WO2010004699A1

WO2010004699A1 - 口臭抑制剤及びその生成方法

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Publication number: WO2010004699A1
Application number: PCT/JP2009/003003
Authority: WO
Inventors: 野口宗則
Original assignee: NOGUCHI DENTAL MEDICAL RESEARCH INSTITUTE
Current assignee: NOGUCHI DENTAL MEDICAL RESEARCH INSTITUTE
Priority date: 2008-07-09
Filing date: 2009-06-30
Publication date: 2010-01-14
Anticipated expiration: 2011-01-09
Also published as: JPWO2010004699A1

Abstract

　副作用を生じることなく口臭を確実に抑制する。　本発明に係る口臭抑制剤は、次亜塩素酸及び炭酸水素ナトリウムを含み、有効塩素濃度を２０１～７００ｐｐｍとするとともに、ｐＨを６．３以上８以下、望ましくは７以上８以下としてある。上記口臭抑制剤を用いて口臭を抑制するには、口臭抑制剤を口腔内に含んで例えば数秒～数十秒間、含嗽する。このようにすると、口臭抑制剤に含まれる炭酸水素ナトリウムがバイオフィルムを破壊する一方、次亜塩素酸は、メチルメルカプタン、硫化水素、ジメチルサルファイドといった揮発性硫黄化合物を産生する口腔内細菌、主として歯周病原菌を短時間かつ確実に殺菌する。加えて、口臭抑制剤に含まれている次亜塩素酸の酸化作用あるいは炭酸水素ナトリウムの消臭作用によって、上記揮発性硫黄化合物が無臭化される。

Description

口臭抑制剤及びその生成方法

　本発明は、口臭を抑制ないしは改善するための口臭抑制剤及びその生成方法に関する。

　口腔から発せられる臭いは、周囲の者を不快にさせるのみならず、重篤な疾患が原因で口臭がひどくなることもあり、口臭を低減する物質や口臭の原因物質についてさまざまな観点から研究開発が行われてきた。

　ここで、肝機能障害や腎機能障害あるいは膵臓疾患（糖尿病）といった内臓疾患を抱えている患者の呼気からは、アセトンやトリメチルアミン等の成分が検出されることがあるが、口臭の原因が口腔内にある場合には、そのほとんどが、メチルメルカプタン、硫化水素、ジメチルサルファイドといった揮発性硫黄化合物（ＶＳＣ）であることがよく知られている。

　このような揮発性硫黄化合物は、口腔内に棲息する嫌気性細菌の代謝によって産生され、特に、歯周病の病原菌であるポルフィロモナス・ジンジバリス(Porphyromonas gingivalis、以下、P.gingivalis)、プレボテラ・インターメディア(Prevotella intermedia)、タネレラ・フォーサイセンシス、カンピロバクター・レクタス(Campylobacter rectus)、トレポネーマ・デンティコーラ(Treponema denticola、以下、T.denticola)、フゾバクテリウム・ヌクレアタム(Fusobacterium nucleatum)等の細菌が高いＶＳＣ産生能を有すると言われており、それゆえ歯周病患者の口腔からはとりわけ強い悪臭が発生する。

　このような口臭を低減するべく、従来においては、クロルヘキシジン（ＣＨＸ）、塩化セチルピリジニウム（ＣＰＣ）、トリクロサン、ポピドンヨード、塩化ベンゼトニウム、塩化亜鉛等の成分が洗口剤に配合されることが多かった。

特開２００８－３１０７０号公報特開２００４－１５５６８１号公報国際公開２００７－７２６９７号公報「口臭診療マニュアル～ＥＢＭに基づく診断と治療～」（宮崎秀夫編、株式会社第一歯科出版）

　ここで、クロルヘキシジン（ＣＨＸ）は、口腔内細菌に対して一定の滅菌作用が確認されているものの、細菌だけにしか効かないため、菌交代現象で増殖した真菌で舌が黒くなる、いわゆる黒毛舌と呼ばれる副作用が生じるとともに、アレルギーの原因となることも指摘されており、日本では使用濃度が制限されているという問題を生じていた。

　また、塩化セチルピリジニウム（ＣＰＣ）は、従来の洗口剤や歯磨き剤に含有されていて、歯垢形成の抑制や歯肉炎の改善効果は確認されているものの、口腔内細菌に対しては十分な効果が確認されておらず、実際、口臭を十分に抑制することができないという問題を生じていた。

　ちなみに、香料は、口臭成分をマスキングする効果があるものの、揮発性硫黄化合物（ＶＳＣ）に対する滅菌作用はないため、口臭の本質的な改善にはならない。

　本発明は、上述した事情を考慮してなされたもので、副作用を生じることなく口臭を確実に抑制することが可能な口臭抑制剤及びその生成方法を提供することを目的とする。

　上記目的を達成するため、本発明に係る口臭抑制剤は請求項１に記載したように、有効塩素濃度が５０～７００ｐｐｍ、ｐＨが６．３～８であって、次亜塩素酸及び炭酸水素ナトリウムを含むものである。

　また、本発明に係る口臭抑制剤は、有効塩素濃度を、前記５０～７００ｐｐｍに代えて、２０１～７００ｐｐｍとするものである。

　また、本発明に係る口臭抑制剤は、有効塩素濃度を、前記２０１～７００ｐｐｍに代えて、４００～７００ｐｐｍとするものである。

　また、本発明に係る口臭抑制剤は、ｐＨを、前記６．３～８に代えて、７～８としたものである。

　また、本発明に係る口臭抑制剤は、有効塩素濃度を、前記５０～７００ｐｐｍに代えて、５００～７００ｐｐｍとし、ｐＨを、前記６．３～８に代えて、７～８としたものである。

　また、本発明に係る口臭抑制剤は、有効塩素濃度を、前記５０～７００ｐｐｍに代えて、５０～３００ｐｐｍとし、ｐＨを、前記６．３～８に代えて、７～８としたものである。

　また、本発明に係る口臭抑制剤の生成方法は請求項７に記載したように、塩化ナトリウム及び二酸化炭素が添加された水溶液を原液とし、該原液を、有効塩素濃度が５０～７００ｐｐｍ、ｐＨが６．３～８となるようにかつ次亜塩素酸及び炭酸水素ナトリウムが生成されるように電気分解するものである。

