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WO2015198671A1 - 銅粉及びそれを用いた銅ペースト、導電性塗料、導電性シート - Google Patents

銅粉及びそれを用いた銅ペースト、導電性塗料、導電性シート Download PDF

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WO2015198671A1
WO2015198671A1 PCT/JP2015/059483 JP2015059483W WO2015198671A1 WO 2015198671 A1 WO2015198671 A1 WO 2015198671A1 JP 2015059483 W JP2015059483 W JP 2015059483W WO 2015198671 A1 WO2015198671 A1 WO 2015198671A1
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WO
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copper powder
copper
dendritic
resin
paste
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PCT/JP2015/059483
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English (en)
French (fr)
Inventor
岡田 浩
雄 山下
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Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Metal Mining Co Ltd
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    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P10/00Technologies related to metal processing
    • Y02P10/20Recycling

Definitions

  • the present invention relates to a copper powder used as a material for a conductive paste or the like, and more particularly to a copper powder having a novel shape capable of improving conductivity and a copper paste using the same.
  • Silver or copper metal filler paste is applied or printed on various substrates of an electronic device, and is subjected to heat curing or heat baking treatment to form a conductive film to be a wiring layer or an electrode.
  • a resin-type conductive paste is composed of a metal filler, a resin, a curing agent, a solvent, etc., printed on a conductor circuit pattern or terminal, and heat-cured at 100 ° C. to 200 ° C. to form a conductive film. And forming electrodes.
  • the resin-type conductive paste since the thermosetting resin is cured and contracted by heat, the metal fillers are pressed and contacted with each other so that the metal fillers overlap each other, and as a result, an electrically connected current path is formed. Since this resin-type conductive paste is processed at a curing temperature of 200 ° C. or less, it is often used for a substrate using a heat-sensitive material such as a printed wiring board.
  • the fired conductive paste is made of a metal filler, glass, solvent, etc., printed on a conductor circuit pattern or terminal, and heated and fired at 600 ° C. to 800 ° C. to form a conductive film.
  • the fired conductive paste is processed at a high temperature to sinter the metal fillers to ensure conductivity. Since this fired conductive paste is processed at such a high firing temperature, it cannot be used for printed wiring boards that use resin materials. However, since metal fillers are connected by sintering, they have low resistance. Is easy to obtain.
  • Such a fired conductive paste is used, for example, for an external electrode of a multilayer ceramic capacitor.
  • the copper and silver powders used as the metal filler in order to connect the particles and conduct electricity, shapes such as a granular shape, a dendritic shape, and a flat plate shape have been often used.
  • a flat plate shape with a small thickness contributes to a reduction in the thickness of the wiring material due to a decrease in thickness, and a certain thickness.
  • a larger area where the grains come into contact with each other than a certain cubic or spherical particle can be ensured, and that low resistance, that is, high conductivity can be achieved. For this reason, it is suitable especially for the use of the conductive paint and conductive paste which want to maintain electroconductivity.
  • Patent Document 1 discloses a method for obtaining a flaky copper powder suitable for a filler of a conductive paste. Specifically, a spherical copper powder having an average particle size of 0.5 to 10 ⁇ m is used as a raw material and is processed into a flat plate shape by a mechanical energy of a medium loaded in the mill using a ball mill or a vibration mill. is there.
  • Patent Document 2 discloses a technique relating to a copper powder for conductive paste, more specifically, a disk-shaped copper powder that provides high performance as a copper paste for through holes and external electrodes, and a method for manufacturing the same. Specifically, the granular atomized copper powder is put into a medium agitating mill, and a steel ball having a diameter of 1/8 to 1/4 inch is used as a grinding medium. 1% is added and processed into a flat plate shape by grinding in air or in an inert atmosphere.
  • Patent Document 3 discloses a method for obtaining electrolytic copper powder that can be molded with high strength, with improved formability than conventional electrolytic copper powder, without unnecessarily developing the branches of electrolytic copper powder.
  • the electrolytic solution is used for the purpose of reducing the size of the crystallites constituting the electrolytic copper powder.
  • One or two or more selected from tungstate, molybdate, and sulfur-containing organic compounds are added to a certain aqueous copper sulfate solution to deposit electrolytic copper powder.
  • the obtained granular copper powder is mechanically deformed (processed) using a medium such as a ball to form a flat plate.
  • a medium such as a ball
  • the average particle size is 1 to 30 ⁇ m in the technique of Patent Document 1
  • the average particle diameter is 7 to 12 ⁇ m in the technique of Patent Document 3.
  • dendritic shape electrolytic copper powder deposited in a dendritic shape called dendritic shape.
  • the dendritic electrolytic copper powder branches from the needle-grown primary copper in the secondary direction, grows in a needle-like shape, and further grows in a needle-like shape from the secondary direction to the tertiary direction. It is formed through the process of growing, and further, the shape of the branches grows as if the leaves of the trees grow on the branches.
  • Such dendritic electrolytic copper powder has a dendritic shape, so it has a large surface area, excellent formability and sinterability, and is used as a raw material for oil-impregnated bearings and machine parts for powder metallurgy applications. in use.
  • Patent Document 4 discloses a copper powder for metal powder injection molding having a complicated three-dimensional shape and high dimensional accuracy, and a method for manufacturing an injection molded product using the same. Specifically, it has been shown that by further developing the dendritic shape, the dendrites of the electrolytic copper powder adjacent to each other at the time of compression molding are intertwined and firmly connected to each other, so that it can be molded with high strength. Furthermore, when it is used as a conductive paste or a metal filler for electromagnetic wave shielding, since it has a dendritic shape, it can be used that it can have more contacts than a spherical shape.
  • the dendritic copper powder as described above when used as a metal filler such as a conductive paste or a resin for electromagnetic wave shielding, the dendritic copper powder has a shape in which the metal filler in the resin has developed into a dendritic shape. They are entangled with each other and agglomerate occurs, which causes a problem that they are not uniformly dispersed in the resin, and the viscosity of the paste increases due to agglomeration, resulting in problems in wiring formation by printing. Such a problem is pointed out in Patent Document 3, for example.
  • the dendritic copper powder As described above, it is not easy to use the dendritic copper powder as a metal filler such as a conductive paste, and the improvement of the conductivity of the paste has been difficult.
  • a dendritic shape is easy to ensure a contact rather than granular, and can ensure high electroconductivity as a conductive paste or an electromagnetic wave shield.
  • the present invention has been proposed in view of the above-described circumstances, and is preferably used as an application such as a conductive paste or an electromagnetic wave shield while ensuring excellent conductivity by increasing the number of contacts between copper powders. It aims at providing the copper powder which can do.
  • the present inventors present a dendritic shape having a main trunk that grows linearly and a plurality of branches separated from the main trunk, and the main trunk and the branch have flat cross-sectional copper particles having a predetermined cross-sectional average thickness. It is found that the average particle size is in a specific range, while ensuring excellent conductivity, for example, can be uniformly mixed with a resin and can be suitably used for applications such as a conductive paste,
  • the present invention has been completed. That is, the present invention provides the following.
  • a first invention according to the present invention has a dendritic shape having a main trunk that grows linearly and a plurality of branches separated from the main trunk, and the main trunk and the branch have a cross-sectional average thickness.
  • a copper powder comprising flat copper particles of 0.2 ⁇ m to 1.0 ⁇ m, wherein the copper powder has an average particle diameter (D50) of 5.0 ⁇ m to 30 ⁇ m.
  • a ratio obtained by dividing the cross-sectional average thickness of the tabular copper particles by the average particle diameter (D50) of the copper powder is 0.00. in the range 01 to 0.1 and a copper powder, wherein the bulk density of the copper powder is in the range of 0.3g / cm 3 ⁇ 5.0g / cm 3.
  • the third invention according to the present invention is characterized in that, in the first or second invention, the crystallite diameter in the Miller index of the (111) plane by X-ray diffraction is in the range of 800 to 2000 mm. Copper powder.
  • a fourth invention according to the present invention is a metal filler characterized by containing the copper powder according to any one of the first to third inventions in a proportion of 20% by mass or more of the whole. .
  • a fifth invention according to the present invention is a copper paste obtained by mixing the metal filler according to the fourth invention with a resin.
  • a sixth invention according to the present invention is a conductive paint for electromagnetic wave shielding, characterized by using the metal filler according to the fourth invention.
  • a seventh invention according to the present invention is a conductive sheet for electromagnetic wave shielding, characterized by using the metal filler according to the fourth invention.
  • the copper powder according to the present invention is a dendritic copper powder having a main trunk and a plurality of branches branched from the main trunk, and the main trunk and branch portions are made of flat copper particles having a predetermined cross-sectional average thickness. .
  • a large number of contacts can be secured and a large contact area can be secured, and excellent electrical conductivity can be ensured, and aggregation can be prevented and used suitably for applications such as conductive pastes and electromagnetic wave shields. be able to.
  • the present embodiment specific embodiments of the copper powder according to the present invention (hereinafter referred to as “the present embodiment”) will be described in detail with reference to the drawings.
  • this invention is not limited to the following embodiment, A various change is possible in the range which does not change the summary of this invention.
  • FIG. 1 is a schematic diagram showing a specific shape of the copper powder according to the present embodiment.
  • the copper powder 1 according to the present embodiment is a copper powder having a dendritic shape that is a two-dimensional or three-dimensional form (hereinafter, copper powder according to the present embodiment). Is also called “dendritic copper powder”. More specifically, the dendritic copper powder 1 is a dendritic copper powder having a main trunk 2 that grows linearly and a plurality of branches 3 that are linearly separated from the main trunk, and the main trunk 2 and the main trunk 2.
  • the copper particles constituting the branch 3 branched from the shape of a flat plate having a cross-sectional average thickness of 0.2 ⁇ m to 1.0 ⁇ m.
  • the average particle diameter (D50) of the dendritic copper powder 1 composed of such flat copper particles is 5.0 ⁇ m to 30 ⁇ m.
  • the branch 3 in the dendritic copper powder 1 means both a branch 3a branched from the main trunk 2 and a branch 3b further branched from the branch 3a.
  • the dendritic copper powder 1 is obtained in detail later.
