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WO2007083542A1 - 平版印刷版材料及びその製造方法 - Google Patents

平版印刷版材料及びその製造方法 Download PDF

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Publication number
WO2007083542A1
WO2007083542A1 PCT/JP2007/050140 JP2007050140W WO2007083542A1 WO 2007083542 A1 WO2007083542 A1 WO 2007083542A1 JP 2007050140 W JP2007050140 W JP 2007050140W WO 2007083542 A1 WO2007083542 A1 WO 2007083542A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
group
substituent
general formula
printing plate
alkyl group
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
PCT/JP2007/050140
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Tatsuichi Maehashi
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Medical and Graphic Inc
Original Assignee
Konica Minolta Medical and Graphic Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Medical and Graphic Inc filed Critical Konica Minolta Medical and Graphic Inc
Priority to JP2007554862A priority Critical patent/JPWO2007083542A1/ja
Publication of WO2007083542A1 publication Critical patent/WO2007083542A1/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Ceased legal-status Critical Current

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Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00—Forme preparation
    • B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1008—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
    • B41N1/00—Printing plates or foils; Materials therefor
    • B41N1/04—Printing plates or foils; Materials therefor metallic
    • B41N1/08—Printing plates or foils; Materials therefor metallic for lithographic printing
    • B41N1/083—Printing plates or foils; Materials therefor metallic for lithographic printing made of aluminium or aluminium alloys or having such surface layers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/02—Positive working, i.e. the exposed (imaged) areas are removed
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/04—Negative working, i.e. the non-exposed (non-imaged) areas are removed
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/06—Developable by an alkaline solution
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/22—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by organic non-macromolecular additives, e.g. dyes, UV-absorbers, plasticisers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/24—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. acrylics, vinyl polymers

Definitions

  • the present invention relates to a lithographic plate having a negative or positive image forming layer used in a so-called computer-to-plate (hereinafter referred to as "CTP") system. More particularly, the present invention relates to a lithographic printing plate material that can form an image by exposure with a near infrared laser and has excellent sensitivity and developability, and a method for producing the same.
  • CTP computer-to-plate
  • an image forming layer containing an acid generator and an acid-decomposable compound (“photosensitive”
  • An image forming material having a layer is also known.
  • a technique containing a compound having an orthocarboxylic acid or carboxylic acid amide acetal group see, for example, Patent Document 4
  • a technique containing a compound having an acetal in the main chain see, for example, Patent Document 5
  • a technique containing a compound having a silyl ether group see, for example, Patent Document 6 and the like are disclosed in Patent Documents.
  • Infrared absorbers generally include inorganic pigments such as carbon black and iron oxide, cyanine dyes, methine dyes, naphthoquinone dyes, substituted arylene benzo (thio) pyridium salts, and trimethine salts.
  • Organic dyes such as apilium salt and pyrylium compounds are used.
  • Patent Document 1 Japanese Patent Publication No. 52-7364
  • Patent Document 2 Japanese Patent Publication No. 52-3216
  • Patent Document 3 U.S. Pat.No. 5,340,699
  • Patent Document 4 U.S. Pat.No. 3, 779, 779
  • Patent Document 5 Japanese Patent Laid-Open No. 53-133429
  • Patent Document 6 JP-A-60-37549
  • the present invention has been made in view of the above problems, and its object is to provide a negative-type and positive-type lithographic printing plate material excellent in sensitivity and printing quality and capable of near-infrared laser exposure, and its It is to provide a manufacturing method.
  • the image forming layer has at least the following general formula (IRD1 ) To (IRD3)
  • ILD1 general formula (IRD1)
  • TCD3 A lithographic printing plate material comprising a selected compound and a compound having a maximum absorption wavelength in methyl ethyl ketone of 700 to 90 Onm.
  • Z and Z are oxygen atom (0), sulfur atom (S), selenium atom (Se), or
  • R and R represent a hydrogen atom or an alkyl group.
