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WO2012099164A1 - ウレタン化合物を含む高耐擦傷性インプリント材料 - Google Patents

ウレタン化合物を含む高耐擦傷性インプリント材料 Download PDF

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WO2012099164A1
WO2012099164A1 PCT/JP2012/050960 JP2012050960W WO2012099164A1 WO 2012099164 A1 WO2012099164 A1 WO 2012099164A1 JP 2012050960 W JP2012050960 W JP 2012050960W WO 2012099164 A1 WO2012099164 A1 WO 2012099164A1
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WO
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imprint material
component
urethane acrylate
changed
prepared
Prior art date
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PCT/JP2012/050960
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English (en)
French (fr)
Inventor
淳平 小林
圭介 首藤
加藤　拓
正睦 鈴木
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Nissan Chemical Corp
Original Assignee
Nissan Chemical Corp
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Publication date
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Definitions

  • the present invention relates to an imprint material and a film produced from the material and having a pattern transferred thereon. More specifically, the present invention relates to an imprint material that forms a film having high scratch resistance even after the pattern is transferred, and a film that is produced from the material and to which the pattern is transferred.
  • Nanoimprint lithography is a resin in which a mold is brought into contact with a substrate on which a resin film is formed, the resin film is pressed, the resin film is pressurized, and heat or light is used as an external stimulus to cure the target pattern.
  • This nanoimprint lithography is a technique for forming a film, and has an advantage that nanoscale processing can be performed easily and inexpensively compared to optical lithography or the like in conventional semiconductor device manufacturing. Therefore, nanoimprint lithography is a technology that is expected to be applied to the manufacture of semiconductor devices, opto-devices, displays, storage media, biochips, etc., instead of optical lithography technology.
  • Various reports have been made on curable compositions (Patent Documents 2 and 3).
  • imprint material materials used in nanoimprint lithography
  • scratch resistance may be required for a structure produced inside or on the surface thereof.
  • the present invention has been made based on the above circumstances, and a problem to be solved is to provide an imprint material that forms a film having high scratch resistance even after a pattern is transferred. It is to provide a film made of the material and having a pattern transferred thereon. Specifically, an object of the present invention is to provide an imprint material that forms a film having a small number of scratches, for example, 20 or less when a steel wool scratch test is performed on a film after transferring a pattern. To do. Moreover, in this specification, the optical nanoimprint technique including the case where the pattern size to be formed is not limited to the nanometer order but is, for example, the micrometer order is referred to as optical imprint.
  • the present inventors have used, as an imprint material, a material containing an ethylene oxide unit and a polymerizable group, a urethane compound, and a photopolymerization initiator.
  • the film transferred from the pattern produced from the material obtained a surprising finding that even when a steel wool scratch test was performed on the pattern, the generation of scratches was obtained, and the present invention was completed.
  • the present invention provides a first aspect as follows: (A) component: a compound having at least one ethylene oxide unit and having at least one polymerizable group, (B) component: a urethane compound having at least one long-chain alkyl group having 13 to 25 carbon atoms and a polymerizable group and modified with polycaprolactone, and (C) component: an imprint containing a photopolymerization initiator Regarding materials.
  • the present invention relates to the imprint material according to the first aspect, wherein the concentration of the ethylene oxide unit per molecule of the component (A) is 20% or more and 80% or less.
  • the component (B) includes a reaction product of an organic isocyanate having at least three isocyanate groups in one molecule and an alcohol having a long-chain alkyl group having 13 to 25 carbon atoms, and polycaprolactone modification. It is related with the imprint material as described in a 1st viewpoint or a 2nd viewpoint which is a compound obtained by making hydroxyethyl (meth) acrylate react.
  • the present invention relates to the imprint material according to any one of the first aspect to the third aspect, wherein the component (A) is composed of at least two kinds of compounds.
  • the ratio of the component (B) to the total mass of the component (A) and the component (B) is 10 to 90% by mass, according to any one of the first aspect to the fourth aspect.
  • the present invention relates to the imprint material according to any one of the first aspect to the fifth aspect, which further contains a surfactant as the component (D).
  • the present invention relates to the imprint material according to any one of the first to sixth aspects, which further contains a solvent as the component (E).
  • the component (A) and the component (B) are compounds having at least one group selected from the group consisting of an acryloyloxy group, a methacryloyloxy group, a vinyl group, and an allyl group as a polymerizable group. It is related with the imprint material as described in a 1st viewpoint or a 2nd viewpoint characterized by a certain thing.
  • the present invention relates to a film produced from the imprint material according to any one of the first to eighth aspects and having a pattern transferred thereto. As a 10th viewpoint, it is related with the member provided with the film
  • an 11th viewpoint it is related with the solid-state imaging device provided with the film
  • a 12th viewpoint it is related with the LED device provided with the film
  • a 13th viewpoint it is related with the solar cell provided with the film
  • a 14th viewpoint it is related with the display provided with the film
  • a 15th viewpoint it is related with the electronic device provided with the film
  • the imprint material of the present invention a compound having at least one ethylene oxide unit in the molecule and having at least one polymerizable group, a long-chain alkyl group having 13 to 25 carbon atoms, and a polymerizable group. Since it uses at least one urethane compound modified with polycaprolactone, the film produced from the imprint material and having the pattern transferred to it does not cause scratches even if a steel wool scratch test is performed on the pattern. Few.
  • the imprint material of the present invention can be photocured, and part of the pattern does not peel off when the mold is released, so that a film in which a desired pattern is accurately formed can be obtained. Therefore, it is possible to form a good optical imprint pattern.
  • the imprint material of the present invention can be formed on an arbitrary substrate, and a film to which a pattern formed after imprinting is transferred is scratch-resistant such as solar cells, LED devices, and displays. Therefore, it can be suitably used for products that use a member that is required. Furthermore, the imprint material of this invention can control a cure rate, a dynamic viscosity, and a film thickness by changing the kind and content rate of the compound of the said (A) component. Therefore, the imprint material of the present invention can be designed suitably for the type of device to be manufactured, the type of exposure process and the type of baking process, and the process margin can be expanded. it can.
  • the present invention aims to solve the problem of imparting scratch resistance to a film after pattern transfer, and has a compound having at least one ethylene oxide unit and at least one polymerizable group in the imprint material, and It is characterized in that a urethane compound having at least one long-chain alkyl group having 13 to 25 carbon atoms and a polymerizable group and modified with polycaprolactone is employed. That is, the present invention comprises (A) component: a compound having at least one ethylene oxide unit and having at least one polymerizable group, (B) component: a long-chain alkyl group having 13 to 25 carbon atoms and polymerization.
  • the present invention further includes a surfactant as the component (D), a solvent as the component (E), and optionally other components. Is an imprint material which can also be contained.
  • a surfactant as the component (D)
  • a solvent as the component (E)
  • the compound as the component (A) is a compound having one or more ethylene oxide units in one molecule and one or more polymerizable groups at the molecular terminals.
  • the component (A) included in the present invention can impart scratch resistance to the film after pattern transfer.
  • the polymerizable group include at least one organic group selected from the group consisting of an acryloyloxy group, an acryloyl group, a methacryloyloxy group, a methacryloyl group, a vinyl group, and an allyl group.
  • the acryloyloxy group may be expressed as an acryloxy group
  • the methacryloyloxy group may be expressed as a methacryloxy group.
  • the content of the ethylene oxide unit per molecule of the compound (A) is such that the ethylene oxide unit concentration per molecule is preferably 20% or more and 80% or less in the molecular weight calculation.
  • concentration represents the ratio of the molecular weight of the ethylene oxide unit of the said compound with respect to the molecular weight of the compound which is (A) component.
  • the component (A) included in the present invention is composed of two kinds of compounds, the ethylene oxide unit concentration to which the formula (F) described later is applied is 20% or more and 80% or less.
  • the component (A) comprises the compound A 1 and the compound A 2 , and the compound A 1 contains x mass% (x is a positive number satisfying 0 ⁇ x ⁇ 100) and the compound A 2 contains (100 ⁇ x) mass%.
  • the ethylene oxide unit concentration (%) is represented by the following formula (F).
  • the molecular weight per ethylene oxide unit of compound A 1 and compound A 2 is 44, and the number of ethylene oxide units per molecule of compounds A 1 and A 2 is n A1 , n A2 , compounds A 1 and A, respectively.
  • the molecular weights of 2 are M A1 and M A2 , respectively.
  • Examples of the compound as the component (A) include methoxypolyethylene glycol acrylate, methoxypolyethylene glycol methacrylate, phenoxypolyethylene glycol acrylate, phenoxypolyethylene glycol methacrylate, ethylene glycol diacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, polyethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol.
  • the compound as the component (A) can be obtained as a commercial product.
  • Specific examples thereof include NK ester AM-30G, AM-90G, AM-130G, AM-230G, and AMP-10G.
  • the compound which is the component (A) can be used alone or in combination of two or more.
  • the urethane compound as component (B) has one or more long-chain alkyl groups having 13 to 25 carbon atoms and one or more polymerizable groups, and is characterized by being modified with polycaprolactone.
  • the polymerizable group is at least a group selected from the group consisting of the groups mentioned in the description of the component (A), for example, an acryloyloxy group, an acryloyl group, a methacryloyloxy group, a methacryloyl group, a vinyl group, and an allyl group.
  • One type of organic group can be mentioned.
  • the urethane compound as the component (B) of the present invention comprises an organic isocyanate (a) having 3 or more isocyanate groups in one molecule and a long-chain alkyl group having 13 to 25 carbon atoms.
  • the organic isocyanate (a) is obtained by modifying a diisocyanate monomer (a-1) having two isocyanate groups, and has at least three isocyanate groups in one molecule.
  • Examples of the modification method of the diisocyanate monomer (a-1) include isocyanurate modification, adduct modification, and biuret modification.
  • diisocyanate monomer (a-1) examples include tolylene diisocyanate (TDI) represented by the following formula (1),
  • NDI Naphthalene diisocyanate
  • IPDI Isophorone diisocyanate
  • Hexamethylene diisocyanate (HDI) represented by the following formula (6),
  • Examples of the organic isocyanate (a) obtained by modifying the diisocyanate monomer (a-1) with isocyanurate include compounds represented by the following general formula (8).
  • each R independently represents one of the following seven divalent hydrocarbon groups.
  • Examples of the organic isocyanate (a) obtained by adduct-modifying the diisocyanate monomer (a-1) include compounds represented by the following general formula (9).
  • each R independently represents one of the seven types of divalent hydrocarbon groups.
  • Examples of the organic isocyanate (a) obtained by biuret-modifying the isocyanate monomer (a-1) include compounds represented by the following general formula (10).
  • Examples of the long-chain alkyl alcohol (b) having 13 to 25 carbon atoms include tridecanol, mystyryl alcohol, cetyl alcohol, stearyl alcohol, behenyl alcohol, polyoxyethylene monostearate, polyoxyethylene cetyl ether, polyoxy Examples thereof include compounds having a long-chain alkyl group having 13 to 25 carbon atoms, such as ethylene stearyl ether and glycerol monostearate.
  • Examples of the polycaprolactone-modified hydroxyethyl (meth) acrylate (c) include a compound represented by the following general formula (11), and the compound has a hydroxy group having reactivity with an isocyanate group, and CH It has a polymerizable group represented by 2 ⁇ CH— or CH 2 ⁇ C (CH 3 ) —.
  • R 1 represents an H or CH 3 group
  • n represents an integer of 1 to 25, but a preferable value of n is an integer of 2 to 5.
  • the content of the component (B) in the imprint material of the present invention is preferably 10 to 90% by mass, more preferably 40 to 60% by mass with respect to the total mass of the component (A) and the component (B). is there.
  • urethane compound As described above, as the urethane compound as component (B), organic isocyanate (a) having at least three isocyanate groups in one molecule and long-chain alkyl alcohol (b) having 13 to 25 carbon atoms are mixed. After reacting both, it is preferable that it is a urethane compound obtained by adding polycaprolactone modified
  • Both of the above reactions can be usually carried out in a solution, such as aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene, ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone, ethyl acetate, propyl acetate, isobutyl acetate, An ester solvent such as butyl acetate is used alone or as a mixed solvent.
  • aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene
  • ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone
  • ethyl acetate propyl acetate
  • isobutyl acetate isobutyl acetate
  • An ester solvent such as butyl acetate is used alone or as a mixed solvent.
  • both of the above reactions can be carried out in a solvent-free system or in a compound having a polymerizable group, for example, styrene, isobornyl acrylate, acryloyl morpholine, diethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate. You can also.
  • the reaction temperature for both reactions is preferably from room temperature to 100 ° C., and the reaction time is preferably from 1 to 10 hours.
  • the mixing ratio of the organic isocyanate (a), the polycaprolactone-modified hydroxyethyl (meth) acrylate (c), and the long-chain alkyl alcohol (b) is determined based on the isocyanate group of the organic isocyanate (a) and the polycaprolactone-modified hydroxyethyl (meth) acrylate ( It is preferable that the molar ratio of the hydroxyl group of c) to the hydroxyl group of the long-chain alkyl alcohol (b) is 1: (0.8 to 1.20) :( 0.02 to 0.33).
  • a catalyst such as dibutyltin dilaurate, dibutyltin diethylhexoate or dibutyltin sulfite may be used as necessary.
  • the addition amount of the catalyst is 0.01 to 1 part by mass with respect to 100 parts by mass in total of the organic isocyanate (a), the long-chain alkyl alcohol (b) and the polycaprolactone-modified hydroxyethyl (meth) acrylate (c). Is preferable, and 0.1 to 0.5 parts by mass is more preferable.
  • a polymerization inhibitor such as hydroquinone monomethyl ether may be used.
  • the addition amount of the polymerization inhibitor is 0.01 to 1 part by mass with respect to a total of 100 parts by mass of the organic isocyanate (a), the long-chain alkyl alcohol (b) and the polycaprolactone-modified hydroxyethyl (meth) acrylate (c). Preferably there is.
  • the photopolymerization initiator as the component (C) is not particularly limited as long as it has absorption in the light source used at the time of photocuring.
  • tert-butylperoxy-iso-butrate 2, 5-dimethyl-2,5-bis (benzoyldioxy) hexane, 1,4-bis [ ⁇ - (tert-butyldioxy) -iso-propoxy] benzene, di-tert-butyl peroxide, 2,5-dimethyl-2 , 5-bis (tert-butyldioxy) hexene hydroperoxide, ⁇ - (iso-propylphenyl) -iso-propyl hydroperoxide, tert-butyl hydroperoxide, 1,1-bis (tert-butyldioxy) -3,3,5 -Trimethylcyclohexane, butyl-4,4-bis (tert-butyldioxy) bar
  • the above-mentioned compounds can be obtained as commercial products. Specific examples thereof include IRGACURE (registered trademark) 651, 184, 500, 2959, 127, 754, 907, 369, 379, 379EG, 819, 819DW, 1800, 1870, 784, OXE01, OXE02, 250, DAROCUR (registered trademark) 1173, MBF, 4265, Lucirin (registered trademark) TPO (above, BASF) Japan Co., Ltd.), KAYACURE (registered trademark) DETX, MBP, DMBI, EPA, OA (above, Nippon Kayaku Co., Ltd.), VISURE-10, 55 (above, STAUFFER Co.
  • IRGACURE registered trademark
  • DAROCUR
  • the above photopolymerization initiators can be used alone or in combination of two or more.
  • the content of the component (C) in the imprint material of the present invention is preferably 0.5 phr to 30 phr, and preferably 1 phr to 20 phr with respect to the total mass of the component (A) and the component (B). It is more preferable. This is because when the content ratio of the component (C) is 0.1 phr or less, sufficient curability cannot be obtained, and patterning characteristics are deteriorated and scratch resistance is deteriorated.
