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WO2017122803A1 - 溶剤組成物、フラックスの洗浄方法および金属加工油の洗浄方法 - Google Patents

溶剤組成物、フラックスの洗浄方法および金属加工油の洗浄方法 Download PDF

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WO2017122803A1
WO2017122803A1 PCT/JP2017/001084 JP2017001084W WO2017122803A1 WO 2017122803 A1 WO2017122803 A1 WO 2017122803A1 JP 2017001084 W JP2017001084 W JP 2017001084W WO 2017122803 A1 WO2017122803 A1 WO 2017122803A1
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WO
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hcfo
cleaning
solvent composition
mass
solvent
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PCT/JP2017/001084
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宏明 光岡
寿夫 三木
花田　毅
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AGC Inc
Original Assignee
Asahi Glass Co Ltd
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Publication date
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    • C11D2111/10—Objects to be cleaned
    • C11D2111/14—Hard surfaces

Definitions

  • the present invention relates to a solvent composition suitably used for flux cleaning and processing oil cleaning of printed circuit boards, electronic parts such as ICs, precision machine parts, glass substrates, and the like, and flux and metal processing oil using the solvent composition It relates to a cleaning method.
  • the parts are washed with a cleaning agent in the manufacturing process, assembly process, final finishing process, etc., and the flux, processing oil, wax, mold release attached to the parts Removal of residues such as agents and dust is performed.
  • the fluxes used for manufacturing the above-mentioned various articles are classified into rosin flux and water-soluble flux, and rosin flux is generally used in fields where durability and reliability are required. If the rosin flux is not completely removed from the printed circuit board after soldering, the circuit will corrode and damage the circuit. For this reason, a cleaning agent having a high cleaning ability with respect to the flux among the residues to be removed has been demanded.
  • the cleaning agent used for such applications is nonflammable, low in toxicity, excellent in stability, does not attack metals, plastics, elastomers and other base materials, and has excellent chemical and thermal stability.
  • Chlorofluorocarbons such as 1,2-trichloro-1,2,2-trifluoroethane (hereinafter referred to as “CFCs”) have been used.
  • CFCs are chemically very stable, they have a long lifetime in the troposphere after vaporization and diffuse to reach the stratosphere. Therefore, there is a problem that CFCs reaching the stratosphere are decomposed by ultraviolet rays, generating chlorine radicals and destroying the ozone layer. For this reason, the production of CFCs is regulated worldwide, and production in developed countries has already been abolished.
  • Alternative solvents for CFCs include 2,2-dichloro-1,1,1-trifluoroethane, 1,1-dichloro-1-fluoroethane, 3,3-dichloro-1,1,1,2,2- Fluorinated solvents containing hydrochlorofluorocarbons (hereinafter referred to as “HCFCs”) such as pentafluoropropane and 1,3-dichloro-1,1,2,2,3-pentafluoropropane are used.
  • HCFCs hydrochlorofluorocarbons
  • Patent Documents 1 and 2 disclose 1,1-dichloro-2 as cleaning agents and coating solvents. , 3,3,3-tetrafluoropropene, and monochlorotrifluoropropene are shown in Patent Documents 3 and 4, and solvent compositions with hydrocarbons, alcohols and the like have been proposed to improve detergency.
  • JP 2013-224383 A International Publication No. 2013/161723 JP 2013-506731 A JP 2013-504658 A
  • the solvent composition of the present invention has a good cleaning effect and a smaller environmental impact than before, and in particular, a solvent composition that can effectively clean dirt such as flux and metalworking oil.
  • the purpose is to provide.
  • this invention consists of the following.
  • a solvent composition comprising 1-chloro-2,3,3-trifluoro-1-propene and a hydrocarbon (A) having a boiling point of 60 to 100 ° C.
  • the 1-chloro-2,3,3-trifluoro-1-propene and the hydrocarbon (A) contained in the solvent composition are 100% by mass in total with respect to the 1-chloro-2,
  • a flux removal method of cleaning the flux on the surface of the article by bringing the solvent composition according to any one of [1] to [5] into contact with the surface of the article on which the flux is adhered.
  • the flux cleaning method according to [6] wherein after cleaning the flux, the surface of the article is further dried.
  • the solvent composition according to any one of [1] to [5] is brought into contact with the surface of an article to which a metal working oil having a kinematic viscosity at 40 ° C.
  • the solvent composition of the present invention is excellent in solubility of various organic substances, does not adversely affect the global environment, and is excellent in cleaning of dirt such as flux and metalworking oil.
  • the flux cleaning method of the present invention can easily and effectively clean the soldered flux without adversely affecting the global environment.
  • the method for cleaning metalworking oil according to the present invention can easily and effectively clean metalworking oil with high viscosity without adversely affecting the global environment.
  • a solvent composition according to an embodiment of the present invention comprises 1-chloro-2,3,3-trifluoro-1-propene (hereinafter referred to as “HCFO-1233yd”), carbonized with a boiling point of 60 to 100 ° C. And at least one hydrocarbon (A) selected from the group of hydrogen.
  • HCFO-1233yd 1-chloro-2,3,3-trifluoro-1-propene
  • A hydrocarbon
  • HCFO-1233yd may be any of HCFO-1233yd (Z), HCFO-1233yd (E), and a mixture of HCFO-1233yd (Z) and HCFO-1233yd (E).
  • HCFO-1233yd used in the present embodiment is a fluoroolefin having a double bond between carbon atoms, it has a short life in the atmosphere and has a low ozone depletion coefficient and a global warming coefficient.
  • HCFO-1233yd has a Z isomer (hereinafter referred to as “HCFO-1233yd (Z)”) and an E isomer (hereinafter referred to as “HCFO-1233yd (E)”).
  • HCFO-1233yd (Z) has a boiling point of about 54 ° C. and HCFO-1233yd (E) has a boiling point of 48 ° C., both of which are excellent in drying properties.
  • HCFO-1233yd (Z) has a boiling point of about 54 ° C.
  • HCFO-1233yd (E) has a boiling point of 48 ° C., both of which are excellent in drying properties.
  • HCFO-1233yd (Z) and 48 ° C for HCFO-1233yd (E) so even parts that are easily affected by heat, such as resin parts, are adversely affected. It is hard to give.
  • HCFO-1233yd does not have a flash point, has a low surface tension and viscosity, and has excellent performance as a cleaning agent and coating solvent, such as being easily evaporated at room temperature.
  • HCFO-1233yd is suitable for the solvent composition of the present embodiment because of its economic superiority that is considered in terms of practical handling ease as a cleaning agent and coating solvent, boiling point, and ease of production, and HCFO- Of the two types of structural isomers 1233yd, HCFO-1233yd (Z) is preferred.
  • HCFO-1233yd can be produced, for example, by subjecting 1-chloro-2,2,3,3-tetrafluoropan (HCFC-244ca), which is industrially available, to a dehydrofluorination reaction. According to this method, HCFO-1233yd is produced by dehydrofluorination of HCFC-244ca in the presence of a base.
  • HCFC-244ca 1-chloro-2,2,3,3-tetrafluoropan
  • the produced HCFO-1233yd reaction solution contains structural isomers HCFO-1233yd (Z) and HCFO-1233yd (E).
  • HCFO-1233yd (Z) is converted to HCFO-1233yd (E).
  • HCFO-1233yd (Z) obtained in this production example may contain HCFC-244ca, HCFO-1233yd (E), and 1-chloro-3,3-difluoropropyne, which are materials derived from raw materials.
  • the purity of HCFO-1233yd in this embodiment is preferably 99% by mass or more, and more preferably 99.5% by mass or more.
  • the hydrocarbon (A) used in the present embodiment has a boiling point of 60 to 100 ° C.
  • the hydrocarbon (A) is preferably a saturated hydrocarbon, more preferably a saturated hydrocarbon having 6 to 7 carbon atoms.
  • hydrocarbon (A) examples include n-hexane (boiling point: 68 ° C.), cyclohexane (boiling point: 81 ° C.), 2-methylpentane (boiling point: 60 ° C.), 3-methylpentane (boiling point: 63 ° C), n-heptane (boiling point: 98 ° C), 2-methylhexane (boiling point: 90 ° C), 3-methylhexane (boiling point: 91 ° C), 2,4-dimethylpentane (boiling point: 80 ° C), 2, Examples include 2,4-trimethylpentane (boiling point: 100 ° C.), methylcyclopentane (boiling point: 72 ° C.), and the like.
  • the boiling point refers to the standard boiling point.
  • the solvent composition of this embodiment may contain 1 type of hydrocarbons (A), and may contain 2
  • hydrocarbon (A) cyclohexane, n-hexane, and n-heptane are preferable from the viewpoint of easy availability and economy, and are excellent in cleaning properties of flux and metalworking oil and have an azeotropic composition or an azeotrope-like composition.
  • Cyclohexane and n-hexane are more preferable because they can be used repeatedly in a cleaning apparatus, and cyclohexane is most preferable because it is more excellent in cleaning properties of flux and metalworking oil and has high safety.
  • the ratio of the total amount of HCFO-1233yd and hydrocarbon (A) in the solvent composition (100% by mass) of this embodiment is preferably 80 to 99.9999% by mass, more preferably 90 to 99.999% by mass. . By being in the said range, it is excellent in the solubility of various organic substance, especially the washability of a flux and metalworking oil.
  • the solvent composition of the present embodiment contains the hydrocarbon (A)
  • a solvent composition having excellent cleaning properties for flux and metalworking oil can be obtained.
  • the inclusion of hydrocarbon (A) also has an effect of suppressing the decomposition of HCFO-1223yd (Z) and HCFO-1233yd (E).
  • the total content of HCFO-1233yd and hydrocarbon (A) contained in this solvent composition is 100% by mass, the HCFO-1233yd content is 75 to 99% by mass, and the hydrocarbon (A) content is 1 to 1%. 25% by mass is preferable from the standpoint of further improving the cleaning properties of the flux and metalworking oil.
  • the content of HCFO-1233yd is 95 to 99% by mass, and the content of hydrocarbon (A) is 1 to 5 mass% is more preferable.
  • HCFO-1233yd and the hydrocarbon (A) have an azeotropic composition or an azeotrope-like composition.
  • an azeotropic composition or an azeotrope-like composition the cleaning performance of dirt such as flux and metalworking oil becomes particularly good.
  • the composition of the solvent composition may fluctuate when used in cleaning equipment that repeats distillation regeneration. Smaller and can be used stably.
  • an azeotropic composition in general, the composition of the gas phase generated by vaporization of the liquid phase is the same as the composition of the liquid phase, or the composition of the liquid phase generated by liquefaction of the gas phase is the composition of the gas phase. Defined as the same.
  • An azeotropic composition can be repeatedly used as a solvent composition because the composition does not change by evaporation or condensation. Note that the composition of the azeotropic composition varies depending on the pressure condition.
  • the azeotrope-like composition exhibits behavior similar to that of the azeotropic composition. That is, in the azeotrope-like composition, the composition of the gas phase generated by vaporization of the liquid phase is substantially the same as the composition of the liquid phase, or the composition of the liquid phase generated by liquefaction of the gas phase is the gas phase. The composition is substantially the same. Since an azeotrope-like composition hardly changes in composition due to evaporation and condensation, it can be repeatedly used as a solvent composition like the azeotrope composition.
  • azeotropic composition is obtained at 10.2% by mass. It is estimated that the azeotropic composition of the solvent composition comprising HCFO-1233yd (E) and cyclohexane and the azeotropic composition of the solvent composition comprising HCFO-1233yd (Z), HCFO-1233yd (E) and cyclohexane are also close to the above composition.
  • the content ratio of HCFO-1233yd is preferably 80 to 99 mass%, the content ratio of cyclohexane is more preferably 1 to 20 mass%, and the content ratio of HCFO-1233yd is 85 to 99 mass%,
  • the content of cyclohexane is particularly preferably 1 to 15% by mass.
  • HCFO-1233yd (Z) and n-hexane when the total amount of HCFO-1233yd (Z) and n-hexane is 100% by mass, HCFO-1233yd (Z ) Is 79% by mass, and n-hexane is 21% by mass.
  • the azeotropic composition of the solvent composition consisting of HCFO-1233yd (E) and n-hexane and the azeotropic composition of the solvent composition consisting of HCFO-1233yd (Z), HCFO-1233yd (E) and n-hexane are also in the above composition. Estimated to be close.
  • the content of HCFO-1233yd is preferably 76 to 99% by mass
  • n-hexane is preferably 1 to 24% by mass
  • the content of HCFO-1233yd is 77 to 99% by mass
  • n- Hexane is particularly preferably 1 to 23% by mass.
  • HCFO-1233yd (Z) and n-heptane when the total amount of HCFO-1233yd (Z) and n-heptane is 100% by mass, HCFO-1233yd (Z ) Is 97.7% by mass, and n-heptane is 2.3% by mass.
  • the azeotropic composition of the solvent composition composed of HCFO-1233yd (E) and n-hexane and the azeotropic composition of the solvent composition composed of HCFO-1233yd (Z), HCFO-1233yd (E) and n-heptane are also included in the above composition. Estimated to be close.
  • the content of HCFO-1233yd is preferably 85 to 99% by mass, n-heptane is more preferably 1 to 15% by mass, the content of HCFO-1233yd is 90 to 99% by mass, n- Particularly preferred is 1 to 10% by weight of heptane.
  • the content ratio of HCFO-1233yd and n-heptane is within the above range, the cleaning performance of the flux and metalworking oil is excellent.
  • n-pentane When a hydrocarbon having a boiling point lower than 60 ° C., such as n-pentane, the solvent composition has good cleaning performance for flux and metalworking oil, but the hydrocarbon (n The concentration of (pentane) is higher than that of cyclohexane, n-hexane, n-heptane and the like. For this reason, n-pentane has a low flash point and is not very dangerous as long as it is a solvent composition. However, depending on the conditions of use, the concentration increases and flammable gas is generated, which may cause fire. There is a risk. Therefore, n-pentane and the like need to be handled with care more than cyclohexane, n-hexane, n-heptane and the like.
  • a stabilizer may be further blended within a range that does not impair the effects of the present embodiment.
  • the stabilizer in the present embodiment refers to those having an effect of suppressing the decomposition of HCFO-1233yd (Z) and HCFO-1233yd (E) (excluding the hydrocarbon (A)).
  • the compound capable of stabilizing HCFO-1233yd is at least one stabilizer selected from the group consisting of phenols, ethers, epoxides, amines, alcohols, and hydrocarbons other than the hydrocarbon (A). Can be used.
  • the stability can be evaluated using, for example, the chlorine ion concentration after storing a test solution in which a stabilizer is dissolved in HCFO-1233yd at a predetermined ratio for a certain period. Chlorine ion concentration is measured with an ion chromatograph.
  • the stabilizer in the solvent composition of the present embodiment is preferably a stabilizer in which the chlorine ion concentration in the solvent composition is 100 ppm or less when HCFO-1233yd is stored at 50 ° C. for 3 days.
  • a stabilizer having a chlorine ion concentration of 50 ppm or less is more preferable, and a stabilizer having a chlorine ion concentration of 10 ppm or less is more preferable.
  • the content of the stabilizer in the solvent composition of the present embodiment is preferably 1 ppm by mass or more, more preferably 5 ppm by mass or more, and more preferably 10 ppm by mass or more in the solvent composition. Particularly preferred. Further, the content of the stabilizer is preferably 10% by mass or less, more preferably 5% by mass or less, and particularly preferably 1% by mass or less. If the stabilizer is within the above-mentioned preferred range, the stabilizer is particularly excellent in that it not only sufficiently shows stability against HCFO-1233yd, but also does not impair the properties of HCFO-1233yd having low surface tension and viscosity and good permeability. Yes.
  • the stabilizers in the present embodiment have different stabilizing actions.
  • phenols and hydrocarbons suppress the decomposition of HCFO-1233yd by an antioxidant action
  • epoxides capture generated acid and chloride ions
  • amines contain acidic substances generated by decomposition.
  • the promotion of decomposition of HCFO-1233yd by an acidic substance is suppressed. Therefore, the synergistic effect of each stabilizer is acquired by containing 2 or more types of stabilizers as needed.
  • the phenols in the present embodiment refer to aromatic hydroxy compounds having one or more hydroxy groups in the aromatic hydrocarbon nucleus.
  • the aromatic hydroxy compound is preferably dissolved in HCFO-1233yd.
  • a benzene nucleus is preferred as the aromatic hydrocarbon nucleus.
  • one or more substituents may be bonded to the aromatic hydrocarbon nucleus. Examples of the substituent include a hydrocarbon group, an alkoxy group, an acyl group, and a carbonyl group.
  • One or more hydrogen atoms bonded to the aromatic hydrocarbon nucleus may be substituted with a halogen atom.
  • the hydrocarbon group include an alkyl group, an alkenyl group, an aromatic hydrocarbon group, and an aralkyl group.
  • the alkyl group, alkenyl group, alkoxy group, acyl group, and carbonyl group preferably have 6 or less carbon atoms
  • the aromatic hydrocarbon group or aralkyl group preferably has 10 or less carbon atoms.
  • the hydrocarbon group an alkyl group or an alkenyl group is preferable, and an alkyl group is particularly preferable.
  • it preferably has an alkyl group or an alkoxy group in the ortho position with respect to the hydroxy group of the aromatic hydrocarbon nucleus.
  • the alkyl group at the ortho position is preferably a branched alkyl group such as a tertiary butyl group. When two ortho positions are present, an alkyl group may be present in any of them.