  • the dendritic copper powder 1 is deposited on the cathode by immersing the anode and the cathode in a sulfuric acid electrolytic solution containing copper ions, and flowing a direct current to perform electrolysis. be able to.
  • FIGS. 2 to 4 are photographic views showing examples of observation images when the dendritic copper powder 1 according to the present embodiment is observed with a scanning electron microscope (SEM).
  • SEM scanning electron microscope
  • 2 shows the dendritic copper powder 1 observed at a magnification of 500 times
  • FIG. 3 shows the dendritic copper powder 1 observed at a magnification of 5,000 times
  • FIG. 4 shows the dendritic copper powder 1 (At the time of mass production) is observed at a magnification of 1,000 times.
  • the copper powder 1 according to the present embodiment has a main trunk 2 and a branch 3 (3a, 3b) branched from the main trunk 2.
  • the precipitation state is exhibited.
  • the main trunk 2 and the branches 3 are composed of flat copper particles.
  • the flat copper particles constituting the main trunk 2 and the branch 3 have a cross-sectional average thickness of 0.2 ⁇ m to 1.0 ⁇ m.
  • the dendritic copper powder 1 is composed of the flat fine copper particles 2, it can contribute to thinning of the wiring material and the like.
  • the lower limit value of the cross-sectional average thickness of the copper particles 2 is preferably 0.2 ⁇ m or more, which can increase the number of contacts.
  • the average particle diameter (D50) is 5.0 ⁇ m to 30 ⁇ m.
  • an average particle diameter (D50) can be measured by the laser diffraction scattering type particle size distribution measuring method, for example.
  • the metal filler in the resin is When the shape is developed in a dendritic shape, the dendritic copper powders are entangled with each other to cause agglomeration, which may not be uniformly dispersed in the resin. In addition, the agglomeration increases the viscosity of the paste and causes problems in wiring formation by printing. This occurs because the shape of the dendritic copper powder is large, and in order to solve this problem while effectively utilizing the dendritic shape, it is necessary to reduce the shape of the dendritic copper powder. It becomes.
  • the effect of being in a dendritic shape that is, a three-dimensional shape, has a large surface area and excellent moldability and sinterability, and can be molded with high strength by being firmly connected via a branch-like portion.
  • the dendritic copper powder is larger than a predetermined size.
  • the average particle diameter of the dendritic copper powder 1 is 5.0 ⁇ m to 30 ⁇ m, the surface area is increased, and good moldability and sinterability can be secured.
  • the dendritic copper powder 1 which concerns on this Embodiment is dendritic since the trunk 2 and the branch 3 consist of flat copper particles in addition to being dendritic shape in this way. Due to this three-dimensional effect and the effect that the copper particles constituting the dendritic shape are flat, more contacts between the copper powders 1 can be secured.
  • divided the cross-sectional average thickness of the flat copper particle mentioned above by the average particle diameter (D50) of the said dendritic copper powder 1. / Average particle diameter) is preferably in the range of 0.01 to 0.1.
  • the ratio (aspect ratio) represented by “average cross-sectional thickness / average particle diameter” is, for example, the degree of aggregation and dispersibility when processed as a conductive copper paste, and the retention of appearance when coating copper paste It becomes an indicator such as.
  • this aspect ratio is less than 0.01, it comes close to a copper powder made of spherical copper particles, and aggregation tends to occur, making it difficult to uniformly disperse the resin in the paste.
  • the aspect ratio exceeds 0.1, the viscosity increases during paste formation, and the external shape retainability and surface smoothness during application of the copper paste may deteriorate.
  • the bulk density of the dendritic copper powder 1 is not particularly limited, but is preferably in the range of 0.3 g / cm 3 to 5.0 g / cm 3 . If the bulk density is less than 0.3 g / cm 3 , there is a possibility that sufficient contact between the copper powders cannot be secured. On the other hand, when the bulk density exceeds 5.0 g / cm 3, an average particle diameter of the dendritic copper powder 1 also increases, there is the surface area becomes moldability and sintering property may deteriorate reduced.
  • the dendritic copper powder 1 is not particularly limited, but it is preferable that the crystallite diameter belongs to a range of 800 to 2000 angstroms.
  • the crystallite diameter is less than 800 mm, the copper particles constituting the main trunk 2 and the branch 3 tend to have a shape close to a spherical shape instead of a flat plate shape, and it becomes difficult to ensure a sufficiently large contact area. May be reduced.
  • the crystallite diameter exceeds 2000 mm, the average particle diameter of the dendritic copper powder 1 also increases, the surface area decreases, and the moldability and sinterability may deteriorate.
  • the crystallite diameter here is obtained from a diffraction pattern obtained by an X-ray diffraction measurement device based on Scherrer's calculation formula shown by the following formula (1), and is based on the (111) plane by X-ray diffraction. This is the crystallite diameter in the Miller index.
  • D 0.9 ⁇ / ⁇ cos ⁇ Formula (1) (D: crystallite diameter ( ⁇ ), ⁇ : diffraction peak spread (rad) depending on crystallite size, ⁇ : X-ray wavelength [CuK ⁇ ] ( ⁇ ), ⁇ : diffraction angle (°). .)
  • the dendritic copper powder having the shape as described above is occupied at a predetermined ratio in the obtained copper powder when observed with an electron microscope, copper powder having other shapes is mixed.
  • the effect similar to the copper powder which consists only of the dendritic copper powder can be acquired.
  • the dendritic copper powder having the shape described above is 50% by number or more, preferably 80% by number or more of the total copper powder, More preferably, as long as it occupies a ratio of 90% by number or more, copper powder of other shapes may be included.
  • the dendritic copper powder 1 according to the present embodiment can be produced, for example, by a predetermined electrolytic method using a sulfuric acid acidic solution containing copper ions as an electrolytic solution.
  • the above-described sulfuric acid-containing electrolytic solution containing copper ions is contained in an electrolytic cell in which metallic copper is used as an anode (anode) and a stainless plate or titanium plate is used as a cathode (cathode).
  • the electrolytic solution is subjected to electrolytic treatment by applying a direct current at a predetermined current density.
  • the dendritic copper powder 1 can be deposited (electrodeposited) on the cathode with energization.
  • the fine copper particles 2 having a plate shape are obtained only by electrolysis without mechanically deforming the granular copper powder obtained by electrolysis using a medium such as a ball.
  • the dendritic copper powder 1 aggregated to form a dendritic shape can be deposited on the cathode surface.
  • the electrolytic solution for example, a solution containing a water-soluble copper salt, sulfuric acid, an additive such as an amine compound, and chloride ions can be used.
  • the water-soluble copper salt is a copper ion source that supplies copper ions, and examples thereof include copper sulfate such as copper sulfate pentahydrate, copper chloride, and copper nitrate, but are not particularly limited.
  • the copper ion concentration in the electrolytic solution can be about 1 g / L to 20 g / L, preferably about 5 g / L to 10 g / L.
  • Sulfuric acid is for making sulfuric acid electrolyte.
  • concentration of sulfuric acid in the electrolytic solution can be about 20 g / L to 300 g / L, preferably about 50 g / L to 150 g / L, as the free sulfuric acid concentration. Since the sulfuric acid concentration affects the conductivity of the electrolyte, it affects the uniformity of the copper powder obtained on the cathode.
  • an amine compound can be used as the additive.
  • the amine compound contributes to shape control of the copper powder deposited together with chloride ions described later, and the copper powder deposited on the cathode surface is composed of flat copper particles having a predetermined cross-sectional average thickness. And a dendritic copper powder having a branch branched from its main trunk.
  • amine compound For example, a safranine etc. can be used.
  • amine compound you may add individually by 1 type and may add it in combination of 2 or more types.
  • the addition amount of the amine compounds is preferably such that the concentration in the electrolytic solution is in the range of about 0.1 mg / L to 500 mg / L.
  • chloride ions compounds that supply chloride ions such as hydrochloric acid and sodium chloride (chloride ion source) can be added to the electrolyte solution.
  • a chloride ion contributes to shape control of the copper powder to precipitate with additives, such as an amine compound mentioned above.
  • the chloride ion concentration in the electrolytic solution can be about 30 mg / L to 1000 mg / L, preferably about 50 mg / L to 800 mg / L, more preferably about 100 mg / L to 300 mg / L.
  • the copper powder is deposited and produced on the cathode by electrolysis using the electrolytic solution having the composition as described above.
  • the electrolysis method a known method can be used.
  • the order to electrolysis using an electrolytic solution of sulfuric acid acidity preferably in the range of 5A / dm 2 ⁇ 30A / dm 2 is energized while stirring the electrolytic solution.
  • the liquid temperature (bath temperature) of the electrolytic solution can be, for example, about 20 ° C. to 60 ° C.
  • the electrolysis time may be appropriately set according to the copper ion concentration of the electrolytic solution, and may be, for example, about 6 to 15 hours.
  • the dendritic copper powder 1 is a dendritic copper powder having a main trunk that grows linearly and a plurality of branches branched from the main trunk. It consists of tabular copper particles having an average cross-sectional thickness of 0.2 ⁇ m to 1.0 ⁇ m, and the average particle diameter (D50) of the copper powder is 5.0 ⁇ m to 30 ⁇ m.
  • the dendritic shape increases the surface area and makes it excellent in formability and sinterability, and its main trunk and branches are composed of predetermined flat copper particles. As a result, a large number of contacts can be ensured, and excellent conductivity is exhibited.
  • the dendritic copper powder 1 having such a predetermined structure, even when it is a copper paste or the like, it is possible to suppress agglomeration and to uniformly disperse in the resin, In addition, it is possible to suppress the occurrence of poor printability due to an increase in the viscosity of the paste. Therefore, the dendritic copper powder 1 can be suitably used for applications such as conductive paste and conductive paint.
  • the conductive paste (copper paste) is not limited to use under particularly limited conditions.
  • the dendritic copper powder 1 according to the present embodiment is used as a metal filler, a binder resin, a solvent, and further necessary. Accordingly, it can be produced by kneading with an additive such as an antioxidant or a coupling agent.
