WO2012033284A3 - Système de chambre conçu pour des procédés successifs - Google Patents
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Abstract
La présente invention concerne un système de chambre conçu pour des procédés successifs comprenant : une chambre ; une partie de fourniture d'eau ultra-pure et une partie de fourniture de solution chimique nettoyante, qui fournissent sélectivement à la chambre l'eau ultra-pure et une solution chimique nettoyante ; une première partie d'évacuation pour l'évacuation de l'eau ultra-pure et d'une solution chimique nettoyante depuis la chambre ; une partie de fourniture supercritique pour la fourniture de gaz supercritique à la partie supérieure de la chambre ; une partie de fourniture d'IPA pour la fourniture sélective d'alcool isopropylique à la partie supérieure de la chambre ; et une seconde partie d'évacuation pour l'évacuation du gaz supercritique. Par conséquent, un procédé de nettoyage de type humide, un procédé de nettoyage supercritique et un procédé de séchage peuvent être réalisés successivement dans une chambre afin de permettre le nettoyage plus efficace de dispositifs semi-conducteurs hautement intégrés. En outre, puisque les plaquettes sont immobilisées pendant le procédé de nettoyage de type humide et le procédé de nettoyage supercritique, l'apparition de défauts lors des procédés peut être évitée.
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