　また、本発明に係る口臭抑制剤の生成方法は、前記原液を、水を逆浸透膜に通し、その通過水に塩化ナトリウムを添加し、該塩化ナトリウムの添加工程と同時に又はその前後に炭酸ガスを吹き込み又はドライアイスを添加することによって作製するものである。

　また、本発明に係る口臭抑制剤の生成方法は、前記原液を、純水又は蒸留水に塩化ナトリウムを添加し、該塩化ナトリウムの添加工程と同時に又はその前後に炭酸ガスを吹き込み又はドライアイスを添加することによって作製するものである。

　また、本発明に係る口臭抑制剤の生成方法は、前記原液を、水を逆浸透膜に通し、その通過水に塩化ナトリウムを添加するとともに、前記通過水に接する二酸化炭素分圧を大気中の分圧よりも高くすることによって作製するものである。

　また、本発明に係る口臭抑制剤の生成方法は、前記原液を、純水又は蒸留水に塩化ナトリウムを添加するとともに、前記純水又は前記蒸留水に接する二酸化炭素分圧を大気中の分圧よりも高くすることによって作製するものである。

　また、本発明に係る口臭抑制剤の生成方法は、有効塩素濃度を、前記５０～７００ｐｐｍに代えて２０１～７００ｐｐｍとするものである。

　また、本発明に係る口臭抑制剤の生成方法は、有効塩素濃度を、前記２０１～７００ｐｐｍに代えて４００～７００ｐｐｍとするものである。

　また、本発明に係る口臭抑制剤の生成方法は、ｐＨを前記６．３～８に代えて、７～８としたものである。

　また、本発明に係る口臭抑制剤の生成方法は、有効塩素濃度を、前記５０～７００ｐｐｍに代えて、５００～７００ｐｐｍとし、ｐＨを、前記６．３～８に代えて、７～８としたものである。

　また、本発明に係る口臭抑制剤の生成方法は、有効塩素濃度を、前記５０～７００ｐｐｍに代えて、５０～３００ｐｐｍとし、ｐＨを、前記６．３～８に代えて、７～８としたものである。

　本出願人は、高濃度の次亜塩素酸を殺菌成分とする歯周病治療用の殺菌水を開発し、歯周病原菌を死滅し得ることを臨床試験で確認するとともに（特許文献３）、かかる殺菌水を口臭抑制剤として使用することはできないかという点に着眼して研究開発を行った。

　一方、口臭の原因物質である揮発性硫黄化合物は、唾液中のタンパクや脱落上皮細胞あるいは食物残渣に存在するシステインやメチオニンといった成分を基質として口腔内細菌が代謝を行う際に産生されるものであって、口臭を根本的に抑制するには、口腔内細菌を殺菌することが必要不可欠である。

　しかし、一般的に病原菌は、それらのほとんどが浮遊菌としてではなく、自らが産生した菌体外多糖からなるバイオフィルムで保護されながら、また、該バイオフィルムで人体内の生体防御機構や抗生剤を遮断しつつ、緩やかに増殖を続ける。

　そのため、高濃度の次亜塩素酸だけでは、揮発性硫黄化合物を産生する口腔内細菌を死滅させることができない。

　そこで、本出願人は、バイオフィルムの破壊について研究を進めた結果、塩化ナトリウム（ＮａＣｌ）及び二酸化炭素が添加された水溶液を原液とし、かかる原液を、有効塩素濃度が２０１～７００ｐｐｍ、ｐＨが６．３～８となるように電気分解すれば、次亜塩素酸（ＨＣｌＯ）のみならず、炭酸水素ナトリウム（ＮａＨＣＯ₃）も高濃度であらたに生成させ含有させることができるという新たな知見を得るとともに、試験を行った結果、細胞壁が非常に厚いために死滅させることが困難と考えられていたう蝕病原菌であっても、かつ口腔内に棲息している環境、すなわちバイオフィルムで守られている環境下であっても、含嗽するだけで数秒～数十秒程度以内に死滅させることができることを確認した。

　これは、高濃度の炭酸水素ナトリウムがバイオフィルムを破壊し、その破壊されたバイオフィルム内の細菌を高濃度次亜塩素酸で死滅させるという、炭酸水素ナトリウムと次亜塩素酸との協働作用によって、揮発性硫黄化合物を産生する原因であるところの口腔内細菌が完全殺菌されることを意味する。

　すなわち、本発明に係る口臭抑制剤によれば、口腔内細菌を完全殺菌するとともに、それによって揮発性硫黄化合物が口腔内で産生されないようにすることが可能となる。

　口臭測定試験を行った結果、含嗽前にはきわめて強い口臭レベルを呈する患者であっても、含嗽後においては、揮発性硫黄化合物がほとんど検出されず、口臭レベルは劇的に減少することがわかった。

　このように口臭強度を著しく抑制することができたのは、上述したように揮発性硫黄化合物を産生する口腔内細菌を本発明に係る口臭抑制剤で殺菌できるからという理由だけではなく、固形物として舌や歯に付着している揮発性硫黄化合物を口臭抑制剤に含まれる炭酸水素ナトリウムが捕捉して含嗽時に排出するとともに、口腔内で気化している揮発性硫黄化合物を口臭抑制剤に含まれる次亜塩素酸が酸化して無臭化するからであると思われる。なお、口腔内細菌の代謝に必要な基質が口臭抑制剤に含まれる次亜塩素酸で酸化されることも、口臭が抑制できる理由の一つであると思われる。

　一方、炭酸水素ナトリウムがバイオフィルムを破壊するため、有効塩素濃度が２０１ｐｐｍ未満であっても、歯周ポケットを除く口腔内部位、例えば歯冠表面や歯根の浅い部分の表面については、次亜塩素酸の濃度低下を招く有機物が比較的少ないため、上記部位に棲息する口腔内細菌を十分に殺菌し得ることもわかった。

