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WO2018221424A1 - 環境光センサー用光学フィルター - Google Patents

環境光センサー用光学フィルター Download PDF

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WO2018221424A1
WO2018221424A1 PCT/JP2018/020220 JP2018020220W WO2018221424A1 WO 2018221424 A1 WO2018221424 A1 WO 2018221424A1 JP 2018020220 W JP2018020220 W JP 2018020220W WO 2018221424 A1 WO2018221424 A1 WO 2018221424A1
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WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
group
resin
transmittance
optical filter
compound
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
PCT/JP2018/020220
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English (en)
French (fr)
Inventor
幸恵 大橋
勝也 長屋
大月　敏敬
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JSR Corp
Original Assignee
JSR Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by JSR Corp filed Critical JSR Corp
Priority to CN201880034851.4A priority Critical patent/CN110678785B/zh
Priority to KR1020197034856A priority patent/KR102575309B1/ko
Priority to KR1020237011610A priority patent/KR102619325B1/ko
Priority to JP2019522201A priority patent/JP7031665B2/ja
Publication of WO2018221424A1 publication Critical patent/WO2018221424A1/ja
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Ceased legal-status Critical Current

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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K3/00—Materials not provided for elsewhere
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
    • G01J1/02—Details
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
    • G01J1/02—Details
    • G01J1/04—Optical or mechanical part supplementary adjustable parts
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/22—Absorbing filters
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
    • H10F77/00—Constructional details of devices covered by this subclass
    • H10F77/40—Optical elements or arrangements