  • 5 6 7 8 represents a monovalent substituent, and when m is 2 or more, adjacent Rs may be bonded to each other to form a ring. When n is 2 or more, adjacent Rs are bonded to each other to form a ring. May be formed. m and n
  • R and R each independently represents a hydrogen atom or a substituent.
  • Z represents 0, S, N—R
  • R represents an alkyl group or an aryl group.
  • Q is a 6-membered heterocycle
  • a and A each independently represent a substituent. However, A and A are the same
  • R 1 and R 2 each independently represents a hydrogen atom or a substituent.
  • Z represents 0, S, N—R.
  • R represents an alkyl group or an aryl group.
  • Q is a 6-membered heterocycle
  • a and A each independently represent a substituent. However, A and A are the same
  • B represents an alkyl group or an aryl group
  • X represents an electric
  • n 0 or 1.
  • R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a substituent.
  • Z represents 0, S, N
  • R represents Se, Te, or R represents an alkyl group or an aryl group.
  • a and A are
  • Z represents 0, S, N—R, Se or Te, and R represents an alkyl group or an aryl group.
  • a and A each independently represent a hydrogen atom or a substituent.
  • R and R each independently represents a hydrogen atom or a substituent.
  • Z represents 0, S, N—R
  • a and A are each
  • 21 22 21 represents an alkyl group or an aryl group, and X is a key necessary to cancel the charge in the molecule.
  • n 0 or 1.
  • Z represents 0, S, N-R, Se or Te, and R represents
  • a and A are each independently a hydrogen atom or a substituent
  • the compound represented by the general formula (IRD4) and the general formula (IRD5) is a compound represented by the following general formula (IRD6) and general formula (IRD7), respectively, Planographic printing plate material.
  • R and R each independently represent a hydrogen atom or a substituent.
  • Z represents 0, S, N—R.
  • a and A are each
  • R and R each independently represent a hydrogen atom or a substituent.
  • Z represents 0, S, N—R.
  • R represents an alkyl group or an aryl group.
  • Q is a 6-membered heterocycle
  • a and A each independently represent a substituent. However, A and A are the same
  • B represents an alkyl group or an aryl group
  • X represents an electric
  • n 0 or 1.
  • Z is 0, S, N-R, S
  • the compound represented by the general formula (IRD6) or the general formula (IRD7) is a compound represented by the following general formula (IRD8) or general formula (IRD9), respectively, Planographic printing plate material.
  • R and R each independently represents a hydrogen atom or a substituent.
  • a and A each represents
  • a and A each independently represent a substituent. Provided that A and A are the same substituent.
  • R and R each independently represent a hydrogen atom or a substituent.
  • 21 22 21 represents an alkyl group or an aryl group, and X is a key necessary to cancel the charge in the molecule.
  • n 0 or 1.
  • a and A each independently represent a substituent. However, A
  • R and R each independently represent a hydrogen atom or a substituent.
  • R represents an alkyl group.
  • the image forming layer in which the hydrophilic support is provided with an anodic acid coating on an aluminum surface roughened by electropolishing, and the alkali solubility is changed by near infrared laser exposure,
  • the lithographic printing plate material according to any one of 1 to 5, wherein the lithographic printing plate material comprises at least the following compound. [0031] 1) Alkali-soluble binder resin
  • the image forming layer wherein the hydrophilic support is provided with an anodized film on an aluminum surface roughened by electropolishing, and the alkali solubility is changed by near infrared laser exposure,
  • the lithographic printing plate material according to any one of 1 to 5, wherein the lithographic printing plate material comprises at least the following compound.
  • a method for producing a lithographic printing plate material comprising a step of preparing a liquid and a step of coating the coating liquid for an image forming layer on a hydrophilic support.
  • the lithographic printing plate material of the present invention is a lithographic printing plate material in which an image-forming layer whose solubility is changed by near infrared laser exposure is provided on a hydrophilic support.