　また、本発明に係る口臭抑制剤は、強い口臭を弱めるだけではなく、口臭悪化の予防にも用いることが可能であり、特に有効塩素濃度が５０～３００ｐｐｍとなるようにすれば、患者自らが日常的に使用する際にも十分な安全性が確保されることとなり、在宅使用が可能となる。

　有効塩素濃度が５０～７００ｐｐｍ、ｐＨが６．３～８となるように電気分解するためには、塩化ナトリウムを例えば２～５質量％添加するとともに、二酸化炭素についても、大気中に存在する二酸化炭素（３８０ｐｐｍ、日本の大気中二酸化炭素の年平均濃度、「理科年表（第２版環境編）」から抜粋）による分圧で自然に溶け込む程度の量では全く足りず、強制溶解によって二酸化炭素の溶解度を高める必要がある。

　すなわち、本明細書において二酸化炭素の強制溶解とは、二酸化炭素の溶解度を、自然に溶解し得る濃度（大気中に存在する二酸化炭素の分圧下における溶解度）よりも高くすることを意味するものとする。ここで、二酸化炭素を強制溶解させるには、原液を、下記(a)～(d)のいずれかの方法で作製すればよいが、いずれの方法においても、塩酸、酢酸その他炭酸を除く酸は一切添加しない。したがって、原液組成条件は、塩化ナトリウムの添加量が主たるパラメータとなる。

　(a)水を逆浸透膜に通し、その通過水に塩化ナトリウムを添加し、該塩化ナトリウムの添加工程と同時に又はその前後に炭酸ガスを吹き込み、又はドライアイスを添加する。

　(b)純水又は蒸留水に塩化ナトリウムを添加し、該塩化ナトリウムの添加工程と同時に又はその前後に炭酸ガスを吹き込み、又はドライアイスを添加する。

(c)水を逆浸透膜に通し、その通過水に塩化ナトリウムを添加するとともに、通過水に接する二酸化炭素分圧を大気中の分圧よりも高くする。

(d)純水又は蒸留水に塩化ナトリウムを添加するとともに、純水又は蒸留水に接する二酸化炭素分圧を大気中の分圧よりも高くする。

　ここで、(a)及び(c)において原液の構成要素である水は、井戸水、水道水などを使用することが可能であり、あえて純水を使用する必要はない。但し、電解槽の電極損傷や電極反応の低下を未然に防止するためには、カルシウムイオン、マグネシウムイオンなどを含まない純水を使用した方がよいことは言うまでもない。

　本発明に係る口臭抑制剤を用いて口臭を抑制するには、口臭抑制剤を口腔内に含んで数秒～数十秒間、含嗽する。

　このようにすると、上記口臭抑制剤は、バイオフィルムを破壊しながら、また、周囲に存在する有機物や他の菌体の酸化によって殺菌力を徐々に失いつつも、揮発性硫黄化合物を産生する口腔内細菌、主として歯周病原菌を短時間にかつ確実に殺菌する。

　ここで、ｐＨを６．３～８としたのは、ｐＨ６．３以下では歯の脱灰の懸念があり、さらにｐＨ６未満では、Ｈ₂ＣＯ₃、ＨＣＯ₃ ^-及びＣＯ₃ ^2-の濃度分率におけるＨＣＯ₃ ^-の存在比率が低くなって、バイオフィルムを破壊できるだけの炭酸水素ナトリウムを生成させることが困難になり、ｐＨ８を上回ると、Ｃｌ₂、ＨＣｌＯ及びＣｌＯ^-の濃度分率におけるＨＣｌＯの存在比率が低下して、細菌、特にう蝕病原菌を殺菌することができるだけの高濃度の次亜塩素酸を生成させることが困難になるからである。

　また、ｐＨを望ましくは７以上としたのは、う蝕病原菌によって産生される乳酸を中和し、口腔内が酸性化するのを防止できるからである。

　また、有効塩素濃度を５０ｐｐｍ以上としたのは、歯冠表面や歯根の浅い部分の表面に付着した口腔内細菌であっても、５０ｐｐｍ未満では殺菌が困難だからである。

　また、有効塩素濃度を２０１ｐｐｍ以上としたのは、２００ｐｐｍ以下の濃度では、歯周ポケットの奥深くに棲息する口腔内細菌を殺菌することができないためである。またそれに加えて、下記(i)～(iii)の条件を達成することが困難だからである。

(i)一般的に細菌は、浮遊状態で存在する割合よりもバイオフィルムを形成してその内部に棲息している割合が圧倒的に大きく、かかるバイオフィルム内の細菌を死滅させるには、その周囲に存在するさまざまな有機物や他の菌体を酸化しても、なお十分な殺菌力を保持していることが必要であり、数十ｐｐｍ程度の次亜塩素酸では殺菌力が低すぎる。

　(ii)長時間、例えば６０秒以上かけて殺菌を行うことは、数十万の細菌を体内（血管内）に送り込んで菌血症を招き全身疾患を誘発する懸念があるため、３０秒以内、できれば１０秒以内に死滅させなければならない。

　(iii)バイオフィルムには３００～４００種の細菌が一定の均衡を維持しながら寄生的に繁殖して細菌叢(そう)を形成しているが、これがなんらかの原因で他の菌と置換されたり、少数の菌が異常に増えたりすると、菌交代現象とよばれる細菌叢の変化が生じる。すなわち、一部のう蝕病原菌や歯周病原菌が殺菌されずに生き残ると、菌交代現象が発生し、残った細菌が急激に増殖する。このような事態を防止するためには、バイオフィルムに棲息する細菌を全て死滅させなければならない。

　また、望ましくは５００ｐｐｍ以上としたのは、ｐＨ８近傍において次亜塩素酸の存在比率が低いとしても、う蝕病原菌や歯周病原菌といった口腔内細菌を殺菌あるいは溶菌できるだけの次亜塩素酸の濃度を十分に確保することができるからである。