  • phr represents the mass of the photopolymerization initiator with respect to 100 g of the total mass of the components (A) and (B).
  • a surfactant may be contained as the component (D).
  • the surfactant which is the component (D) plays a role of adjusting the film forming property of the obtained coating film.
  • the surfactant include polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether, polyoxyethylene cetyl ether, polyoxyethylene alkyl ethers such as polyoxyethylene oleyl ether, polyoxyethylene octylphenyl ether, polyoxyethylene Polyoxyethylene alkyl aryl ethers such as ethylene nonylphenyl ether, polyoxyethylene / polyoxypropylene block copolymers, sorbitan monolaurate, sorbitan monopalmitate, sorbitan monostearate, sorbitan monooleate, sorbitan trioleate, sorbitan Sorbitan fatty acid esters such as tristearate, polyoxyethylene sorbitan monolaurate, polyoxyethylene Nonionic surfactants such
  • the above surfactants can be used alone or in combination of two or more.
  • the ratio is preferably 0.01 phr to 40 phr, more preferably 0.01 phr to 10 phr, with respect to the total mass of the component (A) and the component (B).
  • a solvent may be contained as the component (E).
  • the solvent which is (E) component plays the role of viscosity adjustment of the compound which is (A) component and (B) component.
  • solvent examples include toluene, p-xylene, o-xylene, styrene, ethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monoisopropyl ether.
  • the above solvents can be used alone or in combination of two or more.
  • an epoxy compound As long as the imprint material of the present invention does not impair the effects of the present invention, an epoxy compound, a photoacid generator, a photosensitizer, an ultraviolet absorber, an antioxidant, an adhesion aid, and a mold release are provided as necessary. It may further contain at least one additive selected from property improvers.
  • the epoxy compound is a compound having an epoxy group or an oxirane ring.
  • Epolide registered trademark
  • GT-401 PB3600
  • Celoxide registered trademark
  • 2021P 2000, 3000
  • EHPE3150 EHPE3150CE
  • cyclomer (Registered trademark) M100 (above, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd. (currently Daicel Corporation)
  • EPICLON registered trademark
  • N-660, N-673-80M aboveve, DIC Corporation
  • photoacid generator examples include IRGACURE (registered trademark) PAG103, PAG108, PAG121, PAG203, CGI725 (above, manufactured by BASF Japan Ltd.), WPAG-145, WPAG-170, WPAG-199, WPAG-281, WPAG-336, WPAG-367 (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), TFE-triazine, TME-triazine, MP-triazine, dimethoxytriazine, TS-91, TS-01 (Sanwa Co., Ltd.) Chemical).
  • photosensitizer examples include, for example, thioxanthene series, xanthene series, ketone series, thiopyrylium salt series, base styryl series, merocyanine series, 3-substituted coumarin series, 3,4-substituted coumarin series, cyanine series, acridine series. , Thiazine, phenothiazine, anthracene, coronene, benzanthracene, perylene, ketocoumarin, fumarine, and borate.
  • the above photosensitizers can be used alone or in combination of two or more.
  • the absorption wavelength in the UV region can be adjusted by using the photosensitizer.
  • UV absorber examples include TINUVIN (registered trademark) PS, 99-2, 109, 328, 384-2, 400, 405, 460, 477, 479, 900, 928, 1130, 111FDL, 123, 144, 152, 292, 5100, 400-DW, 477-DW, 99-DW, 123-DW, 5050, 5060, 5151 (above, BASF Japan Ltd.).
  • TINUVIN registered trademark
  • PS 99-2, 109, 328, 384-2
  • 400 405, 460, 477, 479, 900, 928, 1130, 111FDL, 123, 144, 152, 292, 5100, 400-DW, 477-DW, 99-DW, 123-DW, 5050, 5060, 5151 (above, BASF Japan Ltd.).
  • the above ultraviolet absorbers can be used alone or in combination of two or more. By using the ultraviolet absorber, it is possible to control the curing speed of the outermost surface of the film during photocuring and to improve the mold release property.
  • antioxidants examples include IRGANOX (registered trademark) 1010, 1035, 1076, 1135, and 1520L (above, manufactured by BASF Japan Ltd.).
  • the above antioxidants can be used alone or in combination of two or more. By using the antioxidant, it is possible to prevent the film from turning yellow due to oxidation.
  • adhesion aid examples include 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane and 3-acryloxypropyltrimethoxysilane.
  • the content of the adhesion aid is preferably 5 phr to 50 phr, more preferably 10 phr to 50 phr, with respect to the total mass of the component (A) and the component (B).
  • Examples of the mold release improver include a silicone unit-containing compound or a fluorine-containing compound.
  • Examples of the silicone unit-containing compound include X-22-164, X-22-164AS, X-22-164A, X-22-164B, X-22-164C, X-22-164E, X-22-163, X -22-169AS, X-22-174DX, X-22-2426, X-22-9002, X-22-2475, X-22-4952, KF-643, X-22-343, X-22-2046 (The above is manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.).
  • Examples of the fluorine-containing compound include R-5410, R-1420, M-5410, M-1420, E-5444, E-7432, A-1430, and A-1630 (manufactured by Daikin Industries, Ltd.).
  • the imprint material of the present invention can further contain a compound having at least one polymerizable group and having no ethylene oxide unit.
  • the content of the compound is preferably 0.01 phr to 200 phr, more preferably 0.1 phr to 100 phr with respect to the total mass of the component (A) and the component (B).
  • Examples of the compound having at least one polymerizable group and not having an ethylene oxide unit include, for example, acrylic acid, KAYARAD (registered trademark) NPGDA, same PET-30, same DPHA (above, Nippon Kayaku Co., Ltd.) Manufactured). By using any of these, the viscosity of the imprint material of the present invention can be adjusted.
  • the method for preparing the imprint material of the present invention is not particularly limited, but the (A) component, the (B) component, the (C) component, the optional components (D) and (E), and other additions as desired. Any agent can be used as long as it is uniformly mixed.
  • the order of mixing the components (A) to (E) and other additives as required is not particularly limited as long as a uniform solution can be obtained.
  • Examples of the preparation method include a method in which the component (A) is mixed with the component (B) at a predetermined ratio.
  • the method of mixing (C) component, (D) component, and (E) component further to this, and making it a uniform solution is also mentioned.
  • the imprint material of the present invention can be applied to a substrate and photocured to obtain a desired film.
  • a coating method a known or well-known method such as a spin coating method, a dip method, a flow coating method, an ink jet method, a spray method, a bar coating method, a gravure coating method, a slit coating method, a roll coating method, a transfer printing method, Examples thereof include brush coating, blade coating, and air knife coating.
  • a base material for applying the imprint material of the present invention for example, glass on which silicon, indium tin oxide (ITO) is formed (ITO substrate), glass on which silicon nitride (SiN) is formed (SiN substrate), glass formed with indium zinc oxide (IZO), polyethylene terephthalate (PET), triacetyl cellulose (TAC), acrylic, plastic, glass, quartz, ceramics, etc. it can. It is also possible to use a flexible base material having flexibility.
  • a light source for curing the imprintable material of the present invention is not particularly limited, for example, a high pressure mercury lamp, low pressure mercury lamp, a metal halide lamp, KrF excimer laser, ArF excimer laser, F 2 excimer laser, electron beam (EB), And extreme ultraviolet (EUV).
  • a 436 nm G line, a 405 nm H line, a 365 nm I line, or a GHI mixed line can be used.
  • the exposure dose is preferably 30 to 2000 mJ / cm 2 , more preferably 30 to 1000 mJ / cm 2 .
  • the baking equipment is not particularly limited, and can be fired in an appropriate atmosphere, that is, in an inert gas such as air or nitrogen, or in a vacuum using, for example, a hot plate, an oven, or a furnace. If it is.
  • the firing temperature is not particularly limited for the purpose of evaporating the solvent, but can be performed at 40 ° C. to 200 ° C., for example.
  • the optical imprinting apparatus is not particularly limited as long as a desired pattern can be obtained.
  • ST50 manufactured by Toshiba Machine Co., Ltd.
  • Sindre registered trademark
  • NM-0801HB manufactured by Myeongchang Kiko Co., Ltd.
  • a commercially available apparatus such as can be used.
  • examples of the mold material used for the optical imprint used in the present invention include quartz, silicon, nickel, alumina, carbonylsilane, and glassy carbon.
  • the target pattern it is particularly limited.
  • the mold may be subjected to a mold release treatment for forming a thin film such as a fluorine compound on the surface thereof in order to improve the mold release property.
  • An example of the mold release agent used in the mold release treatment is OPTOOL (registered trademark) HD manufactured by Daikin Industries, Ltd., but is not particularly limited as long as a target pattern can be obtained.
  • a pattern suitable for the target electronic device may be selected, and the pattern size conforms to this.
  • the pattern size is, for example, nanometer order and micrometer order.
  • Synthesis Example 2 A flask similar to Synthesis Example 1 was charged with 48.2 parts by mass of toluene and 4.2 parts by mass of stearyl alcohol (NAA-46), and the temperature was raised to 40 ° C. After confirming that stearyl alcohol was completely dissolved, 25 parts by mass of isocyanurate-modified hexamethylene diisocyanate (Takenate (registered trademark) D-170N) was charged and the temperature was raised to 70 ° C. After reacting at the same temperature for 30 minutes, 0.02 part by mass of dibutyltin dilaurate was charged and held at the same temperature for 3 hours.
  • Synthesis Example 3 A flask similar to Synthesis Example 1 was charged with 44.8 parts by mass of toluene and 4.6 parts by mass of stearyl alcohol (NAA-46), and the temperature was raised to 40 ° C. Thereafter, it was confirmed that stearyl alcohol was completely dissolved, and trimethylolpropane adduct modified type of xylylene diisocyanate (Takenate (registered trademark) D-110N; manufactured by Mitsui Chemicals, NV: 75, NCO%: 11) .5) 50 parts by mass were charged and the temperature was raised to 70 ° C.
  • Synthesis Example 4 A flask similar to Synthesis Example 1 was charged with 61.3 parts by mass of toluene and 9.7 parts by mass of behenyl alcohol (NAA-422; manufactured by NOF Corporation, hydroxyl value: 180), and the temperature was raised to 40 ° C. Thereafter, it was confirmed that the behenyl alcohol was completely dissolved, and 50 parts by mass of isocyanurate modified type of hexamethylene diisocyanate (Takenate (registered trademark) D-170N) was charged and the temperature was raised to 70 ° C. After reacting at the same temperature for 30 minutes, 0.02 part by mass of dibutyltin dilaurate was charged and held at the same temperature for 3 hours.
  • NAA-422 manufactured by NOF Corporation, hydroxyl value: 180
  • NK ester A-TMPT-3EO (hereinafter abbreviated as “A-TMPT-3EO” in this specification) (made by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 4.5 g and urethane acrylate (I) 0 obtained in Synthesis Example 1 0.25 g (A-TMPT-3EO and urethane acrylate (I)) are mixed with DAROCUR (registered trademark) 1173 (manufactured by BASF Japan Ltd.) (hereinafter abbreviated as “DAROCUR1173” in this specification). 5 phr) with respect to the total mass of the imprint material PNI-1A.
  • A-TMPT-3EO used in this example and the examples described later corresponds to the component (A).
  • Urethane acrylate (I) used in this example and the examples and comparative examples described later corresponds to the component (B), and DAROCUR1173 corresponds to the component (C).
  • Example 2 An imprint material PNI-2A was prepared in the same manner as in Example 1 except that 2.5 g of A-TMPT-3EO of Example 1 and 2.5 g of urethane acrylate (I) were changed.
  • Example 3 An imprint material PNI-3A was prepared in the same manner as in Example 1 except that 0.5 g of A-TMPT-3EO of Example 1 and 4.5 g of urethane acrylate (I) were changed.
  • NK ester registered trademark
  • A-TMPT-9EO (hereinafter abbreviated as “A-TMPT-9EO” in this specification) 4.5 g (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) and urethane acrylate obtained in Synthesis Example 1 (I) 0.5 g was mixed and 0.25 g of DAROCUR1173 (5 phr with respect to the total mass of A-TMPT-9EO and urethane acrylate (I)) was added to prepare an imprint material PNI-4A.
  • A-TMPT-9EO used in this example and the examples described later corresponds to the component (A).
  • Example 5 An imprint material PNI-5A was prepared in the same manner as in Example 4 except that 2.5 g of A-TMPT-9EO of Example 4 and 2.5 g of urethane acrylate (I) were changed.
  • Example 6 An imprint material PNI-6A was prepared in the same manner as in Example 4, except that A-TMPT-9EO of Example 4 was changed to 0.5 g and urethane acrylate (I) was changed to 4.5 g.
  • NK ester registered trademark
  • ATM-4E (registered trademark) ATM-4E (hereinafter abbreviated as “ATM-4E” in this specification) (made by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 4.5 g and urethane acrylate (I) 0 obtained in Synthesis Example 1 0.5 g was mixed and 0.25 g of DAROCUR1173 (5 phr with respect to the total mass of ATM-4E and urethane acrylate (I)) was added to prepare an imprint material PNI-7A.
  • ATM-4E used in this example and the examples described later corresponds to the component (A).
  • Example 8 An imprint material PNI-8A was prepared in the same manner as in Example 7 except that 2.5 g of ATM-4E in Example 7 and 2.5 g of urethane acrylate (I) were changed.
  • Example 9 An imprint material PNI-9A was prepared in the same manner as in Example 7, except that 0.5 g of ATM-4E in Example 7 and 4.5 g of urethane acrylate (I) were changed.
  • KAYARAD registered trademark
  • DPEA-12 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
  • DAROCUR1173 5 phr with respect to the total mass of DPEA-12 and urethane acrylate (I)
  • PNI-10A an imprint material
  • Example 11 An imprint material PNI-11A was prepared in the same manner as in Example 10 except that DPEA-12 of Example 10 was changed to 2.5 g and urethane acrylate (I) was changed to 2.5 g.
  • Example 12 An imprint material PNI-12A was prepared in the same manner as in Example 10, except that DPEA-12 of Example 10 was changed to 0.5 g and urethane acrylate (I) was changed to 4.5 g.
  • Example 13 4.5 g of A-TMPT-3EO and 0.5 g of urethane acrylate (II) obtained in Synthesis Example 2 were mixed, and 0.25 g of DAROCUR1173 (5 phr with respect to the total mass of A-TMPT-3EO and urethane acrylate (II)) In addition, an imprint material PNI-13A was prepared.
  • Urethane acrylate (II) used in this example and the examples and comparative examples described later corresponds to the component (B).
  • Example 14 An imprint material PNI-14A was prepared in the same manner as in Example 13, except that A-TMPT-3EO of Example 13 was changed to 2.5 g and urethane acrylate (II) was changed to 2.5 g.
  • Example 15 An imprint material PNI-15A was prepared in the same manner as in Example 13 except that 0.5 g of A-TMPT-3EO of Example 13 and 4.5 g of urethane acrylate (II) were changed.
  • Example 16 4.5 g of A-TMPT-9EO and 0.5 g of urethane acrylate (II) obtained in Synthesis Example 2 are mixed, and 0.25 g of DAROCUR1173 (5 phr with respect to the total mass of A-TMPT-9EO and urethane acrylate (II)) In addition, an imprint material PNI-16A was prepared.
  • Example 17 An imprint material PNI-17A was prepared in the same manner as in Example 16 except that A-TMPT-9EO of Example 16 was changed to 2.5 g and urethane acrylate (II) was changed to 2.5 g.
  • Example 18 An imprint material PNI-18A was prepared in the same manner as in Example 16 except that 0.5 g of A-TMPT-9EO of Example 16 and 4.5 g of urethane acrylate (II) were changed.
  • Example 19 4.5 g of ATM-4E and 0.5 g of urethane acrylate (II) obtained in Synthesis Example 2 are mixed, and 0.25 g of DAROCUR1173 (5 phr with respect to the total mass of ATM-4E and urethane acrylate (II)) is added. Print material PNI-19A was prepared.
  • Example 20 An imprint material PNI-20A was prepared in the same manner as in Example 19 except that ATM-4E in Example 19 was changed to 2.5 g and urethane acrylate (II) was changed to 2.5 g.
  • Example 21 An imprint material PNI-21A was prepared in the same manner as in Example 19 except that 0.5 g of ATM-4E in Example 19 and 4.5 g of urethane acrylate (II) were changed.
  • Example 22 4.5 g of DPEA-12 and 0.5 g of urethane acrylate (II) obtained in Synthesis Example 2 were mixed, and 0.25 g of DAROCUR1173 (5 phr with respect to the total mass of DPEA-12 and urethane acrylate (II)) was added. An imprint material PNI-22A was prepared.
  • Example 23 An imprint material PNI-23A was prepared in the same manner as in Example 22 except that DPEA-12 of Example 22 was changed to 2.5 g and urethane acrylate (II) was changed to 2.5 g.
  • Example 24 An imprint material PNI-24A was prepared in the same manner as in Example 22 except that DPEA-12 of Example 22 was changed to 0.5 g and urethane acrylate (II) was changed to 4.5 g.
  • Example 25 4.5 g of A-TMPT-3EO and 0.5 g of urethane acrylate (III) obtained in Synthesis Example 3 were mixed, and 0.25 g of DAROCUR1173 (5 phr with respect to the total mass of A-TMPT-3EO and urethane acrylate (III)) In addition, an imprint material PNI-25A was prepared.
  • the urethane acrylate (III) used in this example and the examples and comparative examples described later corresponds to the component (B).
  • Example 26 An imprint material PNI-26A was prepared in the same manner as in Example 25 except that A-TMPT-3EO of Example 25 was changed to 2.5 g and urethane acrylate (III) was changed to 2.5 g.
  • Example 27 An imprint material PNI-27A was prepared in the same manner as in Example 25 except that 0.5 g of A-TMPT-3EO of Example 25 and 4.5 g of urethane acrylate (III) were changed.
