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WO2013088686A1 - 接着性樹脂組成物、積層体および自己剥離方法 - Google Patents

接着性樹脂組成物、積層体および自己剥離方法 Download PDF

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WO2013088686A1
WO2013088686A1 PCT/JP2012/007840 JP2012007840W WO2013088686A1 WO 2013088686 A1 WO2013088686 A1 WO 2013088686A1 JP 2012007840 W JP2012007840 W JP 2012007840W WO 2013088686 A1 WO2013088686 A1 WO 2013088686A1
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WO
WIPO (PCT)
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group
meth
adhesive resin
adhesive
resin composition
Prior art date
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Ceased
Application number
PCT/JP2012/007840
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English (en)
French (fr)
Inventor
真一 宇杉
川崎 登
鎌田 潤
相田 卓三
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsui Chemicals Inc
Original Assignee
Mitsui Chemicals Inc
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Publication date
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Priority to KR1020147018878A priority patent/KR101671598B1/ko
Priority to JP2013549108A priority patent/JP5788528B2/ja
Priority to EP12857930.7A priority patent/EP2792725A4/en
Priority to SG11201402832QA priority patent/SG11201402832QA/en
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Definitions

  • the present invention relates to an adhesive resin composition, a laminate, and a self-peeling method.
  • Patent Document 1 Japanese Patent Laid-Open No. 5-43851 describes a peelable pressure sensitive adhesive in which a foaming agent is blended with a highly elastic pressure sensitive adhesive.
  • a foaming agent such as ammonium carbonate
  • an organic foaming agent such as an azo compound
  • Patent Document 1 describes that the adhesive force decreases due to expansion or foaming of the foaming agent by heat treatment.
  • Patent Document 2 Japanese Patent Laid-Open No. 11-166164 describes a heat-peelable pressure-sensitive adhesive sheet having a pressure-sensitive adhesive layer containing thermally expandable microspheres (microcapsules) having an average particle size of 18 ⁇ m or more.
  • Patent Documents 3 to 4 Japanese Patent Laid-Open Nos. 2001-200274 and 2003-151940 describe that an adhesive containing an azide compound is used in a semiconductor manufacturing process.
  • Patent Documents 5 to 8 Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2003-231871, 2003-173389, 2003-173993, and 2003-231867) disclose a gas generating agent that generates a gas by stimulation. An adhesive material containing is described. As gas generating agents, azo compounds and azide compounds are described.
  • Non-Patent Document 1 (magazine “Polymer” Vol. 59, December (2010), pages 926 to 927) describes a UV-sensitive heat-resistant self-peeling tape.
  • Patent Document 9 Patent of International Publication No. 2010/025983 describes a low-outgas photoresist containing a polymer having a Meldrum acid skeleton.
  • Patent Document 10 Japanese Patent Laid-Open No. 2009-227996 describes a polymer having a meldrum acid skeleton.
  • Non-Patent Document 2 (NATURE CHEMISTRY vol2. March 2010. p207-212) describes that a compound having a Meldrum's skeleton generates ketene and carbon dioxide by heat.
  • Patent Documents 1 to 8 have problems in the following points.
  • the base adhesive material Since azo compounds generate active radical species by giving a stimulus, the base adhesive material is easily decomposed by the active radical species. Therefore, the decomposed adhesive material adheres to the adherend (adhesive residue), and the adherend tends to be contaminated during decomposition.
  • Patent Documents 9 and 10 and Non-Patent Document 2 do not describe an example in which a polymer having a Meldrum's skeleton is used as a foamable adhesive polymer of a self-peeling adhesive.
  • An adhesive resin composition comprising a foamable adhesive polymer having a structure derived from a Meldrum's acid derivative.
  • the Meldrum's acid derivative is represented by the following general formula (1)
  • R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, R 1 represents a substituted or unsubstituted alkynyl group having 2 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted arylalkyl group having 7 to 12 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted silyl group; R 2 may be bonded to each other to form a ring structure, and R 3 and R 4 each independently represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted carbon Represents an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubsti
  • the foamable pressure-sensitive adhesive polymer comprises an adhesive resin in which a meltrum acid derivative is bonded via a reactive functional group included in the meltrum acid derivative, [1] or [2] ]
  • the adhesive resin composition of description [4]
  • the foamable adhesive polymer is (A) R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , a ring structure formed by bonding R 1 and R 2 to each other, and a ring structure formed by bonding R 3 and R 4 to each other A structural unit derived from the Meldrum's acid derivative represented by the general formula (1), wherein at least one of the substituents has a reactive functional group selected from a vinyl group, an acryloyl group, and a methacryloyl group; (B) a structural unit derived from a (meth) acrylic acid derivative;
  • R 1 and R 2 each independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms.
  • R 1 represents a substituted or unsubstituted alkynyl group having 2 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted arylalkyl group having 7 to 12 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted silyl group;
  • R 2 may be bonded to each other to form a ring structure, and
  • R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted group Represents an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkynyl group having 2 to 10 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted aryl group, and R 3 and R 4 are bonded to each other to form a ring structure.
  • An adhesive resin composition comprising: [8] In the general formula (1), R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a benzyl group, and R 3 and R 4 each independently represent hydrogen.
  • a substrate [11] a substrate; A release layer made of the adhesive resin composition according to any one of [1] to [10], formed on the substrate; An adherend adhered on the release layer; A laminate comprising: [12] A base material, a release layer made of the adhesive resin composition according to any one of [1] to [6] formed on the base material, and a coating adhered on the release layer
  • a self-peeling method using a laminate comprising a kimono The laminate is contained in the release layer by heating the laminate above the temperature at which the melted acid derivative is decomposed of the foamable adhesive polymer having a structure derived from melted acid derivative contained in the adhesive resin composition.
  • a self-peeling method comprising a step of decomposing the compound and reducing the adhesive strength of the release layer at the interface between the release layer and the adherend.
  • a base material, a release layer containing the adhesive resin composition according to any one of [7] to [10], formed on the base material, and a coating adhered on the release layer A self-peeling method using a laminate comprising a kimono, By heating the laminate above the temperature at which the Meldrum acid derivative decomposes, the Meldrum acid derivative contained in the release layer decomposes, and the adhesive strength of the release layer at the interface between the release layer and the adherend A self-peeling method comprising a step of lowering.
  • a tape comprising a base material layer and a release layer containing the adhesive resin composition according to any one of [1] to [10] formed on the base material layer.
  • a method for polishing a substrate comprising:
  • a method for manufacturing a semiconductor package comprising: [18] A step of attaching the tape according to [14] to a portion of the object to be plated not plated through the release layer; A step of plating the object to be plated; After the plating treatment step, the step of peeling the tape by applying heat to the peeling layer of the tape attached to the object to be plated; A plating method.
  • an adhesive resin composition that has a sufficient adhesive strength at the time of bonding, can be easily peeled without damaging the adherend at the time of peeling, and can form a peeling layer with little contamination of the adherend,
  • a laminate having a release layer formed from the composition and a self-peeling method can be provided.
  • the adhesive resin composition of this invention is demonstrated below by 1st Embodiment and 2nd Embodiment.
  • “adhesion” and “adhesion” are not particularly distinguished and represent the same meaning.
  • the adhesive resin composition of this embodiment comprises a foamable adhesive polymer having a structure derived from a foamable compound.
  • the foamable adhesive polymer has a structure derived from a meltrum acid derivative that is a foamable compound.
  • foaming adhesive polymer (1) a polymer in which a meltrum acid derivative is bonded to a polymer chain; (2) a polymer in which the structural unit derived from the meltrum acid derivative constitutes a part of the polymer chain; Can be mentioned.
  • foamable adhesive polymers can reduce the content of low-molecular compounds, which is one of the causes of contamination of adherends. Hereinafter, it demonstrates in order.
  • Foaming adhesive polymer in which Meldrum's acid derivative is bonded to the polymer chain As the base adhesive resin, it retains adhesiveness below the heating temperature at the time of peeling, and has heat resistance that does not cause melting or decomposition. It can be used.
  • an adhesive substance such as a conventionally known pressure-sensitive adhesive (adhesive material) can be used.
  • rubber polymers such as natural rubber, polyisobutylene rubber, styrene / butadiene rubber, styrene / isoprene / styrene block copolymer rubber, recycled rubber, butyl rubber, polyisobutylene rubber, NBR were used as the base polymer.
  • examples thereof include a rubber-based pressure-sensitive adhesive; a silicone-based pressure-sensitive adhesive; a urethane-based pressure-sensitive adhesive; an acrylic-based pressure-sensitive adhesive.
  • the base material may be composed of one kind or two or more kinds of ingredients. Particularly preferred is an acrylic pressure sensitive adhesive.
  • Acrylic pressure sensitive adhesives are acrylics based on acrylic polymers (homopolymers or copolymers) using one or more (meth) acrylic acid alkyl esters as monomer components.
  • System adhesives examples of the (meth) acrylic acid alkyl ester in the acrylic adhesive material include, for example, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, and (meth) acrylic.
  • the acrylic pressure-sensitive adhesive may contain other monomers copolymerizable with the (meth) acrylic acid alkyl ester as necessary for the purpose of modifying cohesive strength, heat resistance, crosslinkability, and the like. Units corresponding to the components may be included. Examples of such monomer components include acrylic acid, methacrylic acid, carboxyethyl acrylate, carboxypentyl acrylate, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, crotonic acid and other carboxyl group-containing monomers; maleic anhydride, itaconic anhydride Acid anhydride group-containing monomers such as hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, hydroxybutyl (meth) acrylate, hydroxyhexyl (meth) acrylate, hydroxyoctyl (meth) acrylate, ( Hydroxyl group-containing monomers such as hydroxydecyl (meth) acrylate, hydroxylauryl (
  • the production of the acrylic pressure-sensitive adhesive can be appropriately selected from known production methods such as solution polymerization, bulk polymerization, emulsion polymerization, and various radical polymerizations.
  • the obtained adhesive resin may be any of a random copolymer, a block copolymer, a graft copolymer, and the like.
  • solution polymerization in radical polymerization for example, ethyl acetate, toluene and the like are used as a polymerization solvent.
  • the reaction is performed under an inert gas stream such as nitrogen as a polymerization initiator, for example, 0.01 to 0.2 azobisisobutyronitrile with respect to 100 parts by weight of the total amount of monomers. Addition of parts by weight is usually carried out at about 50 to 100 ° C. for about 8 to 30 hours.
  • an inert gas stream such as nitrogen as a polymerization initiator, for example, 0.01 to 0.2 azobisisobutyronitrile with respect to 100 parts by weight of the total amount of monomers. Addition of parts by weight is usually carried out at about 50 to 100 ° C. for about 8 to 30 hours.
  • the polymerization initiator, chain transfer agent, emulsifier and the like used for radical polymerization are not particularly limited and can be appropriately selected and used.
  • examples of the polymerization initiator include 2,2′-azobisisobutyronitrile, 2,2′-azobis (2-amidinopropane) dihydrochloride, 2,2′-azobis [2- (5-methyl-2 -Imidazolin-2-yl) propane] dihydrochloride, 2,2'-azobis (2-methylpropionamidine) disulfate, 2,2'-azobis (N, N'-dimethyleneisobutylamidine), 2,2 Azo initiators such as' -azobis [N- (2-carboxyethyl) -2-methylpropionamidine] hydrate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., VA-057), potassium persulfate, ammonium persulfate, etc.
  • Persulfate di (2-ethylhexyl) peroxydicarbonate, di (4-tert-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate, di-sec-butyl Peroxydicarbonate, t-butylperoxyneodecanoate, t-hexylperoxypivalate, t-butylperoxypivalate, dilauroyl peroxide, di-n-octanoyl peroxide, 1,1,3 , 3-tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexanoate, di (4-methylbenzoyl) peroxide, dibenzoyl peroxide, t-butylperoxyisobutyrate, 1,1-di (t-hexylperoxy) ) Peroxides such as cyclohexane, t-butyl hydroperoxide, hydrogen peroxide, peroxides and sodium bisulfite, peroxides and sodium
  • an organic peroxide when used as a polymerization initiator, it is possible to use the remaining organic peroxide for the crosslinking reaction without being used in the polymerization reaction. Then, it can be re-added as necessary to obtain a predetermined amount of organic peroxide.
  • the polymerization initiator may be used alone or in combination of two or more, but the total content is 0.005 to 1 part by weight with respect to 100 parts by weight of the monomer. Is preferably about 0.02 to 0.6 parts by weight.
  • a chain transfer agent may be used in the polymerization. By using a chain transfer agent, the molecular weight of the adhesive resin can be appropriately adjusted.
  • chain transfer agent examples include lauryl mercaptan, glycidyl mercaptan, mercaptoacetic acid, 2-mercaptoethanol, thioglycolic acid, 2-ethylhexyl thioglycolate, and 2,3-dimercapto-1-propanol. These chain transfer agents may be used alone or in admixture of two or more, but the total content is 0.01 to 0.00% relative to 100 parts by weight of the monomer. About 4 parts by weight.
  • emulsifier used in emulsion polymerization examples include anionic emulsifiers such as sodium lauryl sulfate, ammonium lauryl sulfate, sodium dodecylbenzene sulfonate, ammonium polyoxyethylene alkyl ether sulfate, sodium polyoxyethylene alkyl phenyl ether sulfate, and polyoxy Nonionic emulsifiers such as ethylene alkyl ether, polyoxyethylene alkyl phenyl ether, polyoxyethylene fatty acid ester, polyoxyethylene-polyoxypropylene block polymer and the like can be mentioned. These emulsifiers may be used alone or in combination of two or more.
  • reactive emulsifiers as emulsifiers into which radical polymerizable functional groups such as propenyl groups and allyl ether groups are introduced, specifically, for example, Aqualon HS-10, HS-20, KH-10, BC-05 BC-10, BC-20 (all of which are manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.), Adeka Soap SE10N (manufactured by ADEKA Corporation), and the like.
  • Reactive emulsifiers are preferable because they are incorporated into the polymer chain after polymerization and thus have improved water resistance.
  • the amount of the emulsifier used is preferably 0.3 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the monomer, and more preferably 0.5 to 1 part by weight from the viewpoint of polymerization stability and mechanical stability.
  • Adhesive resin whose adhesive performance deteriorates due to the progress of the crosslinking reaction of the adhesive resin itself due to heating during peeling can be used. In that case, it is necessary to consider that the adhesiveness does not decrease below the temperature at the time of peeling.
  • Meldrum's acid derivative has a reactive functional group.
  • reactive functional groups include vinyl, acryloyl, methacryloyl, epoxy, aziridyl, thiylyl, oxetanyl, thietanyl, isocyanato, amino, sulfone, hydroxy, carboxyl, and acid anhydride groups. Etc. can be mentioned.
  • a reactive functional group present in the adhesive resin reacts with the Meldrum acid derivative to form a chemical bond, and the Meldrum acid derivative coexists when the adhesive resin is produced.
  • a method of forming a chemical bond, and a method of forming a Meldrum's acid derivative by causing a precursor of a Meldrum's acid derivative to be present in an adhesive resin and performing a chemical reaction are examples of a reactive functional group present in the adhesive resin.
  • R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, R 1 represents a substituted or unsubstituted alkynyl group having 2 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted arylalkyl group having 7 to 12 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted silyl group; And R 2 may be bonded to each other to form a ring structure.
  • R 3 and R 4 are each independently a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted carbon number 2 to 10 represents an alkynyl group or a substituted or unsubstituted aryl group, and R 3 and R 4 may be bonded to each other to form a ring structure.
  • R 1 , R 2 , R 3 and R 4 in the general formula (1) include the following.
  • the halogen atom include fluorine, chlorine, bromine and iodine.
  • alkyl group having 1 to 10 carbon atoms examples include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, tertiary butyl, pentyl, 1-methylbutyl, 2-methylbutyl, and 3-methylbutyl.
  • alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms examples include vinyl group, isopropenyl group, allyl group, methallyl group, 1-butenyl group, 3-hexenyl group, 1-cyclopentenyl group, 1-cyclohexenyl group, 2-cyclopentyl group. Examples thereof include a tenenyl group and a 2-cyclohexylethenyl group.
  • alkynyl group having 2 to 10 carbon atoms examples include ethynyl group, 1-propynyl group, 2-propynyl group, 1-butynyl group, 2-butynyl group, 3-butynyl group, 1-pentynyl group, 2-pentynyl group, 3 -Pentynyl group, 4-pentynyl group, 1-methyl-2-propynyl group, 3-methyl-1-butynyl group, 3,3-dimethyl-1-butynyl group, 2-cyclopentylethynyl group, 2-cyclohexylethynyl group, etc. Can be mentioned.
  • arylalkyl group having 7 to 12 carbon atoms examples include benzyl group, 1-phenylethyl group, 2-phenylethyl group, 1-phenylpropyl group, 2-phenylpropyl group, 3-phenylpropyl group, 1-phenylbutyl group 2-phenylbutyl group, 3-phenylbutyl group, 4-phenylbutyl group and the like.
  • aryl group phenyl group, naphthyl group, biphenyl group, fluorenyl group, anthranyl group, pyridyl group, triazolyl group, pyrrole group, thiinyl group, pyridyl group, pyrimidinyl group, oxazolyl group, isoxazolyl group, thiazolyl group, isothiazolyl group
  • Examples include imidazolyl group.
  • substituent when the functional group and the silyl group are substituted vinyl group, acryloyl group, methacryloyl group, epoxy group, aziridyl group, thiranyl group, oxetanyl group, thietanyl group, isocyanato group, amino group, sulfone group, Examples thereof include a hydroxy group, a carboxyl group, an acid anhydride group, an imide group, a thiol group, and an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms.
  • the ring structure formed by bonding R 1 and R 2 to each other is formed including the carbon atom to which R 1 and R 2 are bonded. The same applies to the R 3 and R 4.
  • Such ring structures include cycloalkanes such as cyclopropane, cyclobutane, cyclopentane, cyclohexane, cycloheptane, cycloalkenes such as cyclopropene, cyclobutene, cyclopentene, cyclohexene, cycloheptene, bicyclic alkenes such as norbornene and norbornadiene, Alicyclic groups such as Aromatic groups such as phenyl, benzyl, naphthyl, biphenyl, triphenyl, fluorenyl, anthranyl, phenanthryl; Heterocyclic groups such as pyridyl group, pyrimidinyl group, pyridazyl group, furyl group, thienyl group, oxazolyl group, isoxazolyl group, thiazolyl group, isothiazolyl group, pyrrole group, imid
  • These ring structures may have a substituent, such as a vinyl group, an acryloyl group, a methacryloyl group, an epoxy group, an aziridyl group, a thiranyl group, an oxetanyl group, a thietanyl group, an isocyanato group, Examples thereof include amino groups, sulfone groups, hydroxy groups, carboxyl groups, acid anhydride groups, imide groups, thiol groups, and alkoxy groups having 1 to 10 carbon atoms.
  • R 1 , R 2 , R 3 , R 4 a ring structure formed by combining R 1 and R 2 with each other, and a ring structure formed by combining R 3 and R 4 with each other
  • a substituent vinyl group, acryloyl group, methacryloyl group, epoxy group, aziridyl group, thiylyl group, oxetanyl group, thietanyl group, isocyanato group, amino group, sulfone group, hydroxy group, carboxyl group, acid anhydride group Having a reactive functional group selected from
  • R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a benzyl group, a phenyl group, or cyclopropyl formed by bonding R 1 and R 2 to each other. It is preferable to use a group.
  • R 3 and R 4 are each independently preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group, a cyclopentyl group formed by bonding R 3 and R 4 to each other, or a cyclohexyl group. .
  • R 1 , R 2 , R 3 , R 4 a ring structure formed by combining R 1 and R 2 and a ring structure formed by combining R 3 and R 4 with each other
  • those having a reactive functional group selected from a vinyl group, an acryloyl group, and a methacryloyl group as a substituent are also preferred.
  • the Meldrum acid derivative used in the present embodiment one having a structure capable of generating carbon dioxide gas or the like can be used. Specifically, 5- (p-styrylmethyl) -2,2,5-trimethyl-1,3-dioxane-4,6-dione, 5- (p-styrylmethyl) -2-ethyl-2,5 -Dimethyl-1,3-dioxane-4,6-dione, 8- (p-styrylmethyl) -8-methyl-6,10-dioxaspiro [4,5] decane-7,9-dione, 5- (p -Styrylmethyl) -2,2-diethyl-5-methyl-1,3-dioxane-4,6-dione, and the like can be used.
  • Foamable adhesive polymer in which the structural unit derived from Meldrum's acid derivative constitutes part of the polymer chain For example, a method in which polymerization is carried out in the presence of a Meldrum's acid derivative having a reactive functional group in a compound having a reactive functional group constituting the reactive resin.
  • the foamable adhesive polymer (2) (A) R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , a ring structure formed by bonding R 1 and R 2 to each other, and a ring structure formed by bonding R 3 and R 4 to each other One has a reactive functional group selected from a vinyl group, an acryloyl group, and a methacryloyl group as a substituent, and a structural unit derived from a meltrum acid derivative represented by the general formula (1); (B) a structural unit derived from a (meth) acrylic acid derivative; Comprising.
  • R 1 , R 2 , R 3 and R 4 is preferably a benzyl group having a vinyl group as a substituent.
  • the structural unit (a) derived from the meltrum acid derivative is 0.1 to 50 parts by weight, preferably 0.5 to 40 parts by weight, more preferably 100 parts by weight of the structural unit derived from the (meth) acrylic acid derivative. It can be included in an amount of 1 to 30 parts by weight.
  • the structural unit derived from a (meth) acrylic acid derivative can use 1 type, or 2 or more types of (meth) acrylic acid derivatives.
  • Examples of the (meth) acrylic acid derivative include alkyl (meth) acrylate, such as methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, Butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, s-butyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, (meth) acryl Heptyl acid, octyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, nonyl (meth) acrylate, isononyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, (meth) Isodecyl
  • the foamable adhesive polymer is compatible with other monomer components that can be copolymerized with the (meth) acrylic acid alkyl ester as necessary for the purpose of modifying cohesive strength, heat resistance, crosslinkability, etc. It may contain the unit to do.
  • monomer components include acrylic acid, methacrylic acid, carboxyethyl acrylate, carboxypentyl acrylate, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, crotonic acid and other carboxyl group-containing monomers; maleic anhydride, itaconic anhydride Acid anhydride group-containing monomers such as hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, hydroxybutyl (meth) acrylate, hydroxyhexyl (meth) acrylate, hydroxyoctyl (meth) acrylate, ( Hydroxyl group-containing monomers such as hydroxydecyl (meth) acrylate, hydroxylauryl (meth
  • the foamable adhesive polymer For the production of the foamable adhesive polymer, known production methods such as solution polymerization, bulk polymerization, emulsion polymerization and various radical polymerizations can be appropriately selected. Further, the obtained adhesive resin may be any of a random copolymer, a block copolymer, a graft copolymer, and the like. In solution polymerization in radical polymerization, for example, ethyl acetate, toluene and the like are used as a polymerization solvent.
  • the reaction is performed under an inert gas stream such as nitrogen as a polymerization initiator, for example, 0.01 to 0.2 azobisisobutyronitrile with respect to 100 parts by weight of the total amount of monomers. Addition of parts by weight is usually carried out at about 50 to 100 ° C. for about 8 to 30 hours.
  • an inert gas stream such as nitrogen as a polymerization initiator, for example, 0.01 to 0.2 azobisisobutyronitrile with respect to 100 parts by weight of the total amount of monomers. Addition of parts by weight is usually carried out at about 50 to 100 ° C. for about 8 to 30 hours.
  • the polymerization initiator, chain transfer agent, emulsifier and the like used for radical polymerization are not particularly limited and can be appropriately selected and used.
  • examples of the polymerization initiator include 2,2′-azobisisobutyronitrile, 2,2′-azobis (2-amidinopropane) dihydrochloride, 2,2′-azobis [2- (5-methyl-2 -Imidazolin-2-yl) propane] dihydrochloride, 2,2'-azobis (2-methylpropionamidine) disulfate, 2,2'-azobis (N, N'-dimethyleneisobutylamidine), 2,2 Azo initiators such as' -azobis [N- (2-carboxyethyl) -2-methylpropionamidine] hydrate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., VA-057), potassium persulfate, ammonium persulfate, etc.
  • Persulfate di (2-ethylhexyl) peroxydicarbonate, di (4-tert-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate, di-sec-butyl Peroxydicarbonate, t-butylperoxyneodecanoate, t-hexylperoxypivalate, t-butylperoxypivalate, dilauroyl peroxide, di-n-octanoyl peroxide, 1,1,3 , 3-tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexanoate, di (4-methylbenzoyl) peroxide, dibenzoyl peroxide, t-butylperoxyisobutyrate, 1,1-di (t-hexylperoxy) ) Peroxides such as cyclohexane, t-butyl hydroperoxide, hydrogen peroxide, peroxides and sodium bisulfite, peroxides and sodium
  • organic peroxide when used as a polymerization initiator, it is possible to use the remaining organic peroxide for the crosslinking reaction without being used in the polymerization reaction. Then, it can be re-added as necessary to obtain a predetermined amount of organic peroxide.
  • the polymerization initiator may be used alone or in combination of two or more, but the total content is 0.005 to 1 part by weight with respect to 100 parts by weight of the monomer. Is preferably about 0.02 to 0.6 parts by weight.
  • a chain transfer agent may be used in the polymerization.
  • a chain transfer agent By using a chain transfer agent, the molecular weight of the adhesive resin can be appropriately adjusted.
  • the chain transfer agent include lauryl mercaptan, glycidyl mercaptan, mercaptoacetic acid, 2-mercaptoethanol, thioglycolic acid, 2-ethylhexyl thioglycolate, and 2,3-dimercapto-1-propanol.
  • These chain transfer agents may be used alone or in admixture of two or more, but the total content is 0.01 to 0.00% relative to 100 parts by weight of the monomer. About 4 parts by weight.
  • emulsifier used in emulsion polymerization examples include anionic emulsifiers such as sodium lauryl sulfate, ammonium lauryl sulfate, sodium dodecylbenzene sulfonate, ammonium polyoxyethylene alkyl ether sulfate, sodium polyoxyethylene alkyl phenyl ether sulfate, and polyoxy Nonionic emulsifiers such as ethylene alkyl ether, polyoxyethylene alkyl phenyl ether, polyoxyethylene fatty acid ester, polyoxyethylene-polyoxypropylene block polymer and the like can be mentioned. These emulsifiers may be used alone or in combination of two or more.
  • reactive emulsifiers as emulsifiers into which radical polymerizable functional groups such as propenyl groups and allyl ether groups are introduced, specifically, for example, Aqualon HS-10, HS-20, KH-10, BC-05 BC-10, BC-20 (all of which are manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.), Adeka Soap SE10N (manufactured by ADEKA Corporation), and the like.
  • Reactive emulsifiers are preferable because they are incorporated into the polymer chain after polymerization and thus have improved water resistance.
  • the amount of the emulsifier used is preferably 0.3 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the monomer, and more preferably 0.5 to 1 part by weight from the viewpoint of polymerization stability and mechanical stability.
  • the adhesive resin composition of the present embodiment includes an organic solvent, a crosslinking agent, a tackifier, a plasticizer, a filler, an antioxidant, an antioxidant, a colorant (pigments and dyes) as components other than the foamable adhesive polymer. Etc.), softeners, light stabilizers, ultraviolet absorbers, polymerization inhibitors, inorganic or organic fillers, metal powders, particulates, foils and the like.