Definitions

  • the present invention relates to an optical filter for an ambient light sensor. Specifically, the present invention relates to an optical filter for an environmental light sensor that includes a compound having absorption in a specific wavelength region and has specific optical characteristics, an environmental light sensor using the optical filter, and an electronic apparatus having the optical filter.
  • the ambient light sensor in the information terminal device senses the illuminance of the environment where the information terminal device is placed and controls the brightness of the display, and the ambient light sensor senses the color tone of the environment where the information terminal device is placed. It is used as a color sensor that adjusts the color tone of the image.
  • the ambient light sensor can have a spectral sensitivity characteristic close to visual sensitivity by installing an optical filter such as a near infrared cut filter.
  • An apparatus provided with an infrared cut filter in which a metal multilayer film is formed on a glass plate is disclosed as means for matching the spectral characteristics of an ambient light sensor with human visibility (see, for example, Patent Document 1).
  • the near-infrared cut filter in which the metal multilayer thin film is formed on the glass plate has a problem that the detection accuracy of the ambient light sensor is lowered because the optical characteristics greatly change depending on the incident angle of the incident light. Further, when the metal multilayer film is formed by vapor deposition, warping or distortion may occur when the optical filter is enlarged.
  • various near-infrared absorbing particles are known as materials capable of cutting broadband near-infrared rays regardless of the incident angle (see, for example, Patent Document 2 and Patent Document 3).
  • the near-infrared cut filter when the addition amount of the near-infrared absorbing particles is increased, there is a problem that the visible light transmittance is lowered.
  • a near-infrared absorbing filter having a norbornene-based resin substrate, a near-infrared absorbing dye having an absorption maximum at a specific wavelength, and a near-infrared reflective film has a transmittance change in the visible range when light enters from an oblique direction.
  • a high incident angle such as an incident angle of 60 °.
  • JP 2011-060788 A International Publication No. 2005/037932 Specification JP 2011-118255 A JP 2011-100084 A
  • the present invention is capable of achieving both excellent visible light transmittance and near-infrared cut performance even when the incident angle is increased due to a reduction in the height of a device provided with various ambient light sensors, and also prevents warping and distortion.
  • An object is to provide an optical filter that can be reduced and enlarged.
  • An optical filter for an ambient light sensor which has a base material that satisfies the following requirement (a) and satisfies the following requirements (b), (c), and (d): (A) having a layer containing a compound (A) having an absorption maximum in a region of a wavelength of 650 nm or more and less than 800 nm and a compound (B) having an absorption maximum in a region of a wavelength of 800 nm or more and 1850 nm or less; (B) In the wavelength range of 800 to 1000 nm, the average reflectance Rfa -5 of the light incident from an oblique direction of 5 degrees with respect to the vertical direction on one surface of the optical filter and the vertical direction on the other surface On the other hand, the average value Rf b-5 of the reflectance of light incident from an oblique direction of 5 degrees is 15% or less; (C) In the wavelength range of 430 to 580 nm, the average value
  • the transparent resin layer further includes a compound (B) having an absorption maximum in a wavelength region of 800 nm or more and 1850 nm or less.
  • the compound (B) is composed of near-infrared absorbing fine particles, squarylium compound, phthalocyanine compound, naphthalocyanine compound, croconium compound, cyanine compound, diimonium compound, metal dithiolate compound, and pyrrolopyrrole compound.
  • Item 6 The optical filter for ambient light sensors according to any one of Items [1] to [5], which is at least one compound selected from the group consisting of:
  • a group in which the near-infrared absorbing fine particles are composed of first fine particles made of a compound represented by the following formula (P-1) and second fine particles made of a compound represented by the following formula (P-2).
  • the optical filter for an ambient light sensor according to item [6], which is at least one selected from the group consisting of: A 1 / n CuPO 4 (P-1)
  • A is at least one selected from the group consisting of alkali metals, alkaline earth metals, and NH 4
  • n is 1 when A is an alkali metal or NH 4 , 2 when A is an alkaline earth metal.
  • M is H, alkali metal, alkaline earth metal, rare earth element, Mg, Zr, Cr, Mn, Fe, Ru, Co, Rh, Ir, Ni, Pd, Pt, Cu, Ag, Au, Zn, Cd, Al, Ga, In, Tl, Si, Ge, Sn, Pb, Sb, B, F, P, S, Se, Br, Te, Ti, Nb, V, Mo, Ta, It is at least one element selected from Re, Be, Hf, Os, Bi and I, and x, y and z are 0.001 ⁇ x / y ⁇ 1 and 2.2 ⁇ z / y ⁇ 3.0. Satisfy the condition of
  • the resin constituting the transparent resin layer is a cyclic polyolefin resin, an aromatic polyether resin, a polyimide resin, a fluorene polycarbonate resin, a fluorene polyester resin, a polycarbonate resin, a polyamide resin, or an aramid resin.
  • optical filter for an ambient light sensor according to Item [3] or [4], wherein the optical filter is an at least one resin selected from the group consisting of a resin mainly composed of silica formed by the above.
  • the base material includes a fluorophosphate glass layer containing a copper component or a substrate made of phosphate glass.
  • R transmittance ratio (R transmittance) ⁇ 100 / ((R transmittance) + (G transmittance) + (B transmittance)) (1)
  • G transmittance ratio (G transmittance) ⁇ 100 / ((R transmittance) + (G transmittance) + (B transmittance)) (2)
  • B transmittance ratio (B transmittance) ⁇ 100 / ((R transmittance) + (G transmittance) + (B transmittance)) (3)
  • the R transmittance is an average transmittance at a wavelength of 580 to 650 nm
  • the G transmittance is an average transmittance at a wavelength of 500 to 580 nm
  • the B transmittance is an average transmittance at a wavelength of 420 to 500 nm.
  • An ambient light sensor comprising the optical filter for an ambient light sensor according to any one of items [1] to [10].
  • an incident light from a vertical direction and an incident light from an oblique direction it has a high visible light transmittance and a near-infrared cut performance, and has a reduced warpage and distortion.
  • An optical filter can be provided.
  • An ambient light sensor using such an optical filter has a small incident angle dependency of incident light, and can measure illuminance and color temperature with high accuracy.
  • up refers to a relative position with respect to the main surface of the support substrate (the light receiving surface of the sensor), and the direction away from the main surface of the support substrate is “up”.
  • the upper side toward the paper surface is “upper”.
  • upper includes a case where it is in contact with an object (that is, “on”) and a case where it is located above the object (that is, “over”).
  • down refers to a relative position with respect to the main surface of the support substrate, and the direction approaching the main surface of the support substrate is “down”.
  • the lower side is “down” toward the paper surface.
  • optical filter has a base material (i) that satisfies the following requirement (a) and satisfies the following requirements (b), (c), and (d).
  • the average reflectance Rf b-5 of light incident from a direction oblique to the direction by 5 degrees is 15% or less, preferably 0.1 to 12%, more preferably 1 to 10%.
  • the reflectance is determined by the refractive index of the substance through which light passes, so that the average value of the reflectance within a specified range is obtained.
  • the method of selecting the base material which has a refractive index to be given, or the method of providing the layer for adjusting a refractive index to a base material is mentioned.
  • an optical thin film design software for example, manufactured by Essential Macleod, Thin Film Center Co.
  • the average value of reflectance within a specified range is also mentioned.
  • Satisfying the requirement (b) is preferable because multiple reflected light in the optical sensor module can be reduced, so that malfunction of the optical sensor can be suppressed and a highly functional optical sensor can be obtained.
  • the average value Ta 0 of the transmittance of light incident from the vertical direction of the optical filter and the transmittance of light incident from an oblique direction of 30 degrees with respect to the vertical direction are both 20% or more and less than 75%, preferably 25 to 70%. It is.
  • an ambient light sensor having excellent sensor sensitivity can be obtained. If the average transmittance is too high in the wavelength range of 430 to 580 nm, the intensity of the light incident on the light receiving part of the photosensor becomes excessively strong and the photosensor may saturate and may not function normally. . On the other hand, if the average value of the transmittance is too low, the intensity of the light incident on the light receiving portion of the photosensor becomes weak, and the intensity of the light passing through the filter may not be sufficiently secured.
  • the average value OD a-30 of the optical density (OD value) with respect to the light and the average value OD a-60 of the optical density (OD value) with respect to the light incident from an oblique direction of 60 degrees with respect to the vertical direction are both 1 .5 or more, preferably 2.0 to 6.0.
  • the light in the wavelength region is sufficient. It will enter the ambient light sensor without being cut. Since the ambient light sensor is sensitive to the light in the wavelength region, when the light in the wavelength region enters the ambient light sensor, it becomes noise and causes malfunction of color tone control.
  • the values of OD a-0 , OD a-30 and OD a-60 are more than 6.0, the concentration of the compound (B) is increased or the number of layers of the dielectric multilayer film is increased. This may cause problems such as a decrease in visible light transmittance and an increase in warpage.
  • a method of satisfying the requirement (d) that is, a method of adjusting the average value of the optical density, for example, the types and additions of the compound (A) and the compound (B) so that an average value of transmittance within a specified range can be obtained.
  • a method of appropriately selecting and adjusting the amount for example, the types and additions of the compound (A) and the compound (B) so that an average value of transmittance within a specified range can be obtained.
  • the optical filter can sufficiently cut not only near infrared rays transmitted in the vertical direction but also near infrared rays transmitted at a high incident angle.
  • an optical filter is used for an optical sensor of a mobile phone or a tablet, it is possible to prevent malfunction of the screen brightness and color correction function.
  • near-infrared light can be suitably cut even when a light diffusion film is provided above the optical filter of the present invention.
  • the OD value is a common logarithm of transmittance, and can be calculated by the following formula (4).
  • Average OD value in a certain wavelength region ⁇ Log 10 (Average transmittance in a certain wavelength region (%) / 100) Equation (4)
  • the RGB balance of visible light when incident from the vertical direction of the optical filter From the viewpoint of preventing the ambient light sensor from malfunctioning, the RGB balance of visible light when incident from the vertical direction of the optical filter, the RGB balance of visible light when incident from the direction of 30 ° with respect to the vertical direction of the optical filter, it is desirable that the change in the RGB balance of the visible light when the light enters from a direction of 60 ° with respect to the vertical direction of the optical filter is small. That is, the rate of change of the R (red) transmittance ratio derived from the following equation (1), the rate of change of the G (green) transmittance ratio derived from the following equation (2), and the following equation (3):
  • the change rate of the ratio of B (blue) transmittance is preferably in the range of 0.6 to 1.1. The closer the change rate is to 1.0, the smaller the incident angle dependent change of RGB balance.
  • R transmittance ratio (R transmittance) ⁇ 100 / ((R transmittance) + (G transmittance) + (B transmittance)) (1)
  • G transmittance ratio (G transmittance) ⁇ 100 / ((R transmittance) + (G transmittance) + (B transmittance)) (2)
  • B transmittance ratio (B transmittance) ⁇ 100 / ((R transmittance) + (G transmittance) + (B transmittance)) (3)
  • the R transmittance is an average transmittance at a wavelength of 580 to 650 nm
  • the G transmittance is an average transmittance at a wavelength of 500 to 580 nm
  • the B transmittance is an average transmittance at a wavelength of 420 to 500 nm.
  • the ratio of the B transmittance when measured from an angle of 30 ° with respect to the vertical direction of the optical filter is divided by the ratio of the B transmittance when measured from the vertical direction of the optical filter (0 ° ⁇ 30).
  • the ratio of the R transmittance when measured from an angle of 60 ° with respect to the vertical direction of the optical filter is divided by the ratio of the R transmittance when measured from the vertical direction of the optical filter (0 ° ⁇
  • the rate of change in the ratio of G transmittance in the case of ° can be derived from the following equation (9).
  • the rate of change in the ratio of G transmittance in the case of 0 ° to 60 ° is preferably 0.4 or more and 2.0 or less, more preferably 0.5 or more and 1.8 or less, and further preferably 0.6 or more and 1. It is 6 or less, and the closer the change rate is to 1.0, the smaller the incident angle dependent change of RGB balance.
  • the optical filter of the present invention preferably does not have a dielectric multilayer film.
  • an ambient light sensor of the type in which an optical filter is attached to a silicon wafer when the silicon wafer is enlarged, distortion and warpage due to vapor deposition for forming a dielectric multilayer film may become a problem.
  • warpage and distortion can be reduced as compared with an optical filter having a dielectric multilayer film.
  • the optical filter can be increased in size.
  • the optical filter of the present invention can exhibit optical characteristics equivalent to those of a conventional ambient light sensor without having a dielectric multilayer film.
  • the thickness of the optical filter of the present invention is not particularly limited, but is preferably 40 to 1000 ⁇ m, more preferably 50 to 800 ⁇ m, still more preferably 80 to 500 ⁇ m, and particularly preferably 90 to 250 ⁇ m. When the thickness of the optical filter is within the above range, the optical filter can be reduced in size and weight.
  • the substrate (i) may be a single layer or multiple layers as long as it has a layer containing the compound (A) having an absorption maximum in a region of a wavelength of 650 nm or more and less than 800 nm. Moreover, it is preferable that the said base material (i) contains the compound (B) which has an absorption maximum in the wavelength range of 800 nm or more and 1850 nm or less, and the compound (B) is contained in the same layer as the compound (A). May also be included in different layers.
  • a layer containing at least one compound selected from the compound (A) and the compound (B) and a transparent resin is also referred to as “transparent resin layer”, and the other resin layers are also simply referred to as “resin layers”.
  • a base material composed of a transparent resin substrate containing the compound (A) and the compound (B), the compound (A) and the compound Supports such as a base material, a glass support, and a resin support as a base, in which a resin layer such as an overcoat layer made of a curable resin or a thermoplastic resin is laminated on a transparent resin substrate containing (B)
  • a resin layer such as an overcoat layer made of a curable resin or a thermoplastic resin is laminated on a transparent resin substrate containing (B)
  • a transparent resin layer such as an overcoat layer made of a curable resin or a thermoplastic resin containing the compound (A) and the compound (B) is laminated.
  • the layer containing the compound (A) is different from the layer containing the compound (B), for example, it is made of a curable resin or thermoplastic resin containing the compound (A) on a transparent resin substrate containing the compound (B).
  • a transparent resin such as an overcoat layer made of a curable resin or a thermoplastic resin containing a compound (B) on a substrate on which a transparent resin layer such as an overcoat layer is laminated, a transparent resin substrate containing the compound (A)
  • a transparent resin layer such as an overcoat layer made of a curable resin or a thermoplastic resin containing the compound (A) on a base material on which layers are laminated, a support such as a glass support or a base resin support, and the like;
  • the compound (A) is not particularly limited as long as it has an absorption maximum in a wavelength region of 650 nm or more and less than 800 nm, but is selected from the group consisting of squarylium compounds, phthalocyanine compounds, naphthalocyanine compounds, croconium compounds, and cyanine compounds. It is preferable that the compound is at least one compound selected from the group consisting of squarylium compounds, phthalocyanine compounds, and cyanine compounds. In addition, a compound (A) may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.
  • the absorption maximum wavelength of the compound (A) is preferably 660 nm to 795 nm, more preferably 680 nm to 790 nm.
  • the usage-amount of a compound (A) is suitably selected according to a desired characteristic, as the said base material, the base material which consists of a transparent resin board
  • the base material which consists of a transparent resin board
  • the base material which consists of a transparent resin board
  • a compound
  • a glass support or base is used as the base material.
  • a base material in which a transparent resin layer containing the compound (A) is laminated on a support such as a resin support it is preferably 0 with respect to 100 parts by weight of the resin forming the transparent resin layer. .4 to 20.0 parts by weight, more preferably .6 ⁇ 15.0 parts by weight, more preferably 0.8 to 12.5 wt parts.
  • the squarylium compound is not particularly limited, but is at least one selected from the group consisting of a squarylium compound represented by the following formula (I) and a squarylium compound represented by the following formula (II). Are preferred. Hereinafter, they are also referred to as “compound (I)” and “compound (II)”, respectively.
  • R a , R b and Ya satisfy the following condition ( ⁇ ) or ( ⁇ ).
  • a plurality of R a each independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, a sulfo group, a hydroxyl group, a cyano group, a nitro group, a carboxy group, a phosphoric acid group, —L 1 or —NR e R f group;
  • a plurality of R b s each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a sulfo group, a hydroxyl group, a cyano group, a nitro group, a carboxy group, a phosphoric acid group, —L 1 or —NR g R h group;
  • a plurality of Ya each independently represents a —NR j R k group;
  • L 1 represents L a, L b, L c , L d, L e, L f, L g or L h;
  • R e and R f each independently represents a hydrogen atom, -L a ,
  • At least one of two R a on one benzene ring is bonded to Y on the same benzene ring to form a heterocycle having 5 or 6 member atoms containing at least one nitrogen atom;
  • the heterocyclic ring may have a substituent, and R b and R a that is not involved in the formation of the heterocyclic ring are independently synonymous with R b and R a in the condition ( ⁇ ).
  • the total number of carbon atoms including the substituents of L a to L h is preferably 50 or less, more preferably 40 or less, and particularly preferably 30 or less. When the number of carbon atoms exceeds this range, the synthesis of the compound may be difficult, and the light absorption intensity per unit weight tends to be small.
  • the aliphatic hydrocarbon group L a and 1 to 12 carbon atoms in L such as a methyl group (Me), ethyl (Et), n-propyl group (n-Pr), isopropyl (i-Pr ), N-butyl group (n-Bu), sec-butyl group (s-Bu), tert-butyl group (t-Bu), pentyl group, hexyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, dodecyl group, etc.
  • Me methyl group
  • Et ethyl
  • i-Pr isopropyl
  • n-Bu N-butyl group
  • s-Bu sec-butyl group
  • t-Bu tert-butyl group
  • pentyl group hexyl group
  • octyl group nonyl group
  • decyl group dodecyl
  • Alkyl groups such as vinyl group, 1-propenyl group, 2-propenyl group, butenyl group, 1,3-butadienyl group, 2-methyl-1-propenyl group, 2-pentenyl group, hexenyl group and octenyl group
  • alkynyl groups such as ethynyl group, propynyl group, butynyl group, 2-methyl-1-propynyl group, hexynyl group and octynyl group.
  • Examples of the halogen-substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms in L b and L include, for example, a trichloromethyl group, a trifluoromethyl group, a 1,1-dichloroethyl group, a pentachloroethyl group, a pentafluoroethyl group, a heptachloro group. Mention may be made of propyl and heptafluoropropyl groups.
  • Examples of the alicyclic hydrocarbon group having 3 to 14 carbon atoms in L c and L include, for example, a cycloalkyl group such as a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group and a cyclooctyl group; a norbornane group and an adamantane group And polycyclic alicyclic groups such as
  • Examples of the aromatic hydrocarbon group having 6 to 14 carbon atoms in L d and L include, for example, phenyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group, cumenyl group, 1-naphthyl group, 2-naphthyl group, anthracenyl group, Mention may be made of phenanthryl, acenaphthyl, phenalenyl, tetrahydronaphthyl, indanyl and biphenylyl groups.
  • heterocyclic group having 3 to 14 carbon atoms in Le and L examples include, for example, furan, thiophene, pyrrole, pyrazole, imidazole, triazole, oxazole, oxadiazole, thiazole, thiadiazole, indole, indoline, indolenine, and benzofuran.
  • Examples of the alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms in L f include a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an isopropoxy group, a butoxy group, a pentyloxy group, a hexyloxy group, and an octyloxy group. it can.
  • Examples of the acyl group having 1 to 9 carbon atoms in L g include an acetyl group, a propionyl group, a butyryl group, an isobutyryl group, a valeryl group, an isovaleryl group, and a benzoyl group.
  • alkoxycarbonyl group having 1 to 9 carbon atoms in L h examples include, for example, a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, a propoxycarbonyl group, an isopropoxycarbonyl group, a butoxycarbonyl group, a pentyloxycarbonyl group, a hexyloxycarbonyl group, and an octyl group.
  • An oxycarbonyl group can be mentioned.
  • L a preferably a methyl group, an ethyl group, n- propyl group, an isopropyl group, n- butyl group, sec- butyl group, tert- butyl group, a pentyl group, a hexyl group, an octyl group, 4-phenylbutyl 2-cyclohexylethyl, more preferably a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a sec-butyl group, or a tert-butyl group.
  • L b is preferably a trichloromethyl group, a pentachloroethyl group, a trifluoromethyl group, a pentafluoroethyl group, or a 5-cyclohexyl-2,2,3,3-tetrafluoropentyl group, more preferably a trichloromethyl group.
  • L c is preferably a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a 4-ethylcyclohexyl group, a cyclooctyl group, or a 4-phenylcycloheptyl group, and more preferably a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, or a 4-ethylcyclohexyl group. It is.
  • the L d is preferably a phenyl group, 1-naphthyl group, 2-naphthyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group, cumenyl group, 3,5-di-tert-butylphenyl group, 4-cyclopentylphenyl group. 2,3,6-triphenylphenyl group, 2,3,4,5,6-pentaphenylphenyl group, more preferably phenyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group, cumenyl group, 2,3 , 4,5,6-pentaphenylphenyl group.
  • L e preferably furan, thiophene, pyrrole, indole, indoline, indolenine, benzofuran, benzothiophene, consisting morpholine group, more preferably furan, thiophene, pyrrole, consisting morpholine group.
  • the L f is preferably methoxy group, ethoxy group, propoxy group, isopropoxy group, butoxy group, methoxymethyl group, methoxyethyl group, 2-phenylethoxy group, 3-cyclohexylpropoxy group, pentyloxy group, hexyloxy Group, octyloxy group, more preferably methoxy group, ethoxy group, propoxy group, isopropoxy group, butoxy group.
  • L g is preferably an acetyl group, a propionyl group, a butyryl group, an isobutyryl group, a benzoyl group, a 4-propylbenzoyl group, or a trifluoromethylcarbonyl group, and more preferably an acetyl group, a propionyl group, or a benzoyl group.
  • the L h is preferably a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, a propoxycarbonyl group, an isopropoxycarbonyl group, a butoxycarbonyl group, a 2-trifluoromethylethoxycarbonyl group, or a 2-phenylethoxycarbonyl group, more preferably A methoxycarbonyl group and an ethoxycarbonyl group;
  • the L a to L h further have at least one atom or group selected from the group consisting of a halogen atom, a sulfo group, a hydroxyl group, a cyano group, a nitro group, a carboxy group, a phosphate group, and an amino group. May be. Examples include 4-sulfobutyl, 4-cyanobutyl, 5-carboxypentyl, 5-aminopentyl, 3-hydroxypropyl, 2-phosphorylethyl, 6-amino-2,2-dichloro.
  • R a in the above condition ( ⁇ ) is preferably a hydrogen atom, a chlorine atom, a fluorine atom, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a sec-butyl group, or a tert-butyl group.
  • R b in the above condition ( ⁇ ) is preferably a hydrogen atom, chlorine atom, fluorine atom, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group Cyclohexyl group, phenyl group, hydroxyl group, amino group, dimethylamino group, cyano group, nitro group, acetylamino group, propionylamino group, N-methylacetylamino group, trifluoromethanoylamino group, pentafluoroethanoylamino group T-butanoylamino group, cyclohexinoylamino group, more preferably hydrogen atom, chlorine atom, fluorine atom, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, hydroxyl group, dimethylamino group, nitro group Acet
  • the Ya is preferably an amino group, methylamino group, dimethylamino group, diethylamino group, di-n-propylamino group, diisopropylamino group, di-n-butylamino group, di-t-butylamino group, N -Ethyl-N-methylamino group, N-cyclohexyl-N-methylamino group, more preferably dimethylamino group, diethylamino group, di-n-propylamino group, diisopropylamino group, di-n-butylamino group , A di-t-butylamino group.
  • At least one of two R a on one benzene ring is bonded to Y on the same benzene ring, and at least 1 nitrogen atom is formed.
  • the heterocyclic ring containing 5 or 6 atoms include pyrrolidine, pyrrole, imidazole, pyrazole, piperidine, pyridine, piperazine, pyridazine, pyrimidine and pyrazine.
  • a heterocyclic ring that constitutes the heterocyclic ring and in which one atom adjacent to the carbon atom constituting the benzene ring is a nitrogen atom is preferable, and pyrrolidine is more preferable.
  • X independently represents O, S, Se, N—R c or C (R d R d ); a plurality of R c s independently represent a hydrogen atom, L a , L b , L c, represents L d or L e; each independently plurality of R d, a hydrogen atom, a halogen atom, a sulfo group, a hydroxyl group, a cyano group, a nitro group, a carboxy group, a phosphoric acid group, -L 1 or -NR e R f group, and adjacent R d groups may be linked to form an optionally substituted ring; L a to L e , L 1 , R e and R f are It is synonymous with L a -L e , L 1 , R e and R f defined in formula (I).
  • R c in the formula (II) is preferably a hydrogen atom, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group.
  • R d in the formula (II) is preferably a hydrogen atom, chlorine atom, fluorine atom, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl.
  • n-pentyl group n-hexyl group, cyclohexyl group, phenyl group, methoxy group, trifluoromethyl group, pentafluoroethyl group, 4-aminocyclohexyl group, more preferably hydrogen atom, chlorine atom, fluorine atom Methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, trifluoromethyl group and pentafluoroethyl group.
  • X is preferably O, S, Se, N-Me, N-Et, CH 2 , C-Me 2 , C-Et 2 , and more preferably S, C-Me 2 , C-Et 2. It is.
  • adjacent R ds may be linked to form a ring. Examples of such rings include benzoindolenin ring, ⁇ -naphthimidazole ring, ⁇ -naphthimidazole ring, ⁇ -naphthoxazole ring, ⁇ -naphthoxazole ring, ⁇ -naphthothiazole ring, ⁇ -naphthothiazole ring. , ⁇ -naphthoselenazole ring and ⁇ -naphthoselenazole ring.
  • Compound (I) and Compound (II) are represented by the following formulas (I-2) and (II-2) in addition to the description methods such as the following formula (I-1) and the following formula (II-1).
  • the structure can also be expressed by a description method that takes a resonance structure. That is, the difference between the following formula (I-1) and the following formula (I-2), and the difference between the following formula (II-1) and the following formula (II-2) is only the structure description method. Represents the same compound.
  • the structure of the squarylium compound is represented by a description method such as the following formula (I-1) and the following formula (II-1).
  • a compound represented by the following formula (I-3) and a compound represented by the following formula (I-4) can be regarded as the same compound.
  • the structures of the compounds (I) and (II) are not particularly limited as long as they satisfy the requirements of the formulas (I) and (II), respectively.
  • the left and right substituents bonded to the central four-membered ring may be the same or different, It is preferable that they are the same because synthesis is easy.
  • compounds (I) and (II) include compounds (a-1) shown in the following Tables 1 to 3 having basic skeletons represented by the following formulas (IA) to (IH): ) To (a-36).
  • the compounds (I) and (II) may be synthesized by a generally known method.
  • JP-A-1-228960, JP-A-2001-40234, JP-A-3196383, etc. It can be synthesized with reference to the method described.
  • the phthalocyanine compound is not particularly limited, but is preferably a compound represented by the following formula (III) (hereinafter also referred to as “compound (III)”).
  • M represents a substituted metal atom including two hydrogen atoms, two monovalent metal atoms, a divalent metal atom, or a trivalent or tetravalent metal atom
  • the amino group, amide group, imide group and silyl group may have the substituent L defined in the formula (I), L 1 has the same meaning as L 1 defined in Formula (I), L 2 represents one of L a ⁇ L e as defined in the hydrogen atom or the formula (I), the L 3 represents either a hydroxyl group or the L a ⁇ L e, L 4 represents represents any of the L a ⁇ L e.
  • the group and the silyl group may have the substituent L defined in the formula (I), and L 1 to L 4 have the same meanings as L 1 to L 4 defined in the formula (III).
  • the amino group which may have a substituent L is an amino group, ethylamino group, dimethylamino group, methylethylamino group, dibutylamino group, diisopropylamino Group and the like.
  • R a to R d and R A to R L as an amide group which may have a substituent L, an amide group, a methylamide group, a dimethylamide group, a diethylamide group, a dipropylamide group, a diisopropylamide group, Examples thereof include a dibutylamide group, an ⁇ -lactam group, a ⁇ -lactam group, a ⁇ -lactam group, and a ⁇ -lactam group.
  • the imide group that may have a substituent L is an imide group, a methylimide group, an ethylimide group, a diethylimide group, a dipropylimide group, a diisopropylimide group, A dibutylimide group etc. are mentioned.
  • Examples of the silyl group that may have a substituent L in R a to R d and R A to R L include a trimethylsilyl group, a tert-butyldimethylsilyl group, a triphenylsilyl group, and a triethylsilyl group.
  • —SL 2 includes thiol group, methyl sulfide group, ethyl sulfide group, propyl sulfide group, butyl sulfide group, isobutyl sulfide group, sec-butyl sulfide group Tert-butyl sulfide group, phenyl sulfide group, 2,6-di-tert-butylphenyl sulfide group, 2,6-diphenylphenyl sulfide group, 4-cumylphenyl sulfide group and the like.
  • -SS-L 2 is a disulfide group, methyl disulfide group, ethyl disulfide group, propyl disulfide group, butyl disulfide group, isobutyl disulfide group, sec-butyl disulfide group Tert-butyl disulfide group, phenyl disulfide group, 2,6-di-tert-butylphenyl disulfide group, 2,6-diphenylphenyl disulfide group, 4-cumylphenyl disulfide group and the like.
  • examples of —SO 2 -L 3 include a sulfo group, a mesyl group, an ethylsulfonyl group, an n-butylsulfonyl group, a p-toluenesulfonyl group, and the like.
  • —N ⁇ N—L 4 includes a methylazo group, a phenylazo group, a p-methylphenylazo group, a p-dimethylaminophenylazo group, and the like.
  • examples of the monovalent metal atom include Li, Na, K, Rb, and Cs.
  • the divalent metal atoms include Be, Mg, Ca, Ba, Ti, Cr, Mn, Fe, Ru, Co, Rh, Ni, Pd, Pt, Cu, Zn, Cd, Hg, Sn, Pb etc. are mentioned.
  • the substituted metal atom containing a trivalent metal atom includes Al—F, Al—Cl, Al—Br, Al—I, Ga—F, Ga—Cl, Ga—Br, Ga—I, In -F, In-Cl, In-Br, In-I, Tl-F, Tl-Cl, Tl-Br, Tl-I, Fe-Cl, Ru-Cl, Mn-OH and the like.
  • the substituted metal atom containing a tetravalent metal atom includes TiF 2 , TiCl 2 , TiBr 2 , TiI 2 , ZrCl 2 , HfCl 2 , CrCl 2 , SiF 2 , SiCl 2 , SiBr 2 , SiI 2 , GeF 2 , GeCl 2 , GeBr 2 , GeI 2 , SnF 2 , SnCl 2 , SnBr 2 , SnI 2 , Zr (OH) 2 , Hf (OH) 2 , Mn (OH) 2 , Si (OH) 2 , Ge ( OH) 2 , Sn (OH) 2 , TiR 2 , CrR 2 , SiR 2 , GeR 2 , SnR 2 , Ti (OR) 2 , Cr (OR) 2 , Si (OR) 2 , Ge (OR) 2 , Sn (OR) 2 (R represents an aliphatic group or an aromatic group),
  • the M is a divalent transition metal, trivalent or tetravalent metal halide or tetravalent metal oxide belonging to Groups 5 to 11 of the periodic table and belonging to the 4th to 5th periods.
  • Cu, Ni, Co, and VO are particularly preferable because high visible light transmittance and stability can be achieved.
  • a method of synthesizing the phthalocyanine-based compound by a cyclization reaction of a phthalonitrile derivative such as the following formula (V) is generally known.
  • the obtained phthalocyanine-based compounds are represented by the following formulas (VI-1) to (VI) It is a mixture of four isomers such as VI-4).
  • VI-1 a phthalonitrile derivative
  • VI-4 a phthalonitrile derivative
  • the compound (III) include the basic skeletons represented by the following formulas (III-A) to (III-J) and (b-1) to (b-61) shown in Tables 4 to 7 below. ) And the like.
  • Compound (III) may be synthesized by a generally known method. For example, a method described in Japanese Patent No. 4081149 or “phthalocyanine -chemistry and function” (IPC, 1997) is used. It can be synthesized by reference.
  • the cyanine compound is not particularly limited, but is a compound represented by any of the following formulas (IV-1) to (IV-3) (hereinafter referred to as “compounds (IV-1) to (IV-3)”. ) ").) Is preferred.
  • X a - represents a monovalent anion
  • a plurality of D are independently represents a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom or a sulfur atom
  • Represents at least one group selected from the group consisting of groups, wherein the amino group, amide group, imide group and silyl group are the substituents defined in the formula (I) It may have the L, L 1 has the same meaning as L 1 defined in Formula (I), L 2 represents one of L a ⁇ L e as defined in the hydrogen atom or the formula (I), the L 3 represents either a hydrogen atom or the L a ⁇ L e, L 4 are, represent either the L a ⁇ L e, Z a to Z c and Y a to Y d are each independently a hydrogen atom, halogen atom, hydroxyl group, carboxy group, nitro group, amino group, amide group, imide group, cyano group, silyl group, -L 1 ,- S-L 2, -SS-L 2, -SO 2 -L 3, -N N-L 4 (L 1 ⁇ L 4 have the same meaning as L 1 ⁇ L 4 in the R a ⁇ R
  • the hydrogenation group may have an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 9 carbon atoms or a halogen atom.
  • Examples of the aromatic hydrocarbon group having 6 to 14 carbon atoms formed by bonding Z or Y in Z a to Z c and Y a to Y d include, for example, the substituent L
  • the compound illustrated by the aromatic hydrocarbon group is mentioned.
  • the alicyclic hydrocarbon group include compounds exemplified by the alicyclic hydrocarbon group and the heterocyclic ring in the substituent L (excluding the heteroaromatic hydrocarbon group).
  • heteroaromatic hydrocarbon group having 3 to 14 carbon atoms formed by bonding Z or Y in Z a to Z c and Y a to Y d include, for example, the substituent L And the compounds exemplified as the heterocyclic group (excluding alicyclic hydrocarbon groups containing at least one nitrogen atom, oxygen atom or sulfur atom).
  • X a ⁇ is not particularly limited as long as it is a monovalent anion, but I ⁇ , Br ⁇ , PF 6 ⁇ , N (SO 2 CF 3 ) 2 ⁇ , B (C 6 F 5 ) 4 ⁇ , nickel dithiolate. And the like, and copper dithiolate complex.
  • the compounds (IV-1) to (IV-3) may be synthesized by a generally known method, for example, by the method described in JP-A-2009-108267.
  • the compound (B) is not particularly limited as long as it has an absorption maximum in the wavelength region of 800 nm or more and 1850 nm or less, but near infrared absorbing fine particles, squarylium compound, phthalocyanine compound, naphthalocyanine compound, croconium compound, cyanine It is preferable that the compound is at least one compound selected from the group consisting of a compound based on a compound, a diimonium compound, a metal dithiolate compound and a pyrrolopyrrole compound.
  • Ambient light sensors usually have a sensitivity up to around 1200 nm in addition to the visible light region.
  • a compound having a broad absorption in the near infrared region as the compound (B), and among the above compounds, near infrared absorbing fine particles, cyanine compounds, diimonium compounds and squarylium compounds are more preferable.
  • the near-infrared absorbing fine particles Cs x W y O z is most preferable.
  • a compound (B) may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type. By using such a compound (B), absorption characteristics in a wide near infrared wavelength region and excellent visible light transmittance can be achieved.
  • the absorption maximum wavelength of the compound (B) is 800 nm to 1850 nm, preferably 810 nm to 1800 nm, more preferably 820 nm to 1750 nm.
  • the absorption maximum wavelength of the compound (B) other than the near-infrared absorbing fine particles is preferably 800 nm to 1200 nm, more preferably 810 nm to 1180 nm, and particularly preferably 820 nm to 1150 nm.
  • the absorption maximum wavelength of the near-infrared absorbing fine particles is preferably 800 nm to 1850 nm, more preferably 840 nm to 1800 nm, and particularly preferably 870 nm to 1750 nm.
  • the amount of the compound (B) (excluding near-infrared-absorbing fine particles) is appropriately selected according to the desired properties.
  • the substrate include the compound (A) and the compound (B).
  • a base material composed of a transparent resin substrate it is preferably 0.01 to 5.0 parts by weight, more preferably 0.02 to 3.0 parts by weight, with respect to 100 parts by weight of the transparent resin. Particularly preferably, it is 0.03 to 2.0 parts by weight, and as the substrate, a transparent material containing the compound (A) and the compound (B) on a support such as a glass support or a resin support as a base.
  • the compound (A) is included. It is preferable for 100 parts by weight of the resin forming the transparent resin layer. Properly is 0.1-30.0 parts by weight, more preferably 1.0 to 28.0 parts by weight, particularly preferably 2.0 to 25.0 parts by weight.
  • an optical filter having both good near infrared absorption characteristics and high visible light transmittance can be obtained.
  • fine-particles as said compound (B) is mentioned later.
  • the compound (B) may be synthesized by a generally known method.
  • Japanese Patent No. 4168031 Japanese Patent No. 4225296, JP 2010-516823, JP-A 63-165392 It can be synthesized with reference to the method described in the publication.
  • diimonium type compound is not specifically limited,
  • the compound represented by a following formula (s1) is preferable.
  • R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a sulfo group, a hydroxyl group, a cyano group, a nitro group, a carboxy group, a phosphate group, a —NR g R h group, —SR i Group, —SO 2 R i group, —OSO 2 R i group, or any of the following L a to L h , wherein R g and R h are each independently a hydrogen atom, —C (O) R i group or represents one of the following L a ⁇ L e, R i represents any of the following L a ⁇ L e, (L a ) an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms (L b ) a halogen-substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms (L c ) an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 14 carbon atom
  • the substituent L is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, a halogen-substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, And at least one selected from the group consisting of an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 14 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 14 carbon atoms and a heterocyclic group having 3 to 14 carbon atoms, and n is 0 to An integer of 4, X represents an anion necessary for neutralizing the charge.
  • R 1 is preferably a hydrogen atom, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, cyclohexyl group, phenyl group or benzyl group. And more preferably an isopropyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, or a benzyl group.
  • R 2 is preferably a chlorine atom, fluorine atom, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, cyclohexyl group phenyl group, hydroxyl group, Amino group, dimethylamino group, cyano group, nitro group, methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, n-butoxy group, acetylamino group, propionylamino group, N-methylacetylamino group, trifluoromethanoylamino group A pentafluoroethanoylamino group, a t-butanoylamino group, a cyclohexinoylamino group, an n-butylsulfonyl group, a methylthio group, an ethylthio group, an n-prop
  • X is an anion necessary for neutralizing the electric charge, and one molecule is required when the anion is divalent, and two molecules are required when the anion is monovalent.
  • the two anions may be the same or different, but are preferably the same from the viewpoint of synthesis.
  • X will not be restrict
  • X has a tendency to improve the heat resistance of the diimonium compound when it is used as an anion of the diimonium compound as long as it has high acidity when converted to an acid, and (X-10) and (X X-16), (X-17), (X-21), (X-22), (X-24), and (X-28) are particularly preferable.
  • Metal dithiolate compounds Although the said metal dithiolate type compound is not specifically limited, For example, the compound represented by a following formula (s2) is preferable.
  • R 3 has the same meaning as R 1 and R 2 in the formula (s1), and adjacent R 3 may form a ring which may have a substituent L.
  • Z represents D (R i ) 4 , D represents a nitrogen atom, a phosphorus atom or a bismuth atom, and y represents 0 or 1.
  • R 3 is preferably a methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, cyclohexyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl, n-octyl, n-octyl, n-nonyl, n-decyl, phenyl, methylthio, ethylthio, n-propylthio, n-butylthio, phenylthio, benzylthio
  • it is preferably a heterocyclic ring containing at least one sulfur atom or nitrogen atom in the ring.
  • M is preferably a transition metal, more preferably Ni, Pd, or Pt.
  • the D is preferably a nitrogen atom or a phosphorus atom, and the Ri is preferably an ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl. Group, n-hexyl group, n-heptyl group and phenyl group.
  • the near-infrared absorbing fine particles are not particularly limited as long as they have absorption in a wavelength region of 800 nm to 1850 nm.
  • Examples of such near-infrared absorbing fine particles include transparent conductive oxides such as ITO (tin-doped indium oxide), ATO (antimony-doped tin oxide), and GZO (gallium-doped zinc oxide), and the following formula (P-1)
  • A is at least one selected from the group consisting of alkali metals, alkaline earth metals, and NH 4 , and n is 1 when A is an alkali metal or NH 4 , 2 when A is an alkaline earth metal.
  • M is H, alkali metal, alkaline earth metal, rare earth element, Mg, Zr, Cr, Mn, Fe, Ru, Co, Rh, Ir, Ni, Pd, Pt, Cu, Ag, Au, Zn, Cd, Al, Ga, In, Tl, Si, Ge, Sn, Pb, Sb, B, F, P, S, Se, Br, Te, Ti, Nb, V, Mo, Ta, Re, Be, Hf, Os, Bi, I, and when there are a plurality of M, they may be separate atoms, and x, y, and z are 0.001 ⁇ x / y ⁇ 1 and 2.2 ⁇ z / y The condition of ⁇ 3.0 is satisfied.
  • the alkali metal refers to Li, Na, K, Rb, Cs
  • the alkaline earth metal refers to Ca, Sr, Ba
  • the rare earth element refers to Sc, Y, La, Ce
  • It refers to Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, and Lu.
  • the average value of the particle diameter of the near-infrared absorbing fine particles is preferably 1 to 200 nm, that is, 200 nm or less, more preferably 150 nm or less, and particularly preferably 100 nm or less.
  • the diameter of the near-infrared absorbing fine particles is determined by using a dynamic light scattering photometer (model number DLS-8000HL / HH, manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.) as a suspension in which the near-infrared absorbing fine particles are dispersed (hereinafter also simply referred to as “dispersion liquid”). ) Using a dynamic light scattering method (using a He—Ne laser, a cell chamber temperature of 25 ° C.).
  • the average value of the particle diameter of the near-infrared absorbing fine particles is within this range, geometric scattering and Mie scattering that cause a decrease in visible light transmittance can be reduced, and a Rayleigh scattering region is obtained.
  • the scattered light decreases in inverse proportion to the sixth power of the particle diameter, so that the scattering is reduced and the visible light transmittance is improved as the particle diameter decreases.
  • the particle diameter is in the above-mentioned range since the scattered light is extremely reduced and a good visible light transmittance can be achieved.
  • the particle diameter is small, but considering the ease of industrial production, production cost, etc., the lower limit of the average value of the particle diameter is preferably 1 nm or more, particularly preferably 2 nm or more. .
  • the content of the near-infrared absorbing fine particles is preferably 5 to 60 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the resin component constituting the layer containing the near-infrared absorbing fine particles.
  • the upper limit of the content is more preferably 55 parts by weight, particularly preferably 50 parts by weight.
  • the lower limit of the content is more preferably 10 parts by weight, and particularly preferably 15 parts by weight. If the content of the near-infrared absorbing fine particles is less than 5 parts by weight, sufficient near-infrared absorption characteristics may not be obtained. If the content is more than 60 parts by weight, the visible transmittance decreases and the haze is caused by aggregation of the near-infrared absorbing fine particles. The value tends to increase.
  • Examples of the dispersion medium for the near-infrared absorbing fine particles include water, alcohol, ketone, ether, ester, aldehyde, amine, aliphatic hydrocarbon, alicyclic hydrocarbon, and aromatic hydrocarbon.
  • a dispersion medium may be used individually by 1 type, and 2 or more types may be mixed and used for it.
  • the amount of the dispersion medium is preferably 50 to 95 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the dispersion from the viewpoint of maintaining the dispersibility of the near-infrared absorbing fine particles.
  • a dispersant can be blended if necessary to improve the dispersion state of the near-infrared absorbing fine particles.
  • Dispersing agents that have a modifying effect on the surface of near-infrared absorbing fine particles such as surfactants, silane compounds, silicone resins, titanate coupling agents, aluminum coupling agents, zircoaluminate cups A ring agent or the like is used.
  • Surfactants include anionic surfactants (special polycarboxylic acid type polymer surfactants, alkyl phosphate esters, etc.), nonionic surfactants (polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene alkylphenol ether, polyoxy Ethylene carboxylic acid esters, sorbitan higher carboxylic acid esters, etc.), cationic surfactants (polyoxyethylene alkylamine carboxylic acid esters, alkylamines, alkylammonium salts, etc.), and amphoteric surfactants (higher alkylbetaines, etc.). .
  • silane compound examples include a silane coupling agent, chlorosilane, alkoxysilane, silazane and the like.
  • silane coupling agent examples include alkoxysilanes having a functional group (glycidoxy group, vinyl group, amino group, alkenyl group, epoxy group, mercapto group, chloro group, ammonium group, acryloxy group, methacryloxy group, etc.).
  • silicone resin examples include methyl silicone resin and methylphenyl silicone resin.
  • titanate coupling agents include those having an acyloxy group, phosphoxy group, pyrophosphoxy group, sulfoxy group, aryloxy group, and the like.
  • Examples of the aluminum coupling agent include acetoalkoxyaluminum diisopropylate.
  • Examples of the zircoaluminate coupling agent include those having an amino group, a mercapto group, an alkyl group, an alkenyl group, and the like.
  • the amount of the dispersant is preferably 0.5 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the dispersion, although it depends on the type of the dispersant. If the amount of the dispersant is within the above range, the dispersibility of the near-infrared absorbing fine particles becomes good, the transparency is not impaired, and the sedimentation of the near-infrared absorbing fine particles over time can be suppressed.
  • the first fine particles have near-infrared absorption characteristics due to the crystal structure (crystallite) of the compound represented by the formula (P-1).
  • crystallite means a unit crystal that can be regarded as a single crystal, and “particle” is composed of a plurality of crystallites.
  • the "consisting crystallites of the compound represented by formula (1)" can confirm the crystal structure of A 1 / n CuPO 4 by X-ray diffraction, the crystallite substantially A 1 / n CuPO 4 made it means that have been identified by X-ray diffraction, the term "consists crystallites substantially a 1 / n CuPO 4", crystallite sufficiently the crystal structure of a 1 / n CuPO 4 It means that impurities may be contained within a range that can be maintained (the crystal structure of A 1 / n CuPO 4 can be confirmed by X-ray diffraction).
  • X-ray diffraction is measured using a X-ray diffractometer for near-infrared absorbing fine particles in a powder state.
  • alkali metal Li, Na, K, Rb, Cs
  • alkaline earth metal Ca, Sr, Ba
  • NH 4 NH 4
  • the crystal structure of the crystallites in the near-infrared absorbing fine particles is a network-like three-dimensional skeleton composed of alternating bonds of PO 4 3 ⁇ and Cu 2+, and has a space inside the skeleton.
  • the size of the space is alkali metal ions (Li + : 0.090 nm, Na + : 0.116 nm, K + : 0.152 nm, Rb + : 0.166 nm, Cs + : 0.181 nm), alkaline earth metal Since the ionic radius of ions (Ca 2+ : 0.114 nm, Sr 2+ : 0.132 nm, Ba 2+ : 0.149 nm) and NH 4 + (0.166 nm) are compatible, the crystal structure can be sufficiently maintained. .
  • Alkali metal ions, alkaline earth metal ions, and NH 4 + can stably exist as monovalent or divalent cations in the solution, so that a precursor is generated in the process of producing near-infrared absorbing fine particles. At this time, cations are easily incorporated into the crystal structure.
  • a cation having strong coordination bond with PO 4 3- may give a crystal structure different from the crystal structure in the present embodiment that exhibits sufficient near-infrared absorption characteristics. is there.
  • K is particularly preferable because it has the most suitable cation size as an ion taken into the skeleton composed of PO 4 3- and Cu 2+ and takes a thermodynamically stable structure.
  • the near-infrared absorbing fine particles can exhibit sufficient near-infrared absorption characteristics when the crystallites sufficiently maintain the crystal structure of A 1 / n CuPO 4 . Therefore, when water or a hydroxyl group adheres to the surface of the crystallite, the crystal structure of A 1 / n CuPO 4 cannot be maintained, so that the difference in light transmittance between the visible light region and the near infrared wavelength region is reduced. It cannot be suitably used as an optical filter.
  • the near-infrared absorbing fine particles have a wavelength of around 1600 cm ⁇ 1 attributed to water when the absorption intensity of the peak near 1000 cm ⁇ 1 attributed to the phosphate group is used as a reference (100%) in the microscopic IR spectrum.
  • the peak absorption intensity is preferably 8% or less, and the peak absorption intensity near 3750 cm ⁇ 1 attributed to hydroxyl groups is preferably 26% or less.
  • the peak absorption intensity near 1600 cm ⁇ 1 attributed to water is preferred. Is 5% or less, and the absorption intensity of a peak near 3750 cm ⁇ 1 attributed to a hydroxyl group is more preferably 15% or less.
  • the microscopic IR spectrum is measured using a Fourier transform infrared spectrophotometer for powdered near-infrared absorbing fine particles.
  • a Fourier transform infrared spectrophotometer Magna 760 manufactured by Thermo Fisher Scientific is used, and a piece of the first fine particles is placed on the diamond plate, flattened with a roller, and microscopic FT-IR method Measure with
  • the composition range of the tungsten and oxygen is such that the composition ratio of oxygen to tungsten is 3 or less. Furthermore, when the tungsten oxide is described as W y O z , 2.2 ⁇ z / y ⁇ 2.999. It is preferable that If the value of z / y is 2.2 or more, it is possible to avoid the appearance of a WO 2 crystal phase other than the target in the tungsten oxide, and to improve the chemical stability as a material. Therefore, it can be applied as an effective near-infrared absorbing material. On the other hand, if the value of z / y is 2.999 or less, the required amount of free electrons is generated in the tungsten oxide, and an efficient near-infrared absorbing material is obtained.
  • a so-called “Magneli phase” having a composition ratio represented by 2.45 ⁇ z / y ⁇ 2.999 when the general formula is W y O z. Is chemically stable and has good absorption characteristics in the near-infrared region, and is therefore preferable as a near-infrared absorbing material.
  • the value of x / y indicating the amount of element M added will be described. If the value of x / y is larger than 0.001, a sufficient amount of free electrons is generated and the intended infrared shielding effect can be obtained. As the amount of the element M added increases, the supply amount of free electrons increases and the infrared shielding efficiency also increases. However, when the value of x / y is about 1, the effect is saturated. Moreover, if the value of x / y is smaller than 1, it is preferable since an impurity phase can be prevented from being generated in the infrared shielding material, and more preferably 0.2 or more and 0.5 or less.
  • the element M is H, alkali metal, alkaline earth metal, rare earth element, Mg, Zr, Cr, Mn, Fe, Ru, Co, Rh, Ir, Ni, Pd, Pt, Cu, Ag, Au, Zn Cd, Al, Ga, In, Tl, Si, Ge, Sn, Pb, Sb, B, F, P, S, Se, Br, Te, Ti, Nb, V, Mo, Ta, Re, Be, Hf , Os, Bi, I are preferably at least one selected from the group.
  • the element M is an alkali metal, an alkaline earth metal, a rare earth element, Mg, Zr, Cr, Mn, Fe, Ru, Co, Rh, Ir, Ni, Pd, Pt, Cu, Ag, Au, Zn, Cd, Al, Ga, In, Tl, Si, Ge, Sn, Pb, Sb, B, F, P, S, Se, Br, Te, More preferably, the element is one or more elements selected from Ti, Nb, V, Mo, Ta, and Re. From the viewpoint of improving optical properties and weather resistance as a near-infrared absorbing material, More preferably, the element M belongs to an alkali metal, alkaline earth metal element, transition metal element, group 4 element, or group 5 element.
  • the transparent resin is not particularly limited as long as it does not impair the effects of the present invention.
  • the glass transition temperature (Tg) is preferably from 110 to 110 in order to ensure thermal stability and film formability. Examples thereof include resins having a temperature of 380 ° C., more preferably 110 to 370 ° C., and still more preferably 120 to 360 ° C.
  • the glass transition temperature of the resin is preferably 140 ° C. or higher, and more preferably 230 ° C. or higher.
  • the total light transmittance (JIS K7105) of the resin plate is preferably 75 to 95%, more preferably 78 to 95. %, Particularly preferably 80 to 95% of the resin can be used. If a resin having a total light transmittance in such a range is used, the resulting substrate exhibits good transparency as an optical film.
  • the weight average molecular weight (Mw) in terms of polystyrene measured by a gel permeation chromatography (GPC) method of the transparent resin is usually 15,000 to 350,000, preferably 30,000 to 250,000.
  • the average molecular weight (Mn) is usually 10,000 to 150,000, preferably 20,000 to 100,000.
  • Transparent resins include, for example, cyclic polyolefin resins, aromatic polyether resins, polyimide resins, fluorene polycarbonate resins, fluorene polyester resins, polycarbonate resins, polyamide resins, aramid resins, polysulfone resins, poly Ether sulfone resin, polyparaphenylene resin, polyamideimide resin, polyethylene naphthalate resin, fluorinated aromatic polymer resin, (modified) acrylic resin, epoxy resin, silsesquioxane UV curable Resin, maleimide resin, alicyclic epoxy thermosetting resin, polyether ether ketone resin, polyarylate resin, allyl ester curable resin, acrylic UV curable resin, vinyl UV curable resin and sol-gel method Formed Silica may be mentioned a resin as a main component was.
  • cyclic polyolefin resins aromatic polyether resins, fluorene polycarbonate resins, fluorene polyester resins, polycarbonate resins, and polyarylate resins can be used for transparency (optical properties), heat resistance, and reflow resistance. It is preferable at the point from which the optical filter excellent in balance, etc. can be obtained.
  • the cyclic polyolefin-based resin is obtained from at least one monomer selected from the group consisting of a monomer represented by the following formula (X 0 ) and a monomer represented by the following formula (Y 0 ).
  • a resin and a resin obtained by hydrogenating the resin are preferable.
  • R x1 to R x4 each independently represents an atom or group selected from the following (i ′) to (ix ′), and k x , mx and p x are each independently 0 Or represents a positive integer.
  • R x1 and R x2 or R x3 and R x4 are bonded to each other to form a monocyclic or polycyclic hydrocarbon ring or heterocyclic ring (provided that R x1 to R which are not involved in the bond) x4 each independently represents an atom or group selected from (i ′) to (vi ′).
