[go: up one dir, main page]

WO2011040292A1 - アルミニウム貫通箔及びその製造方法 - Google Patents

アルミニウム貫通箔及びその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
WO2011040292A1
WO2011040292A1 PCT/JP2010/066358 JP2010066358W WO2011040292A1 WO 2011040292 A1 WO2011040292 A1 WO 2011040292A1 JP 2010066358 W JP2010066358 W JP 2010066358W WO 2011040292 A1 WO2011040292 A1 WO 2011040292A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
foil
strength
thickness
aluminum
etching
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
PCT/JP2010/066358
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
敦志 小西
将志 目秦
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toyo Aluminum KK
Original Assignee
Toyo Aluminum KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP2009228365A external-priority patent/JP5498750B2/ja
Priority claimed from JP2010078849A external-priority patent/JP5663184B2/ja
Application filed by Toyo Aluminum KK filed Critical Toyo Aluminum KK
Priority to CN201080043277.2A priority Critical patent/CN102575322B/zh
Priority to KR1020127006861A priority patent/KR101736042B1/ko
Priority to US13/499,130 priority patent/US9331339B2/en
Publication of WO2011040292A1 publication Critical patent/WO2011040292A1/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Ceased legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01M—PROCESSES OR MEANS, e.g. BATTERIES, FOR THE DIRECT CONVERSION OF CHEMICAL ENERGY INTO ELECTRICAL ENERGY
    • H01M4/00—Electrodes
    • H01M4/02—Electrodes composed of, or comprising, active material
    • H01M4/64—Carriers or collectors
    • H01M4/66—Selection of materials
    • H01M4/661—Metal or alloys, e.g. alloy coatings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22C—ALLOYS
    • C22C21/00—Alloys based on aluminium
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22F—CHANGING THE PHYSICAL STRUCTURE OF NON-FERROUS METALS AND NON-FERROUS ALLOYS
    • C22F1/00—Changing the physical structure of non-ferrous metals or alloys by heat treatment or by hot or cold working
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22F—CHANGING THE PHYSICAL STRUCTURE OF NON-FERROUS METALS AND NON-FERROUS ALLOYS
    • C22F1/00—Changing the physical structure of non-ferrous metals or alloys by heat treatment or by hot or cold working
    • C22F1/04—Changing the physical structure of non-ferrous metals or alloys by heat treatment or by hot or cold working of aluminium or alloys based thereon
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G11/00—Hybrid capacitors, i.e. capacitors having different positive and negative electrodes; Electric double-layer [EDL] capacitors; Processes for the manufacture thereof or of parts thereof
    • H01G11/66—Current collectors
    • H01G11/68—Current collectors characterised by their material
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G11/00—Hybrid capacitors, i.e. capacitors having different positive and negative electrodes; Electric double-layer [EDL] capacitors; Processes for the manufacture thereof or of parts thereof
    • H01G11/66—Current collectors
    • H01G11/70—Current collectors characterised by their structure
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G11/00—Hybrid capacitors, i.e. capacitors having different positive and negative electrodes; Electric double-layer [EDL] capacitors; Processes for the manufacture thereof or of parts thereof
    • H01G11/74—Terminals, e.g. extensions of current collectors
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01M—PROCESSES OR MEANS, e.g. BATTERIES, FOR THE DIRECT CONVERSION OF CHEMICAL ENERGY INTO ELECTRICAL ENERGY
    • H01M4/00—Electrodes
    • H01M4/02—Electrodes composed of, or comprising, active material
    • H01M4/64—Carriers or collectors
    • H01M4/66—Selection of materials
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E60/00—Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
    • Y02E60/10—Energy storage using batteries
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E60/00—Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
    • Y02E60/13—Energy storage using capacitors
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00—Metal working
    • Y10T29/30—Foil or other thin sheet-metal making or treating
    • Y10T29/301—Method
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
    • Y10T428/12361—All metal or with adjacent metals having aperture or cut