  • Example 28 4.5 g of A-TMPT-9EO and 0.5 g of urethane acrylate (III) obtained in Synthesis Example 3 were mixed, and 0.25 g of DAROCUR1173 (5 phr with respect to the total mass of A-TMPT-9EO and urethane acrylate (III)) In addition, an imprint material PNI-28A was prepared.
  • Example 29 An imprint material PNI-29A was prepared in the same manner as in Example 28 except that A-TMPT-9EO of Example 28 was changed to 2.5 g and urethane acrylate (III) was changed to 2.5 g.
  • Example 30 An imprint material PNI-30A was prepared in the same manner as in Example 28 except that 0.5 g of A-TMPT-9EO of Example 28 and 4.5 g of urethane acrylate (III) were changed.
  • Example 31 4.5 g of ATM-4E and 0.5 g of urethane acrylate (III) obtained in Synthesis Example 3 are mixed, and 0.25 g of DAROCUR1173 (5 phr based on the total mass of ATM-4E and urethane acrylate (III)) is added. Print material PNI-31A was prepared.
  • Example 32 An imprint material PNI-32A was prepared in the same manner as in Example 31 except that ATM-4E in Example 31 was changed to 2.5 g and urethane acrylate (III) was changed to 2.5 g.
  • Imprint material PNI-33A was prepared in the same manner as in Example 31 except that ATM-4E in Example 31 was changed to 0.5 g and urethane acrylate (III) was changed to 4.5 g.
  • Example 34 4.5 g of DPEA-12 and 0.5 g of urethane acrylate (III) obtained in Synthesis Example 3 were mixed, and 0.25 g of DAROCUR1173 (5 phr based on the total mass of DPEA-12 and urethane acrylate (III)) was added. An imprint material PNI-34A was prepared.
  • Example 35 An imprint material PNI-35A was prepared in the same manner as in Example 34 except that DPEA-12 of Example 34 was changed to 2.5 g and urethane acrylate (III) was changed to 2.5 g.
  • Example 36 An imprint material PNI-36A was prepared in the same manner as in Example 34 except that DPEA-12 of Example 34 was changed to 0.5 g and urethane acrylate (III) was changed to 4.5 g.
  • Example 37 4.5 g of A-TMPT-3EO and 0.5 g of urethane acrylate (IV) obtained in Synthesis Example 4 were mixed, and 0.25 g of DAROCUR1173 (5 phr with respect to the total mass of A-TMPT-3EO and urethane acrylate (IV)) In addition, an imprint material PNI-37A was prepared.
  • the urethane acrylate (IV) used in this example and the examples and comparative examples described later corresponds to the component (B).
  • Example 38 An imprint material PNI-38A was prepared in the same manner as in Example 37 except that A-TMPT-3EO of Example 37 was changed to 2.5 g and urethane acrylate (IV) was changed to 2.5 g.
  • Example 39 An imprint material PNI-39A was prepared in the same manner as in Example 37 except that A-TMPT-3EO of Example 37 was changed to 0.5 g and urethane acrylate (IV) was changed to 4.5 g.
  • Example 40 4.5 g of A-TMPT-9EO and 0.5 g of urethane acrylate (IV) obtained in Synthesis Example 3 are mixed, and 0.25 g of DAROCUR1173 (5 phr with respect to the total mass of A-TMPT-9EO and urethane acrylate (IV)) In addition, an imprint material PNI-40A was prepared.
  • Example 41 An imprint material PNI-41A was prepared in the same manner as in Example 40 except that A-TMPT-9EO in Example 40 was changed to 2.5 g and urethane acrylate (IV) was changed to 2.5 g.
  • Example 42 An imprint material PNI-42A was prepared in the same manner as in Example 40 except that 0.5 g of A-TMPT-9EO of Example 40 and 4.5 g of urethane acrylate (IV) were changed.
  • Example 43 4.5 g of IVATM-4E and 0.5 g of urethane acrylate (IV) obtained in Synthesis Example 3 are mixed, and 0.25 g of DAROCUR1173 (5 phr with respect to the total mass of ATM-4E and urethane acrylate (IV)) is added. Print material PNI-43A was prepared.
  • Example 44 IV Imprint material PNI-44A was prepared in the same manner as in Example 43 except that ATM-4E in Example 43 was changed to 2.5 g and urethane acrylate (IV) was changed to 2.5 g.
  • Example 45 An imprint material PNI-45A was prepared in the same manner as in Example 43 except that ATM-4E of Example 43 was changed to 0.5 g and urethane acrylate (IV) was changed to 4.5 g.
  • Example 46 4.5 g of DPEA-12 and 0.5 g of urethane acrylate (IV) obtained in Synthesis Example 3 were mixed, and 0.5 g of DAROCUR1173 (5 phr with respect to the total mass of DPEA-12 and urethane acrylate (IV)) was added. An imprint material PNI-46A was prepared.
  • Example 47 An imprint material PNI-47A was prepared in the same manner as in Example 46 except that DPEA-12 of Example 46 was changed to 2.5 g and urethane acrylate (IV) was changed to 2.5 g.
  • Example 48 An imprint material PNI-48A was prepared in the same manner as in Example 46 except that DPEA-12 of Example 46 was changed to 0.5 g and urethane acrylate (IV) was changed to 4.5 g.
  • Example 49 2.5 g of DPEA-12, 2.5 g of urethane acrylate (I) obtained in Synthesis Example 1 and 0.005 g of acrylic acid were mixed, and Lucirin (registered trademark) TPO (manufactured by BASF Japan Ltd.) (hereinafter, this specification) Then, 0.125 g (2.5 phr based on the total mass of DPEA-12, urethane acrylate (I) and acrylic acid) was added to prepare an imprint material PNI-49A. Lucirin TPO used in the present embodiment and the embodiments described later corresponds to the component (C).
  • Example 50 1.25 g of DPEA-12, 1.25 g of urethane acrylate (I) and 2.5 g of acrylic acid were mixed, and 0.125 g of Lucirin TPO (based on the total mass of DPEA-12, urethane acrylate (I) and acrylic acid) 2.5 phr) and an imprint material PNI-50A was prepared.
  • Example 51 Imprinting was performed in the same manner as in Example 49 except that the acrylic acid of Example 49 was changed to KAYARAD (registered trademark) NPGDA (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) (hereinafter abbreviated as “NPGDA” in this specification). Material PNI-51A was prepared. NPGDA used in the present example and examples described later has two polymerizable groups, but does not correspond to the component (A) because it does not have an ethylene oxide unit.
  • KAYARAD registered trademark
  • NPGDA manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
  • Example 52 An imprint material PNI-52A was prepared in the same manner as in Example 50 except that the acrylic acid in Example 50 was changed to NPGDA.
  • Example 53 Example 49 and Example 49 except that the acrylic acid of Example 49 was changed to KAYARAD (registered trademark) PET-30 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) (hereinafter abbreviated as “PET-30”). Similarly, an imprint material PNI-53A was prepared. PET-30 used in this example and the examples described later has a plurality of polymerizable groups, but does not correspond to the component (A) because it does not have an ethylene oxide unit.
  • KAYARAD registered trademark
  • PET-30 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
  • Example 54 An imprint material PNI-54A was prepared in the same manner as in Example 50 except that the acrylic acid in Example 50 was changed to PET-30.
  • Example 55 Imprinting was performed in the same manner as in Example 49 except that the acrylic acid of Example 49 was changed to KAYARAD (registered trademark) DPHA (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) (hereinafter abbreviated as “DPHA” in this specification).
  • DPHA registered trademark
  • Material PNI-55A was prepared.
  • DPHA used in this example and the examples and comparative examples described later have a plurality of polymerizable groups, but do not correspond to the component (A) because they do not have an ethylene oxide unit.
  • Example 56 An imprint material PNI-56A was prepared in the same manner as in Example 50 except that the acrylic acid of Example 50 was changed to DPHA.
  • Example 57 DPEA-12 2.5 g, urethane acrylate (I) 2.5 g, NK ester AM-30G (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) (hereinafter abbreviated as “AM-30G” in this specification) 0.25 g And 2.75 g of NPGDA were mixed, and 0.2 g of Lucirin TPO (DPEA-12, urethane acrylate (I), 2.5 phr based on the total mass of AM-30G and NPGDA) was added to prepare an imprint material PNI-57A did.
  • AM-30G used in this example and the examples described later corresponds to the component (A).
  • Example 58 An imprint material PNI-58A was prepared in the same manner as in Example 57 except that AM-30G of Example 57 was changed to 0.5 g and NPGDA was changed to 2.5 g.
  • Example 59 An imprint material PNI-59A was prepared in the same manner as in Example 57 except that AM-30G of Example 57 was changed to 0.75 g and NPGDA was changed to 2.25 g.
  • Example 61 An imprint material PNI-61A was prepared in the same manner as in Example 49 except that the urethane acrylate (I) of Example 49 was changed to the urethane acrylate (II) obtained in Synthesis Example 2.
  • Example 62 An imprint material PNI-62A was prepared in the same manner as in Example 50 except that the urethane acrylate (I) of Example 50 was changed to the urethane acrylate (II) obtained in Synthesis Example 2.
  • Example 63 An imprint material PNI-63A was prepared in the same manner as in Example 51 except that the urethane acrylate (I) of Example 51 was changed to the urethane acrylate (II) obtained in Synthesis Example 2.
  • Example 64 An imprint material PNI-64A was prepared in the same manner as in Example 52 except that the urethane acrylate (I) of Example 52 was changed to the urethane acrylate (II) obtained in Synthesis Example 2.
  • Example 65 An imprint material PNI-65A was prepared in the same manner as in Example 53 except that the urethane acrylate (I) of Example 53 was changed to the urethane acrylate (II) obtained in Synthesis Example 2.
  • Example 66 An imprint material PNI-66A was prepared in the same manner as in Example 54 except that the urethane acrylate (I) of Example 54 was changed to the urethane acrylate (II) obtained in Synthesis Example 2.
  • Example 67 An imprint material PNI-67A was prepared in the same manner as in Example 55 except that the urethane acrylate (I) of Example 55 was changed to the urethane acrylate (II) obtained in Synthesis Example 2.
  • Example 68 An imprint material PNI-68A was prepared in the same manner as in Example 56 except that the urethane acrylate (I) of Example 56 was changed to the urethane acrylate (II) obtained in Synthesis Example 2.
  • Example 69 An imprint material PNI-69A was prepared in the same manner as in Example 57 except that the urethane acrylate (I) in Example 57 was changed to the urethane acrylate (II) obtained in Synthesis Example 2.
  • Example 70 An imprint material PNI-70A was prepared in the same manner as in Example 58 except that the urethane acrylate (I) of Example 58 was changed to the urethane acrylate (II) obtained in Synthesis Example 2.
  • Example 71 An imprint material PNI-71A was prepared in the same manner as in Example 59 except that the urethane acrylate (I) of Example 59 was changed to the urethane acrylate (II) obtained in Synthesis Example 2.
  • Example 72 An imprint material PNI-72A was prepared in the same manner as in Example 60 except that the urethane acrylate (I) of Example 60 was changed to the urethane acrylate (II) obtained in Synthesis Example 2.
  • Example 73 An imprint material PNI-73A was prepared in the same manner as in Example 49 except that the urethane acrylate (I) of Example 49 was changed to the urethane acrylate (III) obtained in Synthesis Example 3.
  • Example 74 An imprint material PNI-74A was prepared in the same manner as in Example 50 except that the urethane acrylate (I) in Example 50 was changed to the urethane acrylate (III) obtained in Synthesis Example 3.
  • Example 75 An imprint material PNI-75A was prepared in the same manner as in Example 51 except that the urethane acrylate (I) of Example 51 was changed to the urethane acrylate (III) obtained in Synthesis Example 3.
  • Example 76 An imprint material PNI-76A was prepared in the same manner as in Example 52 except that the urethane acrylate (I) of Example 52 was changed to the urethane acrylate (III) obtained in Synthesis Example 3.
  • Example 77 An imprint material PNI-77A was prepared in the same manner as in Example 53 except that the urethane acrylate (I) of Example 53 was changed to the urethane acrylate (III) obtained in Synthesis Example 3.
  • Example 78 An imprint material PNI-78A was prepared in the same manner as in Example 54 except that the urethane acrylate (I) of Example 54 was changed to the urethane acrylate (III) obtained in Synthesis Example 3.
  • Example 79 An imprint material PNI-79A was prepared in the same manner as in Example 55 except that the urethane acrylate (I) of Example 55 was changed to the urethane acrylate (III) obtained in Synthesis Example 3.
  • Example 80 An imprint material PNI-80A was prepared in the same manner as in Example 56 except that the urethane acrylate (I) of Example 56 was changed to the urethane acrylate (III) obtained in Synthesis Example 3.
  • Example 81 An imprint material PNI-81A was prepared in the same manner as in Example 57 except that the urethane acrylate (I) of Example 57 was changed to the urethane acrylate (III) obtained in Synthesis Example 3.
  • Example 82 An imprint material PNI-82A was prepared in the same manner as in Example 58 except that the urethane acrylate (I) of Example 58 was changed to the urethane acrylate (III) obtained in Synthesis Example 3.
  • Example 83 An imprint material PNI-83A was prepared in the same manner as in Example 59 except that the urethane acrylate (I) of Example 59 was changed to the urethane acrylate (III) obtained in Synthesis Example 3.
  • Example 84 An imprint material PNI-84A was prepared in the same manner as in Example 60 except that the urethane acrylate (I) of Example 60 was changed to the urethane acrylate (III) obtained in Synthesis Example 3.
  • Example 85 An imprint material PNI-85A was prepared in the same manner as in Example 49 except that the urethane acrylate (I) of Example 49 was changed to the urethane acrylate (IV) obtained in Synthesis Example 4.
  • Example 86 An imprint material PNI-86A was prepared in the same manner as in Example 50 except that the urethane acrylate (I) in Example 50 was changed to the urethane acrylate (IV) obtained in Synthesis Example 4.
  • Example 87 An imprint material PNI-87A was prepared in the same manner as in Example 51 except that the urethane acrylate (I) of Example 51 was changed to the urethane acrylate (IV) obtained in Synthesis Example 4.
  • Example 88 An imprint material PNI-88A was prepared in the same manner as in Example 52 except that the urethane acrylate (I) of Example 52 was changed to the urethane acrylate (IV) obtained in Synthesis Example 4.
  • Example 89 An imprint material PNI-89A was prepared in the same manner as in Example 53 except that the urethane acrylate (I) of Example 53 was changed to the urethane acrylate (IV) obtained in Synthesis Example 4.
  • Example 90 An imprint material PNI-90A was prepared in the same manner as in Example 54 except that the urethane acrylate (I) of Example 54 was changed to the urethane acrylate (IV) obtained in Synthesis Example 4.
  • Example 91 An imprint material PNI-91A was prepared in the same manner as in Example 55 except that the urethane acrylate (I) of Example 55 was changed to the urethane acrylate (IV) obtained in Synthesis Example 4.
  • Example 92 An imprint material PNI-92A was prepared in the same manner as in Example 56 except that the urethane acrylate (I) of Example 56 was changed to the urethane acrylate (IV) obtained in Synthesis Example 4.
  • Example 93 An imprint material PNI-93A was prepared in the same manner as in Example 57 except that the urethane acrylate (I) in Example 57 was changed to the urethane acrylate (IV) obtained in Synthesis Example 4.
  • Example 94 An imprint material PNI-94A was prepared in the same manner as in Example 58 except that the urethane acrylate (I) of Example 58 was changed to the urethane acrylate (IV) obtained in Synthesis Example 4.
  • Example 95 An imprint material PNI-95A was prepared in the same manner as in Example 59 except that the urethane acrylate (I) of Example 59 was changed to the urethane acrylate (IV) obtained in Synthesis Example 4.
  • Example 96 An imprint material PNI-96A was prepared in the same manner as in Example 60 except that the urethane acrylate (I) in Example 60 was changed to the urethane acrylate (IV) obtained in Synthesis Example 4.
  • This comparative example and the comparative example mentioned later are examples which do not contain (A) component which is an essential component of this invention.
  • Optical imprint] NM-0801HB (manufactured by Myeongchang Kiko Co., Ltd.) was used as the nanoimprint apparatus.
  • a patterning test was performed using the imprint materials obtained in Examples 1 to 96 and Comparative Examples 1 to 16.
  • the mold used for the patterning test is made of silicon, the pattern is a 100 nm line and space pattern (hereinafter abbreviated as L / S in this specification), and a regular triangle arrangement of moth eyes with a pitch of 270 nm and a height of 350 nm.
  • Two types of patterns (manufactured by NTT Advanced Technology Co., Ltd.) (hereinafter abbreviated as “moth eye” in this specification) were used.
  • Optool registered trademark
  • DSX manufactured by Daikin Industries, Ltd.
  • Novec HFE-7100 Suditomo 3M Ltd.
  • the sample was immersed in a diluted solution, treated for 1 hour using a high temperature and high humidity apparatus having a temperature of 90 ° C. and a humidity of 90 RH%, rinsed with Novec HFE-7100, and then dried with air.
  • the imprint material PNI-1A obtained in Example 1 was spin-coated on a glass substrate and placed in an optical imprint apparatus with a silicon mold adhered. Optical imprinting is always performed at 23 ° C. under conditions of a) pressurization to 1000 N over 10 seconds, b) exposure at 500 mJ / cm 2 using a high-pressure mercury lamp, c) pressure removal over 10 seconds, d) mold And the substrate were separated, and the mold was released to obtain films to which L / S and moth-eye were transferred. Each film was subjected to a steel wool scratch test. At this time, for L / S, a scratch test was performed in a direction perpendicular to the line. The number of scratches after the test was observed.
  • the film obtained from the imprint material of the present invention is a solid-state imaging device (CCD image sensor, CMOS image sensor, etc.), solar cell, LED device, display (liquid crystal display, EL display, etc.), signboard (display) installed outdoors. Plate) and the like, which can be suitably used for products using a member that requires scratch resistance.

