２３に示すように、前記三次元形状データに平面輪郭曲線Ｃ０及び８０％厚み等高線Ｃ８０を反映させる。この８０％厚み等高線は、前述した近似曲線化処理を行ったものを用いる。次いで、平面輪郭曲線上の任意の位置を第１のポイントとし、該平面輪郭曲線の周長を１０等分する第１～第１０のポイントを該平面輪郭曲線上に設定する。図２３に示す符号Ｎ１～Ｎ１０は、第１～第１０ポイントの一例である。次いで、第１～第１０のポイントそれぞれにおいて、前記三次元形状データにおけるナノファイバ層の断面輪郭線を求める。断面輪郭線は、平面視において平面輪郭曲線上の第１～第１０のポイントそれぞれと前記８０％等高線とを最短距離で結ぶ線分に沿って、前記三次元形状データのナノファイバ層を切断したときの断面の輪郭線である。次いで、第１～第１０のポイントそれぞれにおける断面輪郭線に対し、前述した近似曲線化処理を行い、断面輪郭曲線を取得する。次いで、得られた各断面輪郭曲線に、これと対応する第１～第１０のポイントの位置を反映させて、断面輪郭曲線におけるナノファイバ層の周縁端の位置を特定する。次いで、得られた各断面輪郭曲線において、周縁端からナノファイバ層の内方に向かって漸次厚みが増加する領域であって、その幅が３ｍｍ以上の傾斜領域を特定する。当該幅は、断面輪郭曲線における、周縁端から頂点位置までの長さ、又は周縁端から後述する最大厚み部までの長さである。また、断面輪郭曲線において漸次厚みが増加するパターンとしては、例えば直線状に増加するパターンや、シグモイド曲線や指数関数曲線等のように曲線状に増加するパターン、多段的に増加するパターン等が挙げられる。そして、第１～第１０のポイントのうち、前記傾斜領域を有する断面輪郭曲線が確認されたポイントの数を計測する。計測した傾斜領域を有する断面輪郭曲線のポイント数を「ｎ」としたとき、「（ｎ／１０）×１００（％）」により、第１～第１０のポイントの合計１０箇所に対する、傾斜領域を有する断面輪郭曲線の数の割合（％）を求めることができる。即ち、ナノファイバ層の周縁全長に対してグラデーション領域を何％有しているのかを判断することができる。例えば、第１～第１０のポイントのうち、５箇所で前記傾斜領域を有する断面輪郭曲線が確認された場合、測定対象のナノファイバ層は、該ナノファイバ層の周縁全長に対しグラデーション領域を５０％有するものと判断することができる。
　後述するグラデーション領域Ｇにおける最大厚み部１５の厚みや傾斜角度等といった、グラデーション領域Ｇ及び内方領域Ｍの各寸法は、特に断りがない限り、前記傾斜領域を有する各ポイントの断面輪郭曲線から求められる測定値の算術平均値とする。

　本実施形態におけるナノファイバ層１１は、前記グラデーション領域Ｇと、該グラデーション領域Ｇに囲まれた内方領域Ｍとを有している。本実施形態のナノファイバ層１１は、図２に示すように、グラデーション領域Ｇの厚みが一方向に向かって漸次増加しているのに対し、内方領域Ｍにおける厚みは実質的に一定である。したがって内方領域Ｍは、位置によって厚みが若干異なっていることが許容される。例えば平均厚みに対して±２５％程度の範囲で厚みが異なることが許容される。本実施形態において内方領域Ｍの厚みと、グラデーション領域Ｇの最大厚み部１５の厚みＤ３（図２参照）とは同じ厚みである。グラデーション領域Ｇの最大厚み部１５とは、グラデーション領域Ｇの厚みが最大となる部分であり、グラデーション領域Ｇの内方端、本実施形態においては内方領域Ｍ側の端である。内方領域Ｍは、ナノファイバ層１１の頂点位置における厚みに対する厚みが、好ましくは８０％以上の領域、より好ましくは９０％以上の領域である。内方領域Ｍは、前述の断面輪郭曲線に基づいて特定できる。ナノファイバ層１１は、本実施形態のようにグラデーション領域Ｇと内方領域Ｍとを有するものであってもよく、内方領域を有さずに周縁端と頂点位置との間にグラデーション領域のみを有するものであってもよい。

　製造性と取り扱い性の観点から、平面視におけるナノファイバ層１１の最大長は、５００ｍｍ以下であることが好ましく、３００ｍｍ以下であることがより好ましく、１５０ｍｍ以下であることがさらに好ましい。上記と同様の観点から、平面視におけるナノファイバ層１１の最大長は１０ｍｍ以上であることが好ましい。前記「最大長」は、平面視におけるナノファイバ層１１の最大差し渡し長さである。

　ナノファイバ層１１を対象物の表面に付着させる付着性をより向上させる観点から、ナノファイバ層１１の周縁全長を１００％とした場合、該周縁全長のうち、グラデーション領域Ｇが存在する部分の合計長さは６０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましく、９０％以上であることがより好ましく、１００％であることがさらに好ましい。上記と同様の観点から、ナノファイバ層１１の周縁全長に亘ってグラデーション領域Ｇが存在していることが好ましい。
　ナノファイバ層１１の周縁全長に対するグラデーション領域Ｇが存在する部分の合計長さの割合は、測定の便宜上、前述した〔グラデーション領域の特定方法〕で求めた第１～第１０のポイントの合計１０箇所に対する、傾斜領域を有する断面輪郭曲線の数の割合（％）として算出することができる。例えば、傾斜領域を有する断面輪郭曲線の数が「６」である場合、ナノファイバ層１１の周縁全長に対するグラデーション領域Ｇが存在する部分の合計長さは「６０％」となる。

　ナノファイバシート１０の厚み方向に沿う断面において、内方領域Ｍは、その幅Ｗ２（図２参照）が２００ｍｍ以下であり、好ましくは１５０ｍｍ以下である。内方領域Ｍの幅Ｗ２は、前記断面におけるグラデーション領域Ｇの最大厚み部１５間の距離である。本実施形態におけるナノファイバシート１０は、ナノファイバ層１１に内方領域Ｍを有しているが、ナノファイバシート１０は、内方領域Ｍを有していなくともよい。即ち、ナノファイバシート１０は、前記断面におけるグラデーション領域Ｇの最大厚み部１５間の距離Ｗ２が実質０ｍｍであり、周縁端１７から頂点位置に向かって厚み漸次増加するグラデーション領域のみを有するものであってもよい。この場合、グラデーション領域Ｇの内方端である最大厚み部が頂点位置となる。

　ナノファイバ層１１は、その周縁端１７と、グラデーション領域Ｇの最大厚み部１５との間隔Ｗ１が３ｍｍ以上である。ナノファイバ層の周縁端１７と、前記最大厚み部１５との間隔Ｗ１は、周縁端１７からグラデーション領域Ｇの厚みが最大となる部分までの離間距離であり、グラデーション領域Ｇの幅である。即ち、ナノファイバ層１１は、グラデーション領域Ｇを３ｍｍ以上有している。ナノファイバ層１１において周縁端１７と、前記最大厚み部１５との間隔Ｗ１、あるいは該周縁端１７と頂点位置との間隔Ｗ１が、ナノファイバ層１１周縁の位置によって異なっている場合、前記間隔Ｗ１の最小長さが３ｍｍ以上であればよい。前述したように、ナノファイバ層１１における、周縁端１７と頂点位置との間隔、あるいは周縁端１７と前記最大厚み部１５との間隔を、グラデーション領域Ｇの幅Ｗ１ともいう。

　ナノファイバシート１０は、基材層１２を剥離し、ナノファイバ層１１を、肌等の対象物に貼付して使用する。
　ナノファイバシート１０は、グラデーション領域Ｇを有するナノファイバ層１１の周縁端の厚みを０．１μｍ以上１０μｍ以下とし、グラデーション領域Ｇの幅Ｗ１を３ｍｍ以上とすることにより、肌等の対象物に貼付した状態において、ナノファイバ層１１の外縁が目立たず、該ナノファイバ層１１を視認し難いものとなる。このようなナノファイバシート１０のナノファイバ層１１を肌に貼付することにより、例えば、肌のシミや皺を効果的に隠蔽することができ、しかもナノファイバ層１１の存在が認識され難い。また、肌に貼付したナノファイバ層１１の上からファンデーション等の化粧料を付着させても、ナノファイバ層１１の外縁（周縁端）が目立ち難く、肌に馴染んだ見た目となり、自然な仕上がりとなる。

　他方、厚みが一定のナノファイバ層からなる化粧用シートを貼付すると、該化粧用シートの外縁が目立ち、該化粧用シートの存在が容易に認識されてしまうことがあり、また肌に貼付した前記化粧用シートの上からファンデーション等の化粧料を付着させると、前記外縁が一層目立つとともに、肌とは異なる色味を呈することがあり、前記化粧用シートを視認し易くなる。また、ナノファイバ層の最大厚みが小さいほど、シミや皺を隠蔽する効果が得られ難くなる。

　シミや皺を隠蔽する効果をより確実に奏させる観点から、グラデーション領域Ｇにおける最大厚み部１５の厚みＤ３は、好ましくは５．１μｍ以上、より好ましくは１０μｍ以上であり、また好ましくは５００μｍ以下、より好ましくは４００μｍ以下、さらに好ましくは１００μｍ以下であり、また好ましくは５．１μｍ以上５００μｍ以下、より好ましくは１０μｍ以上４００μｍ以下、さらに好ましくは１０μｍ以上１００μｍ以下である。
　また、上記と同様の観点から、ナノファイバ層１１の頂点位置における厚みは、前記最大厚み部１５の厚みＤ３の好ましい範囲内であることが好ましい。

　上述したようにグラデーション領域Ｇは、ナノファイバシート１０の厚み方向Ｚに沿う断面において傾斜している。肌に貼付したナノファイバ層１１をより目立ち難くする観点から、グラデーション領域Ｇの傾斜角度θ（図４参照）は、好ましくは０．００１°以上、より好ましくは０．００２°以上であり、また好ましくは１０°以下、より好ましくは８°以下であり、また好ましくは０．００１°以上１０°以下、より好ましくは０．００２°以上８°以下である。グラデーション領域Ｇの傾斜角度θは、前記直交線に沿う断面において、ナノファイバ層の周縁端１７及びグラデーション領域Ｇの最大厚み部１５を結ぶ仮想直線Ｌｐの水平面に対する傾斜角度である（図４参照）。前記の傾斜角度θはグラデーション領域Ｇにおける最大厚み部１５の厚みＤ３、グラデーション領域Ｇの幅Ｗ１、及びナノファイバ層１１の周縁端１７と最大厚み部１５との厚みの差Ｄ２から換算することができる。前記周縁端１７及び前記最大厚み部１５は、前述した〔周縁端の厚みの測定方法〕及び〔グラデーション領域の特定方法〕により特定することができる。

　肌のシミや皺の隠蔽効果を向上させ、且つナノファイバ層をより目立たなくさせる観点から、グラデーション領域Ｇにおける最大厚み部１５の厚みＤ３（図２参照）の周縁端１７の厚みＤ１に対する比率（Ｄ３／Ｄ１）は、５０００以下であることが好ましく、４０００以下であることが更に好ましい。例えば５０以上であることが好ましく、１００以上であることが更に好ましい。また、５０以上５０００以下であることが好ましく、１００以上４０００以下であることが更に好ましい。
　また、上記と同様の観点から、ナノファイバ層１１の頂点位置における厚みは、周縁端１７の厚みＤ１に対する比率が、前記Ｄ３／Ｄ１の好ましい範囲内であることが好ましい。

　上記と同様の観点から、グラデーション領域Ｇにおける周縁端１７と最大厚み部１５との厚みの差Ｄ２（図２参照）は、好ましくは５μｍ以上、より好ましくは１０μｍ以上であり、また好ましくは５００μｍ以下、より好ましくは４００μｍ以下であり、また好ましくは５μｍ以上５００μｍ以下、より好ましくは１０μｍ以上４００μｍ以下である。グラデーション領域Ｇの最大厚み部１５は、グラデーション領域の内方端、即ち前記傾斜領域の内方端である。グラデーション領域Ｇの内方端と周縁端との厚みの差は、同領域Ｇの周縁端１７と最大厚み部１５との厚みの差Ｄ２に相当する。

　ナノファイバ層の肌への貼付性を向上させる観点から、ナノファイバ層１１の平面視形状が、曲率が異なる複数の曲線部分を輪郭に含む形状、複数の直線部分を輪郭に含む形状、又は該曲線部分と該直線部分とを輪郭に含む形状であることが好ましい。例えば、曲率が異なる複数の曲線部分を輪郭に含む形状としては、平面視形状が、楕円形等の曲率が複数種類の曲線部分を含む形状や、曲率の異なる複数の曲線部分が凹凸を形成する形状（図１参照）等が挙げられる。また、複数の直線部分を輪郭に含む形状としては、平面視形状が矩形、三角形、四角形、六角形等の多角形状や、矢印形、星形等が挙げられる。更に、曲線部分と直線部分とを輪郭に含む形状としては、扇形、涙形、半円形、ハート形等が挙げられる。このような形状のナノファイバ層１１は、顔等のような複雑な形状に追従し易く、貼付し易い。

　前記貼付性をより向上させる観点から、平面視におけるナノファイバ層１１の輪郭線は、該輪郭線の全長のうちの半分超の長さの部分が曲線によって構成されていることが好ましい。この場合、対象物の表面に対するナノファイバ層１１の追従性をより向上させる観点から、平面視におけるナノファイバ層１１の輪郭線は、該輪郭線の全長のうち、好ましくは６０％以上、より好ましくは７０％以上、さらに好ましくは８０％以上の長さの部分が曲線によって構成されており、該輪郭線の全長が曲線によって構成されていることがさらに一層好ましい。前記平面視におけるナノファイバ層１１の輪郭線は、前述の〔周縁端の厚みの測定方法〕における平面輪郭曲線により特定することができる。

　基材層１２とはナノファイバシートの保形性を維持可能な層であり、単一の層であってもよく、多層であってもよい。
　基材層１２としては、例えばポリオレフィン系の樹脂やポリエステル系の樹脂を始めとする合成樹脂製のフィルムや、不織布等の繊維シートを用いることができる。基材層１２を、ナノファイバ層１１に対して剥離可能に積層する場合には、フィルムにおけるナノファイバ層１１との対向面に、シリコーン樹脂の塗布やコロナ放電処理などの剥離処理を施しておくことが、剥離性を高める観点から好ましい。また、剥離性を高める観点から、合成樹脂製のフィルム等を基材層１２として用いる場合、該フィルムの表面に、粉又は粒を散布させて形成される粉又は粒の層を設けることが好ましい。

　本実施形態のナノファイバシート１０は、使用前はナノファイバ層１１と基材層１２とが一体化しているが、使用時にナノファイバ層１１と基材層１２とを層間剥離させて、基材層１２を取り除く。ナノファイバ層１１と基材層１２とを剥離する作業性を向上させる観点から、基材層１２は通気性を有していることが好ましい。これにより、ナノファイバ層１１と基材層１２との間に空気が入り、ナノファイバ層１１と基材層１２とを剥離し易くすることができる。

　通気性を有する基材層１２としては、繊維シート、スポンジを用いることが好ましい。具体的には繊維シートは、各種の不織布、織布、編み地、紙、メッシュシート及びそれらの積層体などである。不織布としては、例えばメルトブローン不織布、スパンボンド不織布、エアスルー不織布及びスパンレース不織布などを用いることができるが、これらに限られない。これらの不織布やメッシュシートを構成する繊維ないしストランドは、その太さが、ナノファイバの範疇であってもよく、あるいはそれよりも太いものであってもよい。また、繊維としては、繊維形成性の合成樹脂からなる繊維や、コットン及びパルプなどのセルロース系の天然繊維を用いることができる。スポンジは、具体的には合成樹脂又は天然樹脂を発砲させた多孔性材料、例えば発泡樹脂からなるものである。合成樹脂又は天然樹脂としては、例えばウレタン、ポリエチレン、メラミン、天然ゴム、クロロプレンゴム、エチレンプロピレンゴム、ニトリルゴム、シリコーンゴム、フッ素ゴムなどを用いることができるが、これらに限られない。発泡樹脂は通気性を有する形態を形成し得るものであれば、種々の材料を用いることができる。
　ナノファイバ層１１を肌に容易に貼付する観点から、基材層１２は不織布であることが好ましい。

　ナノファイバ層１１に隣接して配置されている基材層１２は、ナノファイバの繊維径よりも大きな幅の複数の凹部又は凸部をナノファイバ層１１と対向する面に有していることが好ましい。斯かる構成は、基材層１２が通気性を有していない場合に、ナノファイバ層１１と基材層１２とを剥離する作業性を向上させる点で有利である。

　基材層１２の厚さは、好ましくは５μｍ以上、より好ましくは１０μｍ以上であり、また好ましくは２０ｍｍ以下、より好ましくは１５ｍｍ以下であり、また好ましくは５μｍ以上２０ｍｍ以下、より好ましくは１０μｍ以上１５ｍｍ以下である。

　ナノファイバシート１０は、美容液等の液成物をナノファイバ層１１が含んだ状態で使用されてもよい。この場合、美容液等の液状物によってナノファイバ層１１が溶解することを防止する観点から、ナノファイバ層１１は水不溶性であることが好ましい。水不溶性とは、１気圧・２３℃の環境下において、ナノファイバ層１１を１ｇ秤量したのちに、１０ｇのイオン交換水に浸漬し、２４時間経過後、浸漬したナノファイバ層１１の０．５ｇ超が溶解しない性質を有するものをいい、好ましくは０．８ｇ超が溶解しない性質を有するものをいう。言い換えると、水不溶性とは、１気圧・２３℃の環境下において、ナノファイバ層１１を１ｇ秤量したのちに、１０ｇのイオン交換水に浸漬し、２４時間経過後、浸漬したナノファイバ層１１の０．５ｇ未満が溶解する性質を有するものをいい、好ましくは０．２ｇ未満が溶解する性質を有するものをいう。

　ナノファイバ層１１は、繊維形成可能な高分子化合物を含むナノファイバが堆積することにより形成される。ナノファイバ層１１を水不溶性にする観点から、ナノファイバ層１１は、繊維形成可能な高分子化合物として、水不溶性高分子化合物のナノファイバを含むことが好ましい。斯かる構成により、ナノファイバ層に化粧料に用いられる水溶性成分を含ませても、該ナノファイバ層１１の保形性を維持することができる。水不溶性高分子化合物としては、例えばナノファイバ形成後に不溶化処理できる完全鹸化ポリビニルアルコール、架橋剤と併用することでナノファイバ形成後に架橋処理できる部分鹸化ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ－プロパノイルエチレンイミン）グラフト－ジメチルシロキサン／γ－アミノプロピルメチルシロキサン共重合体等のオキサゾリン変性シリコーン、ツエイン（とうもろこし蛋白質の主要成分）、あるいはポリ乳酸（ＰＬＡ）、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂等のポリエステル樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、ポリメタクリル酸樹脂等のアクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂、ナイロン等のポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂などが挙げられる。これらの水不溶性高分子化合物は単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。

　ナノファイバ層１１は、水溶性高分子化合物のナノファイバを含んでいてもよい。水溶性高分子化合物としては、プルラン、ヒアルロン酸、コンドロイチン硫酸、ポリ－γ－グルタミン酸、変性コーンスターチ、β－グルカン、グルコオリゴ糖、ヘパリン、ケラト硫酸等のムコ多糖、セルロース、ペクチン、キシラン、リグニン、グルコマンナン、ガラクツロン、サイリウムシードガム、タマリンド種子ガム、アラビアガム、トラガントガム、大豆水溶性多糖、アルギン酸、カラギーナン、ラミナラン、寒天（アガロース）、フコイダン、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース等の天然高分子、部分鹸化ポリビニルアルコール（架橋剤と併用しない場合）、低鹸化ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）、ポリエチレンオキサイド、水溶性ナイロン、水溶性ポリエステル、ポリアクリル酸ナトリウム等の合成高分子などが挙げられる。これらの水溶性高分子化合物は単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。