  • phenols include phenol, 1,2-benzenediol, 1,3-benzenediol, 1,4-benzenediol, 1,3,5-benzenetriol, and 2,6-ditertiarybutyl.
  • phenol 1,2-benzenediol, 2,6-ditertiarybutyl-4-methylphenol, m-cresol, 2-isopropyl-5-methylphenol, ⁇ -tocopherol and 2-methoxyphenol are more preferred.
  • the concentration of the phenols added is preferably 1 ppm by mass to 10% by mass, more preferably 5 ppm by mass to 5% by mass, and still more preferably 10 ppm by mass to 1% by mass in the solvent composition of the present embodiment. is there.
  • the stabilizer is within the above-mentioned preferable range, in addition to exhibiting sufficient stability with respect to HCFO-1233yd, the surface tension and viscosity of HCFO-1233yd are low, and it is particularly excellent because it does not impair the properties of good permeability. ing.
  • the ethers in this embodiment are a chain ether in which two hydrocarbon groups are bonded to an oxygen atom and a cyclic ether having an oxygen atom as an atom constituting the ring (however, an epoxy ring which is a three-membered cyclic ether is excluded) ).
  • the number of etheric oxygen atoms in the chain ether and cyclic ether may be 2 or more.
  • Ethers preferably have 12 or less carbon atoms.
  • the carbon atom of the hydrocarbon group constituting the ether may have a substituent such as a halogen atom or a hydroxy group.
  • ethers having an epoxy group are regarded as epoxides.
  • ethers include dimethyl ether, diethyl ether, dipropyl ether, diisopropyl ether, dibutyl ether, dipentyl ether, diisopentyl ether, diallyl ether, ethyl methyl ether, ethyl propyl ether, ethyl isopropyl ether, ethyl isobutyl.
  • Ether ethyl isopentyl ether, ethyl vinyl ether, allyl ethyl ether, ethyl phenyl ether, ethyl naphthyl ether, ethyl propargyl ether, 1,4-dioxane, 1,3-dioxane, 1,3,5-trioxane, ethylene glycol monomethyl ether , Ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monophenyl ether, ethylene glycol monobenzyl ether, Examples include lenglycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, ethylene glycol diphenyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol methyl ether, anisole, anethole, trimethoxyethane, triethoxyethane, furan, 2-methylfuran and tetrahydrofuran. It
  • ethers 4- to 6-membered cyclic ethers are preferable, and 1,4-dioxane, 1,3-dioxane, 1,3,5-trioxane, 2-methylfuran and tetrahydrofuran are particularly preferable.
  • the concentration of the ethers added is preferably 1 mass ppm to 10 mass%, more preferably 10 mass ppm to 7 mass%, and further preferably 0.01 mass% to 5 mass% in the solvent composition of the present embodiment. .
  • the stabilizer is within the above-mentioned preferable range, in addition to exhibiting sufficient stability with respect to HCFO-1233yd, the surface tension and viscosity of HCFO-1233yd are low, and it is particularly excellent because it does not impair the properties of good permeability. ing.
  • the epoxides in the present embodiment refer to compounds having one or more epoxy groups that are 3-membered cyclic ethers.
  • Epoxides may have two or more epoxy groups in one molecule, and may have a substituent such as a halogen atom, an etheric oxygen atom, or a hydroxy group.
  • Epoxides preferably have 12 or less carbon atoms.
  • epoxides include 1,2-propylene oxide, 1,2-butylene oxide, 1,2-epoxy-3-phenoxypropane, butyl glycidyl ether, methyl glycidyl ether, ethyl glycidyl ether, and vinyl glycidyl ether. Allyl glycidyl ether, diethylene glycol diglycidyl ether, epichlorohydrin, d-limonene oxide and 1-limonene oxide. Of these, 1,2-propylene oxide, 1,2-butylene oxide and butyl glycidyl ether are preferable.
  • the addition concentration of the epoxides is preferably 1 to 10% by mass, more preferably 10 to 7% by mass, and further 0.01 to 5% by mass in the solvent composition of the present embodiment. preferable.
  • the stabilizer is within the above-mentioned preferable range, in addition to exhibiting sufficient stability with respect to HCFO-1233yd, the surface tension and viscosity of HCFO-1233yd are low, and it is particularly excellent because it does not impair the properties of good permeability. ing.
  • the amines in the present embodiment refer to compounds having at least one substituted or unsubstituted amino group (primary to tertiary amine).
  • the amines may be non-cyclic amines or cyclic amines (cyclic compounds in which the nitrogen atom of an amino acid is an atom constituting a ring).
  • the group bonded to the nitrogen atom of the secondary amine or tertiary amine is preferably an alkyl group having 6 or less carbon atoms or a hydroxyalkyl group.
  • Acyclic amines include aliphatic amines and aromatic amines. Aliphatic amines include benzene nucleus-containing compounds having one or more substituted or unsubstituted amino groups.
  • Examples of the cyclic amines include 4- to 6-membered ring compounds having 1 to 3 nitrogen atoms constituting the ring. Moreover, 16 or less is preferable and, as for carbon number of amines, 10 or less is more preferable.
  • amines include methylamine, dimethylamine, trimethylamine, ethylamine, diethylamine, triethylamine, n-propylamine, di-n-propylamine, isopropylamine, diisopropylamine, butylamine, dibutylamine, tributylamine, Isobutylamine, diisobutylamine, secondary-butylamine, tertiary-butylamine, pentylamine, dipentylamine, tripentylamine, hexylamine, 2-ethylhexylamine, allylamine, diallylamine, triallylamine, aniline, N-methylaniline, N, N -Dimethylaniline, N, N-diethylaniline, pyridine, picoline, morpholine, N-methylmorpholine, benzylamine, dibenzylamino , ⁇ -methylbenzylamine, propylenediamine,
  • amines alkylamines and cyclic amines are preferable, and pyrrole, N-methylpyrrole, 2-methylpyridine, n-propylamine, diisopropylamine, N-methylmorpholine and N-ethylmorpholine are particularly preferable.
  • the concentration of the amines added is preferably 1 mass ppm to 10 mass%, more preferably 5 mass ppm to 5 mass%, and still more preferably 10 mass ppm to 1 mass% in the solvent composition of the present embodiment. And 0.001 to 0.1% by mass is most preferable.
  • the stabilizer is within the above-mentioned preferable range, in addition to exhibiting sufficient stability with respect to HCFO-1233yd, the surface tension and viscosity of HCFO-1233yd are low, and it is particularly excellent because it does not impair the properties of good permeability. ing.
  • the acid generated when HCFO-1233yd is decomposed is captured to prevent an increase in the acid content and suppress further decomposition reaction.
  • the influence of external factors can be reduced.
  • the alcohol in the present embodiment refers to an organic compound in which a hydroxy group is bonded to a linear, branched or cyclic hydrocarbon.
  • the alcohols in the present embodiment are alcohols having 1 to 3 carbon atoms because they are soluble in HCFO-1233yd, are volatile, and volatilize together with HCFO-1233yd, and hardly remain on the surface of the article. Is preferred.
  • alcohols include methanol, ethanol, 1-propanol, isopropanol, 1-butanol, 2-butanol, 2-methyl-1-propanol, 2-methyl-2-propanol, 1-pentanol, 2 -Pentanol, 1-ethyl-1-propanol, 2-methyl-1-butanol, 3-methyl-1-butanol, 3-methyl-2-butanol, neopentyl alcohol, 1-hexanol, 2-methyl-1- Pentanol, 4-methyl-2-pentanol, 2-ethyl-1-butanol, 1-heptanol, 2-heptanol, 3-heptanol, 1-octanol, 2-octanol, 2-ethyl-1-hexanol, 1- Nonanol, 3,5,5-trimethyl-1-hexanol, 1-decanol, 1- Ndecanol, 1-dodecanol, allyl alcohol,
  • the concentration of the alcohols added is preferably 1 to 10 ppm by weight, more preferably 5 to 5% by weight, even more preferably 10 to 1% by weight in the solvent composition of the present embodiment. And 0.001 to 0.1% by mass is most preferable.
  • the stabilizer is within the above-mentioned preferable range, in addition to exhibiting sufficient stability with respect to HCFO-1233yd, the surface tension and viscosity of HCFO-1233yd are low, and it is particularly excellent because it does not impair the properties of good permeability. ing.
  • hydrocarbons other than the hydrocarbon (A) in the present embodiment are hydrocarbons used as stabilizers other than the hydrocarbon (A) as the essential component described above (hereinafter referred to as “hydrocarbon stability”). Referred to as “agent”).
  • the hydrocarbon stabilizer may be a saturated hydrocarbon or an unsaturated hydrocarbon in which at least one carbon-carbon bond is an unsaturated bond.
  • the hydrocarbon stabilizer in the present embodiment has solubility in HCFO-1233yd, volatility, volatilizes with HCFO-1233yd, and hardly remains on the surface of the article.
  • a chain or cyclic hydrocarbon stabilizer of ⁇ 9 is preferred.
  • saturated hydrocarbons include n-pentane, 2,2-dimethylbutane, 2,3-dimethylbutane, 2-methylheptane, 3-methylheptane, 4-methylheptane, and 2,2-dimethyl.
  • Examples include pentane, 2,2,3-trimethylpentane, 2-methylheptane, cyclopentane, and methylcyclohexane. Of these, n-pentane and cyclopentane are more preferred.
  • the unsaturated hydrocarbon include pentene isomers such as 1-pentene, 2-pentene, 2-methyl-1-butene, 3-methyl-1-butene, and 2-methyl-2-butene.
  • pentene isomers such as 1-pentene, 2-pentene, 2-methyl-1-butene, 3-methyl-1-butene, and 2-methyl-2-butene.
  • Hexene isomers such as 3-ethyl-2-butene, 2-methyl-2-pentene, 3-methyl-2-pentene, 4-methyl-2-pentene, 2,3-dimethyl-2-butene, Heptene isomers such as heptene, 2-heptene, 3-heptene, 4-heptene, 3-eth
  • 2-methyl-2-butene, 2-methyl-1-pentene, 2-methyl-2-pentene, 3-ethyl-2-butene, 2,3-dimethyl-2-butene, 2, 4,4-Trimethyl-1-pentene and 2,4,4-trimethyl-2-pentene are preferred.
  • the unsaturated hydrocarbon is more preferable as a stabilizer for HCFO-1233yd because the antioxidant action by oxygen scavenging is higher for unsaturated hydrocarbons than for saturated hydrocarbons.
  • the blending amount of the hydrocarbons is preferably 1 mass ppm to 10 mass%, more preferably 5 mass ppm to 7 mass%, still more preferably 10 mass ppm to 5 mass%, and 0.001 to 0.001. 1% by mass is most preferred.
  • the stabilizer is within the above-mentioned preferable range, in addition to exhibiting sufficient stability with respect to HCFO-1233yd, the surface tension and viscosity of HCFO-1233yd are low, and it is particularly excellent because it does not impair the properties of good permeability. ing.
  • the solvent composition of the present embodiment preferably contains at least one stabilizer having a boiling point of 30 to 120 ° C.
  • at least one kind of the above-mentioned stabilizer having a boiling point of 30 to 120 ° C. it becomes excellent in drying property. Thereby, the component derived from the solvent composition of this embodiment does not remain on the surface of the article after washing or the coating film after forming the coating film.
  • Preferred stabilizers from this viewpoint include methanol (boiling point: 64.5 ° C), ethanol (boiling point: 78.4 ° C), isopropanol (boiling point: 84 ° C), 2-propyn-1-ol (boiling point: 112 ° C).
  • 1,2-butylene oxide (boiling point: 63.2 ° C.), tetrahydrofuran (boiling point: 66 ° C.), 1,4-dioxane (boiling point: 101 ° C.), n-propylamine (boiling point: 48 ° C.), diisopropylamine ( Boiling point: 84 ° C), N-methylmorpholine (boiling point: 115 ° C), N-methylpyrrole (boiling point: 112 ° C), 2-methyl-2-butene (boiling point: 39 ° C), 2-methyl-1-pentene ( Boiling point: 62 ° C.), 2-methyl-2-pentene (boiling point: 67 ° C.), 3-ethyl-2-butene (boiling point: 73 ° C.), 2,3-dimethyl-2-butene (boiling point: 73 ° C.), 2, , 4-
  • methanol, ethanol, isopropanol, 2-propyn-1-ol, 2-methyl-1-pentene, 2-methyl-2-pentene, 3-ethyl-2-butene, 2,3-dimethyl- 2-butene, 2,4,4-trimethyl-1-pentene, 2,4,4-trimethyl-2-pentene, 2,3-dimethyl-2-butene, 3-ethyl-2-butene, N-methylpyrrole are more preferable, 2-methyl-1-pentene, 2-methyl-2-pentene, 3-ethyl-2-butene, 2,3-dimethyl-2-butene, 2,4,4-trimethyl-1-pentene, More preferred are 2,4,4-trimethyl-2-pentene, 2,3-dimethyl-2-butene, 3-ethyl-2-butene and N-methylpyrrole.
  • the solvent composition of the present embodiment further improves stability while maintaining excellent drying properties by including two or more different types of stabilizers having boiling points of 30 to 120 ° C.
  • a combination of stabilizers a combination of two or more kinds of stabilizers among alcohols, unsaturated hydrocarbon stabilizers and amines is preferable. Examples include alcohols and unsaturated hydrocarbon stabilizers, alcohols and amines, and unsaturated hydrocarbon stabilizers and amines. A plurality of compounds belonging to the same class may be included.
  • the stabilizer it is more preferable to select and combine a stabilizer from at least two or more of the following groups i), ii) and iii). Moreover, the stabilizer chosen from each group may be one, and may be two or more. By using these stabilizers in combination, the long-term stability of the solvent composition is excellent due to the synergistic effect of the stabilizers.
  • the solvent composition of the present embodiment When the solvent composition of the present embodiment is used in a cleaning apparatus, distillation regeneration is repeated in the cleaning apparatus or the solvent regeneration apparatus, so that the solvent composition is continuously exposed to severe conditions. Further, when the solvent composition of the present embodiment is used as a non-volatile solute coating solvent, when the volatilized solvent composition is recovered by adsorption / desorption of activated carbon, the solvent component is superheated steam at the time of desorption from the activated carbon. In contact, the solvent composition is exposed to harsh conditions. Furthermore, when using the solvent composition of this embodiment as a heat transfer medium in a heat cycle system, the solvent composition is exposed to severe conditions that repeat compression and expansion.
  • the solvent composition of the present embodiment when used for an application involving a phase change, includes a phenol as a stabilizer and a stable boiling point of 30 to 120 ° C. It is preferable that an agent is included.
  • the solvent composition of the present embodiment may contain nitro compounds or triazoles in order to avoid corrosion of those metals.
  • Nitro compounds are nitromethane, nitroethane, 1-nitropropane, 2-nitropropane, 1-nitroethylene. More preferred is nitromethane or nitroethane.
  • Triazoles include 2- (2′-hydroxy-5′-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3′-tertiary-butyl-5′-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, It is selected from 1,2,3-benzotriazole, 1-[(N, N-bis-2-ethylhexyl) aminomethyl] benzotriazole, and more preferably 1,2,3-benzotriazole.
  • the content concentration of the nitro compounds and triazoles is preferably 10 mass ppm to 1 mass% with respect to the whole solvent composition.
  • the solvent composition of the present embodiment is a solvent soluble in HCFO-1233yd (hereinafter referred to as “solvent (hereinafter referred to as“ solvent ”), depending on various purposes such as increasing solubility and adjusting the volatilization rate. A) ”) may be included.
  • solvent hereinafter referred to as “solvent”
  • the solvent soluble in HCFO-1233yd is mixed with HCFO-1233yd so as to have a desired concentration, and stirred at room temperature (25 ° C) to dissolve evenly without causing two-layer separation or turbidity. It means a solvent that can be used.
  • 1 type may be sufficient as the solvent (A) contained in the solvent composition of this embodiment, and 2 or more types may be sufficient as it.
  • the solvent (A) is at least one solvent selected from the group consisting of hydrocarbon stabilizers, alcohols, ketones, ethers, esters, chlorocarbons, HFCs, HFEs, HCFOs, and CFOs. Is preferred.
  • the stabilizers in the present embodiment there are compounds that can be used as the solvent (A).
  • Such a stabilizer may be contained in the solvent composition of the present embodiment in excess of a sufficient amount to exhibit a stabilizing effect. In that case, the amount of the stabilizer exceeding the amount sufficient for exhibiting the stabilizing effect shall be regarded as the solvent (A).
  • hydrocarbons having 5 or more carbon atoms are preferable. If it is a hydrocarbon having 5 or more carbon atoms, it may be a chain or a ring, and may be a saturated hydrocarbon or an unsaturated hydrocarbon.
  • hydrocarbons include n-pentane, 2-methylbutane, 2,2-dimethylbutane, 2,3-dimethylbutane, n-octane, 2-methylheptane, 3-methylheptane, 4- Methylheptane, 2,2-dimethylhexane, 2,5-dimethylhexane, 3,3-dimethylhexane, 2-methyl-3-ethylpentane, 3-methyl-3-ethylpentane, 2,3,3-trimethylpentane 2,3,4-trimethylpentane, 2,2,3-trimethylpentane, n-nonane, 2,2,5-trimethylhexane, n-decane, n-dodecane, cyclopentane, methylcyclohexane, ethylcyclohexane, biphenyl Examples include cyclohexane, ⁇ -pinene, dipentene, decal
  • an alcohol having 1 to 16 carbon atoms is preferable. As long as the alcohol has 1 to 16 carbon atoms, it may be a chain or a ring, and may be a saturated alcohol or an unsaturated alcohol.