　一方、７００ｐｐｍ以下としたのは、７００ｐｐｍを上回る濃度は、殺菌や上記(i)～(iii)の達成には不必要な濃度だからである。

　ここで、有効塩素濃度を３００～７００ｐｐｍにした場合、さまざまな口腔内細菌、特に歯周病原菌やう蝕病原菌を３０秒程度以内に殺菌ないしは溶菌することができる。また、有効塩素濃度を４００～７００ｐｐｍにした場合には１０秒程度以内に殺菌あるいは溶菌することができる。

本実施形態に係る口臭抑制剤を生成する装置を示した概略図。低濃度における次亜塩素酸の存在比を示したグラフ。変形例に係る口臭抑制剤の生成装置を示した概略図。

符号の説明

５１，５１ａ　　　　　　　　　口臭抑制剤の生成装置
５２　　　　　　　　　　　　　原液
３　　　　　　　　　　　　　　原液タンク
５　　　　　　　　　　　　　　電解槽
６　　　　　　　　　　　　　　吐出管
５７　　　　　　　　　　　　　希釈水
６０　　　　　　　　　　　　　２次生成水、口臭抑制剤
６３　　　　　　　　　　　　　３次生成水、口臭抑制剤
８　　　　　　　　　　　　　　希釈水タンク
１４　　　　　　　　　　　　　３次生成水タンク

　以下、本発明に係る口臭抑制剤及びその生成方法の実施の形態について、添付図面を参照して説明する。なお、従来技術と実質的に同一の部品等については同一の符号を付してその説明を省略する。

　本実施形態に係る口臭抑制剤は、次亜塩素酸（ＨＣｌＯ）及び炭酸水素ナトリウム（ＮａＨＣＯ₃）を含み、有効塩素濃度を２０１～７００ｐｐｍ、望ましくは４００～７００ｐｐｍ、さらに望ましくは５００～７００ｐｐｍとするとともに、ｐＨを６．３以上８以下、望ましくは７以上８以下としてある。

　本実施形態に係る口臭抑制剤を生成する装置を図１に示す。

　同図でわかるように、本実施形態に係る口臭抑制剤の生成装置５１は、原液５２を貯留する原液タンク３と、該原液タンクに連通接続されたストロークポンプ４と、該ストロークポンプに連通接続された電解槽５と、該電解槽に連通接続された吐出管６と、希釈水５７が貯留された希釈水タンク８とを備えるとともに、吐出管６の先端が希釈水タンク８に貯留された希釈水５７の水位以下となるように、吐出管６の先端位置に対する希釈水タンク８の設置位置を相対的に位置決めしてある。

　原液５２は、後述するいずれかの方法で作製するが、いずれの方法においても、塩酸、酢酸その他炭酸を除く酸は一切添加されていない。

　希釈水５７は、井戸水、水道水、純水その他任意の水を使用することができるが、生成される口臭抑制剤のｐＨが上述した範囲になるようにｐＨを適宜選択する。

　本実施形態に係る生成装置５１はさらに、１次生成水が希釈水タンク８内において希釈水５７で希釈されてなる２次生成水６０に注水側が連通された脱気モジュール１１を備えており、該脱気モジュールは、真空ポンプ１２による減圧によって２次生成水６０の溶存酸素を除去するようになっているとともに、２次生成水６０から溶存酸素が除去された３次生成水を口臭抑制剤６３として貯留する３次生成水タンク１４を備えている。

　なお、生成装置５１に用いるチューブ類あるいは必要に応じて適宜設ける電磁弁は、高濃度の次亜塩素酸による酸化で劣化のおそれがあるため、フッ素で形成するのが望ましい。

　本実施形態に係る口臭抑制剤の生成装置５１を用いて口臭抑制剤６３を生成するには、３次生成水の有効塩素濃度が２０１～７００ｐｐｍ、望ましくは４００～７００ｐｐｍ、さらに望ましくは５００～７００ｐｐｍであり、かつｐＨが６．３～８、望ましくは７～８となるように、原液５２の組成条件（主として塩化ナトリウムの添加量）、電気分解時の動作条件（例えば電圧値や電流値）及び希釈条件（希釈倍率や希釈水のｐＨ）を定めるとともに、配合された原液５２を原液タンク３に貯留する。

　塩化ナトリウムは例えば２～５質量％添加する。

　二酸化炭素の溶解度を高めるためには、逆浸透膜に通された通過水、純水又は蒸留水を溶媒とし、該溶媒中に二酸化炭素を強制的に混入させることで二酸化炭素の溶解度を一時的に高める方法と、溶媒に接している二酸化炭素の分圧を上げる方法と、溶媒の温度を下げる方法とが考えられるが、電解時に生じる熱によって水温が上昇することを考えた場合、二酸化炭素を強制的に混入させる方法か、二酸化炭素の分圧を上げる方法のいずれかを選択するのが望ましい。

　二酸化炭素の溶解度を一時的に高める方法としては、炭酸ガスの吹込みによる方法か、ドライアイスの添加による方法のいずれかにさらに分類することができる。ここで、一時的とは、溶媒に接している二酸化炭素の分圧が大気中に存在する二酸化炭素の分圧と等しいため、換言すれば、二酸化炭素の混入を大気圧下で行うため、一時的に強制圧入したとしても、空気に含まれる二酸化炭素の分圧との圧力平衡により、時間が経過するにしたがって、二酸化炭素の溶解度が減少する場合を指す。この場合、二酸化炭素の溶解度が低下しないうちに、速やかに電解処理を行う必要がある。

　二酸化炭素の分圧を上げることで二酸化炭素の溶解度を高める方法としては、逆浸透膜を通過した通過水、純水又は蒸留水を溶媒として該溶媒を気密タンクに封入し、その気中空間に二酸化炭素を圧入するか、気密タンク内の溶媒に炭酸ガスを吹き込み若しくは溶媒にドライアイスを添加する方法を採用することができる。

　この場合、所定の二酸化炭素分圧で二酸化炭素を溶媒に溶かすとともに、その分圧を維持したまま、原液５２を電解槽５に送り込んで電気分解を行う必要があるため、二酸化炭素の分圧が低下しないよう、原液タンク３、ストロークポンプ４及び電解槽５を全体として気密に構成すればよい。