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Abstract

【課題】パターンが転写された後も高い耐擦傷性を有する膜を形成するインプリント材料を提供することであり、具体的には、パターンを転写した後の膜に対してスチールウール擦傷試験を行ったときに傷の本数が少ない前記膜を形成するインプリント材料を提供する。 【解決手段】（Ａ）成分：エチレンオキサイドユニットを少なくとも１つ有し、かつ少なくとも１つの重合性基を有する化合物、（Ｂ）成分：炭素原子数が１３乃至２５の長鎖アルキル基及び重合性基を少なくとも１つ有し、ポリカプロラクトン変性されたウレタン化合物、及び（Ｃ）成分：光重合開始剤を含むインプリント材料。

Description

ウレタン化合物を含む高耐擦傷性インプリント材料
　本発明は、インプリント材料及び当該材料から作製され、パターンが転写された膜に関する。より詳しくは、パターンが転写された後も高い耐擦傷性を有する膜を形成するインプリント材料、並びに当該材料から作製され、パターンが転写された膜に関するものである。
　１９９５年、現プリンストン大学のチョウ教授らがナノインプリントリソグラフィという新たな技術を提唱した（特許文献１）。ナノインプリントリソグラフィは、任意のパターンを有する、モールドを樹脂膜が形成された基材と接触させ、当該樹脂膜を加圧すると共に、熱又は光を外部刺激として用い、目的のパターンを硬化された当該樹脂膜に形成する技術であり、このナノインプリントリソグラフィは、従来の半導体デバイス製造における光リソグラフィ等に比べて簡便・安価にナノスケールの加工が可能であるという利点を有する。
　したがって、ナノインプリントリソグラフィは、光リソグラフィ技術に代わり、半導体デバイス、オプトデバイス、ディスプレイ、記憶媒体、バイオチップ等の製造への適用が期待されている技術であることから、ナノインプリントリソグラフィに用いる光ナノインプリントリソグラフィ用硬化性組成物について様々な報告がなされている（特許文献２、特許文献３）。
　しかし、これまでにナノインプリントリソグラフィに用いる材料（以下、本明細書では「インプリント材料」という。）として種々の材料が開示されているものの、凹凸パターン等の構造物を作製した後に擦傷性試験を行い、その結果高い耐擦傷性を保持していることを示した材料の報告はなされていない。一方で、固体撮像装置、太陽電池、ＬＥＤデバイス、ディスプレイなどの製品では、その内部または表面に作製した構造物に対して耐擦傷性を求められることがある。
米国特許第５７７２９０５号明細書 特開２００８－１０５４１４号公報 特開２００８－２０２０２２号公報
　本発明は、上記の事情に基づいてなされたものであり、その解決しようとする課題は、パターンが転写された後も高い耐擦傷性を有する膜を形成するインプリント材料を提供することであり、当該材料から作製され、パターンが転写された膜を提供することである。具体的には、パターンを転写した後の膜に対してスチールウール擦傷試験を行ったときに傷の本数が少ない、例えば２０本以下の前記膜を形成するインプリント材料を提供することを目的とする。
　また、本明細書では、形成されるパターンサイズがナノメートルオーダーに限らず、例えば、マイクロメートルオーダーである場合を含む光ナノインプリント技術を光インプリントと称する。
　本発明者らは、上記の課題を解決するべく鋭意検討を行った結果、エチレンオキサイドユニットを含有しかつ重合性基を有する化合物、ウレタン化合物、及び光重合開始剤を含む材料をインプリント材料として使用することにより、該材料より作製したパターン転写された膜はパターン上でスチールウール擦傷試験を行っても傷の発生が少ないという驚くべき知見を得、本発明を完成するに至った。
　すなわち、本発明は、第１観点として、
（Ａ）成分：エチレンオキサイドユニットを少なくとも１つ有し、かつ少なくとも１つの重合性基を有する化合物、
（Ｂ）成分：炭素原子数が１３乃至２５の長鎖アルキル基及び重合性基を少なくとも１つ有し、ポリカプロラクトン変性されたウレタン化合物、及び
（Ｃ）成分：光重合開始剤
を含むインプリント材料に関する。
　第２観点として、前記（Ａ）成分の化合物１分子あたりのエチレンオキサイドユニット濃度は２０％以上８０％以下である、第１観点に記載のインプリント材料に関する。
　第３観点として、前記（Ｂ）成分は、１分子中に少なくとも３つのイソシアネート基を有する有機イソシアネートと炭素原子数が１３乃至２５の長鎖アルキル基を有するアルコールとの反応生成物及びポリカプロラクトン変性ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートを反応させることにより得られる化合物である、第１観点又は第２観点に記載のインプリント材料に関する。
　第４観点として、前記（Ａ）成分が少なくとも２種の化合物からなる、第１観点乃至第３観点のいずれか一つに記載のインプリント材料に関する。
　第５観点として、前記（Ａ）成分及び前記（Ｂ）成分の総質量に対する該（Ｂ）成分の割合は１０乃至９０質量％である、第１観点乃至第４観点のいずれか一つに記載のインプリント材料に関する。
　第６観点として、（Ｄ）成分として界面活性剤をさらに含有する、第１観点乃至第５観点のいずれか一つに記載のインプリント材料に関する。
　第７観点として、（Ｅ）成分として溶剤をさらに含有する、第１観点乃至第６観点のいずれか一つに記載のインプリント材料に関する。
　第８観点として、前記（Ａ）成分および（Ｂ）成分は重合性基として、アクリロイルオキシ基、メタアクリロイルオキシ基、ビニル基及びアリル基からなる群から選ばれる少なくとも１種の基を有する化合物であることを特徴とする、第１観点又は第２観点に記載のインプリント材料に関する。
　第９観点として、第１観点乃至第８観点のいずれか一つに記載のインプリント材料から作製され、パターンが転写された膜に関する。
　第１０観点として、第９観点に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えた部材に関する。
　第１１観点として、第９観点に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えた固体撮像装置に関する。
　第１２観点として、第９観点に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えたＬＥＤデバイスに関する。
　第１３観点として、第９観点に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えた太陽電池に関する。
　第１４観点として、第９観点に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えたディスプレイに関する。
　第１５観点として、第９観点に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えた電子デバイスに関する。
　本発明のインプリント材料では、分子内にエチレンオキサイドユニットを少なくとも１つ有し、かつ少なくとも１つの重合性基を有する化合物、及び炭素原子数が１３乃至２５の長鎖アルキル基と重合性基を少なくとも１つ有し、ポリカプロラクトン変性されたウレタン化合物を使用しているため、当該インプリント材料から作製され、パターンが転写された膜はパターン上でスチールウール擦傷試験を行っても傷の発生が少ない。
　本発明のインプリント材料は、光硬化が可能であり、かつモールドの離型時にパターンの一部の剥がれが生じないため、所望のパターンが正確に形成された膜が得られる。したがって、良好な光インプリントのパターン形成が可能である。
　また、本発明のインプリント材料は、任意の基材上に製膜することができ、インプリント後に形成されるパターンが転写された膜は、太陽電池、ＬＥＤデバイス、ディスプレイなどの、耐擦傷性が求められる部材を使用する製品へ好適に用いることができる。
　さらに、本発明のインプリント材料は、上記（Ａ）成分の化合物の種類及び含有割合を変更することで、硬化速度、動的粘度、膜厚をコントロールすることができる。したがって、本発明のインプリント材料は、製造するデバイス種と露光プロセス及び焼成プロセスの種類に対応した材料の設計が可能であり、プロセスマージンを拡大できるため、光学部材の製造に好適に用いることができる。
　本発明は、パターン転写後の膜へ耐擦傷性を付与するという課題の解決を目的とし、インプリント材料においてエチレンオキサイドユニットを少なくとも１つ有し、かつ少なくとも１つの重合性基を有する化合物、及び炭素原子数が１３乃至２５の長鎖アルキル基と重合性基を少なくとも１つ有し、ポリカプロラクトン変性されたウレタン化合物を採用した点に特徴がある。
　すなわち本発明は、（Ａ）成分：エチレンオキサイドユニットを少なくとも１つ有し、かつ少なくとも１つの重合性基を有する化合物、（Ｂ）成分：炭素原子数が１３乃至２５の長鎖アルキル基及び重合性基を少なくとも１つ有し、ポリカプロラクトン変性されたウレタン化合物、及び（Ｃ）成分：光重合開始剤を含有するインプリント材料である。また本発明は、前記（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分に加えて、更に、（Ｄ）成分として界面活性剤、及び（Ｅ）成分として溶剤、更には所望によりその他成分をも含有することのできるインプリント材料である。
　以下、各成分について詳細に説明する。
＜（Ａ）成分＞
　（Ａ）成分である化合物は、１分子内にエチレンオキサイドユニットを１つ以上有し、かつ重合性基を分子末端に１つ以上有する化合物である。本発明に含まれる（Ａ）成分は、パターン転写後の膜に対して耐擦傷性を付与することができる。
　上記重合性基としては、例えば、アクリロイルオキシ基、アクリロイル基、メタアクリロイルオキシ基、メタアクリロイル基、ビニル基及びアリル基からなる群から選ばれる少なくとも１種類の有機基のことを指す。ここで、アクリロイルオキシ基はアクリロキシ基と、メタアクリロイルオキシ基はメタアクリロキシ基と表現されることがある。
　（Ａ）成分の化合物１分子あたりのエチレンオキサイドユニットの含有量は、分子量計算において１分子あたりのエチレンオキサイドユニット濃度が、好ましくは２０％以上８０％以下である。ここで本発明において、エチレンオキサイドユニット濃度とは、（Ａ）成分である化合物の分子量に対する当該化合物のエチレンオキサイドユニットの分子量の割合を表す。本発明に含まれる（Ａ）成分が２種の化合物からなる場合は、後述する式（Ｆ）を適用したエチレンオキサイドユニット濃度が２０％以上８０％以下である。
　上記（Ａ）成分が化合物Ａ1及び化合物Ａ2から成り、当該化合物Ａ1をｘ質量％（ｘは０＜ｘ≦１００を満たす正数）及び化合物Ａ2を（１００－ｘ）質量％含む場合の、エチレンオキサイドユニット濃度（％）は、下記式（Ｆ）で表される。ただし、化合物Ａ1及び化合物Ａ2のエチレンオキサイドユニット１個当たりの分子量を４４、化合物Ａ1及びＡ2の１分子当たりのエチレンオキサイドユニットの数をそれぞれｎA1，ｎA2、化合物Ａ1及びＡ2の分子量をそれぞれＭA1，ＭA2とする。
　１００[（４４×ｎA1×ｘ）＋〔４４×ｎA2×（１００－ｘ）]／[（ＭA1×ｘ）＋〔ＭA2×（１００－ｘ）〕]・・・（Ｆ）
　上記（Ａ）成分が１種の化合物Ａ1から成る場合のエチレンオキサイドユニット濃度は、上記式（Ｆ）においてｘ＝１００が適用された下記式（Ｇ）で表される。
　１００（４４×ｎA1）／ＭA1・・・（Ｇ）
　上記（Ａ）成分である化合物としては、例えば、メトキシポリエチレングリコールアクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールメタクリレート、エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジアクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジメタクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリメタクリレート、エトキシ化グリセリントリアクリレート、エトキシ化グリセリントリメタクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、エトキシ化ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートが挙げられる。
　上記（Ａ）成分である化合物は、市販品として入手が可能であり、その具体例としては、ＮＫエステルＡＭ－３０Ｇ、同ＡＭ－９０Ｇ、同ＡＭ－１３０Ｇ、同ＡＭ－２３０Ｇ、同ＡＭＰ－１０Ｇ、同ＡＭＰ－２０ＧＹ、同ＡＭＰ－６０Ｇ、同ＰＨＥ－１Ｇ、同Ａ－２００、同Ａ－４００、同Ａ－６００、同Ａ－１０００、同１Ｇ、同２Ｇ、同３Ｇ、同４Ｇ、同９Ｇ、同１４Ｇ、同２３Ｇ、同ＡＢＥ－３００、同Ａ－ＢＰＥ－４、同Ａ－ＢＰＥ－６、同Ａ－ＢＰＥ－１０、同Ａ－ＢＰＥ－２０、同Ａ－ＢＰＥ－３０、同ＢＰＥ－８０Ｎ、同ＢＰＥ－１００Ｎ、同ＢＰＥ－２００、同ＢＰＥ－５００、同ＢＰＥ－９００、同ＢＰＥ－１３００Ｎ、同Ａ－ＧＬＹ－３Ｅ、同Ａ－ＧＬＹ－９Ｅ、同Ａ－ＧＬＹ－２０Ｅ、同Ａ－ＴＭＰＴ－３ＥＯ、同Ａ－ＴＭＰＴ－９ＥＯ、同ＡＴＭ－４Ｅ、同ＡＴＭ－３５Ｅ（以上、新中村化学工業株式会社製）、ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＤＰＥＡ－１２、同ＰＥＧ４００ＤＡ、同ＴＨＥ－３３０、同ＲＰ－１０４０（以上、日本化薬株式会社製）、Ｍ－２１０、Ｍ－３５０（以上、東亞合成株式会社製）を挙げることができる。
　上記（Ａ）成分である化合物は、単独又は２種以上の組み合わせで使用することができる。
＜（Ｂ）成分＞
　（Ｂ）成分であるウレタン化合物は、炭素原子数が１３乃至２５の長鎖アルキル基と重合性基を１つ以上有し、ポリカプロラクトン変性されたことを特徴としている。
　上記重合性基としては、（Ａ）成分の化合物の説明において挙げた基、例えば、アクリロイルオキシ基、アクリロイル基、メタアクリロイルオキシ基、メタアクリロイル基、ビニル基及びアリル基からなる群から選ばれる少なくとも１種類の有機基を挙げることができる。
　上記本発明の（Ｂ）成分であるウレタン化合物は、後述するように、１分子中に３個以上のイソシアネート基を有する有機イソシアネート（ａ）と炭素原子数が１３乃至２５の長鎖アルキル基を有するアルコール（以下、本明細書において「長鎖アルキルアルコール」とも称する）（ｂ）を混合して両者を反応させた後、さらにポリカプロラクトン変性ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート（ｃ）を加えて反応させることによって得られるウレタン化合物であることが好ましい。
　上記有機イソシアネート（ａ）は、イソシアネート基を２個有するジイソシアネートモノマー（ａ－１）を変性することによって得られるもので、１分子中に少なくとも３つのイソシアネート基を有している。ジイソシアネートモノマー（ａ－１）の変性方法としては、例えば、イソシアヌレート変性、アダクト変性、ビウレット変性が挙げられる。
　ジイソシアネートモノマー（ａ－１）としては、例えば下記式（１）で表されるトリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
下記式（２）で表されるナフタレンジイソシアネート（ＮＤＩ）、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
下記式（３）で表されるナフタレンジイソシアネート（ＭＤＩ）、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
下記式（４）で表されるイソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
下記式（５）で表されるキシレンジイソシアネート（ＸＤＩ）、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
下記式（６）で表されるヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
下記式（７）で表されるジシクロヘキシルメタンジイソシアネート（ＨＤＩ）、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
その他、２，２，４－トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシアネートメチルなどが挙げられる。
　上記ジイソシアネートモノマー（ａ－１）をイソシアヌレート変性した有機イソシアネート（ａ）としては、例えば、下記一般式（８）で表される化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
 　上記一般式（８）中、Ｒはそれぞれ独立に、下記７種の二価の炭化水素基のいずれかを表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
　上記ジイソシアネートモノマー（ａ－１）をアダクト変性した有機イソシアネート（ａ）としては、例えば、下記一般式（９）で表される化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
 　上記一般式（９）中、Ｒはそれぞれ独立に、前記７種の二価の炭化水素基のいずれかを表す。
　上記イソシアネートモノマー（ａ－１）をビウレット変性した有機イソシアネート（ａ）としては、例えば、下記一般式（１０）で表される化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
　上記炭素原子数が１３乃至２５の長鎖アルキルアルコール（ｂ）としては、例えば、トリデカノール、ミスチリルアルコール、セチルアルコール、ステアリルアルコール、ベヘニルアルコール、ポリオキシエチレンモノステアリレート、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、グリセロールモノステアレートなどの炭素原子数が１３乃至２５の長鎖アルキル基を有する化合物が挙げられる。
　上記ポリカプロラクトン変性ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート（ｃ）としては、例えば、下記一般式（１１）で表される化合物が挙げられ、当該化合物はイソシアネート基と反応性を有するヒドロキシ基を有するとともに、ＣＨ2＝ＣＨ－又はＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）－で表される重合性基を有している。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
 　上記一般式（１１）中、Ｒ1はＨ又はＣＨ3基を表し、ｎは１乃至２５の整数を表すが、好ましいｎの値は２乃至５の整数である。ｎの値が２乃至５の整数の式（１１）で表される化合物を使用することにより、（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分を含有する組成物の硬化不良がより抑制されるとともに、良好な耐擦傷性及び自己修復機能がより発揮されることとなる。
　本発明のインプリント材料における（Ｂ）成分の含有量は、上記（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総質量に対して、好ましくは１０乃至９０質量％、より好ましくは４０乃至６０質量％である。
＜（Ｂ）成分の合成＞
　前述のとおり、（Ｂ）成分であるウレタン化合物として、１分子中に少なくとも３つのイソシアネート基を有する有機イソシアネート（ａ）と炭素原子数が１３乃至２５の長鎖アルキルアルコール（ｂ）を混合して両者を反応させた後、さらにポリカプロラクトン変性ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート（ｃ）を加えて反応させることにより得られるウレタン化合物であることが好ましい。
　上記両反応は、通常溶液中で行うことができ、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶剤、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶剤、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソブチル、酢酸ブチルなどのエステル系溶剤などが単独又は混合溶剤として用いられる。
　また、上記両反応は、無溶剤系で行うこともでき、あるいは、重合性基を有する化合物、例えば、スチレン、イソボルニルアクリレート、アクリロイルモルホリン、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート中で行うこともできる。