  • alcohols include methanol, ethanol, 1-propanol, isopropanol, 1-butanol, 2-butanol, 2-methyl-1-propanol, 2-methyl-2-propanol, 1-pentanol, 2-pentanol, 1-ethyl-1-propanol, 2-methyl-1-butanol, 3-methyl-1-butanol, 3-methyl-2-butanol, neopentyl alcohol, 1-hexanol, 2-methyl-1 -Pentanol, 4-methyl-2-pentanol, 2-ethyl-1-butanol, 1-heptanol, 2-heptanol, 3-heptanol, 1-octanol, 2-octanol, 2-ethyl-1-hexanol, 1 -Nonanol, 3,5,5-trimethyl-1-hexanol, 1-decanol, -Undecanol, 1-dodecanol,
  • ketones having 3 to 9 carbon atoms are preferable.
  • the ketones having 3 to 9 carbon atoms may be chain-like or cyclic, and may be saturated ketones or unsaturated ketones.
  • ketones include acetone, methyl ethyl ketone, 2-pentanone, 3-pentanone, 2-hexanone, methyl isobutyl ketone, 2-heptanone, 3-heptanone, 4-heptanone, diisobutyl ketone, mesityl oxide
  • examples include phorone, 2-octanone, cyclohexanone, methylcyclohexanone, isophorone, 2,4-pentanedione, 2,5-hexanedione, diacetone alcohol, acetophenone, and the like. Of these, acetone and methyl ethyl ketone are more preferable.
  • ethers having 2 to 8 carbon atoms are preferable. As long as it is an ether having 2 to 8 carbon atoms, it may be linear or cyclic, and may be a saturated ether or an unsaturated ether.
  • ethers include diethyl ether, dipropyl ether, diisopropyl ether, dibutyl ether, ethyl vinyl ether, butyl vinyl ether, anisole, phenetole, methyl anisole, furan, methyl furan, tetrahydrofuran and the like. Of these, diethyl ether, diisopropyl ether, and tetrahydrofuran are more preferable.
  • esters having 2 to 19 carbon atoms are preferable.
  • the esters having 2 to 19 carbon atoms may be chain-like or cyclic, and may be saturated esters or unsaturated esters.
  • esters include methyl formate, ethyl formate, propyl formate, butyl formate, isobutyl formate, pentyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, isopropyl acetate, butyl acetate, isobutyl acetate, sec-acetate Butyl, pentyl acetate, methoxybutyl acetate, sec-hexyl acetate, 2-ethylbutyl acetate, 2-ethylhexyl acetate, cyclohexyl acetate, benzyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate, butyl propionate, methyl butyrate, ethyl butyrate, butyl butyrate , Isobutyl isobutyrate, ethyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, methyl benzoate, ethyl
  • the chlorocarbons that are the solvent (A) are preferably chlorocarbons having 1 to 3 carbon atoms.
  • the chlorocarbons having 1 to 3 carbon atoms may be chain-like or cyclic, and may be saturated chlorocarbons or unsaturated chlorocarbons.
  • chlorocarbons include methylene chloride, 1,1-dichloroethane, 1,2-dichloroethane, 1,1,2-trichloroethane, 1,1,1,2-tetrachloroethane, 1,1, Examples include 2,2-tetrachloroethane, pentachloroethane, 1,1-dichloroethylene, cis-1,2-dichloroethylene, trans-1,2-dichloroethylene, trichloroethylene, tetrachloroethylene, 1,2-dichloropropane, and the like. Of these, methylene chloride, trans-1,2-dichloroethylene, and trichloroethylene are more preferable.
  • HFCs as the solvent (A), linear or cyclic HFCs having 4 to 8 carbon atoms are preferable, and solvents contained in HFCs in which the number of fluorine atoms in one molecule is equal to or more than the number of hydrogen atoms are more preferable.
  • HFCs include 1,1,1,3,3-pentafluorobutane, 1,1,1,2,2,3,4,5,5,5-decafluoropentane, , 1,2,2,3,3,4-heptafluorocyclopentane, 1,1,1,2,2,3,3,4,4-nonafluorohexane, 1,1,1,2,2, 3,3,4,4,5,5,6,6-tridecafluorohexane, 1,1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6-tridecafluoro Examples include octane.
  • 1,1,1,2,2,3,4,5,5,5-decafluoropentane, 1,1,1,2,2,3,3,4,4-nonafluorohexane, 1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6-tridecafluorohexane is more preferred.
  • HFE as the solvent (A) examples include (perfluorobutoxy) methane, (perfluorobutoxy) ethane, 1,1,2,2-tetrafluoro-1- (2,2,2-trifluoroethoxy) ethane. Etc. Of these, (perfluorobutoxy) methane and 1,1,2,2-tetrafluoro-1- (2,2,2-trifluoroethoxy) ethane are preferable.
  • HCFOs as the solvent (A) include E isomer and Z isomer of 1-chloro-3,3,3-trifluoro-1-propene, 1,1-dichloro-3,3,3-trifluoro Examples include the E isomer and the Z isomer of 1-propene, 1,2-dichloro-3,3,3-trifluoro-1-propene. Of these, the Z isomer of 1-chloro-3,3,3-trifluoro-1-propene is preferred.
  • Examples of the CFO as the solvent (A) include 1,1-dichloro-2,3,3,3-tetrafluoro-1-propene.
  • the solvent (A) is a solvent having no flash point.
  • 1,1,1,2,2,3,4,5,5,5-decafluoropentane, 1,1,1,2,2,3,3, HFCs such as 4,4-nonafluorohexane, 1,1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6-tridecafluorohexane, (perfluorobutoxy) methane, HFEs such as 1,1,2,2-tetrafluoro-1- (2,2,2-trifluoroethoxy) ethane, E isomer of 1-chloro-3,3,3-trifluoro-1-propene
  • Z isomers 1,1-dichloro-3,3,3-trifluoro-1-propene
  • E isomer and Z isomer of 1,2-dichloro-3,3,3-trifluoro-1-propene HCFOs such as 1,1-dichloro-2,3,3,3-tetrafluoro-1-prop
  • HCFO-1233yd and the solvent (A) form an azeotropic composition
  • it can be used in the azeotropic composition.
  • the content of the solvent (A) in the solvent composition of this embodiment is 100 parts by mass of the total amount of HCFO-1233yd and the solvent (A).
  • the solvent (A) is preferably 0.1 to 50 parts by mass, more preferably 0.5 to 20 parts by mass, and further preferably 1 to 10 parts by mass.
  • the content of the solvent (A) is not less than the above lower limit, the effect of the solvent (A) can be sufficiently obtained. If the content of the solvent (A) is not more than the above upper limit value, the excellent drying property of HCFO-1233yd will not be hindered.
  • the solvent composition of this embodiment described above is a solvent composition that is excellent in the cleaning performance of the flux and metalworking oil on the surface of the article, has no adverse effect on the global environment, and suppresses the decomposition of HCFO-1233yd and is stabilized. is there.
  • the solvent composition of the present embodiment can be used for a wide range of contact materials such as metals, plastics, elastomers, glasses, ceramics and the like.
  • the solvent composition of this embodiment is particularly suitable for flux cleaning agents and metalworking oil cleaning agents.
  • the solvent composition of this embodiment can be used as a cleaning agent for cleaning fluxes, metal processing oils, waxes, mold release agents, dust, and the like attached to various articles.
  • it can be suitably used as a flux cleaning agent and a metal processing oil cleaning agent.
  • the method for cleaning the surface of an article using the solvent composition of the present embodiment is such that the solvent composition of the present embodiment is brought into contact with an article having dirt to be cleaned attached to the surface to remove the dirt from the surface of the article.
  • Examples of the contact method include hand-wiping cleaning, immersion cleaning, spray cleaning, immersion rocking cleaning, immersion ultrasonic cleaning, steam cleaning, and a combination of these.
  • a well-known thing can also be suitably selected also about a washing
  • Examples of materials for articles to which this solvent composition can be applied include metals, resins, rubbers, fibers, glass, ceramics, and composite materials thereof.
  • Examples of the composite material include a laminate of a metal and a resin.
  • Examples of cleaning applications using the solvent composition of the present embodiment include cleaning of flux, metalworking oil, wax, mold release agent, dust, etc. adhering to various objects to be cleaned, in particular, flux, metalworking oil.
  • the solvent composition of the present embodiment is generally difficult to clean, such as a flux that is firmly fixed by soldering or a high-viscosity metal working oil having a kinematic viscosity at 40 ° C. of 100 mm 2 / s or more. Even if it exists, those washing
  • more specific examples of the objects to be cleaned include textile products, medical instruments, electrical equipment, precision machines, optical articles, and parts thereof.
  • examples of the object to be cleaned include electronic parts, electric parts, precision machine parts, and optical parts, and specifically, ICs, capacitors, printed circuit boards, micro motors, relays, bearings, optical lenses. And a glass substrate.
  • a cleaning apparatus and a cleaning method disclosed in International Publication No. 2008/149907 can be given.
  • the temperature of the solvent composition of the present embodiment in the first immersion tank is 25 ° C. or higher, the solvent It is preferable to be less than the boiling point of the composition. If it is in the said range, degreasing cleaning of processing oil etc. can be performed easily and the cleaning effect by an ultrasonic wave is high.
  • the temperature of the solvent composition of the present embodiment in the second immersion tank is preferably 10 to 45 ° C.
  • the temperature of the solvent composition of this embodiment in a 1st immersion tank is higher than the temperature of the solvent composition of a 2nd immersion tank from the point of detergency.
  • the present solvent composition remaining on the surface of a part or the like can be removed by drying. Drying can be performed under any drying conditions (temperature, time, etc.) in various drying methods such as heat drying, vacuum drying, and natural drying. In particular, in the case of the present solvent composition, it rapidly evaporates at room temperature, so that it can be removed from the surface by natural drying. Moreover, you may collect
  • the solvent composition of the present embodiment is used as, for example, a solvent for applying a nonvolatile solute component to the surface of an article
  • the solution is prepared by dissolving the solute component in the solvent composition of the present embodiment. It applies
  • the non-volatile component here is a lubricant for imparting lubricity to an article, a rust inhibitor for imparting a rust preventive effect for metal parts, a moisture-proof coating agent for imparting water repellency to an article, Examples include an antifouling agent for imparting antifouling performance to articles.
  • a lubricant may be dissolved in the solvent composition of the present embodiment to form a lubricant solution.
  • Lubricant means what is used to reduce friction on the contact surface and prevent heat generation and wear damage when the two members move with their surfaces in contact with each other.
  • the lubricant may be in any form of liquid (oil), semi-solid (grease), and solid.
  • a fluorine-based lubricant or a silicone-based lubricant is preferable from the viewpoint of excellent solubility in HCFO-1233yd.
  • a fluorine-type lubricant means the lubricant which has a fluorine atom in a molecule
  • the silicone-based lubricant means a lubricant containing silicone.
  • the lubricant contained in the lubricant solution may be one kind or two or more kinds.
  • Each of the fluorine-based lubricant and the silicone-based lubricant may be used alone or in combination.
  • fluorine-based lubricant examples include fluorine-based solid lubricants such as fluorine oil, fluorine grease, and polytetrafluoroethylene resin powder.
  • fluorine oil perfluoropolyether or a low polymer of chlorotrifluoroethylene is preferable.
  • the fluorine grease is preferably a blend of polytetrafluoroethylene powder or other thickener with a fluorine oil such as perfluoropolyether or a low polymer of chlorotrifluoroethylene as a base oil.
  • Silicone lubricants and silicone greases are examples of silicone lubricants.
  • silicone oil dimethyl silicone, methyl hydrogen silicone, methyl phenyl silicone, cyclic dimethyl silicone, and modified silicone oil in which an organic group is introduced into a side chain or a terminal are preferable.
  • the silicone grease is preferably a product in which the various silicone oils listed above are used as a base oil and a thickener such as metal soap and various additives are blended.
  • a thickener such as metal soap and various additives are blended.
  • fluorine-based lubricants and silicone-based lubricants include fluorosilicone oils that are modified silicone oils whose terminal or side chains are substituted with fluoroalkyl groups.
  • fluorosilicone oils that are modified silicone oils whose terminal or side chains are substituted with fluoroalkyl groups.
  • lubricant solutions can be used for industrial equipment in which fluorine-based lubricants are used, CD and DVD tray parts in personal computers and audio equipment, home equipment such as printers, copy machines, and fax machines, and office equipment.
  • fluorine-based lubricants are used
  • CD and DVD tray parts in personal computers and audio equipment
  • home equipment such as printers, copy machines, and fax machines
  • office equipment such as printers, copy machines, and fax machines
  • office equipment such as printers, copy machines, and fax machines
  • injection needles and cylinders of syringes in which silicone lubricants are used, medical tube parts, and the like.
  • the content of the lubricant in the lubricant solution (100% by mass) is preferably 0.01 to 50% by mass, more preferably 0.05 to 30% by mass, and further preferably 0.1 to 20% by mass.
  • the content of the lubricant is within the above range, it is easy to adjust the thickness of the coating film when the lubricant solution is applied and the thickness of the lubricant coating after drying to an appropriate range.
  • the content of the rust inhibitor in the rust inhibitor solution is preferably in the same range as described above.
  • Lubricant solution application methods include, for example, application by brush, application by spraying, application by immersing an article in the lubricant solution, and bringing the lubricant solution into contact with the inner wall of the tube or needle by sucking up the lubricant solution.
  • the application method etc. to make are mentioned.
  • the rust preventive agent in the present embodiment refers to a substance that covers the surface of a metal that is easily oxidized by oxygen in the air to cause rust, and prevents the rust of the metal material by blocking the metal surface and oxygen.
  • Examples of the rust preventive agent include mineral oils and synthetic oils such as polyol esters, polyalkylene glycols, and polyvinyl ethers.
  • the method of applying the rust inhibitor is the same as that of the lubricating oil, and examples thereof include application by brush, application by spray, application by immersing the article in the rust inhibitor solution, and the like.
  • a moisture-proof coating agent and a fingerprint adhesion preventing agent for imparting moisture resistance and antifouling property to plastic, rubber, metal, glass, and a mounted circuit board can be applied to the surface of the article by the same method.
  • moisture-proof coating agents include TOPAS 5013, TOPAS 6013, TOPAS 8007 (polyplastics product), ZEONOR 1020R, ZEONOR 1060R (Nippon ZEON product), APEL 6011T, APEL 8008T (product of Mitsui Chemicals), SFE- DP02H, SNF-DP20H (product of Seimi Chemical Co.) can be mentioned.
  • antifouling coating agents such as fingerprint adhesion preventing agents
  • fingerprint adhesion preventing agents include OPTOOL DSX, OPTOOL DAC (product of Daikin Industries), Fluorosurf FG-5000 (product of Fluorotechnology), SR-4000A (product of Seimi Chemical). Can be mentioned.
  • coated object As the coated object to which the lubricant, rust preventive agent, moisture proof coating agent, and fingerprint adhesion preventing agent are applied, it is possible to employ coated materials of various materials such as metal, plastic, elastomer, glass and ceramics.
  • the solvent composition of the present embodiment described above has a short lifetime in the atmosphere, is excellent in solubility, and can be used in a stable state without decomposing without adversely affecting the global environment.
  • the heat transfer medium application in this embodiment uses the solvent composition of this embodiment as a working medium (heat transfer medium) in a heat cycle system. This allows the material to be heated or cooled.
  • Examples of the heat cycle system include a Rankine cycle system, a heat pump cycle system, a refrigeration cycle system, a heat transport system, a secondary refrigerant cooling system, and the like.
  • the refrigeration cycle system is a system that cools the load fluid to a lower temperature by removing the thermal energy from the load fluid in the evaporator in the evaporator.
  • a compressor that compresses the working medium vapor A into a high-temperature and high-pressure working medium steam B
  • a condenser that cools and compresses the compressed working medium vapor B into a low-temperature and high-pressure working medium C.
  • An expansion valve that expands the working medium C discharged from the condenser to form a low-temperature and low-pressure working medium D, and evaporation that heats the working medium D discharged from the expansion valve to form a high-temperature and low-pressure working medium vapor A
  • a pump for supplying the load fluid E to the evaporator and a pump for supplying the fluid F to the condenser.
  • lubricating oil can be mixed and used for the working medium in this embodiment.
  • a known lubricating oil used in a heat cycle system is used.
  • the lubricating oil include oxygen-containing synthetic oils (such as ester-based lubricating oils and ether-based lubricating oils), fluorine-based lubricating oils, mineral oils, and hydrocarbon-based synthetic oils.
  • the working medium in the present embodiment can also be applied to a secondary circulation cooling system.
  • the secondary circulation cooling system circulates a primary cooling means for cooling a primary refrigerant made of ammonia or a hydrocarbon refrigerant and a secondary refrigerant for a secondary circulation cooling system (hereinafter referred to as “secondary refrigerant”). It is a system having a secondary circulation cooling means for cooling a cooled object, and a heat exchanger for cooling the secondary refrigerant by exchanging heat between the primary refrigerant and the secondary refrigerant. An object to be cooled can be cooled by this secondary circulation cooling system.
  • the working medium in this embodiment is suitable for use as a secondary refrigerant.