　以上まとめると、二酸化炭素の強制溶解は、以下に示す方法のいずれかを選択して作製する。

　(a-1)　水道水を逆浸透膜に通し、その通過水に塩化ナトリウムを添加するとともに、該塩化ナトリウムの添加工程と同時又はその前後に炭酸ガスを吹き込むことで、二酸化炭素を通過水に強制的に溶解させる。

　(a-2)　水道水を逆浸透膜に通し、その通過水に塩化ナトリウムを添加するとともに、該塩化ナトリウムの添加工程と同時又はその前後にドライアイスを添加することで、二酸化炭素を通過水に強制的に溶解させる。

　(b-1)　純水又は蒸留水に塩化ナトリウムを添加するとともに、該塩化ナトリウムの添加工程と同時又はその前後に炭酸ガスを吹き込むことで、二酸化炭素を強制的に溶解させる。

　(b-2)　純水又は蒸留水に塩化ナトリウムを添加するとともに、該塩化ナトリウムの添加工程と同時又はその前後にドライアイスを添加することで、二酸化炭素を強制的に溶解させる。

　(c) 水を逆浸透膜に通し、その通過水に塩化ナトリウムを添加するとともに、通過水に接する二酸化炭素分圧を大気中の分圧よりも高くすることによって、大気中の二酸化炭素分圧での溶解度よりも高い溶解度で二酸化炭素を通過水に溶解させる。

　(d) 純水又は蒸留水に塩化ナトリウムを添加するとともに、純水又は蒸留水に接する二酸化炭素分圧を大気中の分圧よりも高くすることによって、大気中の二酸化炭素分圧での溶解度よりも高い溶解度で二酸化炭素を通過水に溶解させる。

　逆浸透膜に通す水は、どのような性状のものでもよいが、逆浸透膜やそれを使った浄水器の負担を軽減し、あるいは捨て水の量をなるべく少なくするという意味では、ある程度浄化された水が望ましい。例えば、地下水、水道水又は市販されているミネラルウォータ（市販水）を使用することができる。以下、本実施形態では、逆浸透膜に通す水として水道水を用いるものとする。

　水道水を逆浸透膜に通すことで原液５２を作製する場合には、逆浸透膜を備えた浄水器がいくつかのメーカーから市販されているので、それらから適宜選択し利用すればよい。また、二酸化炭素の分圧が高い環境下で通過水、純水又は蒸留水に二酸化炭素を溶解させる場合には、従来公知の二酸化炭素溶解装置を適宜利用することができる。

　原液５２を作製したならば、次に、かかる原液５２を口臭抑制剤１バッチ分に相当する量だけ計量し原液タンク３に貯留するとともに、同じく口臭抑制剤１バッチ分に相当する量の希釈水５７を希釈水タンク８に貯留する。口臭抑制剤１バッチ分に相当する希釈水５７の量は、希釈倍率や希釈水のｐＨに応じて適宜定めればよい。

　次に、原液５２をストロークポンプ４で電解槽５に送り、定められた動作条件で電解槽５を動作させ、原液５２を電気分解する。

　次に、電解槽５内で生成された１次生成水を、該電解槽に連通接続された吐出管６を介して、予め希釈水タンク８に貯留された希釈水５７内に注入する。

　ここで、希釈水タンク８は、吐出管６の先端位置が希釈水タンク８の中に貯留された希釈水５７の水位以下となるように、その設置位置を相対的に位置決めしてある。

　そのため、１次生成水は、空気（外気）と接触することなく、吐出管６を介して希釈水５７内に注入される。また、１次生成水は、予め計量された希釈水５７に注入されるいわばバッチ方式で注入されることになるため、従来のような配管内混合とは異なり、１次生成水は、希釈水５７に均質に混合される。

　次に、２次生成水６０を脱気モジュール１１に通すことにより、溶存ガス、特に溶存酸素が除去された３次生成水を生成し、これを口臭抑制剤６３として３次生成水タンク１４に貯留する。

　本実施形態に係る口臭抑制剤６３を用いて口臭を抑制するには、口臭抑制剤６３を口腔内に含んで例えば数秒～数十秒間、含嗽する。

　このようにすると、口臭抑制剤６３に含まれる炭酸水素ナトリウムがバイオフィルムを破壊する一方、次亜塩素酸は、周囲に存在する有機物や他の菌体の酸化によって殺菌力を徐々に失いつつも、揮発性硫黄化合物を産生する口腔内細菌を短時間にかつ確実に殺菌する。

　加えて、口臭抑制剤６３に含まれている次亜塩素酸は、口腔内で気化している揮発性硫黄化合物を酸化して無臭化するとともに、口臭抑制剤６３に含まれている炭酸水素ナトリウムは、固形物として舌や歯に付着している揮発性硫黄化合物や口腔内細菌の代謝に必要な基質を捕捉して含嗽時に排出する。

　以上説明したように、本実施形態に係る口臭抑制剤６３及びその生成方法並びに生成装置５１によれば、塩化ナトリウム及び二酸化炭素が添加された水溶液を原液とし、該原液を、有効塩素濃度が２０１～７００ｐｐｍ、望ましくは４００～７００ｐｐｍ、さらに望ましくは５００～７００ｐｐｍ、ｐＨが６．３～８、望ましくは７～８となるように電気分解するようにしたので、バイオフィルムを破壊できるだけの高濃度の炭酸水素ナトリウムと、歯周病原菌等の口腔内細菌を殺菌できるだけの高濃度の次亜塩素酸とを両方生成することが可能となり、数秒～数十秒の間、含嗽しただけで口腔内細菌を殺菌あるいは溶菌することができるとともに、口腔内の揮発性硫黄化合物を洗浄ないしは除去することができるという画期的な作用効果を奏する。

　また、本実施形態に係る口臭抑制剤の生成方法及び生成装置５１によれば、二酸化炭素を強制的に溶解させるようにしたので、高濃度の炭酸水素ナトリウムを生成させることができるとともに、それによってバイオフィルムを破壊することができるという作用効果を奏する。もちろん、塩酸や酢酸といった酸をわざわざ添加する必要がないので、無味無臭の口臭抑制剤を生成することが可能であり、例えば有効塩素濃度が５００ｐｐｍ～７００ｐｐｍであっても、患者に何ら不快感を与えることなく、かつ数秒～数十秒程度という短時間で歯周病原菌等の口腔内細菌を完全殺菌しあるいは溶菌することができるという作用効果を奏する。