  • organic solvent examples include methyl ethyl ketone, acetone, methyl isobutyl ketone, ethyl acetate, n-butyl acetate, tetrahydrofuran, dioxane, cyclohexanone, n-hexane, n-heptane, cyclohexane, methylcyclohexane, benzene, toluene, xylene.
  • Organic solvents such as methanol, ethanol, n-propanol, and isopropanol. These solvents may be used alone or in combination of two or more.
  • crosslinking agent examples include isocyanate crosslinking agents, epoxy crosslinking agents, melamine crosslinking agents, peroxide crosslinking agents, urea crosslinking agents, metal alkoxide crosslinking agents, metal chelate crosslinking agents, metal salts.
  • crosslinking agents include siloxane-based crosslinking agents, carbodiimide-based crosslinking agents, oxazoline-based crosslinking agents, aziridine-based crosslinking agents, and amine-based crosslinking agents.
  • An isocyanate-based crosslinking agent and an epoxy-based crosslinking agent can be suitably used.
  • isocyanate-based crosslinking agent examples include lower aliphatic polyisocyanates such as 1,2-ethylene diisocyanate, 1,4-butylene diisocyanate, and 1,6-hexamethylene diisocyanate; cyclopentylene diisocyanate, cyclohexylene diisocyanate, Cycloaliphatic polyisocyanates such as isophorone diisocyanate, hydrogenated tolylene diisocyanate, hydrogenated xylene diisocyanate; 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 4,4'- Aromatic polyisocyanates such as diphenylmethane diisocyanate and xylylene diisocyanate, and the like, and other trimethylolpropane / tolylene diisocyanate trimer adducts [Japan Polyurethane Industry Co., Ltd.] , Trade name "Coronate L"], trimethylolpropane
  • epoxy crosslinking agent examples include N, N, N ′, N′-tetraglycidyl-m-xylenediamine, diglycidylaniline, 1,3-bis (N, N-glycidylaminomethyl) cyclohexane, 1, 6-hexanediol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, ethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, sorbitol polyglycidyl ether, glycerol polyglycidyl ether, penta Erythritol polyglycidyl ether, polyglycerol polyglycidyl ether, sorbitan polyglycidyl ether, trimethylolpropane polyglycol Diethyl ether, adipic acid dig
  • tackifiers include rosin derivatives [eg, rosin, polymerized rosin, hydrogenated rosin and derivatives thereof (such as rosin ester resins, hydrogenated rosin ester resins)], terpene resins (eg, terpene resins).
  • rosin derivatives eg, rosin, polymerized rosin, hydrogenated rosin and derivatives thereof (such as rosin ester resins, hydrogenated rosin ester resins)
  • terpene resins eg, terpene resins
  • Aromatic modified terpene resins hydrogenated terpene resins, terpene-phenol resins, etc.
  • phenolic resins eg, phenol-formaldehyde resins, alkylphenol-formaldehyde resins
  • petroleum hydrocarbon resins eg, aliphatic petroleum resins , Aromatic petroleum resins, alicyclic petroleum resins hydrogenated with aromatic petroleum resins (alicyclic saturated hydrocarbon resins), etc.]
  • styrene resins chroman resins (for example, coumarone indene resins, etc.) ) And the like.
  • the adhesive resin composition can be obtained by mixing the foamable pressure-sensitive adhesive polymer and other components according to the application by an existing method.
  • a mixing method mixing by tank stirring, mixing by a kneader, or the like can be used.
  • the Meldrum acid derivative is 0.1 to 50 parts by weight, preferably 0.5 to 40 parts by weight, more preferably 100 parts by weight of the adhesive resin. It can be included in an amount of 1 to 30 parts by weight.
  • the amount of the Meldrum's acid derivative is less than the above range, the amount of carbon dioxide gas that is generated is small, and the effect as the Meldrum's acid derivative is difficult to obtain, so the peeling effect is small.
  • the added amount of the Meldrum's acid derivative is larger than the above range, it causes a so-called “glue residue” in which a part of the release layer remains on the adherend after the adherend is peeled off.
  • the glass transition temperature of the adhesive resin composition is 40 ° C. or lower, preferably 30 ° C. or lower, and has adhesiveness at room temperature.
  • the laminate 10 of the present embodiment includes a base material 12, a release layer (adhesive layer) 14 made of the adhesive resin composition of the present embodiment formed on the base material 12, and And an adherend 16 adhered on the release layer 14.
  • the release layer 14 may be in the form of a double-sided tape having only the adhesive resin composition, or the adhesive resin composition, a substrate A such as a film, and a pressure-sensitive adhesive B as a layer structure. In that case, it is essential to make the adhesive resin composition side contact the adherend 16.
  • the base material 12 and the adherend 16 can be made of various materials depending on the use described later.
  • the base 12 is a hard substrate such as glass or SUS
  • the adherend 16 is a silicon substrate (silicon wafer).
  • the base material 12 is a plastic film etc.
  • the adherend 16 is a ceramic capacitor.
  • the base material 12 used in the present embodiment can be composed of various materials depending on applications. Examples thereof include plastic base materials such as polyethylene terephthalate (PET) and polyester film, and porous materials such as paper and nonwoven fabric.
  • PET polyethylene terephthalate
  • the plastic substrate is not particularly limited as long as it can be formed into a sheet shape or a film shape.
  • the thickness of the substrate 12 is usually about 4 to 400 ⁇ m, preferably 4 to 100 ⁇ m, more preferably about 25 to 50 ⁇ m.
  • silicone-based, fluorine-based, long-chain alkyl-based or fatty acid amide-based release agents release with silica powder and antifouling treatment, acid treatment, alkali treatment, primer treatment, Anti-adhesion treatment such as corona treatment, plasma treatment and ultraviolet treatment, coating type, kneading type and vapor deposition type can also be carried out.
  • the adhesive resin composition is applied to a support such as a separator that has been subjected to a release treatment, and the adhesive layer is formed by drying and removing the solvent and the like. It is produced by a method of transferring to a substrate, a method of applying an adhesive resin composition to the substrate 12, drying and removing the solvent, etc., and forming an adhesive layer on the substrate.
  • One or more solvents (solvents) may be newly added to the adhesive resin composition so that the adhesive resin composition can be uniformly applied.
  • the preferred thickness of the release layer 14 varies depending on the application, when the release layer 14 is only an adhesive resin composition, it is formed to have a thickness of about 0.1 to 100 ⁇ m, preferably about 1 to 50 ⁇ m. The thickness is preferably about 5 to 50 ⁇ m.
  • adhesive resin composition the well-known method used for manufacture of adhesive sheets is used. Specifically, for example, roll coater, kiss roll coater, gravure coater, reverse coater, roll brush, spray coater, dip roll coater, bar coater, knife coater, air knife coater, curtain coater, lip coater, die coater, etc. A method is mentioned. Furthermore, when the adhesive resin composition is exposed on the surface, the release layer 14 may be protected with a sheet (release sheet, separator, release liner, etc., hereinafter referred to as a separator) that has been subjected to release treatment until it is practically used. Good.
  • a separator release sheet, separator, release liner, etc.
  • constituent material of the separator examples include, for example, plastic films such as polyethylene, polypropylene, polyethylene terephthalate, and polyester films, porous materials such as paper, cloth, and nonwoven fabric, nets, foam sheets, metal foils, and laminates thereof.
  • plastic films such as polyethylene, polypropylene, polyethylene terephthalate, and polyester films
  • porous materials such as paper, cloth, and nonwoven fabric, nets, foam sheets, metal foils, and laminates thereof.
  • a thin film or the like can be mentioned, but a plastic film is preferably used from the viewpoint of excellent surface smoothness.
  • the plastic film is not particularly limited as long as it is a film that can protect the adhesive resin composition.
  • a polyethylene film, polypropylene film, polybutene film, polybutadiene film, polymethylpentene film, polyvinyl chloride film examples thereof include a vinyl copolymer film, a polyethylene terephthalate film, a polybutylene terephthalate film, a polyurethane film, and an ethylene-vinyl acetate copolymer film.
  • the thickness of the separator is usually about 5 to 200 ⁇ m, preferably about 5 to 100 ⁇ m.
  • the method of forming the release layer 14 varies depending on the application, but the adhesive resin composition and the pressure-sensitive adhesive are applied to a support such as a separator subjected to a release treatment, and the solvent and the like are removed by drying.
  • a method of transferring to both surfaces of the substrate A, applying the adhesive resin composition and the pressure-sensitive adhesive to the substrate A, drying and removing the solvent, etc. It is produced by a method of forming on both sides of A. At that time, one of the adhesive surfaces of the double-sided tape needs to be the adhesive resin composition of the present embodiment.
  • a known method used for manufacturing pressure-sensitive adhesive sheets is used. Specifically, for example, roll coater, kiss roll coater, gravure coater, reverse coater, roll brush, spray coater, dip roll coater, bar coater, knife coater, air knife coater, curtain coater, lip coater, die coater, etc. A method is mentioned.
  • Examples of the base material A used in the present embodiment include plastic base materials such as polyethylene terephthalate (PET) and polyester film, and porous materials such as paper and nonwoven fabric.
  • the plastic substrate is not particularly limited as long as it can be formed into a sheet shape or a film shape.
  • the thickness of the substrate A is usually about 4 to 100 ⁇ m, preferably about 25 to 50 ⁇ m.
  • silicone-based, fluorine-based, long-chain alkyl-based or fatty acid amide-based release agents release with silica powder and antifouling treatment, acid treatment, alkali treatment, primer treatment, Anti-adhesion treatment such as corona treatment, plasma treatment and ultraviolet treatment, coating type, kneading type and vapor deposition type can also be carried out.
  • the adhesive resin composition and the pressure-sensitive adhesive B are formed on the base A, but the surface of the base A before formation and the surface of the adhesive resin composition and the pressure-sensitive adhesive B are provided for practical use. You may protect with the sheet
  • constituent material of the separator examples include, for example, plastic films such as polyethylene, polypropylene, polyethylene terephthalate, and polyester films, porous materials such as paper, cloth, and nonwoven fabric, nets, foam sheets, metal foils, and laminates thereof.
  • plastic films such as polyethylene, polypropylene, polyethylene terephthalate, and polyester films
  • porous materials such as paper, cloth, and nonwoven fabric, nets, foam sheets, metal foils, and laminates thereof.
  • a thin film or the like can be mentioned, but a plastic film is preferably used from the viewpoint of excellent surface smoothness.
  • the plastic film is not particularly limited as long as it is a film that can protect the adhesive resin composition and the pressure-sensitive adhesive B.
  • a polyethylene film, a polypropylene film, a polybutene film, a polybutadiene film, a polymethylpentene film examples thereof include a polyvinyl chloride film, a vinyl chloride copolymer film, a polyethylene terephthalate film, a polybutylene terephthalate film, a polyurethane film, and an ethylene-vinyl acetate copolymer film.
  • the thickness of the separator is usually about 5 to 200 ⁇ m, preferably about 5 to 100 ⁇ m.
  • the release property from the pressure-sensitive adhesive layer can be further improved by appropriately performing a release treatment such as silicone treatment, long-chain alkyl treatment, or fluorine treatment on the surface of the separator.
  • the thickness of the adhesive resin composition is preferably about 0.1 to 100 ⁇ m, preferably about 1 to 50 ⁇ m, more preferably 5 although the preferred range varies depending on the application. It is formed to be about 50 ⁇ m.
  • the pressure sensitive adhesive B rubber polymers such as natural rubber, polyisobutylene rubber, styrene / butadiene rubber, styrene / isoprene / styrene block copolymer rubber, recycled rubber, butyl rubber, polyisobutylene rubber, NBR are used as the base polymer.
  • the base material may be composed of one kind or two or more kinds of ingredients. Particularly preferred is an acrylic pressure sensitive adhesive.
  • the film thickness of the pressure-sensitive adhesive B is about 5 to 50 ⁇ m although the preferred range varies depending on the application.
  • the release layer 14 only needs to contain a Meldrum acid derivative or the like as the Meldrum acid derivative in the adhesive resin composition of the present embodiment, and the Meldrum acid derivative and the adhesive resin may be chemically bonded.
  • Another layer such as an uneven absorption layer or a shock absorption layer may be included between the substrate 12 and the release layer 14.
  • the release layer 14 is in the form of a double-sided tape having a base structure A such as an adhesive resin composition or a film and a pressure sensitive adhesive B as a layer structure
  • the adhesive resin composition and the base material A such as a film
  • Another layer such as an uneven absorption layer or a shock absorption layer may be included between the substrate A and the pressure sensitive adhesive B.
  • Rubber materials such as natural rubber, polyisobutylene rubber, styrene / butadiene rubber, styrene / isoprene / styrene block copolymer rubber, recycled rubber, butyl rubber, polyisobutylene rubber, NBR, etc.
  • a composition etc. can be mentioned.
  • the thickness of the unevenness absorbing layer and the impact absorbing layer may be any thickness that can absorb unevenness and impact. It is formed to have an appropriate thickness according to the application.
  • the release layer 14 may be protected with a release-treated sheet (release sheet, separator, release liner) so that the release layer 14 is not exposed until the adherend 16 is adhered onto the release layer 14.
  • the adherend 16 is attached onto the release layer 14.
  • the adherend 16 may be prepared in advance, and may be formed on the base material after the base material is attached onto the release layer 14.
  • a prefabricated material may be attached to the release layer 14 or may be formed on the release layer 14.
  • the adherend 16 may have a single layer structure or a multilayer structure. In the case of a multilayer structure, the multilayer structure may be formed by stacking multiple layers on the release layer 14.
  • the self-peeling method of the present embodiment is a method using the laminate 10 described above. Specifically, the laminate 10 is heated to a temperature at which the Meldrum acid derivative is decomposed or higher to generate carbon dioxide gas or the like from the Meldrum acid derivative contained in the release layer 14, and the release layer 14 and the adherend 16 A step of reducing the adhesive strength of the release layer 14 at the interface.
  • the Meldrum acid derivative When heated to a predetermined temperature or higher, the Meldrum acid derivative is decomposed and ketenes are generated while generating a gas composed of carbon dioxide and acetone. It is considered that the peeling layer 14 is foamed by the generated gas, so that the bonding area between the peeling layer 14 and the adherend 16 is reduced and the adhesive strength is lowered. Furthermore, the pressure of the generated carbon dioxide is considered to contribute to peeling. Further, the generated ketene has high reactivity and causes curing or condensation of the adhesive resin or the like constituting the release layer 14. Thereby, it is thought that the elasticity modulus of adhesive resin can raise and adhesive strength can be reduced.
  • the adhesive strength of the peeling layer 14 can be reduced, and the adherend 16 can be easily peeled without damaging the substrate 12.
  • the laminated body of this embodiment it is excellent in self-peeling property and the to-be-adhered body 16 can be easily peeled in the orthogonal
  • carbon dioxide gas or the like generated by heating may remain in the peeling layer 14 to some extent after peeling.
  • the adhesive resin composition of the present embodiment can be obtained by changing the addition amount and structure of the meltrum acid derivative. It can be adjusted to an appropriate gas generation amount.
  • the adherend 16 is peeled off by 2 ⁇ 10 ⁇ 3 mL / cm 2. Or more, preferably 5 ⁇ 10 ⁇ 3 mL / cm 2 or more, more preferably 10 ⁇ 10 ⁇ 3 mL / cm 2 or more, more preferably 20 ⁇ 10 ⁇ 3 mL / cm 2 or more. It is necessary to generate gas so that
  • the temperature at which the laminate 10 is heated when the adherend 16 is peeled is equal to or higher than the temperature at which the meltrum acid derivative is decomposed. Such temperature is not particularly limited as long as it is higher than the temperature at which the adherend 16 is bonded to the release layer 14 or the process temperature required in the manufacturing process.
  • the upper limit of the heating temperature is a temperature that does not affect the properties of the adherend 16 and the film properties when the substrate 12 is a resin film. Specifically, the heating temperature is in the range of 50 ° C. to 350 ° C., preferably 50 ° C. to 300 ° C., more preferably 50 ° C. to 250 ° C.
  • the laminate 10 of the present embodiment can easily peel the adherend 16 from the release layer 14 after sticking the substrate 12 and the adherend 16 via the release layer 14 containing the meltrum acid derivative. It can be preferably used in various required applications. Examples thereof include surface protection materials and masking materials for the purpose of preventing fouling of metal plates, plastic plates, glass plates and the like.
  • various electrical components such as ceramic capacitors, oscillators, resistors, display devices such as liquid crystal cells and plasma displays, or electronic components such as solar cells, thermal heads, printed boards (including flexible types), and semiconductor chips.
  • the part, article, material or the like can be temporarily fixed or fixed as an adherend.
  • the use as a carrier tape etc. is also mentioned.
  • an adherend such as a semiconductor or an electronic component is adhered and held at a predetermined interval with a release layer at the time of processing or shipping.
  • a protective film in a semiconductor process or fixing a wafer is suitable for bonding a protective film in a semiconductor process or fixing a wafer, and can be suitably used for WSS (Wafer Support System), e-WLP (Embedded Wafer Level Packages), and the like.
  • WSS Wafer Support System
  • e-WLP Embedded Wafer Level Packages
  • Examples of applications using the adhesive resin composition of the present embodiment include various ones as described above, and specifically, can be applied to dicing methods, semiconductor package manufacturing methods, and the like. .
  • the dicing method of this embodiment includes a step of fixing an adherend to a support with the above-described adhesive resin composition, a step of dicing the adherend, and the adherend separated by heating. Separating from the support.
  • the adhesive resin composition is applied to the support by a predetermined means, and the adherend is fixed to the application surface by fixing the adherend to the support.
  • the adherend include a silicon wafer, a sapphire substrate, a metal substrate, and a ceramic capacitor.
  • the support include a glass plate, a metal substrate such as SUS and iron, a silicon wafer, and a sapphire substrate.
  • a known method can be used as the dicing method.
  • the separated adherend for example, a semiconductor chip is peeled off from the support.
  • the adherend is fixed to the support by the adhesive resin composition of the present embodiment, the adherend can be reliably protected during the dicing step, and the peeling step is performed by a simple method of heating. Therefore, production efficiency is excellent. Furthermore, the contamination of the adherend in the peeling process is reduced, and the yield of the product is improved.
  • the method for manufacturing a semiconductor package of the present embodiment includes a step of fixing a semiconductor chip to a support with the above-described adhesive resin composition, a step of sealing the semiconductor chip with a resin, and applying heat. And a step of peeling the semiconductor chip sealed with resin from the support.
  • the adhesive resin composition is applied to the support by a predetermined means, and the semiconductor chip is fixed to the support by fixing the semiconductor chip to the application surface.
  • the support include a glass plate, a metal substrate such as SUS and iron, a silicon wafer, and a sapphire substrate.
  • the sealing step can be performed by a conventionally known method, and a known sealing resin can be used. Then, by applying heat in the temperature range as described above, the semiconductor chip sealed with the resin can be peeled from the support to obtain a semiconductor package.
  • the semiconductor package is fixed to the support by the adhesive resin composition of the present embodiment, the semiconductor package can be reliably fixed to the support during the sealing process, and the peeling process is a simple process of heating. Since it can be performed by the method, it is excellent in production efficiency. Further, the contamination of the semiconductor chip in the peeling process is reduced, and the product yield is improved.
  • the tape in this embodiment can be obtained by applying the adhesive resin composition of this embodiment on a base film to form a release layer.
  • the base film used as the base layer is polyethylene, polypropylene, poly-1-butene, poly-4-methyl-1-pentene, ethylene / propylene copolymer, ethylene / 1-butene copolymer, ethylene Polyolefin resins such as vinyl acetate copolymer, ethylene / ethyl acrylate copolymer, ethylene / vinyl alcohol copolymer, polyester resins such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polybutylene terephthalate, polyacrylate, polystyrene, nylon 6 , Nylon 6,6, polyamide resins such as partially aromatic polyamide, polyvinyl chloride resins, polyvinylidene chloride resins, polycarbonate resins and the like, and mixtures thereof.
  • the base material layer may be a single layer or a laminate of two or more layers.
  • the base film may be subjected to surface treatment such as corona discharge treatment, plasma treatment, chromic acid treatment, sand blasting and solvent treatment for the purpose of improving the adhesion to the release layer.
  • the thickness of a base material layer and a peeling layer can be suitably selected according to a use.
  • the tape of the present embodiment having the above-described configuration can be used for substrate polishing, plating methods, and the like.
  • the method for polishing a substrate using the tape of this embodiment includes a step of attaching the tape to the back surface of the polished surface of the substrate via the release layer, and the polished surface of the substrate.
  • the substrate examples include a silicon wafer, a sapphire substrate, and a metal substrate.
  • the polishing process of the surface to be polished can be performed by a conventionally known method using abrasive grains, a diamond wheel or the like. And a tape is peeled from the back surface of the to-be-polished surface of a board
  • the substrate polishing method of the present embodiment uses a tape having a release layer containing the above-mentioned adhesive resin composition, can reliably protect the back surface of the substrate during the back grinding process, and heats the tape peeling process. It can be performed by a simple method. Furthermore, since the stress on the substrate is suppressed at the time of peeling, the warpage of the substrate is reduced even in an extremely thin substrate. Furthermore, the contamination of the substrate in the peeling process is reduced, and the product yield is improved.
  • a metal substrate etc. can be mentioned as a to-be-plated body, and the plating method can be performed by a well-known method.
  • the plating method of the present embodiment uses a tape having a release layer containing the above-described adhesive resin composition, and can reliably protect a portion to be plated not plated at the time of plating, and heat the tape peeling step. It can be performed by a simple method. Furthermore, the contamination of the substrate in the peeling process is reduced, and the yield of products is improved. Furthermore, the tape in the present embodiment can be applied to an assembly tape for QFN (Quad Flat Non-Leaded Package) or the like.
  • QFN Quad Flat Non-Leaded Package
  • the adhesive resin composition of this embodiment comprises the Meldrum acid derivative represented by the general formula (1) and an adhesive resin.
  • (Meldrum acid derivative) In the present embodiment, the same Meldrum acid derivative as in the first embodiment can be used.
  • R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , a ring structure formed by combining R 1 and R 2 and R 3 and R 4 are combined with each other. At least one of the ring structures may have a reactive functional group as exemplified in the first embodiment as a substituent.
  • the Meldrum's acid derivative used in the present embodiment one having a structure capable of generating carbon dioxide gas or the like can be used. Specifically, the following can be mentioned. 1. 1. Meldrum's acid derivative in which R 3 and R 4 are both methyl groups 2. Meldrum's acid derivative wherein R 3 is a methyl group and R 4 is an ethyl group 3. Meldrum's acid derivative in which R 3 and R 4 are both ethyl groups. Meldrum's acid derivative having a cyclopentyl group formed by bonding R 3 and R 4 to each other
  • Meldrum's acid derivatives in which R 3 and R 4 are both methyl groups examples include 2,2-dimethyl-1,3-dioxane-4,6-dione, 2,2,5-trimethyl-1, 3-dioxane-4,6-dione, 5-ethyl-2,2-dimethyl-1,3-dioxane-4,6-dione, 5-benzyl-2,2-dimethyl-1,3-dioxane-4, 6-dione, 5-phenyl-2,2-dimethyl-1,3-dioxane-4,6-dione, 2,2,5,5-tetramethyl-1,3-dioxane-4,6-dione, 5 -Ethyl-2,2,5-trimethyl-1,3-dioxane-4,6-dione, 5-benzyl-2,2,5-trimethyl-1,3-dioxane-4,6-dione, 5-phenyl -2,2,5-trimethyl-1,3
  • Meldrum's acid derivative in which R 3 is a methyl group and R 4 is an ethyl group examples include 2-ethyl-2-methyl-1,3-dioxane-4,6-dione, 2-ethyl-2,5 -Dimethyl-1,3-dioxane-4,6-dione, 2,5-diethyl-2-methyl-1,3-dioxane-4,6-dione, 5-benzyl-2-ethyl-2-methyl-1 , 3-Dioxane-4,6-dione, 5-phenyl-2-ethyl-2-methyl-1,3-dioxane-4,6-dione, 2-ethyl-2,5,5-trimethyl-1,3 -Dioxane-4,6-dione, 2,5-diethyl-2,5-dimethyl-1,3-dioxane-4,6-dione, 5-benzyl-2-e
  • Meldrum's acid derivative in which R 3 and R 4 are both ethyl groups examples include 2,2-diethyl-1,3-dioxane-4,6-dione, 5-methyl-2,2-diethyl- 1,3-dioxane-4,6-dione, 2,2,5-triethyl-1,3-dioxane-4,6-dione, 5-benzyl-2,2-diethyl-1,3-dioxane-4, 6-dione, 5-phenyl-2,2-diethyl-1,3-dioxane-4,6-dione, 5,5-dimethyl-2,2-diethyl-1,3-dioxane-4,6-dione, 5-methyl-2,2,5-triethyl-1,3-dioxane-4,6-dione, 5-benzyl-5-methyl-2,2, -diethyl-1,3-dioxane-4,6-dione, 5-
  • Adhesive resin As the adhesive resin, it is possible to use a resin having heat resistance that retains adhesiveness at a temperature lower than the heating temperature at the time of peeling and does not cause melting or decomposition.
  • the adhesive resin has a glass transition point measured by differential scanning calorimetry (DSC) of 40 ° C. or lower, preferably 30 ° C. or lower, and has adhesiveness at room temperature.
  • DSC differential scanning calorimetry
  • an adhesive substance such as a conventionally known pressure-sensitive adhesive (adhesive material) can be used.
  • rubber polymers such as natural rubber, polyisobutylene rubber, styrene / butadiene rubber, styrene / isoprene / styrene block copolymer rubber, recycled rubber, butyl rubber, polyisobutylene rubber, NBR were used as the base polymer.
  • examples thereof include a rubber-based pressure-sensitive adhesive; a silicone-based pressure-sensitive adhesive; a urethane-based pressure-sensitive adhesive; an acrylic-based pressure-sensitive adhesive.
  • the base material may be composed of one kind or two or more kinds of ingredients. Particularly preferred is an acrylic pressure sensitive adhesive.
  • Acrylic pressure sensitive adhesives are acrylics based on acrylic polymers (homopolymers or copolymers) using one or more (meth) acrylic acid alkyl esters as monomer components.
  • System adhesives examples of the (meth) acrylic acid alkyl ester in the acrylic pressure-sensitive adhesive include, for example, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, (meth ) Butyl acrylate, isobutyl (meth) acrylate, s-butyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, heptyl (meth) acrylate , Octyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, isooctyl (meth
  • the acrylic pressure-sensitive adhesive may contain other monomers copolymerizable with the (meth) acrylic acid alkyl ester as necessary for the purpose of modifying cohesive strength, heat resistance, crosslinkability, and the like. Units corresponding to the components may be included. Examples of such monomer components include acrylic acid, methacrylic acid, carboxyethyl acrylate, carboxypentyl acrylate, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, crotonic acid and other carboxyl group-containing monomers; maleic anhydride, itaconic anhydride Acid anhydride group-containing monomers such as hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, hydroxybutyl (meth) acrylate, hydroxyhexyl (meth) acrylate, hydroxyoctyl (meth) acrylate, ( Hydroxyl group-containing monomers such as hydroxydecyl (meth) acrylate, hydroxylauryl (
  • the production of the acrylic pressure-sensitive adhesive can be appropriately selected from known production methods such as solution polymerization, bulk polymerization, emulsion polymerization, and various radical polymerizations.
