WO2008129613A1 - Dispositif de contrôle de matrice de transistors en couches minces - Google Patents
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Abstract
Dispositif de contrôle de matrice de transistors en couches minces, comprenant un étage (2) pour un substrat de verre, un mécanisme d'entraînement de l'étage, et une unité de canon à électrons (3) prévue au-dessus d'une chambre principale (1). L'étage (2) pour le substrat de verre est disposé dans la chambre principale (1) et au moins le moteur d'entraînement (7a) d'un mécanisme d'entraînement d'étage Z (7) prévu dans le mécanisme d'entraînement d'étage est disposé à l'extérieur de la chambre principale (1), moyennant quoi la chambre principale peut être de faible dimension. Le mécanisme d'entraînement d'étage Z est actionné par le moteur d'entraînement d'axe Z (7a) disposé à l'extérieur de la chambre principale (1), et déplace un étage Z (2d) disposé dans la chambre principale (1) dans la direction Z. Le moteur d'entraînement étant disposé à l'extérieur de la chambre principale, on peut utiliser un moteur d'entraînement ayant un couple de sortie élevé pour augmenter la vitesse d'entraînement de l'étage Z, ce qui permet d'améliorer la vitesse de contrôle d'un substrat de verre.
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PCT/JP2007/057807 WO2008129613A1 (fr) | 2007-04-09 | 2007-04-09 | Dispositif de contrôle de matrice de transistors en couches minces |
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| PCT/JP2007/057807 WO2008129613A1 (fr) | 2007-04-09 | 2007-04-09 | Dispositif de contrôle de matrice de transistors en couches minces |
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| WO2008129613A1 true WO2008129613A1 (fr) | 2008-10-30 |
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| WO (1) | WO2008129613A1 (fr) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002261018A (ja) * | 2001-03-05 | 2002-09-13 | Yuzo Mori | エピタキシャルＳｉの高速成膜方法 |
| JP2005227263A (ja) * | 2004-02-12 | 2005-08-25 | Applied Materials Inc | 集積基板搬送モジュールを備えた電子ビームテストシステム |
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2007
- 2007-04-09 WO PCT/JP2007/057807 patent/WO2008129613A1/fr not_active Ceased
Patent Citations (2)
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|---|---|---|---|---|
| JP2002261018A (ja) * | 2001-03-05 | 2002-09-13 | Yuzo Mori | エピタキシャルＳｉの高速成膜方法 |
| JP2005227263A (ja) * | 2004-02-12 | 2005-08-25 | Applied Materials Inc | 集積基板搬送モジュールを備えた電子ビームテストシステム |
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