Definitions

  • the present invention relates to a novel aluminum penetration foil. More specifically, the present invention relates to an aluminum penetrating foil suitably used for a current collector such as a lithium ion battery, a lithium ion capacitor, or an electric double layer capacitor.
  • a current collector such as a lithium ion battery, a lithium ion capacitor, or an electric double layer capacitor.
  • Lithium ions can be supported on the negative electrode active material by allowing lithium ions to move reversibly through the through holes of the current collector.
  • a method for producing a current collector having a through hole for example, punching, meshing, expanding, and netting are known.
  • the size of the through hole formed by these methods is generally 0. 0. 3 mm or more.
  • the strength of the current collector is reduced accordingly, and the problem of strength reduction becomes greater with a relatively large hole diameter as described above.
  • an electrode using a current collector having relatively fine through holes has been proposed.
  • a positive electrode made of a material capable of reversibly supporting lithium ions and / or anions and a negative electrode made of a material capable of reversibly supporting lithium ions are provided, and an aprotic organic lithium salt is used as an electrolyte.
  • a lithium ion capacitor comprising a solvent electrolyte solution, wherein (1) lithium ions are doped into the negative electrode and / or positive electrode by electrochemical contact between the negative electrode and / or positive electrode and a lithium ion supply source;
  • the potential of the positive electrode after short-circuiting the negative electrode is 2.0 V or less, (3) the positive electrode and / or the negative electrode has a large number of holes penetrating the front and back surfaces, and an inscribed circle of these through holes
  • a lithium ion capacitor having a current collector made of a metal foil having an average diameter of 100 ⁇ m or less Patent Document 1.
  • the current collector is made of an aluminum etching foil having a thickness of 20 to 45 ⁇ m, an apparent density of 2.00 to 2.54 g / cm 3 , and having a large number of through holes penetrating the front and back surfaces having an air permeability of 20 to 120 s.
  • an electrode layer formed by applying a paint containing a material capable of reversibly supporting lithium ions and anions as an active material on the current collector A coated electrode is known in which 80% or more of the through holes of the current collector have a hole diameter of 1 to 30 ⁇ m (Patent Document 2).
  • aluminum foil for electrolytic capacitors is known as an aluminum foil having a uniform crystal orientation (for example, Patent Document 3 and Patent Document 4).
  • batteries and capacitors are strongly required to be light and small in size as well as high energy density and high output density. With such a demand, there is a demand for reducing the thickness of the current collector.
  • a main object of the present invention is to provide an aluminum foil having a large number of through holes and a desired foil strength.
  • the present inventor has found that the above object can be achieved by subjecting an aluminum foil having a through hole to a predetermined processing, thereby completing the present invention. It came.
  • this invention relates to the following aluminum penetration foil and its manufacturing method.
  • An aluminum through foil having a plurality of through holes from the foil surface to the back surface, (1) The foil thickness is 50 ⁇ m or less, (2) The breaking strength is [0.2 ⁇ foil thickness ( ⁇ m)] N / 10 mm or more.
  • a high-strength aluminum penetration foil characterized by that. 2.
  • Item 2. The high-strength aluminum penetrating foil according to Item 1, wherein the breaking strength is [0.3 ⁇ foil thickness ( ⁇ m)] N / 10 mm or more. 3.
  • the high-strength aluminum penetrating foil according to Item 1 wherein the density of the through-holes is 1 ⁇ 10 4 pieces / cm 2 or more. 5.
  • Item 2. The high-strength aluminum penetrating foil according to Item 1, wherein the [proof value / breaking strength] is 50% or more. 6).
  • Item 2. The high-strength aluminum penetrating foil according to Item 1, wherein the air permeability measured by a gas permeability test method using a Gurley type densometer according to JIS P 8117 is 5 sec / 100 ml or more. 7). 2.
  • Item 2 The high-strength aluminum penetrating foil according to Item 1, wherein the surface area expansion ratio is a value of [0.10 ⁇ foil thickness ( ⁇ m)] or more. 9. Item 2. The high-strength aluminum penetrating foil according to Item 1, having a composition comprising Fe: 5 to 80 ppm by weight, Si: 5 to 100 ppm by weight, Cu: 10 to 100 ppm by weight, and the balance: Al and inevitable impurities. 10. Item 2. The high-strength aluminum penetrating foil according to Item 1, wherein the ratio [c / t] of the vertical through-hole occupation ratio c (%) and the foil thickness t ( ⁇ m) in the aluminum penetrating foil is 1.4 or more. 11. 2.
  • the method for producing a high-strength aluminum penetrating foil according to item 1 comprising a step of embossing the aluminum penetrating foil having a plurality of through-holes from the foil surface to the back surface.
  • a method for producing a penetrating foil. 12 2.
  • the manufacturing method of high-strength aluminum penetration foil comprising a step of embossing the aluminum penetrating foil having a plurality of through-holes from the foil surface to the back surface.
  • the aluminum through foil of the present invention it is possible to provide an aluminum foil having a number of through holes and a desired foil strength.
  • the foil has a large number of through holes, and the foil thickness is as thin as 50 ⁇ m or less (particularly 25 ⁇ m or less), and at the same time the breaking strength is [0.3 ⁇ foil thickness ( ⁇ m)] N / 10mm or more, and the elongation at break is [0.05 ⁇ foil thickness ( ⁇ m)]% or less, so that it can function as a current collector, etc. It can be carried out. That is, as a result of effectively avoiding wrinkles and the like during coating on the Al foil of the present invention, smooth post-processing is possible. For example, it is possible to smoothly apply a paste containing an electrode active material without any trouble.
  • the aluminum through-foil of Embodiment 2 has sufficient through-holes to obtain excellent characteristics as a current collector even if the foil thickness is as thin as 50 ⁇ m or less (particularly 25 ⁇ m or less), and facilitates subsequent processes.
  • strength which can be performed to can be provided. That is, the high-strength aluminum penetrating foil of the present invention has a breaking strength of [0.2 ⁇ foil thickness ( ⁇ m)] N / 10 mm or more, and [proof strength value / breaking strength] (ratio of strength value to breaking strength). ) Can exhibit an excellent characteristic of 50% or more.
  • Such an aluminum penetrating foil can be suitably used as a current collector such as a lithium ion battery, a lithium ion capacitor, or an electric double layer capacitor.
  • a lithium ion capacitor or a lithium ion secondary battery includes 1) a positive electrode made of a material capable of reversibly carrying lithium ions and / or anions, and 2) a negative electrode made of a material capable of reversibly carrying lithium ions and 3
  • the aluminum through-foil of the present invention is useful as a current collector that contains an electrolyte solution containing lithium ions and is doped with lithium ions on the positive electrode and / or the negative electrode.
  • the high-strength aluminum penetrating foil of the present invention is an aluminum penetrating foil having a plurality of through-holes from the foil surface to the back surface, (1)
  • the foil thickness is 50 ⁇ m or less
  • the breaking strength is [0.2 ⁇ foil thickness ( ⁇ m)] N / 10 mm or more. It is characterized by that.
  • the Al foil of the present invention has a plurality of through holes from the foil surface to the back surface.
  • FIG. 1 the schematic diagram of the cross section of this invention Al foil is shown.
  • the Al foil 1 of the present invention has a plurality of through holes 2 extending from the foil surface 11 to the back surface 12.
  • Such a through hole can be formed by performing an etching process.
  • preferred embodiments 1 and 2 of the present invention will be described as representative examples.
  • Embodiment 1 (A-1) Al foil according to Embodiment 1
  • the Al foil according to Embodiment 1 is an aluminum through foil having a plurality of through holes from the foil surface to the back surface, (1) The foil thickness is 50 ⁇ m or less, (2) The breaking strength is [0.3 ⁇ foil thickness ( ⁇ m)] N / 10 mm or more, (3) The elongation at break is [0.05 ⁇ foil thickness ( ⁇ m)]% or less, It is characterized by that.
  • the inner diameter of the through-hole through holes, Al foil applications and can be set appropriately according to the intended use or the like, normally is preferably set to 0.2 ⁇ 5 [mu] m, particularly 0.5 ⁇ 3 [mu] m.
  • the inner diameter of the through hole can be appropriately controlled by adjusting the etching time particularly during the etching process.
  • the ratio of the presence of the through holes is not particularly limited, but in general, the air permeability measured by a Gurley densometer according to JIS P 8117 is 5 sec / 100 ml or more, particularly 20 sec / 100 ml. The above is preferable. By having such air permeability, even if an active material is applied to the Al foil of the present invention, the active material does not get through, and the active material is not applied to unnecessary portions. The effect that pre-processing becomes unnecessary is acquired.
  • the upper limit value of the air permeability is not particularly limited, but is usually about 500 sec / 100 ml.
  • the ratio [c / t] of the vertical through-hole occupation ratio c (%) and the foil thickness t ( ⁇ m) in the aluminum through foil is 1.4 or more, preferably 1.5 or more. More preferably, it is 1.6 or more.
  • the Al foil of the present invention exhibits a higher vertical through-hole occupation ratio even at the same thickness as compared with the conventional aluminum through foil. That is, the Al foil of the present invention has a higher vertical through-hole occupancy rate despite its small thickness.
  • the thickness of the high-purity aluminum foil is reduced, the cube orientation occupancy decreases, and the vertical through-hole occupancy decreases accordingly.
  • the cube orientation occupancy corresponds to a value about the value of foil thickness ( ⁇ m)%.
  • the cube orientation occupation ratio is approximately 55%.
  • the present invention by controlling the content of Fe, Si, Cu, etc., it is possible to realize a higher cubic orientation occupancy than the prior art even with a thin foil. It becomes possible to increase the occupation ratio.
  • the value of the vertical through-hole occupancy itself in the Al foil of the present invention is not particularly limited because it varies depending on the foil thickness and the like, but is generally 30 to 98%, particularly 40 to 98%. If it is in the range.
  • the through holes are 70 to 110 from the horizontal plane.
  • a vertical through hole is defined as an angle having an angle in the range of degrees (that is, 90 ° ⁇ 20 °), and the ratio of the vertical through hole to the total number of through holes is defined as the vertical through hole occupation ratio. Therefore, the vertical through-hole occupation ratio in the present invention is almost the same value as the cube orientation occupation ratio of the aluminum foil before etching.
  • the surface area expansion ratio is a value of [0.10 ⁇ foil thickness t ( ⁇ m)] or more, and particularly preferably a value of [0.15 ⁇ foil thickness t ( ⁇ m)] or more. .
  • the density of the through holes is not limited, but usually it is preferably 1 ⁇ 10 4 pieces / cm 2 or more, and more preferably 5 ⁇ 10 4 pieces / cm 2 or more. .
  • the density of the through holes is 1 ⁇ 10 4 pieces / cm 2 or more, for example, it is possible to more effectively prevent the pre-doping time from being delayed.
  • the thickness of the Al foil of the present invention is usually 50 ⁇ m or less, preferably 40 ⁇ m or less, more preferably 25 ⁇ m or less. By setting to the above thickness, it can be suitably used as a current collector of a lithium ion capacitor.
  • the lower limit value of the thickness is not limited, but is usually about 1 ⁇ m.
  • the “foil thickness” in the present invention refers to the thickness of a portion not subjected to embossing described later.
  • the embossed foil thickness of the present invention is usually 95 ⁇ m or less, preferably 90 ⁇ m or less. By setting to the above thickness, it can be suitably used as a current collector of a lithium ion capacitor.
  • the lower limit value of the thickness is not limited, but is usually about 1.3 ⁇ m.
  • the “embossed foil thickness” in the present invention refers to the total thickness t including the height (depth) of the embossed shape in the embossed Al foil 31 as shown in FIG.
  • the Al foil of the present invention has a breaking strength of [0.3 ⁇ foil thickness ( ⁇ m)] N / 10 mm or more, preferably [0.35 ⁇ foil thickness ( ⁇ m)] N / 10 mm or more. is there.
  • the breaking strength is 15 N / 10 mm or more.
  • the breaking strength generally decreases as the foil thickness decreases, but in the present invention, the degree of decrease is small, and the same foil thickness shows a higher breaking strength than the conventional product.
  • the Al foil of the present invention has a relatively high breaking strength of about 8 to 15 N / 10 mm at a thickness of 30 to 50 ⁇ m, but may have a higher breaking strength.
  • the upper limit of the breaking strength is not limited, it is usually about 50 N / 10 mm if the foil thickness is 50 ⁇ m or less, and usually about 25 N / 10 mm if the foil thickness is 25 ⁇ m or less.
  • the elongation at break in the Al foil of the present invention is [0.05 ⁇ foil thickness ( ⁇ m)]% or less, preferably [0.04 ⁇ foil thickness ( ⁇ m)]% or less.
  • the elongation at break exceeds [0.05 ⁇ foil thickness ( ⁇ m)]%, there is a problem that wrinkles are likely to occur during coating, and burrs are likely to occur at the end during punching.
  • by setting the breaking elongation within the above range it is possible to obtain an effect that wrinkles are less likely to occur during coating, and burrs are less likely to occur at the end during punching.
  • composition of the Al foil of the present invention is not limited as long as it has the above-mentioned characteristics, and a composition in a known Al foil can also be adopted.
  • Fe 5 to 80 ppm by weight
  • Si 5 to 100 ppm by weight
  • Cu 10 to 100 ppm by weight
  • Al and inevitable impurities can be suitably employed.
  • the Fe content is usually about 5 to 80 ppm, preferably 10 to 50 ppm.
  • Fe is an element that can be crystallized as an Al—Fe-based compound to improve rolling properties and elongation.
  • an appropriate amount of the Al—Fe-based compound refines the crystal grains by crystal nucleation sites and pinning, and improves the rollability of the thin foil.
  • the Fe content is less than 5 ppm, the above effect cannot be obtained, and the strength of the foil is reduced due to the coarsening of the crystal grains, and the strength of the penetrating foil is reduced and the strength varies depending on the part.
  • the Fe content exceeds 80 ppm, excessive dissolution occurs on the surface, leading to a decrease in strength of the penetrating foil and a variation in strength due to the site. Further, the occupation ratio of the cube orientation is lowered, and a sufficient through etching pit density cannot be obtained.
  • the Si content is usually about 5 to 100 ppm, preferably 10 to 60 ppm.
  • Si is an element that can mainly improve the strength.
  • an instantaneous temperature rise is caused not only on the surface of the aluminum penetrating foil but also on the inside, but dislocation disappears due to the presence of silicon. It can suppress and the fall of intensity
  • the Si content is less than 5 ppm, the above effects cannot be obtained, and the strength is lowered, and the strength of the penetrating foil is easily reduced and the strength varies depending on the portion.
  • the Si content exceeds 100 ppm, the occupation ratio of the cube orientation becomes low, and a sufficient through etching pit density cannot be obtained.
  • the Cu content is usually about 10 to 100 ppm, preferably 15 to 60 ppm.
  • the rollability when rolling to a foil thickness of 25 ⁇ m or less can be further improved.
  • Cu also improves the solubility during hydrochloric acid etching and contributes to the formation of through-etching pits.
  • the above effect cannot be obtained sufficiently, and the rollability of the thin foil is remarkably lowered.
  • the content of Cu exceeds 100 ppm, excessive dissolution occurs on the surface, leading to a decrease in strength of the penetrating foil and a variation in strength due to the site. Further, the occupation ratio of the cube orientation is lowered, and a sufficient through etching pit density cannot be obtained.
  • the Al foil of the present invention may contain Pb as necessary.
  • Pb mainly promotes the reaction between the electrolytic solution used for the etching process and the aluminum foil and increases the initial number of etching pits, so that a higher penetration etching density can be achieved.
  • the Pb content is usually about 0.01 to 20 ppm, preferably 0.05 to 10 ppm.
  • Pb mainly promotes the reaction between the electrolytic solution used for the etching treatment and the aluminum foil and increases the initial number of etching pits, so that a higher penetration etching density can be achieved.
  • the content of Pb in the case of containing Pb can be appropriately adjusted so as to achieve the above effects, but it is usually about 0.01 to 20 ppm, preferably 0.05 to 10 ppm.
  • Pb in the Al foil of the present invention, it is desirable to set Pb to be in the range of 40 to 2000 ppm in the region from the surface of the aluminum foil to a depth of 0.1 ⁇ m.
  • the penetration etching density can be further increased.
  • Such adjustment of the Pb content can be carried out, for example, by adjusting the amount of Pb added to the molten aluminum in the production stage of the aluminum foil and further controlling the annealing temperature within a range of 450 ° C. or higher. .
  • the balance is substantially made of Al and inevitable impurities.
  • the aluminum purity in the aluminum alloy foil of the present invention is not particularly limited as long as it is within a range that can be used for a current collector.
  • Inevitable impurities may include, for example, Mg, Mn, Zn, Ti, V, Ga, Cr, Zr, and B.
  • Embodiment 1 includes a method for producing a high-strength aluminum penetrating foil characterized by including a step of embossing (processing according to the present invention) an aluminum penetrating foil having a plurality of through holes extending from the foil surface to the back surface.
  • a step of embossing processing according to the present invention
  • an Al foil can be suitably manufactured.
  • the aluminum penetrating foil (raw foil) can be prepared by a known method, but it is particularly preferable to prepare it according to the following method.
  • an ingot is produced by preparing a molten raw material having the above composition and solidifying the molten metal.
  • the homogenization temperature is 550 ° C. or lower.
  • the ingot is hot rolled and cold rolled to obtain a thick foil of about 350 ⁇ m.
  • the thickness of the thin foil after rolling is preferably 110 to 130% of the thickness of the final foil.
  • the temperature of cold rolling itself can be implemented within the temperature range which does not exceed 120 degreeC.
  • the thin foil rolling (at least the final rolling (that is, rolling for obtaining the final foil)) has an average roughness Ra of the rolling roll of 0.25 ⁇ m or less, particularly 0.20 ⁇ m or less, and further 0.18 ⁇ m or less. It is preferable that In this case, the average roughness Ra of the thin foil obtained is 0.25 ⁇ m or less, particularly 0.20 ⁇ m or less, and further 0.18 ⁇ m or less on the surface in contact with the rolling roll.
  • a thin foil when a thin foil is obtained by rolling a thick foil, it is preferable to perform rolling while ensuring a surface that does not contact the rolling roll.
  • By securing a surface that does not come into contact with the rolling roll it is possible to eliminate a factor that hinders the movement of crystal grains, and thereby a high cube orientation occupation ratio can be obtained even with a thin foil.
  • the total thickness when the foils are overlapped is preferably 350 ⁇ m or less. Separation of the laminated foils can be carried out before and / or after the next step, annealing. Also in this combined rolling, it is preferable that the average roughness Ra of the rolling roll is 0.25 ⁇ m or less, particularly 0.20 ⁇ m or less, and further 0.18 ⁇ m or less.
  • the heat treatment temperature is desirably 350 ° C. or lower.
  • the atmosphere of the intermediate annealing is not limited, and may be any of, for example, vacuum, air, inert gas atmosphere, and the like.
  • the thin foil is further cold-rolled to obtain a final foil having a desired foil thickness (a foil having a final foil thickness). That is, a foil having a thickness of 50 ⁇ m or less can be obtained by this cold rolling.
  • the average roughness Ra of the rolling roll is preferably 0.25 ⁇ m or less, particularly 0.20 ⁇ m or less, and further preferably 0.18 ⁇ m or less.
  • the foil may be washed for the purpose of removing rolling oil, impurities and oxide film on the foil surface, for example. You may dry suitably after washing
  • high-temperature annealing is performed with excessively applied rolling oil, a part of the foil surface is yellowed in a spot shape, and etching pits having a desired shape may not be obtained even if etching is performed.
  • the annealing temperature is not limited, it is usually 450 ° C. or higher, preferably 450 ° C. or higher and lower than 660 ° C., more preferably 500 to 620 ° C.
  • the annealing temperature is lower than 450 ° C., the cube orientation ratio is lowered, and there is a possibility that etching pits having a desired shape cannot be obtained even if etching is performed.
  • the annealing time is generally about 1 to 100 hours, although it depends on the annealing temperature.
  • the annealing atmosphere is desirably substantially a vacuum or an inert gas atmosphere.
  • the temperature exceeds 350 ° C. including the temperature raising and lowering steps, it is desirable to reduce the oxygen concentration in the annealing atmosphere as much as possible industrially. That is, it is desirable that the pressure be 10 ⁇ 5 Torr or less or an inert gas atmosphere containing 0 to 1% by volume of oxygen.
  • an inert gas atmosphere in which the oxygen concentration in the vacuum atmosphere or annealing atmosphere exceeding 10 ⁇ 5 Torr exceeds 1.0% by volume, a part of the foil surface after annealing turns yellow into a spot shape, and etching treatment is performed.
  • the through hole is formed by performing an etching process on the foil (final foil) thus obtained.
  • the method for the etching treatment is not limited, and a desired through hole may be formed by one-stage etching, or may be performed in two stages or more.
  • a desired through hole is suitably formed by forming at least two stages of etching and forming a through hole by the first stage etching and adjusting the inner diameter of the through hole by the second stage etching. Can do.
  • the first-stage etching is preferably direct-current etching in an electrolyte containing hydrochloric acid as a main component.
  • etching pits are mainly formed and the density and shape (through shape) can be controlled.
  • the electrolytic solution an aqueous solution in which 1 to 10% by weight of hydrochloric acid is dissolved in water can be used. In this case, 0.001 to 0.1% by weight of oxalic acid, phosphoric acid, sulfuric acid or the like may be added to the electrolytic solution.
  • the liquid temperature is about 60 to 90 ° C.
  • the current density is about 0.1 to 0.5 A / cm 2 .
  • the etching method is preferably direct current etching.
  • the etching time can be appropriately set according to the foil thickness, the target air permeability, and the like.
  • the etching pit diameter can be mainly controlled.
  • chemical etching can be performed in a liquid having the same composition and temperature as the first-stage etching.
  • the etching time can be appropriately set according to, for example, the foil thickness and the target air permeability.
  • hydrochloric acid it is not always necessary to use hydrochloric acid as a main component, and it may be an electrolyte containing nitric acid as a main component.
  • electrolytic etching instead of chemical etching.
  • “second-stage etching” may be further multi-staged by combining chemical etching, electrolytic etching, and etching solution composition.
  • the present invention processing is carried out. That is, embossing of the raw foil is performed.
  • the foil thickness of the original foil may be changed somewhat after the processing of the present invention as long as the through-hole is substantially retained, but the rate of change of the foil thickness is 10% or less, particularly 5% or less. Furthermore, it is preferable to make it 1% or less. That is, it is most preferable to emboss the original foil while substantially maintaining the thickness of the original foil.
  • the rate of change is controlled within the above range.
  • the aluminum foil is heat-treated (annealed) and completely recrystallized before etching, and preferably one recrystallized grain is the foil. It is necessary to penetrate the cross section.
  • embossing is performed on the original foil that has been etched to impart penetrability, thereby improving the breaking strength and the like, improving the handling properties, and suppressing the occurrence of foil breakage and wrinkles.
  • the fracture strength of the aluminum foil before etching is about 50 N / mm 2 or less, and the proof stress value is about 20 N / mm 2 or less.
  • strength improvement by adding (alloying) elements such as Fe, Si, Cu, etc. can be considered, but these elements cannot be added in large amounts because they hinder etching properties, and in practice It is difficult to improve strength by alloying.
  • the strength can be improved without affecting the air permeability or the like by applying a slight processing to the original foil after etching. That is, the proof stress value can be increased by carrying out a relatively light embossing process and introducing a processing strain. Since the handleability of the thin foil is almost determined by this yield strength value, the handleability can be improved by increasing the yield strength value.
  • the embossing method is not particularly limited as long as the rate of change of the foil thickness can be within a range of 10% or less as described above, and can be carried out using a known or commercially available embossing machine.
  • the embossed pattern on the roll is transferred to the surface of the aluminum penetrating foil, thereby providing an embossed pattern (unevenness) on the surface of the aluminum penetrating foil.
  • the roll may be either single-sided embossed or double-sided embossed, but in the present invention, it is preferably single-sided embossed.
  • a combination of resin rolls in which one is a metal roll having an emboss pattern and the other has no emboss pattern can be suitably employed.
  • the number of meshes of the embossed pattern of the roll can be appropriately set according to the desired strength or the like, generally within a range of 50 to 225 mesh.
  • the foil thickness is 30 to 50 ⁇ m, it is preferably 50 to 200 mesh, and more preferably 100 to 200 mesh.
  • various shapes can be adopted as the embossed pattern shape (uneven shape), for example, trapezoidal shape (trapezoidal cup), pyramid shape (triangular pyramid) (pyramid type cup), turtle shell shape, triangular diagonal line shape, trapezoidal shape Any known or commercially available roll pattern such as a hatched type can be employed.
  • the height (depth) of the embossed shape can be appropriately set within a range equal to or less than the thickness of the aluminum foil.
  • the thickness within the range of 60 to 90%, particularly 60 to 80% of the thickness of the aluminum foil.
  • the pressure can be appropriately adjusted within a range in which the change rate of the thickness of the aluminum penetrating foil is within 10%, but is usually within a range of 1 to 15 kg / cm 2 .
  • Embodiment 2 (B-1) Al foil according to Embodiment 2
  • a high-strength aluminum penetrating foil of the second embodiment is an aluminum penetrating foil having a plurality of through-holes from the foil surface to the back surface, (1) The foil thickness is 50 ⁇ m or less, (2) The breaking strength is [0.2 ⁇ foil thickness ( ⁇ m)] N / 10 mm or more, (3) [proof value / breaking strength] is 50% or more, It is characterized by that.
  • the inner diameter of the through-hole through holes, Al foil applications and can be set appropriately according to the intended use or the like, normally is preferably set to 0.2 ⁇ 5 [mu] m, particularly 0.5 ⁇ 3 [mu] m.
  • the inner diameter of the through hole can be appropriately controlled by adjusting the etching time particularly during the etching process.
  • the air permeability measured by the air permeability test method using a Gurley type densometer according to JIS P 8117 is 5 sec / 100 ml or more, particularly 30 sec / 100 ml. The above is preferable.