  • the dendritic copper powder 1 according to the present embodiment is used as a metal filler such as a conductive paste, it can be used by mixing with copper powder of other shapes. At this time, it is preferable that it is 20 mass% or more as a ratio of the dendritic copper powder 1 among copper powder whole quantity, It is more preferable that it is 50 mass% or more, It is further more preferable that it is 75 mass% or more.
  • the copper powder of another shape is mixed with the dendritic copper powder 1 as a copper powder, and the copper powder of another shape is filled into the gap of the dendritic copper powder 1. As a result, more contacts for ensuring conductivity can be secured.
  • the dendritic copper powder 1 is less than 20% by mass of the total amount of copper powder used as the metal filler, the contacts between the dendritic copper powders 1 are reduced, and the contact by mixing with copper powder of other shapes. Even if this increase is taken into account, the conductivity of the metal filler is lowered.
  • the copper paste only needs to contain dendritic copper powder 1 in a proportion of 20% by mass or more, and other components such as spherical copper powder of about 1 ⁇ m to 10 ⁇ m are mixed. May be.
  • the binder resin is not particularly limited, but an epoxy resin, a phenol resin, or the like can be used.
  • organic solvents such as ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, glycerol, and terpineol, can be used.
  • the amount of the organic solvent added is not particularly limited, but the amount added is adjusted in consideration of the particle size of the dendritic copper powder 1 so as to have a viscosity suitable for a conductive film forming method such as screen printing or a dispenser. can do.
  • resin components can be added to adjust the viscosity.
  • a cellulose-based resin typified by ethyl cellulose can be used, which is added as an organic vehicle dissolved in an organic solvent such as terpineol.
  • an antioxidant or the like can be added in order to improve the conductivity after firing.
  • a hydroxycarboxylic acid etc. can be mentioned. More specifically, hydroxycarboxylic acids such as citric acid, malic acid, tartaric acid, and lactic acid are preferable, and citric acid or malic acid having a high adsorptive power to copper is particularly preferable.
  • the addition amount of the antioxidant can be set to, for example, about 1 to 15% by mass in consideration of the antioxidant effect and the viscosity of the paste.
  • the above-described metal filler is used as an electromagnetic wave shielding material, it is not limited to use under particularly limited conditions, and a general method, for example, using the metal filler mixed with a resin can be used. it can.
  • a general method for example, mixing the metal filler with a resin and a solvent, and further adding an antioxidant, a thickener as necessary. It can be used as a conductive paint by mixing and kneading with an agent, an anti-settling agent and the like.
  • the binder resin and solvent used at this time are not particularly limited, and those conventionally used can be used.
  • vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, acrylic resin, polyester resin, fluororesin, silicon resin, phenol resin, or the like can be used.
  • the solvent conventionally used alcohols such as isopropanol, aromatic hydrocarbons such as toluene, esters such as methyl acetate, ketones such as methyl ethyl ketone, and the like can be used.
  • the antioxidant conventionally used fatty acid amides, higher fatty acid amines, phenylenediamine derivatives, titanate coupling agents, and the like can be used.
  • the resin used for forming the electromagnetic wave shielding layer of the conductive sheet for electromagnetic wave shielding is not particularly limited. Conventionally used ones can be used. For example, various polymers and copolymers such as vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, vinylidene chloride resin, acrylic resin, polyurethane resin, polyester resin, olefin resin, chlorinated olefin resin, polyvinyl alcohol resin, alkyd resin, phenol resin, etc. A thermoplastic resin, a thermosetting resin, a radiation curable resin, and the like can be appropriately used.
  • the method for producing the electromagnetic shielding material is not particularly limited.
  • an electromagnetic shielding layer is formed by applying or printing a coating material in which a metal filler and a resin are dispersed or dissolved in a solvent on a substrate, and the surface is solidified. It can manufacture by drying to such an extent.
  • a metal filler containing the dendritic silver-coated copper powder 1 according to the present embodiment can also be used.
  • the average particle diameter (D50) of the obtained copper powder was measured using a laser diffraction / scattering particle size distribution analyzer (manufactured by Nikkiso Co., Ltd., HRA9320 X-100).
  • the obtained copper powder was embedded in an epoxy resin to prepare a measurement sample, the sample was cut and polished, and observed with a scanning electron microscope to observe the cross section of the copper powder. First, 20 copper powders were observed, and the average thickness (cross-sectional average thickness) of the copper powder was determined. Next, the aspect ratio (average thickness / D50) was determined from the ratio between the average thickness value and the average particle size (D50) determined with a laser diffraction / scattering particle size distribution analyzer.
  • the specific resistance value of the film was determined by measuring the sheet resistance value by a four-terminal method using a low resistivity meter (Loresta-GP MCP-T600, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), and measuring the surface roughness shape measuring instrument (Tokyo Seimitsu ( The film thickness of the film was measured by SURFCO M130A), and the sheet resistance value was determined by dividing the film resistance by the film thickness.
  • the electromagnetic shielding characteristics were evaluated by measuring the attenuation rate of the samples obtained in the examples and comparative examples using an electromagnetic wave having a frequency of 1 GHz. Specifically, the level in the case of Comparative Example 4 that does not use dendritic copper powder is set as “ ⁇ ”, and the level that is worse than the level of Comparative Example 4 is set as “X”. Was evaluated as “ ⁇ ”, and when it was excellent, “ ⁇ ”.
  • Example 1 An electrolytic cell having a capacity of 100 L is charged with an electrolytic solution in the electrolytic cell using a titanium electrode plate having an electrode area of 200 mm ⁇ 200 mm as a cathode and a copper plate having an electrode area of 200 mm ⁇ 200 mm as an anode. Then, a direct current was passed through this to deposit copper powder on the cathode plate.
  • an electrolytic solution having a composition with a copper ion concentration of 10 g / L and a sulfuric acid concentration of 100 g / L was used.
  • Basic Red 2 manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.
  • a hydrochloric acid solution manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd. was added.
  • the chloride ion (chlorine ion) concentration in the electrolyte solution was 30 mg / L.
  • the temperature is maintained at 25 ° C. so that the current density of the cathode becomes 25 A / dm 2. Current was applied to deposit copper powder on the cathode plate.
  • the electrolytic copper powder deposited on the cathode plate was recovered by mechanically scraping it off the bottom of the electrolytic cell using a scraper, and the recovered copper powder was washed with pure water and then put in a vacuum dryer and dried. .
  • the deposited copper powder is a two-dimensional or three-dimensional dendritic copper powder, It was a copper powder having a dendritic shape having a main trunk that has been grown, a plurality of branches that are linearly branched from the main trunk, and a branch that is further branched from the branch. Further, the copper particles constituting the main trunk and the branches had a flat plate shape having a cross-sectional thickness (average cross-sectional thickness) of 0.42 ⁇ m. Moreover, the average particle diameter (D50) of the dendritic copper powder was 25.1 ⁇ m.
  • the aspect ratio computed from the cross-sectional average thickness of the copper particle and the average particle diameter of dendritic copper powder was 0.016.
  • the crystallite diameter of the dendritic copper powder was 1752 mm.
  • the bulk density of the obtained copper powder was 0.43 g / cm 3.
  • Example 2 An electrolytic solution having a copper ion concentration of 5 g / L and a sulfuric acid concentration of 100 g / L is used, and the basic red 2 as an additive is added to the electrolytic solution to a concentration of 100 mg / L in the electrolytic solution. Copper powder was deposited on the cathode plate under the same conditions as in Example 1 except that the hydrochloric acid solution was further added so that the chlorine ion concentration in the electrolytic solution was 50 mg / L.
  • the deposited copper powder is a two-dimensional or three-dimensional dendritic copper powder, It was a copper powder having a dendritic shape having a main trunk that has been grown, a plurality of branches that are linearly branched from the main trunk, and a branch that is further branched from the branch. Further, the copper particles constituting the main trunk and the branches had a flat plate shape having a cross-sectional thickness (average cross-sectional thickness) of 0.38 ⁇ m. Moreover, the average particle diameter (D50) of the dendritic copper powder was 8.5 ⁇ m.
  • the aspect ratio computed from the cross-sectional average thickness of the copper particle and the average particle diameter of dendritic copper powder was 0.045.
  • the crystallite diameter of the dendritic copper powder was 922 mm.
  • the bulk density of the obtained copper powder was 0.76 g / cm 3 .
  • Example 3 An electrolytic solution having a copper ion concentration of 5 g / L and a sulfuric acid concentration of 100 g / L is used, and the basic red 2 as an additive is added to the electrolytic solution to a concentration of 150 mg / L in the electrolytic solution. Copper powder was deposited on the cathode plate under the same conditions as in Example 1 except that the hydrochloric acid solution was further added so that the chlorine ion concentration in the electrolyte was 75 mg / L.
  • the deposited copper powder is a two-dimensional or three-dimensional dendritic copper powder, It was a copper powder having a dendritic shape having a main trunk that has been grown, a plurality of branches that are linearly branched from the main trunk, and a branch that is further branched from the branch. Further, the copper particles constituting the main trunk and the branches had a flat plate shape with a cross-sectional thickness (average cross-sectional thickness) of 0.88 ⁇ m. Moreover, the average particle diameter (D50) of the dendritic copper powder was 15.5 ⁇ m.
  • the aspect ratio computed from the cross-sectional average thickness of the copper particle and the average particle diameter of dendritic copper powder was 0.057.
  • the crystallite diameter of the dendritic copper powder was 1272 mm.
  • the bulk density of the obtained copper powder was 0.58 g / cm 3 .
  • FIG. 5 is an SEM observation image of the copper powder obtained in Comparative Example 1. Moreover, it was confirmed that the obtained copper powder is a very large dendritic copper powder having an average particle diameter (D50) of 40 ⁇ m or more. The crystallite diameter of the copper particles was 628 mm. The bulk density of the obtained copper powder was 1.42 g / cm 3.
  • the temperature is maintained at 45 ° C. so that the current density of the cathode becomes 20 A / dm 2.
  • Current was applied to deposit copper powder on the cathode plate.
  • the electrolytic copper powder was prepared in the same manner as in Example 1 except for these conditions.
  • FIG. 6 shows the result of observing the shape of the obtained electrolytic copper powder by the method using the scanning electron microscope (SEM) described above.