　図２は、従来知られていた有効塩素の存在比を示したグラフである（「浄水の技術」、技報堂出版株式会社発行から抜粋）。同図でわかるように、従来においては、次亜塩素酸の存在比はｐＨ７以上で急激に低下し、ｐＨ８では存在比が２０％になるものと考えられていた。

　しかしながら、本出願人が臨床試験を行ったところ（詳細については後述）、ｐＨ６～８の範囲でう蝕病原菌を死滅させることが可能であるという結果を得た。う蝕病原菌については上述したように、その細胞壁を透過させて内部のタンパク質を変性させる、いわゆる溶菌は、歯科分野では、次亜塩素酸であっても難しいと考えられており、ましてや次亜塩素酸イオン（ＣｌＯ^-）ではう蝕病原菌の細胞壁を破壊することなど到底不可能であると認識されている。

　したがって、ｐＨ６～８の範囲でう蝕病原菌を死滅させることができたということは、すなわち、かかるｐＨ範囲で高濃度の次亜塩素酸が生成されていることを間接的に立証したことに他ならない。

　有効塩素中の次亜塩素酸を直接計測することは困難であるため、今後の研究開発が必要ではあるが、う蝕病原菌の死滅の事実とｐＨ測定の結果とを併せ考えれば、ｐＨ７～８であっても、十分な濃度の次亜塩素酸が生成されている可能性が高い。

　すなわち、本実施形態に係る口臭抑制剤６３によれば、従来全く注目されてこなかったｐＨ７～８の範囲において次亜塩素酸が十分な殺菌力をもって細菌を死滅させることができるとともに、かかるｐＨ領域において存在比率が高い炭酸水素ナトリウムのバイオフィルム破壊作用との相乗効果で、バイオフィルムを予め除去せずとも、該バイオフィルム内の細菌を死滅させることができるという産業上顕著な効果を奏するものである。加えて、上記口臭抑制剤による細菌の死滅は、細胞壁を壊して内部のタンパク質を変成させる、いわゆる溶菌の状態に至らしめるものであって、耐性菌が出現するリスクもない。

　また、本実施形態に係る口臭抑制剤の生成装置５１によれば、吐出管６の先端位置が希釈水タンク８の中に貯留された希釈水５７の水位以下となるように、希釈水タンク８の設置位置を相対的に位置決めしたので、１次生成水は、空気（外気）と非接触の状態で希釈水５７内に注入されることとなり、かくして、原液５２の配合比率や電解槽５の動作条件が設計値と異なり、それが原因で万一、塩素ガスが発生したとしても、該塩素ガスは、ｐＨ環境が中性に近い希釈水５７の中でその形態が次亜塩素酸に変化するとともに、塩素ガスとして気中に揮散する懸念もなくなる。

　また、電解槽５内で生成された１次生成水は、予め計量された希釈水５７内にバッチ方式で注入されるため、従来のような配管内混合とは違って均質な混合が可能となり、２次生成水６０のｐＨ及びそれに含まれる有効塩素濃度を設計値通りに合わせることが可能となる。

　また、本実施形態に係る口臭抑制剤の生成方法によれば、２次生成水６０から溶存ガスを除去して３次生成水６３を生成し、これを口臭抑制剤としたので、口腔内での発泡現象を未然に防止し、口腔内細菌を体内（血管内）に送り込むという事態を未然に防止することが可能となる。

　本実施形態では、２次生成水６０中の溶存ガスを脱気モジュール１１を用いて除去するようにしたが、２次生成水６０中の溶存ガスの濃度が低いために発泡現象が起きる懸念がないのであれば、溶存ガスを除去する工程を省略してもかまわない。かかる場合には、２次生成水６０がすなわち口臭抑制剤となる。

　図３は、溶存ガスの除去工程を省略する際に用いる生成装置５１ａを示した図であり、脱気モジュール１１、真空ポンプ１２及び３次生成水タンク１４を生成装置２１から省略してある。

　また、本実施形態では、口臭抑制剤１バッチ分に対応する量の原液５２と希釈水５７とを計量し、それぞれを原液タンク３と希釈水タンク８に予め貯留するようにしたが、これに代えて、口臭抑制剤１バッチ分よりも多い量、例えば数バッチ分に対応する量の原液５２を原液タンク３に予め貯留しておくのであれば、口臭抑制剤１バッチ分に対応する原液５２の量をそのつど計量するための水位計測手段を備えるようにすればよい。かかる水位計測手段は、例えば超音波センサや電極式センサ等で適宜構成することができる。

　また、本実施形態では、原液を電気分解した後、これを希釈して口臭抑制剤を生成するようにしたが（後希釈）、これに代えて、原液を希釈し、しかる後、該希釈水を電気分解して口臭抑制剤を得るようにしてもかまわない（前希釈）。なお、かかる変形例の場合においては、希釈水タンク８を省略し、これに代えて、希釈された原液を貯留するための希釈原液タンクを原液タンク３と電解槽５との間に別途備えればよい。

　また、本実施形態では、有効塩素濃度を２０１～７００ｐｐｍとしたが、歯周ポケットを除く口腔内部位、例えば歯冠表面や歯根の浅い部分の表面については、次亜塩素酸の濃度低下を招く有機物が比較的少ないため、有効塩素濃度が２０１ｐｐｍ未満の場合であっても、上記部位に棲息する口腔内細菌を十分に殺菌し得る。すなわち、有効塩素濃度が５０ｐｐｍ以上２０１ｐｐｍ未満の場合でも、口臭抑制剤として用いることが可能である。

　また、本実施形態では、主として口臭が強い場合に用いられる口臭抑制剤について説明したが、本発明に係る口臭抑制剤は、強い口臭を弱めるだけではなく、口臭悪化の予防にも用いることができる。