  • the upper limit value of the air permeability is not particularly limited, but is usually about 500 sec / 100 ml.
  • the ratio [c / t] of the vertical through-hole occupation ratio c (%) and the foil thickness t ( ⁇ m) in the aluminum through foil is 1.4 or more, preferably 1.5 or more. More preferably, it is 1.6 or more.
  • the Al foil of the present invention exhibits a higher vertical through-hole occupation ratio even at the same thickness as compared with the conventional aluminum through foil. That is, the Al foil of the present invention has a higher vertical through-hole occupancy rate despite its small thickness.
  • the thickness of the high-purity aluminum foil is reduced, the cube orientation occupancy decreases, and the vertical through-hole occupancy decreases accordingly.
  • the cube orientation occupancy corresponds to a value about the value of foil thickness ( ⁇ m)%.
  • the cube orientation occupation ratio is approximately 55%.
  • the present invention by controlling the content of Fe, Si, Cu, etc., it is possible to realize a higher cubic orientation occupancy than the prior art even with a thin foil. It becomes possible to increase the occupation ratio.
  • the value of the vertical through-hole occupancy itself in the Al foil of the present invention is not particularly limited because it varies depending on the foil thickness and the like, but is generally 30 to 98%, particularly 40 to 98%. If it is in the range.
  • the through holes are 70 to 110 from the horizontal plane.
  • a vertical through hole is defined as an angle having an angle in the range of degrees (that is, 90 ° ⁇ 20 °), and the ratio of the vertical through hole to the total number of through holes is defined as the vertical through hole occupation ratio. Therefore, the vertical through-hole occupation ratio in the present invention is almost the same value as the cube orientation occupation ratio of the aluminum foil before etching.
  • the surface area expansion ratio is preferably a value of [0.15 ⁇ foil thickness t ( ⁇ m)] or more, and particularly preferably a value of [0.17 ⁇ foil thickness t ( ⁇ m)] or more.
  • the through porosity s (%) [measured weight (g) / [foil thickness (cm) ⁇ sample area (cm 2 )]] / aluminum specific gravity (2.70 g / cm 3 ) Is preferably in the range of 5 ⁇ s ⁇ 20.
  • the thickness of the Al foil of the present invention is usually 50 ⁇ m or less, preferably 40 ⁇ m or less, more preferably 25 ⁇ m or less. By setting to the above thickness, it can be suitably used as a current collector of a lithium ion capacitor.
  • the lower limit value of the thickness is not limited, but is usually about 1 ⁇ m.
  • the Al foil of the present invention has a breaking strength of [0.2 ⁇ foil thickness ( ⁇ m)] N / 10 mm or more, preferably [0.25 ⁇ foil thickness ( ⁇ m)] N / 10 mm or more. is there.
  • the breaking strength is 10 N / 10 mm or more.
  • the breaking strength generally decreases as the foil thickness decreases, but in the present invention, the degree of decrease is small, and the same foil thickness shows a higher breaking strength than the conventional product.
  • the Al foil of the present invention has a relatively high breaking strength of about 8 to 15 N / 10 mm at a thickness of 30 to 50 ⁇ m, but may have a higher breaking strength.
  • the upper limit of the breaking strength is not limited, but is usually about 50 N / 10 mm when the foil thickness is 50 ⁇ m or less, and is usually about 25 N / 10 mm when the foil thickness is 25 ⁇ m or less.
  • the value of [proof value / breaking strength] (ratio of yield value to breaking strength) in the Al foil of the present invention is 50% or more, preferably 70% or more.
  • the proof stress value of the Al foil of the present invention (generally speaking, the tensile strength when the material is stretched by 0.2% when a tensile test is performed) is usually about 2 to 5 N / 10 mm when the foil thickness is in the range of 30 to 50 ⁇ m. However, cases exceeding this range are also encompassed by the present invention. In the present invention, by increasing such a high proof stress value and thus the ratio, it is possible to improve the handling property and suppress the occurrence of foil breakage or wrinkles.
  • composition of the Al foil of the present invention is not limited as long as it has the above-mentioned characteristics, and a composition in a known Al foil can also be adopted.
  • Fe 5 to 80 ppm by weight
  • Si 5 to 100 ppm by weight
  • Cu 10 to 100 ppm by weight
  • Al and inevitable impurities can be suitably employed.
  • the Fe content is usually about 5 to 80 ppm, preferably 10 to 50 ppm.
  • Fe is an element that can be crystallized as an Al—Fe-based compound to improve rolling properties and elongation.
  • an appropriate amount of the Al—Fe-based compound refines the crystal grains by crystal nucleation sites and pinning, and improves the rollability of the thin foil.
  • the Fe content is less than 5 ppm, the above effect cannot be obtained, and the strength of the foil is reduced due to the coarsening of the crystal grains, and the strength of the penetrating foil is reduced and the strength varies depending on the part.
  • the Fe content exceeds 80 ppm, excessive dissolution occurs on the surface, leading to a decrease in strength of the penetrating foil and a variation in strength due to the site. Further, the occupation ratio of the cube orientation is lowered, and a sufficient through etching pit density cannot be obtained.
  • the Si content is usually about 5 to 100 ppm, preferably 10 to 60 ppm.
  • Si is an element that can mainly improve the strength.
  • an instantaneous temperature rise is caused not only on the surface of the aluminum penetrating foil but also on the inside, but dislocation disappears due to the presence of silicon. It can suppress and the fall of intensity
  • the Si content is less than 5 ppm, the above effects cannot be obtained, and the strength is lowered, and the strength of the penetrating foil is easily reduced and the strength varies depending on the portion.
  • the Si content exceeds 100 ppm, the occupation ratio of the cube orientation becomes low, and a sufficient through etching pit density cannot be obtained.
  • the Cu content is usually about 10 to 100 ppm, preferably 15 to 60 ppm.
  • the rollability when rolling to a foil thickness of 25 ⁇ m or less can be further improved.
  • Cu also improves the solubility during hydrochloric acid etching and contributes to the formation of through-etching pits.
  • the above effect cannot be obtained sufficiently, and the rollability of the thin foil is remarkably lowered.
  • the content of Cu exceeds 100 ppm, excessive dissolution occurs on the surface, leading to a decrease in strength of the penetrating foil and a variation in strength due to the site. Further, the occupation ratio of the cube orientation is lowered, and a sufficient through etching pit density cannot be obtained.
  • the Al foil of the present invention may contain Pb as necessary.
  • Pb mainly promotes the reaction between the electrolytic solution used for the etching process and the aluminum foil and increases the initial number of etching pits, so that a higher penetration etching density can be achieved.
  • the Pb content is usually about 0.01 to 20 ppm, preferably 0.05 to 10 ppm.
  • Pb mainly promotes the reaction between the electrolytic solution used for the etching treatment and the aluminum foil and increases the initial number of etching pits, so that a higher penetration etching density can be achieved.
  • the content of Pb in the case of containing Pb can be appropriately adjusted so as to achieve the above effects, but it is usually about 0.01 to 20 ppm, preferably 0.05 to 10 ppm.
  • Pb in the Al foil of the present invention, it is desirable to set Pb to be in the range of 40 to 2000 ppm in the region from the surface of the aluminum foil to a depth of 0.1 ⁇ m.
  • the penetration etching density can be further increased.
  • Such adjustment of the Pb content can be carried out, for example, by adjusting the amount of Pb added to the molten aluminum in the production stage of the aluminum foil and further controlling the annealing temperature within a range of 450 ° C. or higher. .
  • the balance is substantially made of Al and inevitable impurities.
  • the aluminum purity in the aluminum alloy foil of the present invention is not particularly limited as long as it is within a range that can be used for a current collector.
  • Inevitable impurities may include, for example, Mg, Mn, Zn, Ti, V, Ga, Cr, Zr, and B.
  • the Al foil of Embodiment B can be produced as follows. That is, by the manufacturing method of the high strength aluminum penetration foil characterized by including the process (this invention process) which performs simultaneously a tension process and a bending process with respect to the aluminum penetration foil which has multiple through-holes from the foil surface to a back surface
  • the Al foil of the present invention can be preferably produced.
  • the aluminum penetrating foil (raw foil) can be prepared by a known method, but it is particularly preferable to prepare it according to the following method.
  • an ingot is produced by preparing a molten raw material having the above composition and solidifying the molten metal.
  • the homogenization temperature is 550 ° C. or lower.
  • the ingot is hot rolled and cold rolled to obtain a thick foil of about 350 ⁇ m.
  • the thickness of the thin foil after rolling is preferably 110 to 130% of the thickness of the final foil.
  • the temperature of cold rolling itself can be implemented within the temperature range which does not exceed 120 degreeC.
  • the thin foil rolling (at least the final rolling (that is, rolling for obtaining the final foil)) has an average roughness Ra of the rolling roll of 0.25 ⁇ m or less, particularly 0.20 ⁇ m or less, and further 0.18 ⁇ m or less. It is preferable that In this case, the average roughness Ra of the thin foil obtained is 0.25 ⁇ m or less, particularly 0.20 ⁇ m or less, and further 0.18 ⁇ m or less on the surface in contact with the rolling roll.
  • a thin foil when a thin foil is obtained by rolling a thick foil, it is preferable to perform rolling while ensuring a surface that does not contact the rolling roll.
  • By securing a surface that does not come into contact with the rolling roll it is possible to eliminate a factor that hinders the movement of crystal grains, and thereby a high cube orientation occupation ratio can be obtained even with a thin foil.
  • the total thickness when the foils are overlapped is preferably 350 ⁇ m or less. Separation of the laminated foils can be carried out before and / or after the next step, annealing. Also in this combined rolling, it is preferable that the average roughness Ra of the rolling roll is 0.25 ⁇ m or less, particularly 0.20 ⁇ m or less, and further 0.18 ⁇ m or less.
  • the heat treatment temperature is desirably 350 ° C. or lower.
  • the atmosphere of the intermediate annealing is not limited, and may be any of, for example, vacuum, air, inert gas atmosphere, and the like.
  • the thin foil is further cold-rolled to obtain a final foil having a desired foil thickness (a foil having a final foil thickness). That is, a foil having a thickness of 50 ⁇ m or less can be obtained by this cold rolling.
  • the average roughness Ra of the rolling roll is preferably 0.25 ⁇ m or less, particularly 0.20 ⁇ m or less, and further preferably 0.18 ⁇ m or less.
  • the foil may be washed for the purpose of removing rolling oil, impurities and oxide film on the foil surface, for example. You may dry suitably after washing
  • high-temperature annealing is performed with excessively applied rolling oil, a part of the foil surface is yellowed in a spot shape, and etching pits having a desired shape may not be obtained even if etching is performed.
  • the annealing temperature is not limited, it is usually 450 ° C. or higher, preferably 450 ° C. or higher and lower than 660 ° C., more preferably 500 to 620 ° C.
  • the annealing temperature is lower than 450 ° C., the cube orientation ratio is lowered, and there is a possibility that etching pits having a desired shape cannot be obtained even if etching is performed.
  • the annealing time is generally about 1 to 100 hours, although it depends on the annealing temperature.
  • the annealing atmosphere is desirably substantially a vacuum or an inert gas atmosphere.
  • the temperature exceeds 350 ° C. including the temperature raising and lowering steps, it is desirable to reduce the oxygen concentration in the annealing atmosphere as much as possible industrially. That is, it is desirable that the pressure be 10 ⁇ 5 Torr or less or an inert gas atmosphere containing 0 to 1% by volume of oxygen.
  • an inert gas atmosphere in which the oxygen concentration in the vacuum atmosphere or annealing atmosphere exceeding 10 ⁇ 5 Torr exceeds 1.0% by volume, a part of the foil surface after annealing turns yellow into a spot shape, and etching treatment is performed.
  • the through hole is formed by performing an etching process on the foil (final foil) thus obtained.
  • the method for the etching treatment is not limited, and a desired through hole may be formed by one-stage etching, or may be performed in two stages or more.
  • a desired through hole is suitably formed by forming at least two stages of etching and forming a through hole by the first stage etching and adjusting the inner diameter of the through hole by the second stage etching. Can do.
  • the first-stage etching is preferably direct-current etching in an electrolyte containing hydrochloric acid as a main component.
  • etching pits are mainly formed and the density and shape (through shape) can be controlled.
  • the electrolytic solution an aqueous solution in which 1 to 10% by weight of hydrochloric acid is dissolved in water can be used. In this case, 0.001 to 0.1% by weight of oxalic acid, phosphoric acid, sulfuric acid or the like may be added to the electrolytic solution.
  • the liquid temperature is about 60 to 90 ° C.
  • the current density is about 0.1 to 0.5 A / cm 2 .
  • the etching method is preferably direct current etching.
  • the etching time can be appropriately set according to the foil thickness, the target air permeability, and the like.
  • the etching pit diameter can be mainly controlled.
  • chemical etching can be performed in a liquid having the same composition and temperature as the first-stage etching.
  • the etching time can be appropriately set according to, for example, the foil thickness and the target air permeability.
  • hydrochloric acid it is not always necessary to use hydrochloric acid as a main component, and it may be an electrolyte containing nitric acid as a main component.
  • electrolytic etching instead of chemical etching.
  • “second-stage etching” may be further multi-staged by combining chemical etching, electrolytic etching, and etching solution composition.
  • the present invention processing is carried out. That is, a tensile process and a bending process are simultaneously performed on the raw foil.
  • the foil thickness of the original foil may be changed somewhat after the processing of the present invention as long as the through-hole is substantially retained.
  • the rate of change of the foil thickness is 5% or less, particularly 1% or less, Furthermore, it is preferable to set it as 0%. That is, it is most preferable to perform the tensile process and the bending process on the original foil at the same time while substantially maintaining the thickness of the original foil.
  • the rate of change is controlled within the above range.
  • the original foil extends the etching pits from the foil surface to the inside and penetrates to the opposite surface. Therefore, the aluminum foil is heat-treated (annealed) and completely recrystallized before etching, and preferably one recrystallized grain has a cross section of the foil. It is necessary to penetrate.
  • the strength of the aluminum foil is remarkably lowered, and the handleability when processed into a thin foil is deteriorated.
  • the yield strength value can be increased, the handling property can be improved, and foil breakage and wrinkle generation can be suppressed.
  • the fracture strength of the aluminum foil before etching is about 50 N / mm 2 or less, and the proof stress value is about 20 N / mm 2 or less.
  • improvement in strength by adding (alloying) elements such as Fe, Si, Cu, etc. can be considered, but these elements cannot be added in large amounts because they hinder etching properties, and in fact, Above, it is difficult to improve the strength by alloying.
  • the strength can be improved without affecting the air permeability or the like by applying a slight processing to the original foil after etching. That is, the proof stress value can be increased by simultaneously performing a light pulling process and a bending process and introducing a processing strain. Since the handleability of the thin foil is almost determined by this yield strength value, the handleability can be improved by increasing the yield strength value.
  • the method of performing the tensile process and the bending process at the same time is not particularly limited, and a known processing method (processing apparatus) can be used alone or in combination.
  • a known processing method processing apparatus
  • the process by a press apparatus, the process by a rolling apparatus, the process by a stretcher, etc. can be mentioned.
  • the processing level may be adjusted while monitoring the foil thickness of the original foil. In this case, since the desired air permeability cannot be obtained when the strength is processed, it is preferable to adjust at a light level.
  • a known or commercially available tension leveler can be used.
  • FIG. 6 there is an apparatus in which straightening rollers 23 a to 23 i for performing tension straightening and bending straightening are arranged between a roller 21 winding a raw foil 20 and a winding roller 22.
  • the winding roller is a driving roller.
  • the number of rollers for correction, the diameter of each roller, the position (level difference, horizontal spacing), etc. can be adjusted as appropriate.
  • the unit tension of the tension leveler that is, the tension in the take-up roller 22 and the rewind roller 21
  • predetermined characteristics can be imparted.
  • the unit tension can be appropriately changed depending on the properties of the original foil to be used (foil thickness, air permeability, etc.), desired proof stress value, etc., but is usually within a range of 1 to 20 N / 10 mm.
  • Example according to Embodiment 1> The measuring method of each physical property was implemented as follows.
  • Air permeability It measured by the air permeability test method by the Gurley type densometer according to JISP8117.
  • the part where the measurement length of each sample is 100 mm in the dimension of the photograph is selected as shown in FIG. 1, and the angle measurement as shown in FIG.
  • a transparent card for use is superimposed on the above photo, and the number of through holes with an angle within the range of 70 to 110 degrees (90 ⁇ 20 degrees) from the lower surface is measured, and the total number of all through holes is visually observed.
  • the ratio to the total number is calculated as the vertical through-hole occupation ratio (%).
  • the vertical through-hole occupation rate after embossing can be similarly calculated by adjusting so that the part which is not embossed may become an observation surface.
  • embossed foil thickness and embossing depth The embossed foil thickness was measured with a thickness measuring machine having a flat surface and a micrometer of ⁇ 5 mm or more. Further, the value of (embossed foil thickness-foil thickness before embossing) was defined as the embossing depth.
  • FIG. 5 shows a slurry (solid content concentration 30%) obtained by kneading an active material containing 90% by mass of activated carbon having a specific surface area of 2000 m 2 / g and an average particle diameter of 6 ⁇ m and 10% by mass of PTFE (polytetrafluoroethylene) with ethanol.
  • PTFE polytetrafluoroethylene
  • Production Example 1-1 After preparing a molten metal having a composition comprising Fe: 18 ppm by weight, Si: 20 ppm by weight, Cu: 25 ppm, the balance: Al and inevitable impurities, an ingot was obtained by solidifying the molten metal. Subsequently, the ingot was homogenized at 500 ° C. for 10 hours. Thereafter, the ingot was rolled to a thickness of 65 ⁇ m by hot rolling (temperature 400 ° C.) and cold rolling. After performing an intermediate annealing at 250 ° C. for 8 hours, a foil having a thickness of 50 ⁇ m was obtained by further cold rolling.
  • an organic solvent-based cleaning agent isopropylene
  • annealing was performed in argon gas at 500 ° C. for 10 hours.
  • an aqueous solution containing 5% by weight of hydrochloric acid as an electrolytic solution, by performing direct current etching at a liquid temperature of 70 ° C. and a current density of 0.3 A / cm 2 , an aluminum through foil having a large number of through pits (through holes) is obtained. It was.
  • the obtained aluminum penetration foil had a foil thickness: 50 ⁇ m, a breaking strength: 13.2 N / 10 mm, a breaking elongation of 1.7%, and an air permeability: 42 sec / 100 ml.
  • Production Example 1-2 A foil having a thickness of 30 ⁇ m, a breaking strength of 8.3 N / 10 mm, a breaking elongation of 1.2%, and an air permeability of 36 sec / 100 ml was produced in the same manner as in Production Example 1-1 as an aluminum through foil before embossing. did.
  • Example 1-1 The aluminum penetration foil obtained in Production Example 1-1 was used as an original foil, and this was embossed with a commercially available embossing machine. As shown in FIG. 3, embossing was performed by passing an Al foil 31 as an original foil between the upper roll 32 and the lower roll 33.
  • the embossing conditions were as follows: an embossed pattern metal silk roll (100 mesh, trapezoidal cup, cup depth 15 ⁇ m) as the upper roll 32, and a resin roll (no embossing) as the lower roll 33, and a pressure of 10 kg / cm 2. And a roll speed of 20 m / min.
  • Table 1 shows the results of determination of the wrinkle occurrence when coating the foil thickness, breaking strength, breaking elongation, air permeability, active material of the embossed Al foil, and Table 2 shows the vertical through-hole occupancy ratio. Show.
  • Example 1-2 An embossed Al foil was obtained in the same manner as in Example 1-1 except that a metal silk roll (150 mesh, trapezoidal cup, cup depth 20 ⁇ m) was used as the upper roll. The resulting Al foil was measured for breaking strength and the like in the same manner as in Example 1-1. The results are shown in Tables 1 and 2.
  • Example 1-3 An embossed Al foil was obtained in the same manner as in Example 1-1 except that the aluminum penetrating foil obtained in Production Example 1-2 was used as the raw foil. The resulting Al foil was measured for breaking strength and the like in the same manner as in Example 1-1. The results are shown in Tables 1 and 2.
  • Example 1-4 An embossed Al foil was obtained in the same manner as in Example 1-3, except that a metal silk roll (150 mesh, trapezoidal cup, cup depth 20 ⁇ m) was used as the upper roll. The obtained Al foil was measured for breaking strength and the like in the same manner as in Example 1-3. The results are shown in Tables 1 and 2.
  • Comparative Example 1-1 With respect to the aluminum penetration foil of Production Example 1-1, the physical properties when not embossed were examined in the same manner as in Example 1-1. The results are shown in Tables 1 and 2.
  • Comparative Example 1-2 With respect to the aluminum penetration foil of Production Example 1-2, the physical properties when not embossed were examined in the same manner as in Example 1-1. The results are shown in Tables 1 and 2.
  • the embossed Al foil having the predetermined physical properties of the present invention does not generate wrinkles and is suitable as a current collector or the like.
  • Example according to Embodiment 2> The measuring method of each physical property was implemented as follows.
  • FIG. 5 shows a slurry (solid content concentration 30%) in which an active material containing 90% by mass of activated carbon having a specific surface area of 2000 m 2 / g and an average particle size of 6 ⁇ m and 10% by mass of PTFE (polytetrafluoroethylene) is kneaded with ethanol.
  • PTFE polytetrafluoroethylene
  • the part where the measurement length of each sample is 100 mm in the dimension of the photograph is selected as shown in FIG. 1, and the angle measurement as shown in FIG.
  • the transparent card for use is superimposed on the above photo, and the number of through holes with an angle in the range of 70 to 110 ° (90 ⁇ 20 °) from the lower surface is measured, and the total number of all through holes is visually observed. After counting, the ratio to the total number is calculated as the vertical through-hole occupation ratio (%).
  • Example 2-1 After preparing a molten metal having a composition comprising Fe: 18 ppm by weight, Si: 20 ppm by weight, Cu: 25 ppm, the balance: Al and inevitable impurities, an ingot was obtained by solidifying the molten metal. Subsequently, the ingot was homogenized at 500 ° C. for 10 hours. Thereafter, the ingot was rolled to a thickness of 65 ⁇ m by hot rolling (temperature 400 ° C.) and cold rolling. After performing an intermediate annealing at 250 ° C. for 8 hours, a foil having a thickness of 50 ⁇ m was obtained by further cold rolling.
  • an organic solvent-based cleaning agent isopropylene
  • annealing was performed in argon gas at 500 ° C. for 10 hours.
  • an aqueous solution containing 5% by weight of hydrochloric acid as an electrolytic solution, by performing direct current etching at a liquid temperature of 70 ° C. and a current density of 0.3 A / cm 2 , an aluminum through foil having a large number of through pits (through holes) is obtained. It was.
  • the obtained aluminum penetration foil had a foil thickness of 50 ⁇ m, a proof stress value of 3.5 N / 10 mm, a breaking strength of 13.2 N / 10 mm, and an air permeability of 42 sec / 100 ml.
  • the aluminum penetrating foil was used as a raw foil, and this was processed by a tension leveler.
  • As the tension leveler as shown in FIG. 6, nine rolls are alternately arranged in the vertical direction, and each roll has a diameter of 50 mm.
  • the unit tension was 5 N / 10 mm.
  • Table 3 shows the thickness of the Al foil that has been processed, the value of [proof strength / breaking strength], air permeability, and the determination result of wrinkle generation when an active material is applied. Is shown in Table 4.
  • Example 2-2 An Al foil was produced in the same manner as in Example 2-1, except that the unit tension was changed to 8 N / 10 mm during processing with the tension leveler.
  • Table 3 shows the foil thickness of the Al foil subjected to the processing, the value of [proof strength / breaking strength], the air permeability, and the wrinkle generation determination result, and the vertical through-hole occupation ratio and the like are shown in Table 4.
  • Example 2-3 In the same manner as in Example 2-1, an aluminum penetrating foil (raw foil) having a foil thickness of 30 ⁇ m was produced. This foil had a proof stress value: 2.2 N / 10 mm, a breaking strength: 8.2 N / 10 mm, and an air permeability: 36 sec / 100 ml.
  • an Al foil was produced in the same manner as in Example 2-1, except that the unit tension was changed to 3 N / 10 mm when processing with a tension leveler.
  • Table 3 shows the foil thickness of the Al foil subjected to the processing, the value of [proof strength / breaking strength], the air permeability, and the wrinkle generation determination result, and the vertical through-hole occupation ratio and the like are shown in Table 4.
  • Example 2-4 An Al foil was produced in the same manner as in Example 2-3, except that the unit tension was changed to 5 N / 10 mm during processing by the tension leveler.
  • Table 3 shows the foil thickness of the Al foil subjected to the processing, the value of [proof strength / breaking strength], the air permeability, and the wrinkle generation determination result, and the vertical through-hole occupation ratio and the like are shown in Table 4.
  • Example 2-5 In the same manner as in Example 2-1, an aluminum penetrating foil (raw foil) having a foil thickness of 20 ⁇ m was produced. This foil had a proof stress value: 2.1 N / 10 mm, a breaking strength: 7.0 N / 10 mm, and an air permeability: 65 sec / 100 ml. Using this original foil, an Al foil was produced in the same manner as in Example 2-1, except that the unit tension was changed to 3 N / 10 mm when processing with a tension leveler. Table 3 shows the foil thickness of the Al foil subjected to the processing, the value of [proof strength / breaking strength], the air permeability, and the wrinkle generation determination result, and the vertical through-hole occupation ratio and the like are shown in Table 4.
  • Example 2-6 An Al foil was produced in the same manner as in Example 2-5, except that the unit tension was changed to 5 N / 10 mm during processing with the tension leveler.
  • Table 3 shows the foil thickness of the Al foil subjected to the processing, the value of [proof strength / breaking strength], the air permeability, and the wrinkle generation determination result, and the vertical through-hole occupation ratio and the like are shown in Table 4.
  • Comparative Example 2-2 About the raw foils in Examples 2-3 and 2-4, the foil thickness of the Al foil, the value of [proof strength / breaking strength], the air permeability, and the determination result of wrinkle generation for those not processed by the tension leveler Is shown in Table 3, and the vertical through-hole occupation ratio and the like are shown in Table 4.