  • the deposited copper powder was a two-dimensional or three-dimensional dendritic copper powder.
  • the dendritic main trunks and branches are rounded, and it was not a flat plate composed of one or a plurality of laminated structures, like the copper powder obtained in the examples.
  • Table 1 summarizes the results of evaluating the dendritic copper powder obtained in the above-described Examples and Comparative Examples.
  • the case where the main trunk and the branch extending from the main trunk were dendritic copper powder composed of tabular copper particles was set as “O”, and the dendritic shape composed of tabular copper particles When it was not copper powder, it was set as "x".
  • Example 4 To 70 parts by mass of the electrolytic copper powder obtained in Example 1, 15 parts by mass of a phenol resin (manufactured by Gunei Chemical Co., Ltd., PL-2211) and 10 parts by mass of butyl cellosolve (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd., deer special grade) Using a small kneader (Nippon Seiki Seisakusho, non-bubbling kneader NBK-1), the mixture was kneaded at 1200 rpm for 3 minutes three times to form a paste. During pasting, the copper powder was uniformly dispersed in the resin without agglomeration. The obtained copper paste was printed on a glass with a metal squeegee and cured at 150 ° C. and 200 ° C. for 30 minutes in an air atmosphere.
  • a phenol resin manufactured by Gunei Chemical Co., Ltd., PL-2211
  • butyl cellosolve manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd
  • Example 5 70 parts by mass of the electrolytic copper powder obtained in Example 2 was added 15 parts by mass of phenol resin (manufactured by Gunei Chemical Co., Ltd., PL-2211) and 10 parts by mass of butyl cellosolve (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd., deer special grade). Using a small kneader (Nippon Seiki Seisakusho, non-bubbling kneader NBK-1), the mixture was kneaded at 1200 rpm for 3 minutes three times to form a paste. During pasting, the copper powder was uniformly dispersed in the resin without agglomeration. The obtained conductive paste was printed on a glass with a metal squeegee and cured at 150 ° C. and 200 ° C. for 30 minutes in an air atmosphere.
  • phenol resin manufactured by Gunei Chemical Co., Ltd., PL-2211
  • butyl cellosolve manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.,
  • the flat copper powder was prepared by adding 5 g of stearic acid to 500 g of granular atomized copper powder (manufactured by Mekin Metal Powders) having an average particle diameter of 7.9 ⁇ m, and performing a flattening treatment with a ball mill.
  • the ball mill was flattened by charging 5 kg of 3 mm zirconia beads and rotating for 90 minutes at a rotation speed of 500 rpm.
  • the plate-like copper powder thus produced was measured with a laser diffraction / scattering particle size distribution measuring instrument. As a result, the average particle diameter was 20.1 ⁇ m, and as a result of observation with a scanning electron microscope, the thickness was 0.00. It was 4 ⁇ m.
  • Example 4 the obtained flat copper powder was mixed with 70 parts by mass of the flat copper powder, 15 parts by mass of phenol resin (manufactured by Gunei Chemical Co., Ltd., PL-2211), butyl cellosolve (Kanto). Paste by mixing 10 parts by mass of Chemical Co., Ltd. (Deer Special Grade) and repeating kneading at 1200 rpm for 3 minutes three times using a small kneader (Nippon Seiki Seisakusho, non-bubbling kneader NBK-1). did.
  • the obtained copper paste was printed on a glass with a metal squeegee and cured at 150 ° C. and 200 ° C. for 30 minutes in an air atmosphere.
  • the specific resistance value of the film obtained by curing As a result of measuring the specific resistance value of the film obtained by curing, it was 2.1 ⁇ 10 ⁇ 4 ⁇ ⁇ cm (curing temperature 150 ° C.) and 5.6 ⁇ 10 ⁇ 5 ⁇ ⁇ cm (curing temperature 200 ° C.), respectively. Yes, the specific resistance value was high and the conductivity was inferior compared to the copper pastes obtained in Examples 4 and 5.
  • Example 6 The dendritic copper powder prepared in Example 1 was dispersed in a resin to obtain an electromagnetic wave shielding material.
  • Example 2 100 g of vinyl chloride resin and 200 g of methyl ethyl ketone were mixed with 40 g of the dendritic copper powder obtained in Example 1, and kneading at 1200 rpm for 3 minutes was repeated three times using a small kneader. To make a paste. During pasting, the copper powder was uniformly dispersed in the resin without agglomeration. This was coated and dried on a base material made of a transparent polyethylene terephthalate sheet having a thickness of 100 ⁇ m using a Mayer bar to form an electromagnetic wave shielding layer having a thickness of 25 ⁇ m.
  • the electromagnetic shielding characteristics were evaluated by measuring the attenuation rate using an electromagnetic wave having a frequency of 1 GHz.
  • Table 2 shows the results of the characteristic evaluation.
  • Example 7 The dendritic copper powder produced in Example 2 was dispersed in a resin to obtain an electromagnetic wave shielding material.