　上記両反応の反応温度は、常温乃至１００℃であるのが好ましく、反応時間は１乃至１０時間であるのが好ましい。有機イソシアネート（ａ）とポリカプロラクトン変性ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート（ｃ）と長鎖アルキルアルコール（ｂ）の混合比は、有機イソシアネート（ａ）のイソシアネート基とポリカプロラクトン変性ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート（ｃ）の水酸基と長鎖アルキルアルコール（ｂ）の水酸基のモル比が１：（０．８～１．２０）：（０．０２～０．３３）となる混合比であるのが好ましい。
　上記両反応に際し、必要に応じてジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫ジエチルヘキソエート、ジブチル錫サルファイトなどの触媒を使用してもよい。触媒の添加量は、有機イソシアネート（ａ）、長鎖アルキルアルコール（ｂ）及びポリカプロラクトン変性ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート（ｃ）の合計１００質量部に対して０．０１乃至１質量部であるのが好ましく、０．１乃至０．５質量部であるのがより好ましい。また、ハイドロキノンモノメチルエーテルなどの重合禁止剤を使用してもよい。重合禁止剤の添加量は、有機イソシアネート（ａ）、長鎖アルキルアルコール（ｂ）及びポリカプロラクトン変性ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート（ｃ）の合計１００質量部に対して０．０１乃至１質量部であるのが好ましい。
＜（Ｃ）成分＞
　（Ｃ）成分である光重合開始剤としては、光硬化時に使用する光源に吸収をもつものであれば、特に限定されるものではないが、例えば、ｔｅｒｔ－ブチルペルオキシ－ｉｓｏ－ブタレート、２，５－ジメチル－２，５－ビス（ベンゾイルジオキシ）ヘキサン、１，４－ビス［α－（ｔｅｒｔ－ブチルジオキシ）－ｉｓｏ－プロポキシ］ベンゼン、ジ－ｔｅｒｔ－ブチルペルオキシド、２，５－ジメチル－２，５－ビス（ｔｅｒｔ－ブチルジオキシ）ヘキセンヒドロペルオキシド、α－（ｉｓｏ－プロピルフェニル）－ｉｓｏ－プロピルヒドロペルオキシド、ｔｅｒｔ－ブチルヒドロペルオキシド、１，１－ビス（ｔｅｒｔ－ブチルジオキシ）－３，３，５－トリメチルシクロヘキサン、ブチル－４，４－ビス（ｔｅｒｔ－ブチルジオキシ）バレレート、シクロヘキサノンペルオキシド、２，２’，５，５’－テトラ（ｔｅｒｔ－ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’－テトラ（ｔｅｒｔ－ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’－テトラ（ｔｅｒｔ－アミルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’－テトラ（ｔｅｒｔ－ヘキシルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’－ビス（ｔｅｒｔ－ブチルペルオキシカルボニル）－４，４’－ジカルボキシベンゾフェノン、ｔｅｒｔ－ブチルペルオキシベンゾエート、ジ－ｔｅｒｔ－ブチルジペルオキシイソフタレート等の有機過酸化物；９，１０－アントラキノン、１－クロロアントラキノン、２－クロロアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、１，２－ベンズアントラキノン等のキノン類；ベンゾインメチル、ベンゾインエチルエーテル、α－メチルベンゾイン、α－フェニルベンゾイン等のベンゾイン誘導体；２，２－ジメトキシ－１，２－ジフェニルエタン－１－オン、１－ヒドロキシ－シクロヘキシル－フェニル－ケトン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニル－プロパン－１－オン、１－［４－（２－ヒドロキシエトキシ）－フェニル］－２－ヒドロキシ－２－メチル－１－プロパン－１－オン、２－ヒドロキシ－１－[４－｛４－（２－ヒドロキシ－２－メチル－プロピオニル）ベンジル｝－フェニル]－２－メチル－プロパン－１－オン、フェニルグリオキシリックアシッドメチルエステル、２－メチル－１－［４－（メチルチオ）フェニル］－２－モルホリノプロパン－１－オン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）－ブタノン－１、２－ジメチルアミノ－２－（４－メチル－ベンジル）－１－（４－モルホリン－４－イル－フェニル）－ブタン－１－オン等のアルキルフェノン系化合物；ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－フェニルホスフィンオキサイド、２，４，６－トリメチルベンゾイル－ジフェニル－ホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド系化合物；１，２－オクタンジオン，１－［４－（フェニルチオ）－，２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－，１－（Ｏ－アセチルオキシム）等のオキシムエステル系化合物が挙げられる。
　上記化合物は、市販品として入手が可能であり、その具体例としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）６５１、同１８４、同５００、同２９５９、同１２７、同７５４、同９０７、同３６９、同３７９、同３７９ＥＧ、同８１９、同８１９ＤＷ、同１８００、同１８７０、同７８４、同ＯＸＥ０１、同ＯＸＥ０２、同２５０、ＤＡＲＯＣＵＲ（登録商標）　１１７３、同ＭＢＦ、同４２６５、Ｌｕｃｉｒｉｎ（登録商標）ＴＰＯ（以上、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）、ＫＡＹＡＣＵＲＥ（登録商標）ＤＥＴＸ、同ＭＢＰ、同ＤＭＢＩ、同ＥＰＡ、同ＯＡ（以上、日本化薬株式会社製）、ＶＩＣＵＲＥ－１０、同５５（以上、ＳＴＡＵＦＦＥＲ　Ｃｏ．ＬＴＤ製）、ＥＳＡＣＵＲＥ（登録商標）ＫＩＰ１５０、同ＴＺＴ、同１００１、同ＫＴＯ４６、同ＫＢ１、同ＫＬ２００、同ＫＳ３００、同ＥＢ３、トリアジン－ＰＭＳ、トリアジンＡ、トリアジンＢ（以上、日本シイベルヘグナー株式会社製）、アデカオプトマーＮ－１７１７、同Ｎ－１４１４、同Ｎ－１６０６（株式会社ＡＤＥＫＡ（旧旭電化工業株式会社）製）が挙げられる。
　上記光重合開始剤は、単独又は２種以上の組み合わせで使用することができる。
　本発明のインプリント材料における（Ｃ）成分の含有量は、上記（Ａ）成分及び上記（Ｂ）成分の総質量に対して、０．５ｐｈｒ乃至３０ｐｈｒであることが好ましく、１ｐｈｒ乃至２０ｐｈｒであることがより好ましい。（Ｃ）成分の含有量の割合が０．１ｐｈｒ以下の場合には、十分な硬化性が得られず、パターニング特性の悪化および耐擦傷性の低下が起こるからである。ここで、ｐｈｒとは、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総質量１００ｇに対する、光重合開始剤の質量を表す。
＜（Ｄ）成分＞
　本発明においては（Ｄ）成分として界面活性剤を含有しても良い。（Ｄ）成分である界面活性剤は、得られる塗膜の製膜性を調整する役割を果たす。
　上記界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル類、ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックコポリマー類、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンモノオレエート、ソルビタントリオレエート、ソルビタントリステアレート等のソルビタン脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノパルミテート、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリオキシエチレンソルビタントリオレエート、ポリオキシエチレンソルビタントリステアレート等のポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類等のノニオン系界面活性剤；商品名エフトップ（登録商標）ＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５２（三菱マテリアル電子化成株式会社製）、商品名メガファック（登録商標）Ｆ１７１、同Ｆ１７３、同Ｒ－０８、同Ｒ－３０（ＤＩＣ株式会社製）、フロラードＦＣ４３０、同ＦＣ４３１（住友スリーエム株式会社製）、商品名アサヒガード（登録商標）ＡＧ７１０、サーフロン（登録商標）Ｓ－３８２、同ＳＣ１０１、同ＳＣ１０２、同ＳＣ１０３、同ＳＣ１０４、同ＳＣ１０５、同ＳＣ１０６（旭硝子株式会社製）等のフッ素系界面活性剤；及びオルガノシロキサンポリマーＫＰ３４１（信越化学工業株式会社製）、ＢＹＫ（登録商標）－３０２、同－３０７、同－３２２、同－３２３、同－３３０、同－３３３、同－３７０、同－３７５、同－３７８、同－ＵＶ３５００、同－ＵＶ３５７０（ビックケミー・ジャパン株式会社製）を挙げることができる。
　上記界面活性剤は、単独又は２種以上の組み合わせで使用することができる。界面活性剤が使用される場合、その割合は、上記（Ａ）成分及び上記（Ｂ）成分の総質量に対して、好ましくは０．０１ｐｈｒ乃至４０ｐｈｒ、より好ましくは０．０１ｐｈｒ乃至１０ｐｈｒである。
＜（Ｅ）成分＞
　本発明においては（Ｅ）成分として溶剤を含有しても良い。（Ｅ）成分である溶剤は、（Ａ）成分および（Ｂ）成分である化合物の粘度調節の役割を果たす。
　上記溶剤としては、例えば、トルエン、ｐ－キシレン、ｏ－キシレン、スチレン、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコ－ルジメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコール、１－オクタノール、エチレングリコール、ヘキシレングリコール、ジアセトンアルコール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、プロピレングリコール、ベンジルアルコール、１，３－ブタンジオール、１,４－ブタンジオール、２，３－ブタンジオール、γ－ブチロラクトン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルｎ－ブチルケトン、シクロヘキサノン、２－ヘプタノン、酢酸エチル、酢酸イソプロピルケトン、酢酸ｎ－プロピル、酢酸イソブチル、酢酸ｎ－ブチル、乳酸エチル、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｔｅｒｔ－ブタノール、アリルアルコール、ｎ－プロパノール、２－メチル－２－ブタノール、イソブタノール、ｎ－ブタノール、２－メチル－１－ブタノール、１－ペンタノール、２－メチル－１－ペンタノール、２－エチルヘキサノール、トリメチレングリコール、１－メトキシ－２－ブタノール、イソプロピルエーテル、１，４－ジオキサン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド、Ｎ－シクロヘキシル－２－ピロリジンが挙げられ、上記（Ａ）成分および（Ｂ）成分の粘度を調節することができるものであれば、特に限定されるものではない。
　上記溶剤は、単独又は２種以上の組み合わせで使用することができる。
＜その他添加剤＞
　本発明のインプリント材料は、本発明の効果を損なわない限りにおいて、必要に応じて、エポキシ化合物、光酸発生剤、光増感剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、密着補助剤及び離型性向上剤から選ばれる少なくとも１種の添加剤をさらに含有することができる。
　上記エポキシ化合物は、エポキシ基又はオキシラン環を有する化合物であり、例えば、エポリード（登録商標）ＧＴ－４０１、同ＰＢ３６００、セロキサイド（登録商標）２０２１Ｐ、同２０００、同３０００、ＥＨＰＥ３１５０、ＥＨＰＥ３１５０ＣＥ、サイクロマー（登録商標）Ｍ１００（以上、ダイセル化学工業株式会社（現　株式会社ダイセル）製）、ＥＰＩＣＬＯＮ（登録商標）８４０、同８４０－Ｓ、同Ｎ－６６０、同Ｎ－６７３－８０Ｍ（以上、ＤＩＣ株式会社製）が挙げられる。
　上記光酸発生剤としては、例えば、ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）ＰＡＧ１０３、同ＰＡＧ１０８、同ＰＡＧ１２１、同ＰＡＧ２０３、同ＣＧＩ７２５（以上、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）、ＷＰＡＧ－１４５、ＷＰＡＧ－１７０、ＷＰＡＧ－１９９、ＷＰＡＧ－２８１、ＷＰＡＧ－３３６、ＷＰＡＧ－３６７（以上、和光純薬工業株式会社製）、ＴＦＥ－トリアジン、ＴＭＥ－トリアジン、ＭＰ－トリアジン、ジメトキシトリアジン、ＴＳ－９１、ＴＳ－０１（株式会社三和ケミカル製）が挙げられる。
　上記光増感剤としては、例えば、チオキサンテン系、キサンテン系、ケトン系、チオピリリウム塩系、ベーススチリル系、メロシアニン系、３－置換クマリン系、３，４－置換クマリン系、シアニン系、アクリジン系、チアジン系、フェノチアジン系、アントラセン系、コロネン系、ベンズアントラセン系、ペリレン系、ケトクマリン系、フマリン系、ボレート系が挙げられる。
　上記光増感剤は、単独又は２種以上の組み合わせで使用することができる。当該光増感剤を用いることによって、ＵＶ領域の吸収波長を調整することもできる。
　上記紫外線吸収剤としては、例えば、ＴＩＮＵＶＩＮ（登録商標）ＰＳ、同９９－２、同１０９、同３２８、同３８４－２、同４００、同４０５、同４６０、同４７７、同４７９、同９００、同９２８、同１１３０、同１１１ＦＤＬ、同１２３、同１４４、同１５２、同２９２、同５１００、同４００－ＤＷ、同４７７－ＤＷ、同９９－ＤＷ、同１２３－ＤＷ、同５０５０、同５０６０、同５１５１（以上、ＢＡＳＦジャパン株式会社）が挙げられる。
　上記紫外線吸収剤は、単独又は２種以上の組み合わせで使用することができる。当該紫外線吸収剤を用いることによって、光硬化時に膜の最表面の硬化速度を制御することができ、離型性を向上できる場合がある。
　上記酸化防止剤としては、例えば、ＩＲＧＡＮＯＸ（登録商標）１０１０、同１０３５、同１０７６、同１１３５、同１５２０Ｌ（以上、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）等が挙げられる。
　上記酸化防止剤は、単独又は２種以上の組み合わせで使用することができる。当該酸化防止剤を用いることで、酸化によって膜が黄色に変色することを防止することができる。
　上記密着補助剤としては、例えば、３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－アクリロキシプロピルトリメトキシシランが挙げられる。当該密着補助剤を用いることによって、基材との密着性が向上する。当該密着補助剤の含有量は、上記（Ａ）成分及び上記（Ｂ）成分の総質量に対して、好ましくは５ｐｈｒ乃至５０ｐｈｒ、より好ましくは１０ｐｈｒ乃至５０ｐｈｒである。
　上記離型性向上剤としては、シリコーンユニット含有化合物又はフッ素含有化合物が挙げられる。シリコーンユニット含有化合物としては、Ｘ－２２－１６４、Ｘ－２２－１６４ＡＳ、Ｘ－２２－１６４Ａ、Ｘ－２２－１６４Ｂ、Ｘ－２２－１６４Ｃ、Ｘ－２２－１６４Ｅ、Ｘ－２２－１６３、Ｘ－２２－１６９ＡＳ、Ｘ－２２－１７４ＤＸ、Ｘ－２２－２４２６、Ｘ－２２－９００２、Ｘ－２２－２４７５、Ｘ－２２－４９５２、ＫＦ－６４３、Ｘ－２２－３４３、Ｘ－２２－２０４６（以上、信越化学工業株式会社製）が挙げられる。フッ素含有化合物としては、Ｒ－５４１０、Ｒ－１４２０、Ｍ－５４１０、Ｍ－１４２０、Ｅ－５４４４、Ｅ－７４３２、Ａ－１４３０、Ａ－１６３０（以上ダイキン工業株式会社製）が挙げられる。
　本発明のインプリント材料は、少なくとも１つの重合性基を有し、かつエチレンオキサイドユニットを有さない化合物をさらに含有することができる。当該化合物の含有量は、上記（Ａ）成分及び上記（Ｂ）成分の総質量に対して、好ましくは０．０１ｐｈｒ乃至２００ｐｈｒ、より好ましくは０．１ｐｈｒ乃至１００ｐｈｒである。
　上記少なくとも１つの重合性基を有し、かつエチレンオキサイドユニットを有さない化合物としては、例えば、アクリル酸、ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＮＰＧＤＡ、同ＰＥＴ－３０、同ＤＰＨＡ（以上、日本化薬株式会社製）が挙げられる。これらのうち何れかを用いることで、本発明のインプリント材料の粘度を調整することができる。
＜インプリント材料の調製＞
　本発明のインプリント材料の調製方法は、特に限定されないが、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分、並びに任意成分である（Ｄ）成分及び（Ｅ）成分並びに所望によりその他添加剤が均一に混合した状態であれば良い。また、（Ａ）成分乃至（Ｅ）成分並びに所望によりその他添加剤を混合する際の順序は、均一な溶液が得られるなら問題なく、特に限定されない。当該調製方法としては、例えば、（Ａ）成分に（Ｂ）成分を所定の割合で混合する方法が挙げられる。また、これに更に（Ｃ）成分、（Ｄ）成分及び（Ｅ）成分を混合し、均一な溶液とする方法も挙げられる。さらに、この調製方法の適当な段階において、必要に応じて、その他の添加剤を更に添加して混合する方法が挙げられる。
　本発明のインプリント材料は、基材に塗布し光硬化することで所望の被膜を得ることができる。塗布方法としては、公知又は周知の方法、例えば、スピンコート法、ディップ法、フローコート法、インクジェット法、スプレー法、バーコート法、グラビアコート法、スリットコート法、ロールコート法、転写印刷法、刷毛塗り、ブレードコート法、エアーナイフコート法を挙げることができる。
　本発明のインプリント材料を塗布するための基材としては、例えば、シリコン、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）が成膜されたガラス（ＩＴＯ基板）、シリコンナイトライド（ＳｉＮ）が成膜されたガラス（ＳｉＮ基板）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）が成膜されたガラス、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、アクリル、プラスチック、ガラス、石英、セラミックス等からなる基材を挙げることができる。また、可撓性を有するフレキシブル基材を用いることも可能である。
　本発明のインプリント材料を硬化させる光源としては、特に限定されないが、例えば、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ＫｒＦエキシマーレーザー、ＡｒＦエキシマーレーザー、Ｆ2エキシマーレーザー、電子線（ＥＢ）、極端紫外線（ＥＵＶ）等を挙げることができる。また、波長は、一般的には、４３６ｎｍのＧ線、４０５ｎｍのＨ線、３６５ｎｍのＩ線、又はＧＨＩ混合線を用いることができる。さらに、露光量は、好ましくは、３０乃至２０００ｍＪ／ｃｍ2、より好ましくは３０乃至１０００ｍＪ／ｃｍ2である。
　なお、前述の（Ｅ）成分である溶剤を用いる場合には、光照射前の被膜及び光照射後の被膜の少なくとも一方に対し、溶剤を蒸発させる目的で、焼成工程を加えても良い。焼成機器としては、特に限定されるものではなく、例えば、ホットプレート、オーブン、ファーネスを用いて、適切な雰囲気下、すなわち大気、窒素等の不活性ガス、又は真空中で焼成することができるものであればよい。焼成温度は、溶媒を蒸発させる目的では、特に限定されないが、例えば、４０℃乃至２００℃で行うことができる。
　光インプリントを行う装置は、目的のパターンが得られれば、特に限定されないが、例えば、東芝機械株式会社のＳＴ５０、Ｏｂｄｕｃａｔ社製のＳｉｎｄｒｅ（登録商標）６０、明昌機工株式会社製のＮＭ－０８０１ＨＢ等の市販されている装置を用いることができる。
　また、本発明で用いる光インプリント用に使用するモールド材としては、例えば、石英、シリコン、ニッケル、アルミナ、カルボニルシラン、グラッシーカーボンを挙げることができるが、目的のパターンが得られるなら、特に限定されない。また、モールドは、離型性を高めるために、その表面にフッ素系化合物等の薄膜を形成する離型処理を行っても良い。離型処理に用いる離型剤としては、例えば、ダイキン工業株式会社製のオプツール（登録商標）ＨＤが挙げられるが、目的のパターンが得られるなら、特に限定されない。
　光インプリントのパターンは、目的の電子デバイスに適合したパターンを選択すればよく、パターンサイズもこれに準ずる。パターンサイズは、例えば、ナノメートルオーダー及びマイクロメートルオーダーである。
　以下、実施例及び比較例を挙げて、本発明を更に詳しく説明するが、本発明は、これら実施例に限定されるものでない。
（合成例１）