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Cell Electrode Carriers And Collectors (AREA)
  • Electric Double-Layer Capacitors Or The Like (AREA)

Abstract

本発明は、貫通孔を多数有するとともに所望の箔強度を有するアルミニウム箔及びその製造方法を提供することを目的とするものである。　本発明の高強度アルミニウム貫通箔は、箔表面から裏面に至る貫通孔を複数有するアルミニウム貫通箔であって、（１）箔厚みが５０μｍ以下であり、（２）破断強度が［０．２×箔厚み（μｍ）］Ｎ／１０ｍｍ以上であることを特徴とする。　本発明の高強度アルミニウム貫通箔の製造方法は、貫通孔を複数有するアルミニウム貫通箔に、エンボス加工を行うこと又は引張加工と曲げ加工とを同時に行うことで製造されることを特徴とする。

Description

アルミニウム貫通箔及びその製造方法
　本発明は、新規なアルミニウム貫通箔に関する。より具体的には、リチウムイオン電池、リチウムイオンキャパシタ、電気二重層キャパシタ等の集電体に好適に用いられるアルミニウム貫通箔に関する。
　リチウムイオン電池、リチウムイオンキャパシタ、電気二重層キャパシタ等のエネルギー密度を向上させるためにはより高い電圧が必要である。エネルギー密度を高めるためには、プレドープ技術を利用し、負極電位を下げることが好ましい。プレドープを効率良く行うためには、集電体に貫通孔を設けることが必要である。集電体の貫通孔を通じてリチウムイオンを可逆的に移動可能とすることにより負極活物質にリチウムイオンを担持することができる。
　貫通孔を有する集電体の作製方法として、例えばパンチング加工、メッシュ加工、エキスパンド加工、網加工等が知られているが、これらの方法で形成される貫通孔の大きさは一般的に０．３ｍｍ以上である。ところが、貫通孔を設けるとそれだけ集電体の強度が低下することになり、前記のような比較的大きな孔径では強度低下の問題がより大きくなる。
　これに対し、比較的微細な貫通孔を有する集電体を用いる電極等が提案されている。例えば、リチウムイオン及び／又はアニオンを可逆的に担持可能な物質からなる正極とリチウムイオンを可逆的に担持可能な物質からなる負極を備えており、かつ、電解液としてリチウム塩の非プロトン性有機溶媒電解質溶液を備えたリチウムイオンキャパシタであって、（１）負極及び／又は正極とリチウムイオン供給源との電気化学的接触によってリチウムイオンが負極及び／又は正極にドーピングされ、（２）正極と負極を短絡させた後の正極の電位が２．０Ｖ以下であり、（３）前記正極及び／又は負極が、表裏面を貫通する多数の孔を有し、かつこれらの貫通孔の内接円の平均直径が１００μｍ以下である金属箔からなる集電体を有することを特徴とするリチウムイオンキャパシタが知られている（特許文献１）。
　また、厚さが２０～４５μｍ及び見掛密度が２．００～２．５４ｇ／ｃｍ３で、透気度２０～１２０ｓの表裏面を貫通する多数の貫通孔を有するアルミニウムエッチング箔よりなる集電体と、この集電体上に、活物質として、リチウムイオン及びアニオンを可逆的に担持可能な物質を含有する塗料が塗布されることによって形成された電極層とを有することを特徴とする塗布電極であって、前記集電体の貫通孔の８０％以上が、孔径１～３０μｍであることを特徴とする塗布電極が知られている（特許文献２）。その他にも、結晶方位が揃ったアルミニウム箔として、電解コンデンサ用アルミニウム箔が知られている（例えば、特許文献３、特許文献４）。
　しかしながら、アルミニウム箔に貫通孔を多数形成した場合、必然的にそれだけ箔強度は低下することになる。このことは前記の従来技術においても例外ではなく、箔強度が貫通孔の形成に伴って低下する結果、後工程で活物質をアルミニウム箔に塗工する際において箔切れ又はシワの発生が生じるおそれがある。たとえ問題なく塗工できて製品化したとしても、製品に加わる衝撃等によりアルミニウム箔が破断しやすくなる。これらの問題は、アルミニウム箔の厚みが小さくなるほどより深刻になる。
　一方、電池及びキャパシタは、高エネルギー密度・高出力密度とともに、軽量・小型化も強く求められている。このような要請に伴って、集電体の厚みもより小さくできるよう求められている。
特開２００７－１４１８９７ 国際公開ＷＯ２００８／０７８７７７ 特開２００９－６２５９５ 特開２００５－１７４９４９
　このように、集電体等としての性能を高めるためには貫通孔を多数形成することが望まれるものの、それに伴い箔強度の低下、ひいては後工程でのトラブル等を招くことになる。ここで、エッチングに使用する箔の強度を高める方法としては、合金元素添加（例えばＦｅ、Ｃｕ、Ｍｎ、Ｍｇ、Ｔｉなど）による方法のほか、熱処理の条件による方法等があるが、いずれもエッチング性を阻害するので最善の方法とは言えない。エッチング性の阻害とは、エッチングピットの伸びを阻害したり、過剰な溶解が起こり正常な溶解を維持できなくなる状態を言う。従来の３００３材等で代表される高強度アルミニウム箔では、表面から裏面までを貫通するピットを多数制御するのは困難である。エッチング前に加工等を行い、強度を付与することも考えられるが、この方法ではエッチングピットの発生又は成長を阻害し、強度と透気度のバランスが悪くなる。
　以上のように、貫通孔を多数有するにもかかわらず、所望の箔強度を発揮できるアルミニウム箔は未だ開発されるに至っていないのが現状である。　
　従って、本発明の主な目的は、貫通孔を多数有するとともに所望の箔強度を有するアルミニウム箔を提供することにある。
　本発明者は、従来技術の問題点に鑑みて鋭意研究を重ねた結果、貫通孔を有するアルミニウム箔を所定の加工処理を施すことにより、上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。
　すなわち、本発明は、下記のアルミニウム貫通箔及びその製造方法に係る。
１．　箔表面から裏面に至る貫通孔を複数有するアルミニウム貫通箔であって、
（１）箔厚みが５０μｍ以下であり、
（２）破断強度が［０．２×箔厚み（μｍ）］Ｎ／１０ｍｍ以上である、
ことを特徴とする高強度アルミニウム貫通箔。
２．　破断強度が［０．３×箔厚み（μｍ）］Ｎ／１０ｍｍ以上である、前記項１に記載の高強度アルミニウム貫通箔。
３．　破断伸びが［０．０５×箔厚み（μｍ）］％以下である、前記項１に記載の高強度アルミニウム貫通箔。
４．　貫通孔の密度が１×１０４個／ｃｍ２以上である、前記項１に記載の高強度アルミニウム貫通箔。
５．　［耐力値／破断強度］が５０％以上である、前記項１に記載の高強度アルミニウム貫通箔。
６．　ＪＩＳ　Ｐ　８１１７に準じたガーレ式デンソメータによる透気度試験方法によって測定された透気度が５ｓｅｃ／１００ｍｌ以上である、前記項１に記載の高強度アルミニウム貫通箔。
７．　貫通孔の平均内径が０．２～５μｍである、前記項１に記載の高強度アルミニウム貫通箔。
８．　表面積拡大比が、［０．１０×箔厚み（μｍ）］以上の値である、前記項１に記載の高強度アルミニウム貫通箔。
９．　Ｆｅ：５～８０重量ｐｐｍ、Ｓｉ：５～１００重量ｐｐｍ、Ｃｕ：１０～１００重量ｐｐｍならびに残部：Ａｌ及び不可避不純物からなる組成を有する、前記項１に記載の高強度アルミニウム貫通箔。
１０．　アルミニウム貫通箔における垂直貫通孔占有率ｃ（％）と前記箔厚みｔ（μｍ）の比率［ｃ／ｔ］が１．４以上である、前記項１に記載の高強度アルミニウム貫通箔。
１１．　前記項１に記載の高強度アルミニウム貫通箔の製造方法であって、箔表面から裏面に至る貫通孔を複数有するアルミニウム貫通箔に対し、エンボス加工を行う工程を含むことを特徴とする高強度アルミニウム貫通箔の製造方法。
１２．　前記項１に記載の高強度アルミニウム貫通箔の製造方法であって、箔表面から裏面に至る貫通孔を複数有するアルミニウム貫通箔に対し、引張加工と曲げ加工とを同時に行う工程を含むことを特徴とする高強度アルミニウム貫通箔の製造方法。
　本発明のアルミニウム貫通箔によれば、貫通孔を多数有するとともに所望の箔強度を有するアルミニウム箔を提供することができる。
　特に、実施形態１のアルミニウム貫通箔によれば、多数の貫通孔を有するとともに、箔厚みが５０μｍ以下（特に２５μｍ以下）と薄く、同時に破断強度が［０．３×箔厚み（μｍ）］Ｎ／１０ｍｍ以上であり、かつ、破断伸びが［０．０５×箔厚み（μｍ）］％以下という優れた特性を有するので、集電体等としての機能を発揮し得ると同時に後工程を円滑に行うことができる。すなわち、本発明Ａｌ箔に対する塗工時においてシワ等の発生を効果的に回避できる結果、円滑な後加工が可能となる。例えば、電極活物質を含むペースト等の塗工を支障なく円滑に行うことができる。
　また、実施形態２のアルミニウム貫通箔では、箔厚みが５０μｍ以下（特に２５μｍ以下）と薄くても、集電体等として優れた特性を得るのに十分な貫通孔を有するとともに、後工程を円滑に行うことができる強度を兼ね備えたアルミニウム貫通箔を提供することができる。すなわち、本発明の高強度アルミニウム貫通箔は、破断強度が［０．２×箔厚み（μｍ）］Ｎ／１０ｍｍ以上であり、かつ、［耐力値／破断強度］（破断強度に対する耐力値の割合）が５０％以上という優れた特性を発揮することができる。
　このようなアルミニウム貫通箔は、例えばリチウムイオン電池、リチウムイオンキャパシタ、電気二重層キャパシタ等の集電体として好適に用いることができる。とりわけ、リチウムイオンキャパシタ又はリチウムイオン二次電池が、１）リチウムイオン及び／又はアニオンを可逆的に担持可能な物質からなる正極、２）リチウムイオンを可逆的に担持可能な物質からなる負極及び３）リチウムイオンを含む電解質溶液を含み、かつ、リチウムイオンが正極及び／又は負極にドーピングされるものの集電体として本発明のアルミニウム貫通箔は有用である。
貫通孔を有するアルミニウム箔の断面を示す模式図である。 所定の角度を有するエッチングピットを観察するための透明カードの模式図である。 実施例においてエンボス加工のために用いた装置の概略図である。 エンボス箔における総厚みｔを指す模式図である。 実施例においてシワ発生判定のために用いた装置の概略図である。 テンションレベラー装置の一例を示す模式図である。
　本発明の高強度アルミニウム貫通箔（本発明Ａｌ箔）は、箔表面から裏面に至る貫通孔を複数有するアルミニウム貫通箔であって、
（１）箔厚みが５０μｍ以下であり、
（２）破断強度が［０．２×箔厚み（μｍ）］Ｎ／１０ｍｍ以上である、
ことを特徴とする。
　本発明Ａｌ箔は、箔表面から裏面に至る貫通孔を複数有するものである。図１には、本発明Ａｌ箔の断面の模式図を示す。例えば、図１に示すように、本発明Ａｌ箔１において、その箔表面１１から裏面１２に至る貫通孔２を複数有する。このような貫通孔は、エッチング処理を施すことによって形成することができる。以下、本発明の好ましい実施形態１及び実施形態２を代表例として説明する。
Ａ．実施形態１
（Ａ－１）実施形態１に係るＡｌ箔
　実施形態１に係るＡｌ箔は、箔表面から裏面に至る貫通孔を複数有するアルミニウム貫通箔であって、
（１）箔厚みが５０μｍ以下であり、
（２）破断強度が［０．３×箔厚み（μｍ）］Ｎ／１０ｍｍ以上であり、
（３）破断伸びが［０．０５×箔厚み（μｍ）］％以下である、
ことを特徴とする。
　貫通孔
　貫通孔の内径は、Ａｌ箔の用途、使用目的等に応じて適宜設定することができるが、通常は０．２～５μｍ、特に０．５～３μｍとすることが好ましい。貫通孔の内径は、エッチング処理時において特にエッチング時間を調整することにより適宜制御することができる。
　貫通孔の存在割合としては特に限定的ではないが、一般的にはＪＩＳ　Ｐ　８１１７に準じたガーレ式デンソメータによる透気度試験方法によって測定された透気度が５ｓｅｃ／１００ｍｌ以上、特に２０ｓｅｃ／１００ｍｌ以上であることが好ましい。かかる透気度を有することにより、本発明Ａｌ箔に活物質を塗布しても活物質が裏抜けせず、不必要な部分にも活物質が塗布されることがないため、その対策としての前処理が不要になるという効果が得られる。なお、前記透気度の上限値は特に制限されないが、通常は５００ｓｅｃ／１００ｍｌ程度とすれば良い。
　本発明Ａｌ箔では、アルミニウム貫通箔における垂直貫通孔占有率ｃ（％）と前記箔厚みｔ（μｍ）の比率［ｃ／ｔ］が１．４以上であり、好ましくは１．５以上であり、より好ましくは１．６以上である。このことは、本発明Ａｌ箔が、従来のアルミニウム貫通箔と比べて、同じ厚みでもより高い垂直貫通孔占有率を示すものである。すなわち、本発明Ａｌ箔は、厚みが薄いにもかかわらず、より高い垂直貫通孔占有率を有するものである。一般に、高純度アルミニウム箔は、厚みが薄くなるほど立方体方位占有率が低くなり、それに伴って垂直貫通孔占有率も低下する。一般的には立方体方位占有率は、箔厚み（μｍ）％の数値程度の値に相当すると言われている。例えば、箔厚み５５μｍのアルミニウム箔であれば立方体方位占有率はおよそ５５％前後となる。これに対し、本発明では、Ｆｅ、Ｓｉ、Ｃｕ等の含有量を制御すること等によって、薄い箔であっても従来技術よりも高い立方体方位占有率を実現させることができる結果、垂直貫通孔占有率をより高くすることが可能となる。
　前記の垂直貫通孔占有率に関し、本発明Ａｌ箔では垂直貫通孔占有率そのものの値については箔厚み等によって変動するので特に限定されないが、一般的には３０～９８％、特に４０～９８％の範囲内にあれば良い。
　なお、一般に、水平面から７０～１１０度の角度をなす貫通孔の割合が、エッチング前のアルミニウム箔の立方体方位占有率とほぼ同じ値となることから、本発明では貫通孔が水平面から７０～１１０度（すなわち、９０度±２０度）の範囲の角度をなすものを垂直貫通孔とし、貫通孔の総数に対する垂直貫通孔が占める割合を垂直貫通孔占有率としている。よって、本発明のおける垂直貫通孔占有率は、エッチング前のアルミニウム箔の立方体方位占有率とほぼ同じ値となる。
　本発明Ａｌ箔においては、表面積拡大比が［０．１０×箔厚みｔ（μｍ）］以上の値であり、特に［０．１５×箔厚みｔ（μｍ）］以上の値であることが好ましい。表面拡大比を上記範囲に設定することによって、集電体としての本発明Ａｌ箔と活物質との密着性が向上する。
　本発明Ａｌ箔では、貫通孔の密度は限定的ではないが、通常は１×１０４個／ｃｍ２以上であることが好ましく、特に５×１０４個／ｃｍ２以上であることがより好ましい。貫通孔の密度を１×１０４個／ｃｍ２以上とすることによって、例えばプレドープの時間が遅くなることをより効果的に防ぐことができる。
　箔厚み
　本発明Ａｌ箔の厚みは、通常は５０μｍ以下、好ましくは４０μｍ以下、さらに好ましくは２５μｍ以下とする。上記の厚みに設定することにより、リチウムイオンキャパシタの集電体として好適に用いることができる。なお、厚みの下限値は限定的ではないが、通常は１μｍ程度とすれば良い。なお、本発明における「箔厚み」とは、後述のエンボス加工が施されていない部分の厚みを指す。
　エンボス箔厚み
　本発明のエンボス箔厚みは、通常は９５μｍ以下、好ましくは９０μｍ以下とする。上記の厚みに設定することにより、リチウムイオンキャパシタの集電体として好適に用いることができる。なお、厚みの下限値は限定的ではないが、通常は１．３μｍ程度とすれば良い。なお、本発明における「エンボス箔厚み」とは、図４に示すように、エンボス加工されたＡｌ箔３１におけるエンボス形状の高さ（深さ）を含めた総厚みｔを指す。
　破断強度及び破断伸び
　本発明Ａｌ箔は、破断強度が［０．３×箔厚み（μｍ）］Ｎ／１０ｍｍ以上であり、好ましくは［０．３５×箔厚み（μｍ）］Ｎ／１０ｍｍ以上である。例えば、箔厚みが５０μｍの本発明Ａｌ箔では、破断強度は１５Ｎ／１０ｍｍ以上である。破断強度は、一般的には箔厚みの減少とともに低下するが、本発明ではその低下度合いが小さく、同じ箔厚みでは従来品に比して高い破断強度を示す。本発明Ａｌ箔では、厚み３０～５０μｍでは破断強度は８～１５Ｎ／１０ｍｍ程度と比較的高強度であるが、それ以上の高い破断強度であっても良い。なお、破断強度の上限値は限定的ではないが、箔厚み５０μｍ以下の範囲であれば通常は５０Ｎ／１０ｍｍ程度、箔厚み２５μｍ以下の範囲であれば通常は２５Ｎ／１０ｍｍ程度とすれば良い。
　また、本発明Ａｌ箔における破断伸びは、［０．０５×箔厚み（μｍ）］％以下であり、好ましくは［０．０４×箔厚み（μｍ）］％以下である。破断伸びが［０．０５×箔厚み（μｍ）］％を超える場合は塗工時にシワが発生し易く、打ち抜き時に端部にバリが発生し易いという問題が生じる。これに対し、破断伸びを上記範囲に設定することによって、塗工時にシワが発生しにくく、打ち抜き時に端部にバリが発生しにくくなる等の効果が得られる。
　組成
　本発明Ａｌ箔の組成は、上記の特性を有する限りは制限されず、公知のＡｌ箔における組成を採用することもできるが、特にＦｅ：５～８０重量ｐｐｍ、Ｓｉ：５～１００重量ｐｐｍ、Ｃｕ：１０～１００重量ｐｐｍならびに残部：Ａｌ及び不可避不純物からなる組成を好適に採用することができる。
　Ｆｅの含有量は、通常５～８０ｐｐｍ程度とし、好ましくは１０～５０ｐｐｍとする。Ｆｅは、Ａｌ－Ｆｅ系の化合物として晶出し、圧延性や伸びを改善することができる元素である。また、適度な量のＡｌ－Ｆｅ系の化合物は、結晶核発生サイト及びピン止めにより結晶粒を微細化し、薄箔の圧延性を向上させる。
　Ｆｅの含有量が５ｐｐｍ未満の場合は、上記の効果が得られず、結晶粒の粗大化による箔の強度低下が起こり、貫通箔の強度低下や部位による強度のバラツキを生じやすい。一方、Ｆｅの含有量が８０ｐｐｍを超える場合は、表面に過剰な溶解が起こり、貫通箔の強度低下や部位による強度のバラツキを招く。また、立方体方位の占有率が低くなり、十分な貫通エッチングピット密度が得られなくなる。
　Ｓｉの含有量は、通常５～１００ｐｐｍ程度とし、好ましくは１０～６０ｐｐｍとする。Ｓｉは、主に、強度を向上させることができる元素である。また、例えば、特に厚みが５０μｍ以下の薄箔への圧延時にはアルミニウム貫通箔の表面のみならず、内部にも圧延加工に伴う瞬間的な温度上昇が発生するが、シリコンの存在により転位の消失を抑制して強度の低下を防ぐことができる。
　Ｓｉの含有量が５ｐｐｍ未満の場合は、上記の効果が得られず、強度低下が起こり、貫通箔の強度低下や部位による強度のバラツキを生じやすい。また、Ｓｉの含有量が１００ｐｐｍを超える場合は、立方体方位の占有率が低くなり、十分な貫通エッチングピット密度が得られない。
　Ｃｕの含有量は、通常１０～１００ｐｐｍ程度とし、好ましくは１５～６０ｐｐｍとする。Ｃｕの含有量が上記範囲に設定されている場合は、特に箔厚み２５μｍ以下に圧延する際の圧延性をより向上させることができる。また、Ｃｕは、塩酸エッチング時の溶解性を向上させ、貫通エッチングピットの形成に寄与する。
　Ｃｕの含有量が１０ｐｐｍ未満の場合は上記の効果が十分に得られない上、薄箔の圧延性を著しく低下させる。他方、Ｃｕの含有量が１００ｐｐｍを超える場合は、表面に過剰な溶解が起こり、貫通箔の強度低下や部位による強度のバラツキを招く。また、立方体方位の占有率が低くなり、十分な貫通エッチングピット密度が得られない。
　本発明Ａｌ箔では、上記のような成分のほか、必要に応じてＰｂが含まれていても良い。Ｐｂは、主としてエッチング処理に使用する電解液とアルミニウム箔との反応を促進し、初期のエッチングピット数を増加させる働きがあることから、いっそう高い貫通エッチング密度を達成することが可能となる。Ｐｂを含有する場合のＰｂ含有量は、通常０．０１～２０ｐｐｍ程度とし、好ましくは０．０５～１０ｐｐｍとすれば良い。
　Ｐｂは、主としてエッチング処理に使用する電解液とアルミニウム箔との反応を促進し、初期のエッチングピット数を増加させる働きがあるので、いっそう高い貫通エッチング密度を達成することが可能となる。Ｐｂを含有する場合のＰｂの含有量は、上記のような効果が達成できるように適宜調整することができるが、通常０．０１～２０ｐｐｍ程度、好ましくは０．０５～１０ｐｐｍとすれば良い。
　特に、本発明Ａｌ箔では、Ｐｂがアルミニウム箔の表面から深さ０．１μｍまでの領域において４０～２０００ｐｐｍの範囲となるように設定することが望ましい。上記範囲内に設定することによって、貫通エッチング密度をよりいっそう高めることができる。
　なお、このようなＰｂ含有量の調整は、例えばアルミニウム箔の製造段階においてアルミニウム溶湯に添加するＰｂ量を調節し、さらに焼鈍温度を４５０℃以上の範囲内で制御することによって実施することができる。
　残部は実質的にＡｌと不可避不純物からなる。本発明のアルミニウム合金箔におけるアルミニウム純度は、集電体用として使える範囲内であれば特に制限されない。また、不可避不純物としては、例えばＭｇ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｖ、Ｇａ、Ｃｒ、Ｚｒ、Ｂ等が含まれていても良い。
（Ａ－２）実施形態１の高強度アルミニウム貫通箔の製造方法
　実施形態１のＡｌ箔は、次のようにして製造することができる。すなわち、箔表面から裏面に至る貫通孔を複数有するアルミニウム貫通箔に対し、エンボス加工を行う（本発明加工）工程を含むことを特徴とする高強度アルミニウム貫通箔の製造方法により、実施形態１に係るＡｌ箔を好適に製造することができる。
　前記アルミニウム貫通箔（原箔）は、公知の方法により調製することもできるが、特に以下の方法に従って調製することが望ましい。
　まず、鋳造から板圧延（約１ｍｍ位）まではほぼ通常の方法で製造することができる。例えば、上記組成を有する原料の溶湯を調製し、溶湯を凝固させることにより鋳塊を製造する。この場合、得られた鋳塊に対して４００～５５０℃で１～２０時間程度の均質化処理を施すことが好ましい。特に、本発明では、均質化処理温度を５５０℃以下とすることが望ましい。均質化処理温度を５５０℃以下とすることによって、５０μｍ以下の箔に圧延して焼鈍した後により高い立方体方位占有率を得ることができる。