  • Example 2 100 g of vinyl chloride resin and 200 g of methyl ethyl ketone were mixed with 40 g of the dendritic copper powder obtained in Example 2, and kneading at 1200 rpm for 3 minutes was repeated three times using a small kneader. To make a paste. During pasting, the copper powder was uniformly dispersed in the resin without agglomeration. This was coated and dried on a base material made of a transparent polyethylene terephthalate sheet having a thickness of 100 ⁇ m using a Mayer bar to form an electromagnetic wave shielding layer having a thickness of 25 ⁇ m.
  • the electromagnetic shielding characteristics were evaluated by measuring the attenuation rate using an electromagnetic wave having a frequency of 1 GHz.
  • Table 2 shows the results of the characteristic evaluation.
  • the electromagnetic shielding characteristics were evaluated by measuring the attenuation rate using an electromagnetic wave having a frequency of 1 GHz.
  • Table 2 shows the results of the characteristic evaluation.

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Abstract

 銅粉同士の接点を多くして優れた導電性を確保しつつ、導電性ペーストや電磁波シールド等の用途として好適に利用することができる銅粉を提供する。 本発明に係る銅粉1は、直線的に成長した主幹2とその主幹2から分かれた複数の枝3とを有する樹枝状の形状をなし、主幹2及び枝3は、断面平均厚さが0.2μm~1.0μmの平板状の銅粒子からなり、当該銅粉1の平均粒子径(D50)が5.0μm~30μmである。また、この樹枝状銅粉1を樹脂に混合させることによって、優れた導電性を発揮する銅ペーストを作製することができる。

Description

銅粉及びそれを用いた銅ペースト、導電性塗料、導電性シート
 本発明は、導電性ペースト等の材料として用いられる銅粉に関するものであり、より詳しくは、導電性を改善させることのできる新規な形状を有する銅粉及びそれを用いた銅ペーストに関する。
 電子機器における配線層や電極等の形成には、樹脂型ペーストや焼成型ペーストのような、銀粉や銅粉等の金属フィラーを使用したペーストが多く用いられている。
 銀や銅の金属フィラーペーストは、電子機器の各種基材上に塗布又は印刷され、加熱硬化や加熱焼成の処理を受けて、配線層や電極等となる導電膜を形成する。
 例えば、樹脂型導電性ペーストは、金属フィラーと、樹脂、硬化剤、溶剤等からなり、導電体回路パターン又は端子の上に印刷し、100℃~200℃で加熱硬化させて導電膜とし、配線や電極を形成する。樹脂型導電性ペーストは、熱によって熱硬化型樹脂が硬化収縮するために金属フィラーが圧着され相互に接触することで金属フィラー同士が重なり、その結果電気的に接続した電流パスが形成される。この樹脂型導電性ペーストは、硬化温度が200℃以下で処理されることから、プリント配線板等の熱に弱い材料を使用している基板に使用されていることが多い。
 一方、焼成型導電性ペーストは、金属フィラーと、ガラス、溶剤等からなり、導電体回路パターン又は端子の上に印刷し、600℃~800℃に加熱焼成して導電膜とし、配線や電極を形成する。焼成型導電性ペーストは、高い温度によって処理することで、金属フィラー同士が焼結して導通性が確保されるものである。この焼成型導電性ペーストは、このように高い焼成温度で処理されるため、樹脂材料を使用するようなプリント配線基板には使用できない点があるが、金属フィラーは焼結によって接続するので低抵抗が得られやすい特長がある。このような焼成型導電性ペーストは、例えば、積層セラミックコンデンサの外部電極等に使用されている。
 さて、これらの樹脂型導電性ペーストや焼成型導電性ペーストに使用される金属フィラーとしては、従来から銀の粉末が多く用いられてきた。しかしながら、近年では、貴金属価格が高騰し、低コスト化のためにも銀粉より安価な銅粉の使用が好まれてきた。
 ここで、金属フィラーとして用いられる銅や銀の粉末としては、上述したように、粒子同士が接続して導電するために、粒状や樹枝状、平板状等の形状が多く用いられてきた。
 特に、粒子を縦・横・厚さの3方向のサイズから評価する場合、厚さが薄い平板状の形状は、厚さが減少することによる配線材の薄型化に貢献するとともに、一定の厚さがある立方体や球状の粒子よりも粒同士が接触する面積を大きく確保でき、それだけ低抵抗、すなわち高導電率が達成できるという利点がある。このため、特に、導電性を維持したい導電塗料や導電性ペーストの用途に適している。
 また、導電性ペーストを薄く塗布して用いる場合,銅粉に含まれる不純物の影響も無視できなくなる。
 このような平板状の銅粉を作製するために、例えば特許文献1では、導電性ペーストのフィラーに適したフレーク状銅粉を得る方法が開示されている。具体的には、平均粒径0.5~10μmの球状銅粉を原料に、ボールミルや振動ミルを用いて、ミル内に装填したメディアの機械的エネルギーにより機械的に平板状に加工するものである。
 また、例えば特許文献2では、導電性ペースト用銅粉末、詳しくはスルーホール用及び外部電極用銅ペーストとして高性能が得られる円盤状銅粉末及びその製造方法に関する技術が開示されている。具体的には、粒状アトマイズ銅粉末を媒体撹拌ミルに投入し、粉砕媒体として1/8~1/4インチ径のスチールボールを使用して、銅粉末に対して脂肪酸を質量で0.5~1%添加し、空気中あるいは不活性雰囲気中で粉砕することによって平板状に加工するものである。
 さらに、例えば特許文献3では、電解銅粉の樹枝を必要以上に発達させることなく、従来の電解銅粉よりも成形性が向上した、高い強度に成形できる電解銅粉を得る方法が開示されている。具体的には、電解銅粉自体の強度を増して高い強度に成形できる電解銅粉を析出させるために、電解銅粉を構成する結晶子のサイズを微細化させることを目的として、電解液である硫酸銅水溶液中にタングステン酸塩、モリブデン酸塩、及び硫黄含有有機化合物から選択される1種又は2種以上を添加して、電解銅粉を析出させるものである。
 これらの特許文献に開示された方法は、いずれも得られた粒状の銅粉をボール等の媒体を使用して機械的に変形(加工)させることによって平板状としており、加工してできた平板状の銅粉の大きさは、特許文献1の技術では平均粒径が1~30μmであり、特許文献3での技術は平均粒径が7~12μmの大きさとしている。
 一方、デンドライト状と呼ばれる樹枝状に析出した電解銅粉が知られている。デンドライト状の電解銅粉は、針状に1次成長した銅から2次方向に枝分かれして針状に銅が成長し、さらに2次方向から3次方向に針状に成長する等して分岐しながら成長する経緯を経て形成されるものであり、さらに、それぞれの枝も幅が広がる等してあたかも枝に木の葉が成長するような形状となる。このようなデンドライト状の電解銅粉は、形状が樹枝状になっていることから、表面積が大きく、成形性や焼結性が優れており、粉末冶金用途として含油軸受けや機械部品等の原料として使用されている。特に、含油軸受け等では、小型化が進み、それに伴って多孔質化や薄肉化、並びに複雑な形状が要求されるようになっている。それらの要求を満足するために、例えば特許文献4では、複雑3次元形状で寸法精度の高い金属粉末射出成形用銅粉末とそれを用いた射出成形品の製造方法が開示されている。具体的には、樹枝状の形状をより発達させることで、圧縮成形時に隣接する電解銅粉の樹枝が互いに絡み合って強固に連結するようになるため、高い強度に成形できることが示されている。さらに、導電性ペーストや電磁波シールド用の金属フィラーとして利用する場合には、樹枝状の形状であることから、球状と比べて接点を多くできることを利用することができるとしている。
 しかしながら、上述のような樹枝状の銅粉を導電性ペーストや電磁波シールド用樹脂等の金属フィラーとして利用する場合、樹脂中の金属フィラーが樹枝状に発達した形状であると、樹枝状の銅粉同士が絡み合って凝集が発生してしまい、樹脂中に均一に分散しないという問題や、凝集によりペーストの粘度が上昇して印刷による配線形成に問題が生じる。このような問題は、例えば特許文献3でも指摘されている。
 このように、樹枝状の銅粉を導電性ペースト等の金属フィラーとして用いるのは容易でなく、ペーストの導電性の改善がなかなか進まない原因ともなっていた。なお、導電性を確保するためには、樹枝状の方が粒状よりも接点を確保しやすく、導電性ペーストや電磁波シールドとして高い導電性を確保することができる。
特開2005-200734号公報 特開2002-15622号公報 特開2011-58027号公報 特開平9-3510号公報
 本発明は、上述したような実情に鑑みて提案されたものであり、銅粉同士の接点を多くして優れた導電性を確保しつつ、導電性ペーストや電磁波シールド等の用途として好適に利用することができる銅粉を提供することを目的とする。
 本発明者らは、直線的に成長した主幹とその主幹から分かれた複数の枝とを有する樹枝状の形状を呈し、その主幹及び枝が、所定の断面平均厚さを有する平板状の銅粒子からなり、平均粒子径が特定の範囲であることにより、優れた導電性を確保しつつ、例えば樹脂と均一に混合させることができ導電性ペースト等の用途に好適に用いることができることを見出し、本発明を完成させた。すなわち、本発明は、以下のものを提供する。
 (1)本発明に係る第1の発明は、直線的に成長した主幹と該主幹から分かれた複数の枝とを有する樹枝状の形状をなし、前記主幹及び前記枝は、断面平均厚さが0.2μm~1.0μmの平板状の銅粒子からなり、当該銅粉の平均粒子径(D50)が5.0μm~30μmであることを特徴とする銅粉であり。
 (2)本発明に係る第2の発明は、上記第1の発明において、前記平板状の銅粒子の断面平均厚さを、当該銅粉の平均粒子径(D50)で除した比が0.01~0.1の範囲であり、且つ、当該銅粉の嵩密度が0.3g/cm~5.0g/cmの範囲であることを特徴とする銅粉である。
 (3)本発明に係る第3の発明は、上記第1又は2の発明において、X線回折による(111)面のミラー指数における結晶子径が800Å~2000Åの範囲に属することを特徴とする銅粉である。
 (4)本発明に係る第4の発明は、上記第1乃至第3のいずれかの発明に係る銅粉を、全体の20質量%以上の割合で含有することを特徴とする金属フィラーである。