　ナノファイバ層１１は、上述した水不溶性高分子化合物及び水溶性高分子化合物以外の他の高分子化合物を含んでいてもよい。他の高分子化合物としては一般に、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリビニルアルコール、ポリウレタン、ポリエチレンオキサイド、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリ－ｍ－フェニレンテレフタレート、ポリ－ｐ－フェニレンイソフラテート、ポリフッ化ビニリデン、ポリフッ化ビニリデン－ヘキサフルオロプロピレン共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン－アクリレート共重合体、ポリアクリロニトリル、ポリアクリロニトリル－メタクリレート共重合体、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステルカーボネート、ナイロン、アラミド、ポリカプロラクトン、ポリ乳酸、ポリグリコール酸、コラーゲン、ポリヒドロキシ酪酸、ポリ酢酸ビニル、ポリペプチド等が挙げられる。これらの高分子化合物は単独で又は複数混合して用いることができる。

　ナノファイバ層１１を水不溶性にする場合、ナノファイバ層１１に含まれる水不溶性高分子化合物は該ナノファイバ層１１の全質量に対して好ましくは５０質量％超、より好ましくは８０質量％以上であり、ナノファイバ層１１に含まれる水溶性高分子化合物は該ナノファイバ層１１の全質量に対して好ましくは５０質量％未満、より好ましくは２０質量％以下である。

　ナノファイバ層１１は、ナノファイバのみから構成されていてもよく、あるいはナノファイバに加えて他の成分を含んでいてもよい。他の成分としては、ナノファイバ以外の物質であって、化粧料に用いられる成分を用いることができる。例えば、薬用成分、保湿成分、各種ビタミン、香料、紫外線防御剤、界面活性剤、着色顔料、体質顔料、染料、安定剤、防腐剤、及び酸化防止剤などが挙げられる。これらの成分は単独で使用することもでき、あるいは２種以上を組み合わせて使用することもできる。
　ナノファイバ層１１がナノファイバに加えて他の成分を含んでいる場合には、ナノファイバ層１１に占めるナノファイバの含有量は、好ましくは４０質量％以上９５質量％以下、より好ましくは７０質量％以上９０質量％以下である。
　ナノファイバ層１１における他の成分の含有量は、好ましくは５質量％以上６０質量％以下、より好ましくは１０質量％以上３０質量％以下である。

　ナノファイバ層１１が、他の成分を含むナノファイバによって形成されている場合、例えば、当該ナノファイバは、水溶性高分子化合物と他の成分とが水に完全に溶解した状態下で混合して調製することによって得られる。また、前記ナノファイバは、中空部を有するナノファイバを用いて、他の成分を乳化した乳化成分を該中空部に含有させることでも得られる。他の成分の反応の種類によっては、ナノファイバに単独で含有させてもよく、２種以上の成分を含有させてもよい。

　肌のシミや皺を効果的に隠蔽する観点から、ナノファイバ層１１の内方領域Ｍの坪量は０．０１ｇ／ｍ^２以上、より好ましくは０．１ｇ／ｍ^２以上であり、また好ましくは５０ｇ／ｍ^２以下、より好ましくは４０ｇ／ｍ^２以下であり、また好ましくは０．０１ｇ／ｍ^２以上５０ｇ／ｍ^２以下、より好ましくは０．１ｇ／ｍ^２以上４０ｇ／ｍ^２以下である。ナノファイバ層１１の内方領域Ｍの坪量は、内方領域Ｍから１０ｍｍ×１０ｍｍの測定片を切り出し、はかりで該測定片の質量を計量し、該測定片の面積（１００ｍｍ^２）で除法して算出することで測定することができる。また、上記と同様の観点から、ナノファイバ層１１の頂点位置における坪量は、前記内方領域Ｍの坪量の好ましい範囲内であることが好ましい。

　上述した実施形態において、内方領域Ｍはその全域に亘って厚みが実質的に一定であったが、内方領域Ｍは、図５及び図６に示すように、位置によって厚みが異なっていてもよい。図５及び図６に示す実施形態は、矛盾しない限り、上述した実施形態のナノファイバシートの説明が適宜適用される。図５に示すナノファイバシート１０ａは、内方領域Ｍの第１面Ｓ１側に深さがそれぞれ異なる複数の凹部１８を有している。内方領域Ｍの凹部１８における厚みＤ５（図５参照）は、グラデーション領域Ｇの最大厚み部１５の厚みＤ３より小さい。ナノファイバ層１１の密着性を向上させる観点から、内方領域Ｍの凹部１８における厚みＤ５（図５参照）は、前記最大厚み部１５の厚みＤ３に対して、好ましくは５０％以上、より好ましくは６０％以上であり、また好ましくは１００％以下、より好ましくは９０％以下であり、また好ましくは５０％以上１００％以下、より好ましくは６０％以上９０％以下である。
　また、ナノファイバ層１１のシミや皺の隠蔽性を向上させる観点から、内方領域Ｍの凹部１８における厚みＤ５（図５参照）が、好ましくは５．１μｍ以上、より好ましくは１０μｍ以上、好ましくは５００μｍ以下、より好ましくは４００μｍ以下であり、また、好ましくは５．１μｍ以上５００μｍ以下、より好ましくは１０μｍ以上４００μｍ以下である。内方領域Ｍの凹部１８における厚みＤ５が凹部１８毎に異なる場合、内方領域Ｍの凹部１８における厚みＤ５の最小値が上記の範囲内であることが好ましい。

　また、内方領域Ｍは、図６に示すナノファイバシート１０ｂのように、厚みがグラデーション領域Ｇの最大厚み部１５より大きい部分を形成する凹部１９ａの他に、厚みが該最大厚み部１５より小さい部分を形成する凹部１９ｂを有していてもよい。以下、内方領域Ｍにおいて、グラデーション領域Ｇの最大厚み部１５よりも厚みが大きい部分を形成する凹部１９ａを浅凹部１９ａともいい、グラデーション領域Ｇの最大厚み部１５よりも厚みが小さい部分を形成する凹部１９ｂを深凹部１９ｂともいう。この内方領域Ｍは、浅凹部１９ａよりも外方であって、内方領域Ｍの周縁に沿うように深凹部１９ｂが形成されている。更に内方領域Ｍは、深凹部１９ｂの底部から内方に向かって漸次厚みが増加している。即ち、図６に示す実施形態においてナノファイバ層１１は、その周縁に沿って形成されたグラデーション領域Ｇ１と、該グラデーション領域Ｇ１よりも内方側であり、且つ内方領域Ｍの周縁に沿うように形成されたグラデーション領域Ｇ２とを有している。

　ナノファイバ層１１のシミや皺の隠蔽性を向上させる観点から、内方領域Ｍは、浅凹部１９ａにおける厚みＤ７（図６参照）が、グラデーション領域Ｇの最大厚み部１５の厚みＤ３よりも大きいことを前提として、好ましくは５．１μｍ以上、より好ましくは１０μｍ以上であり、また好ましくは５００μｍ以下、より好ましくは４００μｍ以下であり、また好ましくは５．１μｍ以上５００μｍ以下、より好ましくは１０μｍ以上４００μｍ以下である。内方領域Ｍの浅凹部１９ａにおける厚みＤ７が浅凹部毎に異なる場合、該厚みＤ７の最小値が上記の範囲内であることが好ましい。

　上記と同様の観点から、内方領域Ｍは、最大厚み部１５の厚みＤ３及び浅凹部１９ａにおける厚みＤ７よりも深凹部１９ｂにおける厚みＤ９が小さいことを前提として、深凹部１９ｂにおける厚みＤ９（図６参照）が、好ましくは５．１μｍ以上、より好ましくは１０μｍ以上であり、また好ましくは５００μｍ以下、より好ましくは４００μｍ以下であり、また好ましくは５．１μｍ以上５００μｍ以下、より好ましくは１０μｍ以上４００μｍ以下である。内方領域Ｍの深凹部１９ｂにおける厚みＤ９が深凹部毎に異なる場合、該厚みＤ９の最小値が上記の範囲内であることが好ましい。

　ナノファイバ、即ち繊維が基材層上に直接堆積された場合、ナノファイバ層１１が隣接して基材層１２に配される。ナノファイバ層１１と基材層１２は隣接して配されていなくてもよく、例えば、後述する図７に示すように、対象物の表面に貼付け可能な粘着層が基材層１１とナノファイバ層１１との間に介在していてもよい。
　また、ナノファイバシートを肌に容易に貼付する観点から、ナノファイバシートは、対象物の表面に貼付け可能な粘着層１３を備えることが好ましい。粘着層１３は、ナノファイバ層１１を肌等の対象物に取り付けるために用いられる。粘着層１３は、基材層１２とナノファイバ層１１との間、即ちナノファイバ層１１の第２面Ｓ２側に配されていてもよく、又はナノファイバ層１１の基材層１２とは反対側の面、即ちナノファイバ層１１の第１面Ｓ１側に配されていてもよい。
　粘着層１３の粘着力を維持する観点から、図７に示すように、粘着層１３はナノファイバ層１１の第２面Ｓ２側に配されていることが好ましい。図７に示すナノファイバシート１０ｃは、粘着層１３と基材層１２との層間を剥離した後、該粘着層１３を肌に貼付して使用される。
　粘着層１３がナノファイバ層１１の第１面Ｓ１側に配されたナノファイバシートは、基材層１２とナノファイバ層１１との層間を剥離した後、あるいは剥離する前に、粘着層１３を肌に貼付して使用される。

　粘着層１３を構成する粘着剤としては、オキサゾリン変成シリコーン系や、アクリル樹脂系、オレフィン樹脂系、合成ゴム系等の粘着剤を用いることができる。粘着力を高く保つ観点から、粘着層１３を構成する粘着剤としては、アクリル樹脂系を用いることが好ましい。

　粘着層１３における粘着剤の厚みは特に制限されない。ナノファイバ層１１を肌により確実に貼付し、且つナノファイバシートの肌触りや使用感を向上させる観点から、粘着層１３における粘着剤の厚みは、好ましくは１０ｎｍ以上であり、より好ましくは５０ｎｍ以上であり、また好ましくは１００μｍ以下であり、より好ましくは５０μｍ以下であり、また好ましくは１０ｎｍ以上１００μｍ以下であり、より好ましくは５０ｎｍ以上５０μｍ以下である。

　ナノファイバシート１０ｃにおいて、ナノファイバ層１１、基材層１２、粘着層１３のうち何れかが剥離可能であってもよく、各層がそれぞれ独立して剥離可能になっていてもよい。具体的には、基材層１２と、粘着層１３及びナノファイバ層１１との間が剥離可能であってもよく、基材層１２及び粘着層１３と、ナノファイバ層１１との間が剥離可能であってもよく、それぞれの層が独立して剥離可能であってもよい。剥離可能な層を形成するためには、剥離対象の層と剥離対象でない層との間にファンデルワールス力や静電力等を発生させた状態下で積層したり、剥離対象の層における剥離対象でない層と対向する面にシリコーン樹脂の塗布やコロナ放電処理等の剥離処理を施したりすることで行うことができる。

　次に本発明のナノファイバシートの使用方法をその好ましい実施形態に基づき図面を参照しながら説明する。図８（ａ）～（ｃ）に、図１に示すナノファイバシート１０を用いた、ナノファイバシートの使用方法の一実施態様を示す。

　ナノファイバシート１０の使用方法においては、該ナノファイバシート１０を対象物の表面に付着、即ち貼付させて使用する。ナノファイバシート１０の対象物は、ナノファイバ層１１の貼付対象物である。前記対象物は、主としてヒトの皮膚（肌）であるがその他に、歯、歯茎、毛髪、非ヒト哺乳類の皮膚（肌）、歯、歯茎、枝や葉等の植物表面等が挙げられる。図８（ａ）～（ｃ）に示す使用方法においては、顔の目の下の部位にナノファイバシート１０を貼付して使用するが、貼付する位置はこれに限られない。

　ナノファイバシート１０はその使用時において、ナノファイバ層１１の第１面Ｓ１又は第２面Ｓ２が対象物の表面と対向するように、ナノファイバ層１１を該表面に当接させ、付着させる。例えば、図８（ａ）に示すように、ナノファイバシート１０のナノファイバ層１１の第１面Ｓ１を肌に付着させる。この場合、基材層１２側の面が肌とは反対側となる。
　ナノファイバシートが上述した粘着層を備える場合、ナノファイバ層１１の粘着層側の面と対象物の表面とが対向するように、該粘着層を該表面に付着させる。即ち、ナノファイバシートが粘着層を備える場合、ナノファイバ層１１は、粘着層１３を介して対象物の表面に貼付される。

　図８に示すナノファイバシート１０の使用方法では、対象物の表面にナノファイバ層１１を付着させた後、図８（ｂ）に示すように、該ナノファイバ層１１から基材層１２を剥離して除去する。これにより、図８（ｃ）に示すように、対象物の表面にはナノファイバ層１１のみが貼付される。

　対象物の表面に前記ナノファイバ層を当接させ、且つ該ナノファイバ層を液状物で湿潤させた状態で使用することが好ましい。前記「湿潤させた状態」とは、ナノファイバ層１１に液成物を含ませることで、該ナノファイバ層１１を湿らせた状態を意味する。
　液状物は、２０℃において液状の物質のことを意味する。液状物としては、例えば水、水溶液及び水分散液等の液体、増粘剤で増粘されたジェル状物、２０℃で液体又は固体の油、該油を１０質量％以上含有する油剤、及び、該油とノニオン性界面活性剤等の界面活性剤とを含む乳化物（Ｏ／Ｗエマルジョン、Ｗ／Ｏエマルジョン）などが挙げられる。

　上述の液状物が２０℃で液体のポリオールを含む場合、該ポリオールとしては、例えばエチレングリコール、プロピレングリコール、１，３－ブタンジオール、ジプロピレングリコール、重量平均分子量が２０００以下のポリエチレングリコール、グリセリン及びジグリセリンから選ばれる一種又は二種以上が挙げられる。

　上述の液状物が２０℃において液体の油を含む場合、該油としては、流動パラフィン、スクワラン、スクワレン、ｎ－オクタン、ｎ－ヘプタン、シクロヘキサン、軽質イソパラフィン、及び流動イソパラフィンから選ばれる一種又は二種以上の炭化水素油；ミリスチン酸オクチルドデシル、ミリスチン酸ミリスチル、ステアリン酸イソセチル、イソステアリン酸イソセチル、セテアリルイソノナノエート、アジピン酸ジイソブチル、セバシン酸ジ２－エチルヘキシル、ミリスチン酸イソプロピル、パルミチン酸イソプロピル、リンゴ酸ジイソステアリル、ジカプリン酸ネオペンチルグリコール、安息香酸（炭素数１２～１５）アルキル等の直鎖又は分岐鎖の脂肪酸と、直鎖又は分岐鎖のアルコール又は多価アルコールからなるエステル、及びトリ（カプリル酸・カプリン酸）グリセリンなどのトリグリセリン脂肪酸エステル（トリグリセライド）から選ばれる一種又は二種以上のエステル油；ジメチルポリシロキサン、ジメチルシクロポリシロキサン、メチルフェニルポリシロキサン、メチルハイドロジェンポリシロキサン及び高級アルコール変性オルガノポリシロキサンから選ばれる一種又は二種以上のシリコーン油等が挙げられる。これらは単独で用いてもよく二種以上を複数組み合わせて用いてもよい。

　上述の液状物が２０℃において固体の油を含む場合、該油としては、ワセリン、セタノール、ステアリルアルコール、及びセラミド等から選ばれる一種又は二種以上が挙げられる。

　ナノファイバ層１１を前述の液状物で湿潤させた状態で使用する方法としては、対象物の表面を液状物で湿潤させた状態で、該表面にナノファイバ層１１を付着させる方法（１）や、対象物の表面にナノファイバ層１１を付着させた状態で、該ナノファイバ層１１を液状物で湿潤させる方法（２）、ナノファイバ層１１を液状物で湿潤させた状態で、対象物の表面にナノファイバ層を付着させる方法（３）等が挙げられる。対象物の表面とナノファイバ層１１の表面とを接触させる前後で、これら表面の何れかに液状物を適用させて湿潤させると、ナノファイバ層に液状物が担持されるか、あるいはナノファイバ層のファイバ表面に液状物が付着することにより、ナノファイバ層１１がより透明化して、その周縁端１７をより目立たなくさせることができる。
　前記方法（１）において、液状物を適用して湿潤させた対象物の表面に、ナノファイバ層１１を接触させると、ナノファイバ層１１の毛管力によって、対象物の表面の液状物をナノファイバ層１１に移行させることができる。

　前記方法（１）～（３）の何れかにおいて、対象物の表面又は対象物の表面に貼付されたナノファイバ層１１を液状物で湿潤させた状態にするためには、液状物を該表面に塗布又は噴霧すればよい。塗布又は噴霧される液状物としては、ナノファイバシート１０を付着させる温度において液体成分を含み、且つその温度における粘度（Ｅ型粘度計を用いて測定される粘度）が５０００ｍＰａ・ｓ程度以下の粘性を有する物質が用いられる。そのような液状物としては、例えば水、水溶液、２０℃において液状のエステル油、炭化水素油、シリコーン油、グリセリンやプロピレングリコール等の２０℃において液状のポリオール、及びこれらから選ばれる１種又は２種以上を含む水分散液等が挙げられる。また、Ｏ／Ｗエマルション等の乳化液、増粘性多糖類等をはじめとする各種の増粘剤で増粘された水性液等も液状物として用いることができる。

　本実施態様におけるナノファイバシートの使用方法では、前述のように、ナノファイバ層１１を対象物の表面に貼り付けて使用する。本使用方法は、ナノファイバ層１１を対象物の表面に貼り付けて、該対象物の外観、又は表面状態を改善する目的で使用される。例えば、対象物が肌である場合、ナノファイバ層１１を肌に貼り付けて、肌のシミや皺を隠蔽することにより、肌の外観を改善することができる。また、ナノファイバ層１１を肌に貼り付けて、ファンデーションののり、即ちファンデーションの塗布具合を良好にすることで、肌の表面状態を改善することができる。

　次に本発明のナノファイバシートの製造方法を、その好ましい実施形態に基づき図面を参照しながら説明する。図９には、図１に示すナノファイバシートの製造方法に用いられる電界紡糸装置の一実施形態（第１実施形態）が模式的に示されている。図９に示す電界紡糸装置１００は、原料液を吐出するノズル２０と、該ノズル２０との間に電界を生じさせる対向電極３０と、原料液から生成されたナノファイバ（繊維Ｆ）を集積する捕集部４０と、ノズル２０を移動させるノズル移動機構５０とを具備している。原料液は、ナノファイバの原料樹脂の溶液又は分散液を意味する。

　電界紡糸装置１００は、原料樹脂の溶液又は分散液（以下、これらを総称して「原料液」ともいう。）をノズル２０から吐出して、電界紡糸によって細径の繊維Ｆを形成する。ノズル２０は、後述するノズル移動機構５０に取り付けられている。ノズル２０は、原料液供給部（不図示）から供給される原料液を吐出する部材であり、原料供給路（不図示）を介して原料液供給部と連通している。原料液供給部は、圧力負荷装置等の公知の手段によって、原料液をノズル２０に定量的に供給可能になされている。原料液供給部は、原料液をノズル２０に連続的に又は断続的に供給する。

　本実施形態においてノズル２０は、金属などの導電性材料から構成されており、電圧印加部３２と電気的に接続されている。即ち、ノズル２０は正又は負の電圧が印加できるようになっている。

　対向電極３０は、金属等の導電性材料から構成される部材であり、ノズル２０と対向するように配されている。対向電極３０は、接地されており、これにより、ノズル２０と対向電極３０との間に電界を生じさせることができるようになっている。また、対向電極３０は、直流高圧電源などの電圧印加部３２と電気的に接続されて、電圧も印加できる。本実施形態において対向電極３０は、後述する捕集部４０でもある。