  • Ix ′ A monocyclic hydrocarbon ring or heterocycle formed by bonding R x2 and R x3 to each other (provided that R x1 and R x4 not involved in the bonding are each independently the above (i Represents an atom or group selected from ') to (vi').
  • R y1 and R y2 each independently represent an atom or group selected from the above (i ′) to (vi ′), or R y1 and R y2 are bonded to each other formed monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon, an aromatic hydrocarbon or heterocyclic, k y and p y are each independently, represent 0 or a positive integer.
  • the aromatic polyether-based resin preferably has at least one structural unit selected from the group consisting of a structural unit represented by the following formula (1) and a structural unit represented by the following formula (2).
  • R 1 to R 4 each independently represents a monovalent organic group having 1 to 12 carbon atoms, and a to d each independently represents an integer of 0 to 4.
  • R 1 ⁇ R 4 and a ⁇ d independently has the same meaning as R 1 ⁇ R 4 and a ⁇ d of the formula (1)
  • Y represents a single bond
  • -SO 2 -Or> C O
  • R 7 and R 8 each independently represent a halogen atom, a monovalent organic group having 1 to 12 carbon atoms or a nitro group
  • g and h each independently represent 0 to 4
  • m represents 0 or 1.
  • R 7 is not a cyano group.
  • the aromatic polyether resin further has at least one structural unit selected from the group consisting of a structural unit represented by the following formula (3) and a structural unit represented by the following formula (4). Is preferred.
  • R 5 and R 6 each independently represents a monovalent organic group having 1 to 12 carbon atoms
  • Z represents a single bond, —O—, —S—, —SO 2 —,> C ⁇ O, —CONH—, —COO— or a divalent organic group having 1 to 12 carbon atoms
  • e and f each independently represent an integer of 0 to 4, and n represents 0 or 1.
  • R 7 , R 8 , Y, m, g and h are each independently synonymous with R 7 , R 8 , Y, m, g and h in formula (2), and R 5 , R 6 , Z, n, e and f are each independently synonymous with R 5 , R 6 , Z, n, e and f in the formula (3).
  • the polyimide resin is not particularly limited as long as it is a polymer compound containing an imide bond in a repeating unit.
  • the method described in JP-A-2006-199945 and JP-A-2008-163107 is used. Can be synthesized.
  • the fluorene polycarbonate resin is not particularly limited as long as it is a polycarbonate resin containing a fluorene moiety, and can be synthesized, for example, by the method described in JP-A-2008-163194.
  • the fluorene polyester resin is not particularly limited as long as it is a polyester resin containing a fluorene moiety.
  • the fluorene polyester resin can be synthesized by the method described in JP 2010-285505 A or JP 2011-197450 A. Can do.
  • the fluorinated aromatic polymer resin is not particularly limited, but is selected from the group consisting of an aromatic ring having at least one fluorine atom, an ether bond, a ketone bond, a sulfone bond, an amide bond, an imide bond, and an ester bond.
  • the polymer preferably contains a repeating unit containing at least one bond, and can be synthesized, for example, by the method described in JP-A-2008-181121.
  • the acrylic ultraviolet curable resin is not particularly limited, but is synthesized from a resin composition containing a compound having one or more acrylic or methacrylic groups in the molecule and a compound that decomposes by ultraviolet rays to generate active radicals. Can be mentioned.
  • a transparent resin layer (light absorption layer) containing a compound (A) and a curable resin is laminated on a glass support or a resin support as a base as the base (i).
  • a base material in which a resin layer such as an overcoat layer made of a curable resin or the like is laminated on a transparent resin substrate containing the prepared base material or compound (A), it is particularly suitable as the curable resin.
  • a base material in which a resin layer such as an overcoat layer made of a curable resin or the like is laminated on a transparent resin substrate containing the prepared base material or compound (A)
  • it is particularly suitable as the curable resin. can be used.
  • Resin mainly composed of silica formed by sol-gel process examples include tetraalkoxysilanes such as tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, dimethoxydiethoxylane, and methoxytriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, A compound obtained by a sol-gel reaction by hydrolysis of one or more silanes selected from phenylalkoxysilanes such as diphenyldiethoxysilane can be used as the resin.
  • cyclic polyolefin resins examples include Arton manufactured by JSR Corporation, ZEONOR manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., APEL manufactured by Mitsui Chemicals, Inc., and TOPAS manufactured by Polyplastics Corporation.
  • polyethersulfone resins examples include Sumika Excel PES manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.
  • polyimide resins examples include Neoprim L manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.
  • commercially available polycarbonate resins include Pure Ace manufactured by Teijin Limited.
  • Examples of commercially available fluorene polycarbonate resins include Iupizeta EP-5000 manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.
  • Examples of commercially available fluorene polyester resins include OKP4HT manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd.
  • Examples of commercially available acrylic resins include NIPPON CATALYST ACRYVIEWER.
  • Examples of commercially available silsesquioxane-based ultraviolet curable resins include Silplus manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.
  • the base material (i) may further contain additives such as an antioxidant, a near-ultraviolet absorber, and a fluorescence quencher as long as the effects of the present invention are not impaired. These other components may be used alone or in combination of two or more.
  • Examples of the near ultraviolet absorber include azomethine compounds, indole compounds, benzotriazole compounds, and triazine compounds.
  • Examples of the antioxidant include 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol, 2,2′-dioxy-3,3′-di-t-butyl-5,5′-dimethyldiphenylmethane, tetrakis [Methylene-3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate] methane, tris (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite and the like.
  • additives may be mixed with the resin or the like when the transparent resin is produced, or may be added when the resin is synthesized.
  • the addition amount is appropriately selected according to the desired properties, but is usually 0.01 to 5.0 parts by weight, preferably 0.05 to 2. parts by weight with respect to 100 parts by weight of the transparent resin. 0 parts by weight.
  • the glass support is not particularly limited, and examples thereof include borosilicate glass, silicate glass, soda lime glass, and near infrared absorbing glass.
  • the near-infrared absorbing glass is preferable in that the near-infrared cut characteristics can be improved and the incident angle dependency can be reduced.
  • Specific examples thereof include a fluorophosphate glass and a phosphate system containing a copper component. Glass etc. are mentioned.
  • the substrate (i) is a substrate including a transparent resin substrate containing the compound (A) or the like
  • the transparent resin substrate can be formed by, for example, melt molding or cast molding, Furthermore, if necessary, a substrate on which an overcoat layer is laminated can be produced by coating a coating agent such as an antireflection agent, a hard coat agent and / or an antistatic agent after molding.
  • a transparent resin layer such as an overcoat layer made of a curable resin or a thermoplastic resin containing the compound (A) or the like is laminated on a glass support or a resin support serving as a base.
  • a transparent resin layer such as an overcoat layer made of a curable resin or a thermoplastic resin containing the compound (A) or the like is laminated on a glass support or a resin support serving as a base.
  • a resin support or a base resin support for example, by spin-molding, slit-coating, ink-jet, etc., preferably by melt-molding or cast-molding a resin solution containing the compound (A) or the like on a glass support or a base resin support.
  • the substrate in which the transparent resin layer is formed on the glass support or the resin support as the base by drying and removing the solvent after coating by the method, and further performing light irradiation and heating as necessary. Can be manufactured.
  • melt molding a method of melt molding pellets obtained by melt-kneading a resin and a compound (A) or the like; a resin composition containing a resin and a compound (A) or the like; A method of melt-molding; or a method of melt-molding pellets obtained by removing the solvent from a resin composition containing a resin and a solvent such as compound (A).
  • melt molding method include injection molding, melt extrusion molding, and blow molding.
  • ⁇ Cast molding As the cast molding, a method of removing a solvent by casting a resin composition containing a resin and a solvent such as compound (A) on an appropriate support; or a compound (A) and the like, a photocurable resin and It can also be produced by a method in which a curable composition containing a thermosetting resin is cast on an appropriate support to remove the solvent and then cured by an appropriate method such as ultraviolet irradiation or heating. .
  • the base material (i) is a base material made of a transparent resin substrate containing the compound (A) or the like
  • the base material (i) peels the coating film from the support after cast molding.
  • the substrate (i) is made of a curable resin containing the compound (A) or the like on a support such as a glass support or a resin support as a base.
  • the substrate (i) can be obtained by not peeling the coating film after cast molding.
  • the support examples include a glass plate, a steel belt, a steel drum, and a support made of a transparent resin (for example, a polyester film and a cyclic olefin resin film).
  • a transparent resin for example, a polyester film and a cyclic olefin resin film.
  • the optical component such as glass plate, quartz or transparent plastic is coated with the resin composition and the solvent is dried, or the curable composition is coated and cured and dried.
  • a transparent resin layer can also be formed on the component.
  • the amount of residual solvent in the transparent resin layer (transparent resin substrate) obtained by the above method should be as small as possible.
  • the amount of the residual solvent is preferably 3% by weight or less, more preferably 1% by weight or less, and still more preferably 0.5% by weight with respect to the weight of the transparent resin layer (transparent resin substrate). It is as follows. When the amount of residual solvent is in the above range, a transparent resin layer (transparent resin substrate) that can easily exhibit a desired function, in which deformation and characteristics hardly change can be obtained.
  • the optical filter of the present invention preferably does not have a dielectric multilayer film from the viewpoint of warpage reduction, but at least one of the base materials (i) within a range not impairing the effects of the present invention.
  • the surface may have a dielectric multilayer film.
  • the dielectric multilayer film in the present invention is a film having the ability to reflect near infrared rays or a film having an antireflection effect in the visible range.
  • the structure having an antireflection effect in the visible region of about 1 to 9 layers (antireflection film) on both surfaces of the substrate (i) is required when high visible light transmittance of the optical filter is required. Is preferable from the viewpoint that the visible light transmittance can be improved without greatly degrading the warpage.
  • Examples of the dielectric multilayer film include those in which a high refractive index material layer and a low refractive index material layer are alternately laminated.
  • a material constituting the high refractive index material layer a material having a refractive index of 1.7 or more can be used, and a material having a refractive index of usually 1.7 to 2.5 is selected.
  • Such materials include titanium oxide, zirconium oxide, tantalum pentoxide, niobium pentoxide, lanthanum oxide, yttrium oxide, zinc oxide, zinc sulfide, or indium oxide as the main components, and titanium oxide, tin oxide, and / or Alternatively, a material containing a small amount of cerium oxide or the like (for example, 0 to 10% by weight based on the main component) can be used.
  • a material having a refractive index of 1.6 or less can be used, and a material having a refractive index of usually 1.2 to 1.6 is selected.
  • examples of such materials include silica, alumina, lanthanum fluoride, magnesium fluoride, and sodium hexafluoride sodium.
  • the method for laminating the high refractive index material layer and the low refractive index material layer is not particularly limited as long as a dielectric multilayer film in which these material layers are laminated is formed.
  • a high-refractive index material layer and a low-refractive index material layer are alternately laminated directly on the substrate (i) by CVD, sputtering, vacuum deposition, ion-assisted deposition, or ion plating.
  • a dielectric multilayer film can be formed.
  • each of the high refractive index material layer and the low refractive index material layer is usually preferably from 0.1 ⁇ to 0.5 ⁇ , where ⁇ (nm) is the near infrared wavelength to be blocked.
  • the value of ⁇ (nm) is, for example, 700 to 1400 nm, preferably 750 to 1300 nm.
  • the optical thickness obtained by multiplying the refractive index (n) by the thickness (d) (n ⁇ d) by ⁇ / 4 the high refractive index material layer, and the low refractive index.
  • the thicknesses of the respective layers of the refractive index material layer are almost the same value, and there is a tendency that the blocking / transmission of a specific wavelength can be easily controlled from the relationship between the optical characteristics of reflection / refraction.
  • the total number of high refractive index material layers and low refractive index material layers in the dielectric multilayer film is preferably 1 to 20 layers, more preferably 2 to 12 layers as a whole.
  • Appropriate selection of thickness, stacking order, and number of stacks ensures sufficient transmittance in the visible range and sufficient light cut characteristics in the near-infrared wavelength range, and is close to the oblique direction. The reflectance when infrared rays are incident can be reduced.
  • optical thin film design software for example, manufactured by Essential Macleod, Thin Film Center Co., Ltd.
  • optical thin film design software for example, manufactured by Essential Macleod, Thin Film Center Co., Ltd.
  • the target transmittance at a wavelength of 400 to 700 nm is set to 100%
  • the target Tolerance value is set to 1
  • the target transmittance at a wavelength of 705 to 950 nm is set to 0%.
  • Parameter setting method such as setting Target Tolerance value to 0.5 can be mentioned.
  • These parameters can change the value of Target Tolerance by further finely dividing the wavelength range according to various characteristics of the substrate (i).
  • the optical filter of the present invention does not impair the effects of the present invention
  • the optical filter is provided between the base material (i) and the dielectric multilayer film, on the side opposite to the surface on which the dielectric multilayer film is provided.
  • the surface hardness of the substrate (i) or the dielectric multilayer film is improved, the chemical resistance is improved, the antistatic A functional film such as an antireflection film, a hard coat film, or an antistatic film can be appropriately provided for the purpose of scratch removal.
  • the optical filter of the present invention may include one layer made of the functional film or two or more layers.
  • the optical filter of the present invention may include two or more similar layers or two or more different layers.
  • the method for laminating the functional film is not particularly limited, but a coating agent such as an antireflection agent, a hard coating agent and / or an antistatic agent is melted in the base material (i) or the dielectric multilayer film as described above.
  • a coating agent such as an antireflection agent, a hard coating agent and / or an antistatic agent is melted in the base material (i) or the dielectric multilayer film as described above.
  • Examples of the method include molding or cast molding.
  • a curable composition containing the coating agent or the like on a substrate (i) or a dielectric multilayer film with a bar coater or the like and then curing it by ultraviolet irradiation or the like.
  • the coating agent examples include ultraviolet (UV) / electron beam (EB) curable resins and thermosetting resins. Specifically, vinyl compounds, urethanes, urethane acrylates, acrylates, epoxy And epoxy acrylate resins. Examples of the curable composition containing these coating agents include vinyl, urethane, urethane acrylate, acrylate, epoxy, and epoxy acrylate curable compositions.
  • UV ultraviolet
  • EB electron beam
  • the curable composition may contain a polymerization initiator.
  • a polymerization initiator a known photopolymerization initiator or a thermal polymerization initiator can be used, and a photopolymerization initiator and a thermal polymerization initiator may be used in combination.
  • a polymerization initiator may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
  • the blending ratio of the polymerization initiator in the curable composition is preferably 0.1 to 10% by weight, more preferably 0.5 to 10% by weight, when the total amount of the curable composition is 100% by weight. More preferably, it is 1 to 5% by weight.
  • a functional film such as an antireflective film, a hard coat film or an antistatic film having excellent curing characteristics and handleability of the curable composition and having a desired hardness. it can.
  • organic solvent may be added as a solvent to the curable composition, and known organic solvents can be used.
  • organic solvents include alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, butanol and octanol; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone; ethyl acetate, butyl acetate, ethyl lactate, ⁇ -butyrolactone, propylene Esters such as glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol monoethyl ether acetate; Ethers such as ethylene glycol monomethyl ether and diethylene glycol monobutyl ether; Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; Dimethylformamide, dimethylacetamide, N- Examples include amides such as methylpyrrolidone.
  • the thickness of the functional film is preferably 0.1 to 30 ⁇ m, more preferably 0.5 to 20 ⁇ m, and particularly preferably 0.7 to 5 ⁇ m.
  • the base material (i) and the functional film and / or the dielectric multilayer film may be applied to the surface of the multilayer film.
  • the optical filter of the present invention has excellent visible transmittance and near infrared ray cutting ability even when the incident angle is large. Therefore, it is useful for various ambient light sensors such as an illuminance sensor and a color correction sensor. In particular, it is useful for an ambient light sensor mounted on a digital still camera, a smartphone, a tablet terminal, a mobile phone, a wearable device, an automobile, a television, a game machine, or the like. Furthermore, it is useful as a heat ray cut filter mounted on a glass plate for windows of automobiles and buildings.
  • the ambient light sensor is a sensor capable of detecting ambient brightness and color tone (such as strong red in the evening time zone) such as an illuminance sensor and a color correction sensor. For example, information detected by the ambient light sensor This makes it possible to control the illuminance and hue of the display mounted on the device.
  • FIG. 1 shows an example of an ambient light sensor 200a that detects ambient brightness.
  • the ambient light sensor 200a includes an optical filter 100 and a photoelectric conversion element 202.
  • the photoelectric conversion element 202 generates a current and a voltage due to the photovoltaic effect when light enters the light receiving portion.
  • the optical filter 100 is provided on the light receiving surface side of the photoelectric conversion element 202. By the optical filter 100, the light incident on the light receiving surface of the photoelectric conversion element 202 becomes light in the visible light band, and light in the near infrared band (800 nm to 2500 nm) is blocked.
  • the ambient light sensor 200a outputs a signal in response to visible light.
  • another light-transmitting layer may be interposed between the optical filter 100 and the photoelectric conversion element 202.
  • a light-transmitting resin layer may be provided as a sealing material between the optical filter 100 and the photoelectric conversion element 202.
  • the photoelectric conversion element 202 has a first electrode 206, a photoelectric conversion layer 208, and a second electrode 210. Further, a passivation film 216 is provided on the light receiving surface side.
  • the photoelectric conversion layer 208 is formed using a semiconductor that exhibits a photoelectric effect. For example, the photoelectric conversion layer 208 is formed using a silicon semiconductor.
  • the photoelectric conversion layer 208 is a diode-type element, and develops a photovoltaic force by a built-in electric field.
  • the photoelectric conversion element 202 is not limited to a diode-type element, and is a photoconductive-type element (also referred to as a photoresistor, a light-dependent resistor, a photoconductor, or a photocell) or a phototransistor-type element. Also good.
  • the photoelectric conversion layer 208 may be formed of a germanium semiconductor or a silicon / germanium semiconductor in addition to the silicon semiconductor. Further, as the photoelectric conversion layer 208, a compound semiconductor material such as GaP, GaAsP, CdS, CdTe, or CuInSe 2 may be used.
  • the photoelectric conversion element 202 formed of a semiconductor material has sensitivity to light in the visible light band to the near infrared band. For example, in the case where the photoelectric conversion layer 208 is formed of a silicon semiconductor, the band gap energy of the silicon semiconductor is 1.12 eV, and thus, in principle, light having a wavelength of 700 to 1100 nm, which is near infrared light, can be absorbed.
  • the ambient light sensor 200a is insensitive to near infrared light and has sensitivity to light in the visible light range.
  • the photoelectric conversion element 202 is preferably surrounded by a light-shielding casing 204 so that light transmitted through the optical filter 100 is selectively irradiated.
  • the ambient light sensor 200a can block ambient light and detect ambient light. Thereby, the trouble that the ambient light sensor 200a malfunctions in response to near infrared light can be solved.
  • FIG. 2 shows an example of an ambient light sensor 200b that detects a color tone in addition to ambient brightness.
  • the ambient light sensor 200b includes the optical filter 100, photoelectric conversion elements 202a to 202c, and color filters 212a to 212c.
  • a color filter 212a that transmits light in the red light band is provided on the light receiving surface of the photoelectric conversion element 202a
  • a color filter 212b that transmits light in the green light band is provided on the light receiving surface of the photoelectric conversion element 202b.
  • a color filter 212c that transmits light in the blue light band is provided on the light receiving surface of the photoelectric conversion element 202c.
  • the photoelectric conversion elements 202a to 202c have the same configuration as that shown in FIG.
  • the photoelectric conversion elements 202a to 202c can independently detect the illuminance.
  • a passivation film 216 may be provided between the color filters 212a to 212c and the photoelectric conversion elements 202a to 202c.
  • the photoelectric conversion elements 202a to 202c have sensitivity over a wide range from the visible light wavelength region to the near infrared wavelength region. Therefore, by providing color filters 212a to 212c corresponding to the photoelectric conversion elements 202a to 202c in addition to the optical filter 100, the ambient light sensor 200b blocks near-infrared light and prevents malfunction of the sensor. The light corresponding to each color can be detected.
  • the ambient light sensor 200b includes the optical filter 100 that blocks light in the near infrared region and the color filters 212a to 212c, so that it can not only spectroscopically detect ambient light into light of a plurality of wavelength bands,
  • the conventional color sensor can be applied even in a dark environment where accurate detection is impossible due to the influence of near infrared rays.
  • the electronic device of the present invention includes the above-described ambient light sensor of the present invention.
  • the electronic apparatus of the present invention will be described below with reference to the drawings.
  • FIG. 3A to 3C show an example of an electronic apparatus 300 having the ambient light sensor 200 according to an embodiment of the present invention.
  • 3A is a front view
  • FIG. 3B is a top view
  • FIG. 3C is a detailed view illustrating the configuration of a region D surrounded by a dotted line in FIG. 3B.
  • the electronic device 300 includes a housing 302, a display panel 304, a microphone unit 306, a speaker unit 308, and the ambient light sensor 200.
  • the display panel 304 employs a touch panel and has an input function in addition to a display function.
  • the ambient light sensor 200 is provided on the rear surface of the front panel 310 provided in the housing 302. That is, the ambient light sensor 200 does not appear in the appearance of the electronic device 300, and light enters through the translucent surface panel 310.
  • the front panel 310 blocks light in the near infrared region by the optical filter 100, and light in the visible light region enters the photoelectric conversion element 202.
  • the electronic device 300 can control the illuminance and color of the display panel 304 by the ambient light sensor 200.
  • the optical filter 100 is provided close to the light receiving surface of the photoelectric conversion element 202, so that the illuminance is accurately measured even for light incident at a wide angle. be able to.
  • Parts means “parts by weight” unless otherwise specified.
  • the measurement method of each physical property value and the evaluation method of the physical property are as follows.
  • the molecular weight of the resin was measured by the following method (a) or (b) in consideration of the solubility of each resin in a solvent.
  • A Weight average molecular weight in terms of standard polystyrene using a gel permeation chromatography (GPC) apparatus (150C type, column: H type column manufactured by Tosoh Corporation, developing solvent: o-dichlorobenzene) manufactured by WATERS (Mw) and number average molecular weight (Mn) were measured.
  • GPC gel permeation chromatography
  • Tg Glass transition temperature
  • DSC6200 differential scanning calorimeter
  • ⁇ Spectral transmittance> The transmittance in each wavelength region of the optical filter was measured using a spectrophotometer (U-4100) manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation.
  • the light 1 transmitted perpendicularly to the optical filter 2 is measured by the spectrophotometer 3 as shown in FIG.
  • the spectrophotometer 3 transmits light 1 ′ transmitted at an angle of 30 degrees with respect to the vertical direction of the optical filter 2 as shown in FIG.
  • the light 1 transmitted at an angle of 60 degrees with respect to the vertical direction of the optical filter 2 as shown in FIG. ′′ was measured with a spectrophotometer 3.
  • ⁇ Spectral reflectance> The reflectance in each wavelength region of the optical filter was measured using a spectrophotometer (U-4100) manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation.
  • optical density (OD value) The optical density (OD value) of the optical filter was obtained by calculation from the transmittance value measured using JASCO Corporation UV-Vis infrared spectrophotometer V-7300.
  • the near-infrared absorbing dye used in the following examples was synthesized by a generally known method.
  • Examples of the general synthesis method include, for example, Japanese Patent No. 336697, Japanese Patent No. 2846091, Japanese Patent No. 2864475, Japanese Patent No. 3703869, Japanese Patent Laid-Open No. 60-228448, Japanese Patent Laid-Open No. 1-146846, JP-A-1-228960, JP-A-4081149, JP-A-63-124054, “Phthalocyanine—Chemistry and Function” (IPC, 1997), JP-A-2007-169315, JP2009. -108267, JP 2010-241873, JP 3699464, JP 4740631, and the like.
  • the obtained resin A had a number average molecular weight (Mn) of 75,000, a weight average molecular weight (Mw) of 188,000, and a glass transition temperature (Tg) of 285 ° C.
  • NDM 8-methyl-8-methoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.12,5.17,10] dodec-3-ene
  • Example 1 an optical filter having a base material made of a transparent resin substrate having a resin layer on both sides was produced according to the following procedure and conditions.
  • a resin composition (1) having the following composition was applied to one side of the obtained transparent resin substrate with a bar coater and heated in an oven at 70 ° C. for 2 minutes to volatilize and remove the solvent. At this time, the coating conditions of the bar coater were adjusted so that the thickness after drying was 2 ⁇ m. Next, it exposed using the conveyor type exposure machine (exposure amount 500mJ / cm ⁇ 2 >, 200mW), the resin composition (1) was hardened, and the resin layer was formed on the substrate made from transparent resin. Similarly, a resin layer made of the resin composition (1) was formed on the other surface of the transparent resin substrate, and a base material having a resin layer on both surfaces of the transparent resin substrate containing the compound (A) was obtained. .
  • Resin composition (1) 60 parts by weight of tricyclodecane dimethanol acrylate, 40 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate, 5 parts by weight of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, near-infrared absorbing fine particle dispersion (manufactured by Sumitomo Metal Mining Co., Ltd.) YMF-02A, absorption maximum wavelength: 1715 nm, commercially available dispersion of second fine particles) 117 parts by weight (about 33 parts by weight in terms of solid content), methyl ethyl ketone (solvent, solid content concentration (TSC): 30%)
  • the change rate of the ratio of B transmittance was evaluated. Further, the warpage characteristics and the ambient light sensor performance (color correction performance) of the obtained optical filter were evaluated. The results are shown in FIG.
  • Example 2 an optical filter having a base material including a transparent glass substrate was produced according to the following procedure and conditions.
  • the resin composition (1) was applied to one side of a near-infrared absorbing glass substrate “BS-11” (thickness 120 ⁇ m) manufactured by Matsunami Glass Industry Co., Ltd., cut into a size of 200 mm in length and 200 mm in width. And heated in an oven at 70 ° C. for 2 minutes to volatilize and remove the solvent. At this time, the coating conditions of the bar coater were adjusted so that the thickness after drying was 4 ⁇ m. Next, it exposed using the conveyor type exposure machine (exposure amount 500mJ / cm ⁇ 2 >, 200mW), the resin composition (1) was hardened, and the resin layer was formed on the glass substrate.
  • BS-11 near-infrared absorbing glass substrate
  • the resin solution (D-1) is applied onto the resin layer using a spin coater under conditions such that the thickness after drying is 2 ⁇ m, and heated on a hot plate at 80 ° C. for 5 minutes to remove the solvent. Volatile removal was performed to form a transparent resin layer, which was then baked in an oven at 230 ° C. for 20 minutes to obtain a 200 mm long and 200 mm wide base material.
  • the spectral transmittance from the angles of 30 ° and 60 ° with respect to the vertical direction and the vertical direction of the optical filter and the spectrum from the angle of 5 ° with respect to the vertical direction of the optical filter are measured, and the change rate of the ratio of the optical characteristics and the R transmittance and the change of the G transmittance in each wavelength region.
  • the rate of change in the ratio of the transmittance and the B transmittance was evaluated. Further, the warpage characteristics and the ambient light sensor performance (color correction performance) of the obtained optical filter were evaluated. The results are shown in FIG.
  • Example 3 an optical filter having a base material composed of a transparent resin substrate having a resin layer on both sides was produced according to the following procedure and conditions.
  • the resin composition (1) was applied to one side of the obtained transparent resin substrate with a bar coater and heated in an oven at 70 ° C. for 2 minutes to volatilize and remove the solvent. At this time, the coating conditions of the bar coater were adjusted so that the thickness after drying was 4 ⁇ m. Next, it exposed using the conveyor type exposure machine (exposure amount 500mJ / cm ⁇ 2 >, 200mW), the resin composition (1) was hardened, and the resin layer was formed on the substrate made from transparent resin. Similarly, a resin layer made of the resin composition (1) was formed on the other surface of the transparent resin substrate, and a base material having a resin layer on both surfaces of the transparent resin substrate containing the compound (A) was obtained. .
  • the spectral transmittance from the angles of 30 ° and 60 ° with respect to the vertical direction and the vertical direction of the optical filter and the spectrum from the angle of 5 ° with respect to the vertical direction of the optical filter are measured, and the change rate of the ratio of the optical characteristics and the R transmittance and the change of the G transmittance in each wavelength region.
  • the rate of change in the ratio of the transmittance and the B transmittance was evaluated. Further, the warpage characteristics and the ambient light sensor performance (color correction performance) of the obtained optical filter were evaluated. The results are shown in FIG.
  • Example 4 an optical filter having a base material including a glass substrate was produced according to the following procedure and conditions.
  • the resin composition (2) was applied to one side of a near-infrared absorbing glass substrate “BS-11” (thickness 120 ⁇ m) manufactured by Matsunami Glass Industry Co., Ltd., cut into a size of 200 mm in length and 200 mm in width by spin coating. Then, it was heated on a hot plate at 80 ° C. for 2 minutes to volatilize and remove the solvent, and a resin layer functioning as an adhesive layer with the transparent resin layer described later was formed. At this time, the spin coater coating conditions were adjusted so that the resin layer had a thickness of about 0.8 ⁇ m.
  • the resin solution (D-2) is applied on the resin layer under the condition that the film thickness after drying is 2 ⁇ m using a spin coater, and heated on a hot plate at 80 ° C. for 5 minutes to remove the solvent. Volatile removal was performed to form a transparent resin layer.
  • exposure was carried out from the glass surface side using a conveyor type exposure machine (exposure amount 1 J / cm 2 , illuminance 200 mW), and then baked at 230 ° C. for 20 minutes in an oven to obtain a 200 mm long and 200 mm wide base material.
  • the spectral transmittance from the angles of 30 ° and 60 ° with respect to the vertical direction and the vertical direction of the optical filter and the spectrum from the angle of 5 ° with respect to the vertical direction of the optical filter are measured, and the change rate of the ratio of the optical characteristics and the R transmittance and the change of the G transmittance in each wavelength region.
  • the rate of change in the ratio of the transmittance and the B transmittance was evaluated. Further, the warpage characteristics and the ambient light sensor performance (color correction performance) of the obtained optical filter were evaluated. The results are shown in FIG.
  • Example 5 an optical filter having a base material made of a transparent resin substrate having a resin layer on both sides was produced according to the following procedure and conditions.
  • a resin composition (3) having the following composition was applied to one side of the obtained transparent resin substrate with a bar coater and heated in an oven at 70 ° C. for 2 minutes to volatilize and remove the solvent. At this time, the coating conditions of the bar coater were adjusted so that the thickness after drying was 2 ⁇ m. Next, it exposed using the conveyor type exposure machine (exposure amount 500mJ / cm ⁇ 2 >, 200mW), the resin composition (3) was hardened, and the resin layer was formed on the substrate made from transparent resin. Similarly, a resin layer made of the resin composition (3) was formed on the other surface of the transparent resin substrate, and a base material having a resin layer on both surfaces of the transparent resin substrate containing the compound (A) was obtained. .
  • Resin composition (3) 60 parts by weight of tricyclodecane dimethanol diacrylate, 40 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate, 5 parts by weight of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, methyl ethyl ketone (solvent, solid content concentration (TSC): 30% )
  • the spectral transmittance from the angles of 30 ° and 60 ° with respect to the vertical direction and the vertical direction of the optical filter and the spectrum from the angle of 5 ° with respect to the vertical direction of the optical filter are measured, and the change rate of the ratio of the optical characteristics and the R transmittance and the change of the G transmittance in each wavelength region.
  • the rate of change in the ratio of the transmittance and the B transmittance was evaluated. Further, the warpage characteristics and the ambient light sensor performance (color correction performance) of the obtained optical filter were evaluated. The results are shown in FIG.
  • Example 6 an optical filter having a base material composed of a transparent resin substrate having a resin layer on both sides was produced according to the following procedure and conditions.
  • the resin composition (1) was applied to one side of the obtained transparent resin substrate with a bar coater and heated in an oven at 70 ° C. for 2 minutes to volatilize and remove the solvent. At this time, the coating conditions of the bar coater were adjusted so that the thickness after drying was 6 ⁇ m. Next, it exposed using the conveyor type exposure machine (exposure amount 500mJ / cm ⁇ 2 >, 200mW), the resin composition (1) was hardened, and the resin layer was formed on the substrate made from transparent resin. Similarly, a resin layer made of the resin composition (1) was formed on the other surface of the transparent resin substrate, and a base material having a resin layer on both surfaces of the transparent resin substrate containing the compound (A) was obtained. .
  • the spectral transmittance from the angles of 30 ° and 60 ° with respect to the vertical direction and the vertical direction of the optical filter and the spectrum from the angle of 5 ° with respect to the vertical direction of the optical filter are measured, and the change rate of the ratio of the optical characteristics and the R transmittance and the change of the G transmittance in each wavelength region.
  • the rate of change in the ratio of the transmittance and the B transmittance was evaluated. Further, the warpage characteristics and the ambient light sensor performance (color correction performance) of the obtained optical filter were evaluated. The results are shown in FIG.
  • Example 7 an optical filter having a base material made of a transparent resin substrate having a resin layer on both sides was produced according to the following procedure and conditions.
  • the resin composition (3) was applied to one side of the obtained transparent resin substrate with a bar coater and heated in an oven at 70 ° C. for 2 minutes to volatilize and remove the solvent. At this time, the coating conditions of the bar coater were adjusted so that the thickness after drying was 2 ⁇ m. Next, it exposed using the conveyor type exposure machine (exposure amount 500mJ / cm ⁇ 2 >, 200mW), the resin composition (3) was hardened, and the resin layer was formed on the substrate made from transparent resin. Similarly, a resin layer made of the resin composition (3) was formed on the other surface of the transparent resin substrate, and a base material having a resin layer on both surfaces of the transparent resin substrate containing the compound (A) was obtained. .
  • the spectral transmittance from the angles of 30 ° and 60 ° with respect to the vertical direction and the vertical direction of the optical filter and the spectrum from the angle of 5 ° with respect to the vertical direction of the optical filter are measured, and the change rate of the ratio of the optical characteristics and the R transmittance and the change of the G transmittance in each wavelength region.
  • the rate of change in the ratio of the transmittance and the B transmittance was evaluated. Further, the warpage characteristics and the ambient light sensor performance (color correction performance) of the obtained optical filter were evaluated. The results are shown in FIG.
  • Example 8 an optical filter having a base material made of a transparent resin substrate having a resin layer on both sides was produced according to the following procedure and conditions.
  • the resin composition (1) was applied to one side of the obtained transparent resin substrate with a bar coater and heated in an oven at 70 ° C. for 2 minutes to volatilize and remove the solvent. At this time, the coating conditions of the bar coater were adjusted so that the thickness after drying was 2 ⁇ m. Next, it exposed using the conveyor type exposure machine (exposure amount 500mJ / cm ⁇ 2 >, 200mW), the resin composition (1) was hardened, and the resin layer was formed on the substrate made from transparent resin. Similarly, a resin layer made of the resin composition (1) was formed on the other surface of the transparent resin substrate, and a base material having a resin layer on both surfaces of the transparent resin substrate containing the compound (A) was obtained. .
  • a dielectric multilayer film (I) is formed as a first optical layer on one side of the obtained base material, and a similar dielectric multilayer film (I) is formed on the other side of the base material.
  • An optical filter of 0.104 mm was obtained.
  • the dielectric multilayer film (I) is formed by alternately laminating a silica (SiO 2 ) layer and a titania (TiO 2 ) layer at a deposition temperature of 120 ° C. (a total of four layers).
  • the silica layer and the titania layer of the dielectric multilayer film (I) are alternately laminated in the order of the titania layer, the silica layer, the titania layer, and the silica layer from the substrate side, and the outermost layer of the optical filter is a silica layer. .
  • the dielectric multilayer film (I) was a multilayer deposited film having a number of stacks of 4 in which a silica layer having a thickness of 33 to 88 nm and a titania layer having a thickness of 13 to 111 nm were alternately stacked.
  • An example of the film configuration is shown in Table 10 below.
  • the spectral transmittance from the angles of 30 ° and 60 ° with respect to the vertical direction and the vertical direction of the optical filter and the spectrum from the angle of 5 ° with respect to the vertical direction of the optical filter are measured, and the change rate of the ratio of the optical characteristics and the R transmittance and the change of the G transmittance in each wavelength region.
  • the rate of change in the ratio of the transmittance and the B transmittance was evaluated. Further, the warpage characteristics and the ambient light sensor performance (color correction performance) of the obtained optical filter were evaluated. The results are shown in FIG. 13 and Table 13.
  • Example 9 an optical filter having a base material made of a transparent resin substrate having a resin layer on both sides was produced according to the following procedure and conditions.
  • ⁇ Preparation of transparent resin substrate> In a container, 100 parts by weight of resin A obtained in Resin Synthesis Example 1, 0.10 parts of compound (a-3) as compound (A), 1.00 parts of compound (b-1) as compound (B) And 0.30 part of a compound represented by the following formula (b-2) (absorption maximum wavelength in dichloromethane: 850 nm) and dichloromethane were added to prepare a solution having a resin concentration of 20% by weight.
  • the obtained solution was cast on a smooth glass plate, dried at 60 ° C. for 8 hours, then dried at 60 ° C. for 8 hours, further dried under reduced pressure at 140 ° C. for 8 hours, and then peeled off from the glass plate.
  • the peeled coating film was further dried at 100 ° C. under reduced pressure for 8 hours to obtain a transparent resin substrate having a thickness of 0.100 mm, a length of 200 mm, and a width of 200 mm.
  • the resin composition (3) was applied to one side of the obtained transparent resin substrate with a bar coater and heated in an oven at 70 ° C. for 2 minutes to volatilize and remove the solvent. At this time, the coating conditions of the bar coater were adjusted so that the thickness after drying was 2 ⁇ m. Next, it exposed using the conveyor type exposure machine (exposure amount 500mJ / cm ⁇ 2 >, 200mW), the resin composition (3) was hardened, and the resin layer was formed on the substrate made from transparent resin. Similarly, a resin layer made of the resin composition (3) was formed on the other surface of the transparent resin substrate, and a base material having a resin layer on both surfaces of the transparent resin substrate containing the compound (A) was obtained. .
  • the spectral transmittance from the angles of 30 ° and 60 ° with respect to the vertical direction and the vertical direction of the optical filter and the spectrum from the angle of 5 ° with respect to the vertical direction of the optical filter are measured, and the change rate of the ratio of the optical characteristics and the R transmittance and the change of the G transmittance in each wavelength region.
  • the rate of change in the ratio of the transmittance and the B transmittance was evaluated. Further, the warpage characteristics and the ambient light sensor performance (color correction performance) of the obtained optical filter were evaluated. The evaluation results are shown in Table 13.
  • Example 10 an optical filter having a base material made of a transparent resin substrate having a resin layer on both sides was produced according to the following procedure and conditions.
  • ⁇ Preparation of transparent resin substrate> In a container, 100 parts by weight of the resin B obtained in Resin Synthesis Example 2, 0.10 parts of the compound (a-3) as the compound (A), and 1.00 parts of the compound (b-1) as the compound (B) And a compound represented by the following formula (b-3) (absorption maximum wavelength in dichloromethane: 886 nm) and dichloromethane were added to prepare a solution having a resin concentration of 20% by weight.
  • the obtained solution was cast on a smooth glass plate, dried at 60 ° C. for 8 hours, then dried at 60 ° C. for 8 hours, further dried under reduced pressure at 140 ° C. for 8 hours, and then peeled off from the glass plate.
  • the peeled coating film was further dried at 100 ° C. under reduced pressure for 8 hours to obtain a transparent resin substrate having a thickness of 0.100 mm, a length of 200 mm, and a width of 200 mm.
  • the resin composition (3) was applied to one side of the obtained transparent resin substrate with a bar coater and heated in an oven at 70 ° C. for 2 minutes to volatilize and remove the solvent. At this time, the coating conditions of the bar coater were adjusted so that the thickness after drying was 2 ⁇ m. Next, it exposed using the conveyor type exposure machine (exposure amount 500mJ / cm ⁇ 2 >, 200mW), the resin composition (3) was hardened, and the resin layer was formed on the substrate made from transparent resin. Similarly, a resin layer made of the resin composition (3) was formed on the other surface of the transparent resin substrate, and a base material having a resin layer on both surfaces of the transparent resin substrate containing the compound (A) was obtained. .
  • the spectral transmittance from the angles of 30 ° and 60 ° with respect to the vertical direction and the vertical direction of the optical filter and the spectrum from the angle of 5 ° with respect to the vertical direction of the optical filter are measured, and the change rate of the ratio of the optical characteristics and the R transmittance and the change of the G transmittance in each wavelength region.
  • the rate of change in the ratio of the transmittance and the B transmittance was evaluated. Further, the warpage characteristics and the ambient light sensor performance (color correction performance) of the obtained optical filter were evaluated. The evaluation results are shown in Table 13.
  • Example 1 In the same method as in Example 1, a dielectric multilayer film (II) is formed as a first optical layer on one side of the obtained substrate, and a dielectric multilayer as a second optical layer is formed on the other side of the substrate. Film (III) was formed to obtain an optical filter having a thickness of about 0.109 mm.
  • the dielectric multilayer film (II) is formed by alternately laminating silica (SiO 2 ) layers and titania (TiO 2 ) layers at a deposition temperature of 120 ° C. (26 layers in total).
  • the dielectric multilayer film (III) is formed by alternately laminating silica (SiO 2 ) layers and titania (TiO 2 ) layers at a deposition temperature of 120 ° C. (20 layers in total).
  • the silica layer and the titania layer are arranged in the order of the titania layer, the silica layer, the titania layer,..., The silica layer, the titania layer, and the silica layer from the substrate side.
  • the outermost layer of the optical filter was a silica layer.
  • the dielectric multilayer films (II) and (III) were designed as follows. Regarding the thickness and the number of layers, the wavelength-dependent characteristics of the base material refractive index and the applied compound (A) and compound (compound) so as to achieve a visible antireflection effect and a selective transmission / reflection performance in the near infrared region.
  • the optical thin film design software (Essential Macleod, manufactured by Thin Film Center) was optimized according to the absorption characteristics of B).
  • the input parameters (Target values) to the software are as shown in Table 11 below.
  • the dielectric multilayer film (II) is formed by alternately laminating a silica layer having a film thickness of 31 to 155 nm and a titania layer having a film thickness of 10 to 94 nm.
  • the dielectric multi-layer film (III) is a multi-layer vapor-deposited film having 20 layers, in which a silica layer having a thickness of 38 to 189 nm and a titania layer having a thickness of 11 to 109 nm are alternately stacked. It was.
  • An example of the optimized film configuration is shown in Table 12 below.
  • the spectral transmittance from the angles of 30 ° and 60 ° with respect to the vertical direction and the vertical direction of the optical filter and the spectrum from the angle of 5 ° with respect to the vertical direction of the optical filter are measured, and the change rate of the ratio of the optical characteristics and the R transmittance and the change of the G transmittance in each wavelength region.
  • the rate of change in the ratio of the transmittance and the B transmittance was evaluated. Further, the warpage characteristics and the ambient light sensor performance (color correction performance) of the obtained optical filter were evaluated. The results are shown in FIG.
  • the change rate of the R transmittance ratio, the change rate of the G transmittance ratio, and the change rate of the B transmittance ratio of the optical filter obtained in Comparative Example 1 were 0.6 or less and did not show a good RGB balance. It was. Further, the amount of warpage of the optical filter obtained in Comparative Example 1 was 17 mm, and did not show good warpage characteristics.
  • Comparative Example 2 an optical filter having a base material made of a transparent resin substrate having a resin layer on both sides was produced according to the following procedure and conditions.
  • ⁇ Preparation of transparent resin substrate> In a container, 100 parts by weight of the resin A obtained in Resin Synthesis Example 1, 0.04 part of the compound (a-1) and 0.08 part of the compound (a-2) as the compound (A), as the compound (B) 0.15 parts of compound (b-1) and N, N-dimethylacetamide were added to prepare a solution having a resin concentration of 20% by weight.
  • the obtained solution was cast on a smooth glass plate, dried at 60 ° C. for 8 hours, then dried at 60 ° C. for 8 hours, further dried under reduced pressure at 140 ° C. for 8 hours, and then peeled off from the glass plate.
  • the peeled coating film was further dried at 100 ° C. under reduced pressure for 8 hours to obtain a transparent resin substrate having a thickness of 0.100 mm, a length of 200 mm, and a width of 200 mm.
  • the resin composition (3) was applied to one side of the obtained transparent resin substrate with a bar coater and heated in an oven at 70 ° C. for 2 minutes to volatilize and remove the solvent. At this time, the coating conditions of the bar coater were adjusted so that the thickness after drying was 2 ⁇ m. Next, it exposed using the conveyor type exposure machine (exposure amount 500mJ / cm ⁇ 2 >, 200mW), the resin composition (3) was hardened, and the resin layer was formed on the substrate made from transparent resin. Similarly, a resin layer made of the resin composition (3) was formed on the other surface of the transparent resin substrate, and a base material having a resin layer on both surfaces of the transparent resin substrate containing the compound (A) was obtained. .
  • the spectral transmittance from the angles of 30 ° and 60 ° with respect to the vertical direction and the vertical direction of the optical filter and the spectrum from the angle of 5 ° with respect to the vertical direction of the optical filter are measured, and the change rate of the ratio of the optical characteristics and the R transmittance and the change of the G transmittance in each wavelength region.
  • the rate of change in the ratio of the transmittance and the B transmittance was evaluated. Further, the warpage characteristics and the ambient light sensor performance (color correction performance) of the obtained optical filter were evaluated. The results are shown in FIG.
  • the optical density at 800 nm to 1200 nm of the optical filter obtained in Comparative Example 2 is 1.5 or less in any of 0 degree, 30 degrees, and 60 degrees, and does not show good near-infrared cut characteristics, and the ambient light sensor performance is also low.
  • the hue control according to the external light environment was poor.
  • Comparative Example 3 an optical filter having a base material made of a transparent resin substrate having a resin layer on both sides was produced according to the following procedure and conditions.
  • the resin composition (3) was applied to one side of the obtained transparent resin substrate with a bar coater and heated in an oven at 70 ° C. for 2 minutes to volatilize and remove the solvent. At this time, the coating conditions of the bar coater were adjusted so that the thickness after drying was 2 ⁇ m. Next, it exposed using the conveyor type exposure machine (exposure amount 500mJ / cm ⁇ 2 >, 200mW), the resin composition (3) was hardened, and the resin layer was formed on the substrate made from transparent resin. Similarly, a resin layer made of the resin composition (3) was formed on the other surface of the transparent resin substrate, and a base material having a resin layer on both surfaces of the transparent resin substrate containing the compound (A) was obtained. .
  • the spectral transmittance from the angles of 30 ° and 60 ° with respect to the vertical direction and the vertical direction of the optical filter and the spectrum from the angle of 5 ° with respect to the vertical direction of the optical filter are measured, and the change rate of the ratio of the optical characteristics and the R transmittance and the change of the G transmittance in each wavelength region.
  • the rate of change in the ratio of the transmittance and the B transmittance was evaluated. Further, the warpage characteristics and the ambient light sensor performance (color correction performance) of the obtained optical filter were evaluated. The results are shown in FIG.
  • the optical density at 800 nm to 1200 nm of the optical filter obtained in Comparative Example 3 is 1.5 or less in all cases of 0 degree, 30 degrees, and 60 degrees, does not show good near infrared cut characteristics, and has an ambient light sensor performance.
  • the hue control according to the external light environment was poor.
  • the resin composition (2) was spin-coated on one side of a near-infrared absorbing glass substrate “BS-11” (thickness 120 ⁇ m) manufactured by Matsunami Glass Industry Co., Ltd., cut into a size of 200 mm in length and 200 mm in width. After coating, the mixture was heated on a hot plate at 80 ° C. for 2 minutes to volatilize and remove the solvent, thereby forming a resin layer functioning as an adhesive layer with the transparent resin layer described later. At this time, the spin coater coating conditions were adjusted so that the resin layer had a thickness of about 0.8 ⁇ m.
  • the resin solution (D-3) is applied on the resin layer under the condition that the film thickness after drying is 5 ⁇ m using a spin coater, and heated on a hot plate at 80 ° C. for 5 minutes to remove the solvent. Volatile removal was performed to form a transparent resin layer.
  • exposure was performed using a conveyor type exposure machine from the glass surface side (exposure amount 1 J / cm 2 , illuminance 200 mW), and then baked at 230 ° C. for 20 minutes in an oven to obtain a base material having a length of 200 mm and a width of 200 mm.
  • the spectral transmittance from the angles of 30 ° and 60 ° with respect to the vertical direction and the vertical direction of the optical filter and the spectrum from the angle of 5 ° with respect to the vertical direction of the optical filter are measured, and the change rate of the ratio of the optical characteristics and the R transmittance and the change of the G transmittance in each wavelength region.
  • the rate of change in the ratio of the transmittance and the B transmittance was evaluated. Further, the warpage characteristics and the ambient light sensor performance (color correction performance) of the obtained optical filter were evaluated. The results are shown in FIG.
  • the optical density at 800 nm to 1200 nm of the optical filter obtained in Comparative Example 4 is 1.5 or less in all cases of 0 degree, 30 degrees, and 60 degrees, does not show good near-infrared cut characteristics, and has an ambient light sensor performance.
  • the hue control according to the external light environment was poor.