　その後、鋳塊に対して熱間圧延及び冷間圧延を施すことによって３５０μｍ程度の厚箔とする。なお、必要に応じて、板表面の不純物又は酸化皮膜を除去する等の目的で板洗浄、箔洗浄等の公知の処理を行っても良い。
　次いで、前記の厚箔を冷間圧延することによって、薄箔を得る。この場合、圧延後の薄箔の厚みは、最終箔の厚みの１１０～１３０％の厚みとすることが好ましい。なお、冷間圧延の温度自体は、公知の冷間圧延と同様にすれば良く、例えば１２０℃を超えない温度範囲内で実施することができる。
　薄箔の圧延時にはアルミニウム箔の表面のみならず内部にも、圧延加工に伴う瞬間的な温度上昇が発生する。また、アルミニウム箔と圧延ロールとの間の摩擦等、機械的ストレスが大きくなると、５０μｍ以下の箔に圧延して焼鈍した後に立方体方位の占有率が低くなるおそれがある。従って、薄箔の圧延（少なくとも最後の圧延（すなわち、最終箔を得るための圧延））は、圧延ロールの平均粗度Ｒａを０．２５μｍ以下、特に０．２０μｍ以下、さらには０．１８μｍ以下とすることが好ましい。この場合、得られる薄箔の平均粗度Ｒａは、圧延ロールと接する面がそれぞれ０．２５μｍ以下、特に０．２０μｍ以下、さらに０．１８μｍ以下となる。
　本発明では、厚箔を圧延して薄箔を得る場合は、圧延ロールに接触しない面を確保しながら圧延することが好ましい。圧延ロールに接触しない面を確保することにより、結晶粒の動きを阻害する要因を除くことができ、これにより薄い箔であっても高い立方体方位占有率を得ることができる。圧延ロールに接触しない面をつくりだすには、例えばいわゆる合わせ圧延（併せ圧延）を行うことが好ましい。すなわち、箔を２枚又はそれ以上重ね合わせた状態で圧延することにより、圧延ロールに接触しない面を有する薄箔を得ることができる。この場合、最終的に得られる薄箔の厚みを均一化するために、箔を重ね合わせる場合の総厚みは３５０μｍ以下とすることが好ましい。重ね合わせた箔の分離は、次の工程である焼鈍の前及び／又は後に実施することができる。この合わせ圧延においても、圧延ロールの平均粗度Ｒａを０．２５μｍ以下、特に０．２０μｍ以下、さらには０．１８μｍ以下とすることが好ましい。
　上記の冷間圧延を実施した後、必要に応じて、中間焼鈍として１５０～３５０℃（特に１５０～３００℃）で１～３０時間程度の熱処理を施すことが好ましい。特に前記の熱処理温度は３５０℃以下とすることが望ましい。熱処理温度を３５０℃以下とすることによって、５０μｍ以下の箔に圧延して焼鈍した後により高い立方体方位占有率を得ることができる。なお、中間焼鈍の雰囲気は限定的でなく、例えば真空中、大気中、不活性ガス雰囲気中等のいずれであっても良い。
　次に、前記薄箔をさらに冷間圧延することにより所望の箔厚みをもつ最終箔（最終的な箔厚みをもつ箔）を得る。すなわち、この冷間圧延によって、箔厚み５０μｍ以下の箔を得ることができる。なお、この冷間圧延においても、圧延ロールの平均粗度Ｒａを０．２５μｍ以下、特に０．２０μｍ以下、さらには０．１８μｍ以下とすることが好ましい。
　本発明では、前記の最終箔に対して焼鈍（最終焼鈍）工程を実施することが好ましい。また、焼鈍工程に先立ち、例えば箔表面の圧延油、不純物、酸化皮膜を除去する等の目的で箔洗浄を行っても良い。洗浄後には乾燥を適宜行っても良い。特に、圧延油が過大に付着したまま高温の焼鈍を行なうと、箔表面の一部がシミ状に黄変し、エッチング処理を行なっても所望の形状のエッチングピットが得られなくなるおそれがある。
　焼鈍温度は限定的ではないが、通常４５０℃以上とし、特に４５０℃以上６６０℃未満、さらには５００～６２０℃に設定することが望ましい。焼鈍温度が４５０℃未満になると立方体方位率が低下し、エッチング処理を行っても所望の形状のエッチングピットが得られなくなるおそれがある。焼鈍時間は、焼鈍温度等にもよるが、一般的には１～１００時間程度とすれば良い。
　焼鈍雰囲気は、実質的に真空又は不活性ガス雰囲気とすることが望ましい。ただし、昇温及び降温の工程も含め３５０℃を超える場合には、焼鈍雰囲気中の酸素濃度を工業的に可能な限り低減させることが望ましい。すなわち、１０－５Ｔｏｒｒ以下の減圧下又は酸素を０～１体積％含む不活性ガス雰囲気とすることが望ましい。１０－５Ｔｏｒｒを超える真空雰囲気又は焼鈍雰囲気中の酸素濃度が１．０体積％を超える不活性ガス雰囲気の場合は、焼鈍後の箔表面の一部がシミ状に黄変し、エッチング処理を行なっても所望の形状のエッチングピットが得られなくなるおそれがある。焼鈍雰囲気中の酸素濃度を上記のように設定することによって、薄くて均一な熱酸化皮膜が得られ、透気度の制御に寄与することができる。
　このようにして得られた箔（最終箔）に対してエッチング処理を施すことにより貫通孔を形成させる。エッチング処理の方法は限定的ではなく、１段階のエッチングにより所望の貫通孔を形成しても良いし、２段階又はそれ以上に分けて実施しても良い。
　本発明では、例えば少なくとも２段階のエッチングとし、１段目のエッチングで貫通孔を形成し、２段目のエッチングで貫通孔の内径を調整することにより、所望の貫通孔を好適に形成することができる。
　この場合、１段目のエッチングは、好ましくは塩酸を主成分とする電解液中で直流エッチングする。１段目エッチングでは、主にエッチングピットを形成するとともにその密度と形状（貫通形状）を制御することができる。電解液としては、塩酸１～１０重量％が水に溶解した水溶液を使用することができる。この場合、電解液中にはシュウ酸、リン酸、硫酸等を０．００１～０．１重量％加えても良い。また、液温は６０～９０℃程度とし、電流密度は０．１～０．５Ａ／ｃｍ２程度とする。エッチング方式は、直流エッチングとすることが好ましい。なお、エッチング時間は、箔厚、目標とする透気度等に応じて適宜設定することができる。
　２段目のエッチングでは、好ましくはケミカルエッチングを実施する。これにより、主としてエッチングピット径を制御することができる。例えば、上記１段目エッチングと同組成・温度の液中で、ケミカルエッチングを行うことができる。エッチング時間は、例えば箔厚、目標とする透気度等に応じて適宜設定することができる。また、必ずしも塩酸を主成分としなくても良く、硝酸を主成分とした電解液中でも良い。また、ケミカルエッチングでなく、電解エッチングとしても良い。さらに必要に応じて、ケミカルエッチングや電解エッチング、エッチング液組成を組み合わせて、「２段目のエッチング」をさらに多段化しても良い。
　以上のようにして得られた原箔を用いて、本発明加工を実施する。すなわち、原箔のエンボス加工を行う。この場合、原箔の箔厚みは、貫通孔が実質的に保持される限りは、本発明加工後に多少変化していても良いが、特に箔厚みの変化率は１０％以下、特に５％以下、さらには１％以下とすることが好ましい。すなわち、実質的に原箔の厚みを維持しながら原箔に対してエンボス加工を行うことが最も好ましい。原箔の箔厚みが大幅に変化する（特に大幅に薄くなる）と、貫通孔が変形し、所望の透気度等が得られなくなるので、変化率は上記範囲内に制御する。
　一般に、原箔は、エッチングピットを箔表面から内部に伸ばして反対面まで貫通させるため、エッチング前においてアルミニウム箔を熱処理（焼鈍）し、完全に再結晶させ、好ましくは１つの再結晶粒が箔断面を貫通することが必要である。このように再結晶させるとアルミニウム箔の強度は著しく低下し、薄い箔に加工した場合のハンドリング性が悪くなる。本発明では、エッチングして貫通性を付与した原箔に対してエンボス加工を行うことにより、破断強度等を高め、ハンドリング性を良くし、箔切れやシワ発生を抑制することができる。ちなみに、前記の熱処理は４００℃以上の高温で実施する必要があるので、一般的にはエッチング前のアルミニウム箔の破断強度は約５０Ｎ／ｍｍ２以下、耐力値は約２０Ｎ／ｍｍ２以下になる。これらの数値の低下については、例えばＦｅ、Ｓｉ、Ｃｕ等の元素添加（合金化）による強度改善も考えられるが、これらの元素はエッチング性を阻害するために多量には添加できず、実際上は合金化による強度改善は難しい。これに対し、本発明加工によれば、エッチング後の原箔に軽度の加工を施すことにより、透気度等に影響を及ぼすことなく強度を改善することができる。すなわち、比較的軽度のエンボス加工を行い、加工歪を導入することにより、耐力値を高めることができる。薄箔のハンドリング性はこの耐力値によりほぼ決定されることから、耐力値を高めることによりハンドリング性を向上させることができる。
　本発明では、エンボス加工の方法は、前記の通り箔厚みの変化率は１０％以下の範囲内で行える限りは特に限定されず、公知又は市販のエンボス加工機を用いて実施することができる。例えば、少なくとも一方にエンボス形状を有する２本のロール間にアルミニウム貫通箔を通過させることにより、ロール上のエンボスパターンをアルミニウム貫通箔表面に転写することにより、アルミニウム貫通箔表面にエンボスパターン（凹凸）を付与することができる。ロールは、片面エンボス又は両面エンボスのいずれであっても良いが、本発明では片面エンボスとすることが好ましい。例えば、一方がエンボスパターンを有する金属製ロールであり、他方がエンボスパターンを有しない樹脂製ロールの組み合わせを好適に採用することができる。
　ロールのエンボスパターンのメッシュ数としては一般的に５０～２２５メッシュの範囲内で所望の強度等に応じて適宜設定することができる。例えば、箔厚み３０～５０μｍの場合は、５０～２００メッシュとし、特に１００～２００メッシュとすることが好ましい。また、エンボスのパターン形状（凹凸形状）は、種々の形状を採用することができ、例えば台形型（台形カップ）、ピラミッド型（三角錐）（ピラミッド型カップ）、亀甲型、三角斜線型、台形斜線型等の公知又は市販の装置のロールのパターンをいずれも採用することができる。また、エンボス形状の高さ（深さ）は、アルミニウム箔の厚み以下の範囲内で適宜設定することができる。特にアルミニウム箔の厚みの６０～９０％、特に６０～８０％の範囲内で設定することが望ましい。圧力は、前記のように、アルミニウム貫通箔の箔厚みの変化率が１０％以内の範囲内で適宜調整することができるが、通常は１～１５ｋｇ／ｃｍ２の範囲内とすれば良い。
Ｂ．実施形態２
（Ｂ－１）実施形態２に係るＡｌ箔
　実施形態２の高強度アルミニウム貫通箔（本発明Ａｌ箔）は、箔表面から裏面に至る貫通孔を複数有するアルミニウム貫通箔であって、
（１）箔厚みが５０μｍ以下であり、
（２）破断強度が［０．２×箔厚み（μｍ）］Ｎ／１０ｍｍ以上であり、
（３）［耐力値／破断強度］が５０％以上である、
ことを特徴とする。
　貫通孔
　貫通孔の内径は、Ａｌ箔の用途、使用目的等に応じて適宜設定することができるが、通常は０．２～５μｍ、特に０．５～３μｍとすることが好ましい。貫通孔の内径は、エッチング処理時において特にエッチング時間を調整することにより適宜制御することができる。
　貫通孔の存在割合としては特に限定的ではないが、一般的にはＪＩＳ　Ｐ　８１１７に準じたガーレ式デンソメータによる透気度試験方法によって測定された透気度が５ｓｅｃ／１００ｍｌ以上、特に３０ｓｅｃ／１００ｍｌ以上であることが好ましい。かかる透気度を有することにより、本発明Ａｌ箔に活物質を塗布しても活物質が裏抜けせず、不必要な部分にも活物質が塗布されることがないため、その対策としての前処理が不要になるという効果が得られる。なお、前記透気度の上限値は特に制限されないが、通常は５００ｓｅｃ／１００ｍｌ程度とすれば良い。
　本発明Ａｌ箔では、アルミニウム貫通箔における垂直貫通孔占有率ｃ（％）と前記箔厚みｔ（μｍ）の比率［ｃ／ｔ］が１．４以上であり、好ましくは１．５以上であり、より好ましくは１．６以上である。このことは、本発明Ａｌ箔が、従来のアルミニウム貫通箔と比べて、同じ厚みでもより高い垂直貫通孔占有率を示すものである。すなわち、本発明Ａｌ箔は、厚みが薄いにもかかわらず、より高い垂直貫通孔占有率を有するものである。一般に、高純度アルミニウム箔は、厚みが薄くなるほど立方体方位占有率が低くなり、それに伴って垂直貫通孔占有率も低下する。一般的には立方体方位占有率は、箔厚み（μｍ）％の数値程度の値に相当すると言われている。例えば、箔厚み５５μｍのアルミニウム箔であれば立方体方位占有率はおよそ５５％前後となる。これに対し、本発明では、Ｆｅ、Ｓｉ、Ｃｕ等の含有量を制御すること等によって、薄い箔であっても従来技術よりも高い立方体方位占有率を実現させることができる結果、垂直貫通孔占有率をより高くすることが可能となる。
　前記の垂直貫通孔占有率に関し、本発明Ａｌ箔では垂直貫通孔占有率そのものの値については箔厚み等によって変動するので特に限定されないが、一般的には３０～９８％、特に４０～９８％の範囲内にあれば良い。
　なお、一般に、水平面から７０～１１０度の角度をなす貫通孔の割合が、エッチング前のアルミニウム箔の立方体方位占有率とほぼ同じ値となることから、本発明では貫通孔が水平面から７０～１１０度（すなわち、９０度±２０度）の範囲の角度をなすものを垂直貫通孔とし、貫通孔の総数に対する垂直貫通孔が占める割合を垂直貫通孔占有率としている。よって、本発明のおける垂直貫通孔占有率は、エッチング前のアルミニウム箔の立方体方位占有率とほぼ同じ値となる。
　本発明Ａｌ箔においては、表面積拡大比が［０．１５×箔厚みｔ（μｍ）］以上の値、特に［０．１７×箔厚みｔ（μｍ）］以上の値であることが好ましい。表面拡大比を上記範囲に設定することによって、集電体としての本発明Ａｌ箔と活物質との密着性が向上する。
　また、本発明Ａｌ箔では、貫通孔率ｓ（％）＝〔測定重量（ｇ）／〔箔厚み（ｃｍ）×試料面積（ｃｍ２）〕〕／アルミニウムの比重（２．７０ｇ／ｃｍ３）が、５≦ｓ≦２０の範囲にあることが好ましい。上記範囲内に設定する場合には、貫通孔を通じてリチウムイオンを可逆的に移動可能とできる一方、強度の低下を抑制することができる。
　本発明Ａｌ箔の厚みは、通常は５０μｍ以下、好ましくは４０μｍ以下、さらに好ましくは２５μｍ以下とする。上記の厚みに設定することにより、リチウムイオンキャパシタの集電体として好適に用いることができる。なお、厚みの下限値は限定的ではないが、通常は１μｍ程度とすれば良い。
　破断強度及び耐力値
　本発明Ａｌ箔は、破断強度が［０．２×箔厚み（μｍ）］Ｎ／１０ｍｍ以上であり、好ましくは［０．２５×箔厚み（μｍ）］Ｎ／１０ｍｍ以上である。例えば、箔厚みが５０μｍの本発明Ａｌ箔では、破断強度は１０Ｎ／１０ｍｍ以上である。破断強度は、一般的には箔厚みの減少とともに低下するが、本発明ではその低下度合いが小さく、同じ箔厚みでは従来品に比して高い破断強度を示す。本発明Ａｌ箔では、厚み３０～５０μｍでは破断強度は８～１５Ｎ／１０ｍｍ程度と比較的高強度であるが、それ以上の高い破断強度であっても良い。なお、破断強度の上限値は限定的ではないが、箔厚み５０μｍ以下の範囲であれば通常は５０Ｎ／１０ｍｍ程度、箔厚み２５μｍ以下の範囲であれば通常は２５Ｎ／１０ｍｍ程度である。
　また、本発明Ａｌ箔における［耐力値／破断強度］（破断強度に対する耐力値の割合）の値は５０％以上、好ましくは７０％以上である。前記値が５０％未満の場合は、ハンドリング性等が低下する結果、後工程において箔の破断、シワ等の発生を高頻度でもたらすおそれがある。本発明Ａｌ箔の耐力値（一般に材料の引っ張り試験を行った時に０．２％伸びた時の抗張力を言う。）は、箔厚みが３０～５０μｍの範囲内においては通常２～５Ｎ／１０ｍｍ程度であるが、この範囲を上回る場合も本発明に包含される。本発明では、このような高い耐力値、ひいては前記割合を高くすることにより、ハンドリング性を良くし、箔切れあるいはシワの発生を抑制することができる。
　組成
　本発明Ａｌ箔の組成は、上記の特性を有する限りは制限されず、公知のＡｌ箔における組成を採用することもできるが、特にＦｅ：５～８０重量ｐｐｍ、Ｓｉ：５～１００重量ｐｐｍ、Ｃｕ：１０～１００重量ｐｐｍならびに残部：Ａｌ及び不可避不純物からなる組成を好適に採用することができる。
　Ｆｅの含有量は、通常５～８０ｐｐｍ程度とし、好ましくは１０～５０ｐｐｍとする。Ｆｅは、Ａｌ－Ｆｅ系の化合物として晶出し、圧延性や伸びを改善することができる元素である。また、適度な量のＡｌ－Ｆｅ系の化合物は、結晶核発生サイト及びピン止めにより結晶粒を微細化し、薄箔の圧延性を向上させる。
　Ｆｅの含有量が５ｐｐｍ未満の場合は、上記の効果が得られず、結晶粒の粗大化による箔の強度低下が起こり、貫通箔の強度低下や部位による強度のバラツキを生じやすい。一方、Ｆｅの含有量が８０ｐｐｍを超える場合は、表面に過剰な溶解が起こり、貫通箔の強度低下や部位による強度のバラツキを招く。また、立方体方位の占有率が低くなり、十分な貫通エッチングピット密度が得られなくなる。
　Ｓｉの含有量は、通常５～１００ｐｐｍ程度とし、好ましくは１０～６０ｐｐｍとする。Ｓｉは、主に、強度を向上させることができる元素である。また、例えば、特に厚みが５０μｍ以下の薄箔への圧延時にはアルミニウム貫通箔の表面のみならず、内部にも圧延加工に伴う瞬間的な温度上昇が発生するが、シリコンの存在により転位の消失を抑制して強度の低下を防ぐことができる。
　Ｓｉの含有量が５ｐｐｍ未満の場合は、上記の効果が得られず、強度低下が起こり、貫通箔の強度低下や部位による強度のバラツキを生じやすい。また、Ｓｉの含有量が１００ｐｐｍを超える場合は、立方体方位の占有率が低くなり、十分な貫通エッチングピット密度が得られない。
　Ｃｕの含有量は、通常１０～１００ｐｐｍ程度とし、好ましくは１５～６０ｐｐｍとする。Ｃｕの含有量が上記範囲に設定されている場合は、特に箔厚み２５μｍ以下に圧延する際の圧延性をより向上させることができる。また、Ｃｕは、塩酸エッチング時の溶解性を向上させ、貫通エッチングピットの形成に寄与する。
　Ｃｕの含有量が１０ｐｐｍ未満の場合は上記の効果が十分に得られない上、薄箔の圧延性を著しく低下させる。他方、Ｃｕの含有量が１００ｐｐｍを超える場合は、表面に過剰な溶解が起こり、貫通箔の強度低下や部位による強度のバラツキを招く。また、立方体方位の占有率が低くなり、十分な貫通エッチングピット密度が得られない。
　本発明Ａｌ箔では、上記のような成分のほか、必要に応じてＰｂが含まれていても良い。Ｐｂは、主としてエッチング処理に使用する電解液とアルミニウム箔との反応を促進し、初期のエッチングピット数を増加させる働きがあることから、いっそう高い貫通エッチング密度を達成することが可能となる。Ｐｂを含有する場合のＰｂ含有量は、通常０．０１～２０ｐｐｍ程度とし、好ましくは０．０５～１０ｐｐｍとすれば良い。
　Ｐｂは、主としてエッチング処理に使用する電解液とアルミニウム箔との反応を促進し、初期のエッチングピット数を増加させる働きがあるので、いっそう高い貫通エッチング密度を達成することが可能となる。Ｐｂを含有する場合のＰｂの含有量は、上記のような効果が達成できるように適宜調整することができるが、通常０．０１～２０ｐｐｍ程度、好ましくは０．０５～１０ｐｐｍとすれば良い。
　特に、本発明Ａｌ箔では、Ｐｂがアルミニウム箔の表面から深さ０．１μｍまでの領域において４０～２０００ｐｐｍの範囲となるように設定することが望ましい。上記範囲内に設定することによって、貫通エッチング密度をよりいっそう高めることができる。
　なお、このようなＰｂ含有量の調整は、例えばアルミニウム箔の製造段階においてアルミニウム溶湯に添加するＰｂ量を調節し、さらに焼鈍温度を４５０℃以上の範囲内で制御することによって実施することができる。
　残部は実質的にＡｌと不可避不純物からなる。本発明のアルミニウム合金箔におけるアルミニウム純度は、集電体用として使える範囲内であれば特に制限されない。また、不可避不純物としては、例えばＭｇ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｖ、Ｇａ、Ｃｒ、Ｚｒ、Ｂ等が含まれていても良い。
（Ｂ－２）実施形態Ｂの高強度アルミニウム貫通箔の製造方法
　実施形態ＢのＡｌ箔は、次のようにして製造することができる。すなわち、箔表面から裏面に至る貫通孔を複数有するアルミニウム貫通箔に対し、引張加工と曲げ加工とを同時に行う（本発明加工）工程を含むことを特徴とする高強度アルミニウム貫通箔の製造方法により、本発明Ａｌ箔を好適に製造することができる。
　前記アルミニウム貫通箔（原箔）は、公知の方法により調製することもできるが、特に以下の方法に従って調製することが望ましい。
　まず、鋳造から板圧延（約１ｍｍ位）まではほぼ通常の方法で製造することができる。例えば、上記組成を有する原料の溶湯を調製し、溶湯を凝固させることにより鋳塊を製造する。この場合、得られた鋳塊に対して４００～５５０℃で１～２０時間程度の均質化処理を施すことが好ましい。特に、本発明では、均質化処理温度を５５０℃以下とすることが望ましい。均質化処理温度を５５０℃以下とすることによって、５０μｍ以下の箔に圧延して焼鈍した後により高い立方体方位占有率を得ることができる。
　その後、鋳塊に対して熱間圧延及び冷間圧延を施すことによって３５０μｍ程度の厚箔とする。なお、必要に応じて、板表面の不純物又は酸化皮膜を除去する等の目的で板洗浄、箔洗浄等の公知の処理を行っても良い。
　次いで、前記の厚箔を冷間圧延することによって、薄箔を得る。この場合、圧延後の薄箔の厚みは、最終箔の厚みの１１０～１３０％の厚みとすることが好ましい。なお、冷間圧延の温度自体は、公知の冷間圧延と同様にすれば良く、例えば１２０℃を超えない温度範囲内で実施することができる。
　薄箔の圧延時にはアルミニウム箔の表面のみならず内部にも、圧延加工に伴う瞬間的な温度上昇が発生する。また、アルミニウム箔と圧延ロールとの間の摩擦等、機械的ストレスが大きくなると、５０μｍ以下の箔に圧延して焼鈍した後に立方体方位の占有率が低くなるおそれがある。従って、薄箔の圧延（少なくとも最後の圧延（すなわち、最終箔を得るための圧延））は、圧延ロールの平均粗度Ｒａを０．２５μｍ以下、特に０．２０μｍ以下、さらには０．１８μｍ以下とすることが好ましい。この場合、得られる薄箔の平均粗度Ｒａは、圧延ロールと接する面がそれぞれ０．２５μｍ以下、特に０．２０μｍ以下、さらに０．１８μｍ以下となる。