　電界紡糸装置１００では、ノズル２０に正電圧を印加するか、対向電極３０に負電圧を印加するか、又はこれらの両方を行って、ノズル２０と対向電極３０との間に電位差を生じさせる。ノズル２０に負電圧を印加するか、対向電極３０に正電圧を印加するか、又はこれらの両方を行って、ノズル２０と対向電極３０との間に電位差を生じさせることも好ましい。ノズル２０と対向電極３０との間に加わる電位差、即ちノズル２０と捕集部４０との間に加わる電位差は、原料液の帯電性を向上させる観点から、１ｋＶ以上、特に１０ｋＶ以上とすることが好ましく、放電を防止する観点から、１００ｋＶ以下、特に５０ｋＶ以下とすることが好ましい。

　捕集部４０は、原料液を電気的に延伸して生成した繊維Ｆを集積する部材である。本実施形態において捕集部４０は、ノズル２０と対向するように配されている。また、前記捕集部４０は、前述の対向電極３０であり、接地又は電圧印加部３２と電気的に接続されて、電圧が印加できるようになっている。即ち、本実施形態においてはノズル２０と捕集部４０との間に電界を生じさせることができるようになっている。

　ノズル移動機構５０は、ノズル２０を平面方向に移動可能に構成されている。本実施形態においてノズル移動機構５０は、ノズル２０を保持するスライダ５１と、Ｘ軸方向及びＹ軸方向それぞれに沿うレール５３，５５とを備え、該レール５５上を該レール５３が移動し、該レール５３上をスライダ５１が移動する。ノズル移動機構５０は、制御部（不図示）と電気的に接続されており、制御部に入力されたノズルの移動軌道のデータに基づき、あるいは操作者がコントローラーを介して制御部に入力した操作信号に基づき、ノズル２０を移動させながら、繊維Ｆを捕集部４０上に堆積させることが可能になされている。制御部には、後述する軌道計算工程で決定されたノズルの移動軌道のデータが入力されているか、又は入力可能になされている。制御部への前記移動軌道のデータの入力は、ＵＳＢメモリ等の記録媒体を介して入力可能であってもよいし、インターネットやイントラネット等のネットワークを介して入力可能であってもよい。

　本実施形態において電界紡糸装置１００は、非導電性材料から構成される台６０を具備し、該台６０の上には対向電極３０である捕集部４０が載置されている。ノズル移動機構５０は、台６０が配された範囲内において、ノズル２０を平面方向に移動可能になされている。

　本実施形態のナノファイバシートの製造方法では、上述した構成を具備する電界紡糸装置１００を用いて、電界紡糸法により原料液から生じた繊維Ｆを捕集部上に堆積させる。電界ノズル２０と対向電極３０との間に電界を生じさせた状態下で、ノズル２０に原料液を供給し、該ノズルから原料液を吐出させる。この際、電界紡糸装置１００は、ノズル移動機構５０によってノズル２０を移動させながら、原料液を吐出させる。この際、電界紡糸装置１００は、ノズル移動機構５０によってノズル２０を移動させながら、原料液を吐出させる。吐出された原料液は、電気的斥力、原料液に含まれる溶媒の蒸発を繰り返して、繊維Ｆを形成しながら対向電極３０に引き寄せられるように紡糸される。前記ナノファイバは対向電極３０でもある捕集部４０に堆積し、ナノファイバ（繊維Ｆ）の堆積体を形成する。この堆積体がナノファイバ層１１となる。

　ナノファイバ層１１が、上述したように内方領域Ｍにおける厚みが大きく、グラデーション領域Ｇにおける厚みが一方向に向かって漸次増加している場合、グラデーション領域Ｇを容易に形成する観点から、ノズル２０を平面方向に移動させながら繊維Ｆを堆積することが好ましく、ノズル２０が所定の周回軌道を描くように、該ノズル２０を平面方向に移動させながら繊維Ｆを堆積することがより好ましい。例えば、繊維Ｆの堆積位置が部分的に重複する軌道を描くようにノズル２０を移動させて繊維Ｆを堆積すること、又は繊維Ｆの堆積時間若しくは堆積量を堆積位置毎に異ならせながらノズル２０を移動させて繊維Ｆを堆積することが挙げられる。これにより、繊維Ｆの堆積量を部分的に異ならせることができ、一方向に繊維Ｆの堆積量が漸次増加した堆積量分布を有するグラデーション領域Ｇを形成することができる。特にグラデーション領域Ｇを効率的に形成する観点から、繊維Ｆの堆積時間を堆積位置毎に異ならせながらノズル２０を移動させて繊維Ｆを堆積することが好ましい。また、ノズル２０に代えて、対向電極３０を平面方向に移動させてもよい。
　以下では、ノズル２０を移動させながら繊維Ｆを堆積させて、ナノファイバシートを製造する方法の詳細を、その好ましい実施形態に基づいて説明する。

　本実施形態におけるナノファイバシートの製造方法では、上述したようにノズル２０を移動させながら、ナノファイバ（繊維Ｆ）を捕集部４０上に堆積させる。例えば、ナノファイバシート１０の平面視形状に沿ってノズル２０を移動させると、図１０（ａ）に示すように、該平面視形状に沿った線状のナノファイバの堆積体からなる第１堆積領域ｅ１が形成される。ノズルから吐出されるナノファイバは、ノズル２０の吐出孔の外縁側よりも中心側に多く堆積する傾向があるところ、ノズル２０の移動軌道に沿って形成されるナノファイバの堆積体は、その外縁部分に、外縁から中心に向かって漸次厚みが増加する領域が形成される〔図１０（ｂ）参照〕。即ち、本実施形態のナノファイバシートの製造方法により、グラデーション領域を有するナノファイバシートを製造することができる。
　また、ノズル２０を移動させながらナノファイバの堆積体を形成すると、ノズル２０の移動軌道に沿ってナノファイバが堆積するため、該ナノファイバの堆積体の平面視形状は、ノズル２０の移動軌跡に沿った形状となる。これにより、所望の平面視形状のナノファイバ層１１を容易に形成することができる。

　本実施形態においては、ノズル２０を移動させながら、繊維Ｆを捕集部４０上に堆積させていたが、本発明のナノファイバシートの製造方法は、繊維Ｆを堆積させる捕集部４０を移動させてもよく、ノズル２０及び捕集部４０の双方を移動させてもよい。ノズル２０及び捕集部４０の双方を移動させながらナノファイバ層を形成することには、ナノファイバ層の形状を任意の形状に調整し易くなるという利点がある。このように、本発明のナノファイバシートの製造方法は、ノズル２０及び捕集部４０の少なくとも一方を移動させながら、繊維Ｆを捕集部４０上に堆積させる。
　捕集部４０を移動させる移動機構としては、例えば捕集部４０のナノファイバが堆積される面とは反対側の面を保持するステージと、該ステージを平面方向に移動させる複数のモーターを備えたものや、後述する電界紡糸装置１００Ａが備える捕集部移動機構８０等が挙げられる。

　本発明におけるナノファイバシートの製造方法は、ノズル２０及び捕集部４０の少なくとも一方を移動させながら、ナノファイバの堆積体を形成するところ、該ノズル２０からの原料液の吐出速度や、ノズル２０及び捕集部４０の少なくとも一方の移動速度等の要因が、堆積するナノファイバの厚みに影響を与える。そこで本実施形態におけるナノファイバシートの製造方法は、ノズル２０の移動軌道を決定する軌道計算工程と、該移動軌道に基づきナノファイバを堆積させる堆積工程とを備える。これにより、ナノファイバ層の厚みを精度良く制御することができ、グラデーション領域Ｇをより確実に形成し得る。

　前記軌道計算工程では、ナノファイバの堆積分布に関する要因と、堆積する該ナノファイバの厚みとの相関関係に基づいて、ノズル２０の移動軌道を決定する。前記移動軌道は、所定のナノファイバシートを形成し得るものである。所定のナノファイバシートとは、グラデーション領域Ｇを有し、且つ所定の平面視形状及び所定の厚みを有するものである。所定の厚みは、製品仕様等で決定される設定値であり、ナノファイバ層１１の最低厚みでもよく、最大厚みであってもよく、グラデーション領域Ｇの最低厚みや最大厚みであってもよい。皺、シミを隠蔽することができ、肌に浸透させる美容液等の機能剤を浸透し易くする観点から、ナノファイバシートが内方領域Ｍを有する場合は該内方領域Ｍの最低厚みＤ５を、ナノファイバシートが内方領域Ｍを有しない場合はグラデーション領域Ｇの最大厚み部１５の厚みＤ３を、ナノファイバシートの所定の厚みとして設定することが好ましい。本実施形態では、軌道計算工程においてノズル２０の移動軌道を決定するが、軌道計算工程では、ノズル２０及び捕集部４０の何れか一方又は双方の移動軌道を決定する。

　ナノファイバの堆積分布は、捕集部４０上に堆積されるナノファイバの堆積量の分布である。ナノファイバの堆積分布に関する要因としては、例えばノズル２０若しくは捕集部４０の移動速度、原料液の吐出速度、ノズル２０と対向電極３０との間の電位差、ノズル２０と捕集部４０との間の距離、ノズル２０の内径、及びノズルの材質等が挙げられ、これらから選ばれる１種又は２種以上を組み合わせることができる。上述した各要因は、その数値を調整することにより、ナノファイバ層の厚みを増減させることができる。ナノファイバの堆積分布に関する要因において、ノズルの材質は、ノズル２０の帯電量に影響を与える要因である。

　ナノファイバの堆積分布に関する要因として、ノズル２０の移動速度（以下、要因ａともいう）と、原料液の吐出速度（以下、要因ｂともいう）と、ノズル２０と捕集部４０との間の距離（以下、要因ｃともいう）とを採用した場合を例に、軌道計算工程を説明する。ノズル２０の移動速度（要因ａ）や原料液の吐出速度（要因ｂ）によって、単位面積当たりのナノファイバの堆積量が増減し、これに伴い堆積するナノファイバの厚みが増減する。また、ノズル２０と捕集部４０との間の距離（要因ｃ）によって、単位時間当たりのナノファイバの堆積体の面積が増減する。このように、前記要因ａ～ｃは、ナノファイバの堆積分布を変化させる要因となる。

　軌道計算工程では、前記要因ａ～ｃと、ナノファイバの堆積体の厚みとの相関関係を求める。前記相関関係は、ナノファイバの堆積分布に関する要因を所定の値に設定し、ノズル２０を所定の軌道上に移動させながらナノファイバの試験体を作成し、該試験体の厚み分布を測定することにより求められる。例えば、前記要因ａ～ｃを所定の値に設定した上で、図１０に示すように、一方向にノズル２０を移動させながら、ナノファイバの試験体を作成し、該試験体について、その延在方向とは直交する方向の断面における厚みのデータ（以下、模擬データともいう）を取得する。このような模擬データは、例えば、レーザー式三次元形状測定システム（コムス社製、測定システムＥＭＳ２００２ＡＤ－３Ｄ、及びキーエンス社製　変位センサＬＫ－２０００の組合せ）を用いた測定によって得られる。この模擬データと、設定されるナノファイバ層１１の平面視形状とに基づき、形成し得るナノファイバの厚みをシミュレートして、移動軌道を決定する。模擬データとしては、前記要因ａ～ｃの設定値を同一条件としたデータか、又はナノファイバの堆積分布に関する要因の設定値を異ならせた複数のデータを用いることができる。

　前記軌道計算工程では、ナノファイバの堆積分布に関する要因（例えば前記要因ａ～ｃ）の設定値を調整するか、移動軌道上にナノファイバの堆積位置が重複する部分、又は重複しない部分を設けることで、ナノファイバシートの所定厚みが設定値となるように計算する。また、計算される移動軌道は、製品仕様等で設定されるナノファイバ層１１の平面視形状に沿った軌道となるが、このような軌道は、例えば、ＳＥＬジェネレーター（ＩＡＩ株式会社製）等のソフトウェアを用いて設定することができる。移動軌道計算工程は、設定されるナノファイバ層１１の平面視形状に沿っており、且つナノファイバの厚みが所定の数値となる条件を満たす移動軌道が得られるまで、移動軌道の計算、即ち移動軌道のシミュレートを繰り返す。

　堆積工程では、前記軌道計算工程で決定された移動軌道に基づき、ノズル２０及び捕集部４０の少なくとも一方を移動させながら、ナノファイバを堆積させる。本実施形態の電界紡糸装置１００では、軌道計算工程で決定された移動軌道のデータを制御部に送り、該制御部から送られる操作信号に基づき、ノズル移動機構５０を作動させて、ノズル２０を前記移動軌道に沿って移動させる。このように、ノズル２０及び捕集部４０の少なくとも一方を移動軌道に沿って移動させることにより、移動軌道の設定でシミュレートされた平面視形状及び厚みを有するナノファイバ層を形成することができる。

　図２に示すナノファイバシート１０のように、ナノファイバシートが内方領域Ｍを有している場合、軌道計算工程においては、内方領域Ｍの最低厚みが、所定の設定値以上となるように移動軌道を計算することが好ましい。内方領域Ｍの最低厚みＤ５は、該内方領域Ｍにおいて最も厚みが小さい部分の厚みである（図２参照）。この場合、軌道計算工程では、内方領域Ｍの最低厚みが所望の設定値となり、且つナノファイバ層１１が所望の平面視形状となる移動軌道を決定する。

　設定されるナノファイバ層１１の平面視形状や面積に応じて、ノズル２０及び捕集部４０の少なくとも一方の移動軌道上に、ナノファイバの堆積位置が重複する部分が設けられることがある。この場合、ナノファイバ層１１の厚みの精度を向上させる観点から、前記堆積工程は、以下の第１工程及び第２工程を具備することが好ましい。第１工程は、ナノファイバの堆積部が、帯状の第１堆積領域ｅ１を形成するように第１の移動軌道ｒ１に沿って移動させる。第２工程は、ノズル２０及び捕集部４０の何れか一方を、ナノファイバの堆積部が、第１堆積領域ｅ１又は先に形成された帯状堆積領域と幅方向の一部どうしが連続的に重複する第２帯状堆積領域ｅ２を形成するように第２の移動軌道に沿って移動させる〔図１１（ａ）参照〕。ナノファイバ層１１の平面視形状や面積に応じて、堆積工程は第２工程を単一又は複数具備する。

　前記の第１工程及び第２工程を、本実施形態のナノファイバシートの製造方法を例に説明する。本実施形態のナノファイバシートの製造方法は、前記の第１工程及び第２工程を具備する。本実施形態の第１工程では、ナノファイバが堆積した帯状の第１堆積領域ｅ１が形成される。第１堆積領域ｅ１は、ノズル２０及び捕集部４０の少なくとも一方を、第１の移動軌道に沿って移動させることによって形成される。第１堆積領域や、後述する第２帯状堆積領域は、移動軌道に沿った軌道方向Ｘと、該軌道方向と直交する幅方向Ｙとを有している。本実施形態において第１堆積領域ｅ１は、ナノファイバ層１１の周縁となる部分を形成する。また、第１の移動軌道ｒ１は、後述する複数の第２の移動軌道ｒ２を囲むように位置する。

　本実施形態の第２工程では、ナノファイバが堆積した第２帯状堆積領域ｅ２が形成される〔図１１（ａ）参照〕。第２帯状堆積領域ｅ２は、ノズル２０及び捕集部４０の少なくとも一方を、第２の移動軌道ｒ２に沿って移動させることによって形成される。第２帯状堆積領域ｅ２は、その幅方向Ｙにおいて第１堆積領域ｅ１と部分的且つ移動軌道に沿って連続的に重なって形成される。本実施形態において、第２帯状堆積領域ｅ２は、第１堆積領域ｅ１に囲まれた領域内に形成され、該第２帯状堆積領域ｅ２の幅方向Ｙの周縁側の部分が、その軌道方向Ｘにおいて第１堆積領域ｅ１の内側の部分と連続的に重なっている〔図１１（ａ）及び（ｂ）参照〕。また、本実施形態では、第２工程を複数具備しており、各第２工程で用いられる第２の移動軌道ｒ２として、第１の移動軌道ｒ１に囲まれた内方側軌道ｓ１～ｓ３（図１２参照）を移動軌道計算工程にて計算する。これら内方側軌道ｓ１～ｓ３は、それぞれ第２帯状堆積領域を形成する移動軌道であり、これら内方側軌道に沿って、ノズル２０及び捕集部４０の何れか一方を移動させることにより、第１堆積領域に囲まれた第１～３の内方堆積領域を形成する。以下、堆積領域と他の堆積領域とが重複する領域を重複領域Ｅ〔図１１（ｂ）参照〕ともいう。重複領域Ｅの形態としては、第１堆積領域ｅ１と第２帯状堆積領域ｅ２とが重複する領域や、第２帯状堆積領域ｅ２と他の帯状堆積領域とが重複する領域が挙げられる。

　グラデーション領域Ｇをより確実に形成する観点から、重複領域Ｅは、図１１（ｂ）に示すように、幅方向Ｙにおいて、堆積領域の中点ｆ１と他の堆積領域が配される側の外縁ｆ２との間に位置していることが好ましい。重複領域Ｅは、幅方向Ｙにおいて、重複領域Ｅの範囲内に、堆積領域における中点ｆ１と、第２帯状堆積領域ｅ２の中点ｆ３が位置していることも好ましい。堆積領域における中点ｆ１，ｆ３とは、帯状堆積領域の幅方向Ｙの長さを二等分する位置である。図１１（ｂ）では、重複領域Ｅが、幅方向Ｙにおいて、第１堆積領域ｅ１における中点ｆ１と第２帯状堆積領域ｅ２が配される側の外縁ｆ２との間に位置している。また、上記と同様の観点から、前記の移動軌道計算工程において、第２帯状堆積領域が、第１堆積領域における中点ｆ１と第２帯状堆積領域が配される側の外縁ｆ２との間に部分的に重なるように、あるいは重複領域Ｅの範囲内に、堆積領域における中点ｆ１と、第２帯状堆積領域ｅ２の中点ｆ３とが配されるように、第２の移動軌道ｒ２を計算することが好ましい。斯かる方法で第２の移動軌道ｒ２の計算を行うことを、以下計算Ｊ１ともいう。堆積工程が第２工程を複数具備する場合、各第２工程で用いられる第２の移動軌道ｒ２は、前記軌道計算工程において前記計算Ｊ１により決定されることが好ましい。

　ナノファイバ層１１は、上述したようにその外縁部分にグラデーション領域Ｇを有するところ、幅方向において第１堆積領域及び第２帯状堆積領域の外縁部分どうしが重なった重複領域Ｅは、該重複領域Ｅの幅Ｗ１０が大きいほど、該重複領域Ｅの厚みＤ１０が増加し、重複領域Ｅの幅Ｗ１０が小さいほど該重複領域Ｅの厚みＤ１０が減少する。即ち、重複領域Ｅの幅Ｗ１０を調整することで、内方領域Ｍの最低厚みＤ５を調整することができる。この場合、前記の移動軌道計算工程において、重複領域Ｅの厚みＤ１０が、ナノファイバ層１１の設計に基づき、所定の厚み以上となるように、例えば設計上の内方領域Ｍの最低厚みＤ５以上となるように、重複領域Ｅの幅Ｗ１０を調整して第２の移動軌道ｒ２を計算することが好ましい。斯かる方法で第２の移動軌道ｒ２の計算を行うことを、以下計算Ｊ２ともいう。堆積工程が第２工程を複数具備する場合、各第２工程で用いられる第２の移動軌道ｒ２は、前記軌道計算工程において前記計算Ｊ２により決定されることが好ましい。
　上述した計算Ｊ１及び計算Ｊ２は、ナノファイバの堆積部どうしの重なりの程度に基づき、第１の移動軌道ｒ１と第２の移動軌道ｒ２との離間距離を計算する〔図１１（ｂ）参照〕。

　内方領域Ｍの最低厚みＤ５をより確実に確保すると共に、ナノファイバ層を貼付することによるシミ・皺等の隠蔽効果を向上させる観点から、重複領域Ｅの寸法は以下の範囲であることが好ましい。
　幅方向Ｙにおける重複領域の厚みＤ１０〔図１１（ｂ）参照〕は、内方領域Ｍの最低厚みＤ５に対して好ましくは１００％以上、より好ましくは１２５％以上であり、また好ましくは２５０％以下、より好ましくは２００％以下であり、また好ましくは１００％以上２５０％以下であり、より好ましくは１２５％以上２００％以下である。幅方向Ｙにおける重複領域Ｅの厚みＤ１０は、該重複領域Ｅにおける最低厚みである。