　攪拌機、温度計及びコンデンサーを備えた５００ｍＬ容のフラスコにトルエン６０．８質量部、ステアリルアルコール（ＮＡＡ－４６；日本油脂株式会社製、水酸基価：２０７）８．４質量部を仕込み４０℃まで昇温した。その後ステアリルアルコールが完全に溶解したのを確認し、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート変性タイプ（タケネート（登録商標）Ｄ－１７０Ｎ；三井化学株式会社製、ＮＣＯ％：２０．９）５０質量部を仕込み７０℃まで昇温させた。同温度で３０分反応後、ジブチル錫ジラウレートを０．０２質量部仕込み同温度で３時間保持した。その後、ポリカプロラクトン変性ヒドロキシエチルアクリレート（プラクセル（登録商標）ＦＡ２Ｄ；ダイセル化学工業株式会社（現　株式会社ダイセル）製、水酸基価：１６３）８３．５質量部、ジブチル錫ジラウレート０．０２質量部、ハイドロキノンモノメチルエーテル０．０２質量部を仕込み、７０℃で３時間保持して反応を終了した後、エバポレーターでトルエンを除去し、固形分１００質量％のウレタンアクリレート（Ｉ）を得た。
（合成例２）
　合成例１と同様のフラスコにトルエン４８．２質量部、ステアリルアルコール（ＮＡＡ－４６）４．２質量部を仕込み４０℃まで昇温した。その後ステアリルアルコールが完全に溶解したのを確認し、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート変性タイプ（タケネート（登録商標）Ｄ－１７０Ｎ）２５質量部を仕込み７０℃まで昇温させた。同温度で３０分反応後、ジブチル錫ジラウレートを０．０２質量部仕込み同温度で３時間保持した。その後、ポリカプロラクトン変性ヒドロキシエチルアクリレート（プラクセル（登録商標）ＦＡ５；ダイセル化学工業株式会社（現　株式会社ダイセル）製、水酸基価：８１．８）８３．３質量部、ジブチル錫ジラウレート０．０２質量部、ハイドロキノンモノメチルエーテル０．０２質量部を仕込み、７０℃で３時間保持して反応を終了した後、エバポレーターでトルエンを除去し、固形分１００質量％のウレタンアクリレート（ＩＩ）を得た。
（合成例３）
　合成例１と同様のフラスコにトルエン４４．８質量部、ステアリルアルコール（ＮＡＡ－４６）４．６質量部を仕込み４０℃まで昇温した。その後ステアリルアルコールが完全に溶解したのを確認し、キシリレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト変性タイプ（タケネート（登録商標）Ｄ－１１０Ｎ；三井化学株式会社製、Ｎ.Ｖ.：７５、ＮＣＯ％：１１．５）５０質量部を仕込み７０℃まで昇温させた。同温度で３０分反応後、ジブチル錫ジラウレートを０．０２質量部仕込み同温度で３時間保持した。その後、ポリカプロラクトン変性ヒドロキシエチルアクリレート（プラクセル（登録商標）ＦＡ５）９１．７質量部、ジブチル錫ジラウレート０．０２質量部、ハイドロキノンモノメチルエーテル０．０２質量部を仕込み、７０℃で３時間保持して反応を終了した後、エバポレーターでトルエンを除去し、固形分１００質量％のウレタンアクリレート（ＩＩＩ）を得た。
（合成例４）
　合成例１と同様のフラスコにトルエン６１．３質量部、ベヘニルアルコール（ＮＡＡ－４２２；日本油脂株式会社製、水酸基価：１８０）９．７質量部を仕込み４０℃まで昇温した。その後ベヘニルアルコールが完全に溶解したのを確認し、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート変性タイプ（タケネート（登録商標）Ｄ－１７０Ｎ）５０質量部を仕込み７０℃まで昇温させた。同温度で３０分反応後、ジブチル錫ジラウレートを０．０２質量部仕込み同温度で３時間保持した。その後、ポリカプロラクトン変性ヒドロキシエチルアクリレート（プラクセル（登録商標）ＦＡ２Ｄ）８３．４質量部、ジブチル錫ジラウレート０．０２質量部、ハイドロキノンモノメチルエーテル０．０２質量部を仕込み、７０℃で３時間保持して反応を終了した後、エバポレーターでトルエンを除去し、固形分１００質量％のウレタンアクリレート（ＩＶ）を得た。
［膜形成用塗布液の調製］
＜実施例１＞
　ＮＫエステルＡ－ＴＭＰＴ－３ＥＯ（以下、本明細書では「Ａ－ＴＭＰＴ－３ＥＯ」と略称する。）（新中村化学株式会社製）４．５ｇと合成例１で得たウレタンアクリレート（Ｉ）０．５ｇを混合し、ＤＡＲＯＣＵＲ（登録商標）１１７３（ＢＡＳＦジャパン株式会社製）（以下、本明細書では「ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３」と略称する。）を０．２５ｇ（Ａ－ＴＭＰＴ－３ＥＯとウレタンアクリレート（Ｉ）の総質量に対して５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－１Ａを調製した。本実施例及び後述する実施例で使用するＡ－ＴＭＰＴ－３ＥＯは（Ａ）成分に該当する。本実施例並びに後述する実施例及び比較例で使用する、ウレタンアクリレート（Ｉ）は（Ｂ）成分に該当し、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３は（Ｃ）成分に該当する。
＜実施例２＞
　実施例１のＡ－ＴＭＰＴ－３ＥＯを２．５ｇ、ウレタンアクリレート（Ｉ）を２．５ｇに変更した以外は、実施例１と同様にインプリント材料ＰＮＩ－２Ａを調製した。
＜実施例３＞
　実施例１のＡ－ＴＭＰＴ－３ＥＯを０．５ｇ、ウレタンアクリレート（Ｉ）を４．５ｇに変更した以外は、実施例１と同様にインプリント材料ＰＮＩ－３Ａを調製した。
＜実施例４＞
　ＮＫエステル（登録商標）Ａ－ＴＭＰＴ－９ＥＯ（以下、本明細書では「Ａ－ＴＭＰＴ－９ＥＯ」と略称する。）（新中村化学株式会社製）４．５ｇと合成例１で得たウレタンアクリレート（Ｉ）０．５ｇを混合し、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３を０．２５ｇ（Ａ－ＴＭＰＴ－９ＥＯとウレタンアクリレート（Ｉ）の総質量に対して５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－４Ａを調製した。本実施例及び後述する実施例で使用するＡ－ＴＭＰＴ－９ＥＯは（Ａ）成分に該当する。
＜実施例５＞
　実施例４のＡ－ＴＭＰＴ－９ＥＯを２．５ｇ、ウレタンアクリレート（Ｉ）を２．５ｇに変更した以外は、実施例４と同様にインプリント材料ＰＮＩ－５Ａを調製した。
＜実施例６＞
　実施例４のＡ－ＴＭＰＴ－９ＥＯを０．５ｇ、ウレタンアクリレート（Ｉ）を４．５ｇに変更した以外は、実施例４と同様にインプリント材料ＰＮＩ－６Ａを調製した。
＜実施例７＞
　ＮＫエステル（登録商標）ＡＴＭ－４Ｅ（以下、本明細書では「ＡＴＭ－４Ｅ」と略称する。）（新中村化学株式会社製）４．５ｇと合成例１で得たウレタンアクリレート（Ｉ）０．５ｇを混合し、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３を０．２５ｇ（ＡＴＭ－４Ｅとウレタンアクリレート（Ｉ）の総質量に対して５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－７Ａを調製した。本実施例及び後述する実施例で使用するＡＴＭ－４Ｅは（Ａ）成分に該当する。
＜実施例８＞
　実施例７のＡＴＭ－４Ｅを２．５ｇ、ウレタンアクリレート（Ｉ）を２．５ｇに変更した以外は、実施例７と同様にインプリント材料ＰＮＩ－８Ａを調製した。
＜実施例９＞
　実施例７のＡＴＭ－４Ｅを０．５ｇ、ウレタンアクリレート（Ｉ）を４．５ｇに変更した以外は、実施例７と同様にインプリント材料ＰＮＩ－９Ａを調製した。
＜実施例１０＞
　ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＤＰＥＡ－１２（以下、本明細書では「ＤＰＥＡ－１２」と略称する。）（日本化薬株式会社製）４．５ｇと合成例１で得たウレタンアクリレート（Ｉ）０．５ｇを混合し、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３を０．２５ｇ（ＤＰＥＡ－１２とウレタンアクリレート（Ｉ）の総質量に対して５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－１０Ａを調製した。本実施例及び後述する実施例で使用するＤＰＥＡ－１２は（Ａ）成分に該当する。
＜実施例１１＞
　実施例１０のＤＰＥＡ－１２を２．５ｇ、ウレタンアクリレート（Ｉ）を２．５ｇに変更した以外は、実施例１０と同様にインプリント材料ＰＮＩ－１１Ａを調製した。
＜実施例１２＞
　実施例１０のＤＰＥＡ－１２を０．５ｇ、ウレタンアクリレート（Ｉ）を４．５ｇに変更した以外は、実施例１０と同様にインプリント材料ＰＮＩ－１２Ａを調製した。
＜実施例１３＞
　Ａ－ＴＭＰＴ－３ＥＯ４．５ｇと合成例２で得たウレタンアクリレート（ＩＩ）０．５ｇを混合し、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３を０．２５ｇ（Ａ－ＴＭＰＴ－３ＥＯとウレタンアクリレート（ＩＩ）の総質量に対して５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－１３Ａを調製した。本実施例並びに後述する実施例及び比較例で使用するウレタンアクリレート（ＩＩ）は（Ｂ）成分に該当する。
＜実施例１４＞
　実施例１３のＡ－ＴＭＰＴ－３ＥＯを２．５ｇ、ウレタンアクリレート（ＩＩ）を２．５ｇに変更した以外は、実施例１３と同様にインプリント材料ＰＮＩ－１４Ａを調製した。
＜実施例１５＞
　実施例１３のＡ－ＴＭＰＴ－３ＥＯを０．５ｇ、ウレタンアクリレート（ＩＩ）を４．５ｇに変更した以外は、実施例１３と同様にインプリント材料ＰＮＩ－１５Ａを調製した。
＜実施例１６＞
　Ａ－ＴＭＰＴ－９ＥＯ４．５ｇと合成例２で得たウレタンアクリレート（ＩＩ）０．５ｇを混合し、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３を０．２５ｇ（Ａ－ＴＭＰＴ－９ＥＯとウレタンアクリレート（ＩＩ）の総質量に対して５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－１６Ａを調製した。
＜実施例１７＞
　実施例１６のＡ－ＴＭＰＴ－９ＥＯを２．５ｇ、ウレタンアクリレート（ＩＩ）を２．５ｇに変更した以外は、実施例１６と同様にインプリント材料ＰＮＩ－１７Ａを調製した。
＜実施例１８＞
　実施例１６のＡ－ＴＭＰＴ－９ＥＯを０．５ｇ、ウレタンアクリレート（ＩＩ）を４．５ｇに変更した以外は、実施例１６と同様にインプリント材料ＰＮＩ－１８Ａを調製した。
＜実施例１９＞
　ＡＴＭ－４Ｅ４．５ｇと合成例２で得たウレタンアクリレート（ＩＩ）０．５ｇを混合し、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３を０．２５ｇ（ＡＴＭ－４Ｅとウレタンアクリレート（ＩＩ）の総質量に対して５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－１９Ａを調製した。
＜実施例２０＞
　実施例１９のＡＴＭ－４Ｅを２．５ｇ、ウレタンアクリレート（ＩＩ）を２．５ｇに変更した以外は、実施例１９と同様にインプリント材料ＰＮＩ－２０Ａを調製した。
＜実施例２１＞
　実施例１９のＡＴＭ－４Ｅを０．５ｇ、ウレタンアクリレート（ＩＩ）を４．５ｇに変更した以外は、実施例１９と同様にインプリント材料ＰＮＩ－２１Ａを調製した。
＜実施例２２＞
ＤＰＥＡ－１２　４．５ｇと合成例２で得たウレタンアクリレート（ＩＩ）０．５ｇを混合し、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３を０．２５ｇ（ＤＰＥＡ－１２とウレタンアクリレート（ＩＩ）の総質量に対して５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－２２Ａを調製した。
＜実施例２３＞
　実施例２２のＤＰＥＡ－１２を２．５ｇ、ウレタンアクリレート（ＩＩ）を２．５ｇに変更した以外は、実施例２２と同様にインプリント材料ＰＮＩ－２３Ａを調製した。
＜実施例２４＞
　実施例２２のＤＰＥＡ－１２を０．５ｇ、ウレタンアクリレート（ＩＩ）を４．５ｇに変更した以外は、実施例２２と同様にインプリント材料ＰＮＩ－２４Ａを調製した。
＜実施例２５＞
　Ａ－ＴＭＰＴ－３ＥＯ４．５ｇと合成例３で得たウレタンアクリレート（ＩＩＩ）０．５ｇを混合し、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３を０．２５ｇ（Ａ－ＴＭＰＴ－３ＥＯとウレタンアクリレート（ＩＩＩ）の総質量に対して５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－２５Ａを調製した。本実施例並びに後述する実施例及び比較例で使用するウレタンアクリレート（ＩＩＩ）は（Ｂ）成分に該当する。
＜実施例２６＞
　実施例２５のＡ－ＴＭＰＴ－３ＥＯを２．５ｇ、ウレタンアクリレート（ＩＩＩ）を２．５ｇに変更した以外は、実施例２５と同様にインプリント材料ＰＮＩ－２６Ａを調製した。
＜実施例２７＞
　実施例２５のＡ－ＴＭＰＴ－３ＥＯを０．５ｇ、ウレタンアクリレート（ＩＩＩ）を４．５ｇに変更した以外は、実施例２５と同様にインプリント材料ＰＮＩ－２７Ａを調製した。
＜実施例２８＞
　Ａ－ＴＭＰＴ－９ＥＯ４．５ｇと合成例３で得たウレタンアクリレート（ＩＩＩ）０．５ｇを混合し、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３を０．２５ｇ（Ａ－ＴＭＰＴ－９ＥＯとウレタンアクリレート（ＩＩＩ）の総質量に対して５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－２８Ａを調製した。
＜実施例２９＞
　実施例２８のＡ－ＴＭＰＴ－９ＥＯを２．５ｇ、ウレタンアクリレート（ＩＩＩ）を２．５ｇに変更した以外は、実施例２８と同様にインプリント材料ＰＮＩ－２９Ａを調製した。
＜実施例３０＞
　実施例２８のＡ－ＴＭＰＴ－９ＥＯを０．５ｇ、ウレタンアクリレート（ＩＩＩ）を４．５ｇに変更した以外は、実施例２８と同様にインプリント材料ＰＮＩ－３０Ａを調製した。
＜実施例３１＞
　ＡＴＭ－４Ｅ４．５ｇと合成例３で得たウレタンアクリレート（ＩＩＩ）０．５ｇを混合し、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３を０．２５ｇ（ＡＴＭ－４Ｅとウレタンアクリレート（ＩＩＩ）の総質量に対して５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－３１Ａを調製した。
＜実施例３２＞
　実施例３１のＡＴＭ－４Ｅを２．５ｇ、ウレタンアクリレート（ＩＩＩ）を２．５ｇに変更した以外は、実施例３１と同様にインプリント材料ＰＮＩ－３２Ａを調製した。
＜実施例３３＞
　実施例３１のＡＴＭ－４Ｅを０．５ｇ、ウレタンアクリレート（ＩＩＩ）を４．５ｇに変更した以外は、実施例３１と同様にインプリント材料ＰＮＩ－３３Ａを調製した。
＜実施例３４＞
　ＤＰＥＡ－１２　４．５ｇと合成例３で得たウレタンアクリレート（ＩＩＩ）０．５ｇを混合し、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３を０．２５ｇ（ＤＰＥＡ－１２とウレタンアクリレート（ＩＩＩ）の総質量に対して５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－３４Ａを調製した。
＜実施例３５＞
　実施例３４のＤＰＥＡ－１２を２．５ｇ、ウレタンアクリレート（ＩＩＩ）を２．５ｇに変更した以外は、実施例３４と同様にインプリント材料ＰＮＩ－３５Ａを調製した。
＜実施例３６＞
　実施例３４のＤＰＥＡ－１２を０．５ｇ、ウレタンアクリレート（ＩＩＩ）を４．５ｇに変更した以外は、実施例３４と同様にインプリント材料ＰＮＩ－３６Ａを調製した。
＜実施例３７＞
　Ａ－ＴＭＰＴ－３ＥＯ４．５ｇと合成例４で得たウレタンアクリレート（ＩＶ）０．５ｇを混合し、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３を０．２５ｇ（Ａ－ＴＭＰＴ－３ＥＯとウレタンアクリレート（ＩＶ）の総質量に対して５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－３７Ａを調製した。本実施例並びに後述する実施例及び比較例で使用するウレタンアクリレート（ＩＶ）は（Ｂ）成分に該当する。
＜実施例３８＞
　実施例３７のＡ－ＴＭＰＴ－３ＥＯを２．５ｇ、ウレタンアクリレート（ＩＶ）を２．５ｇに変更した以外は、実施例３７と同様にインプリント材料ＰＮＩ－３８Ａを調製した。
＜実施例３９＞
　実施例３７のＡ－ＴＭＰＴ－３ＥＯを０．５ｇ、ウレタンアクリレート（ＩＶ）を４．５ｇに変更した以外は、実施例３７と同様にインプリント材料ＰＮＩ－３９Ａを調製した。
＜実施例４０＞
　Ａ－ＴＭＰＴ－９ＥＯ４．５ｇと合成例３で得たウレタンアクリレート（ＩＶ）０．５ｇを混合し、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３を０．２５ｇ（Ａ－ＴＭＰＴ－９ＥＯとウレタンアクリレート（ＩＶ）の総質量に対して５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－４０Ａを調製した。
＜実施例４１＞
　実施例４０のＡ－ＴＭＰＴ－９ＥＯを２．５ｇ、ウレタンアクリレート（ＩＶ）を２．５ｇに変更した以外は、実施例４０と同様にインプリント材料ＰＮＩ－４１Ａを調製した。
＜実施例４２＞
　実施例４０のＡ－ＴＭＰＴ－９ＥＯを０．５ｇ、ウレタンアクリレート（ＩＶ）を４．５ｇに変更した以外は、実施例４０と同様にインプリント材料ＰＮＩ－４２Ａを調製した。
＜実施例４３＞
ＩＶＡＴＭ－４Ｅ４．５ｇと合成例３で得たウレタンアクリレート（ＩＶ）０．５ｇを混合し、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３を０．２５ｇ（ＡＴＭ－４Ｅとウレタンアクリレート（ＩＶ）の総質量に対して５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－４３Ａを調製した。
＜実施例４４＞
ＩＶ実施例４３のＡＴＭ－４Ｅを２．５ｇ、ウレタンアクリレート（ＩＶ）を２．５ｇに変更した以外は、実施例４３と同様にインプリント材料ＰＮＩ－４４Ａを調製した。
＜実施例４５＞
　実施例４３のＡＴＭ－４Ｅを０．５ｇ、ウレタンアクリレート（ＩＶ）を４．５ｇに変更した以外は、実施例４３と同様にインプリント材料ＰＮＩ－４５Ａを調製した。
＜実施例４６＞
　ＤＰＥＡ－１２　４．５ｇと合成例３で得たウレタンアクリレート（ＩＶ）０．５ｇを混合し、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３を０．５ｇ（ＤＰＥＡ－１２とウレタンアクリレート（ＩＶ）の総質量に対して５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－４６Ａを調製した。
＜実施例４７＞
　実施例４６のＤＰＥＡ－１２を２．５ｇ、ウレタンアクリレート（ＩＶ）を２．５ｇに変更した以外は、実施例４６と同様にインプリント材料ＰＮＩ－４７Ａを調製した。
＜実施例４８＞
　実施例４６のＤＰＥＡ－１２を０．５ｇ、ウレタンアクリレート（ＩＶ）を４．５ｇに変更した以外は、実施例４６と同様にインプリント材料ＰＮＩ－４８Ａを調製した。
＜実施例４９＞
　ＤＰＥＡ－１２　２．５ｇ、合成例１で得たウレタンアクリレート（Ｉ）２．５ｇ及びアクリル酸０．００５ｇを混合し、Ｌｕｃｉｒｉｎ（登録商標）ＴＰＯ（ＢＡＳＦジャパン株式会社製）（以下、本明細書では「Ｌｕｃｉｒｉｎ　ＴＰＯ」と略称する。）を０．１２５ｇ（ＤＰＥＡ－１２、ウレタンアクリレート（Ｉ）及びアクリル酸の総質量に対して２．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－４９Ａを調製した。本実施例及び後述する実施例で使用するＬｕｃｉｒｉｎ　ＴＰＯは（Ｃ）成分に該当する。
＜実施例５０＞
　ＤＰＥＡ－１２　１．２５ｇ、ウレタンアクリレート（Ｉ）１．２５ｇ及びアクリル酸２．５ｇを混合し、Ｌｕｃｉｒｉｎ　ＴＰＯを０．１２５ｇ（ＤＰＥＡ－１２、ウレタンアクリレート（Ｉ）及びアクリル酸の総質量に対して２．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－５０Ａを調製した。
＜実施例５１＞
　実施例４９のアクリル酸をＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＮＰＧＤＡ（日本化薬株式会社製）（以下、本明細書では「ＮＰＧＤＡ」と略称する。）に変更した以外は、実施例４９と同様にインプリント材料ＰＮＩ－５１Ａを調製した。本実施例及び後述する実施例で使用するＮＰＧＤＡは、重合性基を２つ有するが、エチレンオキサイドユニットを有さないため、（Ａ）成分に該当しない。
＜実施例５２＞
　実施例５０のアクリル酸をＮＰＧＤＡに変更した以外は、実施例５０と同様にインプリント材料ＰＮＩ－５２Ａを調製した。