  • HCFO-1233yd (Z) or HCFO-1233yd (E) was repeated to produce the required amount of HCFO-1233yd (Z) or HCFO-1233yd (E) for testing.
  • HCFO-1233yd (Z) and HCFO-1233yd (E) obtained by the same reaction were separated as a mixture, and an isomer mixture of HCFO-1233yd (Z) and HCFO-1233yd (E) was also produced.
  • the isomer mixture of HCFO-1233yd obtained at this time was 95% by mass of HCFO-1233yd (Z) and 5% by mass of HCFO-1233yd (E).
  • the composition of the gas phase and the liquid phase was 90.0% by mass for HCFO-1233yd (Z) and 10.0% by mass for cyclohexane as shown in Table 1. (Specific volatility is 1.0).
  • the gas phase temperature at this time was 52.8 ° C.
  • the composition of the gas phase and the liquid phase is 89.0% by mass for HCFO-1233yd (Z) and 21.0% by mass for n-hexane as shown in Table 2. In agreement (relative volatility of 1.0).
  • the gas phase temperature at this time was 50.8 ° C.
  • the composition of the gas phase and the liquid phase is 97.7% by mass for HCFO-1233yd (Z) and 2.3% by mass for n-heptane as shown in Table 3. In agreement (relative volatility of 1.0).
  • the gas phase temperature at this time was 53.6 ° C.
  • Solvent compositions of Examples 1 to 18 were obtained using hexane and n-heptane and using known solvent compositions so as to have mass ratios (%) shown in Tables 4 and 5.
  • HCFO-1233yd (Z), HCFO-1233yd isomer mixture obtained in Production Example 1 and HCFO-1233yd (E) were each of a single composition.
  • Asahi Krine AK-225AES (trade name, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), which is a mixture of HCFC-225 (95% by mass), ethanol (4.3 to 4.5% by mass), and nitromethane (remainder), was used as Example 18.
  • Asahi Clin AK-225 (trade name, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) consisting of HCFC-225 was prepared.
  • the isomer mixture of HCFO-1233yd was simply indicated as “HCFO-1233yd” in Tables 4 and 5.
  • a cleaning solder paste (M705-345F-31-) on a comb-type electrode substrate B (conductor width: 0.66 mm, conductor spacing: 1.22 mm, overlap margin: 21.12 mm, overall substrate dimensions: 50 ⁇ 50 mm) 12: Trade name, manufactured by Senju Metal Industry Co., Ltd., pre-heated for 30 seconds with Fluorinert FC-40 (trade name, manufactured by Sumitomo 3M), then 10 After soldering for 2 seconds, a substrate (B) was prepared by leaving it to stand overnight and soldering.
  • a 500 ml glass beaker containing 500 ml of flux cleaning agent was subjected to immersion cleaning at a temperature of 45 ° C. irradiated with ultrasonic waves having an output of 200 W and a frequency of 35 kHz for 3 minutes, and 500 ml of flux cleaning agent was further added. Rinse washing was carried out for 3 minutes by dipping in a 500 ml glass beaker, and finally steam washing was carried out for 3 minutes in a 2000 ml beaker equipped with a cooling coil.
  • ⁇ Cleaning test B> The test was performed in the same manner as in the cleaning test A, except that “EM-7451 (kinematic viscosity 342 mm 2 / s: 40 ° C.)” (manufactured by Nippon Tool Oil Co., Ltd., trade name) was used as the metal processing oil.
  • ⁇ Cleaning test C> The test was conducted in the same manner as in cleaning test A, except that “Suncut 50S (kinematic viscosity: 44 mm 2 / s: 40 ° C.)” (trade name, manufactured by Nippon Grease Co., Ltd.) was used as the metal processing oil.
  • the solvent compositions of Examples 1 to 13 are composed of components that do not adversely affect the global environment, and in terms of performance, each isomer of HCFO-1233yd of Examples 14 to 16 alone It is clear that metal processing oil that cannot be cleaned can be removed to the same extent as AK-225 (Example 18), which is an HCFC, and has sufficient performance as a cleaning agent for metal processing oil.
  • the solvent composition of the present embodiment suppresses the burden on the global environment, has good flux cleaning performance and metal processing oil cleaning performance, and is excellent in the stability of the solvent composition. I found out.
  • the solvent composition of the present invention is a solvent composition that is excellent in the solubility of various organic substances, has no adverse effect on the global environment, and is excellent in cleaning performance of flux and metalworking oil.
  • This solvent composition is useful for a wide range of industrial applications such as cleaning and coating applications, and can be used without adversely affecting articles made of various materials such as metals, plastics, and elastomers.

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Abstract

本発明は、１－クロロ－２，３，３－トリフルオロ－１－プロペン（ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ）と、沸点が６０～１００℃の炭化水素（Ａ）と、を含む溶剤組成物であり、各種有機物の溶解性に優れ、かつ地球環境に悪影響を及ぼさず、フラックスおよび金属加工油の洗浄性能に優れた溶剤組成物である。

Description

溶剤組成物、フラックスの洗浄方法および金属加工油の洗浄方法
　本発明は、プリント基板、ＩＣ等の電子部品、精密機械部品、ガラス基板等のフラックス洗浄や加工油洗浄等に好適に用いられる溶剤組成物、および該溶剤組成物を用いたフラックスや金属加工油等の洗浄方法に関する。
　ＩＣ、電子部品、精密機械部品、光学部品等の製造では、製造工程、組立工程、最終仕上げ工程等において、部品を洗浄剤によって洗浄し、該部品に付着したフラックス、加工油、ワックス、離型剤等の残渣やほこり等を除去することが行われている。 
　ここで、上記各種物品の製造に使用されるフラックスは、ロジンフラックスと水溶性フラックスに分類され、耐久性や信頼性を要求される分野では一般にロジンフラックスが用いられている。ロジンフラックスは、半田付け後にプリント基板から完全に除去されないと回路に腐食を発生させ、回路を破損する。このため、上記除去されるべき残渣等の中でも特にフラックスに対して洗浄能力が高い洗浄剤が求められるようになった。
　このような用途に用いる洗浄剤としては、不燃性で毒性が低く、安定性に優れ、金属、プラスチック、エラストマー等の基材を侵さず、化学的および熱的安定性に優れる点から、１，１，２－トリクロロ－１，２，２－トリフルオロエタン等のクロロフルオロカーボン類（以下、「ＣＦＣ類」と記す。）が使用されていた。しかし、ＣＦＣ類は、化学的に極めて安定であることから、気化後の対流圏内での寿命が長く、拡散して成層圏にまで達する。そのため、成層圏に到達したＣＦＣ類が紫外線により分解され、塩素ラジカルを発生してオゾン層が破壊される問題がある。このことから、ＣＦＣ類の生産は世界的に規制されており、先進国での生産は既に全廃されている。 
　ＣＦＣ類の代替溶剤として、２，２－ジクロロ－１，１，１－トリフルオロエタン、１，１－ジクロロ－１－フルオロエタン、３，３－ジクロロ－１，１，１，２，２－ペンタフルオロプロパン、１，３－ジクロロ－１，１，２，２，３－ペンタフルオロプロパン等のハイドロクロロフルオロカーボン類（以下、「ＨＣＦＣ類」と記す。）等を含有するフッ素系溶剤等が使用されている（例えば、特許文献１参照）が、ＨＣＦＣ類も僅かではあるがオゾン層に悪影響を及ぼすことから、先進国においては２０２０年に生産が全廃される予定である。
　また、従来の溶剤に替わる新しい溶剤として、炭素原子－炭素原子間に二重結合を持つフルオロオレフィンが提案されており、洗浄剤、塗布溶剤として特許文献１、２に１，１－ジクロロ－２，３，３，３－テトラフルオロプロペン、特許文献３、４にモノクロロトリフルオロプロペンが示されており、洗浄力向上のため炭化水素やアルコール等との溶剤組成物が提案されている。
特開２０１３－２２４３８３号公報 国際公開第２０１３／１６１７２３号 特開２０１３－５０６７３１号公報 特開２０１３－５０４６５８号公報
　従来使用されてきたＨＣＦＣ類のうち、１，１－ジクロロ－１－フルオロエタンは既に日本では使用が中止されており、３，３－ジクロロ－１，１，１，２，２－ペンタフルオロプロパン、１，３－ジクロロ－１，１，２，２，３－ペンタフルオロプロパン（ＨＣＦＣ－２２５）の代替となる溶剤が求められている。
　上記したフルオロオレフィンについては、環境への負荷が小さく、洗浄力も従来と同等の性能を有しているため有望ではある。しかしながら、半田付け後の強固なフラックスの洗浄や、加工油の中でも高粘度の金属加工油の脱脂洗浄において、効果的に除去するには洗浄力が不足しており、上記のような除去の難しい汚れを十分に洗浄できる溶剤組成物が求められている。
　本発明は、新たな組成の溶剤組成物により、洗浄効果が良好で、かつ、従来よりも環境への影響が小さく、特に、フラックスや金属加工油等の汚れを効果的に洗浄できる溶剤組成物の提供を目的とする。
　本発明者らは上記の点を鑑み鋭意検討した結果、所定のフッ素系溶剤と炭化水素類の組み合わせが有効であることを見出し、本発明を完成した。すなわち、本発明は以下よりなる。
　［１］１－クロロ－２，３，３－トリフルオロ－１－プロペンと、沸点が６０～１００℃の炭化水素（Ａ）と、を含む溶剤組成物。
　［２］前記溶剤組成物に含まれる前記１－クロロ－２，３，３－トリフルオロ－１－プロペンと前記炭化水素（Ａ）の合計１００質量％に対して、前記１－クロロ－２，３，３－トリフルオロ－１－プロペンが７５～９９質量％、前記炭化水素（Ａ）が１～２５質量％である、［１］に記載の溶剤組成物。
　［３］前記炭化水素（Ａ）が、シクロヘキサン、ｎ－ヘキサンおよびｎ－ヘプタンからなる群より選ばれる少なくとも１つを含む、［１］または［２］に記載の溶剤組成物。
　［４］前記１－クロロ－２，３，３－トリフルオロ－１－プロペンが、１－クロロ－２，３，３－トリフルオロ－１－プロペンのＺ異性体を８０質量％以上含む、［１］～［３］のいずれかに記載の溶剤組成物
　［５］さらに、フェノール類、エーテル類、エポキシド類、アミン類、アルコール類、前記炭化水素（Ａ）以外の炭化水素類からなる群より選ばれる少なくとも１種の安定剤を含む、［１］～［４］のいずれかに記載の溶剤組成物。
　［６］フラックスが付着した物品の表面に、［１］～［５］のいずれかに記載の溶剤組成物を接触させて、前記物品の表面の前記フラックスを洗浄する、フラックスの除去方法。
　［７］前記フラックスを洗浄した後、さらに、前記物品の表面を乾燥させる、［６］に記載のフラックスの洗浄方法。
　［８］前記物品が、電子部品、電機部品、精密機械部品、または光学部品である［６］または［７］に記載のフラックスの洗浄方法。
　［９］４０℃における動粘度が１００ｍｍ2／ｓ以上の金属加工油が付着した物品の表面に、［１］～［５］のいずれかに記載の溶剤組成物を接触させて、前記物品の表面から前記金属加工油を洗浄する、金属加工油の洗浄方法。
　［１０］前記金属加工油を洗浄した後、さらに、前記物品の表面を乾燥する［９］に記載の金属加工油の洗浄方法。
　［１１］前記物品が、電子部品、電機部品、精密機械部品、または光学部品である、［９］または［１０］に記載の金属加工油の洗浄方法。
　本発明の溶剤組成物は、各種有機物の溶解性に優れ、地球環境に悪影響を及ぼさず、フラックスや金属加工油等の汚れの洗浄性に優れる。
　本発明のフラックスの洗浄方法は、地球環境に悪影響を及ぼさず、半田付け後のフラックスを容易かつ効果的に洗浄できる。
　本発明の金属加工油の洗浄方法は、地球環境に悪影響を及ぼさず、高粘度の金属加工油を容易かつ効果的に洗浄できる。
　本発明の溶剤組成物、フラックスの洗浄方法、および金属加工油の洗浄方法について、以下、実施形態を参照しながら詳細に説明する。
　本発明の一実施形態である溶剤組成物は、１－クロロ－２，３，３－トリフルオロ－１－プロペン（以下「ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ」と記す。）と、沸点が６０～１００℃の炭化水素の群より選ばれる少なくとも１つの炭化水素（Ａ）と、を含んでなる。
　本明細書において、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄは、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｚ）、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｅ）、およびＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｚ）とＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｅ）の混合体のいずれであってもよい。
＜ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ＞
　本実施形態で用いるＨＣＦＯ－１２３３ｙｄは、炭素原子－炭素原子間に二重結合を持つフルオロオレフィンであるため、大気中での寿命が短く、オゾン破壊係数や地球温暖化係数が小さい。
　ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄは、Ｚ異性体（以下「ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｚ）」と記す）およびＥ異性体（以下「ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｅ）」と記す）の構造異性体が存在する。
　ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｚ）の沸点は約５４℃、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｅ）の沸点は４８℃であり、ともに乾燥性に優れた物質である。また、沸騰させて蒸気となってもＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｚ）では約５４℃、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｅ）では４８℃であるので、樹脂部品等の熱による影響を受けやすい部品であっても悪影響を及ぼし難い。また、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄは引火点を持たず、表面張力や粘度も低く、室温でも容易に蒸発する等、洗浄剤や塗布溶剤として優れた性能を有している。