　重複領域Ｅの厚みＤ１０〔図１１（ｂ）参照〕は、好ましくは０．２μｍ以上、より好ましくは１μｍ以上であり、また好ましくは１００μｍ以下、より好ましくは１０μｍ以下であり、また好ましくは０．２μｍ以上１００μｍ以下であり、より好ましくは１μｍ以上１０μｍ以下である。

　重複領域の幅Ｗ１０〔図１１（ｂ）参照〕は、幅方向Ｙにおける堆積領域の中点と他の堆積領域の中点との離間距離Ｗ１１に対して好ましくは１％以上、より好ましくは５％以上であり、また好ましくは９０％以下、より好ましくは８０％以下であり、また好ましくは１％以上９０％以下であり、より好ましくは５％以上８０％以下である。
　幅方向Ｙにおける重複領域の幅Ｗ１０〔図１１（ｂ）参照〕は、好ましくは１ｍｍ以上、より好ましくは４ｍｍ以上であり、また好ましくは８０ｍｍ以下、より好ましくは６０ｍｍ以下であり、また好ましくは１ｍｍ以上８０ｍｍ以下であり、より好ましくは４ｍｍ以上６０ｍｍ以下である。

　前述した重複領域Ｅの寸法（幅及び厚み）は、レーザー式三次元形状測定システム（コムス社製、測定システムＥＭＳ２００２ＡＤ－３Ｄ、及びキーエンス社製　変位センサＬＫ－２０００の組合せ）を用いた測定によって得られた前記の模擬データを用いることで設定可能である。例えば、２つの堆積領域を、幅方向における所定の幅Ｗ１０に重ね合わせることを想定した場合、重ね合わせる前の２つの堆積領域を幅方向Ｙに走査しながら計測した堆積分布データに基づいて、重複領域の厚みＤ１０を計算することができる。この計算に、表計算ソフトを用いてもよい。

　本実施形態では、移動軌道計算工程において、内方側軌道ｓ１～ｓ３が、外側に隣接する移動軌道に囲まれた範囲内に形成されるように、該内方側軌道ｓ１～ｓ３を計算する。即ち、本実施形態においては、第１の移動軌道ｒ１に囲まれた範囲内で第１内方側軌道ｓ１を計算し、第１内方側軌道ｓ１に囲まれた範囲内で第２内方側軌道ｓ２を計算し、第２内方側軌道ｓ２に囲まれた範囲内で第３内方側軌道ｓ３を計算する（図１２参照）。本実施形態の移動軌道計算工程は、前述した計算Ｊ１及びＪ２、並びに下記に説明する計算Ｊ３によって、内方側軌道ｓ１～ｓ３を計算する。

　内方側軌道は、その配置が第１堆積領域ｅ１の内方側になればなるほど、ナノファイバ層１１の平面視形状の相似形をなす周回状の軌道を形成し難くなる。これに対し、本実施形態では、第３内方側軌道ｓ３を一方向に延びる線状の軌道としている。このように、移動軌道計算工程は、移動軌道を設定する範囲の面積や形状に応じて、周回状の軌道、又は周回状とならない軌道を計算することが好ましい。斯かる方法で第２の移動軌道ｒ２、即ち内方側軌道の計算を行うことを、以下計算Ｊ３ともいう。

　本実施形態では、前記計算Ｊ３を以下のようにして行う。
　先に決定された移動軌道に囲まれた領域を決定する。先に決定された移動軌道を決定軌道ｈともいい、該決定軌道ｈに囲まれた領域を決定軌道内領域Ｈともいう。計算Ｊ３では、決定軌道内領域Ｈ内にナノファイバ層１１の平面視形状の略相似形となる周回状の移動軌道（以下、相似軌道ｋともいう）を想定し得るか否かを判断する。相似軌道ｋは、決定軌道内領域Ｈを形成する決定軌道ｈに対応するものであるため、相似軌道ｋを形成する軌道線が決定軌道内領域Ｈ内に納まる場合は、当該相似軌道ｋを想定し得ると判断する。即ち、決定軌道ｈと相似軌道ｋとの相互に対応し合う部分が隣り合うように、相似軌道ｋが配されるか否かを判断する。

　計算Ｊ３は、特に、決定軌道内領域Ｈにおける、決定軌道ｈの一部ｈ１，ｈ２どうしが対向する部分Ｈ１にて、決定軌道の一部ｈ１と該一部ｈ１に対応する相似軌道ｋの一部ｋ１とが隣り合うか否かを判断すると共に、前記決定軌道ｈの一部ｈ１と対向する決定軌道ｈの他の一部ｈ２と、該他の一部ｈ２に対応する相似軌道ｋの一部ｋ２とが隣り合うか否かを判断する。以下、前記対向する部分Ｈ１において、決定軌道の一部を部位ｈ１、該部位ｈ１に対向する決定軌道の他の一部を部位ｈ２ともいい、部位ｈ１に対応する相似軌道の一部を部位ｋ１、部位ｈ２に対応する相似軌道の他の一部を部位ｋ２ともいう〔図１３（ａ）～（ｃ）参照〕。

　決定軌道の一部ｈ１，ｈ２どうしが対向する部分Ｈ１における、移動軌道の決定は、例えば図１４に示すような処理により行われる。図１４に示すフローでは、下記の工程（１）～（３）が行われる。
　工程（１）Ｐ１では、下記の条件（１）を満たすか否かを判定する。条件（１）を満たす場合、次の処理として工程（２）Ｐ２が行われる。条件（１）を満たさない場合、決定軌道ｈの一部ｈ１，ｈ２どうしが対向する部分Ｈ１に相似軌道を想定できないと判断する〔図１３（ａ）参照〕。また、条件（１）を満たさない場合、後述する、周回状とならない軌道も想定できないと判断する。
　条件（１）：相似軌道ｋの一部ｋ１が決定軌道の一部ｈ２よりも内方側に配置され、且つ相似軌道の他の一部ｋ２が決定軌道の他の一部ｈ１よりも内方側に配置される。

　工程（２）Ｐ２では、下記の条件（２）を満たすか否かを判定する。条件（２）を満たす場合、決定軌道の一部ｈ１，ｈ２どうしが対向する部分Ｈ１に相似軌道を想定できると判断して〔図１３（ｂ）参照〕、該相似軌道を決定する（図１４に示すＰ２-１）。条件（２）を満たさない場合、次の処理として工程（３）Ｐ３が行われる。
　条件（２）：相似軌道の一部ｋ１と、決定軌道の一部ｈ１とが隣り合って配置され、且つ相似軌道の他の一部ｋ２と、決定軌道の他の一部ｈ２とが隣り合って配置される。

　前記条件（２）を満たさない態様としては、相似軌道の一部ｋ１と、決定軌道の他の一部ｈ２とが隣り合って配置され、且つ相似軌道の他の一部ｋ２と、決定軌道の一部ｈ１とが隣り合って配置されるものが挙げられる〔図１３（ｃ）参照〕。
　前記条件（２）を満たさない場合、工程（３）Ｐ３では、幅方向Ｙにおいて相似軌道の一部ｋ１と他の一部ｋ２との離間距離を２等分する中央線ＣＬ１を移動軌道として決定する。中央線ＣＬ１は、相似軌道と異なり、周回状とならない軌道である。

　上記の計算Ｊ３は、ナノファイバシートの平面視形状及び厚みに応じて、繰り返し行ってもよい。ナノファイバ層の厚みの調整精度を向上させる観点から、計算Ｊ３は、決定軌道の一部ｈ１，ｈ２どうしが対向する部分Ｈ１毎に行うことが好ましい。

　本実施形態のナノファイバシートの製造方法では、軌道計算工程において、第１～第３内方側軌道ｓ１，ｓ２，ｓ３を前述の計算Ｊ１、計算Ｊ２、及び計算Ｊ３により計算している。具体的には、計算Ｊ１及びＪ２によって、隣り合う軌道の離間距離を計算し、該離間距離に基づいて、計算Ｊ３によって、第１～第３内方側軌道ｓ１，ｓ２，ｓ３を計算している。このように、ナノファイバシートの製造方法は、計算Ｊ１，計算Ｊ２、計算Ｊ３又はこれら２以上の組み合わせによって、移動軌道を決定してもよい。

　本実施形態のナノファイバシートの製造方法は、軌道計算工程において複数の移動軌道を決定し、堆積工程においてこれら複数の移動軌道に沿ってノズル２０を移動させる。本実施形態における移動軌道Ｏｂは、互いに略相似形となる複数の周回軌道を入れ子状に内包する軌道群と、該軌道群を構成する複数の軌道どうしを連結する渡り線軌道との組み合わせである（図１２参照）。軌道群は、図１２に示すように、最も外方に位置する第１の移動軌道と、該第１の移動軌道の内方に位置する第１～第３内方側軌道ｓ１～ｓ３からなり、これら複数の軌道どうしを渡り線軌道ｔが連結している。グラデーション領域Ｇをより精度良く形成させる観点から、移動軌道における軌道群を構成する複数の周回軌道は、渡り線軌道ｔに連結されていることが好ましい。渡り線軌道ｔは、複数の周回軌道を連結するものであるが、各周回軌道と交わるか、又は接するものであればよい。

　渡り線軌道ｔは、軌道群を構成する複数の周回軌道どうしを連結する直線状の軌道であればよい。一方、電界紡糸装置１００では、原料液の吐出速度をより制御する観点から、原料液の吐出を連続的に行うことが好ましい。この場合、ナノファイバ層の厚みが過度に大きくなることを抑制する観点から、渡り線軌道ｔは、軌道群を構成する各周回軌道の終点どうしを結んだ直線状の軌道であることが好ましい。即ち、軌道計算工程では、軌道群を構成する各周回軌道の終点どうしを結んだ直線状の軌道となるように渡り線軌道ｔを計算することが好ましい。

　移動軌道Ｏｂを計算する場合、該移動軌道Ｏｂは、外側から内側に向かって移動する軌道であってもよく、内側から外側に向かって移動する軌道であってもよく、外側から内側に向かって移動する軌道と内側から外側に向かって移動する軌道との組み合わせであってもよい。また、移動軌道Ｏｂは、同一の移動方向で構成されてもよく、異なる移動方向の組み合わせで構成されてもよい。図１２に示す移動軌道Ｏｂを計算する場合、外側から内側に向かって移動する形態としては、第１の移動軌道ｒ１、第１内方側軌道ｓ１、第２内方側軌道ｓ２、及び第３内方側軌道ｓ３の順で移動する形態が挙げられる。また、内側から外側に向かって移動する形態としては、第３内方側軌道ｓ３、第２内方側軌道ｓ２、第１内方側軌道ｓ１、第１の移動軌道ｒ１の順で移動する形態が挙げられる。
　以下、移動軌道Ｏｂを構成する第１の移動軌道を単にｒ１、該第１の移動軌道の内方に位置する第１～第３内方側軌道それぞれを単にｓ１～ｓ３ともいう。

　ナノファイバ層１１の厚みの精度を向上させる観点、及びグラデーション領域Ｇをより確実に形成する観点から、堆積工程において、ノズル及び捕集部の少なくとも一方が、軌道群を構成する軌道の少なくとも一部に沿った移動を繰り返しながら、ナノファイバを堆積させることが好ましい。例えば、図１２に示す移動軌道Ｏｂの場合、複数の周回軌道ｒ１、ｓ１～ｓ３のうちの何れかに沿って移動する動作を、ノズル及び捕集部の少なくとも一方が複数回繰り返す。この場合、同一の軌道に沿った移動を複数回繰り返した後に、別の軌道に沿った移動を行ってもよく、各軌道に沿った移動を１回ずつ行う動作を複数回繰り返し行ってもよい。前記の「同一の軌道」は、ｒ１、ｓ１、ｓ２の周回軌道であってもよく、ｓ３の周回状とならない軌道であってもよい。図１２に示す移動軌道Ｏｂの場合、ｒ１を１周した後にｓ１を２周繰り返し、ｓ２を３周繰り返し、ｓ３を３回繰り返してもよい。また、ｒ１からｓ３までの各軌道を各１回で移動した後に、ｓ１からｓ３までの各軌道を各１回で移動し、更にｓ２とｓ３の各軌道を各１回で移動してもよい。
　上記と同様の観点から、軌道計算工程は、ナノファイバ層の厚みが所定の設定値となるように、例えば設計上の内方領域Ｍの最低厚みＤ５以上となるように、ノズル及び捕集部の少なくとも一方が同一の軌道に沿った移動を繰り返す、繰り返し回数を計算することが好ましい。斯かる計算を、以下計算Ｊ４ともいう。計算Ｊ４は、ナノファイバ層１１における所定の位置における厚みが、設定された厚みとなるように、例えば設計上の内方領域Ｍの最低厚みＤ５以上となるように、各移動軌道に対し、軌道に沿った移動の繰り返し回数を算出する。計算Ｊ４は、前述した計算Ｊ２において計算される、重複領域Ｅの厚みの上限が、設計上の所定の厚み以上とならない場合に有効である。

　堆積工程では、前述したように、ノズル及び捕集部の少なくとも一方が、同一の周回軌道に沿った移動を繰り返してもよいが、互いに略相似形となる複数の周回軌道に対し、該軌道に沿った移動を行ってもよい。

　本実施形態において移動軌道Ｏｂは、軌道群と渡り線との組み合わせであったが、図１５に示すように、移動軌道Ｏｂ１は一筆書き可能な線状であってもよい。一筆書き可能な線状は、連続した１本の線からなり、該線が重複する部位を有しないものであることを意味する。斯かる構成により、原料液の吐出を連続的に行うことができ、原料液の吐出をより制御することができる。一筆書き可能な線状である移動軌道としては、図１５に示す、渦巻き状のものが挙げられる。

　前記の一筆書き可能な線状の移動軌道Ｏｂ１は、前述した計算Ｊ１、計算Ｊ２、及び計算Ｊ３を用いた移動軌道計算工程によって求められる。図１５に示すような渦巻き状の移動軌道は、最も外方に位置する軌道線が第１の移動軌道ｒ１となり、該軌道線よりも内方に位置する軌道線が第１～第３内方側軌道ｓ１～ｓ３となる。

　一筆書き可能な線状の移動軌道Ｏｂ１を計算する場合、該移動軌道Ｏｂ１は、外側から内側に向かって移動する軌道であってもよく、内側から外側に向かって移動する軌道であってもよい。図１５に示す移動軌道Ｏｂ１の端点である、第１の移動軌道ｒ１側の端点をｉ１、及び第３内方側軌道ｓ３側の端点をｉ２としたとき、当該移動軌道Ｏｂ１は、ｉ１が始点、及びｉ２が終点となるように移動する軌道であってもよく、ｉ２が始点、及びｉ１が終点となるように移動する軌道であってもよい。

　ナノファイバ層１１の厚みの精度を向上させる観点やグラデーション領域Ｇをより確実に形成する観点から、堆積工程において、ノズル及び捕集部の少なくとも一方が、一筆書き可能な線状の移動軌道Ｏｂ１に沿った移動を繰り返すことが好ましい。例えば、ノズル及び捕集部の少なくとも一方が、図１５に示す移動軌道Ｏｂ１に沿った移動をする場合、端点ｉ１を始点に、第１の移動軌道ｒ１から第３内方側軌道ｓ３側の端点ｉ２まで移動した後に、第１内方側軌道ｓ１から第２内方側軌道ｓ２を介して第３内方側軌道ｓ３側の端点ｉ２まで移動し、更に第２内方側軌道ｓ２から第３内方側軌道ｓ３側の端点ｉ２までを移動してもよい。

　ノズル２０の吐出孔から吐出されるナノファイバの吐出面積のぶれを抑制し、グラデーション領域Ｇを精度良く形成させる観点から、ノズル２０及び捕集部４０の何れか一方又は双方を一定速度で移動させることが好ましい。上記と同様の観点から、ノズル２０及び捕集部４０の何れか一方の移動速度は、好ましくは５ｍｍ／秒以上、より好ましくは５０ｍｍ／秒以上であり、また好ましくは１０００ｍｍ／秒以下、より好ましくは１５０ｍｍ／秒以下であり、また好ましくは５ｍｍ／秒以上１０００ｍｍ／秒以下であり、より好ましくは５０ｍｍ／秒以上１５０ｍｍ／秒以下である。

　本実施形態のナノファイバシート１０は、図１に示すように、基材層１２と、ナノファイバを含むナノファイバ層１１とを備えている。ナノファイバ層１１の一方の面には基材層１２が配置されている。このように基材層１２を備えるナノファイバシート１０は、捕集部４０上に基材層１２を配し、該基材層１２上にナノファイバを堆積させることで製造することができる。また、ナノファイバを堆積させた後、ナノファイバシートを所望の形状や大きさにする観点から、ナノファイバシートの製造方法は、得られたナノファイバシート１０、基材層１２、又はこれら両方を切断する切断工程を具備することが好ましい。切断工程には、例えば、ロールの周面に、周方向に延びる切断刃が形成されたカッターロールと、該カッターロールの刃を受けるアンビルロールとを備えた切断装置や、超音波カッター等の公知の切断装置を用いることができる。

　ノズル２０の吐出孔の横断面形状は、特に制限されず、例えば円状の平面又は鋭角部等の任意の形状を有するように形成されていてもよい。図９に示すように、ノズル２０を円柱状とした場合、繊維Ｆの堆積を効率的に行う観点から、ノズル２０の先端における直径、即ち吐出孔の直径は、０．１ｍｍ以上２０ｍｍ以下が好ましく、０．１ｍｍ以上１５ｍｍ以下であることが好ましい。
　原料液供給路の供給端は、ノズル２０の近傍に配置されていることが好ましく、例えばノズル２０から１０ｍｍ以内の範囲に供給端を配置することが好ましい。

　グラデーション領域Ｇを容易に形成する観点から、電界紡糸装置１００におけるノズル２０の先端と対向電極３０との離間距離は、好ましくは３０ｍｍ以上、より好ましくは５０ｍｍ以上とすることができ、また、好ましくは３５０ｍｍ以下、より好ましくは３００ｍｍ以下とすることができる。

　次に、ナノファイバシートの製造方法に用いられる電界紡糸装置の別の実施形態について、図１６～２１を参照しながら説明する。以下に説明する第２実施形態～第５実施形態に係る電界紡糸装置１００Ａ，１００Ｂ，１００Ｃ，１００Ｄについては、上述した第１実施形態に係る電界紡糸装置１００と異なる点について説明する。特に説明しない点については、上述した第１実施形態に係る電界紡糸装置と同様であり、該電界紡糸装置の説明が適宜適用される。

　図１６には、電界紡糸装置の第２実施形態が示されている。図１６に示す電界紡糸装置１００Ａは、原料液を吐出するノズル２０と、該ノズル２０に電圧を印加する電源である電圧印加部３２と、原料液から生成された繊維Ｆ（ナノファイバ）を集積する捕集部４０と、ノズル２０を移動させるノズル移動機構５０と、ナノファイバシートを所定形状の輪郭に切断する切断部７とを具備している。本実施形態において捕集部４０は、金属等の導電性材料から構成される。捕集部４０は、ノズル２０と対向するように配されている。捕集部４０は接地されている。したがって、ノズル２０に正又は負の電圧が印加されることで、ノズル２０と捕集部４０との間に電界が生じるようになっている。

　切断部７は、捕集部４０上に形成されたナノファイバシート１０を所定形状の輪郭に切断するものである。切断部７は、後述する切断部移動機構７０に取り付けられている。切断部７としては、レーザー光の照射によって溶断するレーザー加工機、超音波振動による摩擦熱によって溶断する超音波カッター等が挙げられる。コンパクトでありながら細かな形状にカットできる観点から、レーザー加工機が好ましく用いられる。