  • the obtained adhesive resin may be any of a random copolymer, a block copolymer, a graft copolymer, and the like.
  • solution polymerization in radical polymerization for example, ethyl acetate, toluene and the like are used as a polymerization solvent.
  • the reaction is performed under an inert gas stream such as nitrogen as a polymerization initiator, for example, 0.01 to 0.2 azobisisobutyronitrile with respect to 100 parts by weight of the total amount of monomers. Addition of parts by weight is usually carried out at about 50 to 100 ° C. for about 8 to 30 hours.
  • an inert gas stream such as nitrogen as a polymerization initiator, for example, 0.01 to 0.2 azobisisobutyronitrile with respect to 100 parts by weight of the total amount of monomers. Addition of parts by weight is usually carried out at about 50 to 100 ° C. for about 8 to 30 hours.
  • the polymerization initiator, chain transfer agent, emulsifier and the like used for radical polymerization are not particularly limited and can be appropriately selected and used.
  • examples of the polymerization initiator include 2,2′-azobisisobutyronitrile, 2,2′-azobis (2-amidinopropane) dihydrochloride, 2,2′-azobis [2- (5-methyl-2 -Imidazolin-2-yl) propane] dihydrochloride, 2,2'-azobis (2-methylpropionamidine) disulfate, 2,2'-azobis (N, N'-dimethyleneisobutylamidine), 2,2 Azo initiators such as' -azobis [N- (2-carboxyethyl) -2-methylpropionamidine] hydrate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., VA-057), potassium persulfate, ammonium persulfate, etc.
  • Persulfate di (2-ethylhexyl) peroxydicarbonate, di (4-tert-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate, di-sec-butyl Peroxydicarbonate, t-butylperoxyneodecanoate, t-hexylperoxypivalate, t-butylperoxypivalate, dilauroyl peroxide, di-n-octanoyl peroxide, 1,1,3 , 3-tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexanoate, di (4-methylbenzoyl) peroxide, dibenzoyl peroxide, t-butylperoxyisobutyrate, 1,1-di (t-hexylperoxy) ) Peroxides such as cyclohexane, t-butyl hydroperoxide, hydrogen peroxide, peroxides and sodium bisulfite, peroxides and sodium
  • organic peroxide when used as a polymerization initiator, it is possible to use the remaining organic peroxide for the crosslinking reaction without being used in the polymerization reaction. Then, it can be re-added as necessary to obtain a predetermined amount of organic peroxide.
  • the polymerization initiator may be used alone or in combination of two or more, but the total content is 0.005 to 1 part by weight with respect to 100 parts by weight of the monomer. Is preferably about 0.02 to 0.6 parts by weight.
  • a chain transfer agent may be used in the polymerization.
  • a chain transfer agent By using a chain transfer agent, the molecular weight of the adhesive resin can be appropriately adjusted.
  • the chain transfer agent include lauryl mercaptan, glycidyl mercaptan, mercaptoacetic acid, 2-mercaptoethanol, thioglycolic acid, 2-ethylhexyl thioglycolate, and 2,3-dimercapto-1-propanol.
  • These chain transfer agents may be used alone or in admixture of two or more, but the total content is 0.01 to 0.00% relative to 100 parts by weight of the monomer. About 4 parts by weight.
  • emulsifier used in emulsion polymerization examples include anionic emulsifiers such as sodium lauryl sulfate, ammonium lauryl sulfate, sodium dodecylbenzene sulfonate, ammonium polyoxyethylene alkyl ether sulfate, sodium polyoxyethylene alkyl phenyl ether sulfate, and polyoxy Nonionic emulsifiers such as ethylene alkyl ether, polyoxyethylene alkyl phenyl ether, polyoxyethylene fatty acid ester, and polyoxyethylene-polyoxypropylene block polymer are listed. These emulsifiers may be used alone or in combination of two or more.
  • reactive emulsifiers as emulsifiers into which radical polymerizable functional groups such as propenyl groups and allyl ether groups are introduced, specifically, for example, Aqualon HS-10, HS-20, KH-10, BC-05 BC-10, BC-20 (all of which are manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.), Adeka Soap SE10N (manufactured by ADEKA Corporation), and the like.
  • Reactive emulsifiers are preferable because they are incorporated into the polymer chain after polymerization and thus have improved water resistance.
  • the amount of the emulsifier used is preferably 0.3 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the monomer, and more preferably 0.5 to 1 part by weight from the viewpoint of polymerization stability and mechanical stability.
  • Adhesive resin whose adhesive performance deteriorates due to the progress of the crosslinking reaction of the adhesive resin itself due to heating during peeling can be used. In that case, it is necessary to consider that the adhesiveness does not decrease below the temperature at the time of peeling.
  • the adhesive resin composition of the present embodiment can use the same components as those of the first embodiment as other components.
  • the adhesive resin composition can be obtained by mixing the above-mentioned adhesive resin and other components according to its use with the Meldrum's acid derivative by an existing method.
  • a mixing method mixing by tank stirring, mixing by a kneader, or the like can be used.
  • the Meldrum acid derivative is 0.1 to 50 parts by weight, preferably 0.5 to 40 parts by weight, more preferably 100 parts by weight of the adhesive resin. It can be included in an amount of 1 to 30 parts by weight. If the addition amount of the foaming agent (meldrum acid derivative) is less than the above range, the amount of carbon dioxide gas generated is small and the effect as a foaming agent is difficult to obtain, so the peeling effect is small. On the other hand, when the addition amount of the foaming agent is larger than the above range, a part of the release layer remains on the adherend after the adherend is peeled off, which is a cause of so-called “glue residue”. That is, when the Meldrum's acid derivative is included in the above range, an adhesive resin composition having an excellent peeling effect and suppressing adhesive residue can be obtained.
  • the laminate 10 of this embodiment shown in FIG. 1 has the same structure as that of the first embodiment except that the release layer 14 made of the adhesive resin composition of this embodiment is used.
  • the self-peeling method of this embodiment can be performed in the same manner as in the first embodiment except that the above-described laminate 10 is used.
  • the adhesive resin composition and laminated body 10 of this embodiment can be applied to the same use as in the first embodiment.
  • the second embodiment of the present invention has been described above with reference to the drawings. However, these are examples of the present invention, and various configurations other than the above can also be adopted.
  • 0.43 (t, 8.1 Hz, 1.6 H), 0.83 (s, 1.3 H), 0.94 (t, 8.1 Hz, 1.4 H), 1.27 (q, 8 .1 Hz, 1.2 H), 1.57 (s, 1.7 H), 1.75 (s, 3 H), 1.80 (q, 8.1 Hz, 0.8 H), 3.31 (s, 2 H) ), 5.22 (d, 12.0 Hz, 1H), 5.70 (d, 19.5 Hz, 1H), 6.65 (dd, 12.0, 19.5 Hz, 1H), 7.16 (d , 9.0 Hz, 2H), 7.31 (d, 9.0 Hz, 2H)
  • 1.28-1.38 (m, 2H), 1.56-1.82 (m, 4H), 1.74 (s, 3H), 2.00-2.05 (m, 2H), 3.32 (s, 2H), 5.22 (d, 12.0 Hz, 1H), 5.70 (d, 12.0 Hz, 1H), 6.66 (dd, 12.0, 19.5 Hz, 1H) ), 7.13 (d, 9.0 Hz, 2H), 7.31 (d, 9.0 Hz, 2H)
  • 0.40 (t, 8.1 Hz, 3H), 0.94 (t, 8.1 Hz, 3H), 1.14 (q, 8.1 Hz, 2H), 1.70 (s, 3H), 1.80 (q, 8.1 Hz, 2H), 3.31 (s, 2H), 5.22 (d, 12.0 Hz, 1H), 5.70 (d, 19.5 Hz, 1H), 6. 65 (dd, 12.0, 19.5 Hz, 1H), 7.13 (d, 9.0 Hz, 2H), 7.30 (d, 9.0 Hz, 2H)
  • Example A1 In a 500 mL four-necked flask, 15 g of 5- (p-styrylmethyl) -2,2,5-trimethyl-1,3-dioxane-4,6-dione synthesized in Production Example A3, 20 g of butyl acrylate, acrylic acid 63 g of 2-ethylhexyl, 2 g of methacrylic acid and 100 g of ethyl acetate were added and mixed at room temperature. Further, 0.2 g of 2,2′-azobisvaleronitrile was added, the temperature was raised to 75 ° C., and stirring was continued for 10 hours to obtain an acrylic adhesive A having a molecular weight of 300,000.
  • the glass transition point was measured by differential scanning calorimetry (manufactured by Shimadzu Corporation, DSC-60) and found to be 14 ° C.
  • Add 100 parts by weight of the resulting acrylic pressure-sensitive adhesive A, 2 parts by weight of an epoxy compound (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., TETRAD-C) and 50 parts by weight of ethyl acetate, and a pressure-sensitive adhesive composition (adhesive resin composition) did.
  • the obtained pressure-sensitive adhesive composition was coated on a PET whose surface was released using an applicator so that the dry film thickness was 20 ⁇ m, and then heated at 120 ° C. for 5 minutes. The coating solution was dried.
  • Example A2 5- (p-Styrylmethyl) -2,2,5-trimethyl-1,3-dioxane-4,6-dione (15 g) was synthesized in Preparation Example A4, 5- (p-styrylmethyl) -2-ethyl- Except for changing to 2,5-dimethyl-1,3-dioxane-4,6-dione, the same procedure as in Example A1 was performed to obtain an acrylic adhesive B having a molecular weight of 300,000. The glass transition point was measured by differential scanning calorimetry (manufactured by Shimadzu Corporation, DSC-60) and found to be 13 ° C.
  • the obtained acrylic adhesive B 100 parts by weight of the obtained acrylic adhesive B, 2 parts by weight of an epoxy compound (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., TETRAD-C) and 50 parts by weight of ethyl acetate were added to obtain an adhesive composition.
  • the obtained pressure-sensitive adhesive composition was coated on a PET whose surface was released using an applicator so that the dry film thickness was 20 ⁇ m, and then heated at 120 ° C. for 5 minutes. The coating solution was dried. Subsequently, it was affixed on a PET film and cured at 60 ° C. for 1 day to obtain an adhesive tape.
  • the obtained film was peeled off from the PET side whose surface was subjected to a release treatment, attached to a mirror-finished SUS plate with a roller, and left for 1 hour. Heating was performed on a 180 ° hot plate for 3 minutes to confirm foamability. After taking out from the hot plate, the tape was peeled off, and peelability and adhesive residue were confirmed. The results are shown in Table 1.
  • Example A3 8- (p-styrylmethyl) -8-methyl-6 synthesized in Production Example A5 was prepared by synthesizing 15 g of 5- (p-styrylmethyl) -2,2,5-trimethyl-1,3-dioxane-4,6-dione. , 10-dioxaspiro [4,5] decane-7,9-dione was carried out as in Example A1 to obtain an acrylic adhesive C having a molecular weight of 300,000. The glass transition point was measured by differential scanning calorimetry (manufactured by Shimadzu Corporation, DSC-60) and found to be 11 ° C.
  • the obtained acrylic adhesive C 100 parts by weight of the obtained acrylic adhesive C, 2 parts by weight of an epoxy compound (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., TETRAD-C) and 50 parts by weight of ethyl acetate were added to obtain an adhesive composition.
  • the obtained pressure-sensitive adhesive composition was coated on PET having a surface-release treatment using an applicator so that the thickness of the dry film was 20 ⁇ m, and then heated at 120 ° C. for 5 minutes. The coating solution was dried. Subsequently, it was affixed on a PET film and cured at 60 ° C. for 1 day to obtain an adhesive tape.
  • the obtained film was peeled off from the PET side whose surface was subjected to a release treatment, attached to a mirror-finished SUS plate with a roller, and left for 1 hour. Heating was performed on a 180 ° hot plate for 3 minutes to confirm foamability. After taking out from the hot plate, the tape was peeled off, and peelability and adhesive residue were confirmed. The results are shown in Table 1.
  • the obtained film was peeled off from the PET side whose surface was subjected to a release treatment, attached to a mirror-finished SUS plate with a roller, and left for 1 hour. Heating was performed for 3 minutes on a 180 degree hot plate. After taking out from the hot plate, the tape was immediately peeled off, and peelability and adhesive residue were confirmed. The results are shown in Table 1.
  • Comparative Example A2 100 parts by weight of the acrylic adhesive D obtained in Comparative Example A1 and 2 parts by weight of an epoxy compound (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., TETRAD-C), Matsumoto Microsphere FN-180 (manufactured by Matsumoto Yushi Seiyaku Co., Ltd.) Thermally expandable microcapsules) 25 parts by weight and 50 parts by weight of ethyl acetate were added to obtain an adhesive composition.
  • the obtained pressure-sensitive adhesive composition was coated on PET having a surface-release treatment using an applicator so that the dry film thickness was 20 ⁇ m, and then heated at 100 ° C. for 2 minutes. The coating solution was dried.
  • Example A4 100 parts by weight of the acrylic adhesive A obtained in Example A1, 2 parts by weight of an epoxy compound (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., TETRAD-C) and 50 parts by weight of ethyl acetate were added to obtain an adhesive composition.
  • the obtained pressure-sensitive adhesive composition was coated on PET having a surface-release treatment using an applicator so that the thickness of the dry film was 20 ⁇ m, and then heated at 120 ° C. for 5 minutes. The coating solution was dried. Subsequently, it was affixed on a PET film and cured at 60 ° C. for 1 day to obtain an adhesive tape.
  • the obtained film was peeled off at the PET side whose surface was subjected to a release treatment, and was attached to a mirror-treated silicon wafer with a roller, and then left for 1 hour. After heating for 3 minutes on a hot plate at 180 degrees and taking out from the hot plate, the tape was peeled off immediately, and ESCA (Electron Spectroscopy for Chemical Analysis) measurement (measuring instrument: ESCALAB 200iXL, VG) X-ray source: AlK ⁇ , analysis region: ⁇ 150 ⁇ m), and the amount of carbon present on the silicon wafer surface was measured. For the evaluation, the ratio of carbon to silicon atom% (C / Si) was used. The results are shown in Table 2.
  • Comparative Example A3 100 parts by weight of the acrylic adhesive D obtained in Comparative Example A1, 2 parts by weight of an epoxy compound (TETRAD-C, manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company), 2,2-dimethyl-1,3-dioxane-4,6-dione ( 25 parts by weight of Wako Chemical Co., Ltd.) and 50 parts by weight of ethyl acetate were added to obtain an adhesive composition.
  • the obtained pressure-sensitive adhesive composition was coated on PET having a surface-release treatment using an applicator so that the dry film thickness was 20 ⁇ m, and then heated at 100 ° C. for 2 minutes. The coating solution was dried. Subsequently, it was affixed on a PET film and cured at 40 ° C.
  • Example A4 and Comparative Example A3 the amount of carbon on the silicon wafer surface was smaller in Example A4. From this, it can be seen that Example A4 has less organic matter adhering to the silicon wafer than Comparative Example A3, that is, the amount of contamination is small.
  • the ratio of carbon to silicon atom% (C / Si) on the silicon wafer surface is preferably 10 or less, more preferably 6 or less, and even more preferably 1 or less.
  • Example A5 5- (p-styrylmethyl) -2,2,5-trimethyl-1,3-dioxane-4,6-dione (15 g) was synthesized in Preparation Example A7 and 5- (p-styrylmethyl) -2,2- An acrylic pressure-sensitive adhesive material K having a molecular weight of 300,000 was obtained in the same manner as in Example A1, except that diethyl-5-methyl-1,3-dioxane-4,6-dione was used. The glass transition point was measured by differential scanning calorimetry (manufactured by Shimadzu Corporation, DSC-60) and found to be 12 ° C.
  • the obtained acrylic adhesive K 100 parts by weight of the obtained acrylic adhesive K, 2 parts by weight of an epoxy compound (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., TETRAD-C) and 50 parts by weight of ethyl acetate were added to obtain an adhesive composition.
  • the obtained pressure-sensitive adhesive composition was coated on a PET whose surface was released using an applicator so that the dry film thickness was 20 ⁇ m, and then heated at 120 ° C. for 5 minutes. The coating solution was dried. Subsequently, it was affixed on a PET film and cured at 60 ° C. for 1 day to obtain an adhesive tape.
  • the obtained film was peeled off from the PET side whose surface was subjected to a release treatment, attached to a mirror-finished SUS plate with a roller, and left for 1 hour. Heating was performed on a 180 ° hot plate for 3 minutes to confirm foamability. After taking out from the hot plate, the tape was peeled off, and peelability and adhesive residue were confirmed. The results are shown in Table 3.
  • Example A6 In a 500 mL 4-neck flask, 10 g of 5- (p-styrylmethyl) -2,2,5-trimethyl-1,3-dioxane-4,6-dione synthesized in Production Example A3, 20 g of butyl acrylate, acrylic acid 68 g of 2-ethylhexyl, 2 g of methacrylic acid and 100 g of ethyl acetate were added and mixed at room temperature. Further, 0.2 g of 2,2′-azobisvaleronitrile was added, the temperature was raised to 75 degrees, and stirring was continued for 10 hours to obtain an acrylic adhesive E having a molecular weight of 300,000.
  • the glass transition point was measured by differential scanning calorimetry (manufactured by Shimadzu Corporation, DSC-60) and found to be -4 ° C.
  • 100 parts by weight of the obtained acrylic adhesive E, 2 parts by weight of an epoxy compound (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., TETRAD-C) and 50 parts by weight of ethyl acetate were added to obtain an adhesive composition.
  • the obtained pressure-sensitive adhesive composition was coated on a PET whose surface was released using an applicator so that the dry film thickness was 20 ⁇ m, and then heated at 120 ° C. for 5 minutes. The coating solution was dried. Subsequently, it was affixed on a PET film and cured at 60 ° C. for 1 day to obtain an adhesive tape.
  • the obtained film was peeled off from the PET side whose surface was subjected to a release treatment, attached to a mirror-finished SUS plate with a roller, and left for 1 hour. After heating on a 180 degree hot plate for 3 minutes and taking out from a hot plate, the tape was peeled immediately and the peelability and adhesive residue were confirmed according to the following criteria. The results are shown in Table 3.
  • Example A7 5- (p-styrylmethyl) -2,2,5-trimethyl-1,3-dioxane-4,6-dione (10 g) was synthesized in Preparation Example A4, 5- (p-styrylmethyl) -2-ethyl- Except for changing to 2,5-dimethyl-1,3-dioxane-4,6-dione, the same procedure as in Example A6 was performed to obtain an acrylic adhesive F having a molecular weight of 300,000. The glass transition point was measured by differential scanning calorimetry (manufactured by Shimadzu Corporation, DSC-60) and found to be -5 ° C.
  • the obtained acrylic adhesive F 100 parts by weight of the obtained acrylic adhesive F, 2 parts by weight of an epoxy compound (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., TETRAD-C) and 50 parts by weight of ethyl acetate were added to obtain an adhesive composition.
  • the obtained pressure-sensitive adhesive composition was coated on a PET whose surface was released using an applicator so that the dry film thickness was 20 ⁇ m, and then heated at 120 ° C. for 5 minutes. The coating solution was dried. Subsequently, it was affixed on a PET film and cured at 60 ° C. for 1 day to obtain an adhesive tape.
  • the obtained film was peeled off from the PET side whose surface was subjected to a release treatment, attached to a mirror-finished SUS plate with a roller, and left for 1 hour. Heating was performed on a 180 ° hot plate for 3 minutes to confirm foamability. After taking out from the hot plate, the tape was peeled off, and peelability and adhesive residue were confirmed. The results are shown in Table 3.
  • Example A8 In a 500 mL 4-neck flask, 18 g of 5- (p-styrylmethyl) -2,2,5-trimethyl-1,3-dioxane-4,6-dione synthesized in Production Example A3, 20 g of butyl acrylate, acrylic acid 60 g of 2-ethylhexyl, 2 g of methacrylic acid and 100 g of ethyl acetate were added and mixed at room temperature. Further, 0.2 g of 2,2′-azobisvaleronitrile was added, the temperature was raised to 75 degrees, and stirring was continued for 10 hours to obtain an acrylic adhesive G having a molecular weight of 200,000.
  • the glass transition point was measured by differential scanning calorimetry (manufactured by Shimadzu Corporation, DSC-60) and found to be 20 ° C. 100 parts by weight of the obtained acrylic adhesive G, 2 parts by weight of an epoxy compound (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., TETRAD-C) and 50 parts by weight of ethyl acetate were added to obtain an adhesive composition.
  • the obtained pressure-sensitive adhesive composition was coated on a PET whose surface was released using an applicator so that the dry film thickness was 20 ⁇ m, and then heated at 120 ° C. for 5 minutes. The coating solution was dried. Subsequently, it was affixed on a PET film and cured at 60 ° C. for 1 day to obtain an adhesive tape.
  • the obtained film was peeled off from the PET side whose surface was subjected to a release treatment, attached to a mirror-finished SUS plate with a roller, and left for 1 hour. After heating on a 180 degree hot plate for 3 minutes and taking out from a hot plate, the tape was peeled immediately and the peelability and adhesive residue were confirmed according to the following criteria. The results are shown in Table 3.
  • Example A9 18-g of 5- (p-styrylmethyl) -2,2,5-trimethyl-1,3-dioxane-4,6-dione was synthesized in 5- (p-styrylmethyl) -2-ethyl-
  • An acrylic pressure-sensitive adhesive material H having a molecular weight of 260,000 was obtained in the same manner as in Example A8, except that it was changed to 2,5-dimethyl-1,3-dioxane-4,6-dione.
  • the glass transition point was measured by differential scanning calorimetry (manufactured by Shimadzu Corporation, DSC-60) and found to be 19 ° C.
  • the obtained acrylic adhesive H 100 parts by weight of the obtained acrylic adhesive H, 2 parts by weight of an epoxy compound (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., TETRAD-C) and 50 parts by weight of ethyl acetate were added to obtain an adhesive composition.
  • the obtained pressure-sensitive adhesive composition was coated on a PET whose surface was released using an applicator so that the dry film thickness was 20 ⁇ m, and then heated at 120 ° C. for 5 minutes. The coating solution was dried. Subsequently, it was affixed on a PET film and cured at 60 ° C. for 1 day to obtain an adhesive tape.
  • the obtained film was peeled off from the PET side whose surface was subjected to a release treatment, attached to a mirror-finished SUS plate with a roller, and left for 1 hour. Heating was performed on a 180 ° hot plate for 3 minutes to confirm foamability. After taking out from the hot plate, the tape was peeled off, and peelability and adhesive residue were confirmed. The results are shown in Table 3.
  • Example A10 In a 500 mL four-necked flask, 15 g of 5- (p-styrylmethyl) -2,2,5-trimethyl-1,3-dioxane-4,6-dione synthesized in Production Example A3, 20 g of butyl acrylate, acrylic acid 61 g of 2-ethylhexyl, 1 g of 2-hydroxyethyl methacrylate, 2 g of methacrylic acid and 100 g of ethyl acetate were added and mixed at room temperature.
  • an acrylic adhesive I having a molecular weight of 250,000.
  • the glass transition point was measured by differential scanning calorimetry (manufactured by Shimadzu Corporation, DSC-60) and found to be 15 ° C. 100 parts by weight of the resulting acrylic adhesive I, 2 parts by weight of an epoxy compound (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., TETRAD-C) and 50 parts by weight of ethyl acetate were added to obtain an adhesive composition.
  • the obtained pressure-sensitive adhesive composition was coated on a PET whose surface was released using an applicator so that the dry film thickness was 20 ⁇ m, and then heated at 120 ° C. for 5 minutes. The coating solution was dried. Subsequently, it was affixed on a PET film and cured at 60 ° C. for 1 day to obtain an adhesive tape.
  • the obtained film was peeled off from the PET side whose surface was subjected to a release treatment, attached to a mirror-finished SUS plate with a roller, and left for 1 hour. After heating on a 180 degree hot plate for 3 minutes and taking out from a hot plate, the tape was peeled immediately and the peelability and adhesive residue were confirmed according to the following criteria. The results are shown in Table 3.
  • Example A11 5- (p-Styrylmethyl) -2,2,5-trimethyl-1,3-dioxane-4,6-dione (15 g) was synthesized in Preparation Example A4, 5- (p-styrylmethyl) -2-ethyl- An acrylic pressure-sensitive adhesive material J having a molecular weight of 260,000 was obtained in the same manner as in Example A10 except for changing to 2,5-dimethyl-1,3-dioxane-4,6-dione. The glass transition point was measured by differential scanning calorimetry (manufactured by Shimadzu Corporation, DSC-60) and found to be -4 ° C.
  • the obtained film was peeled off from the PET side whose surface was subjected to a release treatment, attached to a mirror-finished SUS plate with a roller, and left for 1 hour. Heating was performed on a 180 ° hot plate for 3 minutes to confirm foamability. After taking out from the hot plate, the tape was peeled off, and peelability and adhesive residue were confirmed. The results are shown in Table 3.
  • Example A12 100 parts by weight of the acrylic adhesive L obtained in Production Example A8 and 5- (p-styrylmethyl) -2,2,5-trimethyl-1,3-dioxane-4,6-dione 10 synthesized in Production Example A3 1 part by weight of Irgacure 369 (manufactured by BASF), 1 part by weight of an epoxy compound (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., TETRAD-C) and 50 parts by weight of ethyl acetate were added to obtain an adhesive composition.
  • the obtained pressure-sensitive adhesive composition was coated on a PET whose surface was released using an applicator so that the dry film thickness was 20 ⁇ m, and then heated at 120 ° C. for 5 minutes.
  • the coating solution was dried. Next, the film was affixed on a PET film, subjected to UV irradiation (1400 mJ) with a UV irradiator, chemically bonded, and then cured at 60 ° C. for 1 day to obtain an adhesive tape.
  • the obtained film was peeled off from the PET side whose surface was subjected to a release treatment, attached to a mirror-finished SUS plate with a roller, and left for 1 hour. After heating on a 180 degree hot plate for 3 minutes and taking out from a hot plate, the tape was peeled immediately and the peelability and adhesive residue were confirmed according to the following criteria. The results are shown in Table 3.
  • Example A13 Except for changing 10 parts by weight of 5- (p-styrylmethyl) -2,2,5-trimethyl-1,3-dioxane-4,6-dione to 15 parts by weight, the same procedure as in Example A12 was carried out. An adhesive material composition was obtained. The obtained pressure-sensitive adhesive composition was coated on a PET whose surface was released using an applicator so that the dry film thickness was 20 ⁇ m, and then heated at 120 ° C. for 5 minutes. The coating solution was dried. Subsequently, it was affixed on a PET film, UV-irradiated (1400 mJ) with a UV irradiator, and further cured at 60 ° C. for 1 day to obtain an adhesive tape.
  • UV-irradiated (1400 mJ
  • the obtained film was peeled off from the PET side whose surface was subjected to a release treatment, attached to a mirror-finished SUS plate with a roller, and left for 1 hour. After heating on a 180 degree hot plate for 3 minutes and taking out from a hot plate, the tape was peeled immediately and the peelability and adhesive residue were confirmed according to the following criteria. The results are shown in Table 3.