　洗浄剤、塗布溶剤としての実用上の取扱い容易性、沸点および生産容易性から考慮される経済的優位性から、本実施形態の溶剤組成物には、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄが適しており、さらにＨＣＦＯ－１２３３ｙｄの２種類の構造異性体のうち、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｚ）が好ましい。
　ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄは、例えば、工業的に安定的に入手可能な１－クロロ－２，２，３，３－テトラフルオロパン（ＨＣＦＣ－２４４ｃａ）を脱フッ化水素化反応することで製造できる。この方法によると、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄは、ＨＣＦＣ－２４４ｃａを塩基の存在下に脱フッ化水素反応を行うことにより生成する。
　生成したＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ反応液には、構造異性体であるＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｚ）とＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｅ）が存在し、この製造例においては、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｚ）がＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｅ）よりも多く生成する。これらの異性体は、その後の精製工程でＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｚ）、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｅ）に分離することができる。この製造例で得られたＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｚ）には、原料由来の物質であるＨＣＦＣ－２４４ｃａやＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｅ）、１－クロロ－３，３－ジフルオロプロピンが含まれる場合がある。本実施形態におけるＨＣＦＯ－１２３３ｙｄの純度は９９質量％以上が好ましく、９９．５質量％以上がより好ましい。
＜炭化水素（Ａ）＞
　本実施形態に用いる炭化水素（Ａ）は、沸点が６０～１００℃である。
　炭化水素（Ａ）は、飽和炭化水素が好ましく、さらに炭素数が６～７の飽和炭化水素が好ましい。炭化水素（Ａ）としては、具体的には、ｎ－ヘキサン（沸点：６８℃）、シクロヘキサン（沸点：８１℃）、２－メチルペンタン（沸点：６０℃）、３－メチルペンタン（沸点：６３℃）、ｎ－ヘプタン（沸点：９８℃）、２－メチルヘキサン（沸点：９０℃）、３－メチルヘキサン（沸点：９１℃）、２，４－ジメチルペンタン（沸点：８０℃）、２，２，４－トリメチルペンタン（沸点：１００℃）、メチルシクロペンタン（沸点：７２℃）などが挙げられる。なお、本実施形態において、沸点は、標準沸点のことをいう。
　本実施形態の溶剤組成物は、炭化水素（Ａ）を１種含んでもよく、２種以上を含んでいてもよい。
　炭化水素（Ａ）としては、シクロヘキサン、ｎ－ヘキサン、ｎ－ヘプタンが入手の容易性・経済性の面から好ましく、フラックスや金属加工油の洗浄性に優れ、かつ共沸組成または共沸様組成で使用できるため洗浄装置で繰り返し使用できる点から、シクロヘキサン、ｎ－ヘキサンがより好ましく、フラックスや金属加工油の洗浄性がさらに優れ、安全性の高い点から、シクロヘキサンが最も好ましい。
　本実施形態の溶剤組成物（１００質量％）中のＨＣＦＯ－１２３３ｙｄおよび炭化水素（Ａ）の合計量の割合は、８０～９９．９９９９質量％が好ましく、９０～９９．９９９質量％がより好ましい。上記範囲内であることにより、各種有機物の溶解性、特にフラックスや金属加工油の洗浄性に優れる。
　本実施形態の溶剤組成物が、炭化水素（Ａ）を含むことで、フラックスおよび金属加工油の洗浄性に優れた溶剤組成物が得られる。また、炭化水素（Ａ）を含むことで、ＨＣＦＯ－１２２３ｙｄ（Ｚ）およびＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｅ）の分解を抑制する効果も奏する。この溶剤組成物に含まれるＨＣＦＯ－１２３３ｙｄと炭化水素（Ａ）との合計１００質量％に対して、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄの含有割合が７５～９９質量％、炭化水素（Ａ）の含有割合が１～２５質量％、がフラックスや金属加工油の洗浄性がさらに優れる点で好ましく、安全性の点から、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄの含有割合が９５～９９質量％、炭化水素（Ａ）の含有割合が１～５質量％がより好ましい。
　本実施形態の溶剤組成物において、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄと炭化水素（Ａ）が共沸組成または共沸様組成であることが好ましい。共沸組成または共沸様組成とすることで、フラックスおよび金属加工油等の汚れの洗浄性が特に良好なものとなり、併せて蒸留再生を繰り返す洗浄装置での使用において溶剤組成物の組成変動が小さくなり安定的に使用できる。
　一般に、共沸組成物は、液相の気化により生成される気相の組成が該液相の組成と同一となり、または、気相の液化により生成される液相の組成が該気相の組成と同一となるものとして定義される。共沸組成物は、蒸発、凝縮により組成が変化しないことから、溶剤組成物として繰り返し使用することができる。なお、共沸組成物の組成は、圧力条件により変化する。
　一方、共沸様組成物は、共沸組成物に類似した挙動を示すものである。すなわち、共沸様組成物は、液相の気化により生成される気相の組成が該液相の組成と略同一となり、または、気相の液化により生成される液相の組成が該気相の組成と略同一となる。共沸様組成物は、蒸発、凝縮により組成がほとんど変化しないことから、共沸組成物と同様、溶剤組成物として繰り返し使用することができる。
　例えば、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄとシクロヘキサンからなる溶剤組成物の場合、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｚ）とシクロヘキサンとの合計量を１００質量％としたとき、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｚ）が８９．８質量％、シクロヘキサンが１０．２質量％で共沸組成となる。ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｅ）とシクロヘキサンからなる溶剤組成物の共沸組成およびＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｚ）とＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｅ）とシクロヘキサンからなる溶剤組成物の共沸組成も上記組成に近いと推定される。
　そのため、この溶剤組成物においては、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄの含有割合が８０～９９質量％、シクロヘキサンの含有割合が１～２０質量％、がさらに好ましく、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄの含有割合が８５～９９質量％、シクロヘキサンの含有割合が１～１５質量％、が特に好ましい。ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄとシクロヘキサンの含有割合が上記範囲であれば、共沸様組成となり、フラックスおよび金属加工油の洗浄性に優れ、かつ洗浄装置で繰り返し使用することができる。
　また、例えば、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｚ）とｎ－ヘキサンを用いた溶剤組成物の場合、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｚ）とｎ－ヘキサンとの合計量を１００質量％としたとき、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｚ）が７９質量％、ｎ－ヘキサンが２１質量％、が共沸組成となる。ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｅ）とｎ－ヘキサンからなる溶剤組成物の共沸組成およびＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｚ）とＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｅ）とｎ－ヘキサンからなる溶剤組成物の共沸組成も上記組成に近いと推定される。
　そのため、この溶剤組成物においては、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄの含有割合が７６～９９質量％、ｎ－ヘキサンが１～２４質量％がさらに好ましく、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄの含有割合が７７～９９質量％、ｎ－ヘキサンが１～２３質量％、が特に好ましい。ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄとｎ－ヘキサンの含有割合が上記範囲であれば、共沸様組成となり、フラックスおよび金属加工油等の洗浄性に優れ、かつ洗浄装置で繰り返し使用することができる。
　また、例えば、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｚ）とｎ－ヘプタンを用いた溶剤組成物の場合、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｚ）とｎ－ヘプタンとの合計量を１００質量％としたとき、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｚ）が９７．７質量％、ｎ－ヘプタンが２．３質量％、が共沸組成となる。ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｅ）とｎ－ヘキサンからなる溶剤組成物の共沸組成およびＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｚ）とＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｅ）とｎ－ヘプタンからなる溶剤組成物の共沸組成も上記組成に近いと推定される。
　そのため、この溶剤組成物においては、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄの含有割合が８５～９９質量％、ｎ－ヘプタンが１～１５質量％がさらに好ましく、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄの含有割合が９０～９９質量％、ｎ－ヘプタンが１～１０質量％、が特に好ましい。
　ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄとｎ－ヘプタンの含有割合が上記範囲であれば、フラックスおよび金属加工油の洗浄性に優れる。
　なお、ｎ－ペンタンなどの、沸点が６０℃より低い炭化水素を用いた場合、溶剤組成物は、フラックスや金属加工油の洗浄性能等が良好であるが、その共沸組成における炭化水素（ｎ－ペンタン）の濃度がシクロヘキサン、ｎ－ヘキサン、ｎ－ヘプタンなどと比べて高くなる。そのため、ｎ－ペンタンはそれ自体の引火点が低く、溶剤組成物としている限り危険性はそれほど高くないが、使用条件等によっては濃度が高まり、引火性ガス等が発生して火災等の原因になるおそれがある。したがって、ｎ－ペンタンなどは、シクロヘキサン、ｎ－ヘキサン、ｎ－ヘプタンなどに比べて取扱いに注意が必要である。
＜安定剤＞
　本実施形態の溶剤組成物には、本実施形態の効果を阻害しない範囲で、さらに、安定剤を配合することもできる。本実施形態における安定剤とは、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｚ）およびＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｅ）の分解を抑制する効果を有するものをいう（ただし、上記炭化水素（Ａ）は除く）。
　ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄを安定化できる化合物としては、フェノール類、エーテル類、エポキシド類、アミン類、アルコール類、および上記炭化水素（Ａ）以外の炭化水素類からなる群より選ばれる少なくとも１種の安定剤を用いることができる。
　ここで、安定性は、例えば、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄに所定の割合で安定剤を溶解させた試験溶液を一定期間保存した後の塩素イオン濃度を指標として評価することができる。塩素イオン濃度は、イオンクロマトグラフで測定する。
　具体的には、本実施形態の溶剤組成物における安定剤としては、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄを５０℃で３日間保存した際に、溶剤組成物中の塩素イオン濃度が１００ｐｐｍ以下となる安定剤が好ましく、塩素イオン濃度が５０ｐｐｍ以下となる安定剤がより好ましく、塩素イオン濃度１０ｐｐｍ以下となる安定剤がさらに好ましい。
　本実施形態の溶剤組成物における安定剤の含有量は、溶剤組成物中に、１質量ｐｐｍ以上であることが好ましく、５質量ｐｐｍ以上であることがより好ましく、１０質量ｐｐｍ以上であることが特に好ましい。また、この安定剤の含有量は、１０質量％以下が好ましく、５質量％以下がより好ましく、１質量％以下が特に好ましい。安定剤は上記好ましい範囲内であると、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄに対する安定性を十分に示すだけでなく、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄのもつ表面張力や粘度が低く浸透性が良いという特性を損なわない点から特に優れている。
　本実施形態における安定剤は、それぞれ安定化作用が異なると考えられる。たとえば、フェノール類や炭化水素類は酸化防止作用によりＨＣＦＯ－１２３３ｙｄの分解を抑制し、エポキシド類は発生した酸や塩素イオンを捕捉することにより、また、アミン類は分解によって生じた酸性物質を中和することにより、それぞれ酸性物質によるＨＣＦＯ－１２３３ｙｄの分解促進を抑制すると推測される。したがって必要に応じて２種類以上の安定剤を含有することにより、各安定剤の相乗効果が得られる。
　本実施形態におけるフェノール類とは、芳香族炭化水素核に１個以上のヒドロキシ基を有する芳香族ヒドロキシ化合物をいう。芳香族ヒドロキシ化合物としてはＨＣＦＯ－１２３３ｙｄに溶解することが好ましい。芳香族炭化水素核としてはベンゼン核が好ましい。芳香族炭化水素核には水素原子以外に１つ以上の置換基が結合していてもよい。置換基としては、炭化水素基、アルコキシ基、アシル基、カルボニル基などが挙げられる。また、芳香族炭化水素核に結合している１つ以上の水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよい。炭化水素基には、アルキル基、アルケニル基、芳香族炭化水素基、アラルキル基などが挙げられる。
　このうち、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アシル基、カルボニル基の炭素数は６以下が好ましく、芳香族炭化水素基や、アラルキル基の炭素数は１０以下が好ましい。炭化水素基としてはアルキル基やアルケニル基が好ましく、特にアルキル基が好ましい。さらに、芳香族炭化水素核のヒドロキシ基に対してオルト位にアルキル基やアルコキシ基を有していることが好ましい。オルト位のアルキル基としてはターシャリーブチル基などの分岐アルキル基が好ましい。オルト位が２つ存在する場合はそのいずれにもアルキル基が存在していてもよい。
　フェノール類としては、具体的には、フェノール、１，２－ベンゼンジオール、１，３－ベンゼンジオール、１，４－ベンゼンジオール、１，３，５－ベンゼントリオール、２，６－ジターシャリーブチル－４－メチルフェノール、２，４，６－トリターシャリーブチルフェノール、２－ターシャリーブチルフェノール、３－ターシャリーブチルフェノール、４－ターシャリーブチルフェノール、２，４－ジターシャリーブチルフェノール、２，６－ジターシャリーブチルフェノール、４，６－ジターシャリーブチルフェノール、ｏ－クレゾール、ｍ－クレゾール、ｐ－クレゾール、２，３－ジメチルフェノール、２，４－ジメチルフェノール、２，５－ジメチルフェノール、２，６－ジメチルフェノール、２，３，６－トリメチルフェノール、２，４，６－トリメチルフェノール、２，５，６－トリメチルフェノール、３－イソプロピルフェノール、２－イソプロピル－５－メチルフェノール、２－メトキシフェノール、３－メトキシフェノール、４－メトキシフェノール、２－エトキシフェノール、３－エトキシフェノール、４－エトキシフェノール、２－プロポキシフェノール、３－プロポキシフェノール、４－プロポキシフェノール、α－トコフェロール、β－トコフェロール、γ－トコフェロールおよび４－ターシャリーブチルカテコールが挙げられる。
　なかでも、フェノール、１，２－ベンゼンジオール、２，６－ジターシャリーブチル－４－メチルフェノール、ｍ－クレゾール、２－イソプロピル－５－メチルフェノール、α－トコフェロールおよび２－メトキシフェノールがより好ましい。
　上記フェノール類の添加濃度は、本実施形態の溶剤組成物中に、１質量ｐｐｍ～１０質量％が好ましく、５質量ｐｐｍ～５質量％がより好ましく、さらに好ましくは１０質量ｐｐｍ～１質量％である。安定剤は上記好ましい範囲内であると、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄに対する十分な安定性を示すことに加え、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄのもつ表面張力や粘度が低く、浸透性が良いという特性を阻害しない点から特に優れている。
　また本実施形態におけるエーテル類とは、酸素原子に２つの炭化水素基が結合した鎖状エーテルと環を構成する原子として酸素原子を有する環状エーテル（ただし、３員環状エーテルであるエポキシ環を除く）とをいう。鎖状エーテルと環状エーテルにおけるエーテル性酸素原子の数は２以上であってもよい。エーテル類の炭素数は１２以下が好ましい。また、エーテルを構成する炭化水素基の炭素原子にはハロゲン原子、ヒドロキシ基等の置換基を有していてもよい。ただし、エポキシ基を有するエーテル類はエポキシド類とみなす。
　エーテル類としては、具体的には、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジペンチルエーテル、ジイソペンチルエーテル、ジアリルエーテル、エチルメチルエーテル、エチルプロピルエーテル、エチルイソプロピルエーテル、エチルイソブチルエーテル、エチルイソペンチルエーテル、エチルビニルエーテル、アリルエチルエーテル、エチルフェニルエーテル、エチルナフチルエーテル、エチルプロパルギルエーテル、１，４－ジオキサン、１，３－ジオキサン、１，３，５－トリオキサン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、エチレングリコールモノベンジルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジフェニルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテル、アニソール、アネトール、トリメトキシエタン、トリエトキシエタン、フラン、２－メチルフランおよびテトラヒドロフランが挙げられる。