　切断部７としてレーザー加工機を用いる場合、照射するレーザー光としては、ＣＯ_２レーザー、エキシマレーザー、アルゴンレーザー、半導体レーザー、ＹＡＧレーザー等が挙げられる。ナノファイバシートを効率よく切断する観点から、ＣＯ_２レーザーが好ましく用いられる。レーザー光の出力は、１．５Ｗ以上であることが好ましく、５Ｗ以上であることが更に好ましく、そして１５０Ｗ以下であることが好ましく、５０Ｗ以下であることが更に好ましい。レーザー光の照射時間は、１ｍｍ／秒以上であることが好ましく、２０ｍｍ／秒以上であることが更に好ましく、そして１２００ｍｍ／秒以下であることが好ましく、３００ｍｍ／秒以下であることが更に好ましい。

　レーザー光を照射してナノファイバシート１０を切断するときに、ナノファイバ層における基材層対向面の焦げを防止する観点から、捕集部４０は、通気性を有する部材で形成されていることが好ましい。

　電界紡糸装置１００Ａは台座９０を具備している。台座９０は、非導電性材料又は導電性材料から構成され得る。台座９０は、平面視してＸ軸方向である縦方向と、Ｘ軸方向に直交するＹ軸方向である横方向とを有している。Ｘ軸方向及びＹ軸方向からなる台座９０の主面は、ノズル２０に対向している。図１６に示すとおり、台座９０の主面の中央部には捕集部移動機構８０が載置されている。また台座９０の周縁部に、ノズル移動機構５０と切断部移動機構７０とが互いに干渉しないような位置に配置されている。

　捕集部移動機構８０は、Ｘ軸方向に延びるＸ軸レール８４とＹ軸方向に延びるＹ軸レール８６と有している。Ｘ軸レール８４には凹状の案内溝８３がＸ軸方向に沿って形成されている。Ｙ軸レール８６には凹状の案内溝８５がＹ軸方向に沿って形成されている。捕集部４０は電気的に絶縁された状態でＸ軸レール８４に取り付けられている。捕集部４０は案内溝８３に沿ってＸ軸方向に摺動自在となっている。Ｘ軸レール８４は電気的に絶縁された状態でＹ軸レール８６に取り付けられている。Ｘ軸レール８４は案内溝８５に沿ってＹ軸方向に摺動自在となっている。Ｙ軸レール８６は、台座９０のＸ軸方向中心位置を通るように台座９０の主面に載置され且つ固定されている。捕集部４０の捕集面と、台座９０の主面とは平行になっている。以上の構成を有する捕集部移動機構８０によれば、捕集部４０が、Ｘ軸方向及びＹ軸方向の捕集面内に沿って自在に移動可能となる。

　ノズル移動機構５０は、少なくとも捕集部４０が移動する範囲内において、ノズル２０が移動可能なように構成されている。ノズル移動機構５０は、ノズル２０を保持するスライダ５１と、Ｘ軸方向及びＹ軸方向それぞれに沿うＸ軸レール５３，５５と、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に直交する鉛直方向であるＺ軸方向に延びるＺ軸レール５２とを備えている。Ｚ軸レール５２は、凹状に形成されたＺ軸方向に沿う案内溝５７を有している。スライダ５１は、案内溝５７に嵌め込まれており、案内溝５７に沿ってＺ軸方向に摺動自在となっている。Ｙ軸レール５５は、Ｙ軸方向に延びるＹ軸案内溝５６を有している。Ｘ軸レール５３は、Ｘ軸方向に延びるＸ軸案内溝５４を有している。Ｚ軸レール５２は電気的に絶縁された状態でＹ軸レール５５に取り付けられている。Ｚ軸レール５２はＹ軸案内溝５６に沿ってＹ軸方向に摺動自在となっている。Ｙ軸レール５５は電気的に絶縁された状態でＸ軸レール５３に取り付けられている。Ｙ軸レール５５はＸ軸案内溝５４に沿ってＸ軸方向に摺動自在となっている。Ｘ軸レール５３は、その一端が台座９０の主面に立設された支柱５９に固定されている。以上の構成を有するノズル移動機構５０によれば、ノズル２０が、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向及びＺ軸方向に自在に移動可能となっている。

　切断部移動機構７０は、少なくとも捕集部４０が移動する範囲内において、切断部７が移動可能なように構成されている。切断部移動機構７０は、切断部７を保持するスライダ７１と、Ｙ軸方向及びＸ軸方向それぞれに沿うＹ軸レール７３及びＸ軸レール７５と、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に直交する鉛直方向であるＺ軸方向に延びるＺ軸レール７２とを備えている。Ｚ軸レール７２は、凹状に形成されたＺ軸方向に沿う案内溝７７を有している。スライダ７１は案内溝７７に嵌め込まれており、案内溝７７に沿ってＺ軸方向に摺動自在となっている。Ｙ軸レール７３は、Ｙ軸方向に延びるＹ軸案内溝７４を有している。Ｘ軸レール７５は、Ｘ軸方向に延びるＸ軸案内溝７６を有している。Ｚ軸レール７２は電気的に絶縁された状態でＹ軸レール７３に取り付けられている。Ｚ軸レール７２はＹ軸案内溝７４に沿ってＹ軸方向に摺動自在となっている。Ｙ軸レール７３は電気的に絶縁された状態でＸ軸レール７５に取り付けられている。Ｙ軸レール７３はＸ軸案内溝７６に沿ってＸ軸方向に摺動自在となっている。Ｘ軸レール７５は、その一端が台座９０の主面に立設された支柱７９に固定されている。以上の構成を有する切断部移動機構７０によれば、切断部７が、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向及びＺ軸方向に自在に移動可能となっている。

　捕集部移動機構８０、ノズル移動機構５０及び切断部移動機構７０は、制御部（不図示）と電気的に接続されており、制御部に入力された移動軌道のデータや、操作者がコントローラーを介して制御部に入力した操作信号に基づき、捕集部４０、ノズル２０及び切断部７を移動させることが可能になされている。制御部には、移動軌道のデータが入力されているか、又は入力可能になされている。制御部への移動軌道のデータの入力は、ＵＳＢメモリ等の記録媒体を介して入力可能であってもよいし、インターネットやイントラネット等のネットワークを介して入力可能であってもよい。

　本実施形態の電界紡糸装置１００Ａにおいては、ノズル移動機構５０の支柱５９と切断部移動機構７０の支柱７９とが共通の支持部材である台座９０によって支持されている。つまり、ノズル移動機構５０と切断部７とが共通の支持部材によって支持されている。その結果、電界紡糸装置１００Ａは、ノズル移動機構５０によってノズル２０を三軸方向に自在に移動させながら捕集部４０上に繊維Ｆを堆積させてナノファイバシート１０を製造する製造部と、切断部移動機構７０によって切断部７を三軸方向に自在に移動させながらナノファイバシート１０を所定形状の輪郭に切断する切断部とを単一の装置内に備えていることになる。したがって、本実施形態の電界紡糸装置１００Ａは、装置全体がコンパクトなものとなる。コンパクトである利点を活かして、本実施形態の電界紡糸装置１００Ａを、例えばナノファイバシートを販売する店頭等に気軽に設置することができ、顧客の要望に応じ、その場で所望形状の輪郭を有するナノファイバシートを提供することができる。

　ノズル移動機構５０と切断部７とが共通の支持部材によって支持されているとは、該支持部材を移動させることで、ノズル移動機構５０及び切断部７も同時に移動するように、ノズル移動機構５０及び切断部７が支持部材に取り付けられていることをいう。したがって、支持部材を移動させたときにノズル移動機構５０及び切断部７の何れか一方のみが移動し、他方は移動しないような場合には、ノズル移動機構５０及び切断部７は共通の支持部材に支持されていない。

　電界紡糸装置１００Ａを用いたナノファイバシート１０の製造方法の好ましい一実施態様を、ナノファイバ層と基材層とを有するナノファイバシートの製造を例にとり説明する。先ず、捕集部４０上に基材層を配置する。制御部（不図示）から送られる操作信号に基づき、捕集部移動機構８０を作動させて、捕集部４０を所定の位置に移動させる。次に、ノズル２０と捕集部４０との間に電界を生じさせた状態で、ノズル２０に原料液を供給し、該ノズルから原料液を吐出させる。原料液を吐出させている間、制御部（不図示）から送られる操作信号に基づきノズル移動機構５０を作動させてノズル２０を移動させる。吐出された原料液は、基材層に到達するまでに原料液に含まれる溶媒を蒸発しつつ、繊維Ｆを形成しながら捕集部４０に引き寄せられるように紡糸される。繊維Ｆは捕集部４０に配された基材層上に堆積し、繊維Ｆの堆積体を形成する。この堆積体がナノファイバ層となる。

　次いで、制御部（不図示）から送られる操作信号に基づき、切断部移動機構７０を作動させて切断部７を移動させながら、切断部７からレーザー光を照射してナノファイバシート１０を切断する。これにより、所望の平面視形状のナノファイバシート１０が形成される。切断部７は、レーザー光の照射条件等に応じ、基材層上のナノファイバ層のみを切断するか、堆積したナノファイバ層の周縁よりも外方に位置する基材層のみを切断するか、又は基材層及びナノファイバ層を備えるナノファイバシート１０全体を切断するように構成されている。

　ナノファイバシート１０の成形性の観点から、ノズル２０、切断部７及び捕集部４０の少なくとも一つは、一定速度で移動させることが好ましい。これら各部の移動速度の好ましい範囲は、上述した「ノズル２０及び捕集部４０の何れか一方の移動速度」と同じ範囲とすることができる。

　本実施形態の電界紡糸装置１００Ａは、店頭等に設置することを考慮して、その全体がカバーで覆われていることが好ましい。カバーには一部に透明部が設けられていることが好ましい。該透明部は、意図せず漏出するレーザー光を減衰させる観点から、レーザー光の波長の光を吸収し易い材料、例えばアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂又はガラス等から構成されていることが好ましい。

　電界紡糸装置１００Ａの全体がカバーで覆われているときには、店頭等に設置することを考慮して、レーザー光を照射してナノファイバシート１０を切断するときの焦げの臭いを脱臭する集塵脱臭機構を具備していることが好ましい。

　図１７には、電界紡糸装置の第３実施形態が示されている。第３実施形態、並びに後述する第４実施形態及び第５実施形態の各電界紡糸装置については、第２実施形態に係る電界紡糸装置１００Ａと異なる点について説明する。特に説明しない点については、第２実施形態に係る電界紡糸装置と同様であり、該電界紡糸装置の説明が適宜適用される。

　上述の電界紡糸装置１００Ａは、ノズル移動機構５０と、ノズル移動機構５０とは別に切断部移動機構７０とを備えていたが、第２実施形態に係る電界紡糸装置１００Ｂにおいては、切断部７がノズル移動機構５０に取り付けられている。

　図１７に示す電界紡糸装置１００Ｂにおいては、台座９０の中央部に捕集部移動機構８０が載置されている。また台座９０の周縁部にノズル移動機構５０が配置されている。電界紡糸装置１００Ｂのノズル移動機構５０は、ノズル２０を保持するスライダ５１と、Ｘ軸レール５３，Ｙ軸レール５５と、Ｚ軸レール５２とを備えている。スライダ５１は、Ｚ軸レール５２に形成された案内溝５７に嵌め込まれている。スライダ５１は、ノズル２０と、それ以外に切断部７とを保持している。ノズル移動機構５０によれば、スライダ５１が、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向及びＺ軸方向に自在に移動可能となっている。その結果、ノズル２０及び切断部７が、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向及びＺ軸方向に自在に移動可能となっている。

　本実施形態の電界紡糸装置１００Ｂにおいては、ノズル２０及び切断部７が、ノズル移動機構５０を構成するスライダ５１に支持されている。つまり、ノズル移動機構５０と切断部７とが共通の支持部材によって支持されている。その結果、ノズル移動機構５０によってノズル２０及び切断部７を三軸方向に自在に移動させることができる。電界紡糸装置１００Ｂは、ナノファイバシート１０を製造する製造部と、ナノファイバシート１０を所定形状の輪郭に切断する切断部とを同じノズル移動機構５０内に備えているので、装置全体が更にコンパクトなものとなる。

　電界紡糸装置１００Ｂを用いたナノファイバシート１０の製造方法においては、上述の電界紡糸装置１００Ａと同様に、制御部（不図示）から送られる操作信号に基づき、ノズル移動機構５０を作動させてノズル２０を移動させながら、ノズル２０から原料液を吐出させ、捕集部４０に配された基材層上にナノファイバ層を形成してナノファイバシート１０を製造する。次いで、制御部（不図示）から送られる操作信号に基づき、ノズル移動機構５０を作動させて切断部７を移動させながら、切断部７からレーザー光を照射してナノファイバシート１０を切断し、所望の形状のナノファイバシート１０が形成される。

　図１６に示す上述の電界紡糸装置１００Ａは、台座９０の中央部に載置された捕集部移動機構８０と、台座９０の周縁部に互いに対向するように配置されたノズル移動機構５０及び切断部移動機構７０とを備えているが、ノズル移動機構５０及び捕集部移動機構８０を有する一方、切断部移動機構７０を有しておらず、台座９０の周縁部に立設された支柱に切断部７が固定されていてもよい。このような装置においても、ノズル移動機構５０と切断部７とが、共通の支持部材である台座９０によって支持されており、装置全体が非常にコンパクトなものとなる。

　次に、電界紡糸装置の第４実施形態及び第５実施形態について説明する。図１８及び図１９には、第４実施形態及び第５実施形態に係る各電界紡糸装置に用いられるカートリッジ部１が示されている。図１８に示すカートリッジ部１は、原料液を収容可能な収容部２、及び原料液を吐出するノズル２０を備えている。カートリッジ部１は更に収容部２からノズル２０へ原料液を供給する供給部３を備えている。

　収容部２は、合成樹脂製のパウチ等を始めとする各種の容器から構成されている。収容部２が例えばパウチから構成されている場合には、図１８及び図１９に示すとおり、同形で且つ同サイズの２枚の合成樹脂製フィルムを重ね合わせ、それらの周縁を液密に接合することで収容部を形成することができる。収容部２はその周縁部に、原料液の充填・送出が可能な開口部４を備えている。開口部４を通じて、収容部２の空間内に原料液を充填することができ、また収容部２内に充填された原料液を外部に送出することができる。

　ノズル２０は細径の吐出孔（図示せず）を備えている。ノズル２０は非導電性の材料、例えば合成樹脂等から構成されている。吐出孔内には導電性を有する針状の電極（図示せず）が、該吐出孔の長手方向に沿って配置されている。電極は、ノズル２０を通じて吐出される原料液を帯電させるために用いられるものである。電極は、後述する電源に接続されている。その結果、ノズル２０には正又は負の電圧が印加されるようになっている。ノズル２０は、その吐出孔の一端が、カートリッジ部１における供給部３と直接に連結している。直接に連結しているとは、ノズル２０と供給部３との間に、これらの部材とは別部材の供給管が介在していない状態で両者が連結していることを意味する。吐出孔の他端は外部に向けて開口している。

　供給部３は、収容部２内に収容された原料液をノズル２０へ供給する機能を有する。この目的のために、供給部３は原料液の送液機構（図示せず）を備えている。送液機構としては、公知のものを特に制限なく用いることができる。例えばギアポンプを送液機構として用いることができる。ギアポンプは小型であり、且つ原料液を高い精度で定量的に送液することが可能であることから、本発明において好適に用いられる。供給部３には、送液機構を駆動させるための駆動源（これについては後述する。）と接続するための係合接続部５を有している。係合接続部５は、駆動源に備えられた被係合接続部（図示せず）と係合することによって、駆動源で発生した駆動力が送液機構に伝達されるようになっている。

　供給部３は、図１９に示すとおり、原料液の受け入れ部６を有している。受け入れ部６は円筒状の基部６ａを有している。受け入れ部６は更に、基部６ａの上端に連設し且つ基部６ａよりも細径の円筒状をした受液管６ｂを有している。受液管６ｂの先端は、同図中、上方に向けて開口している。カートリッジ部１の使用状態においては、受け入れ部６が、収容部２に設けられた開口部４内に挿入されて、該収容部２が供給部３に着脱可能に取り付けられるようになっている。詳細には、受け入れ部６が開口部４内に挿入された状態においては、受液管６ｂの先端が収容部２における原料液の収容空間にまで到達して、該原料液を供給部３に供給できるようになっている。また基部６ａが開口部４と液密に嵌合し、収容部２と供給部３との結合状態が維持されるようになっている。このように、収容部２が供給部３に取り付けられた状態においては、収容部２と供給部３とが直接に連結している。直接に連結しているとは、収容部２と供給部３との間に、これらの部材とは別部材の供給管が介在していな状態で両者が連結していることを意味する。

　カートリッジ部１が上述の構成を有することで、本実施形態においては、原料液の種類を変更して別のナノファイバシートを製造するときに、収容部２を取り外して、別の原料液を収容した収容部２を取り付けるだけの簡単な操作を行うだけで済むという利点がある。しかも、比較的高価な部材であるノズル２０の再使用が可能となるので経済的でもある。その上、収容部２と供給部３とが直接に連結しており、且つ供給部３とノズル２０とも直接に連結しているので、カートリッジ部１を交換して別の原料液を用いるときに、該カートリッジ部１内における原料液の流路の洗浄を簡便に行えるという利点もある。

　図２０には、第４実施形態に係る電界紡糸装置１００Ｃが示されている。図２０に示す電界紡糸装置１００Ｃは、図１８及び図１９に示すカートリッジ部１を備えている。電界紡糸装置１００Ｃは、ノズル２０を備えたカートリッジ部１を備えている点、及びノズル移動機構５０が該カートリッジ部１全体を移動させる構成を具備している点以外は、第２実施形態に係る電界紡糸装置１００Ａと同様の構成を具備している。

　ノズル移動機構５０は、少なくとも捕集部４０が移動する範囲内において、ノズル２０を含むカートリッジ部１が移動可能なように構成されている。本実施形態のノズル移動機構５０は、斯かる構成以外、第２実施形態におけるノズル移動機構５０と同様の構成を具備している。

　ノズル移動機構５０においては、上述のとおり、カートリッジ部１がスライダ５１に着脱可能に取り付けられている。つまりスライダ５１は、カートリッジ部１の昇降手段として用いられているだけでなく、カートリッジ部１の取付部としても用いられている。カートリッジ部１の取付部であるスライダ５１には、該カートリッジ部１における供給部３（図１８及び図１９参照）を駆動させるための駆動源８が備えられている。駆動源８には、供給部３に備えられた係合接続部５（図１８及び図１９参照）と係合する被係合接続部（図示せず）が備えられている。カートリッジ部１が、その取付部としてのスライダ５１に取り付けられた状態においては、供給部３の係合接続部５と、駆動源８の被係合接続部（図示せず）とが係合して、駆動源８によって発生した駆動力が供給部３に伝達されるようになっている。

　上述したとおり、本実施形態においてはカートリッジ部１がスライダ５１に着脱可能に取り付けられているので、原料液の種類を変更して別のナノファイバシートを製造するときに、カートリッジ部１をスライダ５１から取り外して、別の原料液を収容したカートリッジ部１を取り付けるだけの簡単な操作を行うだけで、新たなナノファイバシートを製造できる利点がある。この利点は、カートリッジ部１において、収容部２が供給部３から着脱不能になっている場合に特に顕著なものとなる。

　カートリッジ部１は、その取付部であるスライダ５１に着脱可能に電気的に絶縁した状態で取り付けられている。こうすることで、カートリッジ部１に備えられたノズル２０に高電圧を印加した場合であっても、意図しない放電を効果的に抑制することができる。

　捕集部移動機構８０、ノズル移動機構５０及び切断部移動機構７０は、制御部（不図示）と電気的に接続されており、制御部に入力された移動軌道のデータや、操作者がコントローラーを介して制御部に入力した操作信号に基づき、捕集部４０、カートリッジ部１及び切断部７を移動させることが可能になされている。

　図２１には、第５実施形態に係る電界紡糸装置１００Ｄが示されている。図２１に示す電界紡糸装置１００Ｄは、図１８及び図１９に示すカートリッジ部１を備えている。電界紡糸装置１００Ｄにおいては、切断部７がノズル移動機構５０に取り付けられている。