  • Example B1 100 parts by weight of the acrylic adhesive A obtained in Reference Example B1, 1.5 parts by weight of an epoxy compound (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., TETRAD-C), 2,2-dimethyl-1,3-dioxane-4, 25 parts by weight of 6-dione and 50 parts by weight of ethyl acetate were added to obtain an adhesive composition.
  • the obtained pressure-sensitive adhesive composition was coated on a PET whose surface was subjected to release treatment using an applicator so that the thickness of the dry film was 20 ⁇ m, and then heated at 100 ° C. for 2 minutes. The coating solution was dried. Subsequently, it was affixed on a PET film and cured at 60 ° C.
  • Examples B2 to B10 The test was performed in the same manner as in Example B1, except that 25 parts by weight of 2,2-dimethyl-1,3-dioxane-4,6-dione was changed to 25 parts by weight of the compound shown in the table. The results are shown in Table 4.
  • Comparative Example B1 100 parts by weight of acrylic adhesive A obtained in Reference Example B1, 2 parts by weight of an epoxy compound (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., TETRAD-C), 2,2′-azobis- (N-butyl-2-methylpropion) Amide) 25 parts by weight and 50 parts by weight of ethyl acetate were added to obtain an adhesive composition.
  • the obtained pressure-sensitive adhesive composition was coated on PET having a surface-release treatment using an applicator so that the dry film thickness was 20 ⁇ m, and then heated at 100 ° C. for 2 minutes. The coating solution was dried. Subsequently, it was affixed on a PET film and cured at 40 ° C. for 3 days to obtain an adhesive tape.
  • the obtained film was peeled off from the PET side whose surface was subjected to a release treatment, attached to a mirror-finished SUS plate with a roller, and left for 1 hour. Heating was performed for 3 minutes on a 180 degree hot plate. After taking out from the hot plate, the tape was immediately peeled off, and peelability and adhesive residue were confirmed. The results are shown in Table 4.
  • Comparative Example B2 100 parts by weight of the acrylic adhesive A obtained in Reference Example B1, 2 parts by weight of an epoxy compound (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., TETRAD-C), Matsumoto Microsphere FN-180 (manufactured by Matsumoto Yushi Seiyaku Co., Ltd.) Thermally expandable microcapsules) 25 parts by weight and 50 parts by weight of ethyl acetate were added to obtain an adhesive composition.
  • the obtained pressure-sensitive adhesive composition was coated on PET having a surface-release treatment using an applicator so that the dry film thickness was 20 ⁇ m, and then heated at 100 ° C. for 2 minutes. The coating solution was dried.
  • Examples B11 to B14 The test was performed in the same manner as in Example B1 except that 25 parts by weight of 2,2-dimethyl-1,3-dioxane-4,6-dione was changed to 25 parts by weight of the compounds shown in Table 5. The results are shown in Table 5.
  • Example B15 100 parts by weight of the acrylic adhesive B obtained in Reference Example B2 and 1.5 parts by weight of an epoxy compound (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., TETRAD-C), 2,2-dimethyl-1,3-dioxane-4, 25 parts by weight of 6-dione and 50 parts by weight of ethyl acetate were added to obtain an adhesive composition.
  • the obtained pressure-sensitive adhesive composition was coated on a PET whose surface was subjected to release treatment using an applicator so that the thickness of the dry film was 20 ⁇ m, and then heated at 100 ° C. for 2 minutes. The coating solution was dried. Subsequently, it was affixed on a PET film and cured at 60 ° C.
  • Example B16 to B20 The test was performed in the same manner as in Example B15 except that 25 parts by weight of 2,2-dimethyl-1,3-dioxane-4,6-dione was changed to 25 parts by weight of the compounds shown in Table 6. The results are shown in Table 6.

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Abstract

 本発明の接着性樹脂組成物は、メルドラム酸誘導体由来の構造を有する発泡性粘着ポリマー、または一般式(1)で表されるメルドラム酸誘導体と、接着性樹脂とを含む。

Description

接着性樹脂組成物、積層体および自己剥離方法
 本発明は、接着性樹脂組成物、積層体および自己剥離方法に関する。
 従来の自己剥離性を有する接着性樹脂組成物としては以下のものがある。
 特許文献1(特開平5-43851号公報)には、高弾性の感圧接着剤に、発泡剤を配合した剥離性感圧接着剤が記載されている。発泡剤として無機系発泡剤(炭酸アンモニウムなど)、有機系発泡剤(アゾ系化合物など)が用いられ、さらに発泡剤をマイクロカプセル化した熱膨張性微粒子などが記載されている。特許文献1には、加熱処理による発泡剤の膨張ないし発泡で接着力が低下すると記載されている。
 特許文献2(特開平11-166164号公報)には、平均粒径18μm以上の熱膨張性微小球(マイクロカプセル)を含む粘着層を有する加熱剥離型粘着シートが記載されている。
 特許文献3~4(特開2001-200234号公報、特開2003-151940号公報)には、アジド化合物を含む粘着材を、半導体製造プロセスに使用することが記載されている。
 特許文献5~8(特開2003-231871号公報、特開2003-173989号公報、特開2003-173993号公報、特開2003-231867号公報)には、刺激により気体を発生する気体発生剤を含む粘着材が記載されている。気体発生剤として、アゾ化合物、アジド化合物が記載されている。
 また、非特許文献1(雑誌「高分子」59巻 12月号(2010年)926~927ページ)には、UV感応型の耐熱自己剥離テープが記載されている。
 メルドラム酸骨格を有する化合物等に関する先行文献としては以下のものがある。
 特許文献9(国際公開公報2010/025983号パンフレット)には、メルドラム酸の骨格を有するポリマーを含有する、低アウトガスのフォトレジストが記載されている。
 特許文献10(特開2009-227996号公報)には、メルドラム酸の骨格を有するポリマーが記載されている。
 非特許文献2(NATURE CHEMISTRY vol2.March2010.p207~212)には、メルドラム酸の骨格を有する化合物が、熱によりケテンと二酸化炭素を発生することが記載されている。
特開平5-43851号公報 特開平11-166164号公報 特開2001-200234号公報 特開2003-151940号公報 特開2003-231871号公報 特開2003-173989号公報 特開2003-173993号公報 特開2003-231867号公報 国際公開公報2010/025983号パンフレット 特開2009-227996号公報
雑誌「高分子」59巻 12月号(2010年)926~927ページ NATURE CHEMISTRY vol2.March2010.p207~212
 しかしながら、特許文献1~8に記載の技術は以下の点で課題を有していた。
 アゾ化合物は刺激を与えることで活性ラジカル種が発生するため、ベースになる接着材料が活性ラジカル種によって分解されやすい。そのため、分解した接着材料が被着体に付着したり(糊残り)、分解時に被着体を汚染しやすい。
 また、アジド化合物は衝撃を与えることによっても簡単に分解してしまう上、分解が始まると連鎖反応を起こすため、窒素ガス放出の制御が難しい。なお、アジド化合物もアゾ化合物と同様に、活性ラジカル種の発生による問題が考えられる。
 また、無機系発泡剤やマイクロカプセルは、ベースとなる接着材料に溶け込まないので、剥離した際に被着物表面に残ってしまうことがあった。
 なお、これらの自己剥離型接着剤に関する先行文献には、メルドラム酸骨格の化合物は記載されていない。
 特許文献9、10、非特許文献2には、メルドラム酸の骨格を有するポリマーを、自己剥離型接着剤の発泡性粘着ポリマーとして用いた例は記載されていない。
 本発明は以下に示すことができる。
[1] メルドラム酸誘導体由来の構造を有する発泡性粘着ポリマーを含むことを特徴とする接着性樹脂組成物。
[2] 前記メルドラム酸誘導体は下記一般式(1)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
(式(1)中、RおよびRはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、置換または無置換の炭素数1~10のアルキル基、置換または無置換の炭素数2~10アルケニル基、置換または無置換の炭素数2~10アルキニル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換の炭素数7~12のアリールアルキル基、または置換または無置換のシリル基を表し、RとRは互いに結合して、環構造を形成していてもよい。RおよびRはそれぞれ独立に、水素原子、置換または無置換の炭素数1~10アルキル基、置換または無置換の炭素数2~10アルケニル基、置換または無置換の炭素数2~10アルキニル基、置換または無置換のアリール基を表し、RとRは互いに結合して、環構造を形成していてもよい。R、R、R、R、RとRとが互いに結合して形成される環構造およびRとRとが互いに結合して形成される環構造の少なくとも1つは、置換基として、ビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、エポキシ基、アジリジル基、チイラニル基、オキセタニル基、チエタニル基、イソシアナト基、アミノ基、スルホン基、ヒドロキシ基、カルボキシル基、酸無水物基から選択される反応性官能基を有する。)
 で表されることを特徴とする、[1]に記載の接着性樹脂組成物。
[3] 前記発泡性粘着ポリマーは、メルドラム酸誘導体が、該メルドラム酸誘導体に含まれる反応性官能基を介して結合した接着性樹脂を含んでなることを特徴とする、[1]または[2]に記載の接着性樹脂組成物。
[4] 前記発泡性粘着ポリマーは、
(a)R、R、R、R、RとRとが互いに結合して形成される環構造、およびRとRとが互いに結合して形成される環構造の少なくとも1つが、置換基として、ビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基から選択される反応性官能基を有する、一般式(1)で表されるメルドラム酸誘導体由来の構成単位と、
(b)(メタ)アクリル酸誘導体由来の構成単位と、
を含んでなる、[2]または[3]に記載の接着性樹脂組成物。
[5] 前記メルドラム酸誘導体は、R、R、RおよびRの少なくとも1つが、ビニル基を置換基として有するベンジル基である、[4]に記載の接着性樹脂組成物。
[6] 示差走査熱量分析により測定したガラス転移点が40℃以下であることを特徴とする[1]乃至[5]のいずれかに記載の接着性樹脂組成物。
[7] 下記一般式(1)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
(式(1)中、RおよびRはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、置換または無置換の炭素数1~10のアルキル基、置換または無置換の炭素数2~10のアルケニル基、置換または無置換の炭素数2~10アルキニル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換の炭素数7~12のアリールアルキル基、または置換または無置換のシリル基を表し、RとRは互いに結合して、環構造を形成していてもよい。RおよびRはそれぞれ独立に、水素原子、置換または無置換の炭素数1~10アルキル基、置換または無置換の炭素数2~10のアルケニル基、置換または無置換の炭素数2~10のアルキニル基、置換または無置換のアリール基を表し、RとRは互いに結合して、環構造を形成していてもよい。)
で表されるメルドラム酸誘導体と、
 接着性樹脂と、
を含むことを特徴とする接着性樹脂組成物。
[8] 上記一般式(1)中、RおよびRはそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1~4のアルキル基、ベンジル基、を表し、RおよびRはそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1~4のアルキル基、を表し、RとRは互いに結合してシクロペンチル基、を形成する、ことを特徴とする[7]に記載の接着性樹脂組成物。
[9] 前記接着性樹脂が、示差走査熱量分析により測定したガラス転移点が40℃以下であることを特徴とする[7]または[8]に記載の接着性樹脂組成物。
[10] 前記接着性樹脂が、アクリル系感圧接着剤であることを特徴とする[7]乃至[9]のいずれかに記載の接着性樹脂組成物。
[11] 基材と、
 前記基材上に形成された、[1]乃至[10]のいずれかに記載の接着性樹脂組成物からなる剥離層と、
 前記剥離層上に貼着された被着物と、
からなる積層体。
[12] 基材と、前記基材上に形成された、[1]乃至[6]のいずれかに記載の接着性樹脂組成物からなる剥離層と、前記剥離層上に貼着された被着物と、からなる積層体を用いた自己剥離方法であって、
 前記積層体を、該接着性樹脂組成物に含まれる、メルドラム酸誘導体由来の構造を有する発泡性粘着ポリマーの、該メルドラム酸誘導体が分解する温度以上に加熱することにより、前記剥離層に含まれる該化合物が分解し、前記剥離層と前記被着物との界面における前記剥離層の接着強度を低下させる工程を備える、自己剥離方法。
[13] 基材と、前記基材上に形成された、[7]乃至[10]のいずれかに記載の接着性樹脂組成物を含む剥離層と、前記剥離層上に貼着された被着物と、からなる積層体を用いた自己剥離方法であって、
 前記積層体を、メルドラム酸誘導体が分解する温度以上に加熱することにより、前記剥離層に含まれる該メルドラム酸誘導体が分解し、前記剥離層と前記被着物との界面における前記剥離層の接着強度を低下させる工程を備える、自己剥離方法。
[14] 基材層と、前記基材層上に形成された、[1]乃至[10]のいずれかに記載の接着性樹脂組成物を含む剥離層とを備えるテープ。
[15] [14]に記載のテープを、前記剥離層を介して基板の被研磨面の裏面上に貼り付ける工程と、
 前記基板の被研磨面を研磨する工程と、
 研磨工程後、前記テープの前記剥離層に熱を加えて前記裏面から前記テープを剥離する工程と、
を有する、基板の研磨方法。
[16] [1]乃至[10]のいずれかに記載の接着性樹脂組成物によって被着物を支持体に固定する工程と、
 前記被着物をダイシングする工程と、
 熱を加えることによって個片化された前記被着物を前記支持体から剥離させる工程と、
を有する、ダイシング方法。
[17] [1]乃至[10]のいずれかに記載の接着性樹脂組成物によって支持体に半導体チップを固定する工程と、
 前記半導体チップを樹脂で封止する工程と、
 熱を加えることによって前記支持体から、樹脂で封止された半導体チップを剥離する工程と、
を有する、半導体パッケージの製造方法。
[18] [14]に記載のテープを、前記剥離層を介して被めっき体のめっきしない部分に貼り付ける工程と、
 前記被めっき体をめっき処理する工程と、
 めっき処理工程後、前記被めっき体に貼り付けられている前記テープの剥離層に熱を加えて前記テープを剥離する工程と、
 を有する、めっき方法。
 本発明によれば、接着時には十分な接着強度があり、剥離時には被着物を損傷することなく容易に剥離でき、かつ被着物の汚染が少ない剥離層を形成することができる接着性樹脂組成物、当該組成物から形成された剥離層を有する積層体、自己剥離方法を提供することができる。
本実施形態の積層体の構成を示す断面図である。
 本発明の接着性樹脂組成物を、第1の実施形態および第2の実施形態により、以下に説明する。尚、本発明では、「接着」と「粘着」は特に区別せず同様の意味を表す。
[第1の実施形態]
<接着性樹脂組成物>
 本実施形態の接着性樹脂組成物は、発泡性化合物由来の構造を有する発泡性粘着ポリマーを含んでなる。
(発泡性粘着ポリマー)
 発泡性粘着ポリマーは、発泡性化合物であるメルドラム酸誘導体由来の構造を有する。
 このような発泡性粘着ポリマーとしては、
(1)メルドラム酸誘導体がポリマー鎖に結合しているポリマー、
(2)メルドラム酸誘導体由来の構成単位がポリマー鎖の一部を構成するポリマー、
を挙げることができる。
 これらの発泡性粘着ポリマーであれば、被着体の汚染原因の一つである、低分子化合物の含有量を低減させることができる。
以下、順に説明する。
(1)メルドラム酸誘導体がポリマー鎖に結合している発泡性粘着ポリマー
 ベースとなる接着性樹脂としては、剥離時の加熱温度未満では接着性を保持し、融解や分解などが生じない耐熱性を有するものを用いることができる。例えば、従来公知の感圧接着剤(粘着材)等の粘着物質を使用することができる。
 感圧接着剤として、天然ゴムやポリイソブチレンゴム、スチレン・ブタジエンゴム、スチレン・イソプレン・スチレンブロック共重合体ゴム、再生ゴム、ブチルゴム、ポリイソブチレンゴム、NBRなどのゴム系ポリマーをベースポリマーに用いたゴム系感圧接着剤;シリコーン系感圧接着剤;ウレタン系感圧接着剤;アクリル系感圧接着剤等を挙げることができる。母剤は1種、又は2種以上の成分で構成してもよい。特に好ましくは、アクリル系感圧接着剤である。
 アクリル系感圧接着剤としては、(メタ)アクリル酸アルキルエステルの1種又は2種以上を単量体成分として用いたアクリル系重合体(単独重合体又は共重合体)をベースポリマーとするアクリル系粘着材が挙げられる。前記アクリル系粘着材における(メタ)アクリル酸アルキルエステルとしては、例えば、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリル酸イソプロピル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸s-ブチル、(メタ)アクリル酸t-ブチル、(メタ)アクリル酸ペンチル、(メタ)アクリル酸ヘキシル、(メタ)アクリル酸ヘプチル、(メタ)アクリル酸オクチル、(メタ)アクリル酸2-エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸イソオクチル、(メタ)アクリル酸ノニル、(メタ)アクリル酸イソノニル、(メタ)アクリル酸デシル、(メタ)アクリル酸イソデシル、(メタ)アクリル酸ウンデシル、(メタ)アクリル酸ドデシル、(メタ)アクリル酸トリデシル、(メタ)アクリル酸テトラデシル、(メタ)アクリル酸ペンタデシル、(メタ)アクリル酸ヘキサデシル、(メタ)アクリル酸ヘプタデシル、(メタ)アクリル酸オクタデシル、(メタ)アクリル酸ノナデシル、(メタ)アクリル酸エイコシルなどの(メタ)アクリル酸C20アルキルエステル等を挙げることができる。好ましくは(メタ)アクリル酸C18アルキル(直鎖状又は分岐鎖状のアルキル)エステルである。
 なお、前記アクリル系感圧接着剤は、凝集力、耐熱性、架橋性などの改質を目的として、必要に応じて、前記(メタ)アクリル酸アルキルエステルと共重合可能な他の単量体成分に対応する単位を含んでいてもよい。このような単量体成分として、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、カルボキシエチルアクリレート、カルボキシペンチルアクリレート、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸などのカルボキシル基含有モノマー;無水マレイン酸、無水イタコン酸などの酸無水物基含有モノマー;(メタ)アクリル酸ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシブチル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシヘキシル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシオクチル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシデシル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシラウリル、(4-ヒドロキシメチルシクロヘキシル)メチルメタクリレートなどのヒドロキシル基含有モノマー;スチレンスルホン酸、アリルスルホン酸、2-(メタ)アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸、(メタ)アクリルアミドプロパンスルホン酸、スルホプロピル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロイルオキシナフタレンスルホン酸などのスルホン酸基含有モノマー;2-ヒドロキシエチルアクリロイルホスフェートなどのリン酸基含有モノマー;(メタ)アクリルアミド、N,N-ジメチル(メタ)アクリルアミド、N,N-ジエチル(メタ)アクリルアミド、N-イソプロピル(メタ)アクリルアミド、N-ブチル(メタ)アクリルアミド、N-メチロール(メタ)アクリルアミド、N-メチロールプロパン(メタ)アクリルアミドなどの(N-置換)アミド系モノマー;(メタ)アクリル酸アミノエチル、(メタ)アクリル酸N,N-ジメチルアミノエチル、(メタ)アクリル酸t-ブチルアミノエチルなどの(メタ)アクリル酸アミノアルキル系モノマー;(メタ)アクリル酸メトキシエチル、(メタ)アクリル酸エトキシエチルなどの(メタ)アクリル酸アルコキシアルキル系モノマー;N-シクロヘキシルマレイミド、N-イソプロピルマレイミド、N-ラウリルマレイミド、N-フェニルマレイミドなどのマレイミド系モノマー;N-メチルイタコンイミド、N-エチルイタコンイミド、N-ブチルイタコンイミド、N-オクチルイタコンイミド、N-2-エチルヘキシルイタコンイミド、N-シクロヘキシルイタコンイミド、N-ラウリルイタコンイミドなどのイタコンイミド系モノマー;N-(メタ)アクリロイルオキシメチレンスクシンイミド、N-(メタ)アクリロイル-6-オキシヘキサメチレンスクシンイミド、N-(メタ)アクリロイル-8-オキシオクタメチレンスクシンイミドなどのスクシンイミド系モノマー;酢酸ビニル、プロピオン酸ビニルなどのビニルエステル類;N-ビニル-2-ピロリドン、N-メチルビニルピロリドン、N-ビニルピリジン、N-ビニルピペリドン、N-ビニルピリミジン、N-ビニルピペラジン、N-ビニルピラジン、N-ビニルピロール、N-ビニルイミダゾール、N-ビニルオキサゾール、N-(メタ)アクリロイル-2-ピロリドン、N-(メタ)アクリロイルピペリジン、N-(メタ)アクリロイルピロリジン、N-ビニルモルホリンなどの窒素含有複素環系モノマー;N-ビニルカルボン酸アミド類;スチレン、α-メチルスチレンなどのスチレン系モノマー;N-ビニルカプロラクタムなどのラクタム系モノマー;アクリロニトリル、メタクリロニトリルなどのシアノアクリレートモノマー;(メタ)アクリル酸グリシジルなどのエポキシ基含有アクリル系モノマー;(メタ)アクリル酸ポリエチレングリコール、(メタ)アクリル酸ポリプロピレングリコール、(メタ)アクリル酸メトキシエチレングリコール、(メタ)アクリル酸メトキシポリプロピレングリコールなどのグリコール系アクリルエステルモノマー;(メタ)アクリル酸テトラヒドロフルフリル、フッ素(メタ)アクリレート、シリコーン(メタ)アクリレートなどの複素環、ハロゲン原子、ケイ素原子などを有するアクリル酸エステル系モノマー;ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、(ポリ)エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、(ポリ)プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、ジビニルベンゼン、ブチルジ(メタ)アクリレート、ヘキシルジ(メタ)アクリレートなどの多官能モノマー;イソプレン、ブタジエン、イソブチレンなどのオレフィン系モノマー;メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテルなどのビニルエーテル系モノマー等が挙げられる。これらの単量体成分は1種又は2種以上使用することができる。
 アクリル系感圧接着剤の製造は、溶液重合、塊状重合、乳化重合及び各種ラジカル重合などの公知の製造方法を適宜選択できる。また、得られる接着性樹脂は、ランダム共重合体、ブロック共重合体、グラフト共重合体などいずれでもよい。
 なお、ラジカル重合における溶液重合においては、重合溶媒として、たとえば、酢酸エチル、トルエンなどが用いられる。具体的な溶液重合例としては、反応は窒素などの不活性ガス気流下で、重合開始剤として、たとえば、モノマー全量100重量部に対して、アゾビスイソブチロニトリル0.01~0.2重量部加え、通常、50~100℃程度で、8~30時間程度行われる。
 ラジカル重合に用いられる重合開始剤、連鎖移動剤、乳化剤などは特に限定されず適宜選択して使用することができる。
 重合開始剤としては、たとえば、2,2'-アゾビスイソブチロニトリル、2,2'-アゾビス(2-アミジノプロパン)ジヒドロクロライド、2,2'-アゾビス[2-(5-メチル-2-イミダゾリン-2-イル)プロパン]ジヒドロクロライド、2,2'-アゾビス(2-メチルプロピオンアミジン)二硫酸塩、2,2'-アゾビス(N,N'-ジメチレンイソブチルアミジン)、2,2'-アゾビス[N-(2-カルボキシエチル)-2-メチルプロピオンアミジン]ハイドレート(和光純薬工業(株)製、VA-057)などのアゾ系開始剤、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウムなどの過硫酸塩、ジ(2-エチルヘキシル)パーオキシジカーボネート、ジ(4-t-ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボネート、ジ-sec-ブチルパーオキシジカーボネート、t-ブチルパーオキシネオデカノエート、t-ヘキシルパーオキシピバレート、t-ブチルパーオキシピバレート、ジラウロイルパーオキシド、ジ-n-オクタノイルパーオキシド、1,1,3,3-テトラメチルブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート、ジ(4-メチルベンゾイル)パーオキシド、ジベンゾイルパーオキシド、t-ブチルパーオキシイソブチレート、1,1-ジ(t-ヘキシルパーオキシ)シクロヘキサン、t-ブチルハイドロパーオキシド、過酸化水素などの過酸化物系開始剤、過硫酸塩と亜硫酸水素ナトリウムの組み合わせ、過酸化物とアスコルビン酸ナトリウムの組み合わせなどの過酸化物と還元剤とを組み合わせたレドックス系開始剤などをあげることができるが、これらに限定されるものではない。
 また、重合開始剤として有機過酸化物を使用した場合には、重合反応に使用されずに残存した有機過酸化物を架橋反応に使用することも可能であるが、その場合は残存量を定量し、必要に応じて再添加し、所定の有機過酸化物量にして使用することができる。
 前記重合開始剤は、単独で使用してもよく、また2種以上を混合して使用してもよいが、全体としての含有量はモノマー100重量部に対して、0.005~1重量部程度であることが好ましく、0.02~0.6重量部程度であることがより好ましい。
 また、重合において連鎖移動剤を用いてもよい。連鎖移動剤を用いることにより、接着性樹脂の分子量を適宜調整することができる。
 連鎖移動剤としては、たとえば、ラウリルメルカプタン、グリシジルメルカプタン、メルカプト酢酸、2-メルカプトエタノール、チオグリコール酸、チオグリコール酸2-エチルヘキシル、2,3-ジメルカプト-1-プロパノールなどが挙げられる。
 これらの連鎖移動剤は、単独で使用してもよく、また2種以上を混合して使用してもよいが、全体としての含有量はモノマー100重量部に対して、0.01~0.4重量部程度である。