　特に、有効塩素濃度が５０～３００ｐｐｍとなるようにすれば、口臭悪化を防止するために患者自らが日常的に使用する際にも、十分な安全性が確保されることとなり、在宅使用も可能となる。

（口臭抑制剤の生成）
　まず、逆浸透膜を備えた浄水器に水道水を注水し、次いで、逆浸透膜を通過した水に３質量％の塩化ナトリウムを添加するとともに、ドライアイスを添加して原液とし、次いで、この原液を５倍に希釈した（前希釈）。

　次に、希釈した原液を電解槽で電気分解して口臭抑制剤とした。

　電解槽は、葵エンジニヤリング株式会社が「エピオスエコ」の商品名で販売している電解中性水生成装置の電解槽を用いた。

　以上のプロセスで電気分解を行ったところ、ｐＨ６．３～８の範囲内で有効塩素濃度が６００～７００ｐｐｍの口臭抑制剤を生成することができた。なお、口臭抑制剤中における有効塩素の濃度を測定するにあたっては、２００ｐｐｍを越える濃度測定が可能な計器や試験紙あるいは試薬がなかったため、二倍希釈を二度繰り返すことで有効塩素濃度を計測した。

　また、５００ｐｐｍの口臭抑制剤の作用効果を確認するためのコントロール（標準試薬）として、同様な手順で４０ｐｐｍの口臭抑制剤も併せて作製した。

（歯周病原菌に対する口臭抑制剤の臨床試験）
　揮発性硫黄化合物が最もたくさん産生される口腔内の部位は、歯周ポケットではなく舌背後方部であると言われているが、本臨床試験では、歯周病原菌の棲息及び増殖がより確実な部位として歯周ポケットを選択した。

　すなわち、本臨床試験では、口臭抑制剤を歯周ポケット内に注入し、次いで、唾液に触れないようにして探針を歯周ポケット底部に挿入し、歯根面に付着したプラークを採取し、これをスライドガラスに載せて生理食塩水で懸濁した後、カバーガラスで覆い、これを３６００倍の高解像度位相差顕微鏡で観察した。

　顕微鏡による観察結果を表１に示す。

　１０人の患者に対して上記臨床試験を行ったところ、同表でわかるように、すべての患者で歯周病原菌が溶菌し、その死滅が確認できた。

（う蝕病原菌に対する口臭抑制剤の臨床試験）
　次に、う蝕病原菌に対する臨床試験を行った。
　試験を行うにあたっては、上記口臭抑制剤を口腔内に含んで１０秒間、含嗽し、その後、唾液を採取して所定時間培養し、次いで、唾液中のストレプトコッカス・ミュータンス(Streptococcus mutans)、ストレプトコッカス・ソブリナス(Streptococcus sobrinus)及びラクトバチラス(Lactobacilli)の菌体数（唾液１ｍｌ中当たり）を調べた。

　試験は、株式会社モリタから販売されている「シーエーティー２１ファスト」（短時間う蝕活動性試験）を用いた。培養は、２０分培養後（３７゜Ｃ）と２４時間培養後（３７゜Ｃ）の２ケースとした。

　まず、コントロール試薬の場合、２０分培養後では１０²～１０³（安全域～注意域）、２４時間培養後では１０⁵～１０⁶（危険域）となり、有効塩素濃度が４０ｐｐｍ程度では、う蝕病原菌を十分に殺菌することができないことがわかった。

　それに対し、本発明に係る口臭抑制剤の場合には表２に示すように、含嗽後においてすべての患者で安全域となり、う蝕病原菌を溶菌できることがわかった。これは、炭酸水素ナトリウムによるバイオフィルムの破壊作用と次亜塩素酸による殺菌作用とが相乗し、う蝕病原菌を死滅させることができたものと思われる。

（口臭抑制剤の生成　その２）
1)原液
　原液として、以下の４つの試験溶液を準備した。

　試験溶液Ａ；
　大気圧下かつ室温下で蒸留水にドライアイス５％（w/v）を添加することで、該蒸留水にドライアイスを構成する二酸化炭素を溶解させ（飽和炭酸水）、しかる後、塩化ナトリウムを０．６％（w/v）を溶解させた。

　試験溶液Ｂ；
　試験溶液Ａの中間生成物である飽和炭酸水を蒸留水で５倍に希釈し、しかる後、塩化ナトリウムを０．６％（w/v）を溶解させた。

　試験溶液Ｃ；
　試験溶液Ａの中間生成物である飽和炭酸水を蒸留水で１０倍に希釈し、しかる後、塩化ナトリウムを０．６％（w/v）を溶解させた。

　試験溶液Ｄ；
　大気圧下かつ室温下で蒸留水を大気に曝露することで、該蒸留水に空気中の二酸化炭素を溶解させ、次いで、塩化ナトリウムを０．６％（w/v）を溶解させた。

2)試験方法
　無隔膜タイプの電解槽に上記原液を４Ｌ投入し、２．８Ａの直流電流で電気分解を行った。

3)結果
　試験結果を表３に示す。

　同表でわかるように、飽和炭酸水を使った試験溶液Ａ～試験溶液Ｃでは、次亜塩素酸及び炭酸水素ナトリウムが十分な濃度で存在し得るｐＨ範囲は、６～８となっている。それに対し、空気中の二酸化炭素を自然溶解させた試験溶液Ｄでは、ｐＨが９．２となった。したがって、空気中の二酸化炭素を自然溶解させる方法では、次亜塩素酸及び炭酸水素ナトリウムの両方を十分な濃度で生成することは困難であろうと思われる。

（口臭抑制剤の口臭抑制試験）
　口臭には、起床直後などで検出される生理的口臭と、歯周病等の口腔内疾患が原因で生じる口臭と、口腔以外の内臓疾患を原因とした疾患の３つに大別され、これらを区別した状態で口臭強度を測定することが重要である。