　図２１に示す電界紡糸装置１００Ｄにおいては、台座９０の中央部に捕集部移動機構８０が載置されている。また台座９０の周縁部にノズル移動機構５０が配置されている。電界紡糸装置１００Ｄのノズル移動機構５０は、ノズル２０を含むカートリッジ部１が着脱可能に取り付けられるスライダ５１と、レール５３，５５と、Ｚ軸レール５２とを備えている。スライダ５１は、Ｚ軸レール５２に形成された案内溝５７に嵌め込まれている。スライダ５１は、カートリッジ部１と切断部７とを保持している。ノズル移動機構５０によれば、スライダ５１が、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向及びＺ軸方向に自在に移動可能となっている。その結果、ノズル２０を含むカートリッジ部１及び切断部７が、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向及びＺ軸方向に自在に移動可能となっている。

　本実施形態の電界紡糸装置１００Ｄにおいては、ノズル２０を含むカートリッジ部１及び切断部７が、ノズル移動機構５０を構成するスライダ５１に支持されている。つまり、ノズル移動機構５０と切断部７とが共通の支持部材によって支持されている。その結果、ノズル移動機構５０によってノズル２０及び切断部７を三軸方向に自在に移動させることができる。電界紡糸装置１００Ｄは、ナノファイバシート１０を製造する製造部と、ナノファイバシート１０を所定形状の輪郭に切断する切断部とを同じノズル移動機構５０内に備えているので、装置全体が更にコンパクトなものとなる。

　次に、上述した電界紡糸装置を用いたナノファイバシートの製造方法に用いられる原料液について説明する。
　原料液としては、繊維形成可能な高分子化合物が溶媒に溶解又は分散した溶液を用いることができる。繊維形成可能な高分子化合物としては、上述したナノファイバの高分子化合物が用いられる。

　原料液には前記高分子化合物以外に、無機物粒子、有機物粒子、植物エキス、界面活性剤、油剤、イオン濃度を調整するための電解質等を適宜配合することができる。
　原料液の溶媒としては、水、メタノール、エタノール、１－プロパノール、２－プロパノール、ヘキサフルオロイソプロパノール、１－ブタノール、イソブチルアルコール、２－ブタノール、２－メチル－２－プロパノール、テトラエチレングリコール、トリエチレングリコール、ジベンジルアルコール、１，３－ジオキソラン、１，４－ジオキサン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチル－ｎ－ヘキシルケトン、メチル－ｎ－プロピルケトン、ジイソプロピルケトン、ジイソブチルケトン、アセトン、ヘキサフルオロアセトン、フェノール、ギ酸、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸プロピル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジプロピル、塩化メチル、塩化エチル、塩化メチレン、クロロホルム、ｏ－クロロトルエン、ｐ－クロロトルエン、四塩化炭素、１，１－ジクロロエタン、１，２－ジクロロエタン、トリクロロエタン、ジクロロプロパン、ジブロモエタン、ジブロモプロパン、臭化メチル、臭化エチル、臭化プロピル、酢酸、ベンゼン、トルエン、ヘキサン、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、シクロペンタン、ｏ－キシレン、ｐ－キシレン、ｍ－キシレン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、ピリジン等が挙げられる。これらの溶媒は単独で又は複数混合して用いることができる。

　上述したナノファイバ層１１は、基材層１２となるシート状物に、直接又は粘着層を介して積層される。ナノファイバ層１１及び基材層１２は、接着剤を用いた接着、圧着、超音波シールによる接合、レーザーによる融着、ヒートシールによる熱融着等の固着により一体化される。また、ナノファイバシートが粘着層を備える場合、ナノファイバ層１１及び基材層１２、並びに基材層１２及び粘着層の何れか一方又は双方は、前記固着により一体化される。

　上述したナノファイバシートは、ノズル２０又は対向電極３０を移動させず、繊維Ｆの紡糸方向を変化させ、繊維Ｆの堆積量が漸次増加するグラデーション領域Ｇを形成して、製造してもよい。例えば、ノズル２０に、空気流を噴出する空気流噴出部を備え、繊維Ｆの堆積位置が所望の位置となるよう、空気流を繊維Ｆに吹きつけながら堆積することが挙げられる。

　以上の説明は、電界紡糸法によってナノファイバを製造し、基材層の一面にナノファイバを堆積させてナノファイバシートを製造することに関するものであったが、本発明は、ナノファイバ以外の繊維、例えばナノファイバよりも太い繊維に適用することができる。また本発明は静電スプレーによって製造され、捕集部によって捕集される粒子にも適用することができる。

　詳細には、本発明は、基材層と、該基材層の一方の面に配置された極薄シートとを備える積層シートを包含する。極薄シートは、繊維又は粒子の堆積物から構成されていることが好ましい。つまり極薄シートは、繊維シート又はフィルム状シートであることが好ましい。極薄シートを構成する繊維又は粒子は、該繊維又は粒子の原料液をノズルから吐出させ、該原料液から生じさせることができる。原料液から繊維を生じさせる場合、その方法に特に制限はなく、例えば溶融紡糸法を採用することができる。
　原料液から生じた繊維の太さは例えば１０ｎｍ以上とすることが好ましく、０．１μｍ以上とすることが更に好ましく、０．３μｍ以上とすることが一層好ましい。また原料液から生じた繊維の太さは、３０μｍ以下とすることが好ましく、３μｍ以下とすることが更に好ましく、１μｍ以下とすることが一層好ましい。原料液から生じた繊維の太さは、特に、１０ｎｍ以上３０μｍ以下とすることが好ましく、０．１μｍ以上３μｍ以下とすることが更に好ましく、０．３μｍ以上１μｍ以下とすることが一層好ましい。
　原料液に含まれる繊維の原料は、上述したナノファイバ層１１を構成する原料と同様とすることができる。

　一方、粒子の大きさは例えば０．０１μｍ以上とすることが好ましく、０．１μｍ以上とすることが更に好ましく、１μｍ以上とすることが一層好ましい。また粒子の大きさは、２００μｍ以下とすることが好ましく、１００μｍ以下とすることが更に好ましく、１０μｍ以下とすることが一層好ましい。粒子の大きさは、特に、０．０１μｍ以上２００μｍ以下とすることが好ましく、０．１μｍ以上１００μｍ以下とすることが更に好ましく、１μｍ以上１０μｍ以下とすることが一層好ましい。粒子の大きさは、レーザー回折散乱式粒度分布測定法による累積体積５０容量％における体積累積粒径Ｄ_５０で表される。
　原料液に含まれる粒子の原料は、ナノファイバを構成する原料と同様とすることができる。

　極薄シートは、それが繊維の堆積物から構成されている場合及び粒子の堆積物から構成されている場合の何れであっても、その厚みが５．１μｍ以上であることが好ましく、１０μｍ以上であることが更に好ましく、また極薄シートは、その厚みが５００μｍ以下であることが好ましく、４００μｍ以下であることが更に好ましい。特に極薄シートは、その厚みが５．１μｍ以上５００μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以上４００μｍ以下であることが更に好ましい。

　積層シートにおいては、基材層と極薄シートとは剥離可能に積層されている。上述したナノファイバシート１０と同様に、積層シートは粘着層を備えていることが好ましい。粘着層は、基材層と極薄シートとの間、又は極薄シートの基材層とは反対側の面に配されていることが好ましい。

　極薄シートは、該極薄シートが適用される被適用部位に応じた輪郭形状を有していることが好ましい。極薄シートが適用される被適用部位に特に制限はなく、上述したナノファイバシート１０と同様に、例えばヒトの身体の表面部位（すなわち皮膚）、歯、歯茎、毛髪、非ヒト哺乳類の皮膚（肌）、歯、歯茎、あるいは、枝や葉等の植物表面等が挙げられるが、これらの被適用部位に限られない。

　極薄シートを例えばヒトの身体の表面部位に適用する場合には、用途に応じた輪郭形状、又は該表面部位に応じた輪郭形状を有するように極薄シートを形成することが好ましい。例えば極薄シートを目の下の部位に適用する場合には、該極薄シートとして、図１に示すような、屈曲部を一箇所有する長円形の輪郭を有するものを用いることがフィット性の向上の観点から好ましい。同様の観点から、極薄シートを頬に適用する場合には、該極薄シートとして、各角が丸みを帯びているか、及び／又は、各辺が外方に向けて弧状になっている三角形の輪郭を有するものを用いることが好ましい。更に同様の観点から、極薄シートを額に適用する場合には、該極薄シートとして、略楕円形の輪郭を有するものを用いることが好ましい。また、例えばヒトの身体の表面におけるシミやほくろ、肌色むらを補正する用途で極薄シートを用いる場合、円形、楕円、角の丸い四角形又はそれらの組合せ形状を用いることができる。

　極薄シートがどのような輪郭形状を有する場合であっても、該極薄シートの輪郭線は、該輪郭線の全長のうちの半分超の長さの部分が曲線によって構成されていることが、該極薄シートと、該極薄シートが適用される部位とのフィット性が向上する観点から好ましい。この利点を一層顕著なものとする観点から、極薄シートの輪郭線は、該輪郭線の全長のうちの６０％以上、特に７０％以上、とりわけ８０％以上の長さの部分が曲線によって構成されていることが好ましい。極薄シートの輪郭線がすべて曲線によって構成されていてもよい。斯かる輪郭線は、前述の〔周縁端の厚みの測定方法〕における平面輪郭曲線により特定することができる。

　極薄シートは、その周縁端から内方に向かって厚みが漸次増加する、テーパー状の周縁領域を有している。「テーパー状」とは、極薄シートをその厚み方向に沿って見たときの周縁領域の断面形状のことである。「テーパー状の周縁領域」は、先に述べた「グラデーション領域Ｇ」と同じ意味である。

　テーパー状の周縁領域は、極薄シートの周縁端から内方に向かって幅５ｍｍ以内の領域に形成されていることが好ましい。「テーパー状の周縁領域の幅」とは、先に説明したナノファイバシートにおけるグラデーション領域Ｇにおける幅Ｗ１と同じ意味である。テーパー状の周縁領域の幅は、該周縁領域の何れにおいても同じであってもよく、あるいは位置によって異なっていてもよい。テーパー状の周縁領域の幅が位置によって異なっている場合、最小幅が５ｍｍ以内であることが好ましい。

　極薄シートは、テーパー状の周縁領域よりも内方の位置に、該周縁領域で囲まれた内方領域も有している。内方領域は、周縁領域と異なり厚みが実質的に一定の領域である。極薄シートの厚みというときには、内方領域での厚みを意味する。内方領域の厚み、すなわち極薄シートの厚みは５．１μｍ以上とすることが好ましく、１０μｍ以上とすることが更に好ましい。また極薄シートの厚みは、５００μｍ以下とすることが好ましく、４００μｍ以下とすることが更に好ましい。極薄シートの厚みは、特に、５．１μｍ以上５００μｍ以下とすることが好ましく、１０μｍ以上４００μｍ以下とすることが更に好ましい。

　上述のとおり内方領域は厚みが実質的に一定の領域である。したがって内方領域は、位置によって厚みが若干異なっていることが許容される。例えば平均厚みに対して±２５％程度の範囲で厚みが異なることが許容される。

　極薄シートの厚み方向に沿う断面において、内方領域は、その幅が好ましくは１００ｍｍ以下であり、更に好ましくは５０ｍｍ以下であり、一層好ましくは３０ｍｍ以下である。内方領域の幅の最小値は好ましくは０ｍｍであり、すなわち内方領域が存在していなくてもよい。「内方領域の幅」とは、先に説明したナノファイバシートにおける「内方領域Ｍの幅Ｗ２」（図２参照）と同じ意味である。

　極薄シートにおける内方領域の厚み及び周縁領域の厚みは、先に説明した〔ナノファイバ層の三次元形状の測定方法〕に従い測定できる。この測定方法は、先に説明したナノファイバシートにおけるグラデーション領域Ｇの厚み及び内方領域Ｍの厚みの測定にも適用できる。

　積層シートにおける基材層は、極薄シートの周縁端から外方に向かって延出する領域（この領域を「延出領域」ともいう。）を有していることが好ましい。このことは、先に説明したナノファイバシート１０において、図１ないし図３に示すとおり、基材層１２が、ナノファイバ層１１の周縁端から外方に向かって延出する領域を有していることと同じである。積層シートにおける基材層が延出領域を有していることで、基材層からの極薄シートの剥離を容易に行うことができる。

　積層シートにおける基材層は、極薄シートの周縁端の全域から延出していてもよく、あるいは該周縁域の一部から延出していてもよい。何れの場合であっても、延出領域の延出の程度は位置によって異なっていてもよく、あるいは同じであってもよい。基材層は、極薄シートの周縁端の全域から延出しており、且つ延出領域の延出の程度が位置によらず同じである場合には、極薄シートの輪郭形状と、基材層の輪郭形状とは略略相似形となる。両者の輪郭形状が相似形である利点は次のとおりである。極薄シートは、その厚みが非常に薄いので目視が容易でない場合がある。これに対して、極薄シートの輪郭形状と、基材層の輪郭形状とは略相似形であると、目視が容易な基材層の輪郭形状を視認することで、極薄シートの存在及び基材シートからの剥離を容易に行うことができる。

　本発明を、ノズルから原料液を吐出させ、該原料液から生じた繊維又は粒子を捕集部上に堆積させて、厚さ５．１μｍ以上５００μｍ以下の極薄シートを製造する、極薄シートの製造方法に適用することができる。
　また本発明を、ノズルから原料液を吐出させ、該原料液から生じた粒子を捕集部上の基材に堆積させて、厚さ５．１μｍ以上５００μｍ以下の極薄シートを製造する、極薄シートの製造方法にも適用することができる。
　これら極薄シートの製造方法は、原料液から生じた繊維又は粒子に関し上述した説明を適用することができる。また、これら製造方法により得られる極薄シートは、上述した極薄シートの説明が適宜適用される。

　極薄シートの製造方法は目的形状形成工程を備えている。目的形状形成工程においては、先に述べたナノファイバシートの製造方法と同様に、目的とする極薄シートの輪郭形状に関する情報に基づいて、ノズル及び捕集部の少なくとも一方を移動させながら、該極薄シートの輪郭形状の範囲内に原料液を吐出する。ノズルと捕集部との位置関係は、例えば先に述べた図９に示す実施形態と同様である。ノズル及び捕集部の駆動機構も図９に示す実施形態と同様である。

　目的形状形成工程においては、目的とする極薄シートの輪郭形状の周縁端から内方に向かって漸次厚みが増加する、テーパー状の周縁領域が形成されるように、原料液を吐出する。斯かる「テーパー状」も、極薄シートをその厚み方向に沿って見たときの周縁領域の断面形状のことである。即ち、「テーパー状の周縁領域」は、先に述べた「グラデーション領域Ｇ」と同じ意味であり、上述した説明が適宜適用される。

　以上、本発明をその好ましい実施形態に基づき説明したが、本発明は上述した実施形態に制限されず適宜変更可能である。
　例えば、上述した実施形態の電界紡糸装置１００では、捕集部４０が対向電極３０であったが、捕集部４０と対向電極３０はそれぞれ別体の部材であってもよい。この場合、捕集部４０と対向電極３０とは隣接して配されている。
　また、上述した実施形態のナノファイバシート１０は、基材層１２を備えていたが、該基材層１２を備えていないものであってもよい。
　また、上述した実施形態においては、軌道計算工程において、ナノファイバの堆積分布に関する要因として、ノズル２０の移動速度と、原料液の吐出速度と、ノズル２０と捕集部４０との間の距離とを採用していたが、これら以外の要因を採用してもよく、あるいはこれらと他の要因とを組み合わせて採用してもよい。

　また、上述した電界紡糸装置の各実施形態においては、ノズル２０又はカートリッジ部１の取付部であるスライダ５１は三軸の移動機構に取り付けられていたが、これに代えて少なくとも一軸の移動機構に取り付けられていればよい。同様に、捕集部４０及びスライダ７１も、少なくとも一軸の移動機構に取り付けられていればよい。

　また、前記の各実施形態の装置における台座９０は、単一の部材で構成されていたが、これに代えて、二以上の部材が任意の連結手段ないし締結手段によって連結されて、実質的に単一部材とみなせる状態になっていてもよい。

　また、前記の各実施形態の装置はノズル移動機構５０を備えていたが、これに代えて、ノズル移動機構５０を用いず、ノズル２０又はこれを含むカートリッジ部１が装置内の別の支持部材に移動不能に固定されていてもよい。この実施形態の装置は、少なくとも捕集部移動機構８０を備える必要がある。ノズル２０が移動不能に固定されている装置としては、ノズル２０に対向して配置された台座９０と、台座９０の中央部に載置された捕集部移動機構８０と、台座９０の周縁部に配置された切断部移動機構７０とを備え、捕集部移動機構８０と切断部移動機構７０とが共通の支持部材である台座９０によって支持されている装置が挙げられる。このような装置も装置全体が非常にコンパクトなものとなる。またノズル２０が移動不能に固定されている装置としては、ノズル２０に対向して配置された台座９０と、台座９０の中央部に載置された捕集部移動機構８０と、台座９０の周縁部に立設された支柱に移動不能に固体された切断部７とを備え、捕集部移動機構８０と切断部７とが共通の支持部材である台座９０によって支持されている装置が挙げられる。

　図１６に示す実施形態の電界紡糸装置１００Ａ、及び図２０に示す実施形態の電界紡糸装置１００Ｃは、台座９０の中央部に載置された捕集部移動機構８０と、台座９０の周縁部に互いに対向するように配置されたノズル移動機構５０及び切断部移動機構７０とを備えているが、これに代えて、電界紡糸装置は、ノズル移動機構５０を有する一方、捕集部移動機構８０を有しておらず、台座９０の中央部に捕集部４０が固定されている構成であってもよい。また、捕集部移動機構８０を有する一方、切断部移動機構７０を有しておらず、台座９０の周縁部に立設する支柱に切断部７が固定されている構成であってもよい。これらの装置においても、ノズル移動機構５０と切断部７とが、共通の支持部材である台座９０によって支持されており、装置全体が非常にコンパクトなものとなる。

　図１７に示す実施形態の電界紡糸装置１００Ｂ、及び図２１に示す実施形態の電界紡糸装置１００Ｄは、台座９０の中央部に載置された捕集部移動機構８０と、台座９０の周縁部に配置されたノズル移動機構５０とを備え、ノズル移動機構５０にノズル２０又はこれを含むカートリッジ部１及び切断部７が取り付けられているが、これに代えて、電界紡糸装置は、ノズル移動機構５０を有する一方、捕集部移動機構８０を有しておらず、台座９０の中央部に捕集部４０が固定されている構造であってもよい。このような装置においても、ノズル２０と切断部７とが、共通の支持部材であるノズル移動機構５０によって支持されており、装置全体が非常にコンパクトなものとなる。また、捕集部移動機構８０を有する一方、切断部移動機構７０を有しておらず、台座９０の周縁部に立設する支柱にノズル２０及び切断部７が固定されている構成であってもよい。このような装置においても、ノズル移動機構５０と切断部７とが、共通の支持部材である台座９０によって支持されており、装置全体が非常にコンパクトなものとなる。

　更に、前記の各実施形態の電界紡糸装置は、ノズル２０に電圧を印加する電源である電圧印加部３２を備えているが、これに代えて、電界紡糸装置は、特開２０１７－３１５１７号公報に記載されているように、ノズルを備えた原料噴射部と、ノズルに対向するように配され且つ該ノズルとの間に電界を生じさせる凹曲面の対向電極と、ノズルと対向電極との間に電圧を印加する電源である電圧発生部とを備えていてもよい。同公報に記載の装置によれば、捕集部に向かって空気流を吹き付けながら、該捕集部に配された基材層上にナノファイバを堆積させることが可能となる。

　上述した実施形態に関し、本発明は更に以下のナノファイバシート、その使用方法及びその製造方法、並びにナノファイバシートの製造装置を開示する。

＜１＞
　基材層と、該基材層の一方の面側に配された高分子化合物のナノファイバを含むナノファイバ層とを備えるナノファイバシートであって、
　前記ナノファイバ層は、その周縁端の厚みが０．１μｍ以上１０μｍ以下であり、且つ該周縁端から内方に向かって漸次厚みが増加するグラデーション領域を３ｍｍ以上有している、ナノファイバシート。