 また、乳化重合する場合に用いる乳化剤としては、たとえば、ラウリル硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸アンモニウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸アンモニウム、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸ナトリウムなどのアニオン系乳化剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン-ポリオキシプロピレンブロックポリマーなどのノニオン系乳化剤などが挙げられる。これらの乳化剤は、単独で用いてもよく2種以上を併用してもよい。
 さらに、反応性乳化剤として、プロペニル基、アリルエーテル基などのラジカル重合性官能基が導入された乳化剤として、具体的には、たとえば、アクアロンHS-10、HS-20、KH-10、BC-05、BC-10、BC-20(以上、いずれも第一工業製薬(株)製)、アデカリアソープSE10N((株)ADEKA製)などがある。反応性乳化剤は、重合後にポリマー鎖に取り込まれるため、耐水性がよくなり好ましい。乳化剤の使用量は、モノマー100重量部に対して、0.3~5重量部、重合安定性や機械的安定性から0.5~1重量部がより好ましい。
 剥離時の加熱によって接着性樹脂自体の架橋反応が進み、接着性能が低下する接着性樹脂を用いることができる。その場合、剥離時の温度未満では接着性が低下しない点を考慮する必要がある。
 メルドラム酸誘導体は反応性官能基を有する。
 反応性官能基としては、ビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、エポキシ基、アジリジル基、チイラニル基、オキセタニル基、チエタニル基、イソシアナト基、アミノ基、スルホン基、ヒドロキシ基、カルボキシル基、酸無水物基等を挙げることができる。
 接着性樹脂にメルドラム酸誘導体を結合させるには、接着性樹脂に存在する反応性官能基に対して、メルドラム酸誘導体を反応させ化学結合を形成する方法、接着性樹脂製造時にメルドラム酸誘導体を共存させて化学結合を形成する方法、メルドラム酸誘導体の前駆体を接着性樹脂に存在させ、化学反応を行うことでメルドラム酸誘導体を形成する方法等のようにして行う。
 メルドラム酸誘導体は、下記一般式(1)で表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
 式(1)中、RおよびRはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、置換または無置換の炭素数1~10のアルキル基、置換または無置換の炭素数2~10のアルケニル基、置換または無置換の炭素数2~10のアルキニル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換の炭素数7~12のアリールアルキル基、または置換または無置換のシリル基を表し、RとRは互いに結合して、環構造を形成していてもよい。RおよびRはそれぞれ独立に、水素原子、置換または無置換の炭素数1~10のアルキル基、置換または無置換の炭素数2~10のアルケニル基、置換または無置換の炭素数2~10のアルキニル基、置換または無置換のアリール基を表し、RとRは互いに結合して、環構造を形成していてもよい。
 一般式(1)におけるR、R、RおよびRとしては、以下のものを挙げることができる。
 ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素を挙げることができる。
 炭素数1~10のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ターシャリーブチル基、ペンチル基、1-メチルブチル基、2-メチルブチル基、3-メチルブチル基、1,1-ジメチルプロピル基、2,2-ジメチルプロピル基、1,2-ジメチルプロピル基、ヘキシル基、ペンチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、シクロプロピル基、シクロプロピルメチル基、シクロペンチル基、シクロプロピルメチル基、シクロペンチルメチル基、シクロヘキシルメチル基等を挙げることができる。
 炭素数2~10のアルケニル基としては、ビニル基、イソプロペニル基、アリル基、メタリル基、1-ブテニル基、3-ヘキセニル基、1-シクロペンテニル基、1-シクロヘキセニル基、2-シクロペンチルエテニル基、2-シクロヘキシルエテニル基等を挙げることができる。
 炭素数2~10のアルキニル基としては、エチニル基、1-プロピニル基、2-プロピニル基、1-ブチニル基、2-ブチニル基、3-ブチニル基、1-ペンチニル基、2-ペンチニル基、3-ペンチニル基、4-ペンチニル基、1-メチル-2-プロピニル基、3-メチル-1-ブチニル基、3,3-ジメチル-1-ブチニル基、2-シクロペンチルエチニル基、2-シクロヘキシルエチニル基等を挙げることができる。
 炭素数7~12のアリールアルキル基としては、ベンジル基、1-フェニルエチル基、2-フェニルエチル基、1-フェニルプロピル基、2-フェニルプロピル基、3-フェニルプロピル基、1-フェニルブチル基、2-フェニルブチル基、3-フェニルブチル基、4-フェニルブチル基等を挙げることができる。
 アリール基としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、フルオレニル基、アントラニル基、ピリジル基、トリアゾリル基、ピロール基、チイニル基、ピリジル基、ピリミジニル基、オキサゾリル基、イソキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、イミダゾリル基等を挙げることができる。
 前記官能基およびシリル基が置換される場合の置換基としては、ビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、エポキシ基、アジリジル基、チイラニル基、オキセタニル基、チエタニル基、イソシアナト基、アミノ基、スルホン基、ヒドロキシ基、カルボキシル基、酸無水物基、イミド基、チオール基、炭素数1~10のアルコキシ基等を挙げることができる。
 RおよびRが互いに結合して形成される環構造は、RおよびRが結合している炭素原子を含んで形成される。RおよびRにおいても同様である。
 そのような環構造としては、シクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタンなどのシクロアルカン、シクロプロペン、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセン、シクロヘプテンなどのシクロアルケン、ノルボルネンやノルボルナジエンなどの二環式アルケン、等の脂環族基;
フェニル、ベンジル、ナフチル、ビフェニル、トリフェニル、フルオレニル、アントラニル、フェナントリルなどの芳香族基;
ピリジル基、ピリミジニル基、ピリダジル基、フリル基、チエニル基、オキサゾリル基、イソキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、ピロール基、イミダゾリル基などの複素環基;
を挙げることができる。
 これらの環構造は置換基を有していてもよく、そのような置換基としては、ビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、エポキシ基、アジリジル基、チイラニル基、オキセタニル基、チエタニル基、イソシアナト基、アミノ基、スルホン基、ヒドロキシ基、カルボキシル基、酸無水物基、イミド基、チオール基、炭素数1~10のアルコキシ基を挙げることができる。
 なお、R、R、R、R、RとRとが互いに結合して形成される環構造およびRとRとが互いに結合して形成される環構造の少なくとも1つは、置換基として、ビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、エポキシ基、アジリジル基、チイラニル基、オキセタニル基、チエタニル基、イソシアナト基、アミノ基、スルホン基、ヒドロキシ基、カルボキシル基、酸無水物基から選択される反応性官能基を有する。
 本実施形態において、RおよびRとしては、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1~4のアルキル基、ベンジル基、フェニル基、RとRが互いに結合して形成されたシクロプロピル基を用いることが好ましい。
 RおよびRとしては、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1~4のアルキル基、フェニル基、RとRが互いに結合して形成されたシクロペンチル基、シクロヘキシル基を用いることが好ましい。
 また、R、R、R、R、RとRとが互いに結合して形成される環構造およびRとRとが互いに結合して形成される環構造の少なくとも1つが、置換基として、ビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基から選択される反応性官能基を有するものも好ましい。さらに、R、R、RおよびRの少なくとも1つが、ビニル基を置換基として有するベンジル基であることが好ましい。
 本実施形態において用いられるメルドラム酸誘導体としては、二酸化炭素ガス等を発生することができる構造を有するものを用いることができる。具体的には、5-(p-スチリルメチル)-2,2,5-トリメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン、5-(p-スチリルメチル)-2-エチル-2,5-ジメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン、8-(p-スチリルメチル)-8-メチル-6,10-ジオキサスピロ[4,5]デカン-7,9-ジオン、5-(p-スチリルメチル)-2,2-ジエチル-5-メチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン、等を用いることができる。
(2)メルドラム酸誘導体由来の構成単位がポリマー鎖の一部を構成する発泡性粘着ポリマー
 メルドラム酸誘導体由来の構成単位がポリマー鎖の一部を構成する発泡性粘着ポリマーを合成するには、接着性樹脂を構成する反応性官能基を有する化合物に反応性官能基を有するメルドラム酸誘導体を共存させて重合を行う方法等により行う。
 発泡性粘着ポリマー(2)は、
(a)R、R、R、R、RとRとが互いに結合して形成される環構造およびRとRとが互いに結合して形成される環構造の少なくとも1つが、置換基として、ビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基から選択される反応性官能基を有する、一般式(1)で表されるメルドラム酸誘導体由来の構成単位と、
(b)(メタ)アクリル酸誘導体由来の構成単位と、
を含んでなる。
 メルドラム酸誘導体は、R、R、RおよびRの少なくとも1つが、ビニル基を置換基として有するベンジル基であることが好ましい。
 メルドラム酸誘導体由来の構成単位(a)は、(メタ)アクリル酸誘導体由来の構成単位100重量部に対して、0.1~50重量部、好ましくは0.5~40重量部、より好ましくは1重量部~30重量部の量で含むことができる。
 また、(メタ)アクリル酸誘導体由来の構成単位は(メタ)アクリル酸誘導体を1種又は2種以上使用することができる。
 (メタ)アクリル酸誘導体としては、(メタ)アクリル酸アルキルエステルが挙げられ、例えば、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリル酸イソプロピル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸s-ブチル、(メタ)アクリル酸t-ブチル、(メタ)アクリル酸ペンチル、(メタ)アクリル酸ヘキシル、(メタ)アクリル酸ヘプチル、(メタ)アクリル酸オクチル、(メタ)アクリル酸2-エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸イソオクチル、(メタ)アクリル酸ノニル、(メタ)アクリル酸イソノニル、(メタ)アクリル酸デシル、(メタ)アクリル酸イソデシル、(メタ)アクリル酸ウンデシル、(メタ)アクリル酸ドデシル、(メタ)アクリル酸トリデシル、(メタ)アクリル酸テトラデシル、(メタ)アクリル酸ペンタデシル、(メタ)アクリル酸ヘキサデシル、(メタ)アクリル酸ヘプタデシル、(メタ)アクリル酸オクタデシル、(メタ)アクリル酸ノナデシル、(メタ)アクリル酸エイコシルなどの(メタ)アクリル酸C1-20アルキルエステルを挙げることができる。好ましくは(メタ)アクリル酸C4-18アルキル(直鎖状又は分岐鎖状のアルキル)エステルである。
 なお、発泡性粘着ポリマーは、凝集力、耐熱性、架橋性などの改質を目的として、必要に応じて、前記(メタ)アクリル酸アルキルエステルと共重合可能な他の単量体成分に対応する単位を含んでいてもよい。このような単量体成分として、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、カルボキシエチルアクリレート、カルボキシペンチルアクリレート、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸などのカルボキシル基含有モノマー;無水マレイン酸、無水イタコン酸などの酸無水物基含有モノマー;(メタ)アクリル酸ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシブチル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシヘキシル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシオクチル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシデシル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシラウリル、(4-ヒドロキシメチルシクロヘキシル)メチルメタクリレートなどのヒドロキシル基含有モノマー;スチレンスルホン酸、アリルスルホン酸、2-(メタ)アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸、(メタ)アクリルアミドプロパンスルホン酸、スルホプロピル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロイルオキシナフタレンスルホン酸などのスルホン酸基含有モノマー;2-ヒドロキシエチルアクリロイルホスフェートなどのリン酸基含有モノマー;(メタ)アクリルアミド、N,N-ジメチル(メタ)アクリルアミド、N,N-ジエチル(メタ)アクリルアミド、N-イソプロピル(メタ)アクリルアミド、N-ブチル(メタ)アクリルアミド、N-メチロール(メタ)アクリルアミド、N-メチロールプロパン(メタ)アクリルアミドなどの(N-置換)アミド系モノマー;(メタ)アクリル酸アミノエチル、(メタ)アクリル酸N,N-ジメチルアミノエチル、(メタ)アクリル酸t-ブチルアミノエチルなどの(メタ)アクリル酸アミノアルキル系モノマー;(メタ)アクリル酸メトキシエチル、(メタ)アクリル酸エトキシエチルなどの(メタ)アクリル酸アルコキシアルキル系モノマー;N-シクロヘキシルマレイミド、N-イソプロピルマレイミド、N-ラウリルマレイミド、N-フェニルマレイミドなどのマレイミド系モノマー;N-メチルイタコンイミド、N-エチルイタコンイミド、N-ブチルイタコンイミド、N-オクチルイタコンイミド、N-2-エチルヘキシルイタコンイミド、N-シクロヘキシルイタコンイミド、N-ラウリルイタコンイミドなどのイタコンイミド系モノマー;N-(メタ)アクリロイルオキシメチレンスクシンイミド、N-(メタ)アクリロイル-6-オキシヘキサメチレンスクシンイミド、N-(メタ)アクリロイル-8-オキシオクタメチレンスクシンイミドなどのスクシンイミド系モノマー;酢酸ビニル、プロピオン酸ビニルなどのビニルエステル類;N-ビニル-2-ピロリドン、N-メチルビニルピロリドン、N-ビニルピリジン、N-ビニルピペリドン、N-ビニルピリミジン、N-ビニルピペラジン、N-ビニルピラジン、N-ビニルピロール、N-ビニルイミダゾール、N-ビニルオキサゾール、N-(メタ)アクリロイル-2-ピロリドン、N-(メタ)アクリロイルピペリジン、N-(メタ)アクリロイルピロリジン、N-ビニルモルホリンなどの窒素含有複素環系モノマー;N-ビニルカルボン酸アミド類;スチレン、α-メチルスチレンなどのスチレン系モノマー;N-ビニルカプロラクタムなどのラクタム系モノマー;アクリロニトリル、メタクリロニトリルなどのシアノアクリレートモノマー;(メタ)アクリル酸グリシジルなどのエポキシ基含有アクリル系モノマー;(メタ)アクリル酸ポリエチレングリコール、(メタ)アクリル酸ポリプロピレングリコール、(メタ)アクリル酸メトキシエチレングリコール、(メタ)アクリル酸メトキシポリプロピレングリコールなどのグリコール系アクリルエステルモノマー;(メタ)アクリル酸テトラヒドロフルフリル、フッ素(メタ)アクリレート、シリコーン(メタ)アクリレートなどの複素環、ハロゲン原子、ケイ素原子などを有するアクリル酸エステル系モノマー;ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、(ポリ)エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、(ポリ)プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、ジビニルベンゼン、ブチルジ(メタ)アクリレート、ヘキシルジ(メタ)アクリレートなどの多官能モノマー;イソプレン、ブタジエン、イソブチレンなどのオレフィン系モノマー;メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテルなどのビニルエーテル系モノマー等が挙げられる。これらの単量体成分は1種又は2種以上使用することができる。
 発泡性粘着ポリマーの製造は、溶液重合、塊状重合、乳化重合及び各種ラジカル重合などの公知の製造方法を適宜選択できる。また、得られる接着性樹脂は、ランダム共重合体、ブロック共重合体、グラフト共重合体などいずれでもよい。
 なお、ラジカル重合における溶液重合においては、重合溶媒として、たとえば、酢酸エチル、トルエンなどが用いられる。具体的な溶液重合例としては、反応は窒素などの不活性ガス気流下で、重合開始剤として、たとえば、モノマー全量100重量部に対して、アゾビスイソブチロニトリル0.01~0.2重量部加え、通常、50~100℃程度で、8~30時間程度行われる。
 ラジカル重合に用いられる重合開始剤、連鎖移動剤、乳化剤などは特に限定されず適宜選択して使用することができる。
 重合開始剤としては、たとえば、2,2'-アゾビスイソブチロニトリル、2,2'-アゾビス(2-アミジノプロパン)ジヒドロクロライド、2,2'-アゾビス[2-(5-メチル-2-イミダゾリン-2-イル)プロパン]ジヒドロクロライド、2,2'-アゾビス(2-メチルプロピオンアミジン)二硫酸塩、2,2'-アゾビス(N,N'-ジメチレンイソブチルアミジン)、2,2'-アゾビス[N-(2-カルボキシエチル)-2-メチルプロピオンアミジン]ハイドレート(和光純薬工業(株)製、VA-057)などのアゾ系開始剤、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウムなどの過硫酸塩、ジ(2-エチルヘキシル)パーオキシジカーボネート、ジ(4-t-ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボネート、ジ-sec-ブチルパーオキシジカーボネート、t-ブチルパーオキシネオデカノエート、t-ヘキシルパーオキシピバレート、t-ブチルパーオキシピバレート、ジラウロイルパーオキシド、ジ-n-オクタノイルパーオキシド、1,1,3,3-テトラメチルブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート、ジ(4-メチルベンゾイル)パーオキシド、ジベンゾイルパーオキシド、t-ブチルパーオキシイソブチレート、1,1-ジ(t-ヘキシルパーオキシ)シクロヘキサン、t-ブチルハイドロパーオキシド、過酸化水素などの過酸化物系開始剤、過硫酸塩と亜硫酸水素ナトリウムの組み合わせ、過酸化物とアスコルビン酸ナトリウムの組み合わせなどの過酸化物と還元剤とを組み合わせたレドックス系開始剤などをあげることができるが、これらに限定されるものではない。
 また、重合開始剤として有機過酸化物を使用した場合には、重合反応に使用されずに残存した有機過酸化物を架橋反応に使用することも可能であるが、その場合は残存量を定量し、必要に応じて再添加し、所定の有機過酸化物量にして使用することができる。
 前記重合開始剤は、単独で使用してもよく、また2種以上を混合して使用してもよいが、全体としての含有量はモノマー100重量部に対して、0.005~1重量部程度であることが好ましく、0.02~0.6重量部程度であることがより好ましい。
 また、重合において連鎖移動剤を用いてもよい。連鎖移動剤を用いることにより、接着性樹脂の分子量を適宜調整することができる。
 連鎖移動剤としては、たとえば、ラウリルメルカプタン、グリシジルメルカプタン、メルカプト酢酸、2-メルカプトエタノール、チオグリコール酸、チオグルコール酸2-エチルヘキシル、2,3-ジメルカプト-1-プロパノールなどが挙げられる。
 これらの連鎖移動剤は、単独で使用してもよく、また2種以上を混合して使用してもよいが、全体としての含有量はモノマー100重量部に対して、0.01~0.4重量部程度である。
 また、乳化重合する場合に用いる乳化剤としては、たとえば、ラウリル硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸アンモニウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸アンモニウム、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸ナトリウムなどのアニオン系乳化剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン-ポリオキシプロピレンブロックポリマーなどのノニオン系乳化剤などが挙げられる。これらの乳化剤は、単独で用いてもよく2種以上を併用してもよい。
 さらに、反応性乳化剤として、プロペニル基、アリルエーテル基などのラジカル重合性官能基が導入された乳化剤として、具体的には、たとえば、アクアロンHS-10、HS-20、KH-10、BC-05、BC-10、BC-20(以上、いずれも第一工業製薬(株)製)、アデカリアソープSE10N((株)ADEKA製)などがある。反応性乳化剤は、重合後にポリマー鎖に取り込まれるため、耐水性がよくなり好ましい。乳化剤の使用量は、モノマー100重量部に対して、0.3~5重量部、重合安定性や機械的安定性から0.5~1重量部がより好ましい。
(その他の成分)
 本実施形態の接着性樹脂組成物は、発泡性粘着ポリマー以外の成分として、有機溶剤、架橋剤、粘着付与剤、可塑剤、充填剤、老化防止剤、酸化防止剤、着色剤(顔料や染料など)、軟化剤、光安定剤、紫外線吸収剤、重合禁止剤、無機または有機の充填剤、金属粉、粒子状物、箔状物等を含むことができる。
 有機溶剤としては、例えば、メチルエチルケトン、アセトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸n-ブチル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、シクロへキサノン、n-へキサン、n-ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、メタノール、エタノール、n-プロパノール、イソプロパノール等の有機溶剤が挙げられる。これらの溶剤は単独で使用してもよく、また2種以上を混合して使用してもよい。
 架橋剤としては、例えば、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、メラミン系架橋剤、過酸化物系架橋剤の他、尿素系架橋剤、金属アルコキシド系架橋剤、金属キレート系架橋剤、金属塩系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、アジリジン系架橋剤、アミン系架橋剤などが挙げられ、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤を好適に用いることができる。前記イソシアネート系架橋剤としては、例えば、1,2-エチレンジイソシアネート、1,4-ブチレンジイソシアネート、1,6-ヘキサメチレンジイソシアネートなどの低級脂肪族ポリイソシアネート類;シクロペンチレンジイソシアネート、シクロへキシレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、水素添加トリレンジイソシアネ-ト、水素添加キシレンジイソシアネ-トなどの脂環族ポリイソシアネート類;2,4-トリレンジイソシアネート、2,6-トリレンジイソシアネート、4,4´-ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネートなどの芳香族ポリイソシアネート類などが挙げられ、その他、トリメチロールプロパン/トリレンジイソシアネート3量体付加物[日本ポリウレタン工業(株)製、商品名「コロネートL」]、トリメチロールプロパン/ヘキサメチレンジイソシアネート3量体付加物[日本ポリウレタン工業(株)製、商品名「コロネートHL」]なども用いられる。
 前記エポキシ系架橋剤としては、例えば、N,N,N′,N′-テトラグリシジル-m-キシレンジアミン、ジグリシジルアニリン、1,3-ビス(N,N-グリシジルアミノメチル)シクロヘキサン、1,6-ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ソルビトールポリグリシジルエーテル、グリセロールポリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテル、ポリグリセロールポリグリシジルエーテル、ソルビタンポリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル、アジピン酸ジグリシジルエステル、o-フタル酸ジグリシジルエステル、トリグリシジル-トリス(2-ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、レゾルシンジグリシジルエーテル、ビスフェノール-S-ジグリシジルエーテルの他、分子内にエポキシ基を2つ以上有するエポキシ系樹脂などが挙げられる。
 粘着付与剤としては、例えば、ロジン誘導体[例えば、ロジン、重合ロジン、水添ロジンやこれらの誘導体(ロジンエステル系樹脂、水添ロジンエステル系樹脂など)など]、テルペン系樹脂(例えば、テルペン樹脂、芳香族変性テルペン樹脂、水添テルペン樹脂、テルペン-フェノール樹脂など)、フェノール系樹脂(例えば、フェノール-ホルムアルデヒド樹脂、アルキルフェノール-ホルムアルデヒド樹脂など)、石油系炭化水素樹脂[例えば、脂肪族系石油樹脂、芳香族系石油樹脂、芳香族系石油樹脂を水添した脂環族系石油樹脂(脂環族系飽和炭化水素樹脂)など]、スチレン系樹脂、クロマン系樹脂(例えば、クマロンインデン樹脂など)などが挙げられる。
(接着性樹脂組成物の製造方法)
 接着性樹脂組成物は、前記の発泡性粘着ポリマー及びその用途に応じたその他の成分を既存の方法で混合することにより得られる。混合方法については、槽攪拌による混合や混練機による混合等を用いることができる。
(接着性樹脂組成物)
 上述の製造方法により得られた接着性樹脂組成物において、メルドラム酸誘導体は、接着性樹脂100重量部に対し、0.1~50重量部、好ましくは0.5~40重量部、より好ましくは1重量部~30重量部の量で含むことができる。メルドラム酸誘導体の添加量が当該範囲より少ないと、発生する二酸化炭素ガスの発生量が少なく、メルドラム酸誘導体としての効果が得られ難いため、剥離効果が小さい。一方、メルドラム酸誘導体の添加量が当該範囲より多いと、被着物を剥がした後に当該被着物に剥離層の一部が残る、いわゆる「糊残り」の原因となる。つまり、メルドラム酸誘導体が前記範囲で含まれていれば、剥離効果に優れ、糊残りが抑制された接着性樹脂組成物を得ることができる。
 接着性樹脂組成物のガラス転移温度は、示差走査熱量分析(DSC)で測定したガラス転移点が40℃以下、好ましくは30℃以下であり、常温で接着性を有する。
<積層体>
 図1に示されるように、本実施形態の積層体10は、基材12と、基材12上に形成された本実施形態の接着性樹脂組成物からなる剥離層(接着層)14と、剥離層14上に貼着された被着物16と、からなる。
 剥離層14は、接着性樹脂組成物のみ、あるいは接着性樹脂組成物、フィルム等の基材A及び感圧粘着材Bを層構造としてもつ両面テープのような形であっても良い。その場合には、接着性樹脂組成物側を被着物16に接触するようにすることが必須となる。
 基材12および被着物16は、後述する用途によって、様々な材料から構成することができる。
 例えば、積層体10をウェハーサポートシステムに用いる場合は、基材12はガラス、SUS等の硬質基板であり、被着物16はシリコン基板(シリコンウエハ)である。
 また、積層体10をセラミックコンデンサ製造に用いる場合は、基材12はプラスチックフィルム等であり、被着物16はセラミックコンデンサである。
 本実施形態に用いられる基材12は、用途によって様々な材料から構成することができる。例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエステルフィルム等のプラスチック基材ならびに紙、不織布等の多孔質材料等が挙げられる。
 プラスチック基材としては、シート状やフィルム状に形成できるものであれば特に限定されるものでなく、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ-1-ブテン、ポリ-4-メチル-1-ペンテン、エチレン・プロピレン共重合体、エチレン・1-ブテン共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、エチレン・エチルアクリレート共重合体、エチレン・ビニルアルコール共重合体等のポリオレフィンフィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステルフィルム、ポリアクリレートフィルム、ポリスチレンフィルム、ナイロン6、ナイロン6,6、部分芳香族ポリアミド等のポリアミドフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリカーボネートフィルム等が挙げられる。
 基材12の厚みは、通常4~400μm、好ましくは4~100μm、より好ましくは25~50μm程度である。
 プラスチック基材には、必要に応じて、シリコーン系、フッ素系、長鎖アルキル系もしくは脂肪酸アミド系の離型剤、シリカ粉等による離型及び防汚処理や酸処理、アルカリ処理、プライマー処理、コロナ処理、プラズマ処理、紫外線処理等の易接着処理、塗布型、練り込み型、蒸着型等の静電防止処理をすることもできる。
 剥離層14が接着性樹脂組成物のみの場合、用途によって異なるが、接着性樹脂組成物を剥離処理したセパレーター等の支持体に塗布し、溶剤等を乾燥除去して粘着材層を形成した後基材に転写する方法、基材12に接着性樹脂組成物を塗布し、溶剤等を乾燥除去して粘着材層を基材に形成する方法等により作製される。
 接着性樹脂組成物を均一に塗布できるよう、接着性樹脂組成物中に一種以上の溶媒(溶剤)を新たに加えてもよい。
 剥離層14の膜厚は、用途により好ましい範囲が異なるものの、剥離層14が接着性樹脂組成物のみの場合、0.1~100μm程度に形成され、好ましくは1~50μm程度に形成され、さらに好ましくは5~50μm程度に形成される。
 また、接着性樹脂組成物の形成方法としては、粘着シート類の製造に用いられる公知の方法が用いられる。具体的には、例えば、ロールコーター、キスロールコーター、グラビアコーター、リバースコーター、ロールブラッシュ、スプレーコーター、ディップロールコーター、バーコーター、ナイフコーター、エアーナイフコーター、カーテンコーター、リップコーター、ダイコーター等の方法が挙げられる。
 更に、表面に接着性樹脂組成物が露出する場合には、実用に供されるまで剥離処理したシート(剥離シート、セパレーター、剥離ライナー等。以下セパレーターと呼ぶ)で剥離層14を保護してもよい。