　本発明では、厚箔を圧延して薄箔を得る場合は、圧延ロールに接触しない面を確保しながら圧延することが好ましい。圧延ロールに接触しない面を確保することにより、結晶粒の動きを阻害する要因を除くことができ、これにより薄い箔であっても高い立方体方位占有率を得ることができる。圧延ロールに接触しない面をつくりだすには、例えばいわゆる合わせ圧延（併せ圧延）を行うことが好ましい。すなわち、箔を２枚又はそれ以上重ね合わせた状態で圧延することにより、圧延ロールに接触しない面を有する薄箔を得ることができる。この場合、最終的に得られる薄箔の厚みを均一化するために、箔を重ね合わせる場合の総厚みは３５０μｍ以下とすることが好ましい。重ね合わせた箔の分離は、次の工程である焼鈍の前及び／又は後に実施することができる。この合わせ圧延においても、圧延ロールの平均粗度Ｒａを０．２５μｍ以下、特に０．２０μｍ以下、さらには０．１８μｍ以下とすることが好ましい。
　上記の冷間圧延を実施した後、必要に応じて、中間焼鈍として１５０～３５０℃（特に１５０～３００℃）で１～３０時間程度の熱処理を施すことが好ましい。特に前記の熱処理温度は３５０℃以下とすることが望ましい。熱処理温度を３５０℃以下とすることによって、５０μｍ以下の箔に圧延して焼鈍した後により高い立方体方位占有率を得ることができる。なお、中間焼鈍の雰囲気は限定的でなく、例えば真空中、大気中、不活性ガス雰囲気中等のいずれであっても良い。
　次に、前記薄箔をさらに冷間圧延することにより所望の箔厚みをもつ最終箔（最終的な箔厚みをもつ箔）を得る。すなわち、この冷間圧延によって、箔厚み５０μｍ以下の箔を得ることができる。なお、この冷間圧延においても、圧延ロールの平均粗度Ｒａを０．２５μｍ以下、特に０．２０μｍ以下、さらには０．１８μｍ以下とすることが好ましい。
　本発明では、前記の最終箔に対して焼鈍（最終焼鈍）工程を実施することが好ましい。また、焼鈍工程に先立ち、例えば箔表面の圧延油、不純物、酸化皮膜を除去する等の目的で箔洗浄を行っても良い。洗浄後には乾燥を適宜行っても良い。特に、圧延油が過大に付着したまま高温の焼鈍を行なうと、箔表面の一部がシミ状に黄変し、エッチング処理を行なっても所望の形状のエッチングピットが得られなくなるおそれがある。
　焼鈍温度は限定的ではないが、通常４５０℃以上とし、特に４５０℃以上６６０℃未満、さらには５００～６２０℃に設定することが望ましい。焼鈍温度が４５０℃未満になると立方体方位率が低下し、エッチング処理を行っても所望の形状のエッチングピットが得られなくなるおそれがある。焼鈍時間は、焼鈍温度等にもよるが、一般的には１～１００時間程度とすれば良い。
　焼鈍雰囲気は、実質的に真空又は不活性ガス雰囲気とすることが望ましい。ただし、昇温及び降温の工程も含め３５０℃を超える場合には、焼鈍雰囲気中の酸素濃度を工業的に可能な限り低減させることが望ましい。すなわち、１０－５Ｔｏｒｒ以下の減圧下又は酸素を０～１体積％含む不活性ガス雰囲気とすることが望ましい。１０－５Ｔｏｒｒを超える真空雰囲気又は焼鈍雰囲気中の酸素濃度が１．０体積％を超える不活性ガス雰囲気の場合は、焼鈍後の箔表面の一部がシミ状に黄変し、エッチング処理を行なっても所望の形状のエッチングピットが得られなくなるおそれがある。焼鈍雰囲気中の酸素濃度を上記のように設定することによって、薄くて均一な熱酸化皮膜が得られ、透気度の制御に寄与することができる。
　このようにして得られた箔（最終箔）に対してエッチング処理を施すことにより貫通孔を形成させる。エッチング処理の方法は限定的ではなく、１段階のエッチングにより所望の貫通孔を形成しても良いし、２段階又はそれ以上に分けて実施しても良い。
　本発明では、例えば少なくとも２段階のエッチングとし、１段目のエッチングで貫通孔を形成し、２段目のエッチングで貫通孔の内径を調整することにより、所望の貫通孔を好適に形成することができる。
　この場合、１段目のエッチングは、好ましくは塩酸を主成分とする電解液中で直流エッチングする。１段目エッチングでは、主にエッチングピットを形成するとともにその密度と形状（貫通形状）を制御することができる。電解液としては、塩酸１～１０重量％が水に溶解した水溶液を使用することができる。この場合、電解液中にはシュウ酸、リン酸、硫酸等を０．００１～０．１重量％加えても良い。また、液温は６０～９０℃程度とし、電流密度は０．１～０．５Ａ／ｃｍ２程度とする。エッチング方式は、直流エッチングとすることが好ましい。なお、エッチング時間は、箔厚、目標とする透気度等に応じて適宜設定することができる。
　２段目のエッチングでは、好ましくはケミカルエッチングを実施する。これにより、主としてエッチングピット径を制御することができる。例えば、上記１段目エッチングと同組成・温度の液中で、ケミカルエッチングを行うことができる。エッチング時間は、例えば箔厚、目標とする透気度等に応じて適宜設定することができる。また、必ずしも塩酸を主成分としなくても良く、硝酸を主成分とした電解液中でも良い。また、ケミカルエッチングでなく、電解エッチングとしても良い。さらに必要に応じて、ケミカルエッチングや電解エッチング、エッチング液組成を組み合わせて、「２段目のエッチング」をさらに多段化しても良い。
　以上のようにして得られた原箔を用いて、本発明加工を実施する。すなわち、原箔に対して引張加工と曲げ加工とを同時に行う。この場合、原箔の箔厚みは、貫通孔が実質的に保持される限りは本発明加工後に多少変化していても良いが、特に箔厚みの変化率は５％以下、特に１％以下、さらには０％とすることが好ましい。すなわち、実質的に原箔の厚みを維持しながら原箔に対して引張加工と曲げ加工とを同時に行うことが最も好ましい。原箔の箔厚みが大幅に変化する（特に大幅に薄くなる）と、貫通孔が変形し、所望の透気度等が得られなくなるので、変化率は上記範囲内に制御する。
　一般に、原箔は、エッチングピットを箔表面から内部に伸ばし反対面まで貫通させるため、エッチング前においてアルミニウム箔を熱処理（焼鈍）し、完全に再結晶させ、好ましくは１つの再結晶粒が箔断面を貫通することが必要である。このように再結晶させるとアルミニウム箔の強度は著しく低下し、薄い箔に加工した場合のハンドリング性が悪くなる。本発明では、エッチングして貫通性を付与した原箔に引張加工と曲げ加工とを同時に行うことにより、耐力値を高めハンドリング性を良くし、箔切れやシワ発生を抑制することができる。ちなみに、前記の熱処理は４００℃以上の高温で実施する必要があるので、一般的にはエッチング前のアルミニウム箔の破断強度は約５０Ｎ／ｍｍ２以下、耐力値は約２０Ｎ／ｍｍ２以下になる。これらの数値の低下については、例えば、Ｆｅ、Ｓｉ、Ｃｕ等の元素添加（合金化）による強度改善も考えられるが、これらの元素はエッチング性を阻害するために多量には添加できず、実際上は合金化による強度改善は難しい。これに対し、本発明加工によれば、エッチング後の原箔に軽度の加工を施すことにより、透気度等に影響を及ぼすことなく強度を改善することができる。すなわち、軽度の引っ張り加工と曲げ加工を同時に行い、加工歪を導入することにより、耐力値を高めることができる。薄箔のハンドリング性はこの耐力値によりほぼ決定されることから、耐力値を高めることによりハンドリング性を向上させることができる。
　引張加工と曲げ加工とを同時に行う方法は特に制限されず、公知の加工方法（加工装置）を単独又は組合せて用いることができる。例えば、プレス装置による加工、圧延装置による加工、ストレッチャーによる加工等を挙げることができる。これらの方法を用いて、原箔の箔厚みを監視しながらその加工レベルを調節すれば良い。この場合、強度の加工を行うと所望の透気度等が得られなくなるので、軽度のレベルで調整することが好ましい。
　特に、本発明加工では、テンションレベラーによる加工を採用することが好ましい。テンションレベラーによる場合は、容易かつ確実に、貫通孔を変形させずに箔のタルミ形状をフラットに維持することができるので、本発明加工に最適な方法である。
　テンションレベラー自体は、公知又は市販のものを使用することができる。例えば、図６に示すように、原箔２０を巻いているローラー２１と巻き取り用ローラー２２との間に引張矯正及び曲げ矯正を行うための矯正用ローラー２３ａ～２３ｉが配置された装置である。一般的には、前記の巻き取り用ローラーが駆動ローラーとなる。原箔２０を矯正用ローラーの間に通して適度な張力をかけることで均一な歪を付与し、加工硬化を促進することにより、所定の特性を付与することができる。矯正用ローラーの数、各ローラーの直径、位置（高低差、水平方向の間隔）等は適宜調整することができる。特に、テンションレベラーのユニット張力（すなわち、巻き取り用ローラー２２及び巻き戻し用ローラー２１における張力）を調整することにより、所定の特性を付与することができる。ユニット張力は、用いる原箔の特性（箔厚み、透気度等）、所望の耐力値等により適宜変更することができるが、通常は１～２０Ｎ／１０ｍｍの範囲内とすれば良い。
　以下に実施例及び比較例を示し、本発明の特徴をより具体的に説明する。ただし、本発明の範囲は、実施例に限定されない。
＜Ａ．実施形態１に係る実施例＞
　各物性の測定方法は、次のようにして実施した。
（１）破断強度
　破断強度については、ＪＩＳ　Ｂ　７７２１に準じた引張試験機により引張試験を行なった。１０ｍｍ巾で長さ１５０ｍｍの試料を、チャック間距離が５０ｍｍとなるように固定し、引張速度１０ｍｍ／ｍｉｎで１０回測定し、その平均値を求めた。
（２）破断伸び（伸び）
　破断伸びについては、上記（１）の破断強度試験において破断したときの伸びを求めた。
（３）透気度
　ＪＩＳ　Ｐ　８１１７に準じたガーレ式デンソメータによる透気度試験方法によって測定した。
（４）アルミニウム貫通箔（エッチング処理後）の垂直貫通孔占有率
　エッチング処理後のアルミニウム貫通箔のＬＴ－ＳＴ面（圧延方向に垂直な断面）が観察面となるようにサンプル（１０ｍｍ幅）をエポキシ樹脂に埋め込み、試料をバフ研磨（ダイヤモンド研磨）する。その後、アルミニウム部分を電解（電解条件：エタノール：過塩素酸＝４：１の溶液にて、０℃、定電圧（２０Ｖ）電解×１８０秒）にて溶解し、エッチングピット（エッチングピットに入り込んだ樹脂部分）を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察する。そして、無作為に撮影した１０視野（倍率５００倍）の写真から、図１に示すように各試料の測定長さが写真の寸法で１００ｍｍとなる部位を選び、図２に示すような角度測定用透明カードを上記写真に重ね合わせ、下表面から７０～１１０度（９０±２０度）の範囲内の角度をもった貫通孔の数を計測し、全体の貫通孔の合計数を目視にてカウントした後、その合計数に対する割合を垂直貫通孔占有率（％）として算出する。
　なお、エンボス加工後の垂直貫通孔占有率は、エンボス加工が施されていない部分が観察面となるように調整することにより、同様に算出することができる。
（５）貫通孔の内径
　倍率を５０００倍としたほかは前記（４）と同様の方法にて無作為に１０視野の写真を撮影し、各試料の測定面積が写真の寸法で１００ｍｍ×１００ｍｍの範囲を画像解析してエッチングピット数及び総エッチングピット面積を計測し、貫通孔を円形と仮定して貫通孔の内径を算出する。画像解析装置としては、多目的高速画像解析装置「ＰＣＡ１１」（システムサイエンス株式会社製）を用いた。
（６）表面積拡大比（表面拡大率）
　エッチング処理後のアルミニウム貫通箔を６０℃の陽極酸化処理液（５％アジピン酸アンモニウム溶液）に浸漬し、１０Ｖで陽極酸化処理することにより陽極酸化皮膜を形成させた後、ＬＣＲメータを用いて静電容量を測定し、エッチング前のアルミニウム箔の静電容量比から算出する。測定投影面積は、５ｃｍ×１０ｃｍとした。
（７）貫通孔の密度（貫通孔率）
　前記（５）と同様に画像解析してエッチングピット数を計測し、貫通孔の密度を算出する。画像解析装置としては、多目的高速画像解析装置「ＰＣＡ１１」（システムサイエンス株式会社製）を用いた。
（８）エンボス箔厚み及びエンボス加工深さ
　エンボス箔厚みは、表面が平らな厚み測定機、φ５ｍｍ以上のマイクロメーターで測定した。また、（エンボス箔厚み－エンボス加工前の箔厚み）の値をエンボス加工深さとした。
（９）シワ発生判定
　活物質を塗工した際のシワの発生を次のように判定した。比表面積２０００ｍ２／ｇ及び平均粒径６μｍの活性炭９０質量％及びＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）１０質量％を含む活物質をエタノールで混練したスラリー（固形分濃度３０％）を、図５に示すようにサポートロール（図５の２個のローラー）の間隔が２ｍの両面ダイコーターにより、乾燥後の塗布厚みが片面７０μｍとなるように塗工した。塗工速度は３ｍ／分とし、出側のサポートロール付近でのシワの発生を目視観察した。３５分間（約１００ｍ）観察し、シワの発生が全く認められなかったものを「○」、一度でも認められたものを「△」、頻繁に認められたものを「×」として評価した。
　製造例１－１
　Ｆｅ：１８重量ｐｐｍ、Ｓｉ：２０重量ｐｐｍ、Ｃｕ：２５ｐｐｍ、残部：Ａｌ及び不可避不純物からなる組成を有する溶湯を調製した後、溶湯を凝固させることにより鋳塊を得た。次いで、前記鋳塊を５００℃で１０時間の均質化処理を施した。その後、前記鋳塊に対して熱間圧延（温度４００℃）及び冷間圧延を施すことによって厚さ６５μｍまで圧延した。２５０℃で８時間の中間焼鈍を施した後、さらに冷間圧延を施すことによって厚さ５０μｍの箔を得た。有機溶剤系洗浄剤（イソプロピレン）で洗浄した後、アルゴンガス中５００℃で１０時間の焼鈍を実施した。次いで、塩酸５重量％を含む水溶液を電解液として用い、液温７０℃及び電流密度０．３Ａ／ｃｍ２で直流エッチングを行うことにより、貫通ピット（貫通孔）を多数有するアルミニウム貫通箔を得た。得られたアルミニウム貫通箔は、箔厚み：５０μｍ、破断強度：１３．２Ｎ／１０ｍｍ、破断伸び１．７％、透気度：４２ｓｅｃ／１００ｍｌであった。
　製造例１－２
　エンボス加工前のアルミニウム貫通箔として、箔厚み：３０μｍ、破断強度：８．３Ｎ／１０ｍｍ、破断伸び１．２％、透気度：３６ｓｅｃ／１００ｍｌの箔を製造例１－１と同様にして製造した。
　実施例１－１
　製造例１－１で得られたアルミニウム貫通箔を原箔として用い、これを市販のエンボス加工機によりエンボス加工を行った。図３に示すように、上ロール３２及び下ロール３３の間に、原箔となるＡｌ箔３１を通過させることによりエンボス加工を実施した。エンボス加工の条件は、上ロール３２としてエンボスパターン入り金属製絹目ロール（１００メッシュ、台形カップ、カップ深さ１５μｍ）、下ロール３３として樹脂製ロール（エンボスなし）を用い、圧力１０ｋｇ／ｃｍ２とロール速度２０ｍ／分とした。エンボス加工が施されたＡｌ箔の箔厚み、破断強度、破断伸び、透気度、活物質を塗工した際のシワ発生判定結果を表１に示し、垂直貫通孔占有率等を表２に示す。
　実施例１－２
　上ロールとして金属製絹目ロール（１５０メッシュ、台形カップ、カップ深さ２０μｍ）を用いたほかは、実施例１－１と同様にしてエンボス加工が施されたＡｌ箔を得た。得られたＡｌ箔を実施例１－１と同様にして破断強度等を測定した。その結果を表１及び表２に示す。
　実施例１－３
　原箔として製造例１－２で得られたアルミニウム貫通箔を用いたほかは、実施例１－１と同様にしてエンボス加工が施されたＡｌ箔を得た。得られたＡｌ箔を実施例１－１と同様にして破断強度等を測定した。その結果を表１及び表２に示す。
　実施例１－４
　上ロールとして金属製絹目ロール（１５０メッシュ、台形カップ、カップ深さ２０μｍ）を用いたほかは、実施例１－３と同様にしてエンボス加工が施されたＡｌ箔を得た。得られたＡｌ箔を実施例１－３と同様にして破断強度等を測定した。その結果を表１及び表２に示す。
　比較例１－１
　製造例１－１のアルミニウム貫通箔について、エンボス加工しない場合の物性を実施例１－１と同様にして調べた。その結果を表１及び表２に示す。
　比較例１－２
　製造例１－２のアルミニウム貫通箔について、エンボス加工しない場合の物性を実施例１－１と同様にして調べた。その結果を表１及び表２に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
　以上の結果より、本発明の所定の物性を有するエンボス加工Ａｌ箔はシワ発生がなく、集電体等として好適であることがわかる。
＜Ｂ．実施形態２に係る実施例＞
　各物性の測定方法は、次のようにして実施した。
（１）耐力値及び破断強度
　ＪＩＳ　Ｂ　７７２１に準じた引張試験機により引張試験を行なった。１０ｍｍ巾で長さ１５０ｍｍの試料を、チャック間距離が５０ｍｍとなるように固定し、引張速度１０ｍｍ／ｍｉｎで１０回測定し、その平均値を求めた。０．２％伸びの強度を耐力値とし、破断時の強度を破断強度とした。
（２）透気度
　ＪＩＳ　Ｐ　８１１７に準じたガーレ式デンソメータによる透気度試験方法によって測定する。
（３）シワ発生判定
　活物質を塗工した際のシワの発生を次のように判定した。比表面積２０００ｍ２／ｇ平均粒径６μｍの活性炭を９０質量％及びＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）を１０質量％含む活物質をエタノールで混練したスラリー（固形分濃度３０％）を、図５に示すようにサポートロール（図５の２個のローラー）の間隔が２ｍの両面ダイコーターにより、乾燥後の塗布厚みが片面７０μｍとなるように塗工した。塗工速度は３ｍ／分とし、出側のサポートロール付近でのシワの発生を目視観察した。３５分間（約１００ｍ）観察し、シワの発生が全く認められなかったものを「○」、一度でも認められたものを「△」、頻繁に認められたものを「×」として評価した。
（４）アルミニウム貫通箔（エッチング処理後）の垂直貫通孔占有率
　エッチング処理後のアルミニウム貫通箔のＬＴ－ＳＴ面（圧延方向に垂直な断面）が観察面となるようにサンプル（１０ｍｍ幅）をエポキシ樹脂に埋め込み、試料をバフ研磨（ダイヤモンド研磨）する。その後、アルミニウム部分を電解（電解条件：エタノール：過塩素酸＝４：１の溶液にて、０℃、定電圧（２０Ｖ）電解×１８０秒）にて溶解し、エッチングピット（エッチングピットに入り込んだ樹脂部分）を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察する。そして、無作為に撮影した１０視野（倍率５００倍）の写真から、図１に示すように各試料の測定長さが写真の寸法で１００ｍｍとなる部位を選び、図２に示すような角度測定用透明カードを上記写真に重ね合わせ、下表面から７０～１１０°（９０±２０°）の範囲内の角度をもった貫通孔の数を計測し、全体の貫通孔の合計数を目視にてカウントした後、その合計数に対する割合を垂直貫通孔占有率（％）として算出する。
（５）貫通孔の内径
　倍率を５０００倍としたほかは前記（１）と同様の方法にて無作為に１０視野の写真を撮影し、各試料の測定面積が写真の寸法で１００ｍｍ×１００ｍｍの範囲を画像解析してエッチングピット数及び総エッチングピット面積を計測し、貫通孔を円形と仮定して貫通孔の内径を算出する。画像解析装置としては、多目的高速画像解析装置「ＰＣＡ１１」（システムサイエンス株式会社製）を用いた。
（６）表面積拡大比
　エッチング処理後のアルミニウム貫通箔を６０℃の陽極酸化処理液（５％アジピン酸アンモニウム溶液）に浸漬し、１０Ｖで陽極酸化処理することにより陽極酸化皮膜を形成させた後、ＬＣＲメータを用いて静電容量を測定し、エッチング前のアルミニウム箔の静電容量比から算出する。測定投影面積は、５ｃｍ×１０ｃｍとした。
（７）貫通孔率
　貫通孔率ｓ（％）＝［（１００×測定重量（ｇ））／（箔厚み（ｃｍ）×試料面積（ｃｍ２））］／（アルミニウムの比重（２．７０ｇ／ｃｍ３））を求めた。前記「箔厚み」は、試料４隅と中央部の計５点をマイクロメーターで測定した平均値とする。前記「試料面積」は１０ｃｍ×５ｃｍとする。前記「測定重量」は試料を電子天秤で秤量した値とする。
　実施例２－１
　Ｆｅ：１８重量ｐｐｍ、Ｓｉ：２０重量ｐｐｍ、Ｃｕ：２５ｐｐｍ、残部：Ａｌ及び不可避不純物からなる組成を有する溶湯を調製した後、溶湯を凝固させることにより鋳塊を得た。次いで、前記鋳塊を５００℃で１０時間の均質化処理を施した。その後、前記鋳塊に対して熱間圧延（温度４００℃）及び冷間圧延を施すことによって厚さ６５μｍまで圧延した。２５０℃で８時間の中間焼鈍を施した後、さらに冷間圧延を施すことによって厚さ５０μｍの箔を得た。有機溶剤系洗浄剤（イソプロピレン）で洗浄した後、アルゴンガス中で５００℃で１０時間の焼鈍をした。次いで、塩酸５重量％を含む水溶液を電解液として用い、液温７０℃及び電流密度０．３Ａ／ｃｍ２で直流エッチングを行うことにより、貫通ピット（貫通孔）を多数有するアルミニウム貫通箔を得た。得られたアルミニウム貫通箔は、箔厚み：５０μｍ、耐力値：３．５Ｎ／１０ｍｍ、破断強度：１３．２Ｎ／１０ｍｍ、透気度：４２ｓｅｃ／１００ｍｌであった。
　次に、上記アルミニウム貫通箔を原箔として用い、これをテンションレベラーにより加工を行った。テンションレベラーとしては、図６に示すように、９本のロールが上下方向に交互に配置されたものであり、各ロールはいずれも直径５０ｍｍである。ユニット張力は５Ｎ／１０ｍｍとした。加工処理が施されたＡｌ箔の箔厚み、［耐力値／破断強度］の値、透気度、活物質を塗工した際のシワ発生判定結果を表３に示し、垂直貫通孔占有率等を表４に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
  