＜２＞
　基材層と、該基材層の一方の面に配置された厚み５．１μｍ以上５００μｍ以下の極薄シートとを備える積層シートであって、
　前記極薄シートは、該極薄シートが適用される被適用部位に応じた輪郭形状を有しており、
　前記極薄シートは、その周縁端から内方に向かって厚みが漸次増加するテーパー状の周縁領域を有しており、
　前記基材層は、前記極薄シートの前記周縁端から外方に向かって延出する領域を有している、積層シート。
＜３＞
　前記周縁端の厚みは、０．３μｍ以上、好ましくは０．５μｍ以上であり、また９μｍ以下、好ましくは８μｍ以下であり、また０．３μｍ以上９μｍ以下、好ましくは０．５μｍ以上８μｍ以下である、前記＜１＞に記載のナノファイバシート又は前記＜２＞に記載の積層シート。
＜４＞
　前記グラデーション領域又は前記テーパー状の周縁領域における内方端である最大厚み部の厚みＤ３は、５．１μｍ以上、好ましくは１０μｍ以上であり、また５００μｍ以下、好ましくは４００μｍ以下であり、また５．１μｍ以上５００μｍ以下、好ましくは１０μｍ以上４００μｍ以下である、前記＜１＞～＜３＞の何れか１に記載のナノファイバシート又は積層シート。
＜５＞
　前記グラデーション領域又は前記テーパー状の周縁領域の傾斜角度は、０．００１°以上、好ましくは０．００２°以上であり、また１０°以下、好ましくは８°以下であり、また０．００１°以上１０°以下、好ましくは０．００２°以上８°以下である、前記＜１＞～＜４＞の何れか１に記載のナノファイバシート又は積層シート。
＜６＞
　前記グラデーション領域又は前記テーパー状の周縁領域における内方端と前記周縁端との厚みの差が５μｍ以上である、前記＜１＞～＜５＞の何れか１に記載のナノファイバシート又は積層シート。
＜７＞
　前記グラデーション領域又は前記テーパー状の周縁領域における内方端である最大厚み部と前記周縁端との厚みの差は、５μｍ以上、好ましくは１０μｍ以上であり、また５００μｍ以下、好ましくは４００μｍ以下であり、また５μｍ以上５００μｍ以下、好ましくは１０μｍ以上４００μｍ以下である、前記＜１＞～＜６＞の何れか１に記載のナノファイバシート又は積層シート。
＜８＞
　前記グラデーション領域又は前記テーパー状の周縁領域内方端である前記最大厚み部の厚みＤ３の前記周縁端の厚みＤ１に対する比率（Ｄ３／Ｄ１）は、５０以上、好ましくは１００以上であり、また５０００以下、好ましくは４０００以下であり、また５０以上５０００以下、好ましくは１００以上４０００以下である、前記＜１＞～＜７＞の何れか１に記載のナノファイバシート又は積層シート。
＜９＞
　前記ナノファイバ層又は前記極薄シートの平面視形状が、曲率が異なる複数の曲線部分を輪郭に含む形状、複数の直線部分を輪郭に含む形状、又は該曲線部分と該直線部分とを輪郭に含む形状である、前記＜１＞～＜８＞の何れか１に記載のナノファイバシート又は積層シート。
＜１０＞
　前記ナノファイバ層又は前記極薄シートが前記基材層に隣接して配置されており、前記基材層は通気性を有している、前記＜１＞～＜９＞の何れか１に記載のナノファイバシート又は積層シート。

＜１１＞
　前記基材層が不織布である、前記＜１＞～＜１０＞の何れか１に記載のナノファイバシート又は積層シート。
＜１２＞
前記基材層がスポンジである、前記＜１＞～＜１１＞の何れか１に記載のナノファイバシート又は積層シート。
＜１３＞
　前記ナノファイバ層又は前記極薄シートが前記基材層に隣接して配置されており、前記基材層は、ナノファイバの繊維径よりも大きな幅の複数の凹部又は凸部を該ナノファイバ層又は該極薄シートと対向する面に有している、前記＜１＞～＜１２＞の何れか１に記載のナノファイバシート又は積層シート。
＜１４＞
　前記ナノファイバ層又は前記極薄シートは水不溶性である前記＜１＞～＜１３＞の何れか１に記載のナノファイバシート又は積層シート。
＜１５＞
　前記ナノファイバ層又は前記極薄シートに含まれる水不溶性高分子化合物は５０質量％超、好ましくは８０質量％以上であり、該ナノファイバ層に含まれる水溶性高分子化合物は好ましくは５０質量％未満、より好ましくは２０質量％以下である、前記＜１４＞に記載のナノファイバシート又は積層シート。
＜１６＞
　前記ナノファイバ層又は前記極薄シートがナノファイバに加えて他の成分を含み、該ナノファイバ層に占めるナノファイバの含有量が、４０質量％以上９５質量％以下、好ましくは７０質量％以上９０質量％以下であり、
　前記ナノファイバ層又は前記極薄シートにおける他の成分の含有量が、５質量％以上６０質量％以下、好ましくは１０質量％以上３０質量％以下である、前記＜１＞～＜１５＞の何れか１に記載のナノファイバシート又は積層シート。
＜１７＞
　前記ナノファイバ層又は前記極薄シートは、前記グラデーション領域又は前記テーパー状の周縁領域に囲まれた内方領域とを有し、該内方領域は凹部を有しており、
　前記内方領域の前記凹部における厚みは、前記最大厚み部の厚みに対して、５０％以上、好ましくは６０％以上であり、また１００％以下、好ましくは９０％以下であり、また５０％以上１００％以下、好ましくは６０％以上９０％以下である、前記＜１＞～＜１６＞の何れか１に記載のナノファイバシート又は積層シート。
＜１８＞
　前記内方領域の前記凹部における厚みが、５．１μｍ以上、好ましくは１０μｍ以上であり、また５００μｍ以下、好ましくは４００μｍ以下であり、また５．１μｍ以上５００μｍ以下、好ましくは１０μｍ以上４００μｍ以下である、前記＜１７＞に記載のナノファイバシート又は積層シート。
＜１９＞
　前記内方領域は、前記凹部として、前記グラデーション領域又は前記極薄シートの内方端である最大厚み部よりも厚みが大きい部分を形成する浅凹部と、該最大厚み部よりも厚みが小さい部分を形成する深凹部とを有しており、
　前記内方領域の前記浅凹部における厚みは、５．１μｍ以上、好ましくは１０μｍ以上であり、また５００μｍ以下、好ましくは４００μｍ以下であり、また５．１μｍ以上５００μｍ以下、好ましくは１０μｍ以上４００μｍ以下である、前記＜１７＞又は＜１８＞に記載のナノファイバシート又は積層シート。
＜２０＞
　前記深凹部における厚みが、５．１μｍ以上、好ましくは１０μｍ以上であり、また５００μｍ以下、より好ましくは４００μｍ以下であり、また、５．１μｍ以上５００μｍ以下、より好ましくは１０μｍ以上４００μｍ以下である、前記＜１９＞に記載のナノファイバシート又は積層シート。

＜２１＞
　対象物の表面に貼付け可能な粘着層を備えており、
　該粘着層が、前記基材層と前記ナノファイバ層との間、又は前記ナノファイバ層の前記基材層とは反対側の面に配されている、前記＜１＞～＜２０＞の何れか１に記載のナノファイバシート又は積層シート。
＜２２＞
　前記極薄シートは、高分子化合物のナノファイバを含むナノファイバ層により形成されている前記＜２＞～＜２１＞の何れか１に記載の積層シート。
＜２３＞
　前記極薄シートの周縁端の厚みは、０．１μｍ以上１０μｍ以下である、前記＜２＞～＜２２＞の何れか１に記載の積層シート。
＜２４＞
　前記テーパー状の周縁領域は、前記極薄シートの前記周縁端から内方に向かって幅５ｍｍ以内の領域に形成されている、前記＜２＞～＜２３＞の何れか１に記載の積層シート。
＜２５＞
　前記極薄シートの輪郭線は、該輪郭線の全長のうちの半分超の長さの部分が曲線によって構成されている、前記＜２＞～＜２４＞の何れか１に記載の積層シート。
＜２６＞
　前記＜１＞～＜２５＞の何れか１に記載のナノファイバシート又は積層シートの使用方法であって、
　対象物の表面に前記ナノファイバ層又は前記極薄シートを当接させ、且つ該ナノファイバ層又は前記極薄シートを湿潤させた状態で使用する、ナノファイバシート又は積層シートの使用方法。
＜２７＞
　対象物の表面を湿潤させた状態で、該表面に前記ナノファイバ層又は前記極薄シートを付着させる、前記＜２６＞に記載のナノファイバシート又は積層シートの使用方法。
＜２８＞
　対象物の表面に前記ナノファイバ層又は前記極薄シートを付着させた状態で、該ナノファイバ層又は該極薄シートを湿潤させる、前記＜２６＞に記載のナノファイバシート又は積層シートの使用方法。
＜２９＞
　前記ナノファイバ層又は前記極薄シートを湿潤させた状態で、対象物の表面に前記ナノファイバ層又は前記極薄シートを付着させる、前記＜２６＞に記載のナノファイバシート又は積層シートの使用方法。
＜３０＞
　対向電極との間に高電圧を印加したノズルから原料液を吐出させ、電界紡糸法により該原料液から生じたナノファイバを捕集部上に堆積させる、ナノファイバシート又は積層シートの製造方法であって、
　前記ノズル及び前記捕集部の少なくとも一方を移動させながら、前記ナノファイバを前記捕集部上に堆積させることにより、周縁端から内方に向かって漸次厚みが増加するグラデーション領域又はテーパー状の周縁領域を有する所定のナノファイバシート又は積層シートを製造する、ナノファイバシート又は積層シートの製造方法。

＜３１＞
　前記ナノファイバの堆積分布に関する要因と、堆積する該ナノファイバの厚みとの相関関係に基づいて、前記所定のナノファイバシート又は積層シートを形成し得る、前記ノズル及び前記捕集部の少なくとも一方の移動軌道を決定する軌道計算工程と、
　前記軌道計算工程で決定された前記移動軌道に基づき、前記ノズル及び前記捕集部の少なくとも一方を移動させながら、前記ナノファイバを堆積させる堆積工程とを備える、前記＜３０＞に記載のナノファイバシート又は積層シートの製造方法。
＜３２＞
　前記ナノファイバの堆積分布に関する要因が、前記ノズル若しくは前記捕集部の移動速度、前記原料液の吐出速度、前記ノズルと前記対向電極との間の電位差、前記ノズルと前記捕集部との間の距離、ノズルの内径、及びノズルの材質から選ばれる１種又は２種以上の組み合わせである、前記＜３１＞に記載のナノファイバシート又は積層シートの製造方法。
＜３３＞
　前記所定のナノファイバシート又は積層シートは、その平面視において、前記グラデーション領域に囲まれた内方領域を有しており、
　前記軌道計算工程においては、前記内方領域の最低厚みが、所定の設定値以上となるように前記移動軌道を計算する、前記＜３１＞又は＜３２＞に記載のナノファイバシート又は積層シートの製造方法。
＜３４＞
　前記ノズル及び前記捕集部の少なくとも一方を移動させながら前記ナノファイバを前記捕集部上に堆積させる工程が、
　前記ノズル及び前記捕集部の何れか一方を、前記ナノファイバの堆積部が帯状の第１堆積領域を形成するように第１の移動軌道に沿って移動させる第１工程と、前記ノズル及び前記捕集部の何れか一方を、前記ナノファイバの堆積部が、第１又は先に形成された帯状堆積領域と幅方向の一部どうしが連続的に重複する第２帯状堆積領域を形成するように第２の移動軌道に沿って移動させる単一又は複数の第２工程とを具備する、前記＜３１＞～＜３３＞の何れか１に記載のナノファイバシート又は積層シートの製造方法。
＜３５＞
　前記帯状堆積領域の幅方向の長さを二等分する位置を帯状領域の中点とし、前記帯状堆積領域と他の帯状堆積領域とが重複する領域を重複領域としたとき、
　前記重複領域は、幅方向における、前記帯状堆積領域の中点と、該帯状堆積領域における前記他の帯状堆積領域が配される側の外縁との間に位置している、前記＜３４＞に記載のナノファイバシート又は積層シートの製造方法。
＜３６＞
　幅方向において、前記重複領域の範囲内に、前記帯状堆積領域の中点と、前記他の帯状堆積領域の中点とが位置している、前記＜３５＞に記載のナノファイバシート又は積層シートの製造方法。
＜３７＞
　先に決定された前記移動軌道を決定軌道とし、前記第１の移動軌道に囲まれた領域内、又は前記決定軌道に囲まれた領域内を決定軌道内領域としたとき、
　前記軌道計算工程において、前記決定軌道内領域内に、前記ナノファイバの堆積体の平面視形状の略相似形となる周回状の相似軌道、又は周回状とならない軌道を計算する、前記＜３４＞～＜３６＞の何れか１に記載のナノファイバシート又は積層シートの製造方法。
＜３８＞
　前記軌道計算工程において、前記移動軌道を設定する範囲の面積や形状に応じて、前記相似軌道、又は前記周回状とならない軌道を計算する、前記＜３７＞に記載のナノファイバシート又は積層シートの製造方法。
＜３９＞
　前記軌道計算工程において、前記決定軌道と前記相似軌道との相互に対応し合う部分が隣り合うように、該相似軌道が配されるか否かを判断する、前記＜３７＞又は＜３８＞に記載のナノファイバシート又は積層シートの製造方法。

＜４０＞
　前記ノズル及び前記捕集部の何れか一方又は双方を一定速度で移動させる、前記＜３０＞～＜３９＞の何れか１に記載のナノファイバシート又は積層シートの製造方法。
＜４１＞
　前記ノズル及び前記捕集部の何れか一方が移動する移動軌道は、互いに略相似形となる複数の軌道を入れ子状に内包する軌道群と、前記複数の軌道どうしを連結する渡り線との組み合わせ、又は一筆書き可能な線状である、前記＜３０＞～＜４０＞の何れか１に記載のナノファイバシート又は積層シートの製造方法。
＜４２＞
　前記ナノファイバシート又は前記積層シートの平面視形状が、曲率が異なる複数の曲線部分を輪郭に含む形状、複数の直線部分を輪郭に含む形状、又は該曲線部分と該直線部分とを輪郭に含む形状である、前記＜３０＞～＜４１＞の何れか１に記載のナノファイバシート又は積層シートの製造方法。
＜４３＞
　前記捕集部上に基材層を配し、該基材層上に前記ナノファイバを堆積させる、前記＜３０＞～＜４２＞の何れか１に記載のナノファイバシート又は積層シートの製造方法。
＜４４＞
　前記ナノファイバシート、前記基材層又はこれらの両者、あるいは前記積層シート、前記基材層又はこれらの両者を切断する切断工程を具備する、前記＜４３＞に記載のナノファイバシート又は積層シートの製造方法。
＜４５＞
　前記所定のナノファイバシート又は積層シートは、その平面視において、前記グラデーション領域に囲まれた内方領域を有しており、
　前記帯状堆積領域と他の帯状堆積領域とが重複する領域を重複領域としたとき、
　幅方向における前記重複領域の最低厚みは、前記内方領域の最低厚みに対して１００％以上、好ましくは１２５％以上であり、また２５０％以下、好ましくは２００％以下であり、また１００％以上２５０％以下であり、好ましくは１２５％以上２００％以下である、前記＜３４＞～＜３９＞の何れか１に記載のナノファイバシート又は積層シートの製造方法。
＜４６＞
　前記重複領域の最低厚みは、０．２μｍ以上、好ましくは１μｍ以上であり、また１００μｍ以下、好ましくは１０μｍ以下であり、また０．２μｍ以上１００μｍ以下であり、好ましくは１μｍ以上１０μｍ以下である、前記＜４５＞に記載のナノファイバシート又は積層シートの製造方法。
＜４７＞
　前記重複領域の幅は、幅方向における堆積領域の中点と他の堆積領域の中点との離間距離に対して１％以上、好ましくは５％以上であり、また９０％以下、好ましくは８０％以下であり、また１％以上９０％以下であり、好ましくは５％以上８０％以下である、前記＜４５＞又は＜４６＞に記載のナノファイバシート又は積層シートの製造方法。
＜４８＞
　幅方向における前記重複領域の幅は、１ｍｍ以上、好ましくは４ｍｍ以上であり、また８０ｍｍ以下、好ましくは６０ｍｍ以下であり、また１ｍｍ以上８０ｍｍ以下であり、好ましくは４ｍｍ以上６０ｍｍ以下である、前記＜４５＞～＜４７＞の何れか１に記載のナノファイバシート又は積層シートの製造方法。
＜４９＞
　原料液を吐出するノズルと、該ノズルと対向するように配され、該ノズルとの間に電界を生じさせる対向電極と、前記原料液を電気的に延伸して生成したナノファイバを集積する捕集部と、前記ノズル及び前記捕集部の少なくとも一方を移動させる機構とを具備するナノファイバシート又は積層シートの製造装置であって、
　制御部内に入力された移動軌道のデータに基づき、前記ノズル及び前記捕集部の少なくとも一方を移動させながら、前記ナノファイバを前記捕集部上に堆積させることが可能になされており、
　前記制御部に、前記＜３１＞に記載のナノファイバシート又は積層シートの製造方法の前記軌道計算工程で決定された移動軌道のデータが、入力されているか又は入力可能になされている、ナノファイバシート又は積層シートの製造装置。
＜５０＞
　原料液を吐出するノズルと、
　前記ノズルに電圧を印加する電源、又は前記ノズルと対向するように配され且つ該ノズルとの間に電界を生じさせる対向電極及び該ノズルと該対向電極間に電圧を印加する電源と、
　前記原料液から生成したナノファイバを堆積させる捕集部と、
　前記ノズルを前記捕集部に対して移動させるノズル移動機構と、
　前記捕集部に堆積した前記ナノファイバの層を含むナノファイバシート又は積層シートを所定の形状に切断する切断部とを具備するナノファイバシート又は積層シートの製造装置であって、
　前記ノズル移動機構と前記切断部とが、共通の支持部によって支持されている、ナノファイバシート又は積層シートの製造装置。

＜５１＞
　前記切断部が前記ノズル移動機構に取り付けられており、それによって該ノズル移動機構と該切断部とが、共通の前記支持部によって支持されている、前記＜５０＞に記載の製造装置。
＜５２＞
　前記切断部を前記捕集部に対して移動させる切断部移動機構を更に具備し、該切断部移動機構が前記支持部によって支持されており、それによって該切断部と前記ノズル移動機構とが、共通の前記支持部によって支持されている、前記＜５０＞に記載の製造装置。
＜５３＞
　前記捕集部を、その捕集面内に沿って移動させる捕集部移動機構を更に具備し、該捕集部移動機構が前記支持部によって支持されている、前記＜５０＞～＜５２＞の何れか１に記載の製造装置。
＜５４＞
　原料液を吐出するノズルと、
　前記ノズルに電圧を印加する電源、又は前記ノズルと対向するように配され且つ該ノズルとの間に電界を生じさせる対向電極及び該ノズルと該対向電極間に電圧を印加する電源と、
　前記原料液から生成したナノファイバを堆積させる捕集部と、
　前記捕集部を前記ノズルに対して移動させる捕集部移動機構と、
　前記捕集部に堆積した前記ナノファイバの層を含むナノファイバシート又は積層シートを所定の形状に切断する切断部とを具備するナノファイバシート又は積層シートの製造装置であって、
　前記捕集部移動機構と前記切断部とが、共通の支持部によって支持されている、ナノファイバシート又は積層シートの製造装置。
＜５５＞
　前記切断部を前記捕集部に対して移動させる切断部移動機構を更に具備し、該切断部移動機構が前記支持部によって支持されており、それによって該切断部と前記捕集部移動機構とが、共通の前記支持部によって支持されている、前記＜５４＞に記載の製造装置。
＜５６＞
　前記切断部がレーザー加工機である前記＜５０＞～＜５５＞の何れか１に記載の製造装置。
＜５７＞
　前記捕集部が通気性を有している前記＜５０＞～＜５６＞の何れか１に記載の製造装置。
＜５８＞
　前記製造装置はその全体が、少なくとも一部に透明部を有するカバーで覆われており、該透明部がアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂又はガラスから構成されている前記＜５０＞～＜５７＞の何れか１に記載の製造装置。
＜５９＞
　更に集塵脱臭機構を具備する前記＜５０＞～＜５８＞の何れか１に記載の製造装置。
＜６０＞
　前記ナノファイバシート又は積層シートが、前記ナノファイバの層と該層を支持する基材層とを有し、
　前記切断部が、前記ナノファイバの層のみを切断するか、前記基材層のみを切断するか、又は前記ナノファイバシート又は積層シートの全体を切断するように構成されている前記＜５０＞～＜５９＞の何れか１に記載の製造装置。