 (5)本発明に係る第5の発明は、上記第4の発明に係る金属フィラーを樹脂に混合させてなることを特徴とする銅ペーストである。
 (6)本発明に係る第6の発明は、上記第4の発明に係る金属フィラーを用いてなることを特徴とする電磁波シールド用導電性塗料である。
 (7)本発明に係る第7の発明は、上記第4の発明に係る金属フィラーを用いてなることを特徴とする電磁波シールド用導電性シートである。
 本発明に係る銅粉は、主幹とその主幹から分岐した複数の枝を有する樹枝状銅粉であり、その主幹及び枝部分が所定の断面平均厚さの平板状の銅粒子からなるものである。このことにより、接点を多く確保することができるとともに接触面積を大きくとることができ、優れた導電性を確保し、また凝集を防止して導電性ペーストや電磁波シールド等の用途に好適に利用することができる。
樹枝状銅粉の具体的な形状を模式的に示した図である。 樹枝状銅粉を走査電子顕微鏡(SEM)により倍率500倍で観察したときの観察像を示す写真図である。 樹枝状銅粉を走査電子顕微鏡(SEM)により倍率5,000倍で観察したときの観察像を示す写真図である。 樹枝状銅粉(量産製造時)を走査電子顕微鏡(SEM)により倍率1,000倍で観察したときの観察像を示す写真図である。 比較例1にて得られた銅粉を走査電子顕微鏡(SEM)で観察したときの観察像を示す写真図である。 比較例2にて得られた銅粉を走査電子顕微鏡(SEM)で観察したときの観察像を示す写真図である。
 以下、本発明に係る銅粉の具体的な実施形態(以下、「本実施の形態」という)について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、本発明は、以下の実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を変更しない範囲で種々の変更が可能である。
 ≪1.樹枝状銅粉≫
 図1は、本実施の形態に係る銅粉の具体的な形状を示した模式図である。この図1の模式図に示すように、本実施の形態に係る銅粉1は、2次元又は3次元の形態である樹枝状の形状をもつ銅粉(以下、本実施の形態に係る銅粉を「樹枝状銅粉」ともいう)である。より具体的に、樹枝状銅粉1は、直線的に成長した主幹2と、その主幹から直線的に分かれた複数の枝3とを有する樹枝状の銅粉であり、その主幹2及び主幹2から分岐した枝3を構成する銅粒子が、断面平均厚さが0.2μm~1.0μmの平板の形状を有している。また、このような平板状の銅粒子から構成される樹枝状銅粉1の平均粒子径(D50)が5.0μm~30μmである。なお、この樹枝状銅粉1における枝3は、主幹2から分岐した枝3aと、その枝3aからさらに分岐した枝3bの両方を意味する。
 この樹枝状銅粉1は、詳しくは後述するが、例えば、銅イオンを含む硫酸酸性の電解液に陽極と陰極を浸漬し、直流電流を流して電気分解することにより陰極上に析出させて得ることができる。
 図2~図4は、本実施の形態に係る樹枝状銅粉1について走査電子顕微鏡(SEM)により観察したときの観察像の一例を示す写真図である。なお、図2は樹枝状銅粉1を倍率500倍で観察したものであり、図3は樹枝状銅粉1を倍率5,000倍で観察したものであり、図4は樹枝状銅粉1(量産製造時)を倍率1,000倍で観察したものである。
 図2の観察像に示されるように、本実施の形態に係る銅粉1は、主幹2とその主幹2から分岐した枝3(3a,3b)とを有する、2次元又は3次元の樹枝状の析出状態を呈している。また、図3及び図4の観察像に示されるように、樹枝状銅粉1においては、その主幹2及び枝3が、平板状の銅粒子から構成されている。
 ここで、主幹2及び枝3を構成する平板状の銅粒子は、その断面平均厚さが0.2μm~1.0μmである。平板状の銅粒子の断面平均厚さは、より薄い方が平板としての効果が発揮されることになる。すなわち、断面平均厚さが1.0μm以下の平板状の銅粒子により主幹2及び枝3が構成されることで、その銅粒子同士、また樹枝状銅粉1同士が接触する面積を大きく確保することができ、その接触面積が大きくなることで、低抵抗、すなわち高導電率を実現することができる。このことにより、より導電性に優れ、またその導電性を良好に維持することができ、導電塗料や導電性ペーストの用途に好適に用いることができる。また、樹枝状銅粉1が平板状の微細銅粒子2により構成されていることで、配線材等の薄型化に貢献することができる。
 なお、平板状の銅粒子の断面平均厚さが1.0μm以下の薄いものであっても、平板の大きさが小さ過ぎると、凹凸が減少することになるため、樹枝状銅粉1同士が接触する際に、接点の数が少なくなってしまう。したがって、上述したように銅粒子2の断面平均厚さの下限値としては0.2μm以上であることが好ましく、これにより接点の数を増やすことができる。
 また、樹枝状銅粉1においては、その平均粒子径(D50)が5.0μm~30μmである。なお、平均粒子径(D50)は、例えば、レーザー回折散乱式粒度分布測定法により測定することができる。
 ここで、例えば特許文献1でも指摘されているように、樹枝状銅粉の問題点としては、導電性ペーストや電磁波シールド用の樹脂等の金属フィラーとして利用する場合に、樹脂中の金属フィラーが樹枝状に発達した形状であると、樹枝状の銅粉同士が絡み合って凝集が発生し、樹脂中に均一に分散しないことがある。また、その凝集により、ペーストの粘度が上昇して印刷による配線形成に問題が生じる。このことは、樹枝状銅粉の形状が大きいために発生するものであり、樹枝状の形状を有効に活かしながらこの問題を解決するためには、樹枝状銅粉の形状を小さくすることが必要となる。しかしながら、小さくし過ぎると、樹枝状の形状を確保することができなくなる。そのため、樹枝状形状であることの効果、すなわち3次元的形状であることにより表面積が大きく成形性や焼結性に優れ、また枝状の箇所を介して強固に連結されて高い強度に成形できるという効果を確保するには、樹枝状銅粉が所定以上の大きさであることが必要となる。
 この点において、樹枝状銅粉1の平均粒子径が5.0μm~30μmであることにより、表面積が大きくなり、良好な成形性や焼結性を確保することができる。そして、本実施の形態に係る樹枝状銅粉1は、このように樹枝状形状であることに加えて、その主幹2及び枝3が平板状の銅粒子からなっているため、樹枝状であることの3次元的効果と、その樹枝形状を構成する銅粒子が平板状であることの効果により、銅粉1同士の接点をより多く確保することができる。
 また、樹枝状銅粉1は、特に限定されないが、上述した平板状の銅粒子の断面平均厚さを、当該樹枝状銅粉1の平均粒子径(D50)で除した比(断面平均厚さ/平均粒子径)が0.01~0.1の範囲であることが好ましい。「断面平均厚さ/平均粒子径」で表される比(アスペクト比)は、例えば導電性の銅ペーストとして加工するときの凝集度合や分散性、また銅ペーストの塗布時における外観形状の保持性等の指標となる。このアスペクト比が0.01未満であると、球状の銅粒子からなる銅粉に近似するようになり、凝集が生じやすくなりペースト化に際して樹脂中に均一に分散させることが困難となる。一方で、アスペクト比が0.1を超えると、ペースト化に際して粘性が高まって、その銅ペーストの塗布時の外観形状の保持性や表面平滑性が悪化することがある。
 また、樹枝状銅粉1の嵩密度としては、特に限定されないが、0.3g/cm~5.0g/cmの範囲であることが好ましい。嵩密度が0.3g/cm未満であると、銅粉同士の接点を十分に確保することができない可能性がある。一方で、嵩密度が5.0g/cmを超えると、樹枝状銅粉1の平均粒子径も大きくなり、表面積が小さくなって成形性や焼結性が悪化することがある。
 また、樹枝状銅粉1は、特に限定されないが、その結晶子径が、800Å(オングストローム)~2000Åの範囲に属することが好ましい。結晶子径が800Å未満であると、主幹2や枝3を構成する銅粒子が平板状ではなく球状に近い形状となる傾向があり、接触面積を十分に大きく確保することが困難となり、導電性が低下する可能性がある。一方で、結晶子径が2000Åを超えると、樹枝状銅粉1の平均粒子径も大きくなり、表面積が小さくなって成形性や焼結性が悪化することがある。
 ここでの結晶子径とは、X線回折測定装置により得られる回折パターンから下記式(1)で示されるScherrerの計算式に基づいて求められるものであり、X線回折による(111)面のミラー指数における結晶子径である。
 D=0.9λ/βcosθ ・・・式(1)
(なお、D:結晶子径(Å)、β:結晶子の大きさによる回折ピークの拡がり(rad)、λ:X線の波長[CuKα](Å)、θ:回折角(°)である。)
 なお、電子顕微鏡で観察したときに、得られた銅粉のうちに、上述したような形状の樹枝状銅粉が所定の割合で占められていれば、それ以外の形状の銅粉が混じっていても、その樹枝状銅粉のみからなる銅粉と同様の効果を得ることができる。具体的には、電子顕微鏡(例えば500倍~20,000倍)で観察したときに、上述した形状の樹枝状銅粉が全銅粉のうちの50個数%以上、好ましくは80個数%以上、より好ましくは90個数%以上の割合を占めていれば、その他の形状の銅粉が含まれていてもよい。
 ≪2.樹枝状銅粉の製造方法≫
 本実施の形態に係る樹枝状銅粉1は、例えば、銅イオンを含有する硫酸酸性溶液を電解液として用いて所定の電解法により製造することができる。
 電解に際しては、例えば、金属銅を陽極(アノード)とし、ステンレス板やチタン板等を陰極(カソード)とし設置した電解槽中に、上述した銅イオンを含有する硫酸酸性の電解液を収容し、その電解液に所定の電流密度で直流電流を通電することによって電解処理を施す。これにより、通電に伴って陰極上に樹枝状銅粉1を析出(電析)させることができる。特に、本実施の形態においては、電解により得られた粒状等の銅粉をボール等の媒体を用いて機械的に変形加工等することなく、その電解のみによって、平板状の微細銅粒子2が集合して樹枝状を形成した樹枝状銅粉1を陰極表面に析出させることができる。
 より具体的に、電解液としては、例えば、水溶性銅塩と、硫酸と、アミン化合物等の添加剤と、塩化物イオンとを含有するものを用いることができる。
 水溶性銅塩は、銅イオンを供給する銅イオン源であり、例えば硫酸銅五水和物等の硫酸銅、塩化銅、硝酸銅等が挙げられるが特に限定されない。また、電解液中での銅イオン濃度としては、1g/L~20g/L程度、好ましくは5g/L~10g/L程度とすることができる。
 硫酸は、硫酸酸性の電解液とするためのものである。電解液中の硫酸の濃度としては、遊離硫酸濃度として20g/L~300g/L程度、好ましくは50g/L~150g/L程度とすることができる。この硫酸濃度は、電解液の電導度に影響するため、カソード上に得られる銅粉の均一性に影響する。
 添加剤としては、例えばアミン化合物を用いることができる。このアミン化合物が、後述する塩化物イオンと共に、析出する銅粉の形状制御に寄与すし、陰極表面に析出させる銅粉を、所定の断面平均厚さの平板状の銅粒子から構成される、主幹とその主幹から分岐した枝とを有する樹枝状銅粉とすることができる。
 アミン化合物としては、特に限定されないが、例えばサフラニン等を用いることができる。なお、アミン化合物としては、1種単独で添加してもよく、2種類以上を併用して添加してもよい。また、アミン化合物類の添加量としては、電解液中における濃度が0.1mg/L~500mg/L程度の範囲となる量とすることが好ましい。
 塩化物イオンとしては、塩酸、塩化ナトリウム等の塩化物イオンを供給する化合物(塩化物イオン源)を電解液中に添加することによって含有させることができる。塩化物イオンは、上述したアミン化合物等の添加剤と共に、析出する銅粉の形状制御に寄与する。電解液中の塩化物イオン濃度としては、30mg/L~1000mg/L程度、好ましくは50mg/L~800mg/L程度、より好ましくは100mg/L~300mg/L程度とすることができる。
