WO2012033284A3 - 연속공정이 가능한 챔버 시스템 - Google Patents
연속공정이 가능한 챔버 시스템 Download PDFInfo
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Abstract
본 발명은 연속공정이 가능한 챔버 시스템에 관한 것으로, 본 발명은 챔버와, 상기 챔버에 초순수와 세정약액을 선택적으로 공급하는 초순수공급부 및 세정약액 공급부와, 상기 챔버의 초순수와 세정약액을 배출하는 제1배출부와, 상기 챔버의 상부측에 초임계상태 가스를 공급하는 초임계공급부와, 상기 챔버의 상부측에 이소프로필알코올을 선택적으로 공급하는 IPA공급부와, 상기 초임계상태 가스를 배출하는 제2배출부를 포함한다. 이와 같은 구성의 본 발명은 하나의 챔버에서 습식세정, 초임계 세정 및 건조공정을 연속으로 처리할 수 있게 됨에 따라 보다 고집적 반도체의 효과적인 세정이 가능하며, 습식과 초임계 세정과정에서 웨이퍼를 이동시킬 필요가 없기 때문에 공정불량의 발생을 방지할 수 있는 효과가 있다.
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| KR20040074632A (ko) * | 2003-02-19 | 2004-08-25 | 소니 가부시끼 가이샤 | 세정방법 |
| KR100766343B1 (ko) * | 2006-05-24 | 2007-10-11 | 세메스 주식회사 | 기판 세정 건조 방법 |
| KR100713209B1 (ko) * | 2007-02-06 | 2007-05-02 | 서강대학교산학협력단 | 세정장치에 사용되는 고압세정기 |
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