＜実施例５３＞
　実施例４９のアクリル酸をＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＰＥＴ－３０（日本化薬株式会社製）（以下、本明細書では「ＰＥＴ－３０」と略称する。）に変更した以外は、実施例４９と同様にインプリント材料ＰＮＩ－５３Ａを調製した。本実施例及び後述する実施例で使用するＰＥＴ－３０は、重合性基を複数有するが、エチレンオキサイドユニットを有さないため、（Ａ）成分に該当しない。
＜実施例５４＞
　実施例５０のアクリル酸をＰＥＴ－３０に変更した以外は、実施例５０と同様にインプリント材料ＰＮＩ－５４Ａを調製した。
＜実施例５５＞
　実施例４９のアクリル酸をＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＤＰＨＡ（日本化薬株式会社製）（以下、本明細書では「ＤＰＨＡ」と略称する。）に変更した以外は、実施例４９と同様にインプリント材料ＰＮＩ－５５Ａを調製した。本実施例及び後述する実施例並びに比較例で使用するＤＰＨＡは、重合性基を複数有するが、エチレンオキサイドユニットを有さないため、（Ａ）成分に該当しない。
＜実施例５６＞
　実施例５０のアクリル酸をＤＰＨＡに変更した以外は、実施例５０と同様にインプリント材料ＰＮＩ－５６Ａを調製した。
＜実施例５７＞
　ＤＰＥＡ－１２　２．５ｇ、ウレタンアクリレート（Ｉ）２．５ｇ、ＮＫエステルＡＭ－３０Ｇ（新中村化学工業株式会社製）（以下、本明細書では「ＡＭ－３０Ｇ」と略称する。）０．２５ｇ及びＮＰＧＤＡ２．７５ｇを混合し、Ｌｕｃｉｒｉｎ　ＴＰＯを０．２ｇ（ＤＰＥＡ－１２、ウレタンアクリレート（Ｉ）、ＡＭ－３０Ｇ及びＮＰＧＤＡの総質量に対して２．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－５７Ａを調製した。本実施例及び後述する実施例で使用するＡＭ－３０Ｇは（Ａ）成分に該当する。
＜実施例５８＞
　実施例５７のＡＭ－３０Ｇを０．５ｇに、ＮＰＧＤＡを２．５ｇに変更した以外は、実施例５７と同様にインプリント材料ＰＮＩ－５８Ａを調製した。
＜実施例５９＞
　実施例５７のＡＭ－３０Ｇを０．７５ｇに、ＮＰＧＤＡを２．２５ｇに変更した以外は、実施例５７と同様にインプリント材料ＰＮＩ－５９Ａを調製した。
＜実施例６０＞
Ｉ実施例５７のＡＭ－３０Ｇを１ｇに、ＮＰＧＤＡを２ｇに変更した以外は、実施例５７と同様にインプリント材料ＰＮＩ－６０Ａを調製した。
＜実施例６１＞
　実施例４９のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例２で得たウレタンアクリレート（ＩＩ）に変更した以外は、実施例４９と同様にインプリント材料ＰＮＩ－６１Ａを調製した。
＜実施例６２＞
　実施例５０のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例２で得たウレタンアクリレート（ＩＩ）に変更した以外は、実施例５０と同様にインプリント材料ＰＮＩ－６２Ａを調製した。
＜実施例６３＞
　実施例５１のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例２で得たウレタンアクリレート（ＩＩ）に変更した以外は、実施例５１と同様にインプリント材料ＰＮＩ－６３Ａを調製した。
＜実施例６４＞
　実施例５２のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例２で得たウレタンアクリレート（ＩＩ）に変更した以外は、実施例５２と同様にインプリント材料ＰＮＩ－６４Ａを調製した。
＜実施例６５＞
　実施例５３のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例２で得たウレタンアクリレート（ＩＩ）に変更した以外は、実施例５３と同様にインプリント材料ＰＮＩ－６５Ａを調製した。
＜実施例６６＞
　実施例５４のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例２で得たウレタンアクリレート（ＩＩ）に変更した以外は、実施例５４と同様にインプリント材料ＰＮＩ－６６Ａを調製した。
＜実施例６７＞
　実施例５５のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例２で得たウレタンアクリレート（ＩＩ）に変更した以外は、実施例５５と同様にインプリント材料ＰＮＩ－６７Ａを調製した。
＜実施例６８＞
　実施例５６のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例２で得たウレタンアクリレート（ＩＩ）に変更した以外は、実施例５６と同様にインプリント材料ＰＮＩ－６８Ａを調製した。
＜実施例６９＞
　実施例５７のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例２で得たウレタンアクリレート（ＩＩ）に変更した以外は、実施例５７と同様にインプリント材料ＰＮＩ－６９Ａを調製した。
＜実施例７０＞
　実施例５８のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例２で得たウレタンアクリレート（ＩＩ）に変更した以外は、実施例５８と同様にインプリント材料ＰＮＩ－７０Ａを調製した。
＜実施例７１＞
　実施例５９のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例２で得たウレタンアクリレート（ＩＩ）に変更した以外は、実施例５９と同様にインプリント材料ＰＮＩ－７１Ａを調製した。
＜実施例７２＞
　実施例６０のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例２で得たウレタンアクリレート（ＩＩ）に変更した以外は、実施例６０と同様にインプリント材料ＰＮＩ－７２Ａを調製した。
＜実施例７３＞
　実施例４９のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例３で得たウレタンアクリレート（ＩＩＩ）に変更した以外は、実施例４９と同様にインプリント材料ＰＮＩ－７３Ａを調製した。
＜実施例７４＞
　実施例５０のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例３で得たウレタンアクリレート（ＩＩＩ）に変更した以外は、実施例５０と同様にインプリント材料ＰＮＩ－７４Ａを調製した。
＜実施例７５＞
　実施例５１のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例３で得たウレタンアクリレート（ＩＩＩ）に変更した以外は、実施例５１と同様にインプリント材料ＰＮＩ－７５Ａを調製した。
＜実施例７６＞
　実施例５２のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例３で得たウレタンアクリレート（ＩＩＩ）に変更した以外は、実施例５２と同様にインプリント材料ＰＮＩ－７６Ａを調製した。
＜実施例７７＞
　実施例５３のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例３で得たウレタンアクリレート（ＩＩＩ）に変更した以外は、実施例５３と同様にインプリント材料ＰＮＩ－７７Ａを調製した。
＜実施例７８＞
　実施例５４のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例３で得たウレタンアクリレート（ＩＩＩ）に変更した以外は、実施例５４と同様にインプリント材料ＰＮＩ－７８Ａを調製した。
＜実施例７９＞
　実施例５５のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例３で得たウレタンアクリレート（ＩＩＩ）に変更した以外は、実施例５５と同様にインプリント材料ＰＮＩ－７９Ａを調製した。
＜実施例８０＞
　実施例５６のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例３で得たウレタンアクリレート（ＩＩＩ）に変更した以外は、実施例５６と同様にインプリント材料ＰＮＩ－８０Ａを調製した。
＜実施例８１＞
　実施例５７のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例３で得たウレタンアクリレート（ＩＩＩ）に変更した以外は、実施例５７と同様にインプリント材料ＰＮＩ－８１Ａを調製した。
＜実施例８２＞
　実施例５８のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例３で得たウレタンアクリレート（ＩＩＩ）に変更した以外は、実施例５８と同様にインプリント材料ＰＮＩ－８２Ａを調製した。
＜実施例８３＞
　実施例５９のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例３で得たウレタンアクリレート（ＩＩＩ）に変更した以外は、実施例５９と同様にインプリント材料ＰＮＩ－８３Ａを調製した。
＜実施例８４＞
　実施例６０のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例３で得たウレタンアクリレート（ＩＩＩ）に変更した以外は、実施例６０と同様にインプリント材料ＰＮＩ－８４Ａを調製した。
＜実施例８５＞
　実施例４９のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例４で得たウレタンアクリレート（ＩＶ）に変更した以外は、実施例４９と同様にインプリント材料ＰＮＩ－８５Ａを調製した。
＜実施例８６＞
　実施例５０のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例４で得たウレタンアクリレート（ＩＶ）に変更した以外は、実施例５０と同様にインプリント材料ＰＮＩ－８６Ａを調製した。
＜実施例８７＞
　実施例５１のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例４で得たウレタンアクリレート（ＩＶ）に変更した以外は、実施例５１と同様にインプリント材料ＰＮＩ－８７Ａを調製した。
＜実施例８８＞
　実施例５２のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例４で得たウレタンアクリレート（ＩＶ）に変更した以外は、実施例５２と同様にインプリント材料ＰＮＩ－８８Ａを調製した。
＜実施例８９＞
　実施例５３のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例４で得たウレタンアクリレート（ＩＶ）に変更した以外は、実施例５３と同様にインプリント材料ＰＮＩ－８９Ａを調製した。
＜実施例９０＞
　実施例５４のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例４で得たウレタンアクリレート（ＩＶ）に変更した以外は、実施例５４と同様にインプリント材料ＰＮＩ－９０Ａを調製した。
＜実施例９１＞
　実施例５５のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例４で得たウレタンアクリレート（ＩＶ）に変更した以外は、実施例５５と同様にインプリント材料ＰＮＩ－９１Ａを調製した。
＜実施例９２＞
　実施例５６のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例４で得たウレタンアクリレート（ＩＶ）に変更した以外は、実施例５６と同様にインプリント材料ＰＮＩ－９２Ａを調製した。
＜実施例９３＞
　実施例５７のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例４で得たウレタンアクリレート（ＩＶ）に変更した以外は、実施例５７と同様にインプリント材料ＰＮＩ－９３Ａを調製した。
＜実施例９４＞
　実施例５８のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例４で得たウレタンアクリレート（ＩＶ）に変更した以外は、実施例５８と同様にインプリント材料ＰＮＩ－９４Ａを調製した。
＜実施例９５＞
　実施例５９のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例４で得たウレタンアクリレート（ＩＶ）に変更した以外は、実施例５９と同様にインプリント材料ＰＮＩ－９５Ａを調製した。
＜実施例９６＞
　実施例６０のウレタンアクリレート（Ｉ）を合成例４で得たウレタンアクリレート（ＩＶ）に変更した以外は、実施例６０と同様にインプリント材料ＰＮＩ－９６Ａを調製した。
＜比較例１＞
　ＤＰＨＡ４．５ｇと合成例１で得たウレタンアクリレート（Ｉ）０．５ｇを混合し、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３を０．５ｇ（ＤＰＨＡとウレタンアクリレート（Ｉ）の総質量に対して５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－１Ｂを調製した。本比較例及び後述する比較例は、本発明の必須成分である（Ａ）成分を含まない例である。
＜比較例２＞
　比較例１のＤＰＨＡを２．５ｇ、ウレタンアクリレート（Ｉ）を２．５ｇに変更した以外は、比較例１と同様にインプリント材料ＰＮＩ－２Ｂを調製した。
＜比較例３＞
　比較例１のＤＰＨＡを０．５ｇ、ウレタンアクリレート（Ｉ）を４．５ｇに変更した以外は、比較例１３と同様にインプリント材料ＰＮＩ－３Ｂを調製した。
＜比較例４＞
　合成例１で得たウレタンアクリレート（Ｉ）５ｇへＤＡＲＯＣＵＲ１１７３を０．２５ｇ（ウレタンアクリレート（Ｉ）の質量に対して５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－４Ｂを調製した。
＜比較例５＞
　ＤＰＨＡ４．５ｇと合成例２で得たウレタンアクリレート（ＩＩ）０．５ｇを混合し、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３を０．２５ｇ（ＤＰＨＡとウレタンアクリレート（ＩＩ）の総質量に対して５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－５Ｂを調製した。
＜比較例６＞
　比較例５のＤＰＨＡを２．５ｇ、ウレタンアクリレート（ＩＩ）を２．５ｇに変更した以外は、比較例５と同様にインプリント材料ＰＮＩ－６Ｂを調製した。
＜比較例７＞
　比較例５のＤＰＨＡを０．５ｇ、ウレタンアクリレート（ＩＩ）を４．５ｇに変更した以外は、比較例５と同様にインプリント材料ＰＮＩ－７Ｂを調製した。
＜比較例８＞
　合成例２で得たウレタンアクリレート（ＩＩ）５ｇへＤＡＲＯＣＵＲ１１７３を０．２５ｇ（ウレタンアクリレート（ＩＩ）の質量に対して５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－８Ｂを調製した。
＜比較例９＞
　ＤＰＨＡ４．５ｇと合成例３で得たウレタンアクリレート（ＩＩＩ）０．５ｇを混合し、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３を０．２５ｇ（ＤＰＨＡとウレタンアクリレート（ＩＩＩ）の総質量に対して５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－９Ｂを調製した。
＜比較例１０＞
　比較例９のＤＰＨＡを２．５ｇ、ウレタンアクリレート（ＩＩＩ）を２．５ｇに変更した以外は、比較例９と同様にインプリント材料ＰＮＩ－１０Ｂを調製した。
＜比較例１１＞
　比較例９のＤＰＨＡを０．５ｇ、ウレタンアクリレート（ＩＩＩ）を４．５ｇに変更した以外は、比較例９と同様にインプリント材料ＰＮＩ－１１Ｂを調製した。
＜比較例１２＞
　合成例３で得たウレタンアクリレート（ＩＩＩ）５ｇへＤＡＲＯＣＵＲ１１７３を０．２５ｇ（ウレタンアクリレート（ＩＩＩ）の質量に対して５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－１２Ｂを調製した。
＜比較例１３＞
　ＤＰＨＡ４．５ｇと合成例４で得たウレタンアクリレート（ＩＶ）０．５ｇを混合し、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３を０．２５ｇ（ＤＰＨＡとウレタンアクリレート（ＩＶ）の総質量に対して５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－１３Ｂを調製した。
＜比較例１４＞
　比較例１３のＤＰＨＡを２．５ｇ、ウレタンアクリレート（ＩＶ）を２．５ｇに変更した以外は、比較例１３と同様にインプリント材料ＰＮＩ－１４Ｂを調製した。
＜比較例１５＞
　比較例１３のＤＰＨＡを０．５ｇ、ウレタンアクリレート（ＩＶ）を４．５ｇに変更した以外は、比較例１３と同様にインプリント材料ＰＮＩ－１５Ｂを調製した。
＜比較例１６＞
　合成例４で得たウレタンアクリレート（ＩＶ）５ｇへＤＡＲＯＣＵＲ１１７３を０．２５ｇ（ウレタンアクリレート（ＩＶ）の質量に対して５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－１６Ｂを調製した。
［光インプリント］
　ナノインプリント装置は、ＮＭ－０８０１ＨＢ（明昌機工株式会社製）を使用した。実施例１乃至実施例９６並びに比較例１乃至比較例１６で得られた各インプリント材料を用い、パターニング試験した。パターニング試験に用いたモールドはシリコン製であり、パターンは１００ｎｍのラインアンドスペースパターン（以下、本明細書ではＬ／Ｓと略称する。）、およびピッチ２７０ｎｍ、高さ３５０ｎｍである正三角形配列のモスアイパターン（ＮＴＴアドバンステクノロジ株式会社製）（以下、本明細書ではモスアイと略称する。）の２種類を使用した。モールドは事前にオプツール（登録商標）ＤＳＸ（ダイキン工業株式会社製）をノベックＨＦＥ－７１００（住友スリーエム株式会社）（以下、本明細書ではノベックＨＦＥ－７１００と略称する。）で０．１質量％に希釈した溶液へ浸漬し、温度が９０℃、湿度が９０ＲＨ％の高温高湿装置を用いて１時間処理し、ノベックＨＦＥ－７１００でリンス後、エアーで乾燥させたものを使用した。
［スチールウール擦傷試験］
　試験機は大栄精機（有）製を使用し、♯００００のスチールウールを使用した。単位面積当たりの荷重は３８０ｇ／ｃｍ2とし、上記スチールウールを１０往復させた。また、Ｌ／Ｓパターンについてはラインと垂直方向に上記スチールウールを往復させた。擦傷後の傷本数について以下のように評価した結果を表１乃至表４に示す。
０～１０本：Ａ
１１～２０本：Ｂ
２１～３０本：Ｃ
３１～４０本：Ｄ
４１本以上：Ｅ
　実施例１で得たインプリント材料ＰＮＩ－１Ａをガラス基板上にスピンコートし、シリコン製モールドを接着させた状態で、光インプリント装置に設置した。光インプリントは、常時２３℃の条件で、ａ）１０秒間かけて１０００Ｎまで加圧、ｂ）高圧水銀ランプを用いて５００ｍＪ／ｃｍ2の露光、ｃ）１０秒間かけて除圧、ｄ）モールドと基板を分離して離型、というシーケンスで行い、Ｌ／Ｓおよびモスアイが転写された膜をそれぞれ得た。そしてそれぞれの膜について、スチールウール擦傷試験を行った。このとき、Ｌ／Ｓについてはラインと垂直方向に擦傷試験を行った。そして試験後の傷本数を観察した。
　実施例２乃至実施例９６で得た各インプリント材料を使用した以外は上記と同様の方法で、光インプリントおよびスチールウール擦傷試験を行った。
　比較例１乃至比較例１６で得た各インプリント材料を使用した以外は上記と同様の方法で、光インプリントおよびスチールウール擦傷試験を行った。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000013
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000014
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000015
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000016
　表１乃至表３の結果から実施例１乃至実施例９６で得たインプリント材料を用いた場合は、いずれもスチールウール擦傷試験後に発生する傷の本数は少なく、耐擦傷性が確認された。一方、表４の結果から比較例１乃至比較例１６で得たインプリント材料を用いた場合は、いずれも傷が多数発生し、十分な耐擦傷性は見られなかった。以上の結果から、本発明のインプリント材料を基材に塗布して得られる膜は、インプリント後も耐擦傷性を有するものとなる。
　本発明のインプリント材料により得られる膜は、固体撮像装置（ＣＣＤイメージセンサ、ＣＭＯＳイメージセンサ等）、太陽電池、ＬＥＤデバイス、ディスプレイ（液晶ディスプレイ、ＥＬディスプレイ等）、屋外に設置される看板（表示板）などの、耐擦傷性が求められる部材を使用する製品へ好適に用いることができる。