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Abstract

本発明の課題は、各種環境光センサーが設けられる機器の低背化に伴い、入射角度が大きくなった場合でも優れた可視光透過率と近赤外線カット性能を両立可能であり、また、反りや歪みを低減して大型化が可能な光学フィルターを提供することにある。要件（ａ）を満たす基材を有し、かつ、特定の光学特性を満たすことを特徴とする環境光センサー用光学フィルター：（ａ）波長６５０ｎｍ以上８００ｎｍ未満の領域に吸収極大を有する化合物（Ａ）、および波長８００ｎｍ以上１８５０ｎｍ以下の領域に吸収極大を有する化合物（Ｂ）を含む層を有する。

Description

環境光センサー用光学フィルター
　本発明は、環境光センサー用光学フィルターに関する。詳しくは、特定の波長域に吸収を有する化合物を含み、かつ、特定の光学特性を有する環境光センサー用光学フィルター、該光学フィルターを用いた環境光センサー、および該光学フィルターを有する電子機器に関する。
　近年、スマートフォンやタブレット端末等の情報端末装置への用途として、環境光センサーの開発が進められている。情報端末装置における環境光センサーは、情報端末装置がおかれた環境の照度を感知してディスプレイの明るさを調光する照度センサーや、情報端末装置がおかれた環境の色調を感知してディスプレイの色調を調整するカラーセンサーなどとして用いられる。
　人間の視感度と、ディスプレイの輝度や色調とを自然な形で合わせるためには、可視光線のみを環境光センサーに到達させることが重要である。例えば、環境光センサーは、近赤外線カットフィルターなどの光学フィルターを設置することで、分光感度特性を視感度に近づけることが可能となる。
　一方、情報端末装置のデザイン性重視の要望から、環境光センサーに光を入射させる透過窓の透過率を下げる（黒っぽい外観とする）ことが求められており、赤外光に対する可視光の入射量が減少し、正確な照度や色調の検出が困難となり、誤作動が発生するとういう問題がある。また、情報端末装置の低背化が進み、光の入射窓から環境光センサーまでの距離が短くなる。そのため、例えば、入射角度６０°といった高入射角からの入射光の割合が増加することになり、高入射角の入射光に対しても環境光センサーに到達する光の分光特性（特に近赤外線の強度）が変化しないことが要求されている。
　環境光センサーの分光特性を、人間の視感度と合わせるための手段として、ガラス板上に金属多層膜が形成された赤外線カットフィルターを設けた装置が開示されている（例えば特許文献１参照）。しかしながら、ガラス板上に金属多層薄膜を形成した近赤外線カットフィルターは、入射光の入射角度によって光学特性が大きく変化するため、環境光センサーの検出精度が低下するという問題がある。また、金属多層膜を蒸着により形成すると、光学フィルターを大型化した際に反りや歪みが生じる場合がある。
　一方、入射角度によらず広帯域の近赤外線をカットできる材料として、種々の近赤外線吸収粒子が知られている（例えば、特許文献２、特許文献３参照）。このような近赤外線吸収粒子を用いて、環境光センサーの用途として十分な近赤外線カット性能を達成するためには、近赤外線吸収粒子の添加量を多くする必要がある。しかし、近赤外線カットフィルターにおいて、近赤外線吸収粒子の添加量を多くすると、可視光透過率が低下するといった問題がある。
　これに対し、ノルボルネン系樹脂製基板、特定波長に吸収極大を有する近赤外線吸収色素、および近赤外線反射膜を有する近赤外線カットフィルターは、光線が斜め方向から入射した際に可視域の透過率変化が少ないという特性を有する（特許文献４参照）。この近赤外線カットフィルターを環境光センサー用途として使用するには、入射角度６０°といった高入射角の赤外線カット性能をさらに向上させることが望ましいと考えられる。
特開２０１１－０６０７８８号公報 国際公開第２００５／０３７９３２号明細書 特開２０１１－１１８２５５号公報 特開２０１１－１０００８４号公報
　本発明は、各種環境光センサーが設けられる機器の低背化に伴い、入射角度が大きくなった場合でも優れた可視光透過率と近赤外線カット性能を両立可能であり、また、反りや歪みを低減して大型化が可能な光学フィルターを提供することを目的とする。
　本発明の態様の例を以下に示す。
　［１］　下記要件（ａ）を満たす基材を有し、かつ、下記要件（ｂ）、（ｃ）および（ｄ）を満たすことを特徴とする環境光センサー用光学フィルター：
（ａ）波長６５０ｎｍ以上８００ｎｍ未満の領域に吸収極大を有する化合物（Ａ）、および波長８００ｎｍ以上１８５０ｎｍ以下の領域に吸収極大を有する化合物（Ｂ）を含む層を有する；
（ｂ）波長８００～１０００ｎｍの領域において、光学フィルターの一方の面における垂直方向に対して５度斜め方向から入射する光の反射率の平均値Ｒｆa-5と、他方の面における垂直方向に対して５度斜め方向から入射する光の反射率の平均値Ｒｆb-5とが、いずれも１５％以下である；
（ｃ）波長４３０～５８０ｎｍの領域において、光学フィルターの垂直方向から入射する光の透過率の平均値Ｔa-0と、垂直方向に対して３０度斜め方向から入射する光の透過率の平均値Ｔa-30と、垂直方向に対して６０度斜め方向から入射する光の透過率の平均値Ｔa-60とが、いずれも２０％以上７５％未満である；
（ｄ）波長８００ｎｍ～１２００ｎｍの領域において、光学フィルターの垂直方向から入射する光に対する光学濃度（ＯＤ値）の平均値ＯＤa-0と、垂直方向に対して３０度斜め方向から入射する光に対する光学濃度（ＯＤ値）の平均値ＯＤa-30と、垂直方向に対して６０度斜め方向から入射する光に対する光学濃度（ＯＤ値）の平均値ＯＤa-60とが、いずれも１．５以上である。
　［２］　誘電体多層膜を有さないことを特徴する項［１］に記載の環境光センサー用光学フィルター。
　［３］　前記化合物（Ａ）を含む層が透明樹脂層であることを特徴とする項［１］または［２］に記載の環境光センサー用光学フィルター。
　［４］　前記透明樹脂層が、波長８００ｎｍ以上１８５０ｎｍ以下の領域に吸収極大を有する化合物（Ｂ）をさらに含むことを特徴とする項［３］に記載の環境光センサー用光学フィルター。
　［５］　前記化合物（Ａ）が、スクアリリウム系化合物、フタロシアニン系化合物およびシアニン系化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物であることを特徴とする項［１］～［４］のいずれか１項に記載の環境光センサー用光学フィルター。
　［６］　前記化合物（Ｂ）が、近赤外線吸収微粒子、スクアリリウム系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、クロコニウム系化合物、シアニン系化合物、ジイモニウム系化合物、金属ジチオラート系化合物およびピロロピロール系化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物であることを特徴とする項［１］～［５］のいずれか１項に記載の環境光センサー用光学フィルター。
　［７］　前記近赤外線吸収微粒子が、下記式（Ｐ－１）で表わされる化合物からなる第１の微粒子と、下記式（Ｐ－２）で表わされる化合物からなる第２の微粒子とからなる群より選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする項［６］に記載の環境光センサー用光学フィルター。
　Ａ1/nＣｕＰＯ4　・・・（Ｐ－１）
　式（Ｐ－１）中、Ａは、アルカリ金属、アルカリ土類金属およびＮＨ4からなる群より選ばれる少なくとも１種であり、ｎは、Ａがアルカリ金属またはＮＨ4の場合は１であり、Ａがアルカリ土類金属の場合は２である。
　ＭxＷyＯz　・・・（Ｐ－２）
　式（Ｐ－２）中、Ｍは、Ｈ、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、Ｍｇ、Ｚｒ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂ、Ｆ、Ｐ、Ｓ、Ｓｅ、Ｂｒ、Ｔｅ、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｖ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｒｅ、Ｂｅ、Ｈｆ、Ｏｓ、ＢｉおよびＩから選ばれる少なくとも１種の元素であり、ｘ、ｙおよびｚは、０.００１≦ｘ/ｙ≦１および２.２≦ｚ/ｙ≦３.０の条件を満たす。
　［８］　前記透明樹脂層を構成する樹脂が、環状ポリオレフィン系樹脂、芳香族ポリエーテル系樹脂、ポリイミド系樹脂、フルオレンポリカーボネート系樹脂、フルオレンポリ
エステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、アラミド系樹脂、ポリサルホン系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリパラフェニレン系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリエチレンナフタレート系樹脂、フッ素化芳香族ポリマー系樹脂、（変性）アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、シルセスキオキサン系紫外線硬化型樹脂、マレイミド系樹脂、脂環エポキシ熱硬化型樹脂、ポリエーテルエーテルケトン系樹脂、ポリアリレート系樹脂、アリルエステル系硬化型樹脂、アクリル系紫外線硬化型樹脂、ビニル系紫外線硬化型樹脂、およびゾルゲル法により形成されたシリカを主成分とする樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種の樹脂であることを特徴とする項［３］または［４］に記載の環境光センサー用光学フィルター。
　［９］　前記基材が、銅成分を含有するフッ素リン酸塩系ガラス層又はリン酸塩系ガラスからなる基板を含むことを特徴とする項［１］～［８］のいずれか１項に記載の環境光センサー用光学フィルター。
　［１０］　前記環境光センサー用光学フィルターに、垂直方向から入射した場合、垂直方向に対して３０°の方向から入射した場合および垂直方向に対して６０°の方向から入射した場合において、
　下記式（１）から導かれるＲ（赤色）透過率の比の変化率、下記式（２）から導かれるＧ（緑色）透過率の比の変化率、および下記式（３）から導かれるＢ（青色）透過率の比の変化率が、いずれも０．６～１．１の範囲であることを特徴とする項［１］～［９］のいずれか１項に記載の環境光センサー用光学フィルター。
（Ｒ透過率の比）＝（Ｒ透過率）×１００／（（Ｒ透過率）＋（Ｇ透過率）＋（Ｂ透過率））・・・式（１）
（Ｇ透過率の比）＝（Ｇ透過率）×１００／（（Ｒ透過率）＋（Ｇ透過率）＋（Ｂ透過率））・・・式（２）
（Ｂ透過率の比）＝（Ｂ透過率）×１００／（（Ｒ透過率）＋（Ｇ透過率）＋（Ｂ透過率））・・・式（３）
　式（１）～（３）中、Ｒ透過率は波長５８０～６５０ｎｍにおける平均透過率、Ｇ透過率は波長５００～５８０ｎｍにおける平均透過率、Ｂ透過率は波長４２０～５００ｎｍにおける平均透過率である。
　［１１］　項［１］～［１０］のいずれか１項に記載の環境光センサー用光学フィルターを具備することを特徴とする環境光センサー。
　［１２］　項［１１］に記載の環境光センサーを有することを特徴とする電子機器。
　本発明によれば、垂直方向からの入射光および斜め方向からの入射光の双方に対して、高い可視光透過率と近赤外線カット性能を有するとともに、反りや歪みが低減された環境光センサー用光学フィルターを提供することができる。このような光学フィルターを用いた環境光センサーは、入射光の入射角依存性が小さく、照度や色温度を高精度に測定することができる。
本発明の一実施形態に係る環境光センサーの構成を説明する図である。 本発明の一実施形態に係る環境光センサーの構成を説明する図である。 本発明の一実施形態に係る環境光センサーを備える電子機器の一例を説明する図である。 透過スペクトルを垂直方向、斜め３０度の方向および斜め６０度の方向から測定する構成を示した図である。 光学フィルターの垂直方向に対して５°の角度から入射した光の反射率を測定する方法の例を示す概略図である。 実施例１で得られた光学フィルターの垂直方向、垂直方向から３０°の角度および垂直方向から６０°の角度から測定した分光透過率を示すグラフである。 実施例２で得られた光学フィルターの垂直方向、垂直方向から３０°の角度および垂直方向から６０°の角度から測定した分光透過率を示すグラフである。 実施例３で得られた光学フィルターの垂直方向、垂直方向から３０°の角度および垂直方向から６０°の角度から測定した分光透過率を示すグラフである。 実施例４で得られた光学フィルターの垂直方向、垂直方向から３０°の角度および垂直方向から６０°の角度から測定した分光透過率を示すグラフである。 実施例５で得られた光学フィルターの垂直方向、垂直方向から３０°の角度および垂直方向から６０°の角度から測定した分光透過率を示すグラフである。 実施例６で得られた光学フィルターの垂直方向、垂直方向から３０°の角度および垂直方向から６０°の角度から測定した分光透過率を示すグラフである。 実施例７で得られた光学フィルターの垂直方向、垂直方向から３０°の角度および垂直方向から６０°の角度から測定した分光透過率を示すグラフである。 実施例８で得られた光学フィルターの垂直方向、垂直方向から３０°の角度および垂直方向から６０°の角度から測定した分光透過率を示すグラフである。 比較例１で得られた光学フィルターの垂直方向、垂直方向から３０°の角度および垂直方向から６０°の角度から測定した分光透過率を示すグラフである。 比較例２で得られた光学フィルターの垂直方向、垂直方向から３０°の角度および垂直方向から６０°の角度から測定した分光透過率を示すグラフである。 比較例３で得られた光学フィルターの垂直方向、垂直方向から３０°の角度および垂直方向から６０°の角度から測定した分光透過率を示すグラフである。 比較例４で得られた光学フィルターの垂直方向、垂直方向から３０°の角度および垂直方向から６０°の角度から測定した分光透過率を示すグラフである。
　以下、本発明の実施の形態を、必要に応じて図面等を参照しながら説明する。但し、本発明は多くの異なる態様で実施することが可能であり、以下に例示する実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。図面は説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付し又は類似の符号（数字の後にＡ、Ｂなどを付しただけの符号）を付し、詳細な説明を適宜省略することがある。
　本明細書中において「上」とは、支持基板の主面（センサーの受光面）を基準とした相対的な位置を指し、支持基板の主面から離れる方向が「上」である。本願図面では、紙面に向かって上方が「上」となっている。また、「上」には、物体の上に接する場合（つまり「ｏｎ」の場合）と、物体の上方に位置する場合（つまり「ｏｖｅｒ」の場合）とが含まれる。逆に、「下」とは、支持基板の主面を基準とした相対的な位置を指し、支持基板の主面に近づく方向が「下」である。本願図面では、紙面に向かって下方が「下」となっている。
　［光学フィルター］
　本発明の光学フィルターは、下記要件（ａ）を満たす基材（i）を有し、かつ、下記要件（ｂ）、（ｃ）および（ｄ）を満たすことを特徴とする。
　要件（ａ）：波長６５０ｎｍ以上８００ｎｍ未満の領域に吸収極大を有する化合物（Ａ）、および波長８００ｎｍ以上１８５０ｎｍ以下の領域に吸収極大を有する化合物（Ｂ）を含む層を有する。
　要件（ｂ）：波長８００～１０００ｎｍの領域において、光学フィルターの一方の面における垂直方向に対して５度斜め方向から入射する光の反射率の平均値Ｒｆa-5と、他方の面における垂直方向に対して５度斜め方向から入射する光の反射率の平均値Ｒｆb-5とが、いずれも１５％以下、好ましくは０．１～１２％、より好ましくは１～１０％である。
　要件（ｂ）を満たす方法、すなわち各反射率の平均値の調整方法としては、例えば、反射率は光が通過する物質の屈折率によって決まることから、規定の範囲の反射率の平均値が得られる屈折率を有する基材を選定する方法、あるいは、基材に屈折率を調整するための層を付与する方法が挙げられる。また、本発明の効果を損なわない範囲で誘電体多層膜を付与する場合、光学薄膜設計ソフト（例えば、Ｅｓｓｅｎｔｉａｌ　Ｍａｃｌｅｏｄ、Ｔｈｉｎ　Ｆｉｌｍ　Ｃｅｎｔｅｒ社製）を用いて、規定の範囲の反射率の平均値が得られるよう設計する方法も挙げられる。
　要件（ｂ）を満たすことにより、光センサーモジュール内における多重反射光を低減することができるため、光センサーの誤作動を抑制し、高機能な光センサーを得ることができるため好ましい。
　要件（ｃ）：波長４３０～５８０ｎｍの領域において、光学フィルターの垂直方向から入射する光の透過率の平均値Ｔa-0と、垂直方向に対して３０度斜め方向から入射する光の透過率の平均値Ｔa-30と、垂直方向に対して６０度斜め方向から入射する光の透過率の平均値Ｔa-60とが、いずれも２０％以上７５％未満、好ましくは２５～７０％である。
　要件（ｃ）を満たす方法、すなわち各透過率の平均値の調整方法としては、例えば、規定の範囲の透過率の平均値が得られるように、化合物（Ａ）および必要に応じて後述する化合物（Ｂ）の種類および添加量を適宜選定および調整する方法が挙げられる。
　要件（ｃ）を満たすことにより、センサー感度に優れた環境光センサーを得ることができる。波長４３０～５８０ｎｍの領域において、透過率の平均値が高過ぎると、光センサーの受光部に入射する光の強度が過剰に強くなり、光センサーがサチレーションを起こすため正常に機能しなくなる場合がある。また、透過率の平均値が低すぎると、光センサーの受光部に入射する光の強度が弱くなり、フィルターを通過する光の強度が充分確保されない場合がある。
　要件（ｄ）：波長８００ｎｍ～１２００ｎｍの領域において、光学フィルターの垂直方向から入射する光に対する光学濃度（ＯＤ値）の平均値ＯＤa-0と、垂直方向に対して３０度斜め方向から入射する光に対する光学濃度（ＯＤ値）の平均値ＯＤa-30と、垂直方向に対して６０度斜め方向から入射する光に対する光学濃度（ＯＤ値）の平均値ＯＤa-60とが、いずれも１．５以上、好ましくは２．０～６．０である。
　波長８００ｎｍ～１２００ｎｍの領域における前記ＯＤa-0、ＯＤa-30およびＯＤa-60の値が１．５未満の光学フィルターを環境光センサーモジュールに使用した場合、前記波長領域の光が充分にカットされずに環境光センサーに入ることになる。環境光センサーは前記波長領域の光に対しても感度を有するため、前記波長領域の光が環境光センサーに入るとノイズとなり、色調制御の誤作動等を引き起こす原因となる。前記ＯＤa-0、ＯＤa-30およびＯＤa-60の値を６．０超とする場合、化合物（Ｂ）の濃度を高濃度とする、または、誘電体多層膜の層数を大きくする必要があり、可視光透過率が低下する、反りが大きくなる等の問題が生じることがある。
　要件（ｄ）を満たす方法、すなわち光学濃度の平均値の調整方法としては、例えば、規定の範囲の透過率の平均値が得られるように、化合物（Ａ）および化合物（Ｂ）の種類および添加量を適宜選定および調整する方法が挙げられる。
　要件（ｄ）を満たすことにより、光学フィルターは、垂直方向で透過する近赤外線のみでなく、高入射角で透過する近赤外線も十分にカットすることができる。そのような光学フィルターを携帯電話やタブレットの光センサーに用いた場合、画面の輝度や色味補正機能の誤作動を防ぐことができる。特に、光センサーモジュールにおいて、本発明の光学フィルターの上部に光拡散フィルムを具備する場合でも好適に近赤外光をカットすることができる。
　ＯＤ値は透過率の常用対数値であり、下記式（４）にて算出できる。指定の波長範囲の平均ＯＤ値が高いと、光学フィルターはその波長領域の光のカット特性が高いことを表す。
　ある波長域における平均ＯＤ値＝－Ｌｏｇ10（ある波長域における平均透過率（％）／１００）・・・式（４）
　環境光センサーの誤作動防止の観点から、光学フィルターの垂直方向から入射した場合の可視光のＲＧＢバランス、光学フィルターの垂直方向に対して３０°の方向から入射した場合の可視光のＲＧＢバランス、および光学フィルターの垂直方向に対して６０°の方向から入射した場合の可視光のＲＧＢバランスの変化が小さいことが望ましい。すなわち、下記式（１）から導かれるＲ（赤色）透過率の比の変化率、下記式（２）から導かれるＧ（緑色）透過率の比の変化率、および下記式（３）から導かれるＢ（青色）透過率の比の変化率が、いずれも０．６～１．１の範囲であることが好ましい。該変化率が１．０に近いほど、ＲＧＢバランスの入射角依存変化が小さい。
　（Ｒ透過率の比）＝（Ｒ透過率）×１００／（（Ｒ透過率）＋（Ｇ透過率）＋（Ｂ透過率））・・・式（１）
　（Ｇ透過率の比）＝（Ｇ透過率）×１００／（（Ｒ透過率）＋（Ｇ透過率）＋（Ｂ透過率））・・・式（２）
　（Ｂ透過率の比）＝（Ｂ透過率）×１００／（（Ｒ透過率）＋（Ｇ透過率）＋（Ｂ透過率））・・・式（３）
　式（１）～（３）中、Ｒ透過率は波長５８０～６５０ｎｍにおける平均透過率、Ｇ透過率は波長５００～５８０ｎｍにおける平均透過率、Ｂ透過率は波長４２０～５００ｎｍにおける平均透過率である。
　光学フィルターの垂直方向に対して３０°の角度から測定した場合のＲ透過率の比を、光学フィルターの垂直方向から測定した場合のＲ透過率の比で割った値（０°→３０°の場合のＲ透過率の比の変化率）は下記式（５）から導くことができる。
　（０°→３０°の場合のＲ透過率の比の変化率）＝（光学フィルターの垂直方向に対して３０°の角度から入射した場合のＲ透過率の比）／（光学フィルターの垂直方向から入射した場合のＲ透過率の比）・・・式（５）
　また、光学フィルターの垂直方向に対して３０°の角度から測定した場合のＧ透過率の比を、光学フィルターの垂直方向から測定した場合のＧ透過率の比で割った値（０°→３０°の場合のＧ透過率の比の変化率）は下記式（６）から導くことができる。
　（０°→３０°の場合のＧ透過率の比の変化率）＝（光学フィルターの垂直方向に対して３０°の角度から入射した場合のＧ透過率の比）／（光学フィルターの垂直方向から入射した場合のＧ透過率の比）・・・式（６）
　さらに、光学フィルターの垂直方向に対して３０°の角度から測定した場合のＢ透過率の比を、光学フィルターの垂直方向から測定した場合のＢ透過率の比で割った値（０°→３０°の場合のＢ透過率の比の変化率）は下記式（７）から導くことができる。
　（０°→３０°の場合のＢ透過率の比の変化率）＝（光学フィルターの垂直方向に対して３０°の角度から入射した場合のＢ透過率の比）／（光学フィルターの垂直方向から入射した場合のＢ透過率の比）・・・式（７）
　同様に、光学フィルターの垂直方向に対して６０°の角度から測定した場合のＲ透過率の比を、光学フィルターの垂直方向から測定した場合のＲ透過率の比で割った値（０°→６０°の場合のＲ透過率の比の変化率）は下記式（８）から導くことができる。
　（０°→６０°の場合のＲ透過率の比の変化率）＝（光学フィルターの垂直方向に対して６０°の角度から入射した場合のＲ透過率の比）／（光学フィルターの垂直方向から入射した場合のＲ透過率の比）・・・式（８）
　また、光学フィルターの垂直方向に対して６０°の角度から測定した場合のＧ透過率の比を、光学フィルターの垂直方向から測定した場合のＧ透過率の比で割った値（０°→６０°の場合のＧ透過率の比の変化率）は下記式（９）から導くことができる。
　（０°→６０°の場合のＧ透過率の比の変化率）＝（光学フィルターの垂直方向に対して６０°の角度から入射した場合のＧ透過率の比）／（光学フィルターの垂直方向から入射した場合のＧ透過率の比）・・・式（９）
　０°→６０°の場合のＧ透過率の比の変化率は、好ましくは０．４以上２．０以下、より好ましくは０．５以上１．８以下、さらに好ましくは０．６以上１．６以下であり、該変化率が１．０に近いほど、ＲＧＢバランスの入射角依存変化が小さい。
　さらに、光学フィルターの垂直方向に対して６０°の角度から測定した場合のＢ透過率の比を、光学フィルターの垂直方向から測定した場合のＢ透過率の比で割った値（０°→６０°の場合のＢ透過率の比の変化率）は下記式（９）から導くことができる。
　（０°→６０°の場合のＢ透過率の比の変化率）＝（光学フィルターの垂直方向に対して６０°の角度から入射した場合のＢ透過率の比）／（光学フィルターの垂直方向から入射した場合のＢ透過率の比）・・・式（９）
　このような光学フィルターを携帯電話やタブレットの環境光センサーに用いると、画面の輝度や色味の補正がしやすくなるため、明るい環境においてディスプレイの輝度が不足して見えにくくなったり、画面上に特定の色を正常に表示できなくなったりするという不具合を解消することができる。
　本発明の光学フィルターは、誘電体多層膜を有さないことが好ましい。シリコンウェハに光学フィルターを貼り付けるタイプの環境光センサーの場合、シリコンウェハが大型化した際に、誘電体多層膜を形成するための蒸着に起因する歪みや反りが問題となる可能性がある。誘電体多層膜を有さないことにより、誘電体多層膜を有する光学フィルターと比較して、反りや歪みを低減することができる。その結果、光学フィルターの大型化が可能になる。また、本発明の光学フィルターは、誘電体多層膜を有さなくても、従来の環境光センサーと同等の光学特性を発現することができる。
　本発明の光学フィルターの厚みは、特に制限されないが、好ましくは４０～１０００μｍ、より好ましくは５０～８００μｍ、さらに好ましくは８０～５００μｍ、特に好ましくは９０～２５０μｍである。光学フィルターの厚みが上記範囲にあると、光学フィルターを、小型化および軽量化することができる。
　＜基材（ｉ）＞
　前記基材（ｉ）は、波長６５０ｎｍ以上８００ｎｍ未満の領域に吸収極大を有する化合物（Ａ）を含む層を有していれば、単層であっても多層であってもよい。また、前記基材（ｉ）は波長８００ｎｍ以上１８５０ｎｍ以下の領域に吸収極大を有する化合物（Ｂ）を含有することが好ましく、化合物（Ｂ）は化合物（Ａ）と同一の層に含まれていても異なる層に含まれていてもよい。以下、化合物（Ａ）および化合物（Ｂ）から選ばれる少なくとも１種の化合物と透明樹脂とを含有する層を「透明樹脂層」ともいい、それ以外の樹脂層を単に「樹脂層」ともいう。
　化合物（Ａ）を含む層と化合物（Ｂ）を含む層とが同一である場合、例えば、化合物（Ａ）および化合物（Ｂ）を含む透明樹脂製基板からなる基材、化合物（Ａ）および化合物（Ｂ）を含む透明樹脂製基板上に硬化性樹脂または熱可塑性樹脂等からなるオーバーコート層などの樹脂層が積層された基材、ガラス支持体やベースとなる樹脂製支持体などの支持体上に化合物（Ａ）および化合物（Ｂ）を含有する硬化性樹脂または熱可塑性樹脂等からなるオーバーコート層などの透明樹脂層が積層された基材を挙げることができる。
　化合物（Ａ）を含む層と化合物（Ｂ）を含む層とが異なる場合、例えば、化合物（Ｂ）を含む透明樹脂製基板上に化合物（Ａ）を含む硬化性樹脂または熱可塑性樹脂等からなるオーバーコート層などの透明樹脂層が積層された基材、化合物（Ａ）を含む透明樹脂製基板上に化合物（Ｂ）を含む硬化性樹脂または熱可塑性樹脂等からなるオーバーコート層などの透明樹脂層が積層された基材、ガラス支持体やベースとなる樹脂製支持体などの支持体上に化合物（Ａ）を含む硬化性樹脂または熱可塑性樹脂等からなるオーバーコート層などの透明樹脂層と化合物（Ｂ）を含む硬化性樹脂または熱可塑性樹脂等からなるオーバーコート層などの透明樹脂層とが積層された基材、化合物（Ｂ）を含むガラス基板上に化合物（Ａ）を含む硬化性樹脂または熱可塑性樹脂等からなるオーバーコート層などの透明樹脂層が積層された基材などを挙げることができる。
　＜化合物（Ａ）＞
　前記化合物（Ａ）は、波長６５０ｎｍ以上８００ｎｍ未満の領域に吸収極大があれば特に限定されないが、スクアリリウム系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、クロコニウム系化合物およびシアニン系化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、特にスクアリリウム系化合物、フタロシアニン系化合物およびシアニン系化合物が好ましい。なお、化合物（Ａ）は、１種単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　化合物（Ａ）の吸収極大波長は、好ましくは６６０ｎｍ以上７９５ｎｍ以下、より好ましくは６８０ｎｍ以上７９０ｎｍ以下である。
　化合物（Ａ）の使用量は、所望の特性に応じて適宜選択されるものであるが、前記基材として、例えば、化合物（Ａ）を含有する透明樹脂製基板からなる基材や、化合物（Ａ）を含有する透明樹脂製基板上に硬化性樹脂または熱可塑性樹脂等からなるオーバーコート層などの樹脂層が積層された基材を用いる場合には、透明樹脂１００重量部に対して、好ましくは０．０１～２．０重量部、より好ましくは０．０３～１．５重量部、さらに好ましくは０．０５～１．０重量部であり、前記基材として、ガラス支持体やベースとなる樹脂製支持体などの支持体上に化合物（Ａ）を含有する透明樹脂層が積層された基材を用いる場合には、透明樹脂層を形成する樹脂１００重量部に対して、好ましくは０．４～２０．０重量部、より好ましくは０．６～１５．０重量部、さらに好ましくは０．８～１２．５重量部である。
　≪スクアリリウム系化合物≫
　前記スクアリリウム系化合物としては、特に限定されるものではないが、下記式（Ｉ）で表されるスクアリリウム系化合物および下記式（ＩＩ）で表されるスクアリリウム系化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物が好ましい。以下、それぞれ「化合物（Ｉ）」および「化合物（ＩＩ）」ともいう。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
 　式（Ｉ）中、Ｒa、ＲbおよびＹａは、下記条件（α）または（β）を満たす。
　条件（α）：
　複数あるＲaはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基、－Ｌ1または－ＮＲeＲf基を表し；
　複数あるＲbはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基、－Ｌ1または－ＮＲgＲh基を表し；
　複数あるＹａはそれぞれ独立に、－ＮＲjＲk基を表し；
　Ｌ1は、Ｌa、Ｌb、Ｌc、Ｌd、Ｌe、Ｌf、ＬgまたはＬhを表し；
　ＲeおよびＲfはそれぞれ独立に、水素原子、－Ｌa、－Ｌb、－Ｌc、－Ｌdまたは－Ｌeを表し；
　ＲgおよびＲhはそれぞれ独立に、水素原子、－Ｌa、－Ｌb、－Ｌc、－Ｌd、－Ｌeまたは－Ｃ（Ｏ）Ｒi基（Ｒiは、－Ｌa、－Ｌb、－Ｌc、－Ｌdまたは－Ｌeを表す。）を表し；
　ＲjおよびＲkはそれぞれ独立に、水素原子、－Ｌa、－Ｌb、－Ｌc、－Ｌdまたは－Ｌeを表し；
　Ｌaは、置換基Ｌを有してもよい炭素数１～１２の脂肪族炭化水素基を表し；
　Ｌbは、置換基Ｌを有してもよい炭素数１～１２のハロゲン置換アルキル基を表し；
　Ｌcは、置換基Ｌを有してもよい炭素数３～１４の脂環式炭化水素基を表し；
　Ｌdは、置換基Ｌを有してもよい炭素数６～１４の芳香族炭化水素基を表し；
　Ｌeは、置換基Ｌを有してもよい炭素数３～１４の複素環基を表し；
　Ｌfは、置換基Ｌを有してもよい炭素数１～９のアルコキシ基を表し；
　Ｌgは、置換基Ｌを有してもよい炭素数１～９のアシル基を表し；
　Ｌhは、置換基Ｌを有してもよい炭素数１～９のアルコキシカルボニル基を表し；
　Ｌは、炭素数１～１２の脂肪族炭化水素基、炭素数１～１２のハロゲン置換アルキル基、炭素数３～１４の脂環式炭化水素基、炭素数６～１４の芳香族炭化水素基、炭素数３～１４の複素環基、ハロゲン原子、スルホ基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基およびアミノ基からなる群より選ばれる少なくとも１種の置換基を表す。
　条件（β）：
　１つのベンゼン環上の２つのＲaのうちの少なくとも１つが、同じベンゼン環上のＹと相互に結合して、窒素原子を少なくとも１つ含む構成原子数５または６の複素環を形成する；
　前記複素環は置換基を有していてもよく、Ｒbおよび前記複素環の形成に関与しないＲaは、それぞれ独立に前記条件（α）のＲbおよびＲaと同義である。
　前記Ｌa～Ｌhは、置換基を含めた炭素数の合計が、それぞれ５０以下であることが好ましく、炭素数４０以下であることがさらに好ましく、炭素数３０以下であることが特に好ましい。炭素数がこの範囲よりも多いと、化合物の合成が困難となる場合があるとともに、単位重量あたりの光の吸収強度が小さくなる傾向がある。
　前記ＬaおよびＬにおける炭素数１～１２の脂肪族炭化水素基としては、例えば、メチル基（Ｍｅ）、エチル基（Ｅｔ）、ｎ－プロピル基（ｎ－Ｐｒ）、イソプロピル基（ｉ－Ｐｒ）、ｎ－ブチル基（ｎ－Ｂｕ）、ｓｅｃ－ブチル基（ｓ－Ｂｕ）、ｔｅｒｔ－ブチル基（ｔ－Ｂｕ）、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基およびドデシル基等のアルキル基；ビニル基、１－プロペニル基、２－プロペニル基、ブテニル基、１，３－ブタジエニル基、２－メチル－１－プロペニル基、２－ペンテニル基、ヘキセニル基およびオクテニル基等のアルケニル基；ならびに、エチニル基、プロピニル基、ブチニル基、２－メチル－１－プロピニル基、ヘキシニル基およびオクチニル基等のアルキニル基を挙げることができる。
　前記ＬbおよびＬにおける炭素数１～１２のハロゲン置換アルキル基としては、例えば、トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基、１，１－ジクロロエチル基、ペンタクロロエチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタクロロプロピル基およびヘプタフルオロプロピル基を挙げることができる。
　前記ＬcおよびＬにおける炭素数３～１４の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基およびシクロオクチル基等のシクロアルキル基；ノルボルナン基およびアダマンタン基等の多環脂環式基を挙げることができる。
　前記ＬdおよびＬにおける炭素数６～１４の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、１－ナフチル基、２－ナフチル基、アントラセニル基、フェナントリル基、アセナフチル基、フェナレニル基、テトラヒドロナフチル基、インダニル基およびビフェニリル基を挙げることができる。
　前記ＬeおよびＬにおける炭素数３～１４の複素環基としては、例えば、フラン、チオフェン、ピロール、ピラゾール、イミダゾール、トリアゾール、オキサゾール、オキサジアゾール、チアゾール、チアジアゾール、インドール、インドリン、インドレニン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、カルバゾール、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、ピリダジン、キノリン、イソキノリン、アクリジン、モルホリンおよびフェナジン等の複素環からなる基を挙げることができる。
　前記Ｌfにおける炭素数１～１２のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基を挙げることができる。
　前記Ｌgにおける炭素数１～９のアシル基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基、イソバレリル基およびベンゾイル基を挙げることができる。
　前記Ｌhにおける炭素数１～９のアルコキシカルボニル基としては、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ペンチルオキシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボニル基およびオクチルオキシカルボニル基を挙げることができる。
　前記Ｌaとしては、好ましくはメチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、４－フェニルブチル基、２－シクロヘキシルエチルであり、より好ましくはメチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基である。
　前記Ｌbとしては、好ましくはトリクロロメチル基、ペンタクロロエチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、５－シクロヘキシル－２，２，３，３－テトラフルオロペンチル基であり、より好ましくはトリクロロメチル基、ペンタクロロエチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基である。
　前記Ｌcとしては、好ましくはシクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、４－エチルシクロヘキシル基、シクロオクチル基、４－フェニルシクロヘプチル基であり、より好ましくはシクロペンチル基、シクロヘキシル基、４－エチルシクロヘキシル基である。
　前記Ｌdとしては、好ましくはフェニル基、１－ナフチル基、２－ナフチル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル基、４－シクロペンチルフェニル基、２，３，６－トリフェニルフェニル基、２，３，４，５，６－ペンタフェニルフェニル基であり、より好ましくはフェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、２，３，４，５，６－ペンタフェニルフェニル基である。
　前記Ｌeとしては、好ましくはフラン、チオフェン、ピロール、インドール、インドリン、インドレニン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、モルホリンからなる基であり、より好ましくはフラン、チオフェン、ピロール、モルホリンからなる基である。
　前記Ｌfとしては、好ましくはメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、メトキシメチル基、メトキシエチル基、２－フェニルエトキシ基、３－シクロヘキシルプロポキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基であり、より好ましくはメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基である。
　前記Ｌgとしては、好ましくはアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、ベンゾイル基、４－プロピルベンゾイル基、トリフルオロメチルカルボニル基であり、より好ましくはアセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基である。