 本実施の形態に係る樹枝状銅粉の製造方法においては、例えば、上述したような組成の電解液を用いて電解することによって陰極上に銅粉を析出生成させて製造する。電解方法としては、公知の方法を用いることができる。例えば、電流密度としては、硫酸酸性の電解液を用いて電解するにあたっては5A/dm~30A/dmの範囲とすることが好ましく、電解液を撹拌しながら通電させる。また、電解液の液温(浴温)としては、例えば20℃~60℃程度とすることができる。また、電解時間としては、電解液の銅イオン濃度等に応じて適宜設定すればよく、例えば6時間~15時間程度とすることができる。
 ≪3.導電性ペースト、導電塗料等の用途≫
 本実施の形態に係る樹枝状銅粉1は、上述したように、直線的に成長した主幹と、その主幹から分岐した複数の枝を有する樹枝状の銅粉であり、その主幹及び枝は、断面平均厚さが0.2μm~1.0μmの平板状の銅粒子からなり、当該銅粉の平均粒子径(D50)が5.0μm~30μmである。このような樹枝状銅粉1では、樹枝状の形状であることにより表面積が大きくなり、成形性や焼結性に優れたものとなり、またその主幹及び枝が所定の平板状の銅粒子から構成されていることにより、接点の数を多く確保することができ、優れた導電性を発揮する。
 また、このような所定の構造を有する樹枝状銅粉1によれば、銅ペースト等とした場合であっても、凝集を抑制することができ、樹脂中に均一に分散させることが可能となり、またペーストの粘度上昇等による印刷性不良等の発生を抑制することができる。したがって、樹枝状銅粉1は、導電性ペーストや導電塗料等の用途に好適に用いることができる。
 例えば導電性ペースト(銅ペースト)としては、特に限定された条件での使用に限定されるものではなく、本実施の形態に係る樹枝状銅粉1を金属フィラーとし、バインダ樹脂、溶剤、さらに必要に応じて酸化防止剤やカップリング剤等の添加剤と混練することによって作製することができる。
 本実施の形態に係る樹枝状銅粉1を導電性ペースト等の金属フィラーとして利用する場合、他の形状の銅粉と混合させて用いることができる。このとき、銅粉全量のうち樹枝状銅粉1の割合として、20質量%以上であることが好ましく、50質量%以上であることがより好ましく、75質量%以上であることがさらに好ましい。このように、金属フィラーとして用いる場合に、銅粉として樹枝状銅粉1と共に他の形状の銅粉を混合させることで、その樹枝状銅粉1の隙間に他の形状の銅粉が充填されるようになり、このことにより、導電性を確保するための接点をより多く確保できる。またその結果として、樹枝状銅粉1と他の形状の銅粉のトータルの投入量を少なくすることも可能となる。金属フィラーとして用いられる銅粉全量のうち、樹枝状銅粉1が20質量%未満であると、その樹枝状銅粉1同士の接点が減少し、他の形状の銅粉と混合させることによる接点の増加を加味しても、金属フィラーとしては導電性が低下してしまう。なお、銅ペーストとしては、上述したように樹枝状銅粉1が20質量%以上の量の割合となるように含んでいればよく、その他は例えば1μm~10μm程度の球状銅粉等を混ぜ合わせてもよい。
 具体的に、バインダ樹脂としては、特に限定されないが、エポキシ樹脂、フェノール樹脂等を用いることができる。また、溶剤としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、グリセリン、ターピネオール等の有機溶剤を用いることができる。また、その有機溶剤の添加量としては、特に限定されないが、スクリーン印刷やディスペンサー等の導電膜形成方法に適した粘度となるように、樹枝状銅粉1の粒度を考慮して添加量を調整することができる。
 さらに、粘度調整のために他の樹脂成分を添加することもできる。例えば、エチルセルロースに代表されるセルロース系樹脂等が挙げられ、ターピネオール等の有機溶剤に溶解した有機ビヒクルとして添加される。なお、その樹脂成分の添加量としては、焼結性を阻害しない程度に抑える必要があり、好ましくは全体の5質量%以下とする。
 また、添加剤としては、焼成後の導電性を改善するために酸化防止剤等を添加することができる。酸化防止剤としては、特に限定されないが、例えばヒドロキシカルボン酸等を挙げることができる。より具体的には、クエン酸、リンゴ酸、酒石酸、乳酸等のヒドロキシカルボン酸が好ましく、銅への吸着力が高いクエン酸又はリンゴ酸が特に好ましい。酸化防止剤の添加量としては、酸化防止効果やペーストの粘度等を考慮して、例えば1~15質量%程度とすることができる。
 また、電磁波シールド用材料として、上述した金属フィラーを利用する場合においても、特に限定された条件での使用に限られず、一般的な方法、例えばその金属フィラーを樹脂と混合して使用することができる。
 例えば、上述した金属フィラーを利用して電磁波シールド用導電性塗料とする場合においては、一般的な方法、例えばその金属フィラーを樹脂及び溶剤と混合し、さらに必要に応じて酸化防止剤、増粘剤、沈降防止剤等と混合して混練することで導電性塗料として利用することができる。このときに使用するバインダ樹脂及び溶剤としては、特に限定されるものではなく、従来用いられているものを使用することができる。例えば、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、フッ素樹脂、シリコン樹脂やフェノール樹脂等を使用することができる。また、溶剤についても、従来使用されているイソプロパノール等のアルコール類、トルエン等の芳香族炭化水素類、酢酸メチル等のエステル類、メチルエチルケトン等のケトン類等を使用することができる。また、酸化防止剤についても、従来使用されている脂肪酸アミド、高級脂肪酸アミン、フェニレンジアミン誘導体、チタネート系カップリング剤等を使用することができる。
 また、上述した金属フィラーを利用して電磁波シールド用導電性シートとする場合においても、電磁波シールド用導電性シートの電磁波シールド層を形成するために使用される樹脂としては特に限定されるものではなく、従来使用されているものを使用することができる。例えば、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、オレフィン樹脂、塩素化オレフィン樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、アルキッド樹脂、フェノール樹脂等の各種重合体及び共重合体からなる熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、放射線硬化型樹脂等を適宜使用することができる。
 電磁波シールド材の製造方法として、特に限定されないが、例えば、金属フィラーと樹脂とを溶媒に分散又は溶解した塗料を、基材上に塗布又は印刷することによって電磁波シールド層を形成し、表面が固化する程度に乾燥することによって製造することができる。また、導電性シートの導電性接着剤層において、本実施の形態に係る樹枝状銀コート銅粉1を含有する金属フィラーを利用することもできる。
 以下、本発明の実施例を比較例と共に示してさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に何ら限定されるものではない。
 <評価方法>
 下記実施例及び比較例にて得られた銅粉について、以下の方法により、形状の観察、平均粒子径の測定、結晶子径の測定を行った。
  (形状の観察)
 走査型電子顕微鏡(日本電子(株)製,JSM-7100F型)により、倍率1,000倍の視野で任意に20視野を観察し、その視野内に含まれる銅粉を観察した。
  (平均粒子径の測定)
 得られた銅粉の平均粒子径(D50)は、レーザー回折・散乱法粒度分布測定器(日機装(株)製,HRA9320 X-100)を用いて測定した。
  (結晶子径の測定)
 X線回折測定装置(PAN analytical社製,X‘Pert PRO)により得られた回折パターンから、一般にScherrerの式として知られる公知の方法を用いて算出した。
  (アスペクト比の測定)
 得られた銅粉をエポキシ樹脂に埋め込んで測定試料を作製し、その試料に対して切断・研磨を行い、走査型電子顕微鏡で観察することによって銅粉の断面を観察した。先ず、銅粉を20個観察して、その銅粉の平均厚さ(断面平均厚さ)を求めた。次に、その平均厚さの値とレーザー回折・散乱法粒度分布測定器で求めた平均粒子径(D50)との比から、アスペクト比(平均厚さ/D50)を求めた。
  (比抵抗値の測定)
 被膜の比抵抗値は、低抵抗率計(三菱化学(株)製、Loresta-GP MCP-T600)を用いて四端子法によりシート抵抗値を測定し、表面粗さ形状測定器(東京精密(株)製、SURFCO M130A)により被膜の膜厚を測定して、シート抵抗値を膜厚で除することによって求めた。
  (電磁波シールド特性)
 電磁波シールド特性の評価は、各実施例及び比較例にて得られた試料について、周波数1GHzの電磁波を用いて、その減衰率を測定して評価した。具体的には、樹枝状銅粉を使用していない比較例4の場合のレベルを『△』として、その比較例4のレベルよりも悪い場合を『×』とし、その比較例4のレベルよりも良好な場合を『○』とし、さらに優れている場合を『◎』として評価した。
 また、電磁波シールドの可撓性についても評価するために、作製した電磁波シールドを折り曲げて電磁波シールド特性が変化するか否かを確認した。
 <電解銅粉の製造>
 [実施例1]
 容量が100Lの電解槽に、電極面積が200mm×200mmのチタン製の電極板を陰極として、電極面積が200mm×200mmの銅製の板を陽極として用いて、その電解槽中に電解液を装入し、これに直流電流を通電して銅粉を陰極板に析出させた。
 このとき、電解液としては、銅イオン濃度が10g/L、硫酸濃度が100g/Lの組成のものを用いた。また、この電解液に、添加剤としてベーシックレッド2(関東化学(株)製)を電解液中の濃度として75mg/Lとなるように添加し、さらに塩酸溶液(和光純薬工業(株)製)を電解液中の塩化物イオン(塩素イオン)濃度として30mg/Lとなるように添加した。
 そして、上述したような濃度に調整した電解液を、定量ポンプを用いて15L/minの流量で循環しながら、温度を25℃に維持し、陰極の電流密度が25A/dmになるように通電して陰極板上に銅粉を析出させた。
 陰極板上に析出した電解銅粉を、スクレーパーを用いて機械的に電解槽の槽底に掻き落として回収し、回収した銅粉を純水で洗浄した後、減圧乾燥器に入れて乾燥した。
 得られた電解銅粉の形状を、上述した走査型電子顕微鏡(SEM)による方法で観察した結果、析出した銅粉は、2次元又は3次元の樹枝状の形状の銅粉であって、直線的に成長した主幹と、その主幹から直線的に分岐した複数の枝と、さらにその枝からさらに分岐した枝とを有する樹枝状形状を呈した銅粉であった。また、その主幹及び枝を構成する銅粒子は、その断面厚さ(断面平均厚さ)が0.42μmの平板状の形状であった。また、その樹枝状銅粉の平均粒子径(D50)は25.1μmであった。そして、その銅粒子の断面平均厚さと樹枝状銅粉の平均粒子径から算出されるアスペクト比は0.016であった。また、樹枝状銅粉の結晶子径は1752Åであった。なお、このような樹枝状銅粉は、得られた銅粉全体の中に少なくとも65個数%以上の割合で存在することが確認された。また、得られた銅粉の嵩密度は0.43g/cmであった。
 [実施例2]