　本臨床試験では、アビメディカル株式会社が販売しているOralChroma（オーラルクロマ、登録商標）を用いた。同装置は、揮発性硫黄化合物のうち、硫化水素、メチルメルカプタン及びジメチルサルファイドという３成分の濃度を個別に測定可能であり、硫化水素のみが検出される場合には、生理的口臭の可能性が高く、ジメチルサルファイドのみが検出される場合には、口腔内疾患ではなく内臓疾患を原因とした口臭である可能性が高く、硫化水素及びメチルメルカプタンという二大原因物質が両方検出される場合には、口腔内疾患を原因とした口臭である可能性が高いと判断できる。

　試験結果を表４に示す。

患者No.１では、含嗽前は３成分の測定値が認知閾値を上回っており、強い口臭が確認されたが、含嗽後は、硫化水素の測定値がほぼゼロとなり、口腔内疾患に基づく口臭については大幅に改善されたと考えられる。なお、メチルメルカプタンが硫化水素とは別に単独に検出されることはほとんどないため、センサーの誤作動その他の理由による測定ミスと考えられ、メチルメルカプタンの測定値は無視した。

　患者No.２では、３成分の測定値が認知閾値を上回っており、強い口臭が確認されたが、含嗽後は、硫化水素の測定値がほぼゼロとなり、口臭が大幅に改善された。なお、メチルメルカプタンの測定値は無視した。

　患者No.３では、３成分の測定値が認知閾値を上回っており、強い口臭が確認されたが、含嗽後は、硫化水素及びメチルメルカプタンという二大原因物質の測定値がほぼゼロとなったので、口腔内疾患に基づく口臭については大幅に改善されたと考えられる。

　患者No.４，５では、硫化水素の測定値が認知閾値を上回っているものの、メチルメルカプタンの測定値は認知閾値を下回ったので、口腔内疾患に基づく口臭は発生していないと考えられる。含嗽後は、３成分の測定値がゼロとなり、口臭が大幅に改善された。

　患者No.６，１２，１４では、３成分の測定値が認知閾値を上回っており、強い口臭が確認されたが、含嗽後は、３成分の測定値がゼロとなり、口臭が大幅に改善された。

　患者No.７，８，１１，１３では、二大原因物質の測定値が認知閾値を上回っており、強い口臭が確認されたが、含嗽後は、３成分の測定値がゼロとなり、口臭が大幅に改善された。

　患者No.９，１０では、硫化水素の測定値だけが認知閾値を上回っており、中程度の口臭が確認されたが、含嗽後は、３成分の測定値がゼロとなり、口臭が大幅に改善された。

Claims

有効塩素濃度が５０～７００ｐｐｍ、ｐＨが６．３～８であって、次亜塩素酸及び炭酸水素ナトリウムを含むことを特徴とする口臭抑制剤。
有効塩素濃度を、前記５０～７００ｐｐｍに代えて、２０１～７００ｐｐｍとする請求項１記載の口臭抑制剤。
有効塩素濃度を、前記２０１～７００ｐｐｍに代えて、４００～７００ｐｐｍとする請求項２記載の口臭抑制剤。
ｐＨを、前記６．３～８に代えて、７～８とした請求項１乃至請求項３のいずれか一記載の口臭抑制剤。
有効塩素濃度を、前記５０～７００ｐｐｍに代えて、５００～７００ｐｐｍとし、ｐＨを、前記６．３～８に代えて、７～８とした請求項１記載の口臭抑制剤。
有効塩素濃度を、前記５０～７００ｐｐｍに代えて、５０～３００ｐｐｍとし、ｐＨを、前記６．３～８に代えて、７～８とした請求項１記載の口臭抑制剤。
塩化ナトリウム及び二酸化炭素が添加された水溶液を原液とし、該原液を、有効塩素濃度が５０～７００ｐｐｍ、ｐＨが６．３～８となるようにかつ次亜塩素酸及び炭酸水素ナトリウムが生成されるように電気分解することを特徴とする口臭抑制剤の生成方法。
前記原液を、水を逆浸透膜に通し、その通過水に塩化ナトリウムを添加し、該塩化ナトリウムの添加工程と同時に又はその前後に炭酸ガスを吹き込み又はドライアイスを添加することによって作製する請求項７記載の口臭抑制剤の生成方法。
前記原液を、純水又は蒸留水に塩化ナトリウムを添加し、該塩化ナトリウムの添加工程と同時に又はその前後に炭酸ガスを吹き込み又はドライアイスを添加することによって作製する請求項７記載の口臭抑制剤の生成方法。
前記原液を、水を逆浸透膜に通し、その通過水に塩化ナトリウムを添加するとともに、前記通過水に接する二酸化炭素分圧を大気中の分圧よりも高くすることによって作製する請求項７記載の口臭抑制剤の生成方法。
前記原液を、純水又は蒸留水に塩化ナトリウムを添加するとともに、前記純水又は前記蒸留水に接する二酸化炭素分圧を大気中の分圧よりも高くすることによって作製する請求項７記載の口臭抑制剤の生成方法。
有効塩素濃度を、前記５０～７００ｐｐｍに代えて２０１～７００ｐｐｍとする請求項７乃至請求項１１のいずれか一記載の口臭抑制剤の生成方法。
有効塩素濃度を、前記２０１～７００ｐｐｍに代えて４００～７００ｐｐｍとする請求項１２記載の口臭抑制剤の生成方法。
ｐＨを前記６．３～８に代えて、７～８とした請求項７乃至請求項１１のいずれか一記載の記載の口臭抑制剤の生成方法。
ｐＨを前記６．３～８に代えて、７～８とした請求項１２記載の記載の口臭抑制剤の生成方法。
ｐＨを前記６．３～８に代えて、７～８とした請求項１３記載の記載の口臭抑制剤の生成方法。
有効塩素濃度を、前記５０～７００ｐｐｍに代えて、５００～７００ｐｐｍとし、ｐＨを、前記６．３～８に代えて、７～８とした請求項７乃至請求項１１のいずれか一記載の口臭抑制剤の生成方法。
有効塩素濃度を、前記５０～７００ｐｐｍに代えて、５０～３００ｐｐｍとし、ｐＨを、前記６．３～８に代えて、７～８とした請求項７乃至請求項１１のいずれか一記載の口臭抑制剤の生成方法。