　前記Ｌhとしては、好ましくはメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、２－トリフルオロメチルエトキシカルボニル基、２－フェニルエトキシカルボニル基であり、より好ましくはメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基である。
　前記Ｌa～Ｌhは、さらに、ハロゲン原子、スルホ基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基およびアミノ基からなる群より選ばれる少なくとも１種の原子または基を有していてもよい。このような例としては、４－スルホブチル基、４－シアノブチル基、５－カルボキシペンチル基、５－アミノペンチル基、３－ヒドロキシプロピル基、２－ホスホリルエチル基、６－アミノ－２，２－ジクロロヘキシル基、２－クロロ－４－ヒドロキシブチル基、２－シアノシクロブチル基、３－ヒドロキシシクロペンチル基、３－カルボキシシクロペンチル基、４－アミノシクロヘキシル基、４－ヒドロキシシクロヘキシル基、４－ヒドロキシフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、２－ヒドロキシナフチル基、４－アミノフェニル基、４－ニトロフェニル基、３－メチルピロールからなる基、２－ヒドロキシエトキシ基、３－シアノプロポキシ基、４－フルオロベンゾイル基、２－ヒドロキシエトキシカルボニル基、４－シアノブトキシカルボニル基を挙げることができる。
　前記条件（α）におけるＲaとしては、好ましくは水素原子、塩素原子、フッ素原子、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、水酸基、アミノ基、ジメチルアミノ基、ニトロ基であり、より好ましくは水素原子、塩素原子、フッ素原子、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、水酸基である。
　前記条件（α）におけるＲbとしては、好ましくは水素原子、塩素原子、フッ素原子、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、水酸基、アミノ基、ジメチルアミノ基、シアノ基、ニトロ基、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、Ｎ－メチルアセチルアミノ基、トリフルオロメタノイルアミノ基、ペンタフルオロエタノイルアミノ基、ｔ－ブタノイルアミノ基、シクロヘキシノイルアミノ基であり、より好ましくは水素原子、塩素原子、フッ素原子、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、水酸基、ジメチルアミノ基、ニトロ基、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、トリフルオロメタノイルアミノ基、ペンタフルオロエタノイルアミノ基、ｔ－ブタノイルアミノ基、シクロヘキシノイルアミノ基である。
　前記Ｙａとしては、好ましくはアミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ－ｎ－プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジ－ｎ－ブチルアミノ基、ジ－ｔ－ブチルアミノ基、Ｎ－エチル－Ｎ－メチルアミノ基、Ｎ－シクロヘキシル－Ｎ－メチルアミノ基であり、より好ましくはジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ－ｎ－プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジ－ｎ－ブチルアミノ基、ジ－ｔ－ブチルアミノ基である。
　前記式（Ｉ）の条件（β）における、１つのベンゼン環上の２つのＲaのうちの少なくとも１つが、同じベンゼン環上のＹと相互に結合して形成される、窒素原子を少なくとも１つ含む構成原子数５または６の複素環としては、例えば、ピロリジン、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、ピペリジン、ピリジン、ピペラジン、ピリダジン、ピリミジンおよびピラジン等を挙げることができる。これらの複素環のうち、当該複素環を構成し、かつ、前記ベンゼン環を構成する炭素原子の隣の１つの原子が窒素原子である複素環が好ましく、ピロリジンがさらに好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
 　式（ＩＩ）中、Ｘは独立に、Ｏ、Ｓ、Ｓｅ、Ｎ－ＲcまたはＣ（ＲdＲd）を表し；複数あるＲcはそれぞれ独立に、水素原子、Ｌa、Ｌb、Ｌc、ＬdまたはＬeを表し；複数あるＲdはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基、－Ｌ1または－ＮＲeＲf基を表し、隣り合うＲd同士は連結して置換基を有していてもよい環を形成してもよく；Ｌa～Ｌe、Ｌ1、ＲeおよびＲfは、前記式（Ｉ）において定義したＬa～Ｌe、Ｌ1、ＲeおよびＲfと同義である。
　前記式（ＩＩ）中のＲcとしては、好ましくは水素原子、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、シクロヘキシル基、フェニル基、トルフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基であり、より好ましくは水素原子、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基である。
　前記式（ＩＩ）中のＲdとしては、好ましくは水素原子、塩素原子、フッ素原子、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、シクロヘキシル基、フェニル基、メトキシ基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、４－アミノシクロヘキシル基であり、より好ましくは水素原子、塩素原子、フッ素原子、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基である。
　前記Ｘとしては、好ましくはＯ、Ｓ、Ｓｅ、Ｎ－Ｍｅ、Ｎ－Ｅｔ、ＣＨ2、Ｃ－Ｍｅ2、Ｃ－Ｅｔ2であり、より好ましくはＳ、Ｃ－Ｍｅ2、Ｃ－Ｅｔ2である。
　前記式（ＩＩ）において、隣り合うＲd同士は連結して環を形成してもよい。このような環としては、例えば、ベンゾインドレニン環、α－ナフトイミダゾール環、β－ナフトイミダゾール環、α－ナフトオキサゾール環、β－ナフトオキサゾール環、α－ナフトチアゾール環、β－ナフトチアダゾール環、α－ナフトセレナゾール環、β－ナフトセレナゾール環を挙げることができる。
　化合物（Ｉ）および化合物（ＩＩ）は、下記式（Ｉ－１）および下記式（ＩＩ－１）のような記載方法に加え、下記式（Ｉ－２）および下記式（ＩＩ－２）のように共鳴構造を取るような記載方法でも構造を表すことができる。つまり、下記式（Ｉ－１）と下記式（Ｉ－２）との違い、および下記式（ＩＩ－１）と下記式（ＩＩ－２）との違いは構造の記載方法のみであり、どちらも同一の化合物を表す。本発明中では特に断りのない限り、下記式（Ｉ－１）および下記式（ＩＩ－１）のような記載方法にてスクアリリウム系化合物の構造を表すものとする。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
 　さらに、例えば、下記式（Ｉ－３）で表される化合物と下記式（Ｉ－４）で表される化合物は、同一の化合物であると見なすことができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
 　前記化合物（Ｉ）および（ＩＩ）は、それぞれ前記式（Ｉ）および（ＩＩ）の要件を満たせば特に構造は限定されない。例えば前記式（Ｉ－１）および（ＩＩ－１）のように構造を表した場合、中央の四員環に結合している左右の置換基は同一であっても異なっていてもよいが、同一であった方が合成上容易であるため好ましい。
　前記化合物（Ｉ）および（ＩＩ）の具体例としては、下記式（Ｉ－Ａ）～（Ｉ－Ｈ）で表される基本骨格を有する、下記表１～３に記載の化合物（ａ－１）～（ａ－３６）を挙げることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000007
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000008
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000009
 　前記化合物（Ｉ）および（ＩＩ）は、一般的に知られている方法で合成すればよく、例えば、特開平１－２２８９６０号公報、特開２００１－４０２３４号公報、特許第３１９６３８３号公報等に記載されている方法などを参照して合成することができる。
　≪フタロシアニン系化合物≫
　前記フタロシアニン系化合物は、特に限定されるものではないが、下記式（ＩＩＩ）で表される化合物（以下「化合物（ＩＩＩ）」ともいう。）であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
 　式（ＩＩＩ）中、Ｍは、２個の水素原子、２個の１価の金属原子、２価の金属原子、または３価もしくは４価の金属原子を含む置換金属原子を表し、複数あるＲa、Ｒb、ＲcおよびＲdはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、カルボキシ基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、イミド基、シアノ基、シリル基、－Ｌ1、－Ｓ－Ｌ2、－ＳＳ－Ｌ2、－ＳＯ2－Ｌ3、－Ｎ＝Ｎ－Ｌ4、または、ＲaとＲb、ＲbとＲcおよびＲcとＲdのうち少なくとも１つの組み合わせが結合した、下記式（Ａ）～（Ｈ）で表される基からなる群より選ばれる少なくとも１種の基を表す。但し、同じ芳香環に結合したＲa、Ｒb、ＲcおよびＲdのうち少なくとも１つが水素原子ではない。
　前記アミノ基、アミド基、イミド基およびシリル基は、前記式（Ｉ）において定義した置換基Ｌを有してもよく、
　Ｌ1は、前記式（Ｉ）において定義したＬ1と同義であり、
　Ｌ2は、水素原子または前記式（Ｉ）において定義したＬa～Ｌeのいずれかを表し、
　Ｌ3は、水酸基または前記Ｌa～Ｌeのいずれかを表し、
　Ｌ4は、前記Ｌa～Ｌeのいずれかを表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
 　式（Ａ）～（Ｈ）中、ＲxおよびＲyは炭素原子を表し、複数あるＲA～ＲLはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、イミド基、シアノ基、シリル基、－Ｌ1、－Ｓ－Ｌ2、－ＳＳ－Ｌ2、－ＳＯ2－Ｌ3、－Ｎ＝Ｎ－Ｌ4を表し、前記アミノ基、アミド基、イミド基およびシリル基は、前記式（Ｉ）において定義した置換基Ｌを有してもよく、Ｌ1～Ｌ4は前記式（ＩＩＩ）において定義したＬ1～Ｌ4と同義である。
　前記Ｒa～ＲdおよびＲA～ＲLにおいて、置換基Ｌを有してもよいアミノ基としては、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、メチルエチルアミノ基、ジブチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基などが挙げられる。
　前記Ｒa～ＲdおよびＲA～ＲLにおいて、置換基Ｌを有してもよいアミド基としては、アミド基、メチルアミド基、ジメチルアミド基、ジエチルアミド基、ジプロピルアミド基、ジイソプロピルアミド基、ジブチルアミド基、α－ラクタム基、β－ラクタム基、γ－ラクタム基、δ－ラクタム基などが挙げられる。
　前記Ｒa～ＲdおよびＲA～ＲLにおいて、置換基Ｌを有してもよいイミド基としては、イミド基、メチルイミド基、エチルイミド基、ジエチルイミド基、ジプロピルイミド基、ジイソプロピルイミド基、ジブチルイミド基などが挙げられる。
　前記Ｒa～ＲdおよびＲA～ＲLにおいて、置換基Ｌを有してもよいシリル基としては、トリメチルシリル基、ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基、トリエチルシリル基などが挙げられる。
　前記Ｒa～ＲdおよびＲA～ＲLにおいて、－Ｓ－Ｌ2としては、チオール基、メチルスルフィド基、エチルスルフィド基、プロピルスルフィド基、ブチルスルフィド基、イソブチルスルフィド基、ｓｅｃ－ブチルスルフィド基、ｔｅｒｔ－ブチルスルフィド基、フェニルスルフィド基、２，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニルスルフィド基、２，６－ジフェニルフェニルスルフィド基、４－クミルフェニルスルフィド基などが挙げられる。
　前記Ｒa～ＲdおよびＲA～ＲLにおいて、－ＳＳ－Ｌ2としては、ジスルフィド基、メチルジスルフィド基、エチルジスルフィド基、プロピルジスルフィド基、ブチルジスルフィド基、イソブチルジスルフィド基、ｓｅｃ－ブチルジスルフィド基、ｔｅｒｔ－ブチルジスルフィド基、フェニルジスルフィド基、２，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニルジスルフィド基、２，６－ジフェニルフェニルジスルフィド基、４－クミルフェニルジスルフィド基などが挙げられる。
　前記Ｒa～ＲdおよびＲA～ＲLにおいて、－ＳＯ2－Ｌ3としては、スルホ基、メシル基、エチルスルホニル基、ｎ－ブチルスルホニル基、ｐ－トルエンスルホニル基などが挙げられる。
　前記Ｒa～ＲdおよびＲA～ＲLにおいて、－Ｎ＝Ｎ－Ｌ4としては、メチルアゾ基、フェニルアゾ基、ｐ－メチルフェニルアゾ基、ｐ－ジメチルアミノフェニルアゾ基などが挙げられる。
　前記Ｍにおいて、１価の金属原子としては、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓなどが挙げられる。
　前記Ｍにおいて、２価の金属原子としては、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｈｇ、Ｓｎ、Ｐｂなどが挙げられる。
　前記Ｍにおいて、３価の金属原子を含む置換金属原子としては、Ａｌ－Ｆ、Ａｌ－Ｃｌ、Ａｌ－Ｂｒ、Ａｌ－Ｉ、Ｇａ－Ｆ、Ｇａ－Ｃｌ、Ｇａ－Ｂｒ、Ｇａ－Ｉ、Ｉｎ－Ｆ、Ｉｎ－Ｃｌ、Ｉｎ－Ｂｒ、Ｉｎ－Ｉ、Ｔｌ－Ｆ、Ｔｌ－Ｃｌ、Ｔｌ－Ｂｒ、Ｔｌ－Ｉ、Ｆｅ－Ｃｌ、Ｒｕ－Ｃｌ、Ｍｎ－ＯＨなどが挙げられる。
　前記Ｍにおいて、４価の金属原子を含む置換金属原子としては、ＴｉＦ2、ＴｉＣｌ2、ＴｉＢｒ2、ＴｉＩ2、ＺｒＣｌ2、ＨｆＣｌ2、ＣｒＣｌ2、ＳｉＦ2、ＳｉＣｌ2、ＳｉＢｒ2、ＳｉＩ2、ＧｅＦ2、ＧｅＣｌ2、ＧｅＢｒ2、ＧｅＩ2、ＳｎＦ2、ＳｎＣｌ2、ＳｎＢｒ2、ＳｎＩ2、Ｚｒ（ＯＨ）2、Ｈｆ（ＯＨ）2、Ｍｎ（ＯＨ）2、Ｓｉ（ＯＨ）2、Ｇｅ（ＯＨ）2、Ｓｎ（ＯＨ）2、ＴｉＲ2、ＣｒＲ2、ＳｉＲ2、ＧｅＲ2、ＳｎＲ2、Ｔｉ（ＯＲ）2、Ｃｒ（ＯＲ）2、Ｓｉ（ＯＲ）2、Ｇｅ（ＯＲ）2、Ｓｎ（ＯＲ）2（Ｒは脂肪族基または芳香族基を表す。）、ＴｉＯ、ＶＯ、ＭｎＯなどが挙げられる。
　前記Ｍとしては、周期表５族～１１族、かつ、第４周期～第５周期に属する、２価の遷移金属、３価もしくは４価の金属ハロゲン化物または４価の金属酸化物であることが好ましく、その中でも、高い可視光透過率や安定性を達成することができることから、Ｃｕ、Ｎｉ、ＣｏおよびＶＯが特に好ましい。
　前記フタロシアニン系化合物は、下記式（Ｖ）のようなフタロニトリル誘導体の環化反応により合成する方法が一般的に知られているが、得られるフタロシアニン系化合物は下記式（ＶＩ－１）～（ＶＩ－４）のような４種の異性体の混合物となっている。本発明では、特に断りのない限り、１種のフタロシアニン系化合物につき１種の異性体のみを例示しているが、他の３種の異性体についても同様に用いることができる。なお、これらの異性体は必要に応じて分離して用いることも可能であるが、本発明では異性体混合物を一括して取り扱っている。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
 　前記化合物（ＩＩＩ）の具体例としては、下記式（ＩＩＩ－Ａ）～（ＩＩＩ－Ｊ）で表わされる基本骨格を有する、下記表４～７に記載の（ｂ－１）～（ｂ－６１）などを挙げることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000015
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000016
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000017
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000018
 　化合物（ＩＩＩ）は、一般的に知られている方法で合成すればよく、たとえば、特許第４０８１１４９号公報や「フタロシアニン　－化学と機能―」（アイピーシー、１９９７年）に記載されている方法を参照して合成することができる。
　≪シアニン系化合物≫
　前記シアニン系化合物は、特に限定されるものではないが、下記式（ＩＶ－１）～（ＩＶ－３）のいずれかで表される化合物（以下「化合物（ＩＶ－１）～（ＩＶ－３）」ともいう。）であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
 　式（ＩＶ－１）～（ＩＶ－３）中、Ｘa -は１価の陰イオンを表し、複数あるＤは独立に、炭素原子、窒素原子、酸素原子または硫黄原子を表し、複数あるＲa、Ｒb、Ｒc、Ｒd、Ｒe、Ｒf、Ｒg、ＲhおよびＲiはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、カルボキシ基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、イミド基、シアノ基、シリル基、－Ｌ1、－Ｓ－Ｌ2、－ＳＳ－Ｌ3、－ＳＯ2－Ｌ3、－Ｎ＝Ｎ－Ｌ4、または、ＲbとＲc、ＲdとＲe、ＲeとＲf、ＲfとＲg、ＲgとＲhおよびＲhとＲiのうち少なくとも１つの組み合わせが結合した、前記式（Ａ）～（Ｈ）で表される基からなる群より選ばれる少なくとも１種の基を表し、前記アミノ基、アミド基、イミド基およびシリル基は、前記式（Ｉ）において定義した置換基Ｌを有してもよく、
　Ｌ1は、前記式（Ｉ）において定義したＬ1と同義であり、
　Ｌ2は、水素原子または前記式（Ｉ）において定義したＬa～Ｌeのいずれかを表し、
　Ｌ3は、水素原子または前記Ｌa～Ｌeのいずれかを表し、
　Ｌ4は、前記Ｌa～Ｌeのいずれかを表し、
　Ｚa～ＺcおよびＹa～Ｙdはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、カルボキシ基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、イミド基、シアノ基、シリル基、－Ｌ1、－Ｓ－Ｌ2、－ＳＳ－Ｌ2、－ＳＯ2－Ｌ3、－Ｎ＝Ｎ－Ｌ4（Ｌ1～Ｌ4は、前記Ｒa～ＲiにおけるＬ1～Ｌ4と同義である。）、または、これらのうち隣接した二つから選ばれるＺ同士もしくはＹ同士が相互に結合して形成される、炭素数６～１４の芳香族炭化水素基；窒素原子、酸素原子もしくは硫黄原子を少なくとも１つ含んでもよい５乃至６員環の脂環式炭化水素基；もしくは、窒素原子、酸素原子もしくは硫黄原子を少なくとも１つ含む、炭素数３～１４の複素芳香族炭化水素基を表し、これらの芳香族炭化水素基、脂環式炭化水素基および複素芳香族炭化水素基は、炭素数１～９の脂肪族炭化水素基またはハロゲン原子を有してもよい。
　前記Ｚa～ＺcおよびＹa～Ｙdにおける、Ｚ同士もしくはＹ同士が相互に結合して形成される、炭素数６～１４の芳香族炭化水素基としては、例えば、前記置換基Ｌにおける芳香族炭化水素基で例示した化合物が挙げられる。
　前記Ｚa～ＺcおよびＹa～Ｙdにおける、Ｚ同士もしくはＹ同士が相互に結合して形成される、窒素原子、酸素原子もしくは硫黄原子を少なくとも１つ含んでもよい５乃至６員環の脂環式炭化水素基としては、例えば、前記置換基Ｌにおける脂環式炭化水素基および複素環で例示した化合物（複素芳香族炭化水素基を除く。）が挙げられる。
　前記Ｚa～ＺcおよびＹa～Ｙdにおける、Ｚ同士もしくはＹ同士が相互に結合して形成される、炭素数３～１４の複素芳香族炭化水素基としては、例えば、前記置換基Ｌにおける複素環基として例示した化合物（窒素原子、酸素原子もしくは硫黄原子を少なくとも１つ含む脂環式炭化水素基を除く。）が挙げられる。
　前記式（ＩＶ－１）～（ＩＶ－３）において、－Ｓ－Ｌ2、－ＳＳ－Ｌ2、－ＳＯ2－Ｌ3、－Ｎ＝Ｎ－Ｌ4、置換基Ｌを有してもよいアミノ基、アミド基、イミド基、シリル基としては、前記式（ＩＩＩ）で例示した基と同様の基などが挙げられる。
　Ｘa -は１価の陰イオンであれば特に限定されないが、Ｉ-、Ｂｒ-、ＰＦ6 -、Ｎ（ＳＯ2ＣＦ3）2 -、Ｂ（Ｃ6Ｆ5）4 -、ニッケルジチオラート系錯体、銅ジチオラート系錯体などが挙げられる。
　前記化合物（ＩＶ－１）～（ＩＶ－３）の具体例としては、下記表８に記載の（ｃ－１）～（ｃ－２４）などを挙げることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000020
 　前記化合物（ＩＶ－１）～（ＩＶ－３）は、一般的に知られている方法で合成すればよく、たとえば特開２００９－１０８２６７号公報に記載されている方法で合成することができる。
　＜化合物（Ｂ）＞
　前記化合物（Ｂ）としては、波長８００ｎｍ以上１８５０ｎｍ以下の領域に吸収極大を有すれば特に限定されないが、近赤外線吸収微粒子、スクアリリウム系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、クロコニウム系化合物、シアニン系化合物、ジイモニウム系化合物、金属ジチオラート系化合物およびピロロピロール系化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましい。環境光センサーは、通常、可視光領域以外にも１２００ｎｍ付近まで感度を有しており、可視光領域以外の波長の光が環境光センサーに入光すると誤作動や、周辺光環境に応じた色合い制御が適切に行われなくなる問題がある。そのため、化合物（Ｂ）としては近赤外線領域に幅広い吸収を持つ化合物を使用することが好ましく、上記化合物の中では、近赤外線吸収微粒子、シアニン系化合物、ジイモニウム系化合物およびスクアリリウム系化合物がさらに好ましく、近赤外線吸収微粒子としてはＣｓxＷyＯzが最も好ましい。なお、化合物（Ｂ）は、１種単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。このような化合物（Ｂ）を用いることにより、幅広い近赤外波長領域における吸収特性と優れた可視光透過率を達成することができる。
　前記化合物（Ｂ）の吸収極大波長は、８００ｎｍ以上１８５０ｎｍ以下、好ましくは８１０ｎｍ以上１８００ｎｍ以下、より好ましくは８２０ｎｍ以上１７５０ｎｍ以下である。前記化合物（Ｂ）の吸収極大波長がこのような範囲にあると、不要な近赤外線を効率よくカットすることができるとともに、入射光の入射角依存性を低くすることができる。なお、近赤外線吸収微粒子以外の化合物（Ｂ）の吸収極大波長は、好ましくは８００ｎｍ以上１２００ｎｍ以下、より好ましくは８１０ｎｍ以上１１８０ｎｍ以下、特に好ましくは８２０ｎｍ以上１１５０ｎｍ以下である。一方、近赤外線吸収微粒子の吸収極大波長は、好ましくは８００ｎｍ以上１８５０ｎｍ以下、より好ましくは８４０ｎｍ以上１８００ｎｍ以下、特に好ましくは８７０ｎｍ以上１７５０ｎｍ以下である。
　前記化合物（Ｂ）（ただし、近赤外線吸収微粒子を除く。）の使用量は、所望の特性に応じて適宜選択されるが、前記基材として、例えば、化合物（Ａ）および化合物（Ｂ）を含有する透明樹脂製基板からなる基材を用いる場合には、透明樹脂１００重量部に対して、好ましくは０．０１～５．０重量部、より好ましくは０．０２～３．０重量部、特に好ましくは０．０３～２．０重量部であり、前記基材として、ガラス支持体やベースとなる樹脂製支持体などの支持体上に化合物（Ａ）および化合物（Ｂ）を含有する透明樹脂層が積層された基材や、化合物（Ａ）を含有する透明樹脂製基板上に化合物（Ｂ）を含有する樹脂層が積層された基材を用いる場合には、化合物（Ａ）を含む透明樹脂層を形成する樹脂１００重量部に対して、好ましくは０．１～３０．０重量部、より好ましくは１．０～２８．０重量部、特に好ましくは２．０～２５．０重量部である。化合物（Ｂ）の含有量が前記範囲内にあると、良好な近赤外線吸収特性と高い可視光透過率とを両立した光学フィルターを得ることができる。なお、前記化合物（Ｂ）として近赤外線吸収微粒子を用いた場合の該微粒子の使用量については後述する。
　前記化合物（Ｂ）は、一般的に知られている方法で合成すればよく、例えば、特許第４１６８０３１号公報、特許第４２５２９６１号公報、特表２０１０－５１６８２３号公報、特開昭６３－１６５３９２号公報等に記載されている方法などを参照して合成することができる。
　≪ジイモニウム系化合物≫
　前記ジイモニウム系化合物は、特に限定されるものではないが、例えば、下記式（ｓ１）で表わされる化合物が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
 　式（ｓ１）中、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基、－ＮＲgＲh基、－ＳＲi基、－ＳＯ2Ｒi基、－ＯＳＯ2Ｒi基または下記Ｌa～Ｌhのいずれかを表し、ＲgおよびＲhは、それぞれ独立に水素原子、－Ｃ（Ｏ）Ｒi基または下記Ｌa～Ｌeのいずれかを表し、Ｒiは下記Ｌa～Ｌeのいずれかを表し、
（Ｌa）炭素数１～１２の脂肪族炭化水素基
（Ｌb）炭素数１～１２のハロゲン置換アルキル基
（Ｌc）炭素数３～１４の脂環式炭化水素基
（Ｌd）炭素数６～１４の芳香族炭化水素基
（Ｌe）炭素数３～１４の複素環基
（Ｌf）炭素数１～１２のアルコキシ基
（Ｌg）置換基Ｌを有してもよい炭素数１～１２のアシル基、
（Ｌh）置換基Ｌを有してもよい炭素数１～１２のアルコキシカルボニル基
　置換基Ｌは、炭素数１～１２の脂肪族炭化水素基、炭素数１～１２のハロゲン置換アルキル基、炭素数３～１４の脂環式炭化水素基、炭素数６～１４の芳香族炭化水素基および炭素数３～１４の複素環基からなる群より選ばれる少なくとも１種であり、ｎは０～４の整数、Ｘは電荷を中和させるのに必要なアニオンを表す。
　前記Ｒ1としては、好ましくは水素原子、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ベンジル基であり、より好ましくはイソプロピル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ベンジル基である。
　前記Ｒ2としては、好ましくは塩素原子、フッ素原子、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、シクロヘキシル基フェニル基、水酸基、アミノ基、ジメチルアミノ基、シアノ基、ニトロ基、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、Ｎ－メチルアセチルアミノ基、トリフルオロメタノイルアミノ基、ペンタフルオロエタノイルアミノ基、ｔ－ブタノイルアミノ基、シクロヘキシノイルアミノ基、ｎ－ブチルスルホニル基、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ－プロピルチオ基、ｎ－ブチルチオ基であり、より好ましくは塩素原子、フッ素原子、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、水酸基、ジメチルアミノ基、メトキシ基、エトキシ基、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、トリフルオロメタノイルアミノ基、ペンタフルオロエタノイルアミノ基、ｔ－ブタノイルアミノ基、シクロヘキシノイルアミノ基であり、特に好ましくは、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基である。同じ芳香環に結合しているＲ2の数（ｎの値）は０～４であれば特に制限されないが、０もしくは１であることが好ましい。
　前記Ｘは電荷を中和するのに必要なアニオンであり、アニオンが２価である場合には１分子、アニオンが１価の場合には２分子が必要となる。後者の場合は２つのアニオンが同一であっても異なっていてもよいが、合成上の観点から同一である方が好ましい。Ｘはこのようなアニオンであれば特に制限されないが、一例として、下記の表９に記載のものを挙げることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000022
 　Ｘは、酸とした際の酸性度が高いものであればジイモニウム系化合物のアニオンとした際にジイモニウム系化合物の耐熱性を向上できる傾向にあり、上記表９中の（Ｘ－１０）、（Ｘ－１６）、（Ｘ－１７）、（Ｘ－２１）、（Ｘ－２２）、（Ｘ－２４）、（Ｘ－２８）が特に好ましい。
　≪金属ジチオラート系化合物≫
　前記金属ジチオラート系化合物は、特に限定されるものではないが、例えば、下記式（ｓ２）で表わされる化合物が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
 　式（ｓ２）中、Ｒ3は、上記式（ｓ１）中のＲ1およびＲ2と同義であり、隣り合うＲ3同士は置換基Ｌを有してもよい環を形成してもよい。ＺはＤ（Ｒi）4を表し、Ｄは窒素原子、リン原子またはビスマス原子を表し、ｙは０もしくは１を表す。
　前記Ｒ3としては、好ましくはメチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、シクロヘキシル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－ノニル基、ｎ－デシル基、フェニル基、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ－プロピルチオ基、ｎ－ブチルチオ基、フェニルチオ基、ベンジルチオ基であり、隣り合うＲ3同士が環を形成する場合は、環の中に少なくとも一つ以上の硫黄原子もしくは窒素原子が含まれる複素環で有ることが好ましい。
　前記Ｍとしては、好ましくは遷移金属であり、さらに好ましくはＮｉ，Ｐｄ，Ｐｔである。
　前記Ｄは、好ましくは窒素原子、リン原子であり、前記Ｒiは、好ましくはエチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、フェニル基である。
　≪市販品≫
　前記化合物（Ｂ）（ただし、近赤外線吸収微粒子を除く。）の市販品としては、Ｓ２０５８（ＤＫＳＨ製）、ＣＩＲ－１０８ｘ、ＣＩＲ－９６ｘ、ＣＩＲ－ＲＬ、ＣＩＲ－１０８０（日本カーリット製）、Ｔ０９０８２１、Ｔ０９１０２１、Ｔ８９０２１，Ｔ０９０７２１、Ｔ０９０１２２（トスコ製）、Ｂ４３６０、Ｄ４７７３、Ｄ５０１３（東京化成工業製）、Ｓ４２５３、Ｓ１４２６、Ｓ１４４５（スペクトラムインフォ製）、Ｅｘｃｏｌｏｒ ＩＲ１、ＩＲ２ 、ＩＲ３ 、ＩＲ４（日本触媒製）などを挙げることができる。
　≪近赤外線吸収微粒子≫
　前記近赤外線吸収微粒子は、波長８００ｎｍ以上１８５０ｎｍ以下の領域に吸収を有するものであれば特に制限されない。このような近赤外線吸収微粒子としては、例えば、ＩＴＯ（スズドープ酸化インジウム）、ＡＴＯ（アンチモンドープ酸化スズ）、ＧＺＯ（ガリウムドープ酸化亜鉛）などの透明導電性酸化物や、下記式（Ｐ－１）で表わされる化合物からなる第１の微粒子や下記式（Ｐ－２）で表わされる化合物からなる第２の微粒子を挙げることができ、吸収－透過特性の観点から特に第１の微粒子及び第２の微粒子が好ましい。
　Ａ1/nＣｕＰＯ4　・・・（Ｐ－１）
　式（Ｐ－１）中、Ａは、アルカリ金属、アルカリ土類金属およびＮＨ4からなる群より選ばれる少なくとも１種であり、ｎは、Ａがアルカリ金属またはＮＨ4の場合は１であり、Ａがアルカリ土類金属の場合は２である。
　ＭxＷyＯz　・・・（Ｐ－２）
　式（Ｐ－２）中、Ｍは、Ｈ、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、Ｍｇ、Ｚｒ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂ、Ｆ、Ｐ、Ｓ、Ｓｅ、Ｂｒ、Ｔｅ、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｖ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｒｅ、Ｂｅ、Ｈｆ、Ｏｓ、Ｂｉ、Ｉであり、Ｍが複数ある場合は別々の原子でもよく、ｘ、ｙおよびｚは、０．００１≦ｘ/ｙ≦１および２．２≦ｚ/ｙ≦３．０の条件を満たす。
　本発明において、アルカリ金属とはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓのことを指し、アルカリ土類金属とはＣａ、Ｓｒ、Ｂａのことを指し、希土類元素とはＳｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕのことを指す。
　近赤外線吸収微粒子の粒子直径の平均値は１～２００ｎｍ、すなわち２００ｎｍ以下であることが好ましく、さらに好ましくは１５０ｎｍ以下、特に好ましくは１００ｎｍ以下である。近赤外線吸収微粒子の粒子直径は、近赤外線吸収微粒子が分散した状態の懸濁液（以下、単に「分散液」ともいう）をダイナミク光散乱光度計（大塚電子社製、型番ＤＬＳ－８０００ＨＬ／ＨＨ）を用いた動的光散乱法（Ｈｅ－Ｎｅレーザー使用、セル室温度２５℃）によって測定したものである。近赤外線吸収微粒子の粒子直径の平均値がこの範囲にあれば、可視光透過率低下の原因となる幾何学散乱やミー散乱を低減でき、レイリー散乱領域となる。レイリー散乱領域では、散乱光は粒子直径の６乗に反比例して低減するため、粒子直径の減少に伴い散乱が低減し可視光透過率が向上する。このため、粒子直径が上記範囲にあれば散乱光が非常に少なくなり、良好な可視光透過率を達成できるため好ましい。散乱光の観点からは粒子直径は小さい方が好ましいが、工業的な製造のしやすさや製造コストなどを考慮すると、粒子直径の平均値の下限は好ましくは１ｎｍ以上、特に好ましくは２ｎｍ以上である。
　近赤外線吸収微粒子の含有量は、近赤外線吸収微粒子を含む層を構成する樹脂成分１００重量部に対して５～６０重量部であることが好ましい。含有量の上限値は、さらに好ましくは５５重量部であり、特に好ましくは５０重量部である。含有量の下限値は、さらに好ましくは１０重量部であり、特に好ましくは１５重量部である。近赤外線吸収微粒子の含有量が５重量部よりも小さいと十分な近赤外線吸収特性が得られない場合があり、６０重量部よりも大きいと可視透過率の低下や近赤外線吸収微粒子の凝集によるヘーズ値の増大が起こりやすくなる傾向にある。
　近赤外線吸収微粒子の分散媒としては、水、アルコール、ケトン、エーテル、エステル、アルデヒド、アミン、脂肪族炭化水素、脂環族炭化水素、芳香族炭化水素等が挙げられる。分散媒は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。分散媒の量は、近赤外線吸収微粒子の分散性を維持する点から、分散液１００重量部に対して５０～９５重量部が好ましい。
　近赤外線吸収微粒子の分散媒には、必要に応じて近赤外線吸収微粒子の分散状態を改良するために分散剤を配合することができる。分散剤としては、近赤外線吸収微粒子の表面に対して改質効果を示すもの、例えば、界面活性剤、シラン化合物、シリコーンレジン、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、ジルコアルミネート系カップリング剤等が使用される。
　界面活性剤としては、アニオン系界面活性剤（特殊ポリカルボン酸型高分子界面活性剤、アルキルリン酸エステル等）、ノニオン系界面活性剤（ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェノールエーテル、ポリオキシエチレンカルボン酸エステル、ソルビタン高級カルボン酸エステル等）、カチオン系界面活性剤（ポリオキシエチレンアルキルアミンカルボン酸エステル、アルキルアミン、アルキルアンモニウム塩等）、両性界面活性剤（高級アルキルベタイン等）が挙げられる。
　シラン化合物としては、シランカップリング剤、クロロシラン、アルコキシシラン、シラザン等が挙げられる。シランカップリング剤としては、官能基（グリシドキシ基、ビニル基、アミノ基、アルケニル基、エポキシ基、メルカプト基、クロロ基、アンモニウム基、アクリロキシ基、メタクリロキシ基等）を有するアルコキシシラン等が挙げられる。
　シリコーンレジンとしては、メチルシリコーンレジン、メチルフェニルシリコーンレジン等が挙げられる。
　チタネート系カップリング剤としては、アシロキシ基、ホスホキシ基、ピロホスホキシ基、スルホキシ基、アリーロキシ基等を有するものが挙げられる。
　アルミニウム系カップリング剤としては、アセトアルコキシアルミニウムジイソプロピレートが挙げられる。
　ジルコアルミネート系カップリング剤としては、アミノ基、メルカプト基、アルキル基、アルケニル基等を有するものが挙げられる。
　分散剤の量は、分散剤の種類にもよるが、分散液１００重量部に対し、０．５～１０重量部が好ましい。分散剤の量が該範囲内であれば、近赤外線吸収微粒子の分散性が良好となり、透明性が損なわれず、また、経時的な近赤外線吸収微粒子の沈降が抑えられる。
　近赤外線吸収微粒子の市販品としては、三菱マテリアル（株）製Ｐ－２（ＩＴＯ）、三井金属（株）製パストラン（ＩＴＯ）、三菱マテリアル（株）製Ｔ－１（ＡＴＯ）、石原産業（株）製ＳＮ－１００Ｐ（ＡＴＯ）、ハクスイテック（株）製パゼットＧＫ（ＧＺＯ）、住友金属鉱山（株）製ＹＭＦ－０２Ａ（第２の微粒子）などを挙げることができる。
　≪第１の微粒子≫
　第１の微粒子は、上記式（Ｐ－１）で表わされる化合物の結晶構造（結晶子）に起因する近赤外線吸収特性を有する。
　ここで、「結晶子」とは単結晶とみなせる単位結晶を意味し、「粒子」は複数の結晶子によって構成される。「式（１）で表わされる化合物の結晶子からなる」とは、例えば、Ｘ線回折によってＡ1/nＣｕＰＯ4の結晶構造を確認でき、実質的にＡ1/nＣｕＰＯ4の結晶子からなることがＸ線回折によって同定されていることを意味し、「実質的にＡ1/nＣｕＰＯ4の結晶子からなる」とは、結晶子がＡ1/nＣｕＰＯ4の結晶構造を十分に維持できる（Ｘ線回折によってＡ1/nＣｕＰＯ4の結晶構造を確認できる）範囲内で不純物を含んでいてもよいことを意味する。なお、Ｘ線回折は、粉末状態の近赤外線吸収微粒子について、Ｘ線回折装置を用いて測定される。