＜６１＞
　原料液を収容可能な収容部、該原料液を吐出するノズル、及び該収容部から該ノズルへ該原料液を供給する供給部を有するカートリッジ部と、
　前記ノズルに電圧を印加する電源、又は前記ノズルと対向するように配され且つ該ノズルとの間に電界を生じさせる対向電極及び該ノズルと該対向電極間に電圧を印加する電源と、
　前記カートリッジ部の取付部と、
　前記原料液を電気的に延伸させて生成したナノファイバを集積する捕集部と、を備えたナノファイバシート又は積層シートの製造装置であって、
　前記カートリッジ部が前記取付部に着脱可能に取り付けられており、
　前記カートリッジ部が前記取付部に取り付けられた状態において、該カートリッジ部における前記供給部を駆動させるための駆動源が、該取付部に備えられている、ナノファイバシート又は積層シートの製造装置。
＜６２＞
　原料液を収容可能な収容部、該原料液を吐出するノズル、及び該収容部から該ノズルへ該原料液を供給する供給部を有するカートリッジ部と、
　前記ノズルに電圧を印加する電源、又は前記ノズルと対向するように配され且つ該ノズルとの間に電界を生じさせる対向電極及び該ノズルと該対向電極間に電圧を印加する電源と、
　前記カートリッジ部の取付部と、
　前記原料液を電気的に延伸させて生成したナノファイバを集積する捕集部と、を備え、
　前記カートリッジ部が前記取付部に取り付けられた状態において、該カートリッジ部における前記供給部を駆動させるための駆動源が、該取付部に備えられており、
　前記カートリッジ部において、前記収容部が前記供給部に着脱可能に取り付けられている、ナノファイバシート又は積層シートの製造装置。
＜６３＞
　前記カートリッジ部において、前記収容部が前記供給部に着脱可能に取り付けられている前記＜６１＞又は＜６２＞に記載の製造装置。
＜６４＞
　前記取付部が、少なくとも一軸の移動機構からなる前記＜６１＞～＜６３＞の何れか１に記載の製造装置。
＜６５＞
　前記捕集部が少なくとも一軸の移動機構を備える前記＜６１＞～＜６４＞の何れか１に記載の製造装置。
＜６６＞
前記カートリッジ部は前記取付部に電気的に絶縁した状態で取り付けられている前記＜６１＞～＜６５＞の何れか１に記載の製造装置。
＜６７＞
　前記取付部と、前記捕集部と、前記電源とが、共通の支持部によって支持されている、前記＜６１＞～＜６６＞の何れか１に記載の製造装置。
＜６８＞
　前記カートリッジ部において、前記収容部と、前記供給部と、前記ノズルとが直接に連結している前記＜６１＞～＜６７＞の何れか１に記載の製造装置。
＜６９＞
　ノズルから原料液を吐出させ、該原料液から生じた繊維又は粒子を捕集部上に堆積させて、厚さ５．１μｍ以上５００μｍ以下の極薄シートを製造する、極薄シートの製造方法であって、
　目的とする前記極薄シートの輪郭形状に関する情報に基づいて、前記ノズル及び前記捕集部の少なくとも一方を移動させながら、該極薄シートの輪郭形状の範囲内に前記原料液を吐出する目的形状形成工程を備え、
　前記目的形状形成工程においては、前記輪郭形状の周縁端から内方に向かって漸次厚みが増加する、幅５ｍｍ以内のテーパー状の周縁領域が形成されるように、前記原料液を吐出する、極薄シートの製造方法。

　以下、実施例により本発明を更に詳細に説明する。しかしながら本発明の範囲は、かかる実施例に制限されない。特に断らない限り、「％」は「質量％」を意味する。

　〔実施例１～９〕
　図１に示すように、曲率の異なる複数の曲線部分が凹凸を形成する平面視形状のナノファイバ層をグラデーション領域の幅が３ｍｍ以上、または４ｍｍ以上になるように製造した。このナノファイバ層は、その平面視形状における最大長さが３０ｍｍであった。具体的には、上述した製造方法によりポリビニルブチラール（ＰＶＢ；積水化学工業株式会社製、Ｓ－ＬＥＣ　Ｂ　ＢＭ－１）のナノファイバからなるナノファイバ層を形成した。ナノファイバの太さは１００ｎｍであった。ナノファイバ層は、ＰＶＢを１２％含み、エタノールを６１．２５％、１－ブタノールを２６．２５％、４級塩系界面活性剤（花王株式会社製、商品名「サニゾールＣ」）０．５％を含む原料液を用いて、エレクトロスピニング法によって形成した。エレクトロスピニング法の実施条件は、電圧３０ｋＶ、ノズルの先端と対向電極との離間距離２００ｍｍ、吐出量１ｍｌ／ｈとした。電界紡糸による繊維の堆積は、ノズルを平面方向に移動させながら行った。得られたナノファイバ層について、上述した測定方法により、ナノファイバ層の周縁端の厚みＤ１、グラデーション領域の幅Ｗ１、最大厚み部１５の厚みＤ３を測定した。また、傾斜角度θはグラデーション領域Ｇにおける周縁端１７と最大厚み部１５との厚みの差Ｄ２と、グラデーション領域Ｇの幅Ｗ１とから算出した。測定結果及び計算結果を下記表１に示す。実施例１～５における個々のナノファイバ層は、該ナノファイバ層の全域においてグラデーション領域の幅Ｗ１が目視で等しいものであった。また実施例６～９における個々のナノファイバ層は、該ナノファイバ層の全域においてグラデーション領域の幅Ｗ１が目視で等しいものであった。また、何れの実施例においても、ナノファイバ層は、平面視における輪郭線の全長のうち曲線によって構成された部分が占める割合（％）が１００％であった。即ち、ナノファイバ層は、平面視における輪郭線の全長が曲線によって構成されているものであった。

［比較例１及び２］
　ナノファイバ層は、ＰＶＢを１２％、エタノールを８８．０％含む原料液を用いた点、及びナノファイバ層の周縁端の厚みを１２μｍ又は１５μｍとした点、グラデーション領域Ｇの最大厚み部の厚みＤ３を１５μｍ又は２０μｍとした点以外は実施例１と同様の条件でエレクトロスピニング法によって形成した。ナノファイバの太さは５００ｎｍであった。測定結果を下記表１に示す。

　〔評価〕
　実施例及び比較例で得られたナノファイバ層について、肌に貼り付けた状態における、ナノファイバ層の視認性及びファンデーションを塗布したナノファイバ層の外観を以下の方法で評価した。それらの評価結果を下記表１に示す。

　〔ナノファイバ層の視認性〕
　被験者の上腕内側部に、５ｍＬ／ｃｍ^２の美容液（商品名：ライズ　ローション　ＩＩ（さっぱり）、花王株式会社製）を付与して湿潤状態にし、その部位に、ナノファイバ層の第１面、即ち隆起した面を付着させた。次いで、貼付したナノファイバ層を目視し、その視認性の評価を以下の基準で行った。評価結果を表１に示す。
　Ａ：ナノファイバ層全体の透明度が高く、ナノファイバ層を視認し難くする点で非常に優れている。
　Ｂ：ナノファイバ層の周縁端に透明度があり、ナノファイバ層を視認し難くする点で優れている。
　Ｃ：ナノファイバ層の透明度が低く、容易に視認可能であり、ナノファイバ層を視認し難くする点で優れていない。

　〔ファンデーションを塗布したナノファイバ層の外観〕
　上記〔ナノファイバ層の視認性〕にて、肌に貼り付けたナノファイバ層の上から、０．７１ｍｇ／ｃｍ^２のパウダーファンデーション（商品名：ソフィーナ　プリマヴィスタ　パウダーファンデーション＜モイストタッチ＞　ベージュオークル０５、花王株式会社製）を塗布した。次いで、ナノファイバ層を目視し、その外観の評価を以下の基準で行った。評価結果を表１に示す。
　Ａ：ナノファイバ層が周囲の肌に馴染み、自然な仕上がりである。
　Ｂ：ナノファイバ層の周縁が目立って周囲の肌に馴染まず、不自然な仕上がりである。

　表１に示すように、各実施例におけるナノファイバ層は、肌に貼付した状態で視認し難く、上からファンデーションを塗布しても肌に馴染んで自然な仕上がりとなる。これに対し、各比較例におけるナノファイバ層は、肌に貼付するとその存在が目立ち、視認可能である。更に各比較例におけるナノファイバ層は、上からファンデーションを塗布すると、周囲の肌とは異なる色味を呈するため、肌に馴染まず、不自然な仕上がりとなる。

　ナノファイバ層を肌に貼り付けた状態において、該ナノファイバ層による肌のシミや皺の隠蔽性、及びナノファイバ層の上からファンデーションを塗布した場合のナノファイバ層による肌のシミや皺の隠蔽性について、以下の方法を用いて評価した。

　〔シミや皺の隠蔽性〕
　上記〔ファンデーションを塗布したナノファイバ層の外観〕と同様の方法により、肌のシミや皺のある部位に、ナノファイバ層を貼付し、その上からファンデーションを塗布した。次いで当該部位におけるシミや皺を目視し、その隠蔽性の評価を以下の基準で行った。
　３：肌のシミや皺が見えなくなるほど隠蔽される。
　２：肌のシミや皺がうっすらと見えるが、視認し難い。
　１：肌のシミや皺が容易に視認可能である。

　上記〔シミや皺の隠蔽性〕の評価は、実施例４のナノファイバ層と、実施例１０のナノファイバ層とを用いて行った。実施例１０のナノファイバ層は、グラデーション領域の最大厚み部の厚みＤ３を５０μｍとした以外は、実施例４と同様の方法により製造した。評価結果を以下の表２に示す。

　本発明におけるナノファイバ層は、該ナノファイバ層の上からファンデーションを塗布することで、その隠蔽性は向上する。例えば、実施例４及び１０では、シミや皺を効果的に隠すことができた。また、グラデーション領域の最大厚み部の厚みを増加させることにより、シミや皺を見えなくなるほど隠蔽することができた。

[参考例]
　実施例１と同様の手順にて、頂点位置における厚みが４１μｍであるナノファイバ層を製造した。斯かるナノファイバ層は、平面視における輪郭が図１に示すものと同様のものであった。製造したナノファイバ層について、前述した方法で三次元形状データを取得し、これに基づいて断面輪郭曲線を示すグラフを求めた。得られたグラフのうち、図１のＩＩ－ＩＩ線の位置に対応する断面の断面輪郭曲線を図２２に示す。図２２に、断面輪郭曲線とともに、ナノファイバ層の周縁端ＣＰ、グラデーション領域Ｇ、及び頂点位置ＣＴを示す。図２２に示す断面輪郭曲線において、周縁端の厚みＤ１は４．５μｍであり、グラデーション領域は該周縁端ＣＰから頂点位置までシグモイド曲線状に厚みが増加するものであった。

　本発明によれば、肌に貼り付けた状態で視認し難いナノファイバ層を備えるナノファイバシート及びその使用方法を提供することができる。また、本発明によれば、肌に貼り付けた状態で視認し難いナノファイバ層を備えるナノファイバシートを製造することができる。

Claims

　基材層と、該基材層の一方の面側に配された高分子化合物のナノファイバを含むナノファイバ層とを備えるナノファイバシートであって、
　前記ナノファイバ層は、その周縁端の厚みが０．１μｍ以上１０μｍ以下であり、且つ該周縁端から内方に向かって漸次厚みが増加するグラデーション領域を３ｍｍ以上有しているナノファイバシート。
　前記グラデーション領域における内方端と前記周縁端との厚みの差が５μｍ以上である、請求項１に記載のナノファイバシート。
　前記ナノファイバ層の平面視形状が、曲率が異なる複数の曲線部分を輪郭に含む形状、複数の直線部分を輪郭に含む形状、又は該曲線部分と該直線部分とを輪郭に含む形状である、請求項１又は２に記載のナノファイバシート。
　前記ナノファイバ層が前記基材層に隣接して配置されており、前記基材層は通気性を有している、請求項１～３の何れか１項に記載のナノファイバシート。
　前記ナノファイバ層が前記基材層に隣接して配置されており、前記基材層は、ナノファイバの繊維径よりも大きな幅の複数の凹部又は凸部を該ナノファイバ層と対向する面に有している、請求項１～４の何れか１項に記載のナノファイバシート。
　前記ナノファイバ層は水不溶性である、請求項１～５の何れか１項に記載のナノファイバシート。
　対象物の表面に貼付け可能な粘着層を備えており、
　該粘着層が、前記基材層と前記ナノファイバ層との間、又は前記ナノファイバ層の前記基材層とは反対側の面に配されている、請求項１～６の何れか１項に記載のナノファイバシート。
　請求項１～７の何れか１項に記載のナノファイバシートの使用方法であって、
　対象物の表面に前記ナノファイバ層を当接させ、且つ該ナノファイバ層を湿潤させた状態で使用する、ナノファイバシートの使用方法。
　対象物の表面を液状物で湿潤させた状態で、該表面に前記ナノファイバ層を付着させる、請求項８に記載のナノファイバシートの使用方法。
　対象物の表面に前記ナノファイバ層を付着させた状態で、該ナノファイバ層を液状物で湿潤させる、請求項８に記載のナノファイバシートの使用方法。
　前記ナノファイバ層を液状物で湿潤させた状態で、対象物の表面に前記ナノファイバ層を付着させる、請求項８に記載のナノファイバシートの使用方法。
　対向電極との間に高電圧を印加したノズルから原料液を吐出させ、電界紡糸法により該原料液から生じたナノファイバを捕集部上に堆積させる、ナノファイバシートの製造方法であって、
　前記ノズル及び前記捕集部の少なくとも一方を移動させながら、前記ナノファイバを前記捕集部上に堆積させることにより、周縁端から内方に向かって漸次厚みが増加するグラデーション領域を有する所定のナノファイバシートを製造する、ナノファイバシートの製造方法。
　前記ナノファイバの堆積分布に関する要因と、堆積する該ナノファイバの厚みとの相関関係に基づいて、前記所定のナノファイバシートを形成し得る、前記ノズル及び前記捕集部の少なくとも一方の移動軌道を決定する軌道計算工程と、
　前記軌道計算工程で決定された前記移動軌道に基づき、前記ノズル及び前記捕集部の少なくとも一方を移動させながら、前記ナノファイバを堆積させる堆積工程とを備える、請求項１２に記載のナノファイバシートの製造方法。
　前記ナノファイバの堆積分布に関する要因が、前記ノズル若しくは前記捕集部の移動速度、前記原料液の吐出速度、前記ノズルと前記対向電極との間の電位差、前記ノズルと前記捕集部との間の距離、ノズルの内径、及びノズルの材質から選ばれる１種又は２種以上の組み合わせである、請求項１３に記載のナノファイバシートの製造方法。
　前記所定のナノファイバシートは、その平面視において、前記グラデーション領域に囲まれた内方領域を有しており、
　前記軌道計算工程においては、前記内方領域の最低厚みが、所定の設定値以上となるように前記移動軌道を計算する、請求項１３又は１４に記載のナノファイバシートの製造方法。
　前記ノズル及び前記捕集部の少なくとも一方を移動させながら前記ナノファイバを前記捕集部上に堆積させる工程が、
　前記ノズル及び前記捕集部の何れか一方を、前記ナノファイバの堆積部が帯状の第１堆積領域を形成するように第１の移動軌道に沿って移動させる第１工程と、前記ノズル及び前記捕集部の何れか一方を、前記ナノファイバの堆積部が、第１又は先に形成された帯状堆積領域と幅方向の一部どうしが連続的に重複する第２帯状堆積領域を形成するように第２の移動軌道に沿って移動させる単一又は複数の第２工程とを具備する、請求項１３～１５の何れか１項に記載のナノファイバシートの製造方法。
　前記ノズル及び前記捕集部の何れか一方又は双方を一定速度で移動させる、請求項１２～１６の何れか１項に記載のナノファイバシートの製造方法。
　前記ノズル及び前記捕集部の何れか一方が移動する移動軌道は、互いに略相似形となる複数の軌道を入れ子状に内包する軌道群と、前記複数の軌道どうしを連結する渡り線との組み合わせ、又は一筆書き可能な線状である、請求項１２～１７の何れか１項に記載のナノファイバシートの製造方法。
　前記ナノファイバシートの平面視形状が、曲率が異なる複数の曲線部分を輪郭に含む形状、複数の直線部分を輪郭に含む形状、又は該曲線部分と該直線部分とを輪郭に含む形状である、請求項１２～１８の何れか１項に記載のナノファイバシートの製造方法。
　前記捕集部上に基材層を配し、該基材層上に前記ナノファイバを堆積させる、請求項１２～１９の何れか１項に記載のナノファイバシートの製造方法。
　前記ナノファイバシート、前記基材層、又はこれら両者を切断する切断工程を具備する、請求項２０に記載のナノファイバシートの製造方法。
　原料液を吐出するノズルと、該ノズルと対向するように配され、該ノズルとの間に電界を生じさせる対向電極と、前記原料液を電気的に延伸して生成したナノファイバを集積する捕集部と、前記ノズル及び前記捕集部の少なくとも一方を移動させる機構とを具備するナノファイバシートの製造装置であって、
　制御部内に入力された移動軌道のデータに基づき、前記ノズル及び前記捕集部の少なくとも一方を移動させながら、前記ナノファイバを前記捕集部上に堆積させることが可能になされており、
　前記制御部に、請求項１３に記載のナノファイバシートの製造方法の前記軌道計算工程で決定された移動軌道のデータが、入力されているか又は入力可能になされている、ナノファイバシートの製造装置。
　基材層と、該基材層の一方の面に配置された厚み５．１μｍ以上５００μｍ以下の極薄シートとを備える積層シートであって、
　前記極薄シートは、該極薄シートが適用される被適用部位に応じた輪郭形状を有しており、
　前記極薄シートは、その周縁端から内方に向かって厚みが漸次増加するテーパー状の周縁領域を有しており、
　前記基材層は、前記極薄シートの前記周縁端から外方に向かって延出する領域を有している、積層シート。
前記極薄シートは、高分子化合物のナノファイバを含むナノファイバ層により形成されている、請求項２３に記載の積層シート。
　前記極薄シートの周縁端の厚みは、０．１μｍ以上１０μｍ以下である、請求項２３又は２４に記載の積層シート。
　前記テーパー状の周縁領域は、前記極薄シートの前記周縁端から内方に向かって幅５ｍｍ以内の領域に形成されている、請求項２３～２５の何れか１項に記載の積層シート。
　前記極薄シートの輪郭線は、該輪郭線の全長のうちの半分超の長さの部分が曲線によって構成されている、請求項２３～２６の何れか１項に記載の積層シート。
　ノズルから原料液を吐出させ、該原料液から生じた繊維又は粒子を捕集部上に堆積させて、厚さ５．１μｍ以上５００μｍ以下の極薄シートを製造する、極薄シートの製造方法であって、
　目的とする前記極薄シートの輪郭形状に関する情報に基づいて、前記ノズル及び前記捕集部の少なくとも一方を移動させながら、該極薄シートの輪郭形状の範囲内に前記原料液を吐出する目的形状形成工程を備え、
　前記目的形状形成工程においては、前記輪郭形状の周縁端から内方に向かって漸次厚みが増加する、幅５ｍｍ以内のテーパー状の周縁領域が形成されるように、前記原料液を吐出する、極薄シートの製造方法。