　エーテル類としては４～６員環の環状エーテルが好ましく、なかでも、１，４－ジオキサン、１，３－ジオキサン、１，３，５－トリオキサン、２－メチルフランおよびテトラヒドロフランが好ましい。
　上記エーテル類の添加濃度は本実施形態の溶剤組成物中に、１質量ｐｐｍ～１０質量％が好ましく、１０質量ｐｐｍ～７質量％がより好ましく、０．０１質量％～５質量％がさらに好ましい。安定剤は上記好ましい範囲内であると、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄに対する十分な安定性を示すことに加え、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄのもつ表面張力や粘度が低く、浸透性が良いという特性を阻害しない点から特に優れている。
　また本実施形態におけるエポキシド類とは、３員環状エーテルであるエポキシ基を１個以上有する化合物をいう。エポキシド類は、エポキシ基を１分子中に２個以上有していてもよく、また、ハロゲン原子、エーテル性酸素原子、ヒドロキシ基等の置換基を有していてもよい。エポキシド類の炭素原子数は１２以下が好ましい。
　エポキシド類としては、具体的には、１，２－プロピレンオキシド、１，２－ブチレンオキシド、１，２－エポキシ－３－フェノキシプロパン、ブチルグリシジルエーテル、メチルグリシジルエーテル、エチルグリシジルエーテル、ビニルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、エピクロロヒドリン、ｄ－リモネンオキシドおよび１－リモネンオキシドが挙げられる。なかでも、１，２－プロピレンオキシド、１，２－ブチレンオキシドおよびブチルグリシジルエーテルが好ましい。
　上記エポキシド類の添加濃度は、本実施形態の溶剤組成物中に、１質量ｐｐｍ～１０質量％が好ましく、１０質量ｐｐｍ～７質量％がより好ましく、０．０１質量％～５質量％がさらに好ましい。安定剤は上記好ましい範囲内であると、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄに対する十分な安定性を示すことに加え、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄのもつ表面張力や粘度が低く、浸透性が良いという特性を阻害しない点から特に優れている。
　また本実施形態におけるアミン類とは、置換または無置換のアミノ基を１個以上有する化合物（第１級～第３級アミン）をいう。また、アミン類は非環状のアミン類であっても環状アミン類（アミノ酸の窒素原子が環を構成する原子である環状化合物）であってもよい。第２級アミンや第３級アミンの窒素原子に結合している基としては、炭素数６以下のアルキル基やヒドロキシアルキル基が好ましい。非環状のアミン類としては脂肪族アミンや芳香族アミンが挙げられる。脂肪族アミンとしては置換または無置換のアミノ基を１個以上有するベンゼン核含有化合物が挙げられる。環状アミン類としては、環を構成する窒素原子の数が１～３個の４～６員環化合物が挙げられる。また、アミン類の炭素原子数は１６以下が好ましく、１０以下がより好ましい。
　アミン類としては、具体的には、メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、ｎ－プロピルアミン、ジ－ｎ－プロピルアミン、イソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ブチルアミン、ジブチルアミン、トリブチルアミン、イソブチルアミン、ジイソブチルアミン、セカンダリー－ブチルアミン、ターシャリー－ブチルアミン、ペンチルアミン、ジペンチルアミン、トリペンチルアミン、ヘキシルアミン、２－エチルヘキシルアミン、アリルアミン、ジアリルアミン、トリアリルアミン、アニリン、Ｎ－メチルアニリン、Ｎ，Ｎ－ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ－ジエチルアニリン、ピリジン、ピコリン、モルホリン、Ｎ－メチルモルホリン、ベンジルアミン、ジベンジルアミン、α－メチルベンジルアミン、プロピレンジアミン、ジエチルヒドロキシアミン、ピロール、Ｎ－メチルピロール、２－メチルピリジン、３－メチルピリジン、４－メチルピリジン、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、プロパノールアミン、ジプロパノールアミン、イソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、Ｎ－メチルエタノールアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルエタノールアミン、Ｎ－エチルモルホリン、ジフェニルアミンおよびエチレンジアミンが挙げられる。
　アミン類としては、アルキルアミンと環状アミン類が好ましく、なかでも、ピロール、Ｎ－メチルピロール、２－メチルピリジン、ｎ－プロピルアミン、ジイソプロピルアミン、Ｎ－メチルモルホリンおよびＮ－エチルモルホリンが好ましい。
　上記アミン類の添加濃度は、本実施形態の溶剤組成物中に、１質量ｐｐｍ～１０質量％が好ましく、５質量ｐｐｍ～５質量％がより好ましく、さらに好ましくは１０質量ｐｐｍ～１質量％であり、０．００１～０．１質量％が最も好ましい。安定剤は上記好ましい範囲内であると、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄに対する十分な安定性を示すことに加え、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄのもつ表面張力や粘度が低く、浸透性が良いという特性を阻害しない点から特に優れている。
　さらに、上記アミン類には緩衝作用があるため、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄが分解する際に生じる酸を捕捉して、酸分上昇を防ぎさらなる分解反応を抑制する効果があり、外部から持ち込まれた酸分を捕捉することで外部要因による影響を小さくすることができる。
　また、本実施形態におけるアルコール類とは、直鎖、分岐鎖または環状構造の炭化水素にヒドロキシ基が結合した有機化合物のことをいう。本実施形態におけるアルコール類とは、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄへの溶解性があり、揮発性がありＨＣＦＯ－１２３３ｙｄとともに揮発して物品の表面に残留しにくいという特徴から、炭素数が１～３のアルコール類が好ましい。
　アルコール類としては、具体的には、メタノール、エタノール、１－プロパノール、イソプロパノール、１－ブタノール、２－ブタノール、２－メチル－１－プロパノール、２－メチル－２－プロパノール、１－ペンタノール、２－ペンタノール、１－エチル－１－プロパノール、２－メチル－１－ブタノール、３－メチル－１－ブタノール、３－メチル－２－ブタノール、ネオペンチルアルコール、１－ヘキサノール、２－メチル－１－ペンタノール、４－メチル－２－ペンタノール、２－エチル－１－ブタノール、１－ヘプタノール、２－ヘプタノール、３－ヘプタノール、１－オクタノール、２－オクタノール、２－エチル－１－ヘキサノール、１－ノナノール、３，５，５－トリメチル－１－ヘキサノール、１－デカノール、１－ウンデカノール、１－ドデカノール、アリルアルコール、ベンジルアルコール、シクロヘキサノール、１－メチルシクロヘキサノール、２－メチルシクロヘキサノール、３－メチルシクロヘキサノール、４－メチルシクロヘキサノール、α－テルピネオール、２，６－ジメチル－４－ヘプタノール、ノニルアルコール、テトラデシルアルコール、２－プロピン－１－オール等が挙げられる。なかでも、炭素数が１～３の直鎖または分岐鎖のアルコールであるメタノール、エタノール、イソプロパノール、２－プロピン－１－オールがより好ましい。
　上記アルコール類の添加濃度は、本実施形態の溶剤組成物中に、１質量ｐｐｍ～１０質量ｐｐｍが好ましく、５質量ｐｐｍ～５質量％がより好ましく、さらに好ましくは１０質量ｐｐｍ～１質量％であり、０．００１～０．１質量％が最も好ましい。安定剤は上記好ましい範囲内であると、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄに対する十分な安定性を示すことに加え、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄのもつ表面張力や粘度が低く、浸透性が良いという特性を阻害しない点から特に優れている。
　また、本実施形態における上記炭化水素（Ａ）以外の炭化水素類とは、上記説明した必須成分としての炭化水素（Ａ）以外の安定剤として使用される炭化水素類（以下、「炭化水素安定剤」と称する）をいう。
　この炭化水素安定剤としては、飽和炭化水素でもよく、炭素－炭素結合の少なくとも一つが不飽和結合である不飽和炭化水素でもよい。本実施形態における炭化水素安定剤としては、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄへの溶解性があり、揮発性があって、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄとともに揮発して物品の表面に残留しにくい点で、炭素数が５、８～９の鎖状または環状の炭化水素安定剤が好ましい。
　飽和炭化水素類としては、具体的には、ｎ－ペンタン、２，２－ジメチルブタン、２，３－ジメチルブタン、２－メチルヘプタン、３－メチルヘプタン、４－メチルヘプタン、２，２－ジメチルヘキサン、２，５－ジメチルヘキサン、３，３－ジメチルヘキサン、２－メチル－３－エチルペンタン、３－メチル－３－エチルペンタン、２，３，３－トリメチルペンタン、２，３，４－トリメチルペンタン、２，２，３－トリメチルペンタン、２－メチルヘプタン、シクロペンタン、メチルシクロヘキサン等が挙げられる。なかでも、ｎ－ペンタン、シクロペンタンがより好ましい。
　不飽和炭化水素としては、具体的には、１－ペンテン、２－ペンテン、２－メチル－１－ブテン、３－メチル－１－ブテン、２－メチル－２－ブテン等のペンテン異性体、１－ヘキセン、２－ヘキセン、３－ヘキセン、２－メチル－１－ペンテン、３－メチル－１－ペンテン、４－メチル－１－ペンテン、２－エチル－１－ブテン、３－エチル－１－ブテン、３－エチル－２－ブテン、２－メチル－２－ペンテン、３－メチル－２－ペンテン、４－メチル－２－ペンテン、２，３－ジメチル－２－ブテン等のヘキセン異性体、１－ヘプテン、２－ヘプテン、３－ヘプテン、４－ヘプテン、３－エチル－２－ペンテン等のへプテン異性体、１－オクテン、２，４，４－トリメチル－１－ペンテン、２，４，４－トリメチル－２－ペンテン等のオクテン異性体、１－ノネン等のノネン異性体、また、ブタジエン、イソプレン、ヘキサジエン、ヘプタジエン、オクタジエン等のジエン化合物、シクロヘキセン、シクロヘキサジエン、シクロヘプテン、シクロヘプタジエン、シクロオクテン、シクロオクタジエン等の不飽和環状化合物が挙げられる。本実施形態では、特に２－メチル－２－ブテン、２－メチル－１－ペンテン、２－メチル－２－ペンテン、３－エチル－２－ブテン、２，３－ジメチル－２－ブテン、２，４，４－トリメチル－１－ペンテン、２，４，４－トリメチル－２－ペンテンが好ましい。
　上記炭化水素類のうち、酸素捕捉による酸化防止作用は不飽和炭化水素が飽和炭化水素よりも高いため、不飽和炭化水素がＨＣＦＯ－１２３３ｙｄの安定剤としてより好ましい。
　上記炭化水素類の配合量としては、１質量ｐｐｍ～１０質量％が好ましく、より好ましくは５質量ｐｐｍ～７質量％、さらに好ましくは１０質量ｐｐｍ～５質量％であり、０．００１～０．１質量％が最も好ましい。安定剤は上記好ましい範囲内であると、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄに対する十分な安定性を示すことに加え、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄのもつ表面張力や粘度が低く、浸透性が良いという特性を阻害しない点から特に優れている。
　本実施形態の溶剤組成物は沸点が３０～１２０℃である少なくとも１種類の安定剤を含むことが好ましい。沸点が３０～１２０℃の安定剤のうち少なくとも１種類の上記安定剤を含むことで、乾燥性に優れたものとなる。これにより、洗浄後の物品表面や、塗膜形成後の塗膜に、本実施形態の溶剤組成物由来の成分が残留することがない。
　この観点から好ましい安定剤としては、メタノール（沸点：６４．５℃）、エタノール（沸点：７８．４℃）、イソプロパノール（沸点：８４℃）、２－プロピン－１－オール（沸点：１１２℃）、１，２－ブチレンオキシド（沸点：６３．２℃）、テトラヒドロフラン（沸点：６６℃）、１，４－ジオキサン（沸点：１０１℃）、ｎ－プロピルアミン（沸点：４８℃）、ジイソプロピルアミン（沸点：８４℃）、Ｎ－メチルモルホリン（沸点：１１５℃）、Ｎ－メチルピロール（沸点：１１２℃）、２－メチル－２－ブテン（沸点：３９℃）、２－メチル－１－ペンテン（沸点；６２℃）、２－メチル－２－ペンテン（沸点：６７℃）、３－エチル－２－ブテン（沸点：７３℃）、２，３－ジメチル－２－ブテン（沸点：７３℃）、２，４，４－トリメチル－１－ペンテン（沸点：１１２℃）、２，４，４－トリメチル－２－ペンテン（沸点：１１２℃）が挙げられる。
　安定性の点から、メタノール、エタノール、イソプロパノール、２－プロピン－１－オール、２－メチル－１－ペンテン、２－メチル－２－ペンテン、３－エチル－２－ブテン、２，３－ジメチル－２－ブテン、２，４，４－トリメチル－１－ペンテン、２，４，４－トリメチル－２－ペンテン、２，３－ジメチル－２－ブテン、３－エチル－２－ブテン、Ｎ－メチルピロールがより好ましく、２－メチル－１－ペンテン、２－メチル－２－ペンテン、３－エチル－２－ブテン、２，３－ジメチル－２－ブテン、２，４，４－トリメチル－１－ペンテン、２，４，４－トリメチル－２－ペンテン、２，３－ジメチル－２－ブテン、３－エチル－２－ブテン、Ｎ－メチルピロールがさらに好ましい。（上記化合物を安定剤として用いることにより、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄの分解を引き起こす原因物質、例えば酸素ラジカル等の過酸化物、の発生を抑えられる。また、酸素ラジカルが発生してＨＣＦＯ－１２３３ｙｄの還元体を生成した場合でも、還元体を再度酸化させてＨＣＦＯ－１２３３ｙｄを生成することができる。）。
　本実施形態の溶剤組成物は、異なる種類の沸点が３０～１２０℃の安定剤を２種以上含むことにより、優れた乾燥性を維持しながら、安定性がさらに向上する。安定剤の組合せとしては、アルコール類、不飽和炭化水素安定剤、アミン類のうち、２種類以上の安定剤の組合せが好ましい。例えば、アルコール類と不飽和炭化水素安定剤、アルコール類とアミン類、不飽和炭化水素安定剤とアミン類の組合せが挙げられる。同じ類に属する化合物を複数含んでもよい。
　安定剤としては、下記ｉ）の群、ii）の群、iii）の群のうち少なくとも２以上の群から安定剤を選び、組合せることがより好ましい。また、各群から選ぶ安定剤は、１つでもよく、２つ以上でもよい。これらの安定剤を組合せて用いることで、安定剤の相乗効果により溶剤組成物の長期の安定性に優れる。
ｉ）メタノール、エタノール、イソプロパノール、２－プロピン－１－オール
ii）２－メチル－１－ペンテン、２－メチル－２－ペンテン、３－エチル－２－ブテン、２，３－ジメチル－２－ブテン、２，４，４－トリメチル－１－ペンテン、２，４，４－トリメチル－２－ペンテン、ｎ－ヘプタン
iii）Ｎ－メチルピロール、Ｎ－メチルモルホリン、ｎ－プロピルアミン、ジイソプロピルアミン
　本実施形態の溶剤組成物を洗浄装置で使用する場合には、洗浄装置内や溶剤再生装置での蒸留再生が繰り返されるため、溶剤組成物は連続的に過酷な条件にさらされる。また、本実施形態の溶剤組成物を不揮発性溶質の塗布溶剤として使用する場合には、揮発した溶剤組成物を活性炭の吸脱着による回収を行う際、活性炭からの脱着時に溶剤成分が過熱水蒸気と接触し、溶剤組成物は過酷な条件にさらされる。さらに、本実施形態の溶剤組成物を熱移動媒体として熱サイクルシステムで使用する場合には、溶剤組成物は圧縮膨張を繰り返す過酷な条件にさらされる。このように、本実施形態の溶剤組成物を、その相変化を伴う用途に使用する場合には、本実施形態の溶剤組成物は、安定剤としてフェノール類と、沸点が３０～１２０℃の安定剤を含むことが好ましい。
　本実施形態の溶剤組成物が、銅または銅合金と接触する場合には、それらの金属の腐食を避けるために、ニトロ化合物類やトリアゾール類を含有してもよい。ニトロ化合物類は、ニトロメタン、ニトロエタン、１－ニトロプロパン、２－ニトロプロパン、１－ニトロエチレンである。より好ましくは、ニトロメタンまたはニトロエタンである。トリアゾール類は、２－（２′－ヒドロキシ－５′－メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２′－ヒドロキシ－３′－ターシャリー－ブチル－５′－メチルフェニル）－５－クロロベンゾトリアゾール、１，２，３－ベンゾトリアゾール、１－［（Ｎ，Ｎ－ビス－２－エチルヘキシル）アミノメチル］ベンゾトリアゾール等から選ばれるものであり、より好ましくは１，２，３－ベンゾトリアゾールである。上記ニトロ化合物類やトリアゾール類の含有濃度は、溶剤組成物全体に対して１０質量ｐｐｍ～１質量％が好ましい。
　本実施形態の溶剤組成物は、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄに加えて、さらに溶解性を高める、揮発速度を調節する等の各種の目的に応じて、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄに可溶な溶剤（以下、「溶剤（Ａ）」と記す。）を含んでもよい。なお、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄに可溶な溶剤とは、所望の濃度となるようにＨＣＦＯ－１２３３ｙｄに混合して、常温（２５℃）で撹拌することにより二層分離や濁りを起こさずに均一に溶解できる溶剤を意味する。
　本実施形態の溶剤組成物に含まれる溶剤（Ａ）は、１種であってもよく、２種以上であってもよい。
　溶剤（Ａ）としては、炭化水素安定剤、アルコール類、ケトン類、エーテル類、エステル類、クロロカーボン類、ＨＦＣ類、ＨＦＥ類、ＨＣＦＯ類、ＣＦＯ類からなる群より選ばれる少なくとも１種の溶剤が好ましい。
　上記本実施形態における安定剤のうちには溶剤（Ａ）として使用できる化合物がある。そのような安定剤は、安定化効果を発揮するために充分な量を超えて本実施形態の溶剤組成物中に含有されていてもよい。その場合、安定化効果を発揮するために充分な量を超えた量の安定剤については溶剤（Ａ）とみなすものとする。
　溶剤（Ａ）である炭化水素類としては、上記炭化水素安定剤のうち、炭素数が５以上の炭化水素類が好ましい。炭素数が５以上の炭化水素類あれば、鎖状であっても環状であってもよく、また飽和炭化水素類であっても、不飽和炭化水素類であってもよい。
　この炭化水素類としては、具体的には、ｎ－ペンタン、２－メチルブタン、２，２－ジメチルブタン、２，３－ジメチルブタン、ｎ－オクタン、２－メチルヘプタン、３－メチルヘプタン、４－メチルヘプタン、２，２－ジメチルヘキサン、２，５－ジメチルヘキサン、３，３－ジメチルヘキサン、２－メチル－３－エチルペンタン、３－メチル－３－エチルペンタン、２，３，３－トリメチルペンタン、２，３，４－トリメチルペンタン、２，２，３－トリメチルペンタン、ｎ－ノナン、２，２，５－トリメチルヘキサン、ｎ－デカン、ｎ－ドデカン、シクロペンタン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ビシクロヘキサン、α－ピネン、ジペンテン、デカリン、テトラリン、アミルナフタレン等が挙げられる。
　なかでも、ｎ－ペンタン、シクロペンタンがより好ましい。