　式（１）中のＡとして、アルカリ金属（Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ）、アルカリ土類金属（Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ）、またはＮＨ4を採用する理由は、下記の（ｉ）～（ｉｉｉ）の通りである。
　（ｉ）近赤外線吸収微粒子における結晶子の結晶構造は、ＰＯ4 3-とＣｕ2+との交互結合からなる網目状三次元骨格であり、骨格の内部に空間を有する。該空間のサイズが、アルカリ金属イオン（Ｌｉ+：０．０９０ｎｍ、Ｎａ+：０．１１６ｎｍ、Ｋ+：０．１５２ｎｍ、Ｒｂ+：０．１６６ｎｍ、Ｃｓ+：０．１８１ｎｍ）、アルカリ土類金属イオン（Ｃａ2+：０．１１４ｎｍ、Ｓｒ2+：０．１３２ｎｍ、Ｂａ2+：０．１４９ｎｍ）およびＮＨ4 +（０．１６６ｎｍ）のイオン半径と適合するため、結晶構造を十分に維持できる。
　（ｉｉ）アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオンおよびＮＨ4 +は、溶液中で１価または２価のカチオンとして安定的に存在できるため、近赤外線吸収微粒子の製造過程において、前駆体が生成する際、結晶構造中にカチオンが取り込まれやすい。
　（ｉｉｉ）ＰＯ4 3-と配位結合性の強いカチオン（例えば、遷移金属イオン等）では、十分な近赤外線吸収特性を発現する本実施形態における結晶構造とは異なる結晶構造を与える可能性がある。
　Ａとしては、ＰＯ4 3-とＣｕ2+とからなる骨格内に取り込まれるイオンとして最もカチオンサイズが適し、熱力学的な安定構造をとる点から、Ｋが特に好ましい。
　近赤外線吸収微粒子は、結晶子がＡ1/nＣｕＰＯ4の結晶構造を十分に維持することによって、十分な近赤外線吸収特性を発現できる。よって、結晶子の表面に水または水酸基が付着した場合、Ａ1/nＣｕＰＯ4の結晶構造を維持できなくなるため、可視光領域と近赤外波長領域の光の透過率の差が減少し、光学フィルター用途として好適に使用できない。
　よって、近赤外線吸収微粒子は、顕微ＩＲスペクトルにおいて、リン酸基に帰属される１０００ｃｍ-1付近のピークの吸収強度を基準（１００％）とした際に、水に帰属される１６００ｃｍ-1付近のピークの吸収強度が８％以下であり、かつ水酸基に帰属される３７５０ｃｍ-1付近のピークの吸収強度が２６％以下であることが好ましく、水に帰属される１６００ｃｍ-1付近のピークの吸収強度が５％以下であり、かつ水酸基に帰属される３７５０ｃｍ-1付近のピークの吸収強度が１５％以下であることがより好ましい。なお、顕微ＩＲスペクトルは、粉末状態の近赤外線吸収微粒子について、フーリエ変換赤外分光光度計を用いて測定される。具体的には、例えば、Ｔｈｅｒｍｏ　Ｆｉｓｈｅｒ　Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ社製のフーリエ変換赤外分光光度計Ｍａｇｎａ７６０を用い、そのダイヤモンドプレート上に、第１の微粒子の１片を置き、ローラーで平坦にし、顕微ＦＴ－ＩＲ法により測定する。
　≪第２の微粒子≫
　三酸化タングステン（ＷＯ3）のタングステンに対する酸素の比率を３より低減し、特定の組成範囲とすることによって当該タングステン酸化物中に自由電子が生成し、近赤外線吸収材料として良好な特性を達成できることが知られている。
　該タングステンと酸素との組成範囲は、タングステンに対する酸素の組成比が３以下であり、さらには、当該タングステン酸化物をＷyＯzと記載したとき、２．２≦ｚ／ｙ≦２．９９９であることが好ましい。このｚ／ｙの値が、２．２以上であれば、当該タングステン酸化物中に目的以外であるＷＯ2の結晶相が現れるのを回避することができるとともに、材料としての化学的安定性を得ることができるので、有効な近赤外線吸収材料として適用できる。一方、このｚ／ｙの値が、２．９９９以下であれば、当該タングステン酸化物中に必要とされる量の自由電子が生成され、効率よい近赤外線吸収材料となる。
　また、当該タングステン酸化物を微粒子化したタングステン酸化物微粒子において、一般式ＷyＯzとしたとき２．４５≦ｚ／ｙ≦２．９９９で表される組成比を有する、所謂「マグネリ相」は化学的に安定であり、近赤外線領域の吸収特性も良いので、近赤外線吸収材料として好ましい。
　さらに、当該タングステン酸化物へ、元素Ｍを添加して複合タングステン酸化物とすることで、当該複合タングステン酸化物中に自由電子が生成され、近赤外線領域に自由電子由来の吸収特性が発現し、波長１０００ｎｍ付近の近赤外線吸収材料として有効となるため好ましい。
　ここで、元素Ｍの添加量を示すｘ／ｙの値について説明する。ｘ／ｙの値が０．００１より大きければ、十分な量の自由電子が生成され目的とする赤外線遮蔽効果を得ることが出来る。そして、元素Ｍの添加量が多いほど、自由電子の供給量が増加し、赤外線遮蔽効率も上昇するが、ｘ／ｙの値が１程度で当該効果も飽和する。また、ｘ／ｙの値が１より小さければ、当該赤外線遮蔽材料中に不純物相が生成されるのを回避できるので好ましく、０．２以上０．５以下がさらに好ましい。また、元素Ｍは、Ｈ、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、Ｍｇ、Ｚｒ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂ、Ｆ、Ｐ、Ｓ、Ｓｅ、Ｂｒ、Ｔｅ、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｖ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｒｅ、Ｂｅ、Ｈｆ、Ｏｓ、Ｂｉ、Ｉのうちから選択される１種類以上であることが好ましい。ここで、元素Ｍを添加された当該ＭｘＷｙＯｚにおける安定性の観点からは、元素Ｍは、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、Ｍｇ、Ｚｒ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂ、Ｆ、Ｐ、Ｓ、Ｓｅ、Ｂｒ、Ｔｅ、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｖ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｒｅのうちのうちから選択される１種類以上の元素であることがより好ましく、近赤外線吸収材料としての光学特性、耐候性を向上させる観点からは、前記元素Ｍにおいてアルカリ金属、アルカリ土類金属元素、遷移金属元素、４族元素、５族元素に属するものが、さらに好ましい。
　次に、酸素量の制御を示すｚ／ｙの値について説明する。ｚ／ｙの値については、ＭxＷyＯzで表記される近赤外線吸収材料においても、上述したＷyＯzで表記される近赤外線吸収材料と同様の機構が働くことに加えｚ／ｙ＝３．０においても、上述した元素Ｍの添加量による自由電子の供給があるため、２．２≦ｚ／ｙ≦３．０が好ましい。
　＜透明樹脂＞
　前記透明樹脂としては、本発明の効果を損なわないものである限り特に制限されないが、例えば、熱安定性およびフィルムへの成形性を確保するため、ガラス転移温度（Ｔｇ）が、好ましくは１１０～３８０℃、より好ましくは１１０～３７０℃、さらに好ましくは１２０～３６０℃である樹脂が挙げられる。また、リフロー工程に好適であるため前記樹脂のガラス転移温度が１４０℃以上であると好ましく、２３０℃以上であるとより好ましい。
　透明樹脂としては、当該樹脂からなる厚さ０．１ｍｍの樹脂板を形成した場合に、この樹脂板の全光線透過率（ＪＩＳ　Ｋ７１０５）が、好ましくは７５～９５％、さらに好ましくは７８～９５％、特に好ましくは８０～９５％となる樹脂を用いることができる。全光線透過率がこのような範囲となる樹脂を用いれば、得られる基板は光学フィルムとして良好な透明性を示す。
　透明樹脂のゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法により測定される、ポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）は、通常１５，０００～３５０，０００、好ましくは３０，０００～２５０，０００であり、数平均分子量（Ｍｎ）は、通常１０，０００～１５０，０００、好ましくは２０，０００～１００，０００である。
　透明樹脂としては、例えば、環状ポリオレフィン系樹脂、芳香族ポリエーテル系樹脂、ポリイミド系樹脂、フルオレンポリカーボネート系樹脂、フルオレンポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、アラミド系樹脂、ポリサルホン系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリパラフェニレン系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリエチレンナフタレート系樹脂、フッ素化芳香族ポリマー系樹脂、（変性）アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、シルセスキオキサン系紫外線硬化型樹脂、マレイミド系樹脂、脂環エポキシ熱硬化型樹脂、ポリエーテルエーテルケトン系樹脂、ポリアリレート系樹脂、アリルエステル系硬化型樹脂、アクリル系紫外線硬化型樹脂、ビニル系紫外線硬化型樹脂およびゾルゲル法により形成されたシリカを主成分とする樹脂を挙げることができる。これらの内、環状ポリオレフィン樹脂、芳香族ポリエーテル樹脂、フルオレンポリカーボネート系樹脂、フルオレンポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアリレート系樹脂を用いることが、透明性（光学特性）、耐熱性、耐リフロー性等のバランスに優れた光学フィルターを得られる点で好ましい。
　≪環状ポリオレフィン系樹脂≫
　環状ポリオレフィン系樹脂としては、下記式（Ｘ0）で表される単量体および下記式（Ｙ0）で表される単量体からなる群より選ばれる少なくとも１種の単量体から得られる樹脂、および当該樹脂を水素添加することで得られる樹脂が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
 　式（Ｘ0）中、Ｒx1～Ｒx4はそれぞれ独立に、下記（i'）～（ix'）より選ばれる原子または基を表し、ｋx、ｍxおよびｐxはそれぞれ独立に、０または正の整数を表す。
（i'）水素原子
（ii'）ハロゲン原子
（iii'）トリアルキルシリル基
（iv'）酸素原子、硫黄原子、窒素原子またはケイ素原子を含む連結基を有する、置換または非置換の炭素数１～３０の炭化水素基
（v'）置換または非置換の炭素数１～３０の炭化水素基
（vi'）極性基（但し、（iv'）を除く。）
（vii'）Ｒx1とＲx2またはＲx3とＲx4とが、相互に結合して形成されたアルキリデン基（但し、前記結合に関与しないＲx1～Ｒx4は、それぞれ独立に前記（ｉ'）～（vi'）より選ばれる原子または基を表す。）
（viii'）Ｒx1とＲx2またはＲx3とＲx4とが、相互に結合して形成された単環もしくは多環の炭化水素環または複素環（但し、前記結合に関与しないＲx1～Ｒx4は、それぞれ独立に前記（i'）～（vi'）より選ばれる原子または基を表す。）
（ix'）Ｒx2とＲx3とが、相互に結合して形成された単環の炭化水素環または複素環（但し、前記結合に関与しないＲx1とＲx4は、それぞれ独立に前記（i'）～（vi'）より選ばれる原子または基を表す。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
 　式（Ｙ0）中、Ｒy1およびＲy2はそれぞれ独立に、前記（i'）～（vi'）より選ばれる原子または基を表すか、Ｒy1とＲy2とが、相互に結合して形成された単環もしくは多環の脂環式炭化水素、芳香族炭化水素または複素環を表し、ｋyおよびｐyはそれぞれ独立に、０または正の整数を表す。
　≪芳香族ポリエーテル系樹脂≫
　芳香族ポリエーテル系樹脂は、下記式（１）で表される構造単位および下記式（２）で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも１種の構造単位を有することが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
 　式（１）中、Ｒ1～Ｒ4はそれぞれ独立に、炭素数１～１２の１価の有機基を示し、ａ～ｄはそれぞれ独立に、０～４の整数を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
 　式（２）中、Ｒ1～Ｒ4およびａ～ｄはそれぞれ独立に、前記式（１）中のＲ1～Ｒ4およびａ～ｄと同義であり、Ｙは、単結合、－ＳＯ2－または＞Ｃ＝Ｏを示し、Ｒ7およびＲ8はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１～１２の１価の有機基またはニトロ基を示し、ｇおよびｈはそれぞれ独立に、０～４の整数を示し、ｍは０または１を示す。但し、ｍが０のとき、Ｒ7はシアノ基ではない。
　また、前記芳香族ポリエーテル系樹脂は、さらに下記式（３）で表される構造単位および下記式（４）で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも１種の構造単位を有することが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
 　式（３）中、Ｒ5およびＲ6はそれぞれ独立に、炭素数１～１２の１価の有機基を示し、Ｚは、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ2－、＞Ｃ＝Ｏ、－ＣＯＮＨ－、－ＣＯＯ－または炭素数１～１２の２価の有機基を示し、ｅおよびｆはそれぞれ独立に、０～４の整数を示し、ｎは０または１を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
 　式（４）中、Ｒ7、Ｒ8、Ｙ、ｍ、ｇおよびｈはそれぞれ独立に、前記式（２）中のＲ7、Ｒ8、Ｙ、ｍ、ｇおよびｈと同義であり、Ｒ5、Ｒ6、Ｚ、ｎ、ｅおよびｆはそれぞれ独立に、前記式（３）中のＲ5、Ｒ6、Ｚ、ｎ、ｅおよびｆと同義である。
　≪ポリイミド系樹脂≫
　ポリイミド系樹脂としては、特に制限されず、繰り返し単位にイミド結合を含む高分子化合物であればよく、例えば、特開２００６－１９９９４５号公報や特開２００８－１６３１０７号公報に記載されている方法で合成することができる。
　≪フルオレンポリカーボネート系樹脂≫
　フルオレンポリカーボネート系樹脂としては、特に制限されず、フルオレン部位を含むポリカーボネート樹脂であればよく、例えば、特開２００８－１６３１９４号公報に記載されている方法で合成することができる。
　≪フルオレンポリエステル系樹脂≫
　フルオレンポリエステル系樹脂としては、特に制限されず、フルオレン部位を含むポリエステル樹脂であればよく、例えば、特開２０１０－２８５５０５号公報や特開２０１１－１９７４５０号公報に記載されている方法で合成することができる。
　≪フッ素化芳香族ポリマー系樹脂≫
　フッ素化芳香族ポリマー系樹脂としては、特に制限されないが、フッ素原子を少なくとも１つ有する芳香族環と、エーテル結合、ケトン結合、スルホン結合、アミド結合、イミド結合およびエステル結合からなる群より選ばれる少なくとも１つの結合を含む繰り返し単位とを含有するポリマーであることが好ましく、例えば特開２００８－１８１１２１号公報に記載されている方法で合成することができる。
　≪アクリル系紫外線硬化型樹脂≫
　アクリル系紫外線硬化型樹脂としては、特に制限されないが、分子内に一つ以上のアクリル基もしくはメタクリル基を有する化合物と、紫外線によって分解して活性ラジカルを発生させる化合物を含有する樹脂組成物から合成されるものを挙げることができる。アクリル系紫外線硬化型樹脂は、前記基材（ｉ）として、ガラス支持体上やベースとなる樹脂製支持体上に化合物（Ａ）および硬化性樹脂を含む透明樹脂層（光吸収層）が積層された基材や、化合物（Ａ）を含有する透明樹脂製基板上に硬化性樹脂等からなるオーバーコート層などの樹脂層が積層された基材を用いる場合、該硬化性樹脂として特に好適に使用することができる。
　≪ゾルゲル法により形成されたシリカを主成分とする樹脂≫
　ゾルゲル法によるシリカを主成分とする樹脂としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、ジメトキシジエトキシラン、メトキシトリエトキシシランなどのテトラアルコキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシランなどのフェニルアルコキシシラン等から選ばれる１種以上のシラン類の加水分解によるゾルゲル反応により得られる化合物を樹脂として使用することができる。
　≪市販品≫
　透明樹脂の市販品としては、以下の市販品等を挙げることができる。環状ポリオレフィン系樹脂の市販品としては、ＪＳＲ（株）製アートン、日本ゼオン（株）製ゼオノア、三井化学（株）製ＡＰＥＬ、ポリプラスチックス（株）製ＴＯＰＡＳなどを挙げることができる。ポリエーテルサルホン系樹脂の市販品としては、住友化学（株）製スミカエクセルＰＥＳなどを挙げることができる。ポリイミド系樹脂の市販品としては、三菱ガス化学（株）製ネオプリムＬなどを挙げることができる。ポリカーボネート系樹脂の市販品としては、帝人（株）製ピュアエースなどを挙げることができる。フルオレンポリカーボネート系樹脂の市販品としては、三菱ガス化学（株）製ユピゼータＥＰ－５０００などを挙げることができる。フルオレンポリエステル系樹脂の市販品としては、大阪ガスケミカル（株）製ＯＫＰ４ＨＴなどを挙げることができる。アクリル系樹脂の市販品としては、（株）日本触媒製アクリビュアなどを挙げることができる。シルセスキオキサン系紫外線硬化型樹脂の市販品としては、新日鐵化学（株）製シルプラスなどを挙げることができる。
　＜その他成分＞
　前記基材（i）は、本発明の効果を損なわない範囲において、さらに酸化防止剤、近紫外線吸収剤および蛍光消光剤等の添加剤を含有してもよい。これらその他成分は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
　前記近紫外線吸収剤としては、例えばアゾメチン系化合物、インドール系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、トリアジン系化合物などが挙げられる。
　前記酸化防止剤としては、例えば２，６－ジ－ｔ－ブチル－４－メチルフェノール、２，２'－ジオキシ－３，３'－ジ－ｔ－ブチル－５，５'－ジメチルジフェニルメタン、テトラキス［メチレン－３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン、およびトリス（２，４－ジ－ｔ－ブチルフェニル）ホスファイトなどが挙げられる。
　なお、これら添加剤は、前記透明樹脂を製造する際に、樹脂などとともに混合してもよいし、樹脂を合成する際に添加してもよい。また、添加量は、所望の特性に応じて適宜選択されるものであるが、前記透明樹脂１００重量部に対して、通常０．０１～５．０重量部、好ましくは０．０５～２．０重量部である。
　＜支持体＞
　≪樹脂製支持体≫
　前記透明樹脂基板または樹脂製支持体に用いられる樹脂は、前記透明樹脂層と同様のものを用いることができる。
　≪ガラス支持体≫
　前記ガラス支持体としては、特に限定されないが、例えば、ホウケイ酸塩系ガラス、ケイ酸塩系ガラス、ソーダ石灰ガラス、および近赤外線吸収ガラスなどが挙げられる。前記近赤外線吸収ガラスは、近赤外カット特性を向上できる点と入射角依存性を低減できる点で好ましく、その具体例としては、銅成分を含有するフッ素リン酸塩系ガラスおよびリン酸塩系ガラスなどが挙げられる。
　＜基材（ｉ）の製造方法＞
　前記基材（ｉ）が、前記化合物（Ａ）等を含有する透明樹脂製基板を含む基材である場合、該透明樹脂製基板は、例えば、溶融成形またはキャスト成形により形成することができ、さらに、必要により、成形後に、反射防止剤、ハードコート剤および／または帯電防止剤等のコーティング剤をコーティングすることで、オーバーコート層が積層された基材を製造することができる。
　前記基材（ｉ）が、ガラス支持体やベースとなる樹脂製支持体上に化合物（Ａ）等を含有する硬化性樹脂または熱可塑性樹脂等からなるオーバーコート層などの透明樹脂層が積層された基材である場合、例えば、ガラス支持体やベースとなる樹脂製支持体に化合物（Ａ）等を含む樹脂溶液を溶融成形またはキャスト成形することで、好ましくはスピンコート、スリットコート、インクジェットなどの方法にて塗工した後に溶媒を乾燥除去し、必要に応じてさらに光照射や加熱を行うことで、ガラス支持体やベースとなる樹脂製支持体上に透明樹脂層が形成された基材を製造することができる。
　≪溶融成形≫
　前記溶融成形としては、具体的には、樹脂と化合物（Ａ）等とを溶融混練りして得られたペレットを溶融成形する方法；樹脂と化合物（Ａ）等とを含有する樹脂組成物を溶融成形する方法；または、化合物（Ａ）等、樹脂および溶剤を含む樹脂組成物から溶剤を除去して得られたペレットを溶融成形する方法などが挙げられる。溶融成形方法としては、射出成形、溶融押出成形またはブロー成形などを挙げることができる。
　≪キャスト成形≫
　前記キャスト成形としては、化合物（Ａ）等、樹脂および溶剤を含む樹脂組成物を適当な支持体の上にキャスティングして溶剤を除去する方法；または化合物（Ａ）等と、光硬化性樹脂および／または熱硬化性樹脂とを含む硬化性組成物を適当な支持体の上にキャスティングして溶媒を除去した後、紫外線照射や加熱などの適切な手法により硬化させる方法などにより製造することもできる。
　前記基材（ｉ）が、化合物（Ａ）等を含有する透明樹脂製基板からなる基材である場合には、該基材（ｉ）は、キャスト成形後、支持体から塗膜を剥離することにより得ることができ、また、前記基材（ｉ）が、ガラス支持体やベースとなる樹脂製支持体等の支持体などの上に化合物（Ａ）等を含有する硬化性樹脂等からなるオーバーコート層などの透明樹脂層が積層された基材である場合には、該基材（ｉ）は、キャスト成形後、塗膜を剥離しないことで得ることができる。
　前記支持体としては、例えば、ガラス板、スチールベルト、スチールドラムおよび透明樹脂（例えば、ポリエステルフィルム、環状オレフィン系樹脂フィルム）製支持体が挙げられる。
　さらに、ガラス板、石英または透明プラスチック製等の光学部品に、前記樹脂組成物をコーティングして溶剤を乾燥させる方法、または、前記硬化性組成物をコーティングして硬化および乾燥させる方法などにより、光学部品上に透明樹脂層を形成することもできる。
　前記方法で得られた透明樹脂層（透明樹脂製基板）中の残留溶剤量は可能な限り少ない方がよい。具体的には、前記残留溶剤量は、透明樹脂層（透明樹脂製基板）の重さに対して、好ましくは３重量％以下、より好ましくは１重量％以下、さらに好ましくは０．５重量％以下である。残留溶剤量が前記範囲にあると、変形や特性が変化しにくい、所望の機能を容易に発揮できる透明樹脂層（透明樹脂製基板）が得られる。
　＜誘電体多層膜＞
　本発明の光学フィルターは、上述したように、反り低減の観点から誘電体多層膜を有さないことが好ましいが、本発明の効果を損なわない範囲で、前記基材（ｉ）の少なくとも一方の面に誘電体多層膜を有してもよい。本発明における誘電体多層膜とは、近赤外線を反射する能力を有する膜または可視域における反射防止効果を有する膜である。本発明において、前記基材（ｉ）の両面に１～９層程度の可視域の反射防止効果を有する膜（反射防止膜）を有する構成は、光学フィルターの高可視光透過率が求められる場合には、反りを大きく悪化させることなく、可視光透過率を向上させることができるという観点で好ましい。
　誘電体多層膜としては、高屈折率材料層と低屈折率材料層とを交互に積層したものが挙げられる。高屈折率材料層を構成する材料としては、屈折率が１．７以上の材料を用いることができ、屈折率が通常は１．７～２．５の材料が選択される。このような材料としては、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、五酸化タンタル、五酸化ニオブ、酸化ランタン、酸化イットリウム、酸化亜鉛、硫化亜鉛または酸化インジウム等を主成分とし、酸化チタン、酸化錫および／または酸化セリウム等を少量（例えば、主成分に対して０～１０重量％）含有させたものが挙げられる。
　低屈折率材料層を構成する材料としては、屈折率が１．６以下の材料を用いることができ、屈折率が通常は１．２～１．６の材料が選択される。このような材料としては、例えば、シリカ、アルミナ、フッ化ランタン、フッ化マグネシウムおよび六フッ化アルミニウムナトリウムが挙げられる。
　高屈折率材料層と低屈折率材料層とを積層する方法については、これらの材料層を積層した誘電体多層膜が形成される限り特に制限はない。例えば、基材（ｉ）上に、直接、ＣＶＤ法、スパッタ法、真空蒸着法、イオンアシスト蒸着法またはイオンプレーティング法等により、高屈折率材料層と低屈折率材料層とを交互に積層した誘電体多層膜を形成することができる。
　高屈折率材料層および低屈折率材料層の各層の厚さは、通常、遮断しようとする近赤外線波長をλ（ｎｍ）とすると、０．１λ～０．５λの厚さが好ましい。λ（ｎｍ）の値としては、例えば７００～１４００ｎｍ、好ましくは７５０～１３００ｎｍである。厚さがこの範囲であると、屈折率（ｎ）と膜厚（ｄ）との積（ｎ×ｄ）がλ／４で算出される光学的膜厚と、高屈折率材料層および低屈折率材料層の各層の厚さとがほぼ同じ値となって、反射・屈折の光学的特性の関係から、特定波長の遮断・透過を容易にコントロールできる傾向にある。
　誘電体多層膜における高屈折率材料層と低屈折率材料層との合計の積層数は、光学フィルター全体として１～２０層であることが好ましく、２～１２層であることがより好ましい。
　本発明では、化合物（Ａ）や化合物（Ｂ）の吸収特性に合わせて高屈折率材料層および低屈折率材料層を構成する材料種、高屈折率材料層および低屈折率材料層の各層の厚さ、積層の順番、積層数を適切に選択することで、可視域に十分な透過率を確保した上で近赤外波長域に十分な光線カット特性を有し、且つ、斜め方向から近赤外線が入射した際の反射率を低減することができる。
　ここで、前記条件を最適化するには、例えば、光学薄膜設計ソフト（例えば、Ｅｓｓｅｎｔｉａｌ　Ｍａｃｌｅｏｄ、Ｔｈｉｎ　Ｆｉｌｍ　Ｃｅｎｔｅｒ社製）を用い、可視域の反射防止効果と近赤外域の光線カット効果を両立できるようにパラメーターを設定すればよい。上記ソフトの場合、例えば第一光学層の設計にあたっては、波長４００～７００ｎｍの目標透過率を１００％、Ｔａｒｇｅｔ　Ｔｏｌｅｒａｎｃｅの値を１とした上で、波長７０５～９５０ｎｍの目標透過率を０％、Ｔａｒｇｅｔ　Ｔｏｌｅｒａｎｃｅの値を０．５にするなどのパラメーター設定方法が挙げられる。これらのパラメーターは基材（ｉ）の各種特性などに合わせて波長範囲をさらに細かく区切ってＴａｒｇｅｔ　Ｔｏｌｅｒａｎｃｅの値を変えることもできる。
　＜その他の機能膜＞
　本発明の光学フィルターは、本発明の効果を損なわない範囲において、基材（ｉ）と誘電体多層膜との間、基材（ｉ）の誘電体多層膜が設けられた面と反対側の面、または誘電体多層膜の基材（ｉ）が設けられた面と反対側の面に、基材（ｉ）や誘電体多層膜の表面硬度の向上、耐薬品性の向上、帯電防止および傷消しなどの目的で、反射防止膜、ハードコート膜や帯電防止膜などの機能膜を適宜設けることができる。
　本発明の光学フィルターは、前記機能膜からなる層を１層含んでもよく、２層以上含んでもよい。本発明の光学フィルターが前記機能膜からなる層を２層以上含む場合には、同様の層を２層以上含んでもよいし、異なる層を２層以上含んでもよい。
　機能膜を積層する方法としては、特に制限されないが、反射防止剤、ハードコート剤および／または帯電防止剤等のコーティング剤などを基材（ｉ）または誘電体多層膜に、前記と同様に溶融成形またはキャスト成形する方法等を挙げることができる。
　また、前記コーティング剤などを含む硬化性組成物をバーコーター等で基材（ｉ）または誘電体多層膜上に塗布した後、紫外線照射等により硬化することによっても製造することができる。
　前記コーティング剤としては、紫外線（ＵＶ）／電子線（ＥＢ）硬化型樹脂や熱硬化型樹脂などが挙げられ、具体的には、ビニル化合物類や、ウレタン系、ウレタンアクリレート系、アクリレート系、エポキシ系およびエポキシアクリレート系樹脂などが挙げられる。これらのコーティング剤を含む前記硬化性組成物としては、ビニル系、ウレタン系、ウレタンアクリレート系、アクリレート系、エポキシ系およびエポキシアクリレート系硬化性組成物などが挙げられる。
　また、前記硬化性組成物は重合開始剤を含んでいてもよい。前記重合開始剤としては、公知の光重合開始剤または熱重合開始剤を用いることができ、光重合開始剤と熱重合開始剤を併用してもよい。重合開始剤は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
　前記硬化性組成物中、重合開始剤の配合割合は、硬化性組成物の全量を１００重量％とした場合、好ましくは０．１～１０重量％、より好ましくは０．５～１０重量％、さらに好ましくは１～５重量％である。重合開始剤の配合割合が前記範囲にあると、硬化性組成物の硬化特性および取り扱い性が優れ、所望の硬度を有する反射防止膜、ハードコート膜や帯電防止膜などの機能膜を得ることができる。
　さらに、前記硬化性組成物には溶剤として有機溶剤を加えてもよく、有機溶剤としては、公知のものを使用することができる。有機溶剤の具体例としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、オクタノール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、γ－ブチロラクトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエステル類；エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン等のアミド類を挙げることができる。
　これら溶剤は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
　前記機能膜の厚さは、好ましくは０．１～３０μｍ、さらに好ましくは０．５～２０μｍ、特に好ましくは０．７～５μｍである。
　また、基材（ｉ）と機能膜および／または誘電体多層膜との密着性や、機能膜と誘電体多層膜との密着性を上げる目的で、基材（ｉ）、機能膜または誘電体多層膜の表面にコロナ処理やプラズマ処理等の表面処理をしてもよい。
　［光学フィルターの用途］
　本発明の光学フィルターは、入射角度が大きい場合においても優れた可視透過率と近赤外線カット能を有する。したがって、照度センサーや色補正用センサーなどの各種環境光センサー用として有用である。特に、デジタルスチルカメラ、スマートフォン、タブレット端末、携帯電話、ウェアラブルデバイス、自動車、テレビ、ゲーム機等に搭載される環境光センサー用として有用である。さらに、自動車や建物等の窓用ガラス板等に装着される熱線カットフィルターなどとしても有用である。
　［環境光センサー］
　上述した本発明の光学フィルターと、光電変換素子を組み合わせて環境光センサーとして用いることができる。ここで、環境光センサーとは、照度センサーや色補正用センサーなど周囲の明るさや色調（夕方の時間帯で赤色が強いなど）を感知可能なセンサーであり、例えば、環境光センサーで感知した情報により機器に搭載されているディスプレイの照度や色合いを制御することが可能である。
　図１は、周囲の明るさを検知する環境光センサー２００ａの一例を示す。環境光センサー２００ａは、光学フィルター１００及び光電変換素子２０２を備える。光電変換素子２０２は、受光部に光が入射すると光起電力効果により電流や電圧を発生する。光学フィルター１００は光電変換素子２０２の受光面側に設けられている。光学フィルター１００により、光電変換素子２０２の受光面に入射する光は可視光帯域の光となり、近赤外線帯域（８００ｎｍ～２５００ｎｍ）の光は遮断される。環境光センサー２００ａは可視光に感応して信号を出力する。
　なお、環境光センサー２００ａにおいて、光学フィルター１００と光電変換素子２０２との間には他の透光性の層が介在していてもよい。例えば、光学フィルター１００と光電変換素子２０２との間には、封止材として透光性を有する樹脂層が設けられていてもよい。
　光電変換素子２０２は、第１電極２０６、光電変換層２０８、第２電極２１０を有している。また、受光面側にはパッシベーション膜２１６が設けられている。光電変換層２０８は光電効果を発現する半導体で形成される。例えば、光電変換層２０８は、シリコン半導体を用いて形成される。光電変換層２０８はダイオード型の素子であり、内蔵電界により光起電力を発現する。なお、光電変換素子２０２は、ダイオード型の素子に限定されず、光導電型の素子（フォトレジスタ、光依存性抵抗、光導電体、フォトセルとも呼ばれる）、またはフォトトランジスタ型の素子であってもよい。
　光電変換層２０８はシリコン半導体以外に、ゲルマニウム半導体、シリコン・ゲルマニウム半導体を用いてもよい。また、光電変換層２０８として、ＧａＰ、ＧａＡｓＰ、ＣｄＳ、ＣｄＴｅ、ＣｕＩｎＳｅ2などの化合物半導体材料を用いてもよい。半導体材料によって形成される光電変換素子２０２は、可視光線帯域から近赤外線帯域の光に対して感度を有する。例えば、光電変換層２０８がシリコン半導体で形成される場合、シリコン半導体のバンドギャップエネルギーは１．１２ｅＶであるので、原理的には近赤外光である波長７００～１１００ｎｍの光を吸収し得る。しかし、光学フィルター１００を備えることで環境光センサー２００ａは近赤外光には感応せず、可視光域の光に対して感度を有する。なお、光電変換素子２０２は、光学フィルター１００を透過した光が選択的に照射されるように、遮光性の筐体２０４で囲まれていることが好ましい。環境光センサー２００ａは、光学フィルター１００を備えることで、近赤外光を遮断して、周囲光を検知することができる。それにより環境光センサー２００ａが、近赤外光に感応して誤動作するといった不具合を解消することができる。
　図２は、周囲の明るさに加え色調を検知する環境光センサー２００ｂの一例を示す。環境光センサー２００ｂは、光学フィルター１００、光電変換素子２０２ａ～２０２ｃ、カラーフィルタ２１２ａ～２１２ｃを含んで構成されている。光電変換素子２０２ａの受光面上には赤色光帯域の光を透過するカラーフィルタ２１２ａが設けられ、光電変換素子２０２ｂの受光面上には緑色光帯域の光を透過するカラーフィルタ２１２ｂが設けられ、光電変換素子２０２ｃの受光面上には青色光帯域の光を透過するカラーフィルタ２１２ｃが設けられている。光電変換素子２０２ａ～２０２ｃは、素子分離絶縁層２１４で絶縁されていることを除き、図１で示すものと同様の構成を備えている。この構成により、光電変換素子２０２ａ～２０２ｃは独立して照度を検知することが可能となっている。なお、カラーフィルタ２１２ａ～２１２ｃと光電変換素子２０２ａ～２０２ｃとの間にはパッシベーション膜２１６が設けられていてもよい。
　光電変換素子２０２ａ～２０２ｃは、可視光線波長領域から近赤外線波長領域の広い範囲にわたって感度を有する。そのため、光学フィルター１００に加え、光電変換素子２０２ａ～２０２ｃに対応してカラーフィルタ２１２ａ～２１２ｃを設けることで、環境光センサー２００ｂは、近赤外光を遮断して、センサーの誤動作を防止しつつ、各色に対応した光を検知することができる。環境光センサー２００ｂは、近赤外域の光を遮断する光学フィルター１００とカラーフィルタ２１２ａ～２１２ｃとを備えることにより、周囲光を複数の波長帯域の光に分光して検知するこができるだけでなく、従来のカラーセンサーでは近赤外線の影響を受けて正確に検知ができなくなっていた暗い環境下でも適用可能となる。
　［電子機器］
　本発明の電子機器は上述した本発明の環境光センサーを含む。以下、図面を参照しながら、本発明の電子機器について説明する。
　図３（Ａ）～（Ｃ）は、本発明の一実施形態に係る環境光センサー２００を有する電子機器３００の一例を示す。なお、図３（Ａ）は正面図、図３（Ｂ）は上面図、図３（Ｃ）は、図３（Ｂ）において点線で囲む領域Ｄの構成例示する詳細図を示す。電子機器３００は、筐体３０２、表示パネル３０４、マイクロホン部３０６、スピーカ部３０８、環境光センサー２００を含む。表示パネル３０４はタッチパネルが採用され、表示機能に加え入力機能を兼ね備えている。
　環境光センサー２００は、筐体３０２に設けられる表面パネル３１０背面に設けられている。すなわち、環境光センサー２００は電子機器３００の外観に表れず、透光性の表面パネル３１０を通して光が入射する。表面パネル３１０は、光学フィルター１００により近赤外線域の光を遮断され、可視光域の光が光電変換素子２０２へ入射する。電子機器３００は環境光センサー２００により、表示パネル３０４の照度や色合いを制御することができる。
　本実施形態によれば、環境光センサー２００において、光学フィルター１００が光電変換素子２０２の受光面に近接して設けられていることにより、広角で入射する光に対しても正確に照度を測定することができる。
　以下、実施例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に何ら限定されるものではない。なお、「部」は、特に断りのない限り「重量部」を意味する。また、各物性値の測定方法および物性の評価方法は以下のとおりである。
　＜分子量＞
　樹脂の分子量は、各樹脂の溶剤への溶解性等を考慮し、下記の（ａ）または（ｂ）の方法にて測定を行った。
　（ａ）ウオターズ（ＷＡＴＥＲＳ）社製のゲルパーミエ－ションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）装置（１５０Ｃ型、カラム：東ソー社製Ｈタイプカラム、展開溶剤：ｏ－ジクロロベンゼン）を用い、標準ポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）および数平均分子量（Ｍｎ）を測定した。
　（ｂ）東ソー社製ＧＰＣ装置（ＨＬＣ－８２２０型、カラム：ＴＳＫｇｅｌα‐Ｍ、展開溶剤：ＴＨＦ）を用い、標準ポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）および数平均分子量（Ｍｎ）を測定した。
　＜ガラス転移温度（Ｔｇ）＞
　エスアイアイ・ナノテクノロジーズ株式会社製の示差走査熱量計（ＤＳＣ６２００）を用いて、昇温速度：毎分２０℃、窒素気流下で測定した。
　＜分光透過率＞
　光学フィルターの各波長域における透過率は、株式会社日立ハイテクノロジーズ製の分光光度計（Ｕ－４１００）を用いて測定した。
　ここで、光学フィルターの垂直方向から測定した場合の透過率では、図４（Ａ）のように光学フィルター２に対して垂直に透過した光１を分光光度計３で測定し、光学フィルターの垂直方向に対して３０度の角度から測定した場合の透過率では、図４（Ｂ）のように光学フィルター２の垂直方向に対して３０度の角度で透過した光１'を分光光度計３で測定し、光学フィルターの垂直方向に対して６０度の角度から測定した場合の透過率では、図４（Ｃ）のように光学フィルター２の垂直方向に対して６０度の角度で透過した光１''を分光光度計３で測定した。