 セパレーターの構成材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエステルフィルム等のプラスチックフィルム、紙、布、不織布等の多孔質材料、ネット、発泡シート、金属箔、及びこれらのラミネート体等の適宜な薄葉体等をあげることができるが、表面平滑性に優れる点からプラスチックフィルムが好適に用いられる。
 そのプラスチックフィルムとしては、前記接着性樹脂組成物を保護し得るフィルムであれば特に限定されず、例えば、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリブテンフィルム、ポリブタジエンフィルム、ポリメチルペンテンフイルム、ポリ塩化ビニルフィルム、塩化ビニル共重合体フィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、ポリウレタンフィルム、エチレン-酢酸ビニル共重合体フィルム等が挙げられる。
 前記セパレーターの厚みは、通常5~200μm、好ましくは5~100μm程度である。
 前記セパレーターには、必要に応じて、シリコーン系、フッ素系、長鎖アルキル系もしくは脂肪酸アミド系の離型剤、シリカ粉等による離型及び防汚処理や、塗布型、練り込み型、蒸着型等の帯電防止処理もすることもできる。特に、前記セパレーターの表面にシリコーン処理、長鎖アルキル処理、フッ素処理等の剥離処理を適宜おこなうことにより、前記粘着材層からの剥離性をより高めることができる。
 剥離層14が両面テープの場合、剥離層14の形成方法は、用途によって異なるが接着性樹脂組成物及び感圧接着剤を剥離処理したセパレーター等の支持体に塗布し、溶剤等を乾燥除去して粘着材層を形成した後、基材Aの両面に転写する方法、基材Aに接着性樹脂組成物及び感圧接着剤を塗布し、溶剤等を乾燥除去して粘着材層を基材Aの両面に形成する方法等により作製される。その際、両面テープのどちらか一方の接着面は本実施形態の接着性樹脂組成物であることが必要である。
 また、両面テープの形成方法としては、粘着シート類の製造に用いられる公知の方法が用いられる。具体的には、例えば、ロールコーター、キスロールコーター、グラビアコーター、リバースコーター、ロールブラッシュ、スプレーコーター、ディップロールコーター、バーコーター、ナイフコーター、エアーナイフコーター、カーテンコーター、リップコーター、ダイコーター等の方法が挙げられる。
 本実施形態に用いられる基材Aとしては、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエステルフィルム等のプラスチック基材ならびに紙、不織布等の多孔質材料等が挙げられる。プラスチック基材としては、シート状やフィルム状に形成できるものであれば特に限定されるものでなく、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ-1-ブテン、ポリ-4-メチル-1-ペンテン、エチレン・プロピレン共重合体、エチレン・1-ブテン共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、エチレン・エチルアクリレート共重合体、エチレン・ビニルアルコール共重合体等のポリオレフィンフィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステルフィルム、ポリアクリレートフィルム、ポリスチレンフィルム、ナイロン6、ナイロン6,6、部分芳香族ポリアミド等のポリアミドフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリカーボネートフィルム等が挙げられる。基材Aの厚みは、通常4~100μm、好ましくは25~50μm程度である。
 プラスチック基材には、必要に応じて、シリコーン系、フッ素系、長鎖アルキル系もしくは脂肪酸アミド系の離型剤、シリカ粉等による離型及び防汚処理や酸処理、アルカリ処理、プライマー処理、コロナ処理、プラズマ処理、紫外線処理等の易接着処理、塗布型、練り込み型、蒸着型等の静電防止処理をすることもできる。
 基材Aに、接着性樹脂組成物、感圧接着剤Bを形成するが、形成前の基材A表面や、接着性樹脂組成物や感圧接着剤Bの表面は、実用に供されるまで剥離処理したシート(剥離シート、セパレーター、剥離ライナー)で保護してもよい。
 セパレーターの構成材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエステルフィルム等のプラスチックフィルム、紙、布、不織布等の多孔質材料、ネット、発泡シート、金属箔、及びこれらのラミネート体等の適宜な薄葉体等をあげることができるが、表面平滑性に優れる点からプラスチックフィルムが好適に用いられる。
 そのプラスチックフィルムとしては、前記接着性樹脂組成物、感圧接着剤Bを保護し得るフィルムであれば特に限定されず、例えば、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリブテンフィルム、ポリブタジエンフィルム、ポリメチルペンテンフイルム、ポリ塩化ビニルフィルム、塩化ビニル共重合体フィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、ポリウレタンフィルム、エチレン-酢酸ビニル共重合体フィルム等が挙げられる。
 前記セパレーターの厚みは、通常5~200μm、好ましくは5~100μm程度である。
 前記セパレーターには、必要に応じて、シリコーン系、フッ素系、長鎖アルキル系もしくは脂肪酸アミド系の離型剤、シリカ粉等による離型及び防汚処理や、塗布型、練り込み型、蒸着型等の帯電防止処理もすることもできる。特に、前記セパレーターの表面にシリコーン処理、長鎖アルキル処理、フッ素処理等の剥離処理を適宜行うことにより、前記粘着剤層からの剥離性をより高めることができる。
 剥離層14が両面テープの場合、接着性樹脂組成物の膜厚は、用途により好ましい範囲が異なるものの0.1~100μm程度に形成され、好ましくは1~50μm程度に形成され、さらに好ましくは5~50μm程度に形成される。
 感圧接着剤Bとして、天然ゴムやポリイソブチレンゴム、スチレン・ブタジエンゴム、スチレン・イソプレン・スチレンブロック共重合体ゴム、再生ゴム、ブチルゴム、ポリイソブチレンゴム、NBRなどのゴム系ポリマーをベースポリマーに用いたゴム系感圧接着剤;シリコーン系感圧接着剤;ウレタン系感圧接着剤;アクリル酸やメタクリル酸のアルキルエステルを成分とするアクリル系重合体をベースポリマーに用いたアクリル系感圧接着剤等を挙げることができる。母剤は1種、又は2種以上の成分で構成してもよい。特に好ましくは、アクリル系感圧接着剤である。
 感圧接着剤Bの膜厚は、用途により好ましい範囲が異なるものの5~50μm程度に形成される。
 剥離層14は、本実施形態の接着性樹脂組成物にメルドラム酸誘導体等がメルドラム酸誘導体として含まれていればよく、メルドラム酸誘導体と接着性樹脂とが化学的に結合していてもよい。
 基材12と剥離層14の間に、凹凸吸収層、衝撃吸収層など、別の層を含んでもよい。
 剥離層14が、接着性樹脂組成物、フィルム等の基材A及び感圧粘着材Bを層構造としてもつ両面テープのような形の場合、接着性樹脂組成物とフィルム等の基材Aの間や、基材Aと感圧粘着材Bの間に、凹凸吸収層、衝撃吸収層など、別の層を含んでもよい。
 凹凸吸収層、衝撃吸収層の材料として、天然ゴムやポリイソブチレンゴム、スチレン・ブタジエンゴム、スチレン・イソプレン・スチレンブロック共重合体ゴム、再生ゴム、ブチルゴム、ポリイソブチレンゴム、NBRなどのゴム系ポリマーをベースポリマーに用いたゴム系樹脂組成物;シリコーン系樹脂組成物;ウレタン系樹脂組成物;アクリル酸やメタクリル酸のアルキルエステルを成分とするアクリル系重合体をベースポリマーに用いたアクリル系樹脂組成物;エチレン・プロピレン共重合体、エチレン・1-ブテン共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、エチレン・エチルアクリレート共重合体、エチレン・ビニルアルコール共重合体等をベースポリマーに用いたポリオレフィン系樹脂組成物等を挙げることができる。
 凹凸吸収層、衝撃吸収層の厚みは、凹凸や衝撃が吸収できる厚さであればよい。用途に応じて適切な厚さになるように形成する。
 剥離層14上に被着物16を貼着する前まで、剥離層14が露出しないように、剥離処理したシート(剥離シート、セパレーター、剥離ライナー)で剥離層14を保護してもよい。
 剥離層14を形成した後、剥離層14上に被着物16を貼着する。被着物16は予め作成されていてもよく、ベース材を剥離層14上に貼着した後、ベース材上に形成することもできる。
 被着物16は、予め作製されたものを剥離層14と貼着してもよいし、剥離層14上で形成してもよい。被着物16は、単層構造のものでも多層構造のものでもよい。多層構造の場合、剥離層14上で多層積層して多層構造を形成してもよい。
<自己剥離方法>
 本実施形態の自己剥離方法は、上述の積層体10を用いた方法である。
 具体的には、積層体10を、メルドラム酸誘導体が分解する温度以上に加熱することにより、剥離層14に含まれるメルドラム酸誘導体から二酸化炭素ガス等を発生させ、剥離層14と被着物16との界面における剥離層14の接着強度を低下させる工程を備える。
 所定の温度以上に加熱すると、メルドラム酸誘導体が分解し、二酸化炭素やアセトンからなるガスを発生しながら、ケテン類が発生する。発生したガスにより剥離層14が発泡することで、剥離層14と被着物16接着面積が少なくなり、接着強度が低下すると考えられる。さらに、発生した二酸化炭素の圧力も剥離に寄与すると考えられる。また、発生したケテン類は反応性が高く、剥離層14を構成する接着性樹脂等の硬化または縮合を生じさせる。これにより、接着性樹脂の弾性率が上昇し、接着強度を低下させることができると考えられる。
 このように、剥離層14の接着強度を低下させることができ、基材12に損傷を与えることなく被着物16を容易に剥がすことができる。本実施形態の積層体を用いることにより、自己剥離性に優れ、被着物16を基板に対して垂直方向に容易に剥離させることができる。
 なお、加熱によって発生した二酸化炭素ガス等は、剥離後に剥離層14中にある程度残留していても構わない。
 被着物16を剥離するために必要なガス発生量は、被着物16の材料や構造によって適宜異なるものの、本実施形態の接着性樹脂組成物はメルドラム酸誘導体の添加量やその構造を変えることにより適切なガス発生量に調整することができる。
 例えば、基材12としてガラス板を用い、被着物16としてシリコンウエハを用い、剥離層14を介してこれらを接着した場合、被着物16を剥離するには、2×10-3mL/cm以上、好ましくは5×10-3mL/cm以上、より好ましくは10×10-3mL/cm以上のガス発生量であり、さらに好ましくは20×10-3mL/cm以上の量となるようにガスを発生させる必要がある。
 被着物16を剥離するに際して積層体10を加熱する温度は、メルドラム酸誘導体が分解する温度以上である。かかる温度は、被着物16を剥離層14に接着する時の温度や、製造工程中で必要なプロセス温度よりも高ければ、特に限定されない。加熱温度の上限は、被着物16の特性や、基材12を樹脂フィルムとした場合のフィルム物性に、影響を及ぼさない程度の温度である。具体的には、加熱温度は、50℃~350℃、好ましくは50℃~300℃、より好ましくは50℃~250℃の範囲である。
<用途>
 本実施形態の積層体10は、基材12と被着物16とを、メルドラム酸誘導体を含有する剥離層14を介して貼着した後に、被着物16を剥離層14から容易に剥離することが要求される種々の用途に好ましく用いることができる。その例としては、金属板やプラスチック板、ガラス板などの汚損防止等を目的とした表面保護材やマスキング材などが挙げられる。
 また、セラミックコンデンサ、発振子、抵抗の如き電気部品や、液晶セル、プラズマディスプレイの如き表示デバイス、あるいは太陽電池、サーマルヘッド、プリント基板(フレキシブルタイプを含む)、半導体チップの如き電子部品などの種々の物品を製造する際などにおいて、その部品ないし物品や材料等を被着物として仮止めしたり、固定したりすることができる。あるいは、キャリヤテープなどとしての用途も挙げられる。キャリヤテープとしての用途では、加工工程や出荷等の際に、剥離層で半導体や電子部品等の被着物を所定の間隔で接着保持した形態にする。
 特に、半導体プロセスにおける保護フィルムの接着層や、ウエハの固定に適しており、WSS(Wafer Support System)やe-WLP(Embedded Wafer Level Packages)等に好適に用いることができる。
 本実施形態の接着性樹脂組成物を用いた用途としては、上記のように様々なものを挙げることができ、具体的には、ダイシング方法や、半導体パッケージの製造方法等に適用することができる。
 本実施形態のダイシング方法は、前述の接着性樹脂組成物によって被着物を支持体に固定する工程と、前記被着物をダイシングする工程と、熱を加えることによって個片化された前記被着物を前記支持体から剥離させる工程と、を有する。
 まず、支持体に接着性樹脂組成物を所定の手段により塗布し、この塗布面に被着物を固着することにより、被着物を支持体に固定する。
 被着物としては、シリコンウエハ、サファイア基板、金属基板、セラミックコンデンサ等を挙げることができる。支持体としては、ガラス板、SUSや鉄等の金属基板、シリコンウエハ、サファイア基板等を挙げることができる。ダイシング方法は、公知の方法を用いることができる。
 そして、前述のような温度範囲で熱を加えることによって、個片化された前記被着物、例えば半導体チップを前記支持体から剥離させる。
 このように、本実施形態の接着性樹脂組成物によって被着物を支持体に固定しており、ダイシング工程時には被着物を確実に保護することができ、剥離工程を加熱という簡便な方法で行うことができるため、生産効率に優れる。さらに、剥離工程における被着物の汚れが軽減されており、製品の歩留まりが向上する。
 本実施形態の半導体パッケージの製造方法は、具体的には、前述の接着性樹脂組成物によって支持体に半導体チップを固定する工程と、前記半導体チップを樹脂で封止する工程と、熱を加えることによって前記支持体から、樹脂で封止された半導体チップを剥離する工程と、を有する。
 まず、支持体に接着性樹脂組成物を所定の手段により塗布し、この塗布面に半導体チップを固着することにより、半導体チップを支持体に固定する。
 支持体としては、ガラス板、SUSや鉄等の金属基板、シリコンウエハ、サファイア基板等を挙げることができる。
 封止工程は、従来公知の方法により行うことができ、さらに封止樹脂は公知のものを用いることができる。
 そして、前述のような温度範囲で熱を加えることによって、前記支持体から、樹脂で封止された半導体チップを剥離させ、半導体パッケージを得ることができる。
 このように、本実施形態の接着性樹脂組成物によって半導体パッケージを支持体に固定しており、封止工程時には半導体パッケージを支持体に確実に固定することができ、剥離工程を加熱という簡便な方法で行うことができるため、生産効率に優れる。さらに、剥離工程における半導体チップへの汚れが軽減されており、製品の歩留まりが向上する。
 また、基材層と、前記基材層上に形成された、本実施形態の接着性樹脂組成物を含む剥離層とを備えるテープとして、様々な用途に用いることができる。
 本実施形態におけるテープは、基材フィルム上に、本実施形態の接着性樹脂組成物を塗布して剥離層を形成することにより得ることができる。
 なお、基材層となる基材フィルムは、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ-1-ブテン、ポリ-4-メチル-1-ペンテン、エチレン・プロピレン共重合体、エチレン・1-ブテン共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、エチレン・エチルアクリレート共重合体、エチレン・ビニルアルコール共重合体等のポリオレフィン系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリアクリレート、ポリスチレン、ナイロン6、ナイロン6,6、部分芳香族ポリアミド等のポリアミド系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリカーボネート樹脂等及びこれらの混合物などからなる。基材層は単層または2層以上の積層体とすることもできる。なお、基材フィルムには、剥離層との密着性を向上させる目的で、コロナ放電処理、プラズマ処理、クロム酸処理、サンドブラスト、溶剤処理等の表面処理などを行ってもよい。
 基材層および剥離層の厚さは、用途に応じて適宜選択することができる。
 上記構成を有する本実施形態のテープは、具体的には、基板の研磨、めっき方法等に用いることができる。
 本実施形態のテープを用いた基板の研磨方法は、具体的には、前記テープを、前記剥離層を介して基板の被研磨面の裏面上に貼り付ける工程と、前記基板の被研磨面を研磨する工程と、研磨工程後、前記テープの前記剥離層に熱を加えて前記裏面から前記テープを剥離する工程と、を有する。
 基板としては、シリコンウエハ、サファイア基板、金属基板等を挙げることができる。
 被研磨面の研磨工程は、砥粒やダイヤモンドホイール等を用いて、従来公知の方法により行うことができる。そして、前述のような温度範囲で熱を加えることによって、基板の被研磨面の裏面から、テープを剥離させる。
 本実施形態の基板の研磨方法は、前述の接着性樹脂組成物を含む剥離層を備えるテープを用いており、バックグラインド工程時には基板の裏面を確実に保護することができ、テープ剥離工程を加熱という簡便な方法で行うことができる。さらに、剥離時において基板へのストレスが抑制されているため、極薄基板においても基板の反りが軽減される。またさらに、剥離工程における基板の汚れが軽減されており、製品の歩留まりが向上する。
 本実施形態のテープを用いためっき方法は、具体的には、前記テープを、被めっき体のめっきしない箇所に貼り付ける工程と、前記被めっき体をめっき処理する工程と、めっき処理工程後、前記被めっき体に貼り付けられている前記テープの剥離層に熱を加えて前記テープを剥離する工程と、を有する。
 被めっき体としては、金属基板等を挙げることができ、めっき方法は公知の方法により行うことができる。
 本実施形態のめっき方法は、前述の接着性樹脂組成物を含む剥離層を備えるテープを用いており、被めっき体のめっきしない箇所をめっき時には確実に保護することができ、テープ剥離工程を加熱という簡便な方法で行うことができる。さらに、剥離工程における基板の汚れが軽減されており、製品の歩留まりが向上する。
 さらに、本実施形態における前記テープは、QFN(Quad Flat Non-Leaded Package)用アセンブリテープ等に適用することもできる。
 以上、図面を参照して本発明の第1の実施形態について述べたが、これらは本発明の例示であり、前記以外の様々な構成を採用することもできる。
[第2の実施形態]
<接着性樹脂組成物>
 本実施形態の接着性樹脂組成物は、上記一般式(1)で表されるメルドラム酸誘導体と、接着性樹脂と、を含んでなる。
(メルドラム酸誘導体)
 本実施形態において、メルドラム酸誘導体は第1の実施形態と同様のものを用いることができる。
 なお、本実施形態においては、R、R、R、R、RとRとが互いに結合して形成される環構造およびRとRとが互いに結合して形成される環構造の少なくとも1つが、置換基として、第1の実施形態において例示されるような反応性官能基を有していてもより。
 本実施形態において用いられるメルドラム酸誘導体としては、二酸化炭素ガス等を発生することができる構造を有するものを用いることができる。具体的には以下のものを挙げることができる。
1.R、Rがいずれもメチル基であるメルドラム酸誘導体
2.Rがメチル基、Rがエチル基であるメルドラム酸誘導体
3.R、Rがいずれもエチル基であるメルドラム酸誘導体
4.RとRが互いに結合して形成されたシクロペンチル基を有するメルドラム酸誘導体
1.R、Rがいずれもメチル基であるメルドラム酸誘導体
 当該メルドラム酸誘導体としては、2,2-ジメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン、2,2,5-トリメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン、5-エチル-2,2-ジメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン、5-ベンジル-2,2-ジメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン、5-フェニル-2,2-ジメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン、2,2,5,5-テトラメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン、5-エチル-2,2,5-トリメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン、5-ベンジル-2,2,5-トリメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン、5-フェニル-2,2,5-トリメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン、5,5-ジエチル-2,2-ジメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン、5-ベンジル-5-エチル-2,2-ジメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン、5-フェニル-5-エチル-2,2-ジメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン、5,5-ジベンジル-2,2-ジメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン、5-フェニル-5-ベンジル-2,2-ジメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン等を挙げることができる。
2.Rがメチル基、Rがエチル基であるメルドラム酸誘導体
 当該メルドラム酸誘導体としては、2-エチル-2-メチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン、2-エチル-2,5-ジメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン、2、5-ジエチル-2-メチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン、5-ベンジル-2-エチル-2-メチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン、5-フェニル-2-エチル-2-メチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン、2-エチル-2,5,5-トリメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン、2,5-ジエチル-2,5-ジメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン、5-ベンジル-2-エチル-2,5-ジメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン、2-エチル-5-フェニル-2,5-ジメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン、2,5,5-トリエチル-2-メチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン、5-ベンジル-2,5-ジエチル-2-メチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン、5-フェニル-2,5-ジエチル-2-メチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン、5,5-ジベンジル-5-エチル-2-ジメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン、5-フェニル-5-ベンジル-2-エチル-2-メチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン、5-(p-スチリルメチル)-2-エチル-2,5-ジメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン等を挙げることができる。
3.R、Rがいずれもエチル基であるメルドラム酸誘導体
 当該メルドラム酸誘導体としては、2,2-ジエチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン、5-メチル-2,2-ジエチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン、2,2,5-トリエチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン、5-ベンジル-2,2-ジエチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン、5-フェニル-2,2-ジエチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン、5,5-ジメチル-2,2-ジエチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン、5-メチル-2,2,5-トリエチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン、5-ベンジル-5-メチル-2,2,-ジエチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン、5-フェニル-5-メチル-2,2-ジエチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン、2,2,5,5-テトラエチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン、5-ベンジル-2,2,5-トリエチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン、5-フェニル-2,2,5-トリエチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン、5,5-ジベンジル-2,2-ジエチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン、5-フェニル-5-ベンジル-2,2-ジエチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン、5-(p-スチリルメチル)-2,2-ジエチル-5-メチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン等を挙げることができる。
4.RとRが互いに結合して形成されたシクロペンチル基を有するメルドラム酸誘導体
 当該メルドラム酸誘導体としては、スピロ-[4,5]-6,10-ジオキサデカン-7,9-ジオン、8-メチル-スピロ-[4,5]-6,10-ジオキサデカン-7,9-ジオン、8-エチル-スピロ-[4,5]-6,10-ジオキサデカン-7,9-ジオン、8-ベンジル-スピロ-[4,5]-6,10-ジオキサデカン-7,9-ジオン、8-フェニル-スピロ-[4,5]-6,10-ジオキサデカン-7,9-ジオン、8,8-ジメチル-スピロ-[4,5]-6,10-ジオキサデカン-7,9-ジオン、8-エチル-8-メチル-スピロ-[4,5]-6,10-ジオキサデカン-7,9-ジオン、8-ベンジル-8-メチル-スピロ-[4,5]-6,10-ジオキサデカン-7,9-ジオン、8-フェニル-8-メチル-スピロ-[4,5]-6,10-ジオキサデカン-7,9-ジオン、8,8-ジエチル-スピロ-[4,5]-6,10-ジオキサデカン-7,9-ジオン、8-ベンジル-8-エチル-スピロ-[4,5]-6,10-ジオキサデカン-7,9-ジオン、8-フェニル-8-エチル-スピロ-[4,5]-6,10-ジオキサデカン-7,9-ジオン、8,8-ジベンジル-スピロ-[4,5]-6,10-ジオキサデカン-7,9-ジオン、8-ベンジル-8-フェニル-スピロ-[4,5]-6,10-ジオキサデカン-7,9-ジオン、8-(p-スチリルメチル)-8-メチル-6,10-ジオキサスピロ[4,5]デカン-7,9-ジオン等を挙げることができる。
 本実施形態においては、上記のうちでも、2-エチル-2,5-ジメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン、8-メチル-6,10-ジオキサスピロ[4,5]デカン-7,9-ジオン、2,2,5,5-テトラメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン、5-ベンジル-2,2,5-トリメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン、2-エチル-2,5,5-トリメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン、8,8-ジメチル-6,10-ジオキサスピロ[4,5]デカン-7,9-ジオン、5-ベンジル-2-エチル-2,5-ジメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン、8-ベンジル-8-メチル-6,10-ジオキサスピロ[4,5]デカン-7,9-ジオンを用いることが好ましい。
(接着性樹脂)
 接着性樹脂は、剥離時の加熱温度未満では接着性を保持し、融解や分解などが生じない耐熱性を有するものを用いることができる。接着性樹脂は、示差走査熱量分析(DSC)で測定したガラス転移点が40℃以下、好ましくは30℃以下であり、常温で接着性を有する。例えば、従来公知の感圧接着剤(粘着材)等の粘着物質を使用することができる。
 感圧接着剤として、天然ゴムやポリイソブチレンゴム、スチレン・ブタジエンゴム、スチレン・イソプレン・スチレンブロック共重合体ゴム、再生ゴム、ブチルゴム、ポリイソブチレンゴム、NBRなどのゴム系ポリマーをベースポリマーに用いたゴム系感圧接着剤;シリコーン系感圧接着剤;ウレタン系感圧接着剤;アクリル系感圧接着剤等を挙げることができる。母剤は1種、又は2種以上の成分で構成してもよい。特に好ましくは、アクリル系感圧接着剤である。
 アクリル系感圧接着剤としては、(メタ)アクリル酸アルキルエステルの1種又は2種以上を単量体成分として用いたアクリル系重合体(単独重合体又は共重合体)をベースポリマーとするアクリル系粘着材が挙げられる。前記アクリル系感圧接着剤における(メタ)アクリル酸アルキルエステルとしては、例えば、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリル酸イソプロピル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸s-ブチル、(メタ)アクリル酸t-ブチル、(メタ)アクリル酸ペンチル、(メタ)アクリル酸ヘキシル、(メタ)アクリル酸ヘプチル、(メタ)アクリル酸オクチル、(メタ)アクリル酸2-エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸イソオクチル、(メタ)アクリル酸ノニル、(メタ)アクリル酸イソノニル、(メタ)アクリル酸デシル、(メタ)アクリル酸イソデシル、(メタ)アクリル酸ウンデシル、(メタ)アクリル酸ドデシル、(メタ)アクリル酸トリデシル、(メタ)アクリル酸テトラデシル、(メタ)アクリル酸ペンタデシル、(メタ)アクリル酸ヘキサデシル、(メタ)アクリル酸ヘプタデシル、(メタ)アクリル酸オクタデシル、(メタ)アクリル酸ノナデシル、(メタ)アクリル酸エイコシルなどの(メタ)アクリル酸C1-20アルキルエステルを挙げることができる。好ましくは(メタ)アクリル酸C4-18アルキル(直鎖状又は分岐鎖状のアルキル)エステルである。