　溶剤（Ａ）であるアルコール類としては、炭素数１～１６のアルコール類が好ましい。炭素数１～１６のアルコール類であれば、鎖状であっても環状であってもよく、また飽和アルコール類であっても、不飽和アルコール類であってもよい。
　このアルコール類としては、具体的には、メタノール、エタノール、１－プロパノール、イソプロパノール、１－ブタノール、２－ブタノール、２－メチル－１－プロパノール、２－メチル－２－プロパノール、１－ペンタノール、２－ペンタノール、１－エチル－１－プロパノール、２－メチル－１－ブタノール、３－メチル－１－ブタノール、３－メチル－２－ブタノール、ネオペンチルアルコール、１－ヘキサノール、２－メチル－１－ペンタノール、４－メチル－２－ペンタノール、２－エチル－１－ブタノール、１－ヘプタノール、２－ヘプタノール、３－ヘプタノール、１－オクタノール、２－オクタノール、２－エチル－１－ヘキサノール、１－ノナノール、３，５，５－トリメチル－１－ヘキサノール、１－デカノール、１－ウンデカノール、１－ドデカノール、アリルアルコール、プロパルギルアルコール、ベンジルアルコール、シクロヘキサノール、１－メチルシクロヘキサノール、２－メチルシクロヘキサノール、３－メチルシクロヘキサノール、４－メチルシクロヘキサノール、α－テルピネオール、２，６－ジメチル－４－ヘプタノール、ノニルアルコール、テトラデシルアルコール等が挙げられる。なかでも、メタノール、エタノール、イソプロパノールがより好ましい。
　溶剤（Ａ）であるケトン類としては、炭素数３～９のケトン類が好ましい。炭素数３～９のケトン類であれば、鎖状であっても環状であってもよく、また飽和ケトン類であっても、不飽和ケトン類であってもよい。
　このケトン類としては、具体的には、アセトン、メチルエチルケトン、２－ペンタノン、３－ペンタノン、２－ヘキサノン、メチルイソブチルケトン、２－ヘプタノン、３－ヘプタノン、４－ヘプタノン、ジイソブチルケトン、メシチルオキシド、ホロン、２－オクタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、イソホロン、２，４－ペンタンジオン、２，５－ヘキサンジオン、ジアセトンアルコール、アセトフェノン等が挙げられる。なかでも、アセトン、メチルエチルケトンがより好ましい。
　溶剤（Ａ）であるエーテル類としては、炭素数２～８のエーテル類が好ましい。炭素数２～８のエーテル類であれば、鎖状であっても環状であってもよく、また飽和エーテル類であっても、不飽和エーテル類であってもよい。
　このエーテル類としては、具体的には、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、エチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、アニソール、フェネトール、メチルアニソール、フラン、メチルフラン、テトラヒドロフラン等が挙げられる。なかでも、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフランがより好ましい。
　溶剤（Ａ）であるエステル類としては、炭素数２～１９のエステル類が好ましい。炭素数２～１９のエステル類であれば、鎖状であっても環状であってもよく、また飽和エステル類であっても、不飽和エステル類であってもよい。
　このエステル類としては、具体的には、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸ブチル、ギ酸イソブチル、ギ酸ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸ｓｅｃ－ブチル、酢酸ペンチル、酢酸メトキシブチル、酢酸ｓｅｃ－ヘキシル、酢酸２－エチルブチル、酢酸２－エチルヘキシル、酢酸シクロヘキシル、酢酸ベンジル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸ブチル、酪酸メチル、酪酸エチル、酪酸ブチル、イソ酪酸イソブチル、２－ヒドロキシ－２－メチルプロピオン酸エチル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸プロピル、安息香酸ブチル、安息香酸ベンジル、γ－ブチロラクトン、シュウ酸ジエチル、シュウ酸ジブチル、シュウ酸ジペンチル、マロン酸ジエチル、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジブチル、酒石酸ジブチル、クエン酸トリブチル、セバシン酸ジブチル、フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル等が挙げられる。なかでも、酢酸メチル、酢酸エチルがより好ましい。
　溶剤（Ａ）であるクロロカーボン類としては、炭素数１～３のクロロカーボン類が好ましい。炭素数１～３のクロロカーボン類であれば、鎖状であっても環状であってもよく、また飽和クロロカーボン類であっても、不飽和クロロカーボン類であってもよい。
　このクロロカーボン類としては、具体的には、塩化メチレン、１，１－ジクロロエタン、１，２－ジクロロエタン、１，１，２－トリクロロエタン、１，１，１，２－テトラクロロエタン、１，１，２，２－テトラクロロエタン、ペンタクロロエタン、１，１－ジクロロエチレン、ｃｉｓ－１，２－ジクロロエチレン、ｔｒａｎｓ－１，２－ジクロロエチレン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、１，２－ジクロロプロパン等が挙げられる。なかでも、塩化メチレン、ｔｒａｎｓ－１，２－ジクロロエチレン、トリクロロエチレンがより好ましい。
　溶剤（Ａ）であるＨＦＣ類としては、炭素数４～８の鎖状または環状のＨＦＣ類が好ましく、１分子中のフッ素原子数が水素原子数以上であるＨＦＣ類に含まれる溶剤がより好ましい。
　このＨＦＣ類としては、具体的には、１，１，１，３，３－ペンタフルオロブタン、１，１，１，２，２，３，４，５，５，５－デカフルオロペンタン、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン、１，１，１，２，２，３，３，４，４－ノナフルオロヘキサン、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６－トリデカフルオロヘキサン、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６－トリデカフルオロオクタン等が挙げられる。なかでも、１，１，１，２，２，３，４，５，５，５－デカフルオロペンタン、１，１，１，２，２，３，３，４，４－ノナフルオロヘキサン、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６－トリデカフルオロヘキサンがさらに好ましい。
　溶剤（Ａ）であるＨＦＥ類としては、例えば、（ペルフルオロブトキシ）メタン、（ペルフルオロブトキシ）エタン、１，１，２，２－テトラフルオロ－１－（２，２，２－トリフルオロエトキシ）エタン等が挙げられる。なかでも、（ペルフルオロブトキシ）メタン、１，１，２，２－テトラフルオロ－１－（２，２，２－トリフルオロエトキシ）エタンが好ましい。
　溶剤（Ａ）であるＨＣＦＯ類としては、１－クロロ－３，３，３－トリフルオロ－１－プロペンのＥ異性体およびＺ異性体、１，１－ジクロロ－３，３，３－トリフルオロ－１－プロペン、１，２－ジクロロ－３，３，３－トリフルオロ－１－プロペンのＥ異性体およびＺ異性体が挙げられる。なかでも、１－クロロ－３，３，３－トリフルオロ－１－プロペンのＺ異性体が好ましい。
　溶剤（Ａ）であるＣＦＯ類としては、１，１－ジクロロ－２，３，３，３－テトラフルオロ－１－プロペンが挙げられる。
　溶剤（Ａ）は引火点を持たない溶剤であることがさらに好ましい。引火点を持たない溶剤（Ａ）としては、１，１，１，２，２，３，４，５，５，５－デカフルオロペンタン、１，１，１，２，２，３，３，４，４－ノナフルオロヘキサン、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６－トリデカフルオロヘキサン等のＨＦＣ類や、（ペルフルオロブトキシ）メタン、１，１，２，２－テトラフルオロ－１－（２，２，２－トリフルオロエトキシ）エタン等のＨＦＥ類、１－クロロ－３，３，３－トリフルオロ－１－プロペンのＥ異性体およびＺ異性体、１，１－ジクロロ－３，３，３－トリフルオロ－１－プロペン、１，２－ジクロロ－３，３，３－トリフルオロ－１－プロペンのＥ異性体およびＺ異性体等のＨＣＦＯ類、１，１－ジクロロ－２，３，３，３－テトラフルオロ－１－プロペン等のＣＦＯ類が挙げられる。溶剤（Ａ）として引火点を有する溶剤を用いる場合でも、本実施形態の溶剤組成物として引火点を持たない範囲でＨＣＦＯ－１２３３ｙｄと混合して用いることが好ましい。
　また、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄと溶剤（Ａ）が共沸組成を形成する場合は、共沸組成での使用も可能である。
　本実施形態の溶剤組成物が溶剤（Ａ）を含有する場合、本実施形態の溶剤組成物中の溶剤（Ａ）の含有量は、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄと溶剤（Ａ）の合計量１００質量部に対して溶剤（Ａ）が０．１～５０質量部であることが好ましく、０．５～２０質量部であることがより好ましく、１～１０質量部であることがさらに好ましい。
　溶剤（Ａ）の含有量が上記下限値以上であれば、溶剤（Ａ）による効果が充分に得られる。溶剤（Ａ）の含有量が上記上限値以下であれば、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄの持つ優れた乾燥性を阻害することがない。
　以上説明した本実施形態の溶剤組成物は、物品表面のフラックスおよび金属加工油の洗浄性能に優れ、かつ地球環境に悪影響を及ぼさず、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄの分解を抑制し安定化した溶剤組成物である。
　本実施形態の溶剤組成物は、金属、プラスチック、エラストマー、ガラス、セラミックス等の広範囲の材質の接触物に対して使用できる。本実施形態の溶剤組成物は、特に、フラックス洗浄剤および金属加工油洗浄剤、に適している。
＜洗浄方法＞
　本実施形態の溶剤組成物は、各種の物品に付着したフラックス、金属加工油、ワックス、離型剤、ほこり等の洗浄を行うための洗浄剤として使用できる。特に、フラックス洗浄剤、金属加工油の洗浄剤として好適に使用できる。
　本実施形態の溶剤組成物を用いた物品表面の洗浄方法は、表面に洗浄対象となる汚れが付着した物品に本実施形態の溶剤組成物を接触させて、物品の表面から汚れを除去すればよい。接触の方法としては、例えば、手拭き洗浄、浸漬洗浄、スプレー洗浄、浸漬揺動洗浄、浸漬超音波洗浄、蒸気洗浄、これらを組み合わせた方法等が挙げられる。洗浄装置、洗浄条件等も公知のものを適宜選択できる。
　この溶剤組成物が適用可能な物品の材質としては、金属、樹脂、ゴム、繊維、ガラス、セラミックスおよびこれらの複合材料が挙げられる。複合材料としては、金属と樹脂の積層体等が挙げられる。
　本実施形態の溶剤組成物を用いる洗浄用途を例示すると、各種の被洗浄物に付着したフラックス、金属加工油、ワックス、離型剤、ほこり等の洗浄が挙げられ、特に、フラックス、金属加工油の洗浄に有用である。すなわち、本実施形態の溶剤組成物は、半田付けにより強固に固着したフラックスや、４０℃における動粘度が１００ｍｍ2／ｓ以上のような高粘度の金属加工油など、一般に洗浄が困難な汚れであっても、それらの洗浄を十分に行うことができる。ここで、被洗浄物のより具体的な例としては、繊維製品、医療器具、電気機器、精密機械、光学物品およびそれらの部品等が挙げられる。ここで、被洗浄物としては、電子部品、電機部品、精密機械部品、光学部品どが好ましいものとして挙げられ、具体的には、ＩＣ、コンデンサ、プリント基板、マイクロモーター、リレー、ベアリング、光学レンズ、ガラス基板等が挙げられる。また、例えば、国際公開第２００８／１４９９０７号に示される洗浄装置、および洗浄方法が挙げられる。
　本実施形態の溶剤組成物を用いて国際公開第２００８／１４９９０７号に示される洗浄装置にて洗浄を行う場合、第１浸漬槽内の本実施形態の溶剤組成物の温度を２５℃以上、溶剤組成物の沸点未満とすることが好ましい。上記範囲内であれば、加工油等の脱脂洗浄を容易に行うことができ、超音波による洗浄効果が高い。また、第２浸漬槽内の本実施形態の溶剤組成物の温度を１０～４５℃とすることが好ましい。上記範囲内であれば、蒸気洗浄工程において、物品の温度と溶剤蒸気の温度差が十分に得られるため、蒸気洗浄のために十分量の溶剤が物品表面で凝縮できるためすすぎ洗浄効果が高い。また洗浄性の点から第２浸漬槽の溶剤組成物の温度より第１浸漬槽内の本実施形態の溶剤組成物の温度が高いことが好ましい。
　洗浄剤等に使用した場合、部品等の表面に残った本溶剤組成物は、乾燥によって除去できる。乾燥は、加熱乾燥、減圧乾燥、自然乾燥等の種々の乾燥方法において、任意の乾燥条件（温度、時間など）で行うことができる。特に、本溶剤組成物の場合には、常温で迅速に蒸発するので、自然乾燥によって、表面から除去可能である。また、使用した本溶剤組成物を、回収し、再生して、同様の用途、または他の用途に用いてもよい。
＜塗布溶剤用途＞
　また本実施形態の溶剤組成物を、例えば、不揮発性溶質成分を物品表面に塗布する溶剤として使用する場合には、溶質成分を本実施形態の溶剤組成物に溶解した溶液とし、その溶液を被塗布物上に塗布し、溶剤組成物を蒸発させ、上記被塗布物上に不揮発性成分塗膜を形成させる。
　ここでいう不揮発性成分とは、物品に潤滑性を付与するための潤滑剤、金属部品の防錆効果を付与するための防錆剤、物品にはっ水性を付与するための防湿コート剤、物品への防汚性能を付与するための指紋付着防止剤等が挙げられる。
　本実施形態の溶剤組成物に潤滑剤を溶解させて潤滑剤溶液とすることもできる。
　潤滑剤とは、２つの部材が互いの面を接触させた状態で運動するときに、接触面における摩擦を軽減し、熱の発生や摩耗損傷を防ぐために用いるものを意味する。潤滑剤は、液体（オイル）、半固体（グリース）、固体のいずれの形態であってもよい。
　潤滑剤としては、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄへの溶解性が優れる点から、フッ素系潤滑剤またはシリコーン系潤滑剤が好ましい。なお、フッ素系潤滑剤とは、分子内にフッ素原子を有する潤滑剤を意味する。また、シリコーン系潤滑剤とは、シリコーンを含む潤滑剤を意味する。
　上記潤滑剤溶液に含まれる潤滑剤は、１種であってもよく、２種以上であってもよい。フッ素系潤滑剤とシリコーン系潤滑剤は、それぞれを単独で使用してもよく、それらを併用してもよい。
　フッ素系潤滑剤としては、フッ素オイル、フッ素グリース、ポリテトラフルオロエチレンの樹脂粉末等のフッ素系固体潤滑剤が挙げられる。フッ素オイルとしては、パーフルオロポリエーテルやクロロトリフルオロエチレンの低重合物が好ましい。例えば、製品名「クライトックス（登録商標）ＧＰＬ１０２」（デュポン株式会社製）、「ダイフロイル＃１」、「ダイフロイル＃３」、「ダイフロイル＃１０」、「ダイフロイル＃２０」、「ダイフロイル＃５０」、「ダイフロイル＃１００」、「デムナムＳ－６５」（以上、ダイキン工業株式会社製）等が挙げられる。フッ素グリースとしては、パーフルオロポリエーテルやクロロトリフルオロエチレンの低重合物等のフッ素オイルを基油として、ポリテトラフルオロエチレンの粉末やその他の増ちょう剤を配合したものが好ましい。例えば、製品名「クライトックス（登録商標）グリース２４０ＡＣ」（デュポン株式会社製）、「ダイフロイルグリースＤＧ－２０３」、「デムナムＬ６５」、「デムナムＬ１００」、「デムナムＬ２００」（以上、ダイキン株式会社製）、「スミテックＦ９３６」（住鉱潤滑剤株式会社製）、「モリコート（登録商標）ＨＰ－３００」、「モリコート（登録商標）ＨＰ－５００」、「モリコート（登録商標）ＨＰ－８７０」、「モリコート（登録商標）６１６９」（以上、東レ・ダウコーニング株式会社製）等が挙げられる。
　シリコーン系潤滑剤としては、シリコーンオイルやシリコーングリースが挙げられる。シリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーン、メチルハイドロジェンシリコーン、メチルフェニルシリコーン、環状ジメチルシリコーン、側鎖や末端に有機基を導入した変性シリコーンオイルが好ましい。例えば、製品名「信越シリコーンＫＦ－９６」、「信越シリコーンＫＦ－９６５」、「信越シリコーンＫＦ－９６８」、「信越シリコーンＫＦ－９９」、「信越シリコーンＫＦ－５０」、「信越シリコーンＫＦ－５４」、「信越シリコーンＨＩＶＡＣ　Ｆ－４」、「信越シリコーンＨＩＶＡＣ　Ｆ－５」、「信越シリコーンＫＦ－５６Ａ」、「信越シリコーンＫＦ－９９５」（以上、信越化学工業株式会社製）、「ＳＨ２００」（東レ・ダウコーニング株式会社製）等が挙げられる。シリコーングリースとしては、上記に挙げた種々のシリコーンオイルを基油として、金属石けん等の増ちょう剤、各種添加剤を配合した製品が好ましい。例えば、製品名「信越シリコーンＧ－３０シリーズ」、「信越シリコーンＧ－４０シリーズ」、「信越シリコーンＦＧ－７２０シリーズ」、「信越シリコーンＧ－４１１」、「信越シリコーンＧ－５０１」、「信越シリコーンＧ－６５００」、「信越シリコーンＧ－３３０」、「信越シリコーンＧ－３４０」、「信越シリコーンＧ－３５０」、「信越シリコーンＧ－６３０」（以上、信越化学工業株式会社製）、「モリコート（登録商標）ＳＨ３３Ｌ」、「モリコート（登録商標）４１」、「モリコート（登録商標）４４」、「モリコート（登録商標）８２２Ｍ」、「モリコート（登録商標）１１１」、「モリコート（登録商標）高真空用グリース」、「モリコート（登録商標）熱拡散コンパウンド」（以上、東レ・ダウコーニング株式会社製）等が挙げられる。
　またフッ素系潤滑剤としても、シリコーン系潤滑剤としても例示できるものとして、末端または側鎖をフルオロアルキル基で置換した変性シリコーンオイルであるフロロシリコーンオイルが挙げられる。例えば、製品名「ユニダイン（登録商標）ＴＧ－５６０１」（ダイキン工業株式会社製）、「モリコート（登録商標）３４５１」、「モリコート（登録商標）３４５２」（以上、東レ・ダウコーニング株式会社製）、「信越シリコーンＦＬ－５」、「信越シリコーンＸ－２２－８２１」、「信越シリコーンＸ－２２－８２２」、「信越シリコーンＦＬ－１００」（以上、信越化学工業株式会社製）等が挙げられる。
　これら潤滑剤溶液は、フッ素系潤滑剤が用いられる産業機器、パーソナルコンピュータやオーディオ機器におけるＣＤやＤＶＤのトレー部品、プリンタ、コピー機器、ファックス機器等の家庭用機器やオフィス用機器等に使用できる。また、シリコーン系潤滑剤が用いられる注射器の注射針やシリンダ、医療用チューブ部品等に使用できる。
　上記潤滑剤溶液（１００質量％）中の潤滑剤の含有量は、０．０１～５０質量％が好ましく、０．０５～３０質量％がより好ましく、０．１～２０質量％がさらに好ましい。潤滑剤の含有量が上記範囲内であれば、潤滑剤溶液を塗布したときの塗布膜の膜厚、および乾燥後の潤滑剤塗膜の厚さを適正範囲に調製しやすい。同様に、防錆剤溶液における防錆剤の含有量も上記と同じ範囲であることが好ましい。
　潤滑剤溶液の塗布方法としては、たとえば、刷毛による塗布、スプレーによる塗布、物品を潤滑剤溶液に浸漬することによる塗布、潤滑剤溶液を吸い上げることによりチューブや注射針の内壁に潤滑剤溶液を接触させる塗布方法等が挙げられる。
　本実施形態における防錆剤とは、空気中の酸素によって容易に酸化されて錆を生じる金属の表面を覆い、金属表面と酸素を遮断することで金属材料の錆を防止する物質のことを言う。防錆剤としては、鉱物油、やポリオールエステル類、ポリアルキレングリコール類、ポリビニルエーテル類のような合成油が挙げられる。
　防錆剤の塗布方法は潤滑油と同様であり、刷毛による塗布、スプレーによる塗布、物品を防錆剤溶液に浸漬することによる塗布等が挙げられる。