 電解液として、銅イオン濃度が5g/L、硫酸濃度が100g/Lの組成のものを用い、その電解液に、添加剤としてベーシックレッド2を電解液中の濃度として100mg/Lとなるように添加し、さらに塩酸溶液を電解液中の塩素イオン濃度として50mg/Lとなるように添加したこと以外は、実施例1と同じ条件で銅粉を陰極板上に析出させた。
 得られた電解銅粉の形状を、上述した走査型電子顕微鏡(SEM)による方法で観察した結果、析出した銅粉は、2次元又は3次元の樹枝状の形状の銅粉であって、直線的に成長した主幹と、その主幹から直線的に分岐した複数の枝と、さらにその枝からさらに分岐した枝とを有する樹枝状形状を呈した銅粉であった。また、その主幹及び枝を構成する銅粒子は、その断面厚さ(断面平均厚さ)が0.38μmの平板状の形状であった。また、その樹枝状銅粉の平均粒子径(D50)は8.5μmであった。そして、その銅粒子の断面平均厚さと樹枝状銅粉の平均粒子径から算出されるアスペクト比は0.045であった。また、樹枝状銅粉の結晶子径は922Åであった。なお、このような樹枝状銅粉は、得られた銅粉全体の銅粉中に少なくとも75個数%以上の割合で存在することが確認された。また、得られた銅粉の嵩密度は0.76g/cmであった。
 [実施例3]
 電解液として、銅イオン濃度が5g/L、硫酸濃度が100g/Lの組成のものを用い、その電解液に、添加剤としてベーシックレッド2を電解液中の濃度として150mg/Lとなるように添加し、さらに塩酸溶液を電解液中の塩素イオン濃度として75mg/Lとなるように添加したこと以外は、実施例1と同じ条件で銅粉を陰極板上に析出させた。
 得られた電解銅粉の形状を、上述した走査型電子顕微鏡(SEM)による方法で観察した結果、析出した銅粉は、2次元又は3次元の樹枝状の形状の銅粉であって、直線的に成長した主幹と、その主幹から直線的に分岐した複数の枝と、さらにその枝からさらに分岐した枝とを有する樹枝状形状を呈した銅粉であった。また、その主幹及び枝を構成する銅粒子は、その断面厚さ(断面平均厚さ)が0.88μmの平板状の形状であった。また、その樹枝状銅粉の平均粒子径(D50)は15.5μmであった。そして、その銅粒子の断面平均厚さと樹枝状銅粉の平均粒子径から算出されるアスペクト比は0.057であった。また、樹枝状銅粉の結晶子径は1272Åであった。なお、このような樹枝状銅粉は、得られた銅粉全体の銅粉中に少なくとも75個数%以上の割合で存在することが確認された。また、得られた銅粉の嵩密度は0.58g/cmであった。
 [比較例1]
 電解液に、添加剤としてのベーシックレッド2と、塩素イオンとを添加しない条件としたこと以外は、実施例1と同じ条件で銅粉を陰極板上に析出させた。
 得られた電解銅粉の形状を、上述した走査型電子顕微鏡(SEM)による方法で観察した結果、得られた銅粉は樹枝状の形状を呈していたものの、粒状の銅粒子が集合したものであった。なお、図5は、この比較例1にて得られた銅粉のSEM観察像である。また、得られた銅粉の平均粒子径(D50)は40μm以上にもなる非常に大きな樹枝状銅粉であることが確認された。なお、銅粒子の結晶子径は628Åであった。また、得られた銅粉の嵩密度は1.42g/cmであった。
 [比較例2]
 電解液として、銅イオン濃度が10g/L、硫酸濃度が150g/Lの組成のものを用いた。また、この電解液に、ベーシックレッド2(関東化学(株)製)を電解液中の濃度として50mg/Lとなるように添加し、さらに塩酸溶液(和光純薬工業株式会社製)を電解液中の塩化物イオン(塩素イオン)濃度として10mg/Lとなるように添加した。そして、上述したような濃度に調整した電解液を、定量ポンプを用いて15L/minの流量で循環しながら、温度を45℃に維持し、陰極の電流密度が20A/dmになるように通電して陰極板上に銅粉を析出させた。なお、これら以外の条件は、実施例1と同様にして電解銅粉を作製した。
 図6に、得られた電解銅粉の形状を、上述した走査型電子顕微鏡(SEM)による方法で観察した結果を示す。析出した銅粉は、2次元又は3次元の樹枝状の形状の銅粉であった。しかしながら、その樹枝状の主幹及び枝は丸みを帯びており、実施例にて得られた銅粉のように、1層又は複数の重なった積層構造で構成された平板状ではなかった。
 下記表1に、上述した実施例及び比較例にて得られた樹枝状銅粉について評価した結果をまとめて示す。なお、SEM観察結果について、主幹及びその主幹から伸びた枝が平板状の銅粒子から構成された樹枝状銅粉であった場合を『○』とし、平板状の銅粒子から構成された樹枝状銅粉ではなかった場合を『×』とした。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
 <銅ペーストの製造>
 [実施例4]
 実施例1で得られた電解銅粉70質量部に、フェノール樹脂(群栄化学(株)製、PL-2211)15質量部、ブチルセロソルブ(関東化学(株)製、鹿特級)10質量部を混合し、小型ニーダー(日本精機製作所製、ノンバブリングニーダーNBK-1)を用いて、1200rpm、3分間の混錬を3回繰り返すことでペースト化した。ペースト化に際しては、銅粉が凝集することなく、樹脂中に均一に分散した。得られた銅ペーストを金属スキージでガラス上に印刷し、大気雰囲気中にて150℃、200℃でそれぞれ30分間硬化させた。
 硬化により得られた被膜の比抵抗値を測定した結果、それぞれ、8.9×10-5Ω・cm(硬化温度150℃)、2.4×10-5Ω・cm(硬化温度200℃)であり、優れた導電性を示すことが分かった。
 [実施例5]
 実施例2で得られた電解銅粉70質量部に、フェノール樹脂(群栄化学(株)製、PL-2211)15質量部、ブチルセロソルブ(関東化学(株)製、鹿特級)10質量部を混合し、小型ニーダー(日本精機製作所製、ノンバブリングニーダーNBK-1)を用いて、1200rpm、3分間の混錬を3回繰り返すことでペースト化した。ペースト化に際しては、銅粉が凝集することなく、樹脂中に均一に分散した。得られた導電ペーストを金属スキージでガラス上に印刷し、大気雰囲気中にて150℃、200℃でそれぞれ30分間硬化させた。
 硬化により得られた被膜の比抵抗値を測定した結果、それぞれ、9.2×10-5Ω・cm(硬化温度150℃)、2.8×10-5Ω・cm(硬化温度200℃)であり、優れた導電性を示すことが分かった。
 [比較例3]
 従来の平板状銅粉との比較を行うため、粒状の電解銅粉を機械的に扁平化させて作製した平板状銅粉との比較を行った。具体的に、その平板状銅粉の作製は、平均粒子径7.9μmの粒状アトマイズ銅粉(メイキンメタルパウダーズ社製)500gにステアリン酸5gを添加し、ボールミルで扁平化処理を行った。ボールミルには3mmのジルコニアビーズを5kg投入し、500rpmの回転速度で90分間回転させることで扁平化処理を行った。このようにして作製した平板状銅粉について、レーザー回折・散乱法粒度分布測定器で測定した結果、平均粒子径が20.1μmであり、走査型電子顕微鏡で観察した結果、厚さは0.4μmであった。
 次に、得られた平板状銅粉を実施例4と同様に、その平板状銅粉70質量部に、フェノール樹脂(群栄化学(株)製、PL-2211)15質量部、ブチルセロソルブ(関東化学(株)製、鹿特級)10質量部を混合し、小型ニーダー(日本精機製作所製、ノンバブリングニーダーNBK-1)を用いて、1200rpm、3分間の混錬を3回繰り返すことでペースト化した。得られた銅ペーストを金属スキージでガラス上に印刷し、大気雰囲気中にて150℃、200℃でそれぞれ30分間硬化させた。
 硬化により得られた被膜の比抵抗値を測定した結果、それぞれ2.1×10-4Ω・cm(硬化温度150℃)、5.6×10-5Ω・cm(硬化温度200℃)であり、実施例4、5にて得られた銅ペーストと比較して比抵抗値が高く導電性が劣るものであった。
 <電磁波シールド材の製造>
 [実施例6]
 実施例1で作製した樹枝状銅粉を樹脂に分散して電磁波シールド材とした。
 すなわち、実施例1にて得られた樹枝状銅粉40gに対して、塩化ビニル樹脂100gと、メチルエチルケトン200gとをそれぞれ混合し、小型ニーダーを用いて、1200rpm、3分間の混錬を3回繰り返すことによってペースト化した。ペースト化に際しては、銅粉が凝集することなく、樹脂中に均一に分散した。これを、100μmの厚さの透明ポリエチレンテレフタレートシートからなる基材の上にメイヤーバーを用いて塗布・乾燥し、厚さ25μmの電磁波シールド層を形成した。
 電磁波シールド特性については、周波数1GHzの電磁波を用いて、その減衰率を測定することによって評価した。表2に、特性評価の結果を示す。
 [実施例7]
 実施例2で作製した樹枝状銅粉を樹脂に分散して電磁波シールド材とした。
 すなわち、実施例2にて得られた樹枝状銅粉40gに対して、塩化ビニル樹脂100gと、メチルエチルケトン200gとをそれぞれ混合し、小型ニーダーを用いて、1200rpm、3分間の混錬を3回繰り返すことによってペースト化した。ペースト化に際しては、銅粉が凝集することなく、樹脂中に均一に分散した。これを、100μmの厚さの透明ポリエチレンテレフタレートシートからなる基材の上にメイヤーバーを用いて塗布・乾燥し、厚さ25μmの電磁波シールド層を形成した。
 電磁波シールド特性については、周波数1GHzの電磁波を用いて、その減衰率を測定することによって評価した。表2に、特性評価の結果を示す。
 [比較例4]
 比較例3で作製した、粒状の電解銅粉を機械的に扁平化させた平板状銅粉を樹脂に分散して電磁波シールド材とした。
 すなわち、比較例3にて得られた平板状銅粉40gに対して、塩化ビニル樹脂100gと、メチルエチルケトン200gとをそれぞれ混合し、小型ニーダーを用いて、1200rpm、3分間の混錬を3回繰り返すことによってペースト化した。ペースト化に際しては、銅粉が凝集することなく、樹脂中に均一に分散した。これを、100μmの厚さの透明ポリエチレンテレフタレートシートからなる基材の上にメイヤーバーを用いて塗布・乾燥し、厚さ25μmの電磁波シールド層を形成した。
 電磁波シールド特性については、周波数1GHzの電磁波を用いて、その減衰率を測定することによって評価した。表2に、特性評価の結果を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
 1  銅粉(樹枝状銅粉)
 2  主幹
 3,3a,3b  枝

Claims (7)

  1.  直線的に成長した主幹と該主幹から分かれた複数の枝とを有する樹枝状の形状をなし、
     前記主幹及び前記枝は、断面平均厚さが0.2μm~1.0μmの平板状の銅粒子からなり、
     当該銅粉の平均粒子径(D50)が5.0μm~30μmである
     ことを特徴とする銅粉。
  2.  前記平板状の銅粒子の断面平均厚さを、当該銅粉の平均粒子径(D50)で除した比が0.01~0.1の範囲であり、且つ、当該銅粉の嵩密度が0.3g/cm~5.0g/cmの範囲であることを特徴とする請求項1に記載の銅粉。
  3.  X線回折による(111)面のミラー指数における結晶子径が800Å~2000Åの範囲に属することを特徴とする請求項1又は2に記載の銅粉。
  4.  請求項1乃至3の何れかに記載の銅粉を、全体の20質量%以上の割合で含有することを特徴とする金属フィラー。
  5.  請求項4に記載の金属フィラーを樹脂に混合させてなることを特徴とする銅ペースト。
  6.  請求項4に記載の金属フィラーを用いてなることを特徴とする電磁波シールド用導電性塗料。
  7.  請求項4に記載の金属フィラーを用いてなることを特徴とする電磁波シールド用導電性シート。
     
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