  • Formation layer 1S Infrared absorbing dye is a compound selected from at least one of the above general formulas (IRD1) to (IRD3), and a maximum absorption in methyl ethyl ketone It contains a compound having a wavelength of 700 to 900 nm.
  • the infrared absorber a compound having a specific structure represented by at least one of the general formulas (IRD1) to (IRD 10) and having a maximum absorption wavelength in methyl ethyl ketone of 700 to 900 nm is used. Is done.
  • Z and Z are oxygen atom (O), sulfur atom (S), and selenium atom, respectively.
  • the R and R represent a monovalent substituent, and when m is 2 or more, adjacent Rs are bonded to each other.
  • Rings may be formed.
  • n 2 or more, adjacent Rs may be bonded to each other to form a ring.
  • an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heterocyclic group, a halogen atom, and a cyan group are preferably used.
  • the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a t-butyl group, a pentyl group, a hexyl group, an octyl group, a dodecyl group, and a trifluoromethyl group.
  • cycloalkyl examples include a cyclopentyl group and a cyclohexyl group.
  • the alkenyl group includes a butyl group, a 2-probe group, a 3-butene group, a 1-methyl-3-propyl group, a 3-pentale group, a 1-methyl-3-butene group, and a hexyl group. Group, and hexyl group.
  • alkyl group examples include a propargyl group.
  • Examples of the aryl group include a phenyl group and a naphthyl group.
  • heterocyclic group examples include a pyridyl group, a thiazolyl group, an oxazolyl group, and an imidazolyl group.
  • halogen atom examples include fluorine, chlorine, bromine and iodine.
  • Illustrative compound IRD1— 1 Illustrative compound IRD1 2
  • Illustrative compound fRD1 Illustrative compound IRD1-8 Illustrative compound IRD1 -9 Illustrative compound iRD1-10 046] [Chemical 13] Illustrative compound IRD1-11
  • Example Compound IRD1-14 Example Compound IRD1-15
  • Example Compound iRD1-16 Example Compound IRD1-17
  • Example Compound IRD1-18 Example Compound IRD1-19
  • R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom or a substituent.
  • R and R represent examples of the substituent represented by R and R.
  • substituent represented by R and R include an alkyl group, a cycloalkyl group, and an alkyl group.
  • Examples thereof include a kenyl group, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, a halogen atom, and a cyano group.
  • they are a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group, and more preferably a hydrogen atom or an alkyl group.
  • the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a t-butyl group, a pentyl group, a hexyl group, an octyl group, a dodecyl group, and a trifluoromethyl group.
  • Examples of cycloalkyl include a cyclopentyl group and a cyclohexyl group.
  • the alkenyl group includes a butyl group, a 2-probe group, a 3-butene group, a 1-methyl-3 probe group, a 3-pentale group, a 1-methyl-3-butene group, and a hexyl group.
  • Examples of the alkyl group include a propargyl group.
  • Examples of aryl groups include phenyl and naphthyl groups.
  • Examples of the heterocyclic group include a pyridyl group, a thiazolyl group, an oxazolyl group, and an imidazolyl group.
  • Examples of the halogen atom include fluorine, chlorine, bromine and iodine.
  • Z represents 0, S, N—R, Se or Te, and R represents an alkyl group or an aryl group.
  • the Preferred is 0, S, or N—R, and more preferred is O or S.
  • R is 0, S, or N—R, and more preferred is O or S.
  • alkyl group represented a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a t-butyl group, a pentyl group, a hexyl group, an octyl group, a dodecyl group, and a trifluoromethyl group are exemplified.
  • the aryl group represented by R include a phenol group and a naphthyl group.
  • Q represents a 6-membered heterocyclic ring, which includes pyrylium, thiopyrylium, selenopyrilyu
  • Pyrium, thiopyrylium or selenopyrylium is preferred, and pyrylium or thiopyrylium is more preferred.