 なお、前記アクリル系感圧接着剤は、凝集力、耐熱性、架橋性などの改質を目的として、必要に応じて、前記(メタ)アクリル酸アルキルエステルと共重合可能な他の単量体成分に対応する単位を含んでいてもよい。このような単量体成分として、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、カルボキシエチルアクリレート、カルボキシペンチルアクリレート、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸などのカルボキシル基含有モノマー;無水マレイン酸、無水イタコン酸などの酸無水物基含有モノマー;(メタ)アクリル酸ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシブチル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシヘキシル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシオクチル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシデシル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシラウリル、(4-ヒドロキシメチルシクロヘキシル)メチルメタクリレートなどのヒドロキシル基含有モノマー;スチレンスルホン酸、アリルスルホン酸、2-(メタ)アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸、(メタ)アクリルアミドプロパンスルホン酸、スルホプロピル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロイルオキシナフタレンスルホン酸などのスルホン酸基含有モノマー;2-ヒドロキシエチルアクリロイルホスフェートなどのリン酸基含有モノマー;(メタ)アクリルアミド、N,N-ジメチル(メタ)アクリルアミド、N,N-ジエチル(メタ)アクリルアミド、N-イソプロピル(メタ)アクリルアミド、N-ブチル(メタ)アクリルアミド、N-メチロール(メタ)アクリルアミド、N-メチロールプロパン(メタ)アクリルアミドなどの(N-置換)アミド系モノマー;(メタ)アクリル酸アミノエチル、(メタ)アクリル酸N,N-ジメチルアミノエチル、(メタ)アクリル酸t-ブチルアミノエチルなどの(メタ)アクリル酸アミノアルキル系モノマー;(メタ)アクリル酸メトキシエチル、(メタ)アクリル酸エトキシエチルなどの(メタ)アクリル酸アルコキシアルキル系モノマー;N-シクロヘキシルマレイミド、N-イソプロピルマレイミド、N-ラウリルマレイミド、N-フェニルマレイミドなどのマレイミド系モノマー;N-メチルイタコンイミド、N-エチルイタコンイミド、N-ブチルイタコンイミド、N-オクチルイタコンイミド、N-2-エチルヘキシルイタコンイミド、N-シクロヘキシルイタコンイミド、N-ラウリルイタコンイミドなどのイタコンイミド系モノマー;N-(メタ)アクリロイルオキシメチレンスクシンイミド、N-(メタ)アクリロイル-6-オキシヘキサメチレンスクシンイミド、N-(メタ)アクリロイル-8-オキシオクタメチレンスクシンイミドなどのスクシンイミド系モノマー;酢酸ビニル、プロピオン酸ビニルなどのビニルエステル類;N-ビニル-2-ピロリドン、N-メチルビニルピロリドン、N-ビニルピリジン、N-ビニルピペリドン、N-ビニルピリミジン、N-ビニルピペラジン、N-ビニルピラジン、N-ビニルピロール、N-ビニルイミダゾール、N-ビニルオキサゾール、N-(メタ)アクリロイル-2-ピロリドン、N-(メタ)アクリロイルピペリジン、N-(メタ)アクリロイルピロリジン、N-ビニルモルホリンなどの窒素含有複素環系モノマー;N-ビニルカルボン酸アミド類;スチレン、α-メチルスチレンなどのスチレン系モノマー;N-ビニルカプロラクタムなどのラクタム系モノマー;アクリロニトリル、メタクリロニトリルなどのシアノアクリレートモノマー;(メタ)アクリル酸グリシジルなどのエポキシ基含有アクリル系モノマー;(メタ)アクリル酸ポリエチレングリコール、(メタ)アクリル酸ポリプロピレングリコール、(メタ)アクリル酸メトキシエチレングリコール、(メタ)アクリル酸メトキシポリプロピレングリコールなどのグリコール系アクリルエステルモノマー;(メタ)アクリル酸テトラヒドロフルフリル、フッ素(メタ)アクリレート、シリコーン(メタ)アクリレートなどの複素環、ハロゲン原子、ケイ素原子などを有するアクリル酸エステル系モノマー;ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、(ポリ)エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、(ポリ)プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、ジビニルベンゼン、ブチルジ(メタ)アクリレート、ヘキシルジ(メタ)アクリレートなどの多官能モノマー;イソプレン、ブタジエン、イソブチレンなどのオレフィン系モノマー;メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテルなどのビニルエーテル系モノマー等が挙げられる。これらの単量体成分は1種又は2種以上使用することができる。
 アクリル系感圧接着剤の製造は、溶液重合、塊状重合、乳化重合及び各種ラジカル重合などの公知の製造方法を適宜選択できる。また、得られる接着性樹脂は、ランダム共重合体、ブロック共重合体、グラフト共重合体などいずれでもよい。
 なお、ラジカル重合における溶液重合においては、重合溶媒として、たとえば、酢酸エチル、トルエンなどが用いられる。具体的な溶液重合例としては、反応は窒素などの不活性ガス気流下で、重合開始剤として、たとえば、モノマー全量100重量部に対して、アゾビスイソブチロニトリル0.01~0.2重量部加え、通常、50~100℃程度で、8~30時間程度行われる。
 ラジカル重合に用いられる重合開始剤、連鎖移動剤、乳化剤などは特に限定されず適宜選択して使用することができる。
 重合開始剤としては、たとえば、2,2'-アゾビスイソブチロニトリル、2,2'-アゾビス(2-アミジノプロパン)ジヒドロクロライド、2,2'-アゾビス[2-(5-メチル-2-イミダゾリン-2-イル)プロパン]ジヒドロクロライド、2,2'-アゾビス(2-メチルプロピオンアミジン)二硫酸塩、2,2'-アゾビス(N,N'-ジメチレンイソブチルアミジン)、2,2'-アゾビス[N-(2-カルボキシエチル)-2-メチルプロピオンアミジン]ハイドレート(和光純薬工業(株)製、VA-057)などのアゾ系開始剤、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウムなどの過硫酸塩、ジ(2-エチルヘキシル)パーオキシジカーボネート、ジ(4-t-ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボネート、ジ-sec-ブチルパーオキシジカーボネート、t-ブチルパーオキシネオデカノエート、t-ヘキシルパーオキシピバレート、t-ブチルパーオキシピバレート、ジラウロイルパーオキシド、ジ-n-オクタノイルパーオキシド、1,1,3,3-テトラメチルブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート、ジ(4-メチルベンゾイル)パーオキシド、ジベンゾイルパーオキシド、t-ブチルパーオキシイソブチレート、1,1-ジ(t-ヘキシルパーオキシ)シクロヘキサン、t-ブチルハイドロパーオキシド、過酸化水素などの過酸化物系開始剤、過硫酸塩と亜硫酸水素ナトリウムの組み合わせ、過酸化物とアスコルビン酸ナトリウムの組み合わせなどの過酸化物と還元剤とを組み合わせたレドックス系開始剤などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
 また、重合開始剤として有機過酸化物を使用した場合には、重合反応に使用されずに残存した有機過酸化物を架橋反応に使用することも可能であるが、その場合は残存量を定量し、必要に応じて再添加し、所定の有機過酸化物量にして使用することができる。
 前記重合開始剤は、単独で使用してもよく、また2種以上を混合して使用してもよいが、全体としての含有量はモノマー100重量部に対して、0.005~1重量部程度であることが好ましく、0.02~0.6重量部程度であることがより好ましい。
 また、重合において連鎖移動剤を用いてもよい。連鎖移動剤を用いることにより、接着性樹脂の分子量を適宜調整することができる。
 連鎖移動剤としては、たとえば、ラウリルメルカプタン、グリシジルメルカプタン、メルカプト酢酸、2-メルカプトエタノール、チオグリコール酸、チオグルコール酸2-エチルヘキシル、2,3-ジメルカプト-1-プロパノールなどがあげられる。
 これらの連鎖移動剤は、単独で使用してもよく、また2種以上を混合して使用してもよいが、全体としての含有量はモノマー100重量部に対して、0.01~0.4重量部程度である。
 また、乳化重合する場合に用いる乳化剤としては、たとえば、ラウリル硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸アンモニウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸アンモニウム、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸ナトリウムなどのアニオン系乳化剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン-ポリオキシプロピレンブロックポリマーなどのノニオン系乳化剤などがあげられる。これらの乳化剤は、単独で用いてもよく2種以上を併用してもよい。
 さらに、反応性乳化剤として、プロペニル基、アリルエーテル基などのラジカル重合性官能基が導入された乳化剤として、具体的には、たとえば、アクアロンHS-10、HS-20、KH-10、BC-05、BC-10、BC-20(以上、いずれも第一工業製薬(株)製)、アデカリアソープSE10N((株)ADEKA製)などがある。反応性乳化剤は、重合後にポリマー鎖に取り込まれるため、耐水性がよくなり好ましい。乳化剤の使用量は、モノマー100重量部に対して、0.3~5重量部、重合安定性や機械的安定性から0.5~1重量部がより好ましい。
 剥離時の加熱によって接着性樹脂自体の架橋反応が進み、接着性能が低下する接着性樹脂を用いることができる。その場合、剥離時の温度未満では接着性が低下しない点を考慮する必要がある。
(その他の成分)
 本実施形態の接着性樹脂組成物は、その他の成分として、第1の実施形態と同様のものを用いることができる。
(接着性樹脂組成物の製造方法)
 接着性樹脂組成物は、前記の接着性樹脂及びその用途に応じたその他の成分とメルドラム酸誘導体を既存の方法で混合することにより得られる。混合方法については、槽攪拌による混合や混練機による混合等を用いることができる。
(接着性樹脂組成物)
 上述の製造方法により得られた接着性樹脂組成物において、メルドラム酸誘導体は、接着性樹脂100重量部に対し、0.1~50重量部、好ましくは0.5~40重量部、より好ましくは1重量部~30重量部の量で含むことができる。発泡剤(メルドラム酸誘導体)の添加量が当該範囲より少ないと、発生する二酸化炭素ガスの発生量が少なく、発泡剤としての効果が得られ難いため、剥離効果が小さい。一方、発泡剤の添加量が当該範囲より多いと、被着物を剥がした後に当該被着物に剥離層の一部が残る、いわゆる「糊残り」の原因となる。つまり、メルドラム酸誘導体が上記範囲で含まれていれば、剥離効果に優れ、糊残りが抑制された接着性樹脂組成物を得ることができる。
<積層体、自己剥離方法、用途>
 図1に示される本実施形態の積層体10は、本実施形態の接着性樹脂組成物からなる剥離層14を用いた以外は、第1の実施形態と同様の構造を有する。
 本実施形態の自己剥離方法は、上述の積層体10を用いる以外は、第1の実施形態と同様に行うことができる。
 本実施形態の接着性樹脂組成物や積層体10は、第1の実施形態と同様の用途に適用することができる。
 以上、図面を参照して本発明の第2の実施形態について述べたが、これらは本発明の例示であり、上記以外の様々な構成を採用することもできる。
 以下、第1の実施例、第2の実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例等に限定されるものではない。
[第1の実施例]
(製造例A1)
 500mL4口フラスコにメチルマロン酸(東京化成工業(株)製)100g及び無水酢酸100gを装入した。98%硫酸0.5gを続けて装入した後、滴下漏斗にてメチルエチルケトン75gを1時間かけて滴下した。室温にて24時間攪拌した後、酢酸エチル200g及び蒸留水300gを加えて分液ロートで有機層の抽出を行った。得られた有機層をエバポレーターで溶媒を留去することで、2-エチル-2,5-ジメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオンが75g得られた。HNMR(300MHz)を測定したところ、以下のようなピークが得られた。δ=1.04-1.12(m,3H),1.57-1.61(m,3H),1.71(s,1.12H),1.77(s,1.92H),1.95-2.16(m,2H),3.53-5.65(m,1H)
(製造例A2)
 製造例A1のメチルエチルケトン75gをシクロペンタノン80gに変更する以外は製造例A1の通り実施することで、8-メチル-6,10-ジオキサスピロ[4,5]デカン-7,9-ジオンが80g得られた。HNMR(300MHz)を測定したところ、以下のようなピークが得られた。δ=1.53(d,5.4Hz,3H),1.84-1.97(m,4H),2.21-2.27(m,4H),3.63(q,5.4Hz,1H)
(製造例A3)
 500mL4口フラスコに2,2,5-トリメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン(東京化成工業(株)製)100g及びジメチルホルムアミド100gを装入した。炭酸カリウム95gを続けて装入した後、滴下漏斗にて4-クロロメチルスチレン97gを1時間かけて滴下した。40度にて24時間攪拌した後、酢酸エチル400gを加えヌッチェで生成した固体を濾別した。蒸留水300mLを用いて、分液ロートで2回洗浄を行った後、エバポレーターで溶媒を留去することで、5-(p-スチリルメチル)-2,2,5-トリメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオンが150g得られた。HNMR(300MHz)を測定したところ、以下のようなピークが得られた。δ=0.97(s,3H),1.60(s,3H),1.75(s,3H),3.31(s,2H),5.22(d,12.0Hz,1H),5.70(d,19.5Hz,1H),6.65(dd,12.0,19.5Hz,1H),7.13(d,9.0Hz,2H),7.31(d,9.0Hz,2H)
(製造例A4)
 2,2,5-トリメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン100gを製造例A1で合成した2-エチル-2,5-ジメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン92gに変更する以外は製造例A3に従い実施することで、5-(p-スチリルメチル)-2-エチル-2,5-ジメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオンが132g得られた。HNMR(300MHz)を測定したところ、以下のようなピークが得られた。δ=0.43(t,8.1Hz,1.6H),0.83(s,1.3H),0.94(t,8.1Hz,1.4H),1.27(q,8.1Hz,1.2H),1.57(s,1.7H),1.75(s,3H),1.80(q,8.1Hz,0.8H),3.31(s,2H),5.22(d,12.0Hz,1H),5.70(d,19.5Hz,1H),6.65(dd,12.0,19.5Hz,1H),7.16(d,9.0Hz,2H),7.31(d,9.0Hz,2H)
(製造例A5)
 2,2,5-トリメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン100gを製造例A2で合成した8-メチル-6,10-ジオキサスピロ[4,5]デカン-7,9-ジオン85gに変更する以外は製造例A3に従い実施することで、8-(p-スチリルメチル)-8-メチル-6,10-ジオキサスピロ[4,5]デカン-7,9-ジオンが125g得られた。HNMR(300MHz)を測定したところ、以下のようなピークが得られた。δ=1.28-1.38(m,2H),1.56-1.82(m,4H),1.74(s,3H),2.00-2.05(m,2H),3.32(s,2H),5.22(d,12.0Hz,1H),5.70(d,12.0Hz,1H),6.66(dd,12.0,19.5Hz,1H),7.13(d,9.0Hz,2H),7.31(d,9.0Hz,2H)
(製造例A6)
 製造例A1のメチルエチルケトン75gをジエチルケトン80gに変更する以外は製造例A1の通り実施することで、2,2-ジエチル-5-メチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオンが80g得られた。H1NMR(300MHz)を測定したところ、以下のようなピークが得られた。δ=1.04(q,8.1Hz,6H),1.58(d,7.8Hz,3H),1.96(s,8.1Hz,2H),2.05(s,8.1Hz,2H),3.57(q,5.4Hz,1H)
(製造例A7)
 2,2,5-トリメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン100gを製造例A1で合成した2,2-ジエチル-5-メチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン85gに変更する以外は製造例A3に従い実施することで、5-(p-スチリルメチル)-2,2-ジエチル-5-メチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオンが132g得られた。H1NMR(300MHz)を測定したところ、以下のようなピークが得られた。δ=0.40(t,8.1Hz,3H),0.94(t,8.1Hz,3H),1.14(q,8.1Hz,2H),1.70(s,3H),1.80(q,8.1Hz,2H),3.31(s,2H),5.22(d,12.0Hz,1H),5.70(d,19.5Hz,1H),6.65(dd,12.0,19.5Hz,1H),7.13(d,9.0Hz,2H),7.30(d,9.0Hz,2H)
(製造例A8)
 500mLの4口フラスコに、アクリル酸ブチル20g、アクリル酸2-エチルヘキシル55g、メタクリル酸メチル15g、メタクリル酸ヒドロキシエチル10g及び酢酸エチル100gを加えて室温にて混合した。さらに、2,2'-アゾビスバレロニトリル0.2gを加えて、75度まで昇温した後、10時間攪拌を続けた。ジラウリル酸ジブチルスズ0.1g、メタクリル酸2-イソシアネトエチル5gを加え、75度でさらに10時間攪拌することで、分子量30万のアクリル系粘着材Lを得た。示差走査熱量分析((株)島津製作所製、DSC-60)によりガラス転移点を測定したところ、-40℃であった。
(実施例A1)
 500mLの4口フラスコに、製造例A3で合成した5-(p-スチリルメチル)-2,2,5-トリメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン15g、アクリル酸ブチル20g、アクリル酸2-エチルヘキシル63g、メタクリル酸2g及び酢酸エチル100gを加えて室温にて混合した。さらに、2,2'-アゾビスバレロニトリル0.2gを加えて、75度まで昇温した後、10時間攪拌を続けることで、分子量30万のアクリル系粘着材Aを得た。示差走査熱量分析((株)島津製作所製、DSC-60)によりガラス転移点を測定したところ、14℃であった。
 得られたアクリル系粘着材A100重量部及びエポキシ化合物(三菱ガス化学(株)製、TETRAD-C)2重量部及び酢酸エチル50重量部を加えて粘着材組成物(接着性樹脂組成物)とした。
 得られた粘着材組成物を、表面が離形処理されたPET上にアプリケータを用いて乾燥皮膜の厚さが20μmの厚みになるように塗工した後、120℃で5分間加熱して塗工溶液を乾燥させた。次いで、PETフィルム上に貼り付け、60℃にて1日間養生することで粘着テープとした。得られたフィルムを表面が離形処理されたPET側を剥離し、鏡面仕上げされたSUS板にローラーにて貼り付けた後、1時間放置した。180度のホットプレート上で3分間加熱を行い、ホットプレートより取り出した後、すぐにテープを剥離し、以下の基準に従い剥離性および糊残りを確認した。結果を表1に示す。
(剥離性)
 テープを真空チャックした後に、垂直にテープを持ち上げ剥離を行ったところ、剥離したものは○、剥がれなかったものを×とした。
(糊残り)
 剥離した後にSUS板を目視にて判定を行った。少しでも糊残りが認められた場合には×とした。
(実施例A2)
 5-(p-スチリルメチル)-2,2,5-トリメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン15gを、製造例A4で合成した5-(p-スチリルメチル)-2-エチル-2,5-ジメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオンに変更する以外は、実施例A1の通りに行い、分子量30万のアクリル系粘着材Bを得た。示差走査熱量分析((株)島津製作所製、DSC-60)によりガラス転移点を測定したところ、13℃であった。
 得られたアクリル系粘着材B100重量部及びエポキシ化合物(三菱ガス化学(株)製、TETRAD-C)2重量部及び酢酸エチル50重量部を加えて粘着材組成物とした。
得られた粘着材組成物を、表面が離形処理されたPET上にアプリケータを用いて乾燥皮膜の厚さが20μmの厚みになるように塗工した後、120℃で5分間加熱して塗工溶液を乾燥させた。次いで、PETフィルム上に貼り付け、60℃にて1日間養生することで粘着テープとした。得られたフィルムを表面が離形処理されたPET側を剥離し、鏡面仕上げされたSUS板にローラーにて貼り付けた後、1時間放置した。180度のホットプレート上で3分間加熱を行い、発泡性を確認した。ホットプレートより取り出した後、テープを剥離し、剥離性および糊残りを確認した。結果を表1に示す。
(実施例A3)
 5-(p-スチリルメチル)-2,2,5-トリメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン15gを製造例A5で合成した8-(p-スチリルメチル)-8-メチル-6,10-ジオキサスピロ[4,5]デカン-7,9-ジオンに変更する以外は、実施例A1の通りに行い、分子量30万のアクリル系粘着材Cを得た。示差走査熱量分析((株)島津製作所製、DSC-60)によりガラス転移点を測定したところ、11℃であった。
 得られたアクリル系粘着材C100重量部及びエポキシ化合物(三菱ガス化学(株)製、TETRAD-C)2重量部及び酢酸エチル50重量部を加えて粘着材組成物とした。得られた粘着材組成物を、表面が離形処理されたPET上にアプリケータを用いて乾燥皮膜の厚さが20μmの厚みになるように塗工した後、120℃で5分間加熱して塗工溶液を乾燥させた。次いで、PETフィルム上に貼り付け、60℃にて1日間養生することで粘着テープとした。得られたフィルムを表面が離形処理されたPET側を剥離し、鏡面仕上げされたSUS板にローラーにて貼り付けた後、1時間放置した。180度のホットプレート上で3分間加熱を行い、発泡性を確認した。ホットプレートより取り出した後、テープを剥離し、剥離性および糊残りを確認した。結果を表1に示す。
(比較例A1)
 500mLの4口フラスコに、アクリル酸ブチル80g、アクリル酸エチル15g、メタクリル酸5g及び酢酸エチル100gを加えて室温にて混合した。さらに、2,2'-アゾビスバレロニトリル0.2gを加えて、75度まで昇温した後、10時間攪拌を続けることで、分子量40万のアクリル系粘着材Dを得た。示差走査熱量分析((株)島津製作所製、DSC-60)によりガラス転移点を測定したところ、-40℃であった。
 得られたアクリル系粘着材D100重量部及びエポキシ化合物(三菱ガス化学(株)製、TETRAD-C)2重量部、2,2'-アゾビス-(N-ブチル-2-メチルプロピオンアミド)25重量部及び酢酸エチル50重量部を加えて粘着材組成物とした。得られた粘着材組成物を、表面が離形処理されたPET上にアプリケータを用いて乾燥皮膜の厚さが20μmの厚みになるように塗工した後、100℃で2分間加熱して塗工溶液を乾燥させた。次いで、PETフィルム上に貼り付け、40℃にて3日間養生することで粘着テープとした。得られたフィルムを表面が離形処理されたPET側を剥離し、鏡面仕上げされたSUS板にローラーにて貼り付けた後、1時間放置した。180度のホットプレート上で3分間加熱を行った。ホットプレートより取り出した後、すぐにテープを剥離し、剥離性および糊残りを確認した。結果を表1に示す。
(比較例A2)
 比較例A1で得られたアクリル系粘着材D100重量部及びエポキシ化合物(三菱ガス化学(株)製、TETRAD-C)2重量部、マツモトマイクロスフェアーFN-180(松本油脂製薬(株)製、熱膨張性マイクロカプセル)25重量部及び酢酸エチル50重量部を加えて粘着材組成物とした。得られた粘着材組成物を、表面が離形処理されたPET上にアプリケータを用いて乾燥皮膜の厚さが20μmの厚みになるように塗工した後、100℃で2分間加熱して塗工溶液を乾燥させた。次いで、PETフィルム上に貼り付け、40℃にて3日間養生することで粘着テープとした。得られたフィルムを表面が離形処理されたPET側を剥離し、鏡面仕上げされたSUS板にローラーにて貼り付けた後、1時間放置した。180度のホットプレート上で3分間加熱を行った。ホットプレートより取り出した後、すぐにテープを剥離し、剥離性および糊残りを確認した。結果を表1に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
(実施例A4)
 実施例A1で得られたアクリル系粘着材A100重量部及びエポキシ化合物(三菱ガス化学(株)製、TETRAD-C)2重量部及び酢酸エチル50重量部を加えて粘着材組成物とした。得られた粘着材組成物を、表面が離形処理されたPET上にアプリケータを用いて乾燥皮膜の厚さが20μmの厚みになるように塗工した後、120℃で5分間加熱して塗工溶液を乾燥させた。次いで、PETフィルム上に貼り付け、60℃にて1日間養生することで粘着テープとした。得られたフィルムを表面が離形処理されたPET側を剥離し、鏡面処理されたシリコンウエハにローラーにて貼り付けた後、1時間放置した。180度のホットプレート上で3分間加熱を行い、ホットプレートより取り出した後、すぐにテープを剥離し、汚染性評価のため、ESCA(Electron Spectroscopy for Chemical Analysis)測定(測定機器:VG社 ESCALAB200iXL、X線源:AlKα、分析領域:φ150μm)を行い、シリコンウエハ表面の炭素の存在量を測定した。尚、評価については、炭素とシリコンのatom%の比率(C/Si)を用いた。結果を表2に示す。
(比較例A3)
 比較例A1で得られたアクリル系粘着材D100重量部及びエポキシ化合物(三菱ガス化学社製、TETRAD-C)2重量部、2,2-ジメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン(ワコーケミカル社製)25重量部及び酢酸エチル50重量部を加えて粘着材組成物とした。得られた粘着材組成物を、表面が離形処理されたPET上にアプリケータを用いて乾燥皮膜の厚さが20μmの厚みになるように塗工した後、100℃で2分間加熱して塗工溶液を乾燥させた。次いで、PETフィルム上に貼り付け、40℃にて3日間養生することで粘着テープとした。得られたフィルムを表面が離形処理されたPET側を剥離し、鏡面仕上げされたシリコンウエハにローラーにて貼り付けた後、1時間放置した。180度のホットプレート上で3分間加熱を行い、ホットプレートより取り出した後、すぐにテープを剥離し、実施例A3と同様に、ESCA測定を行った。結果を表2に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
 実施例A4と比較例A3では、実施例A4の方がシリコンウエハ表面の炭素量が少なかった。このことから、実施例A4はシリコンウエハ上に付着している有機物が比較例A3よりも少ないこと、つまり、汚染量が少ないことがわかる。シリコンウエハ表面の炭素とシリコンのatom%の比率(C/Si)が、10以下であることが好ましく、より好ましくは6以下、さらに好ましくは1以下である。
(実施例A5)
 5-(p-スチリルメチル)-2,2,5-トリメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン15gを、製造例A7で合成した5-(p-スチリルメチル)-2,2-ジエチル-5-メチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオンに変更する以外は、実施例A1の通りに行い、分子量30万のアクリル系粘着材Kを得た。示差走査熱量分析((株)島津製作所製、DSC-60)によりガラス転移点を測定したところ、12℃であった。
 得られたアクリル系粘着材K100重量部及びエポキシ化合物(三菱ガス化学(株)製、TETRAD-C)2重量部及び酢酸エチル50重量部を加えて粘着材組成物とした。
得られた粘着材組成物を、表面が離形処理されたPET上にアプリケータを用いて乾燥皮膜の厚さが20μmの厚みになるように塗工した後、120℃で5分間加熱して塗工溶液を乾燥させた。次いで、PETフィルム上に貼り付け、60℃にて1日間養生することで粘着テープとした。得られたフィルムを表面が離形処理されたPET側を剥離し、鏡面仕上げされたSUS板にローラーにて貼り付けた後、1時間放置した。180度のホットプレート上で3分間加熱を行い、発泡性を確認した。ホットプレートより取り出した後、テープを剥離し、剥離性および糊残りを確認した。結果を表3に示す。
(実施例A6)
 500mLの4口フラスコに、製造例A3で合成した5-(p-スチリルメチル)-2,2,5-トリメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン10g、アクリル酸ブチル20g、アクリル酸2-エチルヘキシル68g、メタクリル酸2g及び酢酸エチル100gを加えて室温にて混合した。さらに、2,2'-アゾビスバレロニトリル0.2gを加えて、75度まで昇温した後、10時間攪拌を続けることで、分子量30万のアクリル系粘着材Eを得た。示差走査熱量分析((株)島津製作所製、DSC-60)によりガラス転移点を測定したところ、-4℃であった。
 得られたアクリル系粘着材E100重量部及びエポキシ化合物(三菱ガス化学(株)製、TETRAD-C)2重量部及び酢酸エチル50重量部を加えて粘着材組成物とした。
得られた粘着材組成物を、表面が離形処理されたPET上にアプリケータを用いて乾燥皮膜の厚さが20μmの厚みになるように塗工した後、120℃で5分間加熱して塗工溶液を乾燥させた。次いで、PETフィルム上に貼り付け、60℃にて1日間養生することで粘着テープとした。得られたフィルムを表面が離形処理されたPET側を剥離し、鏡面仕上げされたSUS板にローラーにて貼り付けた後、1時間放置した。180度のホットプレート上で3分間加熱を行い、ホットプレートより取り出した後、すぐにテープを剥離し、以下の基準に従い剥離性および糊残りを確認した。結果を表3に示す。
(実施例A7)
 5-(p-スチリルメチル)-2,2,5-トリメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン10gを、製造例A4で合成した5-(p-スチリルメチル)-2-エチル-2,5-ジメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオンに変更する以外は、実施例A6の通りに行い、分子量30万のアクリル系粘着材Fを得た。示差走査熱量分析((株)島津製作所製、DSC-60)によりガラス転移点を測定したところ、-5℃であった。
 得られたアクリル系粘着材F100重量部及びエポキシ化合物(三菱ガス化学(株)製、TETRAD-C)2重量部及び酢酸エチル50重量部を加えて粘着材組成物とした。
得られた粘着材組成物を、表面が離形処理されたPET上にアプリケータを用いて乾燥皮膜の厚さが20μmの厚みになるように塗工した後、120℃で5分間加熱して塗工溶液を乾燥させた。次いで、PETフィルム上に貼り付け、60℃にて1日間養生することで粘着テープとした。得られたフィルムを表面が離形処理されたPET側を剥離し、鏡面仕上げされたSUS板にローラーにて貼り付けた後、1時間放置した。180度のホットプレート上で3分間加熱を行い、発泡性を確認した。ホットプレートより取り出した後、テープを剥離し、剥離性および糊残りを確認した。結果を表3に示す。