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
　実施例２－２
　テンションレベラーにより加工に際してユニット張力を８Ｎ／１０ｍｍとしたほかは、実施例２－１と同様にしてＡｌ箔を製造した。加工処理が施されたＡｌ箔の箔厚み、［耐力値／破断強度］の値、透気度及びシワ発生判定結果を表３に示し、垂直貫通孔占有率等を表４に示す。
　実施例２－３
　実施例２－１と同様にして箔厚み３０μｍのアルミニウム貫通箔（原箔）を作製した。この箔は、耐力値：２．２Ｎ／１０ｍｍ、破断強度：８．２Ｎ／１０ｍｍ、透気度：３６ｓｅｃ／１００ｍｌであった。この原箔を用いて、テンションレベラーにより加工に際してユニット張力を３Ｎ／１０ｍｍとしたほかは、実施例２－１と同様にしてＡｌ箔を製造した。加工処理が施されたＡｌ箔の箔厚み、［耐力値／破断強度］の値、透気度及びシワ発生判定結果を表３に示し、垂直貫通孔占有率等を表４に示す。
　実施例２－４
　テンションレベラーにより加工に際してユニット張力を５Ｎ／１０ｍｍとしたほかは、実施例２－３と同様にしてＡｌ箔を製造した。加工処理が施されたＡｌ箔の箔厚み、［耐力値／破断強度］の値、透気度及びシワ発生判定結果を表３に示し、垂直貫通孔占有率等を表４に示す。
　実施例２－５
　実施例２－１と同様にして箔厚み２０μｍのアルミニウム貫通箔（原箔）を作製した。この箔は、耐力値：２．１Ｎ／１０ｍｍ、破断強度：７．０Ｎ／１０ｍｍ、透気度：６５ｓｅｃ／１００ｍｌであった。この原箔を用いて、テンションレベラーにより加工に際してユニット張力を３Ｎ／１０ｍｍとしたほかは、実施例２－１と同様にしてＡｌ箔を製造した。加工処理が施されたＡｌ箔の箔厚み、［耐力値／破断強度］の値、透気度及びシワ発生判定結果を表３に示し、垂直貫通孔占有率等を表４に示す。
　実施例２－６
　テンションレベラーにより加工に際してユニット張力を５Ｎ／１０ｍｍとしたほかは、実施例２－５と同様にしてＡｌ箔を製造した。加工処理が施されたＡｌ箔の箔厚み、［耐力値／破断強度］の値、透気度及びシワ発生判定結果を表３に示し、垂直貫通孔占有率等を表４に示す。
　比較例２－１
　実施例２－１及び２－２における原箔について、テンションレベラーにより加工を実施しなかったものについてのＡｌ箔の箔厚み、［耐力値／破断強度］の値、透気度及びシワ発生判定結果を表３に示し、垂直貫通孔占有率等を表４に示す。
　比較例２－２
　実施例２－３及び２－４における原箔について、テンションレベラーにより加工を実施しなかったものについてのＡｌ箔の箔厚み、［耐力値／破断強度］の値、透気度及びシワ発生判定結果を表３に示し、垂直貫通孔占有率等を表４に示す。
　比較例２－３
　実施例２－５及び２－６における原箔について、テンションレベラーにより加工を実施しなかったものについてのＡｌ箔の箔厚み、［耐力値／破断強度］の値、透気度及びシワ発生判定結果を表３に示し、垂直貫通孔占有率等を表４に示す。