　＜分光反射率＞
　光学フィルターの各波長域における反射率は、株式会社日立ハイテクノロジーズ製の分光光度計（Ｕ－４１００）を用いて測定した。
　ここで、光学フィルターの垂直方向に対して５度の角度から測定した場合の反射率では、図５のように光学フィルター２の垂直方向に対して５度の角度で反射した光１１を分光光度計３で測定した。
　＜光学濃度（ＯＤ値）＞
　光学フィルターの光学濃度（ＯＤ値）は、日本分光株式会社　紫外可視赤外分光光度計Ｖ－７３００を用いて測定した透過率の値から計算により求めた。
　＜反り評価＞
　縦２００ｍｍ×横２００ｍｍの光学フィルターを平らなガラス板上に静置し、光学フィルターの角がガラス板上から反りあがった垂直高さを反りとして、定規を用いて測定した。光学フィルターの四隅について、反りを測定し、四隅の反りの平均値を反り量とした。反り量が１０ｍｍ以下の場合、反り特性「○」と評価し、１０ｍｍ以上の場合、反り特性「×」と評価した。
　＜環境光センサー性能（色補正性能）評価＞
　Ａｐｐｌｅ社製「ｉＰａｄ（登録商標）　Ｐｒｏ　９．７インチ」の環境光センサーモジュールの近赤外線カットフィルターを取り出し、代わりに、後述の実施例および比較例で作製した光学フィルターを環境光センサーモジュールに組み込み、日中の外光、夕方の外光、明るい室内、および暗い室内で画面の色調変化を観察し、外光環境（明るさ、色調）に応じた色合いの制御具合によって環境光センサー性能を評価した。外光環境に応じて適切に色合い制御ができる場合を「○」、一部色合い制御に問題がある場合を「△」、色合い制御が不良である場合を「×」とした。
　下記実施例で用いた近赤外線吸収色素は、一般的に知られている方法で合成した。一般的合成方法としては、例えば、特許第３３６６６９７号公報、特許第２８４６０９１号公報、特許第２８６４４７５号公報、特許第３７０３８６９号公報、特開昭６０－２２８４４８号公報、特開平１－１４６８４６号公報、特開平１－２２８９６０号公報、特許第４０８１１４９号公報、特開昭６３－１２４０５４号公報、「フタロシアニン－化学と機能―」（アイピーシー、１９９７年）、特開２００７－１６９３１５号公報、特開２００９－１０８２６７号公報、特開２０１０－２４１８７３号公報、特許第３６９９４６４号公報、特許第４７４０６３１号公報等などに記載されている方法を挙げることができる。
　＜樹脂合成例１＞
　３Ｌの４つ口フラスコに２，６－ジフルオロベンゾニトリル３５．１２ｇ（０．２５３ｍｏｌ）、９，９－ビス（４－ヒドロキシフェニル）フルオレン８７．６０ｇ（０．２５０ｍｏｌ）、炭酸カリウム４１．４６ｇ（０．３００ｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（以下「ＤＭＡｃ」ともいう。）４４３ｇおよびトルエン１１１ｇを添加した。続いて、４つ口フラスコに温度計、撹拌機、窒素導入管付き三方コック、ディーンスターク管および冷却管を取り付けた。次いで、フラスコ内を窒素置換した後、得られた溶液を１４０℃で３時間反応させ、生成する水をディーンスターク管から随時取り除いた。水の生成が認められなくなったところで、徐々に温度を１６０℃まで上昇させ、そのままの温度で６時間反応させた。室温（２５℃）まで冷却後、生成した塩をろ紙で除去し、ろ液をメタノールに投じて再沈殿させ、ろ別によりろ物（残渣）を単離した。得られたろ物を６０℃で一晩真空乾燥し、白色粉末（以下「樹脂Ａ」ともいう。）を得た（収率９５％）。得られた樹脂Ａは、数平均分子量（Ｍｎ）が７５，０００、重量平均分子量（Ｍｗ）が１８８，０００であり、ガラス転移温度（Ｔｇ）が２８５℃であった。
　＜樹脂合成例２＞
　下記式（８）で表される８－メチル－８－メトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］ドデカ－３－エン（以下「ＤＮＭ」ともいう。）１００部、１－ヘキセン（分子量調節剤）１８部およびトルエン（開環重合反応用溶媒）３００部を、窒素置換した反応容器に仕込み、この溶液を８０℃に加熱した。次いで、反応容器内の溶液に、重合触媒として、トリエチルアルミニウムのトルエン溶液（０．６ｍｏｌ／リットル）０．２部と、メタノール変性の六塩化タングステンのトルエン溶液（濃度０．０２５ｍｏｌ／リットル）０．９部とを添加し、この溶液を８０℃で３時間加熱攪拌することにより開環重合反応させて開環重合体溶液を得た。この重合反応における重合転化率は９７％であった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
　このようにして得られた開環重合体溶液１，０００部をオートクレーブに仕込み、この開環重合体溶液に、ＲｕＨＣｌ（ＣＯ）［Ｐ（Ｃ6Ｈ5）3］3を０．１２部添加し、水素ガス圧１００ｋｇ／ｃｍ2、反応温度１６５℃の条件下で、３時間加熱撹拌して水素添加反応を行った。得られた反応溶液（水素添加重合体溶液）を冷却した後、水素ガスを放圧した。この反応溶液を大量のメタノール中に注いで凝固物を分離回収し、これを乾燥して、水素添加重合体（以下「樹脂Ｂ」ともいう。）を得た。得られた樹脂Ｂは、数平均分子量（Ｍｎ）が３２，０００、重量平均分子量（Ｍｗ）が１３７，０００であり、ガラス転移温度（Ｔｇ）が１６５℃であった。
　［実施例１］
　実施例１では、両面に樹脂層を有する透明樹脂製基板からなる基材を有する光学フィルターを以下の手順および条件で作製した。
　＜透明樹脂製基板の作製＞
　容器に、樹脂合成例１で得られた樹脂Ａ １００重量部、化合物（Ａ）として
下記式（ａ－１）で表わされる化合物（ａ－１）（ジクロロメタン中での吸収極大波長７１３ｎｍ）０．０４部、
下記式（ａ－２）で表わされる化合物（ａ－２）（ジクロロメタン中での吸収極大波長７３６ｎｍ）０．０８部、および
下記式（ａ－３）で表わされる化合物（ａ－３）（ジクロロメタン中での吸収極大波長７７６ｎｍ）０．１０部、
化合物（Ｂ）として、日本カーリット社製の光吸収剤「ＣＩＲ－ＲＬ」（吸収極大波長；１０９５ｎｍ、以下「化合物（ｂ－１）」ともいう。）１．５０部、
ならびにＮ，Ｎ－ジメチルアセトアミドを加えて樹脂濃度が２０重量％の溶液を調製した。得られた溶液を平滑なガラス板上にキャストし、６０℃で８時間乾燥した後、６０℃で８時間乾燥、さらに減圧下１４０℃で８時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離した塗膜をさらに減圧下１００℃で８時間乾燥して、厚さ０．１００ｍｍ、縦２００ｍｍ、横２００ｍｍの透明樹脂製基板を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
　＜基材の作製＞
　得られた透明樹脂製基板の片面に、下記組成の樹脂組成物（１）をバーコーターで塗布し、オーブン中７０℃で２分間加熱し、溶剤を揮発除去した。この際、乾燥後の厚みが２μｍとなるように、バーコーターの塗布条件を調整した。次に、コンベア式露光機を用いて露光（露光量５００ｍＪ／ｃｍ2，２００ｍＷ）を行い、樹脂組成物（１）を硬化させ、透明樹脂製基板上に樹脂層を形成した。同様に、透明樹脂製基板のもう一方の面にも樹脂組成物（１）からなる樹脂層を形成し、化合物（Ａ）を含む透明樹脂製基板の両面に樹脂層を有する基材を得た。
　樹脂組成物（１）：トリシクロデカンジメタノールアクリレート６０重量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート４０重量部、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン５重量部、近赤外線吸収微粒子分散液（住友金属鉱山（株）製ＹＭＦ－０２Ａ、吸収極大波長；１７１５ｎｍ、第２の微粒子の市販分散液）１１７重量部（固形分換算で約３３重量部）、メチルエチルケトン（溶剤、固形分濃度（ＴＳＣ）：３０％）
　得られた基材を光学フィルターとして、光学フィルターの垂直方向および垂直方向に対して３０°および６０°の角度から分光透過率と、光学フィルターの垂直方向に対して５°の角度からの分光反射率と、もう一方の面における垂直方向に対して５°の角度からの分光反射率を測定し、各波長領域における光学特性およびＲ透過率の比の変化率、Ｇ透過率の比の変化率、Ｂ透過率の比の変化率を評価した。また、得られた光学フィルターの反り特性および環境光センサー性能（色補正性能）を評価した。結果を図６および表１３に示す。
　［実施例２］
　実施例２では、透明ガラス基板を含む基材を有する光学フィルターを以下の手順および条件で作製した。
　＜樹脂溶液（Ｄ－１）の調製＞
　容器に、樹脂合成例２で得られた樹脂Ｂ １００重量部、化合物（Ａ）として、
化合物（ａ－１）２．００部、
化合物（ａ－２）４．００部、および
化合物（ａ－３）５．００部、
化合物（Ｂ）として、化合物（ｂ－１）１５．００部、
ならびにジクロロメタンを加えて樹脂濃度が１０重量％の溶液を調製した。その後、孔径５μｍのミリポアフィルタでろ過して樹脂溶液（Ｄ－１）を得た。
　＜基材の作製＞
　続いて、縦２００ｍｍ、横２００ｍｍの大きさにカットした、松波硝子工業（株）製近赤外線吸収ガラス基板「ＢＳ－１１」（厚み１２０μｍ）の片面に、前記樹脂組成物（１）をバーコーターで塗布し、オーブン中７０℃で２分間加熱し、溶剤を揮発除去した。この際、乾燥後の厚みが４μｍとなるように、バーコーターの塗布条件を調整した。次に、コンベア式露光機を用いて露光（露光量５００ｍＪ／ｃｍ2，２００ｍＷ）を行い、樹脂組成物（１）を硬化させ、ガラス基板上に樹脂層を形成した。
　次に、該樹脂層上に、スピンコーターを用いて樹脂溶液（Ｄ－１）を乾燥後の厚みが２μｍとなるような条件で塗布し、ホットプレート上８０℃で５分間加熱し、溶剤を揮発除去して透明樹脂層を形成し、その後オーブン中２３０℃ で２０分間焼成して縦２００ｍｍ、横２００ｍｍの基材を得た。
　得られた基材を光学フィルターとして、光学フィルターの垂直方向および垂直方向に対して３０°および６０°の角度からの分光透過率と、光学フィルターの垂直方向に対して５°の角度からの分光反射率と、もう一方の面における垂直方向に対して５°の角度からの分光反射率を測定し、各波長領域における光学特性およびＲ透過率の比の変化率、Ｇ透過率の比の変化率、Ｂ透過率の比の変化率を評価した。また、得られた光学フィルターの反り特性および環境光センサー性能（色補正性能）を評価した。結果を図７および表１３に示す。
　［実施例３］
　実施例３では、両面に樹脂層を有する透明樹脂製基板からなる基材を有する光学フィルターを以下の手順および条件で作製した。
　＜透明樹脂製基板の作製＞
　容器に、樹脂合成例２で得られた樹脂Ｂ １００重量部、化合物（Ａ）として、化合物（ａ－３）０．０４部、化合物（Ｂ）として、化合物（ｂ－１）０．１５部、およびジクロロメタンを加えて樹脂濃度が２０重量％の溶液を調製した。得られた溶液を平滑なガラス板上にキャストし、６０℃で８時間乾燥した後、６０℃で８時間乾燥、さらに減圧下１４０℃で８時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離した塗膜をさらに減圧下１００℃で８時間乾燥して、厚さ０．１００ｍｍ、縦２００ｍｍ、横２００ｍｍの透明樹脂製基板を得た。
　＜基材の作製＞
　得られた透明樹脂製基板の片面に、前記樹脂組成物（１）をバーコーターで塗布し、オーブン中７０℃で２分間加熱し、溶剤を揮発除去した。この際、乾燥後の厚みが４μｍとなるように、バーコーターの塗布条件を調整した。次に、コンベア式露光機を用いて露光（露光量５００ｍＪ／ｃｍ2，２００ｍＷ）を行い、樹脂組成物（１）を硬化させ、透明樹脂製基板上に樹脂層を形成した。同様に、透明樹脂製基板のもう一方の面にも樹脂組成物（１）からなる樹脂層を形成し、化合物（Ａ）を含む透明樹脂製基板の両面に樹脂層を有する基材を得た。
　得られた基材を光学フィルターとして、光学フィルターの垂直方向および垂直方向に対して３０°および６０°の角度からの分光透過率と、光学フィルターの垂直方向に対して５°の角度からの分光反射率と、もう一方の面における垂直方向に対して５°の角度からの分光反射率を測定し、各波長領域における光学特性およびＲ透過率の比の変化率、Ｇ透過率の比の変化率、Ｂ透過率の比の変化率を評価した。また、得られた光学フィルターの反り特性および環境光センサー性能（色補正性能）を評価した。結果を図８および表１３に示す。
　［実施例４］
　実施例４では、ガラス基板を含む基材を有する光学フィルターを以下の手順および条件で作製した。
　＜樹脂溶液（Ｄ－２）の調製＞
　容器に、樹脂合成例１で得られた樹脂Ａ １００重量部、化合物（Ａ）として、化合物（ａ－３）１０．００部、化合物（Ｂ）として、化合物（ｂ－１）２２．５０部、およびジクロロメタンを加えて樹脂濃度が１０重量％の溶液を調製した。その後、孔径５μｍのミリポアフィルタでろ過して樹脂溶液（Ｄ－２）を得た。
　＜樹脂組成物（２）の調製＞
　イソシアヌル酸エチレンオキサイド変性トリアクリレート（商品名：アロニックスＭ－３１５、東亜合成化学（株）製）３０重量部、１，９－ノナンジオールジアクリレート２０重量部、メタクリル酸２０重量部、メタクリル酸グリシジル３０重量部、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン５重量部、１－ヒドロキシシクロヘキシルベンゾフェノン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４、チバ・スペシャリティ・ケミカル（株）製）５重量部およびサンエイドＳＩ－１１０主剤（三新化学工業（株）製）１重量部を混合し、固形分濃度が５０ｗｔ％になるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに溶解した後、孔径０．２μｍのミリポアフィルタでろ過し、樹脂組成物（２）を調製した。
　＜基材の作製＞
　続いて、縦２００ｍｍ、横２００ｍｍの大きさにカットした、松波硝子工業（株）製近赤外線吸収ガラス基板「ＢＳ－１１」（厚み１２０μｍ）の片面に樹脂組成物（２）をスピンコートで塗布した後、ホットプレート上８０℃で２分間加熱し溶剤を揮発除去し、後述する透明樹脂層との接着層として機能する樹脂層を形成した。この際、該樹脂層の膜厚が０．８μｍ程度となるようにスピンコーターの塗布条件を調整した。次に、樹脂層上に、スピンコーターを用いて樹脂溶液（Ｄ－２）を乾燥後の膜厚が２μｍ となるような条件で塗布し、ホットプレート上８０℃で５分間加熱し、溶剤を揮発除去して透明樹脂層を形成した。次いで、ガラス面側からコンベア式露光機を用いて露光（露光量１Ｊ/ｃｍ2、照度２００ｍＷ）し、その後オーブン中２３０℃で２０分間焼成して縦２００ｍｍ、横２００ｍｍの基材を得た。
　得られた基材を光学フィルターとして、光学フィルターの垂直方向および垂直方向に対して３０°および６０°の角度からの分光透過率と、光学フィルターの垂直方向に対して５°の角度からの分光反射率と、もう一方の面における垂直方向に対して５°の角度からの分光反射率を測定し、各波長領域における光学特性およびＲ透過率の比の変化率、Ｇ透過率の比の変化率、Ｂ透過率の比の変化率を評価した。また、得られた光学フィルターの反り特性および環境光センサー性能（色補正性能）を評価した。結果を図９および表１３に示す。
　［実施例５］
　実施例５では、両面に樹脂層を有する透明樹脂製基板からなる基材を有する光学フィルターを以下の手順および条件で作製した。
　＜透明樹脂製基板の作製＞
　容器に、樹脂合成例２で得られた樹脂Ｂ １００重量部、化合物（Ａ）として、化合物（ａ－３）０．１０部、化合物（Ｂ）として、化合物（ｂ－１）１．５０部、およびジクロロメタンを加えて樹脂濃度が２０重量％の溶液を調製した。得られた溶液を平滑なガラス板上にキャストし、６０℃で８時間乾燥した後、６０℃で８時間乾燥、さらに減圧下１４０℃で８時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離した塗膜をさらに減圧下１００℃で８時間乾燥して、厚さ０．１００ｍｍ、縦２００ｍｍ、横２００ｍｍの透明樹脂製基板を得た。
　＜基材の作製＞
　得られた透明樹脂製基板の片面に、下記組成の樹脂組成物（３）をバーコーターで塗布し、オーブン中７０℃で２分間加熱し、溶剤を揮発除去した。この際、乾燥後の厚みが２μｍとなるように、バーコーターの塗布条件を調整した。次に、コンベア式露光機を用いて露光（露光量５００ｍＪ／ｃｍ2，２００ｍＷ）を行い、樹脂組成物（３）を硬化させ、透明樹脂製基板上に樹脂層を形成した。同様に、透明樹脂製基板のもう一方の面にも樹脂組成物（３）からなる樹脂層を形成し、化合物（Ａ）を含む透明樹脂製基板の両面に樹脂層を有する基材を得た。
　樹脂組成物（３）：トリシクロデカンジメタノールジアクリレート　６０重量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート　４０重量部、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン　５重量部、メチルエチルケトン（溶剤、固形分濃度（ＴＳＣ）：３０％）
　得られた基材を光学フィルターとして、光学フィルターの垂直方向および垂直方向に対して３０°および６０°の角度からの分光透過率と、光学フィルターの垂直方向に対して５°の角度からの分光反射率と、もう一方の面における垂直方向に対して５°の角度からの分光反射率を測定し、各波長領域における光学特性およびＲ透過率の比の変化率、Ｇ透過率の比の変化率、Ｂ透過率の比の変化率を評価した。また、得られた光学フィルターの反り特性および環境光センサー性能（色補正性能）を評価した。結果を図１０および表１３に示す。
　［実施例６］
　実施例６では、両面に樹脂層を有する透明樹脂製基板からなる基材を有する光学フィルターを以下の手順および条件で作製した。
　＜透明樹脂製基板の作製＞
　容器に、樹脂合成例１で得られた樹脂Ａ １００重量部、化合物（Ａ）として、化合物（ａ－１）０．０２部および化合物（ａ－２）０．０４部、ならびにＮ，Ｎ－ジメチルアセトアミドを加えて樹脂濃度が２０重量％の溶液を調製した。得られた溶液を平滑なガラス板上にキャストし、６０℃で８時間乾燥した後、６０℃で８時間乾燥、さらに減圧下１４０℃で８時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離した塗膜をさらに減圧下１００℃で８時間乾燥して、厚さ０．１００ｍｍ、縦２００ｍｍ、横２００ｍｍの透明樹脂製基板を得た。
　＜基材の作製＞
　得られた透明樹脂製基板の片面に、前記樹脂組成物（１）をバーコーターで塗布し、オーブン中７０℃で２分間加熱し、溶剤を揮発除去した。この際、乾燥後の厚みが６μｍとなるように、バーコーターの塗布条件を調整した。次に、コンベア式露光機を用いて露光（露光量５００ｍＪ／ｃｍ2，２００ｍＷ）を行い、樹脂組成物（１）を硬化させ、透明樹脂製基板上に樹脂層を形成した。同様に、透明樹脂製基板のもう一方の面にも樹脂組成物（１）からなる樹脂層を形成し、化合物（Ａ）を含む透明樹脂製基板の両面に樹脂層を有する基材を得た。
　得られた基材を光学フィルターとして、光学フィルターの垂直方向および垂直方向に対して３０°および６０°の角度からの分光透過率と、光学フィルターの垂直方向に対して５°の角度からの分光反射率と、もう一方の面における垂直方向に対して５°の角度からの分光反射率を測定し、各波長領域における光学特性およびＲ透過率の比の変化率、Ｇ透過率の比の変化率、Ｂ透過率の比の変化率を評価した。また、得られた光学フィルターの反り特性および環境光センサー性能（色補正性能）を評価した。結果を図１１および表１３に示す。
　［実施例７］
　実施例７では、両面に樹脂層を有する透明樹脂製基板からなる基材を有する光学フィルターを以下の手順および条件で作製した。
　＜透明樹脂製基板の作製＞
　容器に、樹脂合成例１で得られた樹脂Ｂ １００重量部、化合物（Ａ）として、化合物（ａ－１）０．０３部および化合物（ａ－２）０．０６部、化合物（Ｂ）として化合物（ｂ－１）０．６０部、ならびにジクロロメタンを加えて樹脂濃度が２０重量％の溶液を調製した。得られた溶液を平滑なガラス板上にキャストし、６０℃で８時間乾燥した後、６０℃で８時間乾燥、さらに減圧下１４０℃で８時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離した塗膜をさらに減圧下１００℃で８時間乾燥して、厚さ０．１００ｍｍ、縦２００ｍｍ、横２００ｍｍの透明樹脂製基板を得た。
　＜基材の作製＞
　得られた透明樹脂製基板の片面に、前記樹脂組成物（３）をバーコーターで塗布し、オーブン中７０℃で２分間加熱し、溶剤を揮発除去した。この際、乾燥後の厚みが２μｍとなるように、バーコーターの塗布条件を調整した。次に、コンベア式露光機を用いて露光（露光量５００ｍＪ／ｃｍ2，２００ｍＷ）を行い、樹脂組成物（３）を硬化させ、透明樹脂製基板上に樹脂層を形成した。同様に、透明樹脂製基板のもう一方の面にも樹脂組成物（３）からなる樹脂層を形成し、化合物（Ａ）を含む透明樹脂製基板の両面に樹脂層を有する基材を得た。
　得られた基材を光学フィルターとして、光学フィルターの垂直方向および垂直方向に対して３０°および６０°の角度からの分光透過率と、光学フィルターの垂直方向に対して５°の角度からの分光反射率と、もう一方の面における垂直方向に対して５°の角度からの分光反射率を測定し、各波長領域における光学特性およびＲ透過率の比の変化率、Ｇ透過率の比の変化率、Ｂ透過率の比の変化率を評価した。また、得られた光学フィルターの反り特性および環境光センサー性能（色補正性能）を評価した。結果を図１２および表１３に示す。
　［実施例８］
　実施例８では、両面に樹脂層を有する透明樹脂製基板からなる基材を有する光学フィルターを以下の手順および条件で作製した。
　＜透明樹脂製基板の作製＞
　容器に、樹脂合成例１で得られた樹脂Ｂ １００重量部、化合物（Ａ）として
化合物（ａ－１）０．０４部、
化合物（ａ－２）０．０８部、および
化合物（ａ－３）０．１０部、
化合物（Ｂ）として化合物（ｂ－１）１．５０部、
ならびにジクロロメタンを加えて樹脂濃度が２０重量％の溶液を調製した。得られた溶液を平滑なガラス板上にキャストし、６０℃で８時間乾燥した後、６０℃で８時間乾燥、さらに減圧下１４０℃で８時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離した塗膜をさらに減圧下１００℃で８時間乾燥して、厚さ０．１００ｍｍ、縦２００ｍｍ、横２００ｍｍの透明樹脂製基板を得た。
　＜基材の作製＞
　得られた透明樹脂製基板の片面に、前記樹脂組成物（１）をバーコーターで塗布し、オーブン中７０℃で２分間加熱し、溶剤を揮発除去した。この際、乾燥後の厚みが２μｍとなるように、バーコーターの塗布条件を調整した。次に、コンベア式露光機を用いて露光（露光量５００ｍＪ／ｃｍ2，２００ｍＷ）を行い、樹脂組成物（１）を硬化させ、透明樹脂製基板上に樹脂層を形成した。同様に、透明樹脂製基板のもう一方の面にも樹脂組成物（１）からなる樹脂層を形成し、化合物（Ａ）を含む透明樹脂製基板の両面に樹脂層を有する基材を得た。
　＜光学フィルターの作製＞
　得られた基材の片面に第一光学層として誘電体多層膜（Ｉ）を形成し、さらに基材のもう一方の面にも同様の誘電体多層膜（Ｉ）を形成し、厚さ約０．１０４ｍｍの光学フィルターを得た。
　誘電体多層膜（Ｉ）は、蒸着温度１２０℃でシリカ（ＳｉＯ2）層とチタニア（ＴｉＯ2）層とが交互に積層されてなる（合計４層）。誘電体多層膜（Ｉ）のシリカ層およびチタニア層は、基材側からチタニア層、シリカ層、チタニア層、シリカ層の順で交互に積層されており、光学フィルターの最外層をシリカ層とした。
　実施例８では、誘電体多層膜（Ｉ）は、膜厚３３～８８ｎｍのシリカ層と膜厚１３～１１１ｎｍのチタニア層とが交互に積層されてなる、積層数４の多層蒸着膜とした。膜構成の一例を下記表１０に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000032
　得られた基材を光学フィルターとして、光学フィルターの垂直方向および垂直方向に対して３０°および６０°の角度からの分光透過率と、光学フィルターの垂直方向に対して５°の角度からの分光反射率と、もう一方の面における垂直方向に対して５°の角度からの分光反射率を測定し、各波長領域における光学特性およびＲ透過率の比の変化率、Ｇ透過率の比の変化率、Ｂ透過率の比の変化率を評価した。また、得られた光学フィルターの反り特性および環境光センサー性能（色補正性能）を評価した。結果を図１３および表１３に示す。
　［実施例９］
　実施例９では、両面に樹脂層を有する透明樹脂製基板からなる基材を有する光学フィルターを以下の手順および条件で作製した。
　＜透明樹脂製基板の作製＞
　容器に、樹脂合成例１で得られた樹脂Ａ １００重量部、化合物（Ａ）として、化合物（ａ－３）０．１０部、化合物（Ｂ）として、化合物（ｂ－１）１．００部と下記式（ｂ－２）で表わされる化合物（ジクロロメタン中での吸収極大波長８５０ｎｍ）０．３０部およびジクロロメタンを加えて樹脂濃度が２０重量％の溶液を調製した。得られた溶液を平滑なガラス板上にキャストし、６０℃で８時間乾燥した後、６０℃で８時間乾燥、さらに減圧下１４０℃で８時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離した塗膜をさらに減圧下１００℃で８時間乾燥して、厚さ０．１００ｍｍ、縦２００ｍｍ、横２００ｍｍの透明樹脂製基板を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
 　＜基材の作製＞
　得られた透明樹脂製基板の片面に、前記樹脂組成物（３）をバーコーターで塗布し、オーブン中７０℃で２分間加熱し、溶剤を揮発除去した。この際、乾燥後の厚みが２μｍとなるように、バーコーターの塗布条件を調整した。次に、コンベア式露光機を用いて露光（露光量５００ｍＪ／ｃｍ2，２００ｍＷ）を行い、樹脂組成物（３）を硬化させ、透明樹脂製基板上に樹脂層を形成した。同様に、透明樹脂製基板のもう一方の面にも樹脂組成物（３）からなる樹脂層を形成し、化合物（Ａ）を含む透明樹脂製基板の両面に樹脂層を有する基材を得た。
　得られた基材を光学フィルターとして、光学フィルターの垂直方向および垂直方向に対して３０°および６０°の角度からの分光透過率と、光学フィルターの垂直方向に対して５°の角度からの分光反射率と、もう一方の面における垂直方向に対して５°の角度からの分光反射率を測定し、各波長領域における光学特性およびＲ透過率の比の変化率、Ｇ透過率の比の変化率、Ｂ透過率の比の変化率を評価した。また、得られた光学フィルターの反り特性および環境光センサー性能（色補正性能）を評価した。評価結果を表１３に示す。
　［実施例１０］
　実施例１０では、両面に樹脂層を有する透明樹脂製基板からなる基材を有する光学フィルターを以下の手順および条件で作製した。
　＜透明樹脂製基板の作製＞
　容器に、樹脂合成例２で得られた樹脂Ｂ １００重量部、化合物（Ａ）として、化合物（ａ－３）０．１０部、化合物（Ｂ）として、化合物（ｂ－１）１．００部と下記式（ｂ－３）で表わされる化合物（ジクロロメタン中での吸収極大波長８８６ｎｍ）０．１０部およびジクロロメタンを加えて樹脂濃度が２０重量％の溶液を調製した。得られた溶液を平滑なガラス板上にキャストし、６０℃で８時間乾燥した後、６０℃で８時間乾燥、さらに減圧下１４０℃で８時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離した塗膜をさらに減圧下１００℃で８時間乾燥して、厚さ０．１００ｍｍ、縦２００ｍｍ、横２００ｍｍの透明樹脂製基板を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
 　＜基材の作製＞
　得られた透明樹脂製基板の片面に、前記樹脂組成物（３）をバーコーターで塗布し、オーブン中７０℃で２分間加熱し、溶剤を揮発除去した。この際、乾燥後の厚みが２μｍとなるように、バーコーターの塗布条件を調整した。次に、コンベア式露光機を用いて露光（露光量５００ｍＪ／ｃｍ2，２００ｍＷ）を行い、樹脂組成物（３）を硬化させ、透明樹脂製基板上に樹脂層を形成した。同様に、透明樹脂製基板のもう一方の面にも樹脂組成物（３）からなる樹脂層を形成し、化合物（Ａ）を含む透明樹脂製基板の両面に樹脂層を有する基材を得た。
　得られた基材を光学フィルターとして、光学フィルターの垂直方向および垂直方向に対して３０°および６０°の角度からの分光透過率と、光学フィルターの垂直方向に対して５°の角度からの分光反射率と、もう一方の面における垂直方向に対して５°の角度からの分光反射率を測定し、各波長領域における光学特性およびＲ透過率の比の変化率、Ｇ透過率の比の変化率、Ｂ透過率の比の変化率を評価した。また、得られた光学フィルターの反り特性および環境光センサー性能（色補正性能）を評価した。評価結果を表１３に示す。
　［比較例１］
　実施例１と同様の方法において、得られた基材の片面に第一光学層として誘電体多層膜（ＩＩ）を形成し、さらに基材のもう一方の面に第二光学層として誘電体多層膜（ＩＩＩ）を形成し、厚さ約０．１０９ｍｍの光学フィルターを得た。
　誘電体多層膜（ＩＩ）は蒸着温度１２０℃でシリカ（ＳｉＯ2）層とチタニア（ＴｉＯ2）層とが交互に積層されてなる（合計２６層）。誘電体多層膜（ＩＩＩ）は、蒸着温度１２０℃でシリカ（ＳｉＯ2）層とチタニア（ＴｉＯ2）層とが交互に積層されてなる（合計２０層）。誘電体多層膜（ＩＩ）および（ＩＩＩ）のいずれにおいても、シリカ層およびチタニア層は、基材側からチタニア層、シリカ層、チタニア層、・・・シリカ層、チタニア層、シリカ層の順で交互に積層されており、光学フィルターの最外層をシリカ層とした。
　誘電体多層膜（ＩＩ）および（ＩＩＩ）の設計は、以下のようにして行った。
　各層の厚さと層数については、可視域の反射防止効果と近赤外域の選択的な透過・反射性能を達成できるよう基材屈折率の波長依存特性や、適用した化合物（Ａ）および化合物（Ｂ）の吸収特性に合わせて光学薄膜設計ソフト（Ｅｓｓｅｎｔｉａｌ　Ｍａｃｌｅｏｄ、Ｔｈｉｎ　Ｆｉｌｍ　Ｃｅｎｔｅｒ社製）を用いて最適化を行った。最適化を行う際、本実施例においてはソフトへの入力パラメーター（Ｔａｒｇｅｔ値）を下記表１１の通りとした。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000035
　膜構成最適化の結果、比較例１では、誘電体多層膜（ＩＩ）は、膜厚３１～１５５ｎｍのシリカ層と膜厚１０～９４ｎｍのチタニア層とが交互に積層されてなる、積層数２６の多層蒸着膜となり、誘電体多層膜（ＩＩＩ）は、膜厚３８～１８９ｎｍのシリカ層と膜厚１１～１０９ｎｍのチタニア層とが交互に積層されてなる、積層数２０の多層蒸着膜となった。最適化を行った膜構成の一例を下記表１２に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000036
　得られた基材を光学フィルターとして、光学フィルターの垂直方向および垂直方向に対して３０°および６０°の角度からの分光透過率と、光学フィルターの垂直方向に対して５°の角度からの分光反射率と、もう一方の面における垂直方向に対して５°の角度からの分光反射率を測定し、各波長領域における光学特性およびＲ透過率の比の変化率、Ｇ透過率の比の変化率、Ｂ透過率の比の変化率を評価した。また、得られた光学フィルターの反り特性および環境光センサー性能（色補正性能）を評価した。結果を図１４および表１３に示す。
　比較例１で得られた光学フィルターのＲ透過率の比の変化率、Ｇ透過率の比の変化率、Ｂ透過率の比の変化率は０．６以下となり、良好なＲＧＢバランスを示さなかった。また、比較例１で得られた光学フィルターの反り量は１７ｍｍとなり、良好な反り特性を示さなかった。
　［比較例２］
　比較例２では、両面に樹脂層を有する透明樹脂製基板からなる基材を有する光学フィルターを以下の手順および条件で作製した。
　＜透明樹脂製基板の作製＞
　容器に、樹脂合成例１で得られた樹脂Ａ １００重量部、化合物（Ａ）として、化合物（ａ－１）０．０４部および化合物（ａ－２）０．０８部、化合物（Ｂ）として化合物（ｂ－１）０．１５部、ならびにＮ，Ｎ－ジメチルアセトアミドを加えて樹脂濃度が２０重量％の溶液を調製した。得られた溶液を平滑なガラス板上にキャストし、６０℃で８時間乾燥した後、６０℃で８時間乾燥、さらに減圧下１４０℃で８時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離した塗膜をさらに減圧下１００℃で８時間乾燥して、厚さ０．１００ｍｍ、縦２００ｍｍ、横２００ｍｍの透明樹脂製基板を得た。
　＜基材の作製＞
　得られた透明樹脂製基板の片面に、前記樹脂組成物（３）をバーコーターで塗布し、オーブン中７０℃で２分間加熱し、溶剤を揮発除去した。この際、乾燥後の厚みが２μｍとなるように、バーコーターの塗布条件を調整した。次に、コンベア式露光機を用いて露光（露光量５００ｍＪ／ｃｍ2，２００ｍＷ）を行い、樹脂組成物（３）を硬化させ、透明樹脂製基板上に樹脂層を形成した。同様に、透明樹脂製基板のもう一方の面にも樹脂組成物（３）からなる樹脂層を形成し、化合物（Ａ）を含む透明樹脂製基板の両面に樹脂層を有する基材を得た。
　得られた基材を光学フィルターとして、光学フィルターの垂直方向および垂直方向に対して３０°および６０°の角度からの分光透過率と、光学フィルターの垂直方向に対して５°の角度からの分光反射率と、もう一方の面における垂直方向に対して５°の角度からの分光反射率を測定し、各波長領域における光学特性およびＲ透過率の比の変化率、Ｇ透過率の比の変化率、Ｂ透過率の比の変化率を評価した。また、得られた光学フィルターの反り特性および環境光センサー性能（色補正性能）を評価した。結果を図１５および表１３に示す。
　比較例２で得られた光学フィルターの８００ｎｍ～１２００ｎｍにおける光学濃度は０度、３０度、６０度いずれの場合も１．５以下となり、良好な近赤外線カット特性を示さず、環境光センサー性能も外光環境に応じた色合い制御が不良であった。
　［比較例３］
　比較例３では、両面に樹脂層を有する透明樹脂製基板からなる基材を有する光学フィルターを以下の手順および条件で作製した。
　＜透明樹脂製基板の作製＞
　容器に、樹脂合成例２で得られた樹脂Ｂ １００重量部、化合物（Ａ）として、化合物（ａ－１）０．０４部および（ａ－２）０．０８部、およびジクロロメタンを加えて樹脂濃度が２０重量％の溶液を調製した。得られた溶液を平滑なガラス板上にキャストし、６０℃で８時間乾燥した後、６０℃で８時間乾燥、さらに減圧下１４０℃で８時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離した塗膜をさらに減圧下１００℃で８時間乾燥して、厚さ０．１００ｍｍ、縦２００ｍｍ、横２００ｍｍの透明樹脂製基板を得た。
　＜基材の作製＞
　得られた透明樹脂製基板の片面に、前記樹脂組成物（３）をバーコーターで塗布し、オーブン中７０℃で２分間加熱し、溶剤を揮発除去した。この際、乾燥後の厚みが２μｍとなるように、バーコーターの塗布条件を調整した。次に、コンベア式露光機を用いて露光（露光量５００ｍＪ／ｃｍ2，２００ｍＷ）を行い、樹脂組成物（３）を硬化させ、透明樹脂製基板上に樹脂層を形成した。同様に、透明樹脂製基板のもう一方の面にも樹脂組成物（３）からなる樹脂層を形成し、化合物（Ａ）を含む透明樹脂製基板の両面に樹脂層を有する基材を得た。
　得られた基材を光学フィルターとして、光学フィルターの垂直方向および垂直方向に対して３０°および６０°の角度からの分光透過率と、光学フィルターの垂直方向に対して５°の角度からの分光反射率と、もう一方の面における垂直方向に対して５°の角度からの分光反射率を測定し、各波長領域における光学特性およびＲ透過率の比の変化率、Ｇ透過率の比の変化率、Ｂ透過率の比の変化率を評価した。また、得られた光学フィルターの反り特性および環境光センサー性能（色補正性能）を評価した。結果を図１６および表１３に示す。
　比較例３で得られた光学フィルターの８００ｎｍ～１２００ｎｍにおける光学濃度は０度、３０度、６０度いずれの場合も１．５以下となり、良好な近赤外線カット特性を示さず、環境光センサー性能も外光環境に応じた色合い制御が不良であった。
　［比較例４］
　比較例では、ガラス基板を含む基材を有する光学フィルターを以下の手順および条件で作製した。
　＜樹脂溶液（Ｄ－３）の調製＞
　容器に、樹脂合成例２で得られた樹脂Ｂ １００重量部、化合物（Ａ）として、化合物（ａ－１）０．８部および化合物（ａ－２）１．６部、およびジクロロメタンを加えて樹脂濃度が１０重量％の溶液を調製した。その後、孔径５μｍのミリポアフィルタでろ過して樹脂溶液（Ｄ－３）を得た。
　＜基材の作製＞
　続いて、縦２００ｍｍ、横２００ｍｍの大きさにカットした、松波硝子工業（株）製近赤外線吸収ガラス基板「ＢＳ－１１」（厚み１２０μｍ）の片面に前記樹脂組成物（２）をスピンコートで塗布した後、ホットプレート上８０℃で２分間加熱し溶剤を揮発除去し、後述する透明樹脂層との接着層として機能する樹脂層を形成した。この際、該樹脂層の膜厚が０．８μｍ程度となるようにスピンコーターの塗布条件を調整した。次に、樹脂層上に、スピンコーターを用いて樹脂溶液（Ｄ－３）を乾燥後の膜厚が５μｍ となるような条件で塗布し、ホットプレート上８０℃で５分間加熱し、溶剤を揮発除去して透明樹脂層を形成した。次いで、ガラス面側からコンベア式露光機を用いて露光（露光量１Ｊ/ｃｍ2、照度２００ｍＷ）し、その後オーブン中２３０℃で２０分間焼成して縦２００ｍｍ、横２００ｍｍの基材を得た。
　得られた基材を光学フィルターとして、光学フィルターの垂直方向および垂直方向に対して３０°および６０°の角度からの分光透過率と、光学フィルターの垂直方向に対して５°の角度からの分光反射率と、もう一方の面における垂直方向に対して５°の角度からの分光反射率を測定し、各波長領域における光学特性およびＲ透過率の比の変化率、Ｇ透過率の比の変化率、Ｂ透過率の比の変化率を評価した。また、得られた光学フィルターの反り特性および環境光センサー性能（色補正性能）を評価した。結果を図１７および表１３に示す。
　比較例４で得られた光学フィルターの８００ｎｍ～１２００ｎｍにおける光学濃度は０度、３０度、６０度いずれの場合も１．５以下となり、良好な近赤外線カット特性を示さず、環境光センサー性能も外光環境に応じた色合い制御が不良であった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000037
１００・・・光学フィルター
２００・・・環境光センサー
２０２・・・光電変換素子
２０４・・・筐体
２０６・・・第１電極
２０８・・・光電変換層
２１０・・・第２電極
２１２・・・カラーフィルタ
２１４・・・素子分離絶縁層
２１６・・・パッシベーション膜
３００・・・電子機器
３０２・・・筐体
３０４・・・表示パネル
３０６・・・マイクロホン部
３０８・・・スピーカ部
３１０・・・表面パネル