Claims (15)

  1. （Ａ）成分：エチレンオキサイドユニットを少なくとも１つ有し、かつ少なくとも１つの重合性基を有する化合物、
    （Ｂ）成分：炭素原子数が１３乃至２５の長鎖アルキル基及び重合性基を少なくとも１つ有し、ポリカプロラクトン変性されたウレタン化合物、及び
    （Ｃ）成分：光重合開始剤
    を含むインプリント材料。
  2. 前記（Ａ）成分の化合物１分子あたりのエチレンオキサイドユニット濃度は２０％以上８０％以下である、請求項１に記載のインプリント材料。
  3. 前記（Ｂ）成分は、１分子中に少なくとも３つのイソシアネート基を有する有機イソシアネートと炭素原子数が１３乃至２５の長鎖アルキル基を有するアルコールとの反応生成物及びポリカプロラクトン変性ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートを反応させることにより得られる化合物である、請求項１又は請求項２に記載のインプリント材料。
  4. 前記（Ａ）成分が少なくとも２種の化合物からなる、請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載のインプリント材料。
  5. 前記（Ａ）成分及び前記（Ｂ）成分の総質量に対する該（Ｂ）成分の割合は１０乃至９０質量％である、請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載のインプリント材料。
  6. （Ｄ）成分として界面活性剤をさらに含有する、請求項１乃至請求項５のいずれか一項に記載のインプリント材料。
  7. （Ｅ）成分として溶剤をさらに含有する、請求項１乃至請求項６のいずれか一項に記載のインプリント材料。
  8. 前記（Ａ）成分および（Ｂ）成分は重合性基として、アクリロイルオキシ基、メタアクリロイルオキシ基、ビニル基及びアリル基からなる群から選ばれる少なくとも１種の基を有する化合物であることを特徴とする、請求項１又は請求項２に記載のインプリント材料。
  9. 請求項１乃至請求項８のいずれか一項に記載のインプリント材料から作製され、パターンが転写された膜。
  10. 請求項９に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えた部材。
  11. 請求項９に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えた固体撮像装置。
  12. 請求項９に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えたＬＥＤデバイス。
  13. 請求項９に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えた太陽電池。
  14. 請求項９に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えたディスプレイ。
  15. 請求項９に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えた電子デバイス。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015041283A1 (ja) * 2013-09-18 2015-03-26 三菱レイヨン株式会社 構造体及びその製造方法、並びに前記構造体を備える物品

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107709419B (zh) * 2015-06-23 2020-09-08 夏普株式会社 具有具备杀菌作用的表面的合成高分子膜
CN106397718A (zh) * 2016-06-23 2017-02-15 汕头市东田转印有限公司 一种能受热干燥的uv树脂、其制备方法及应用
US20230392041A1 (en) * 2020-10-23 2023-12-07 The Regents Of The University Of Colorado, A Body Corporate Polymerizable composition for dental tooth and material 3d printing
CN116396460B (zh) * 2023-03-29 2024-05-10 湖北九峰山实验室 基于c-n动态共价键的纳米压印抗蚀剂及其制备方法和应用

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004244426A (ja) * 2002-02-01 2004-09-02 Natoko Kk 活性エネルギー線硬化性組成物及びその用途
JP2008202022A (ja) * 2007-01-23 2008-09-04 Fujifilm Corp 光ナノインプリントリソグラフィ用硬化性組成物およびそれを用いたパターン形成方法

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4844144A (en) * 1988-08-08 1989-07-04 Desoto, Inc. Investment casting utilizing patterns produced by stereolithography
JPH04358810A (ja) * 1991-06-06 1992-12-11 Mitsubishi Rayon Co Ltd 樹脂成形物の製造方法およびこれに用いる基材
JPH06298887A (ja) * 1993-04-09 1994-10-25 Sanyo Chem Ind Ltd 活性エネルギー線硬化組成物
JP3617699B2 (ja) * 1995-07-29 2005-02-09 大日本印刷株式会社 フレネルレンズ用紫外線硬化性樹脂組成物および透過型スクリーン
US5772905A (en) 1995-11-15 1998-06-30 Regents Of The University Of Minnesota Nanoimprint lithography
CN101104724B (zh) * 2002-02-01 2010-09-08 纳托科株式会社 光化射线可固化的组合物及其用途
TW200307733A (en) * 2002-02-01 2003-12-16 Natoco Co Ltd Composition curable with actinic energy ray and use thereof
KR101463849B1 (ko) * 2006-09-27 2014-12-04 후지필름 가부시키가이샤 광 나노임프린트 리소그래피용 경화성 조성물 및 그것을사용한 패턴 형성 방법
JP5196933B2 (ja) 2006-09-27 2013-05-15 富士フイルム株式会社 光ナノインプリントリソグラフィ用硬化性組成物およびそれを用いたパターン形成方法
DE102006046650A1 (de) * 2006-09-29 2008-04-03 Bayer Materialscience Ag Wässrige Beschichtungsmittel auf Basis von Polyurethan-Dispersionen
CN102325718B (zh) * 2008-12-30 2013-12-18 3M创新有限公司 制备纳米结构化表面的方法
JP4846867B2 (ja) * 2010-03-31 2011-12-28 三菱レイヨン株式会社 積層体及びその製造方法
WO2012029361A1 (ja) * 2010-09-01 2012-03-08 ナトコ 株式会社 硬化性組成物

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004244426A (ja) * 2002-02-01 2004-09-02 Natoko Kk 活性エネルギー線硬化性組成物及びその用途
JP2008202022A (ja) * 2007-01-23 2008-09-04 Fujifilm Corp 光ナノインプリントリソグラフィ用硬化性組成物およびそれを用いたパターン形成方法

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015041283A1 (ja) * 2013-09-18 2015-03-26 三菱レイヨン株式会社 構造体及びその製造方法、並びに前記構造体を備える物品
CN105556347A (zh) * 2013-09-18 2016-05-04 三菱丽阳株式会社 结构体及其制造方法，以及具有该结构体的物品
JPWO2015041283A1 (ja) * 2013-09-18 2017-03-02 三菱レイヨン株式会社 構造体及びその製造方法、並びに前記構造体を備える物品
CN105556347B (zh) * 2013-09-18 2017-08-01 三菱化学株式会社 结构体及其制造方法，以及具有该结构体的物品
US10259149B2 (en) 2013-09-18 2019-04-16 Mitsubishi Chemical Corporation Structure, production method thereof, and article provided with said structure

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