Claims (12)

  1. 箔表面から裏面に至る貫通孔を複数有するアルミニウム貫通箔であって、
    （１）箔厚みが５０μｍ以下であり、
    （２）破断強度が［０．２×箔厚み（μｍ）］Ｎ／１０ｍｍ以上である、
    ことを特徴とする高強度アルミニウム貫通箔。
  2. 破断強度が［０．３×箔厚み（μｍ）］Ｎ／１０ｍｍ以上である、請求項１に記載の高強度アルミニウム貫通箔。
  3. 破断伸びが［０．０５×箔厚み（μｍ）］％以下である、請求項１に記載の高強度アルミニウム貫通箔。
  4. 貫通孔の密度が１×１０４個／ｃｍ２以上である、請求項１に記載の高強度アルミニウム貫通箔。
  5. ［耐力値／破断強度］が５０％以上である、請求項１に記載の高強度アルミニウム貫通箔。
  6. ＪＩＳ　Ｐ　８１１７に準じたガーレ式デンソメータによる透気度試験方法によって測定された透気度が５ｓｅｃ／１００ｍｌ以上である、請求項１に記載の高強度アルミニウム貫通箔。
  7. 貫通孔の平均内径が０．２～５μｍである、請求項１に記載の高強度アルミニウム貫通箔。
  8. 表面積拡大比が、［０．１０×箔厚み（μｍ）］以上の値である、請求項１に記載の高強度アルミニウム貫通箔。
  9. Ｆｅ：５～８０重量ｐｐｍ、Ｓｉ：５～１００重量ｐｐｍ、Ｃｕ：１０～１００重量ｐｐｍならびに残部：Ａｌ及び不可避不純物からなる組成を有する、請求項１に記載の高強度アルミニウム貫通箔。
  10. アルミニウム貫通箔における垂直貫通孔占有率ｃ（％）と前記箔厚みｔ（μｍ）の比率［ｃ／ｔ］が１．４以上である、請求項１に記載の高強度アルミニウム貫通箔。
  11. 請求項１に記載の高強度アルミニウム貫通箔の製造方法であって、箔表面から裏面に至る貫通孔を複数有するアルミニウム貫通箔に対し、エンボス加工を行う工程を含むことを特徴とする高強度アルミニウム貫通箔の製造方法。
  12. 請求項１に記載の高強度アルミニウム貫通箔の製造方法であって、箔表面から裏面に至る貫通孔を複数有するアルミニウム貫通箔に対し、引張加工と曲げ加工とを同時に行う工程を含むことを特徴とする高強度アルミニウム貫通箔の製造方法。
PCT/JP2010/066358 2009-09-30 2010-09-22 アルミニウム貫通箔及びその製造方法 Ceased WO2011040292A1 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201080043277.2A CN102575322B (zh) 2009-09-30 2010-09-22 铝贯通箔及其制造方法
KR1020127006861A KR101736042B1 (ko) 2009-09-30 2010-09-22 알루미늄 관통박 및 그 제조방법
US13/499,130 US9331339B2 (en) 2009-09-30 2010-09-22 Perforated aluminium foil and manufacturing method thereof

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009228365A JP5498750B2 (ja) 2009-09-30 2009-09-30 アルミニウム貫通箔及びその製造方法
JP2009-228365 2009-09-30
JP2010-078849 2010-03-30
JP2010078849A JP5663184B2 (ja) 2010-03-30 2010-03-30 アルミニウム貫通箔及びその製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2011040292A1 true WO2011040292A1 (ja) 2011-04-07

Family

ID=43826116

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2010/066358 Ceased WO2011040292A1 (ja) 2009-09-30 2010-09-22 アルミニウム貫通箔及びその製造方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US9331339B2 (ja)
KR (1) KR101736042B1 (ja)
CN (1) CN102575322B (ja)
TW (1) TWI493049B (ja)
WO (1) WO2011040292A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103563028A (zh) * 2011-05-26 2014-02-05 东洋铝株式会社 用于铝电解电容器的电极材料及其制造方法

Families Citing this family (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009130765A1 (ja) 2008-04-22 2009-10-29 東洋アルミニウム株式会社 アルミニウム電解コンデンサ用電極材及びその製造方法
JP5769528B2 (ja) 2011-07-15 2015-08-26 東洋アルミニウム株式会社 アルミニウム電解コンデンサ用電極材及びその製造方法
JP6073255B2 (ja) 2012-02-10 2017-02-01 東洋アルミニウム株式会社 アルミニウム電解コンデンサ用電極材の製造方法
JP5551300B1 (ja) 2013-10-30 2014-07-16 清二 加川 多孔金属箔の製造方法
NL2012234C2 (en) * 2014-02-10 2015-08-17 Vivi B V Plant holder.
CN103811768B (zh) * 2014-02-22 2015-09-23 深圳市旭冉电子有限公司 凹坑锂离子电池集流体及其制作方法和设备
CN106232309B (zh) 2014-04-10 2018-07-13 加川清二 制造多微孔金属箔的方法以及装置
CN104131198B (zh) * 2014-08-01 2018-07-24 内蒙古中拓铝业股份有限责任公司 稀土电子铝箔
WO2016051976A1 (ja) * 2014-09-30 2016-04-07 富士フイルム株式会社 アルミニウム板
TWI632726B (zh) 2014-10-21 2018-08-11 加川清二 微多孔金屬箔的製造方法及裝置
DE102014118222A1 (de) * 2014-12-09 2016-06-23 Epcos Ag Verfahren zur Herstellung von Elektrodenfolien für Kondensatoren, Elektrodenfolien und Kondensatoren mit den Elektrodenfolien
EP3279984B1 (en) * 2015-03-31 2020-10-21 FUJIFILM Corporation Aluminum plate, and current collector for power storage device
KR102022582B1 (ko) * 2015-09-21 2019-09-18 주식회사 엘지화학 안전성이 향상된 전극 및 이를 포함하는 이차전지
CN107381172A (zh) * 2017-08-11 2017-11-24 中北大学 用于超声波固结增材制造机器的送带装置
KR20190076890A (ko) * 2017-12-22 2019-07-02 주식회사 엘지화학 리튬 메탈 전지용 음극 및 이를 포함하는 리튬 메탈 전지
US10351259B2 (en) * 2018-05-08 2019-07-16 Airbus Sas Ultra-thin metallic foil for lightning strike protection
CN111200114B (zh) * 2018-11-16 2021-06-08 宁德时代新能源科技股份有限公司 一种正极极片及电化学装置
CN111200110A (zh) 2018-11-16 2020-05-26 宁德时代新能源科技股份有限公司 一种正极极片及电化学装置
CN111200109B (zh) 2018-11-16 2021-06-08 宁德时代新能源科技股份有限公司 一种电池
CN111200111B (zh) * 2018-11-16 2021-03-23 宁德时代新能源科技股份有限公司 一种正极极片及电化学装置
CN111200112B (zh) 2018-11-16 2021-06-08 宁德时代新能源科技股份有限公司 一种正极极片及电化学装置
CN112054212B (zh) * 2019-10-24 2022-09-09 南京工业大学 一种锂离子电池集流体用的多孔铝箔及其制备方法和应用
KR20210076870A (ko) 2019-12-16 2021-06-24 한국제이씨씨(주) 집전체 제조방법
US20230317913A1 (en) * 2022-03-29 2023-10-05 Rivian Ip Holdings, Llc Battery cell and components thereof

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63145757A (ja) * 1987-10-15 1988-06-17 Toyo Alum Kk 軟質アルミニウム箔の製造方法
JPH06306520A (ja) * 1993-04-20 1994-11-01 Nippon Foil Mfg Co Ltd 軟質アルミ箔およびその製造方法
JPH08260117A (ja) * 1995-03-23 1996-10-08 Furukawa Electric Co Ltd:The 電解コンデンサ陰極用アルミニウム合金箔地の製造方法
JPH10189396A (ja) * 1996-12-26 1998-07-21 Nippon Light Metal Co Ltd 電解コンデンサ陽極用アルミニウム合金
JPH1143749A (ja) * 1997-07-22 1999-02-16 Showa Alum Corp 歪みの少ないリチウム電池用アルミニウム箔の製造方法
JP2004207117A (ja) * 2002-12-26 2004-07-22 Toyo Aluminium Kk 集電体用アルミニウム箔、集電体および二次電池
JP2009062594A (ja) * 2007-09-07 2009-03-26 Sumitomo Light Metal Ind Ltd アルミニウム箔材

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005174949A (ja) 2003-11-18 2005-06-30 Toyo Aluminium Kk 電解コンデンサ用アルミニウム箔の製造方法。
US7279250B2 (en) * 2003-11-24 2007-10-09 The Gillette Company Battery including aluminum components
JP4644020B2 (ja) * 2005-03-31 2011-03-02 株式会社神戸製鋼所 多孔加工用アルミニウムはく、およびその製造方法
JP4813152B2 (ja) 2005-11-14 2011-11-09 富士重工業株式会社 リチウムイオンキャパシタ
KR101413774B1 (ko) * 2006-12-27 2014-06-30 제이에무에나지 가부시키가이샤 도포 전극 및 유기 전해질 캐패시터
JP4237236B2 (ja) 2007-04-24 2009-03-11 三菱アルミニウム株式会社 電解コンデンサ用アルミニウム箔およびその製造方法
JP2009062595A (ja) 2007-09-07 2009-03-26 Sumitomo Light Metal Ind Ltd アルミニウム箔材

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63145757A (ja) * 1987-10-15 1988-06-17 Toyo Alum Kk 軟質アルミニウム箔の製造方法
JPH06306520A (ja) * 1993-04-20 1994-11-01 Nippon Foil Mfg Co Ltd 軟質アルミ箔およびその製造方法
JPH08260117A (ja) * 1995-03-23 1996-10-08 Furukawa Electric Co Ltd:The 電解コンデンサ陰極用アルミニウム合金箔地の製造方法
JPH10189396A (ja) * 1996-12-26 1998-07-21 Nippon Light Metal Co Ltd 電解コンデンサ陽極用アルミニウム合金
JPH1143749A (ja) * 1997-07-22 1999-02-16 Showa Alum Corp 歪みの少ないリチウム電池用アルミニウム箔の製造方法
JP2004207117A (ja) * 2002-12-26 2004-07-22 Toyo Aluminium Kk 集電体用アルミニウム箔、集電体および二次電池
JP2009062594A (ja) * 2007-09-07 2009-03-26 Sumitomo Light Metal Ind Ltd アルミニウム箔材

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103563028A (zh) * 2011-05-26 2014-02-05 东洋铝株式会社 用于铝电解电容器的电极材料及其制造方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN102575322A (zh) 2012-07-11
CN102575322B (zh) 2014-04-02
US20120219817A1 (en) 2012-08-30
TW201124540A (en) 2011-07-16
KR101736042B1 (ko) 2017-05-16
KR20120094468A (ko) 2012-08-24
TWI493049B (zh) 2015-07-21
US9331339B2 (en) 2016-05-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2011040292A1 (ja) アルミニウム貫通箔及びその製造方法
JP5498750B2 (ja) アルミニウム貫通箔及びその製造方法
JP5539985B2 (ja) アルミニウム貫通箔
EP2453031B1 (en) Magnesium alloy plate
TWI470087B (zh) 鎂合金材料
TWI486457B (zh) Magnesium alloy plate
JP5663184B2 (ja) アルミニウム貫通箔及びその製造方法
JP2009062595A (ja) アルミニウム箔材
JP5460102B2 (ja) リチウムイオン二次電池用アルミニウム合金箔及びその製造方法
JP2009019219A (ja) 平版印刷版用アルミニウム合金板およびその製造方法
JP2009249668A (ja) 電解コンデンサ用アルミニウム箔およびその製造方法
KR20180109971A (ko) 알루미늄 합금박 및 그 제조 방법
JP2803762B2 (ja) 電解コンデンサ用アルミニウム箔の製造方法
JP2002173748A (ja) 高純度アルミニウム箔の製造方法
JP4539911B2 (ja) 電極コンデンサ陽極用アルミニウム箔およびその製造方法
JP2011006747A (ja) 電解コンデンサ用アルミニウム箔
JP4732892B2 (ja) 電解コンデンサ電極用アルミニウム材の製造方法、電解コンデンサ電極用アルミニウム材、アルミニウム電解コンデンサ用陽極材およびアルミニウム電解コンデンサ
JP2006169571A (ja) 電解コンデンサ用アルミニウム箔及びその製造方法
JPWO2017018029A1 (ja) 電解コンデンサ電極用アルミニウム材の製造方法、アルミニウム電解コンデンサ用電極材の製造方法、およびアルミニウム電解コンデンサの製造方法
JP5053539B2 (ja) 電解コンデンサ用アルミニウム合金材及びその製造方法、電解コンデンサ用電極材の製造方法、電解コンデンサ用陽極材並びにアルミニウム電解コンデンサ
JP2007169690A (ja) 電解コンデンサ用アルミニウム箔
JP3930033B1 (ja) 電解コンデンサ用アルミニウム箔
JP2010024502A (ja) 電解コンデンサ電極用アルミニウム箔
JP2006104542A (ja) 電解コンデンサ陰極用アルミニウム合金箔
JPH11293428A (ja) 電解コンデンサー用高静電容量アルミニウム箔の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 201080043277.2

Country of ref document: CN

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 10820411

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 20127006861

Country of ref document: KR

Kind code of ref document: A

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 13499130

Country of ref document: US

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 10820411

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1