Claims (12)

  1. 　下記要件（ａ）を満たす基材を有し、かつ、下記要件（ｂ）、（ｃ）および（ｄ）を満たすことを特徴とする環境光センサー用光学フィルター：
    （ａ）波長６５０ｎｍ以上８００ｎｍ未満の領域に吸収極大を有する化合物（Ａ）、および波長８００ｎｍ以上１８５０ｎｍ以下の領域に吸収極大を有する化合物（Ｂ）を含む層を有する；
    （ｂ）波長８００～１０００ｎｍの領域において、光学フィルターの一方の面における垂直方向に対して５度斜め方向から入射する光の反射率の平均値Ｒｆa-5と、他方の面における垂直方向に対して５度斜め方向から入射する光の反射率の平均値Ｒｆb-5とが、いずれも１５％以下である；
    （ｃ）波長４３０～５８０ｎｍの領域において、光学フィルターの垂直方向から入射する光の透過率の平均値Ｔa-0と、垂直方向に対して３０度斜め方向から入射する光の透過率の平均値Ｔa-30と、垂直方向に対して６０度斜め方向から入射する光の透過率の平均値Ｔa-60とが、いずれも２０％以上７５％未満である；
    （ｄ）波長８００ｎｍ～１２００ｎｍの領域において、光学フィルターの垂直方向から入射する光に対する光学濃度（ＯＤ値）の平均値ＯＤa-0と、垂直方向に対して３０度斜め方向から入射する光に対する光学濃度（ＯＤ値）の平均値ＯＤa-30と、垂直方向に対して６０度斜め方向から入射する光に対する光学濃度（ＯＤ値）の平均値ＯＤa-60とが、いずれも１．５以上である。
  2. 　誘電体多層膜を有さないことを特徴する請求項１に記載の環境光センサー用光学フィルター。
  3. 　前記化合物（Ａ）を含む層が透明樹脂層であることを特徴とする請求項１または２に記載の環境光センサー用光学フィルター。
  4. 　前記透明樹脂層が、前記化合物（Ｂ）をさらに含むことを特徴とする請求項３に記載の環境光センサー用光学フィルター。
  5. 　前記化合物（Ａ）が、スクアリリウム系化合物、フタロシアニン系化合物およびシアニン系化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物であることを特徴とする請求項１～４のいずれか１項に記載の環境光センサー用光学フィルター。
  6. 　前記化合物（Ｂ）が、近赤外線吸収微粒子、スクアリリウム系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、クロコニウム系化合物、シアニン系化合物、ジイモニウム系化合物、金属ジチオラート系化合物およびピロロピロール系化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物であることを特徴とする請求項１～５のいずれか１項に記載の環境光センサー用光学フィルター。
  7. 　前記近赤外線吸収微粒子が、下記式（Ｐ－１）で表わされる化合物からなる第１の微粒子と、下記式（Ｐ－２）で表わされる化合物からなる第２の微粒子とからなる群より選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする請求項６に記載の環境光センサー用光学フィルター。
    　Ａ1/nＣｕＰＯ4　・・・（Ｐ－１）
    ［式（Ｐ－１）中、Ａは、アルカリ金属、アルカリ土類金属およびＮＨ4からなる群より選ばれる少なくとも１種であり、ｎは、Ａがアルカリ金属またはＮＨ4の場合は１であり、Ａがアルカリ土類金属の場合は２である。］
    　ＭxＷyＯz　・・・（Ｐ－２）
    ［式（Ｐ－２）中、Ｍは、Ｈ、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、Ｍｇ、Ｚｒ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂ、Ｆ、Ｐ、Ｓ、Ｓｅ、Ｂｒ、Ｔｅ、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｖ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｒｅ、Ｂｅ、Ｈｆ、Ｏｓ、ＢｉおよびＩから選ばれる少なくとも１種の元素であり、ｘ、ｙおよびｚは、０.００１≦ｘ/ｙ≦１および２.２≦ｚ/ｙ≦３.０の条件を満たす。］
  8. 　前記透明樹脂層を構成する樹脂が、環状ポリオレフィン系樹脂、芳香族ポリエーテル系樹脂、ポリイミド系樹脂、フルオレンポリカーボネート系樹脂、フルオレンポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、アラミド系樹脂、ポリサルホン系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリパラフェニレン系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリエチレンナフタレート系樹脂、フッ素化芳香族ポリマー系樹脂、（変性）アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、シルセスキオキサン系紫外線硬化型樹脂、マレイミド系樹脂、脂環エポキシ熱硬化型樹脂、ポリエーテルエーテルケトン系樹脂、ポリアリレート系樹脂、アリルエステル系硬化型樹脂、アクリル系紫外線硬化型樹脂、ビニル系紫外線硬化型樹脂、およびゾルゲル法により形成されたシリカを主成分とする樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種の樹脂であることを特徴とする請求項３または４に記載の環境光センサー用光学フィルター。
  9. 　前記基材が、銅成分を含有するフッ素リン酸塩系ガラス層又はリン酸塩系ガラスからなる基板を含むことを特徴とする請求項１～８のいずれか１項に記載の環境光センサー用光学フィルター。
  10. 　前記環境光センサー用光学フィルターに、垂直方向から入射した場合、垂直方向に対して３０°の方向から入射した場合および垂直方向に対して６０°の方向から入射した場合において、
    　下記式（１）から導かれるＲ（赤色）透過率の比の変化率、下記式（２）から導かれるＧ（緑色）透過率の比の変化率、および下記式（３）から導かれるＢ（青色）透過率の比の変化率が、いずれも０．６～１．１の範囲であることを特徴とする請求項１～９のいずれか１項に記載の環境光センサー用光学フィルター。
    （Ｒ透過率の比）＝（Ｒ透過率）×１００／（（Ｒ透過率）＋（Ｇ透過率）＋（Ｂ透過率））・・・式（１）
    （Ｇ透過率の比）＝（Ｇ透過率）×１００／（（Ｒ透過率）＋（Ｇ透過率）＋（Ｂ透過率））・・・式（２）
    （Ｂ透過率の比）＝（Ｂ透過率）×１００／（（Ｒ透過率）＋（Ｇ透過率）＋（Ｂ透過率））・・・式（３）
    ［式（１）～（３）中、Ｒ透過率は波長５８０～６５０ｎｍにおける平均透過率、Ｇ透過率は波長５００～５８０ｎｍにおける平均透過率、Ｂ透過率は波長４２０～５００ｎｍにおける平均透過率である。］
  11. 　請求項１～１０のいずれか１項に記載の環境光センサー用光学フィルターを具備することを特徴とする環境光センサー。
  12. 　請求項１１に記載の環境光センサーを有することを特徴とする電子機器。
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019028433A (ja) * 2018-01-24 2019-02-21 日本板硝子株式会社 光学フィルタ
JP2019174833A (ja) * 2019-06-19 2019-10-10 日本板硝子株式会社 光学フィルタ及びカメラ付き情報端末
CN111983743A (zh) * 2019-05-21 2020-11-24 Jsr株式会社 光学滤波器、摄像装置与照相机模块
KR20210001993A (ko) * 2019-06-27 2021-01-06 제이에스알 가부시끼가이샤 광학 필터 및 그의 용도
US11585968B2 (en) 2017-07-27 2023-02-21 Nippon Sheet Glass Company, Limited Optical filter and camera-equipped information device
US11592603B2 (en) 2017-07-27 2023-02-28 Nippon Sheet Glass Company, Limited Optical filter
US12287501B2 (en) 2019-05-23 2025-04-29 Nippon Sheet Glass Company, Limited Light-absorbing composition, light-absorbing film, and optical filter

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008303130A (ja) * 2007-06-11 2008-12-18 Asahi Glass Co Ltd 撮像装置用近赤外線カットフィルタおよび撮像装置
JP2011070031A (ja) * 2009-09-25 2011-04-07 Panasonic Electric Works Co Ltd 近赤外吸収粘着フィルム、近赤外吸収粘着層付き反射防止フィルム、近赤外吸収粘着層付き電磁波シールドフィルム、プラズマディスプレイ用フィルター
JP2012021066A (ja) * 2010-07-13 2012-02-02 Kaneka Corp 近赤外線吸収能を有する硬化性コーティング剤、および近赤外線吸収材
WO2013054864A1 (ja) * 2011-10-14 2013-04-18 Jsr株式会社 光学フィルターならびに該光学フィルターを用いた固体撮像装置およびカメラモジュール
WO2014192714A1 (ja) * 2013-05-29 2014-12-04 Jsr株式会社 光学フィルターおよび前記フィルターを用いた装置
WO2017006571A1 (ja) * 2015-07-09 2017-01-12 日本板硝子株式会社 赤外線カットフィルタ、撮像装置、及び赤外線カットフィルタの製造方法
WO2017018419A1 (ja) * 2015-07-28 2017-02-02 Jsr株式会社 光学フィルター及び光学フィルターを具備する環境光センサー
WO2017094672A1 (ja) * 2015-11-30 2017-06-08 Jsr株式会社 光学フィルター、環境光センサーおよびセンサーモジュール

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100444332B1 (ko) * 1999-12-20 2004-08-16 도요 보세키 가부시키가이샤 적외선 흡수필터
BRPI0407265B1 (pt) 2003-10-20 2018-01-09 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. Dispersão de partículas finas de material de proteção contra infravermelho
JP5489669B2 (ja) 2008-11-28 2014-05-14 Ｊｓｒ株式会社 近赤外線カットフィルターおよび近赤外線カットフィルターを用いた装置
JP5198394B2 (ja) 2009-09-04 2013-05-15 シャープ株式会社 近接照度センサおよびその製造方法
JP5454111B2 (ja) 2009-12-07 2014-03-26 旭硝子株式会社 近赤外線カットフィルタおよび撮像装置・表示装置
WO2012169447A1 (ja) * 2011-06-06 2012-12-13 旭硝子株式会社 光学フィルタ、固体撮像素子、撮像装置用レンズおよび撮像装置
JP2013155353A (ja) * 2012-01-31 2013-08-15 Fujifilm Corp 赤外線吸収性液状組成物、これを用いた赤外線カットフィルタ及びその製造方法、並びに、カメラモジュール及びその製造方法
KR102056613B1 (ko) * 2012-08-23 2019-12-17 에이지씨 가부시키가이샤 근적외선 커트 필터 및 고체 촬상 장치
KR101724562B1 (ko) * 2013-02-14 2017-04-07 후지필름 가부시키가이샤 적외선 흡수 조성물 내지는 적외선 흡수 조성물 키트, 이것을 사용한 적외선 커트 필터 및 그 제조방법, 및 카메라 모듈 및 그 제조방법
CN104159085A (zh) * 2014-08-21 2014-11-19 中南林业科技大学 一种基于新型监控镜头和双图像传感器的监控系统

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008303130A (ja) * 2007-06-11 2008-12-18 Asahi Glass Co Ltd 撮像装置用近赤外線カットフィルタおよび撮像装置
JP2011070031A (ja) * 2009-09-25 2011-04-07 Panasonic Electric Works Co Ltd 近赤外吸収粘着フィルム、近赤外吸収粘着層付き反射防止フィルム、近赤外吸収粘着層付き電磁波シールドフィルム、プラズマディスプレイ用フィルター
JP2012021066A (ja) * 2010-07-13 2012-02-02 Kaneka Corp 近赤外線吸収能を有する硬化性コーティング剤、および近赤外線吸収材
WO2013054864A1 (ja) * 2011-10-14 2013-04-18 Jsr株式会社 光学フィルターならびに該光学フィルターを用いた固体撮像装置およびカメラモジュール
WO2014192714A1 (ja) * 2013-05-29 2014-12-04 Jsr株式会社 光学フィルターおよび前記フィルターを用いた装置
WO2017006571A1 (ja) * 2015-07-09 2017-01-12 日本板硝子株式会社 赤外線カットフィルタ、撮像装置、及び赤外線カットフィルタの製造方法
WO2017018419A1 (ja) * 2015-07-28 2017-02-02 Jsr株式会社 光学フィルター及び光学フィルターを具備する環境光センサー
WO2017094672A1 (ja) * 2015-11-30 2017-06-08 Jsr株式会社 光学フィルター、環境光センサーおよびセンサーモジュール

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11585968B2 (en) 2017-07-27 2023-02-21 Nippon Sheet Glass Company, Limited Optical filter and camera-equipped information device
US12072517B2 (en) 2017-07-27 2024-08-27 Nippon Sheet Glass Company, Limited Light-absorbing composition and method of manufacturing
US11885993B2 (en) 2017-07-27 2024-01-30 Nippon Sheet Glass Company, Limited Optical filter and method of manufacturing
US11592603B2 (en) 2017-07-27 2023-02-28 Nippon Sheet Glass Company, Limited Optical filter
JP2019028433A (ja) * 2018-01-24 2019-02-21 日本板硝子株式会社 光学フィルタ
TWI845685B (zh) * 2019-05-21 2024-06-21 日商Ｊｓｒ股份有限公司 光學濾波器、攝像裝置與照相機模塊
CN111983743B (zh) * 2019-05-21 2024-02-27 Jsr株式会社 光学滤波器、摄像装置与照相机模块
CN111983743A (zh) * 2019-05-21 2020-11-24 Jsr株式会社 光学滤波器、摄像装置与照相机模块
US12287501B2 (en) 2019-05-23 2025-04-29 Nippon Sheet Glass Company, Limited Light-absorbing composition, light-absorbing film, and optical filter
JP2019174833A (ja) * 2019-06-19 2019-10-10 日本板硝子株式会社 光学フィルタ及びカメラ付き情報端末
JP2021006901A (ja) * 2019-06-27 2021-01-21 Jsr株式会社 光学フィルターおよびその用途
KR20210001993A (ko) * 2019-06-27 2021-01-06 제이에스알 가부시끼가이샤 광학 필터 및 그의 용도
JP7540208B2 (ja) 2019-06-27 2024-08-27 Jsr株式会社 光学フィルターおよびその用途
KR102867615B1 (ko) * 2019-06-27 2025-10-10 제이에스알 가부시키가이샤 광학 필터 및 그의 용도

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