　その他、プラスチック、ゴム、金属、ガラス、実装回路板への防湿性や防汚性を付与するための防湿コート剤や指紋付着防止剤についても同様の方法で物品表面に塗布することができる。防湿コート剤の製品例としてはトパス５０１３、トパス６０１３、トパス８００７（ポリプラスチックス社製品）、ゼオノア１０２０Ｒ、ゼオノア１０６０Ｒ(日本ゼオン社製品)、アペル６０１１Ｔ、アペル８００８Ｔ（三井化学社製品）、ＳＦＥ－ＤＰ０２Ｈ、ＳＮＦ－ＤＰ２０Ｈ（セイミケミカル社製品）が挙げられる。指紋付着防止剤等の防汚コート剤の製品例としては、オプツールＤＳＸ、オプツールＤＡＣ（ダイキン工業社製品）、フロロサーフＦＧ－５０００（フロロテクノロジー社製品）、ＳＲ－４０００Ａ（セイミケミカル社製品）等が挙げられる。
　潤滑剤や防錆剤、防湿コート剤、指紋付着防止剤、が塗布される被塗布物としては、金属、プラスチック、エラストマー、ガラス、セラミックス等、様々な材質の被塗布物を採用できる。
　これら潤滑剤や防錆剤、防湿コート剤、指紋付着防止剤等を溶解する前の本実施形態の溶剤組成物の状態でも、上記溶液の状態でも、保管中や使用中に分解することなく使用することができる。以上説明した本実施形態の溶剤組成物は、大気中の寿命が短く、かつ溶解性に優れ、地球環境に悪影響を及ぼさずに、分解することなく安定な状態で使用することができる。
＜熱移動媒体用途＞
　本実施形態における熱移動媒体用途は、熱サイクルシステムに本実施形態の溶剤組成物を作動媒体（熱移動媒体）として用いるものである。これにより物質を加熱したり冷却したりすることができる。
　熱サイクルシステムとしては、ランキンサイクルシステム、ヒートポンプサイクルシステム、冷凍サイクルシステム、熱輸送システム、二次冷媒冷却システム等が挙げられる。
　以下、熱サイクルシステムの一例として、冷凍サイクルシステムについて説明する。
　冷凍サイクルシステムとは、蒸発器において作動媒体が負荷流体より熱エネルギーを除去することにより、負荷流体を冷却し、より低い温度に冷却するシステムである。冷凍サイクルシステムでは、作動媒体蒸気Ａを圧縮して高温高圧の作動媒体蒸気Ｂとする圧縮機と、圧縮された作動媒体蒸気Ｂを冷却し、液化して低温高圧の作動媒体Ｃとする凝縮器と、凝縮器から排出された作動媒体Ｃを膨張させて低温低圧の作動媒体Ｄとする膨張弁と、膨張弁から排出された作動媒体Ｄを加熱して高温低圧の作動媒体蒸気Ａとする蒸発器と、蒸発器に負荷流体Ｅを供給するポンプと、凝縮器に流体Ｆを供給するポンプとから構成されるシステムである。
　さらに、本実施形態における作動媒体には潤滑油を混合し、使用することができる。潤滑油には、熱サイクルシステムに用いられる公知の潤滑油が用いられる。潤滑油としては、含酸素系合成油（エステル系潤滑油、エーテル系潤滑油等）、フッ素系潤滑油、鉱物油、炭化水素系合成油等が挙げられる。
　さらに、本実施形態における作動媒体は二次循環冷却システムにも適用できる。
　二次循環冷却システムとは、アンモニアや炭化水素冷媒からなる一次冷媒を冷却する一次冷却手段と、二次循環冷却システム用二次冷媒（以下、「二次冷媒」という。）を循環させて被冷却物を冷却する二次循環冷却手段と、一次冷媒と二次冷媒とを熱交換させ、二次冷媒を冷却する熱交換器と、を有するシステムである。この二次循環冷却システムにより、被冷却物を冷却できる。本実施形態における作動媒体は、二次冷媒としての使用に好適である。
　以下、本実施形態の溶剤組成物について、実施例、比較例および参考例によりさらに詳細に説明する。
［ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄの製造（製造例１）］
　２０００ｇのＨＣＦＣ－２４４ｃａを原料にして、テトラ－ｎ－ブチルアンモニウムクロリドの１９．９ｇを入れ、反応温度を５０℃に保ち、４０質量％水酸化カリウム水溶液の２７９２ｇを３０分かけて滴下した。その後、５２時間反応を続け、有機層を回収した。回収した有機層を精製した結果、純度９９．９質量％のＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｚ）を１５２０ｇ、純度９９．９質量％のＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｅ）を１４０ｇ得た。この反応を繰返し実施し、試験に必要量のＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｚ）またはＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｅ）を製造した。
　また、同様の反応により得られた、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｚ）とＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｅ）とを混合物として分離し、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｚ）とＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｅ）の異性体混合物も製造した。このとき得られたＨＣＦＯ－１２３３ｙｄの異性体混合物は、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｚ）９５質量％、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｅ）５質量％であった。
［溶剤組成物の調製および気液平衡試験］
＜ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｚ）とシクロヘキサン＞
　ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｚ）と、シクロヘキサン（試薬１級、関東化学株式会社製）を表１に示したように種々の質量比で混合して得られた混合物（溶剤組成物）　２００ｇを、３００ｍｌの丸底フラスコに分留頭および還流管を取り付けた気液平衡蒸留装置に入れ、圧力９．９５×１０４～１．０２×１０５Ｐａで加熱還流を行った。気相と液相の温度が平衡状態になった時点で、気相および液相から該混合物のサンプルを採取し、ガスクロマトグラフでＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｚ）とシクロヘキサンの組成を分析し比揮発度を求めた。結果を各組成における沸点とともに表１に示す。なお、表１、４、５において「１２３３ｙｄ（Ｚ）」はＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｚ）を示し、「ｃ－Ｈｅｘ」はシクロヘキサンを示す。
　大気圧（１．０１１×１０５Ｐａ）において、気相および液相の組成は、表１のようにＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｚ）が９０．０質量％、シクロヘキサンが１０．０質量％で一致した（比揮発度が１．０）。このときの気相温度は５２．８℃であった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
＜ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｚ）とｎ－ヘキサン＞
　ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｚ）と、ｎ－ヘキサン（試薬１級、関東化学株式会社製）を表２に示した種々の質量比で混合して得られた混合物（溶剤組成物）　２００ｇを、３００ｍｌの丸底フラスコに分留頭および還流管を取り付けた気液平衡蒸留装置に入れ、圧力９．９５×１０４～１．０２×１０５Ｐａで蒸留を行った。気相と液相の温度が平衡状態になった時点で、気相および液相から該混合物のサンプルを採取し、ガスクロマトグラフでＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｚ）とｎ－ヘキサンの組成を分析し比揮発度を求めた。結果を各組成における沸点とともに表２に示す。なお、表２、４、５において「１２３３ｙｄ（Ｚ）」はＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｚ）を示し、「ｎ－Ｈｅｘ」はｎ－ヘキサンを示す。
　大気圧（１．０１１×１０５Ｐａ）において、気相および液相の組成は、表２のようにＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｚ）が８９．０質量％、ｎ－ヘキサンが２１．０質量％で一致した（比揮発度が１．０）。このときの気相温度は５０．８℃であった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
＜ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｚ）とｎ－ヘプタン＞
　ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｚ）と、ｎ－ヘプタン（試薬１級、関東化学株式会社製）を表３に示した種々の質量比で混合して得られた混合物（溶剤組成物）　２００ｇを、３００ｍｌの丸底フラスコに分留頭および還流管を取り付けた気液平衡蒸留装置に入れ、圧力９．９５×１０４～１．０２×１０５Ｐａで蒸留を行った。気相と液相の温度が平衡状態になった時点で、気相および液相から該混合物のサンプルを採取し、ガスクロマトグラフでＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｚ）とｎ－ヘキサンの組成を分析した。結果を各組成における沸点とともに表３に示す。なお、表３、４、５において「１２３３ｙｄ（Ｚ）」はＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｚ）を示し、「ｎ－Ｈｅｐ」はｎ－ヘプタンを示す。
　大気圧（１．０１１×１０５Ｐａ）において、気相および液相の組成は、表３のようにＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｚ）が９７．７質量％、ｎ－ヘプタンが２．３質量％で一致した（比揮発度が１．０）。このときの気相温度は５３．６℃であった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
　なお、上記した表１～３において、いずれの気液平衡試験結果に記載している比揮発度は以下の式から求められる。
（比揮発度を求める式）
　比揮発度＝（液相部におけるＨＣＦＯ－１２３３ｙｄの質量％／液相部における炭化水素の質量％）／（気相部におけるＨＣＦＯ－１２３３ｙｄの質量％／気相部における炭化水素の質量％）
［溶剤組成物の調製］
　製造例１で得られたＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｚ）、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｅ）、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄの異性体混合物、上記気液平衡試験に用いた溶剤組成物の調製時と同一のシクロヘキサン、ｎ－ヘキサンおよびｎ－ヘプタンを用い、また、公知の溶剤組成物を用い、表４および表５に示す質量割合（％）となるように例１～例１８の溶剤組成物を得た。
　なお、例１４～１６（比較例）として、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｚ）、製造例１で得られたＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ異性体混合物、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｅ）をそれぞれ単独組成のものを、例１７として、ＨＣＦＣ－２２５（９５質量％）とエタノール（４．３～４．５質量％）、ニトロメタン（残部）の混合物であるアサヒクリンＡＫ－２２５ＡＥＳ（旭硝子株式会社製、商品名）を、例１８として、ＨＣＦＣ－２２５からなるアサヒクリンＡＫ－２２５（旭硝子株式会社製、商品名）を、準備した。
なお、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄの異性体混合物は、表４、５において、単に「ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ」と示した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
［試験例１：フラックス洗浄性能の評価］
　得られた例１～１８の溶剤組成物を用いて以下のフラックス洗浄試験を行い、フラックス洗浄性能を評価した。
＜フラックス洗浄試験＞
　（Ａ）くし型基板Ａ（導体幅：０．４０ｍｍ、導体間隔：０．１９ｍｍ、重ね代：１５．８７ｍｍ、基板全体寸法：５０×５０ｍｍ）に、洗浄用ポストフラックス（ＪＳ－１５ＣＡＴ：商品名、弘輝社製）を塗布し、１００℃で１０分乾燥後、２６０℃の噴流式鉛半田槽にて半田付け後、一晩静置して半田付けした基板（Ａ）を作製した。 
　（Ｂ）くし型電極基板Ｂ（導体幅：０．６６ｍｍ、導体間隔：１．２２ｍｍ、重ね代：２１．１２ｍｍ、基板全体寸法：５０×５０ｍｍ）に洗浄用ソルダーペースト（Ｍ７０５－３４５Ｆ－３１－１２：商品名、千住金属工業社製）を塗布し、フロリナートＦＣ－４０（商品名、住友３Ｍ社製）で３０秒間予熱したのち、フロリナートＦＣ－７０（商品名、住友３Ｍ社製）で１０秒間の半田溶融後、一晩静置して半田付けした基板（Ｂ）を作製した。
　上記により得られた、２種類の半田付けした基板（Ａ）、基板（Ｂ）のそれぞれについて、表４および表５に示す例１～１８のフラックス洗浄剤を用いて以下の方法にて洗浄試験を実施した。
　洗浄工程は、フラックス洗浄剤を５００ｍｌ入れた５００ｍｌのガラス製ビーカーに出力が２００Ｗ、周波数が３５ｋＨｚの超音波を照射した液温が４５℃の浸漬洗浄を３分間、さらにフラックス洗浄剤を５００ｍｌ入れた５００ｍｌのガラス製ビーカーに浸漬してすすぎ洗浄を３分間行い、最後に冷却コイルを取り付けた２０００ｍｌのビーカーで蒸気洗浄を３分間実施した。
　洗浄後の基板（Ａ）および基板（Ｂ）の外観を観察し、表面の清浄度を目視で観察して洗浄性能を以下の評価基準により評価した。評価結果を表６および表７に示す。
〈評価基準〉
　Ａ：白色残渣が残らず洗浄できた。
　Ｂ：わずかに白色残渣がみられた。
　Ｃ：白色残渣がみられた。
　Ｄ：多くの白色残渣がみられた。
　表６および表７に示した通り、例１～１３の溶剤組成物は、地球環境に悪影響を及ぼさない成分で構成され、性能においてはＨＣＦＣ類＋アルコールであるＡＫ－２２５ＡＥＳ（例１７）と同程度であり、フラックス洗浄剤として十分な性能を有することが明らかである。
［試験例２：金属加工油洗浄性能の評価］
＜金属加工油の洗浄試験＞
　例１～例１８の溶剤組成物を用いて以下の金属加工油の洗浄性試験を行い、金属加工油の洗浄性能を評価した。
＜洗浄試験Ａ＞
　ＳＵＳ－３０４のテストピース（２５ｍｍ×３０ｍｍ×２ｍｍ）を、金属加工油である「ユニプレステラミＤＰ２２０（動粘度２２０ｍｍ２/ｓ：４０℃）」（ＪＸ日鉱日石エネルギー株式会社製、商品名）中に浸漬した後、各例の洗浄剤組成物５０ｍＬ中に１分間浸漬し、引き上げて切削油が除去された度合を観察した。
＜洗浄試験Ｂ＞
　金属加工油として、「ＥＭ－７４５１（動粘度３４２ｍｍ２/ｓ：４０℃）」（日本工作油株式会社製、商品名）を使用した以外は洗浄試験Ａと同様の操作により試験を行った。
＜洗浄試験Ｃ＞
　金属加工油として、「サンカット５０Ｓ（動粘度４４ｍｍ２/ｓ：４０℃）」（日本グリース株式会社製、商品名）を使用した以外は洗浄試験Ａと同様の操作により試験を行った。
　以上の洗浄試験Ａ～Ｃにおいて、その試験後の洗浄性の評価は以下の基準に従って行った。評価結果を表６および表７に併せて示す。
〈評価基準〉
　Ａ（良好）：金属加工油が除去された。
　Ｂ（やや不良）：金属加工油の残留がみられた。
　Ｃ（不良）：金属加工油がかなり残存した。
　表６および表７に示したように、例１～１３の溶剤組成物は、いずれの洗浄試験においても金属加工油を充分に洗浄除去でき、優れた洗浄性を示した。
　一方、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｚ）、ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ異性体混合物およびＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ（Ｅ）を単独で使用した例１４～１６の溶剤組成物は、洗浄後に金属加工油がかなり残存しており、充分な洗浄性が得られなかった。
　表６および表７に示した通り、例１～１３の溶剤組成物は、地球環境に悪影響を及ぼさない成分で構成され、性能においては、例１４～１６のＨＣＦＯ－１２３３ｙｄの各異性体単独では洗浄できない金属加工油を、ＨＣＦＣ類であるＡＫ－２２５（例１８）と同程度に除去することができ、金属加工油の洗浄剤として十分な性能を有することが明らかである。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000006
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000007
［試験例３：不揮発性物質の溶解性］
　例１～１３の溶剤組成物を２０ｍｌの蓋付きサンプル瓶に各１０ｇを入れ、不揮発性物質としてシリコーン油「ＫＦ－９６－５０ＣＳ」（信越化学工業株式会社製、商品名）を１ｇ加えて振り混ぜたところ、いずれの溶剤組成物においてもシリコーン油を溶解したことを確認できた。
　以上より、本実施形態の溶剤組成物は、地球環境への負荷を抑制し、フラックスの洗浄性能および金属加工油の洗浄性能も良好で、かつ、溶剤組成物の安定性にも優れたものであることがわかった。
　本発明の溶剤組成物は、各種有機物の溶解性に優れ、かつ地球環境に悪影響を及ぼさず、フラックスおよび金属加工油の洗浄性能に優れた溶剤組成物である。この溶剤組成物は、洗浄や塗布用途等の広範囲の工業用途に有用であり、金属、プラスチック、エラストマー等の様々な材質の物品に対し、悪影響を与えることなく使用することができる。

Claims (11)

  1. 　１－クロロ－２，３，３－トリフルオロ－１－プロペンと、沸点が６０～１００℃の炭化水素（Ａ）と、を含む溶剤組成物。
  2. 　前記溶剤組成物に含まれる前記１－クロロ－２，３，３－トリフルオロ－１－プロペンと前記炭化水素（Ａ）の合計１００質量％に対して、前記１－クロロ－２，３，３－トリフルオロ－１－プロペンが７５～９９質量％、前記炭化水素（Ａ）が１～２５質量％である、請求項１に記載の溶剤組成物。
  3. 　前記炭化水素（Ａ）が、シクロヘキサン、ｎ－ヘキサンおよびｎ－ヘプタンからなる群より選ばれる少なくとも１つを含む、請求項１または２に記載の溶剤組成物
  4. 　前記１－クロロ－２，３，３－トリフルオロ－１－プロペンが、１－クロロ－２，３，３－トリフルオロ－１－プロペンのＺ異性体を８０質量％以上含む、請求項１～３のいずれか１項に記載の溶剤組成物
  5. 　さらに、フェノール類、エーテル類、エポキシド類、アミン類、アルコール類、前記炭化水素（Ａ）以外の炭化水素類からなる群より選ばれる少なくとも１種の安定剤を含む、請求項１～４のいずれか１項に記載の溶剤組成物。
  6. 　フラックスが付着した物品の表面に、請求項１～５のいずれか１項に記載の溶剤組成物を接触させて、前記物品の表面の前記フラックスを洗浄する、フラックスの洗浄方法。
  7. 　前記フラックスを洗浄した後、さらに、前記物品の表面を乾燥させる、請求項６に記載のフラックスの洗浄方法。
  8. 　前記物品が、電子部品、電機部品、精密機械部品、または光学部品である、請求項６または７に記載のフラックスの洗浄方法。
  9. 　４０℃における動粘度が１００ｍｍ2／ｓ以上の金属加工油が付着した物品の表面に、請求項１～５のいずれかに記載の溶剤組成物を接触させて、前記物品の表面の前記金属加工油を洗浄する、金属加工油の洗浄方法。
  10. 　前記金属加工油を洗浄した後、さらに、前記物品の表面を乾燥する請求項９に記載の金属加工油の洗浄方法。
  11. 　前記物品が、電子部品、電機部品、精密機械部品、または光学部品である請求項９または１０に記載の金属加工油の洗浄方法。
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