(実施例A8)
 500mLの4口フラスコに、製造例A3で合成した5-(p-スチリルメチル)-2,2,5-トリメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン18g、アクリル酸ブチル20g、アクリル酸2-エチルヘキシル60g、メタクリル酸2g及び酢酸エチル100gを加えて室温にて混合した。さらに、2,2'-アゾビスバレロニトリル0.2gを加えて、75度まで昇温した後、10時間攪拌を続けることで、分子量20万のアクリル系粘着材Gを得た。示差走査熱量分析((株)島津製作所製、DSC-60)によりガラス転移点を測定したところ、20℃であった。
 得られたアクリル系粘着材G100重量部及びエポキシ化合物(三菱ガス化学(株)製、TETRAD-C)2重量部及び酢酸エチル50重量部を加えて粘着材組成物とした。
得られた粘着材組成物を、表面が離形処理されたPET上にアプリケータを用いて乾燥皮膜の厚さが20μmの厚みになるように塗工した後、120℃で5分間加熱して塗工溶液を乾燥させた。次いで、PETフィルム上に貼り付け、60℃にて1日間養生することで粘着テープとした。得られたフィルムを表面が離形処理されたPET側を剥離し、鏡面仕上げされたSUS板にローラーにて貼り付けた後、1時間放置した。180度のホットプレート上で3分間加熱を行い、ホットプレートより取り出した後、すぐにテープを剥離し、以下の基準に従い剥離性および糊残りを確認した。結果を表3に示す。
(実施例A9)
 5-(p-スチリルメチル)-2,2,5-トリメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン18gを、製造例A4で合成した5-(p-スチリルメチル)-2-エチル-2,5-ジメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオンに変更する以外は、実施例A8の通りに行い、分子量26万のアクリル系粘着材Hを得た。示差走査熱量分析((株)島津製作所製、DSC-60)によりガラス転移点を測定したところ、19℃であった。
 得られたアクリル系粘着材H100重量部及びエポキシ化合物(三菱ガス化学(株)製、TETRAD-C)2重量部及び酢酸エチル50重量部を加えて粘着材組成物とした。
得られた粘着材組成物を、表面が離形処理されたPET上にアプリケータを用いて乾燥皮膜の厚さが20μmの厚みになるように塗工した後、120℃で5分間加熱して塗工溶液を乾燥させた。次いで、PETフィルム上に貼り付け、60℃にて1日間養生することで粘着テープとした。得られたフィルムを表面が離形処理されたPET側を剥離し、鏡面仕上げされたSUS板にローラーにて貼り付けた後、1時間放置した。180度のホットプレート上で3分間加熱を行い、発泡性を確認した。ホットプレートより取り出した後、テープを剥離し、剥離性および糊残りを確認した。結果を表3に示す。
(実施例A10)
 500mLの4口フラスコに、製造例A3で合成した5-(p-スチリルメチル)-2,2,5-トリメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン15g、アクリル酸ブチル20g、アクリル酸2-エチルヘキシル61g、メタクリル酸2-ヒドロキシエチル1g、メタクリル酸2g及び酢酸エチル100gを加えて室温にて混合した。さらに、2,2'-アゾビスバレロニトリル0.2gを加えて、75度まで昇温した後、10時間攪拌を続けることで、分子量25万のアクリル系粘着材Iを得た。示差走査熱量分析((株)島津製作所製、DSC-60)によりガラス転移点を測定したところ、15℃であった。
 得られたアクリル系粘着材I100重量部及びエポキシ化合物(三菱ガス化学(株)製、TETRAD-C)2重量部及び酢酸エチル50重量部を加えて粘着材組成物とした。
得られた粘着材組成物を、表面が離形処理されたPET上にアプリケータを用いて乾燥皮膜の厚さが20μmの厚みになるように塗工した後、120℃で5分間加熱して塗工溶液を乾燥させた。次いで、PETフィルム上に貼り付け、60℃にて1日間養生することで粘着テープとした。得られたフィルムを表面が離形処理されたPET側を剥離し、鏡面仕上げされたSUS板にローラーにて貼り付けた後、1時間放置した。180度のホットプレート上で3分間加熱を行い、ホットプレートより取り出した後、すぐにテープを剥離し、以下の基準に従い剥離性および糊残りを確認した。結果を表3に示す。
(実施例A11)
 5-(p-スチリルメチル)-2,2,5-トリメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン15gを、製造例A4で合成した5-(p-スチリルメチル)-2-エチル-2,5-ジメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオンに変更する以外は、実施例A10の通りに行い、分子量26万のアクリル系粘着材Jを得た。示差走査熱量分析((株)島津製作所製、DSC-60)によりガラス転移点を測定したところ、-4℃であった。
 得られたアクリル系粘着材J100重量部及びエポキシ化合物(三菱ガス化学(株)製、TETRAD-C)2重量部及び酢酸エチル50重量部を加えて粘着材組成物とした。
得られた粘着材組成物を、表面が離形処理されたPET上にアプリケータを用いて乾燥皮膜の厚さが20μmの厚みになるように塗工した後、120℃で5分間加熱して塗工溶液を乾燥させた。次いで、PETフィルム上に貼り付け、60℃にて1日間養生することで粘着テープとした。得られたフィルムを表面が離形処理されたPET側を剥離し、鏡面仕上げされたSUS板にローラーにて貼り付けた後、1時間放置した。180度のホットプレート上で3分間加熱を行い、発泡性を確認した。ホットプレートより取り出した後、テープを剥離し、剥離性および糊残りを確認した。結果を表3に示す。
(実施例A12)
 製造例A8で得られたアクリル系粘着材L100重量部及び製造例A3で合成した5-(p-スチリルメチル)-2,2,5-トリメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン10重量部、イルガキュア369(BASF社製)1重量部、エポキシ化合物(三菱ガス化学(株)製、TETRAD-C)1重量部及び酢酸エチル50重量部を加えて粘着材組成物を得た。
 得られた粘着材組成物を、表面が離形処理されたPET上にアプリケータを用いて乾燥皮膜の厚さが20μmの厚みになるように塗工した後、120℃で5分間加熱して塗工溶液を乾燥させた。次いで、PETフィルム上に貼り付け、UV照射機にてUV照射(1400mJ)を行い、化学結合を行った後、さらに60℃にて1日間養生することで粘着テープとした。得られたフィルムを表面が離形処理されたPET側を剥離し、鏡面仕上げされたSUS板にローラーにて貼り付けた後、1時間放置した。180度のホットプレート上で3分間加熱を行い、ホットプレートより取り出した後、すぐにテープを剥離し、以下の基準に従い剥離性および糊残りを確認した。結果を表3に示す。
(実施例A13)
 5-(p-スチリルメチル)-2,2,5-トリメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン10重量部を、15重量部に変更する以外は、実施例A12の通りに行い、粘着材組成物とした。
 得られた粘着材組成物を、表面が離形処理されたPET上にアプリケータを用いて乾燥皮膜の厚さが20μmの厚みになるように塗工した後、120℃で5分間加熱して塗工溶液を乾燥させた。次いで、PETフィルム上に貼り付け、UV照射機にてUV照射(1400mJ)を行い、さらに60℃にて1日間養生することで粘着テープとした。得られたフィルムを表面が離形処理されたPET側を剥離し、鏡面仕上げされたSUS板にローラーにて貼り付けた後、1時間放置した。180度のホットプレート上で3分間加熱を行い、ホットプレートより取り出した後、すぐにテープを剥離し、以下の基準に従い剥離性および糊残りを確認した。結果を表3に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
[第2の実施例]
(製造例B1)
 500mL4口フラスコにメチルマロン酸(東京化成工業(株)製)100g及び無水酢酸100gを装入した。98%硫酸0.5gを続けて装入した後、滴下漏斗にてメチルエチルケトン75gを1時間かけて滴下した。室温にて24時間攪拌した後、酢酸エチル200g及び蒸留水300gを加えて分液ロートで有機層の抽出を行った。得られた有機層をエバポレーターで溶媒を留去することで、2-エチル-2,5-ジメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオンが75g得られた。HNMR(300MHz)を測定したところ、以下のようなピークが得られた。δ=1.04-1.12(m,3H),1.57-1.61(m,3H),1.71(s,1.12H),1.77(s,1.92H),1.95-2.16(m,2H),3.53-5.65(m,1H)
(製造例B2)
 製造例B1のメチルエチルケトン75gをシクロペンタノン80gに変更する以外は製造例B1の通り実施することで、8-メチル-6,10-ジオキサスピロ[4,5]デカン-7,9-ジオンが80g得られた。HNMR(300MHz)を測定したところ、以下のようなピークが得られた。δ=1.53(d,5.4Hz,3H),1.84-1.97(m,4H),2.21-2.27(m,4H),3.63(q,5.4Hz,1H)
(製造例B3)
 500mL4口フラスコに2,2-ジメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン(東京化成工業株式会社製)100g及びジメチルホルムアミド100gを装入した。炭酸カリウム200gを続けて装入した後、滴下漏斗にてヨウ化メチル197gを1時間かけて滴下した。40度にて12時間攪拌した後、酢酸エチル300gを加えヌッチェで生成した固体を濾別した。蒸留水300mLを用いて、分液ロートで2回洗浄を行った後、エバポレーターで溶媒を留去することで、2,2,5,5-テトラメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオンが114.8g得られた。HNMR(300MHz)を測定したところ、以下のようなピークが得られた。δ=1.65(s,3H),1.76(s,3H)
(製造例B4)
 500mL4口フラスコに2,2,5-トリメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン(東京化成工業(株)製)100g及びジメチルホルムアミド100gを装入した。炭酸カリウム100gを続けて装入した後、滴下漏斗にて臭化ベンジル108gを1時間かけて滴下した。40度にて12時間攪拌した後、酢酸エチル300gを加えヌッチェで生成した固体を濾別した。蒸留水300mLを用いて、分液ロートで2回洗浄を行った後、エバポレーターで溶媒を留去することで、5-ベンジル-2,2,5-トリメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオンが145g得られた。HNMR(300MHz)を測定したところ、以下のようなピークが得られた。δ=0.97(s,3H),1.60(s,3H),1.75(s,3H),3.31(s,2H),6.80-7.42(m,5H)
(製造例B5)
 500mL4口フラスコに製造例B1で合成した2-エチル-2,5-ジメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン100g及びジメチルホルムアミド100gを装入した。炭酸カリウム100gを続けて装入した後、滴下漏斗にてヨウ化メチル81.5gを1時間かけて滴下した。40度にて12時間攪拌した後、酢酸エチル300gを加えヌッチェで生成した固体を濾別した。蒸留水300mLを用いて、分液ロートで2回洗浄を行った後、エバポレーターで溶媒を留去することで、2-エチル-2,5,5-トリメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン130gが得られた。HNMR(300MHz)を測定したところ、以下のようなピークが得られた。δ=1.15(t,8.1Hz,3H),1.65(s,6H),2.00(q,8.1Hz,2H) 
(製造例B6)
 2-エチル-2,5-ジメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン100gを8-メチル-6,10-ジオキサスピロ[4,5]デカン-7,9-ジオン93.5gに変更する以外は製造例B5の通り実施することで、8,8-ジメチル-6,10-ジオキサスピロ[4,5]デカン-7,9-ジオンが80g得られた。HNMR(300MHz)を測定したところ、以下のようなピークが得られた。δ=1.50(s,6H),1.84-1.97(m,4H),2.21-2.27(m,4H)
(製造例B7)
 500mL4口フラスコに製造例B1で合成した2-エチル-2,5-ジメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン100g及びジメチルホルムアミド100gを装入した。
炭酸カリウム100gを続けて装入した後、滴下漏斗にて臭化ベンジル108gを1時間かけて滴下した。40度にて12時間攪拌した後、酢酸エチル300gを加えヌッチェで生成した固体を濾別した。蒸留水300mLを用いて、分液ロートで2回洗浄を行った後、エバポレーターで溶媒を留去することで、5-ベンジル-2-エチル-2,5-ジメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオンが140g得られた。HNMR(300MHz)を測定したところ、以下のようなピークが得られた。δ=0.40(t,8.1Hz,3H),0.94(t,8.1Hz,3H),1.14(q,8.1Hz,2H),1.74(s,H),1.81(q,8.1Hz,2H),3.31(s,2H),6.80-7.42(m,5H)
(製造例B8)
 2-エチル-2,5-ジメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン100gを8-メチル-6,10-ジオキサスピロ[4,5]デカン-7,9-ジオン93.5gに変更する以外は製造例B7の通り実施することで、8-ベンジル-8-メチル-6,10-ジオキサスピロ[4,5]デカン-7,9-ジオンが140g得られた。HNMR(300MHz)を測定したところ、以下のようなピークが得られた。δ=1.28-1.38(m,2H),1.56-1.82(m,4H),1.74(s,3H),2.00-2.05(m,2H),3.32(s,2H),6.80-7.42(m,5H)
(製造例B9)
 製造例B1のメチルエチルケトン75gをジエチルケトン80gに変更する以外は製造例B1の通り実施することで、2,2-ジエチル-5-メチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオンが80g得られた。HNMR(300MHz)を測定したところ、以下のようなピークが得られた。δ=1.04(q,8.1Hz,6H),1.58(d,7.8Hz,3H),1.96(s,8.1Hz,2H),2.05(s,8.1Hz,2H),3.57(q,5.4Hz,1H)
(製造例B10)
 2-エチル-2,5-ジメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン100gを製造例B9で合成した2,2-ジエチル-5-メチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン85gに変更する以外は製造例B5に従い実施することで、2,2-ジエチル-5,5-ジメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオンが95g得られた。HNMR(300MHz)を測定したところ、以下のようなピークが得られた。δ=1.15(t,8.1Hz,6H),1.65(s,6H),2.00(q,8.1Hz,4H)
(製造例B11)
 2-エチル-2,5-ジメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン100gを製造例B9で合成した2,2-ジエチル-5-メチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン85gに変更する以外は製造例B7に従い実施することで、5-ベンジル-2,2-ジエチル-5-メチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオンが95g得られた。HNMR(300MHz)を測定したところ、以下のようなピークが得られた。δ=0.40(t,8.1Hz,3H),0.94(t,8.1Hz,3H),1.14(q,8.1Hz,2H),1.70(s,3H),1.80(q,8.1Hz,2H),3.31(s,2H),7.10-7.50(m,5H)
(製造例B12)
 500mL4口フラスコに2,2,5-トリメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン(東京化成工業(株)製)100g及びジメチルホルムアミド100gを装入した。炭酸カリウム95gを続けて装入した後、滴下漏斗にて4-クロロメチルスチレン97gを1時間かけて滴下した。40度にて24時間攪拌した後、酢酸エチル400gを加えヌッチェで生成した固体を濾別した。蒸留水300mLを用いて、分液ロートで2回洗浄を行った後、エバポレーターで溶媒を留去することで、5-(p-スチリルメチル)-2,2,5-トリメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオンが150g得られた。HNMR(300MHz)を測定したところ、以下のようなピークが得られた。δ=0.97(s,3H),1.60(s,3H),1.75(s,3H),3.31(s,2H),5.22(d,12.0Hz,1H),5.70(d,19.5Hz,1H),6.65(dd,12.0,19.5Hz,1H),7.13(d,9.0Hz,2H),7.31(d,9.0Hz,2H)
(参考例B1)
 500mLの4口フラスコに、アクリル酸ブチル80g、アクリル酸エチル15g、メタクリル酸5g及び酢酸エチル100gを加えて室温にて混合した。さらに、2,2'-アゾビスバレロニトリル0.2gを加えて、75度まで昇温した後、10時間攪拌を続けることで、分子量40万のアクリル系粘着材Aを得た。示差走査熱量分析((株)島津製作所製、DSC-60)によりガラス転移点を測定したところ、-40℃であった。
(参考例B2)
 500mLの4口フラスコに、製造例B12で合成した5-(p-スチリルメチル)-2,2,5-トリメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン15g、アクリル酸ブチル20g、アクリル酸2-エチルヘキシル63g、メタクリル酸2g及び酢酸エチル100gを加えて室温にて混合した。さらに、2,2'-アゾビスバレロニトリル0.2gを加えて、75度まで昇温した後、10時間攪拌を続けることで、分子量30万のアクリル系粘着材Bを得た。示差走査熱量分析((株)島津製作所製、DSC-60)によりガラス転移点を測定したところ、14℃であった。
(実施例B1)
 参考例B1で得られたアクリル系粘着材A100重量部及びエポキシ化合物(三菱ガス化学(株)製、TETRAD-C)1.5重量部、2,2-ジメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン25重量部及び酢酸エチル50重量部を加えて粘着材組成物とした。得られた粘着材組成物を、表面が離形処理されたPET上にアプリケータを用いて乾燥皮膜の厚さが20μmの厚みになるように塗工した後、100℃で2分間加熱して塗工溶液を乾燥させた。次いで、PETフィルム上に貼り付け、60℃にて3日間養生することで粘着テープとした。得られたフィルムを表面が離形処理されたPET側を剥離し、鏡面仕上げされたSUS板にローラーにて貼り付けた後、1時間放置した。180度のホットプレート上で3分間加熱を行った。ホットプレートより取り出した後、すぐにテープを剥離し、以下の基準に従い剥離性および糊残りを確認した。結果を表4に示す。
(剥離性)
テープを真空チャックした後に、垂直にテープを持ち上げ剥離を行ったところ、剥離したものは○、剥がれなかったものを×とした。
(糊残り)
剥離した後にSUS板を目視にて判定を行った。少しでも糊残りが認められた場合には×とした。
(実施例B2~B10)
 2,2-ジメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン25重量部を表に示す化合物25重量部に変更した以外は、実施例B1と同様に試験を行った。結果を表4に示す。
(比較例B1)
 参考例B1で得られたアクリル系粘着材A100重量部及びエポキシ化合物(三菱ガス化学(株)製、TETRAD-C)2重量部、2,2'-アゾビス-(N-ブチル-2-メチルプロピオンアミド)25重量部及び酢酸エチル50重量部を加えて粘着材組成物とした。得られた粘着材組成物を、表面が離形処理されたPET上にアプリケータを用いて乾燥皮膜の厚さが20μmの厚みになるように塗工した後、100℃で2分間加熱して塗工溶液を乾燥させた。次いで、PETフィルム上に貼り付け、40℃にて3日間養生することで粘着テープとした。得られたフィルムを表面が離形処理されたPET側を剥離し、鏡面仕上げされたSUS板にローラーにて貼り付けた後、1時間放置した。180度のホットプレート上で3分間加熱を行った。ホットプレートより取り出した後、すぐにテープを剥離し、剥離性および糊残りを確認した。結果を表4に示す。
(比較例B2)
 参考例B1で得られたアクリル系粘着材A100重量部及びエポキシ化合物(三菱ガス化学(株)製、TETRAD-C)2重量部、マツモトマイクロスフェアーFN-180(松本油脂製薬(株)製、熱膨張性マイクロカプセル)25重量部及び酢酸エチル50重量部を加えて粘着材組成物とした。得られた粘着材組成物を、表面が離形処理されたPET上にアプリケータを用いて乾燥皮膜の厚さが20μmの厚みになるように塗工した後、100℃で2分間加熱して塗工溶液を乾燥させた。次いで、PETフィルム上に貼り付け、40℃にて3日間養生することで粘着テープとした。得られたフィルムを表面が離形処理されたPET側を剥離し、鏡面仕上げされたSUS板にローラーにて貼り付けた後、1時間放置した。180度のホットプレート上で3分間加熱を行った。ホットプレートより取り出した後、すぐにテープを剥離し、剥離性および糊残りを確認した。結果を表4に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
(実施例B11~B14)
 2,2-ジメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン25重量部を表5に示す化合物25重量部に変更した以外は、実施例B1と同様に試験を行った。結果を表5に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
(実施例B15)
 参考例B2で得られたアクリル系粘着材B100重量部及びエポキシ化合物(三菱ガス化学(株)製、TETRAD-C)1.5重量部、2,2-ジメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン25重量部及び酢酸エチル50重量部を加えて粘着材組成物とした。得られた粘着材組成物を、表面が離形処理されたPET上にアプリケータを用いて乾燥皮膜の厚さが20μmの厚みになるように塗工した後、100℃で2分間加熱して塗工溶液を乾燥させた。次いで、PETフィルム上に貼り付け、60℃にて3日間養生することで粘着テープとした。得られたフィルムを表面が離形処理されたPET側を剥離し、鏡面仕上げされたSUS板にローラーにて貼り付けた後、1時間放置した。180度のホットプレート上で3分間加熱を行った。ホットプレートより取り出した後、すぐにテープを剥離し、以下の基準に従い剥離性および糊残りを確認した。結果を表6に示す。
(実施例B16~B20)
 2,2-ジメチル-1,3-ジオキサン-4,6-ジオン25重量部を表6に示す化合物25重量部に変更した以外は、実施例B15と同様に試験を行った。結果を表6に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000006
 この出願は、2011年12月14日に出願された日本出願特願2011-273689、2011年12月14日に出願された日本出願特願2011-273692、2012年7月13日に出願された日本出願特願2012-157250、及び2012年7月13日に出願された日本出願特願2012-157251を基礎とする優先権を主張し、その開示の全てをここに取り込む。

Claims (18)

  1.  メルドラム酸誘導体由来の構造を有する発泡性粘着ポリマーを含むことを特徴とする接着性樹脂組成物。
  2.  前記メルドラム酸誘導体は下記一般式(1)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
    (式(1)中、RおよびRはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、置換または無置換の炭素数1~10のアルキル基、置換または無置換の炭素数2~10アルケニル基、置換または無置換の炭素数2~10アルキニル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換の炭素数7~12のアリールアルキル基、または置換または無置換のシリル基を表し、RとRは互いに結合して、環構造を形成していてもよい。RおよびRはそれぞれ独立に、水素原子、置換または無置換の炭素数1~10アルキル基、置換または無置換の炭素数2~10アルケニル基、置換または無置換の炭素数2~10アルキニル基、置換または無置換のアリール基を表し、RとRは互いに結合して、環構造を形成していてもよい。R、R、R、R、RとRとが互いに結合して形成される環構造およびRとRとが互いに結合して形成される環構造の少なくとも1つは、置換基として、ビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、エポキシ基、アジリジル基、チイラニル基、オキセタニル基、チエタニル基、イソシアナト基、アミノ基、スルホン基、ヒドロキシ基、カルボキシル基、酸無水物基から選択される反応性官能基を有する。)
     で表されることを特徴とする、請求項1に記載の接着性樹脂組成物。
  3.  前記発泡性粘着ポリマーは、メルドラム酸誘導体が、該メルドラム酸誘導体に含まれる反応性官能基を介して結合した接着性樹脂を含んでなることを特徴とする、請求項1または2に記載の接着性樹脂組成物。
  4.  前記発泡性粘着ポリマーは、
    (a)R、R、R、R、RとRとが互いに結合して形成される環構造、およびRとRとが互いに結合して形成される環構造の少なくとも1つが、置換基として、ビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基から選択される反応性官能基を有する、一般式(1)で表されるメルドラム酸誘導体由来の構成単位と、
    (b)(メタ)アクリル酸誘導体由来の構成単位と、
    を含んでなる、請求項2または3に記載の接着性樹脂組成物。
  5.  前記メルドラム酸誘導体は、R、R、RおよびRの少なくとも1つが、ビニル基を置換基として有するベンジル基である、請求項4に記載の接着性樹脂組成物。
  6.  示差走査熱量分析により測定したガラス転移点が40℃以下であることを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の接着性樹脂組成物。
  7.  下記一般式(1)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
    (式(1)中、RおよびRはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、置換または無置換の炭素数1~10のアルキル基、置換または無置換の炭素数2~10のアルケニル基、置換または無置換の炭素数2~10アルキニル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換の炭素数7~12のアリールアルキル基、または置換または無置換のシリル基を表し、RとRは互いに結合して、環構造を形成していてもよい。RおよびRはそれぞれ独立に、水素原子、置換または無置換の炭素数1~10アルキル基、置換または無置換の炭素数2~10のアルケニル基、置換または無置換の炭素数2~10のアルキニル基、置換または無置換のアリール基を表し、RとRは互いに結合して、環構造を形成していてもよい。)
    で表されるメルドラム酸誘導体と、
     接着性樹脂と、
    を含むことを特徴とする接着性樹脂組成物。
  8.  上記一般式(1)中、RおよびRはそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1~4のアルキル基、ベンジル基、を表し、RおよびRはそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1~4のアルキル基、を表し、RとRは互いに結合してシクロペンチル基、を形成する、ことを特徴とする請求項7に記載の接着性樹脂組成物。
  9.  前記接着性樹脂が、示差走査熱量分析により測定したガラス転移点が40℃以下であることを特徴とする請求項7または8に記載の接着性樹脂組成物。
  10.  前記接着性樹脂が、アクリル系感圧接着剤であることを特徴とする請求項7乃至9のいずれかに記載の接着性樹脂組成物。
  11.  基材と、
     前記基材上に形成された、請求項1乃至10のいずれかに記載の接着性樹脂組成物からなる剥離層と、
     前記剥離層上に貼着された被着物と、
    からなる積層体。
  12.  基材と、前記基材上に形成された、請求項1乃至6のいずれかに記載の接着性樹脂組成物からなる剥離層と、前記剥離層上に貼着された被着物と、からなる積層体を用いた自己剥離方法であって、
     前記積層体を、該接着性樹脂組成物に含まれる、メルドラム酸誘導体由来の構造を有する発泡性粘着ポリマーの、該メルドラム酸誘導体が分解する温度以上に加熱することにより、前記剥離層に含まれる該化合物が分解し、前記剥離層と前記被着物との界面における前記剥離層の接着強度を低下させる工程を備える、自己剥離方法。
  13.  基材と、前記基材上に形成された、請求項7乃至10のいずれかに記載の接着性樹脂組成物を含む剥離層と、前記剥離層上に貼着された被着物と、からなる積層体を用いた自己剥離方法であって、
     前記積層体を、メルドラム酸誘導体が分解する温度以上に加熱することにより、前記剥離層に含まれる該メルドラム酸誘導体が分解し、前記剥離層と前記被着物との界面における前記剥離層の接着強度を低下させる工程を備える、自己剥離方法。
  14.  基材層と、前記基材層上に形成された、請求項1乃至10のいずれかに記載の接着性樹脂組成物を含む剥離層とを備えるテープ。
  15.  請求項14に記載のテープを、前記剥離層を介して基板の被研磨面の裏面上に貼り付ける工程と、
     前記基板の被研磨面を研磨する工程と、
     研磨工程後、前記テープの前記剥離層に熱を加えて前記裏面から前記テープを剥離する工程と、
    を有する、基板の研磨方法。
  16.  請求項1乃至10のいずれかに記載の接着性樹脂組成物によって被着物を支持体に固定する工程と、
     前記被着物をダイシングする工程と、
     熱を加えることによって個片化された前記被着物を前記支持体から剥離させる工程と、
    を有する、ダイシング方法。
  17.  請求項1乃至10のいずれかに記載の接着性樹脂組成物によって支持体に半導体チップを固定する工程と、
     前記半導体チップを樹脂で封止する工程と、
     熱を加えることによって前記支持体から、樹脂で封止された半導体チップを剥離する工程と、
    を有する、半導体パッケージの製造方法。
  18.  請求項14に記載のテープを、前記剥離層を介して被めっき体のめっきしない部分に貼り付ける工程と、
     前記被めっき体をめっき処理する工程と、
     めっき処理工程後、前記被めっき体に貼り付けられている前記テープの剥離層に熱を加えて前記テープを剥離する工程と、
     を有する、めっき方法。
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