  • These heterocycles may have a substituent, such as an alkyl group, a cycloalkyl group, a halogenated alkyl group, an alkyl group, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group.
  • a and A each independently represent a substituent, and examples of the substituent include an alkyl group, a cycloa
  • Examples thereof include an alkyl group, an alkyl group, an alkyl group, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, a halogen atom, and a cyan group, and these groups may further have a substituent.
  • alkyl group, cycloalkyl group, alkyl group, alkyl group, aryl group, heterocyclic group, and halogen atom are the same as those described above for R 1 and R 2.
  • R and R each independently represent a hydrogen atom or a substituent.
  • Examples of the substituent represented by R 1 and R 2 include an alkyl group, a cycloalkyl group, and an alkenyl group.
  • alkynyl group aryl group, heterocyclic group, halogen atom, cyan group and the like.
  • a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group is preferred, and a hydrogen atom or an alkyl group is more preferred.
  • alkyl group, cycloalkyl group, alkyl group, alkyl group, aryl group, heterocyclic group, and halogen atom are the same as those described above for R 1 and R 2.
  • Z represents 0, S, N—R, Se or Te, and R represents an alkyl group or an aryl group.
  • Preferred is 0, S, or N—R, and more preferred is O or S.
  • alkyl group and aryl group examples include those similar to R 1 and R 2 described above.
  • Q represents a 6-membered heterocyclic ring, which includes pyrylium, thiopyrylium, selenopyrilyu
  • Pyrium, thiopyrylium or selenopyrylium is preferred, and pyrylium or thiopyrylium is more preferred.
  • These heterocycles may have a substituent, such as an alkyl group, a cycloalkyl group, a halogenated alkyl group, an alkyl group, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group.
  • a and A each independently represent a substituent, and examples of the substituent include an alkyl group, a cycloal
  • Examples thereof include a kill group, an alkyl group, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, a halogen atom, and a cyan group, and these groups may further have a substituent.
  • a and A are examples thereof.
  • alkyl group, cycloalkyl group, alkyl group, alkyl group, aryl group, heterocyclic group, and halogen atom are the same as those described above for R 1 and R 2.
  • B represents an alkyl group or an aryl group, preferably an alkyl group.
  • n 0 or 1 and is 0 when an inner salt is formed.
  • the compound represented by the compound represented by the general formula (IRD4) is an inner salt.
  • R and R have the same meanings as R and R in the general formula (IRD2).
  • Z has the same meaning as Z in the general formula (IRD2).
  • a and A have the same meanings as A and A in the general formula (IRD2).
  • Z represents 0, S, N—R, Se or Te, and R represents an alkyl group or an aryl group.
  • Preferred is 0, S, or N—R, and more preferred is O or S.
  • alkyl group and aryl group examples include those similar to R 1 and R 2 described above.
  • a and A each independently represent a hydrogen atom or a substituent.
  • alkyl group, cycloalkyl group, alkyl group, alkyl group, aryl group, heterocyclic group, and halogen atom are the same as those described above for R 1 and R 2.
  • R and R are the same as R and R in the general formula (IRD3).
  • Z has the same meaning as Z in formula (IRD3).
  • a and A have the same meanings as A and A in formula (IRD3).
  • B has the same meaning as B in formula (IRD3).
  • X has the same meaning as X in the general formula (IRD3).
  • n has the same meaning as n in the general formula (IRD3).
  • Z represents 0, S, N—R, Se or Te, and R represents an alkyl group or an aryl group.
  • the Preferred is 0, S, or N—R, and more preferred is O or S.
  • alkyl group and aryl group examples include the same groups as R 1 and R 2 described above.
  • a and A each independently represent a hydrogen atom or a substituent.
  • cycloalkyl group alkyl group, alkyl group, aryl group, heterocyclic group, halogen atom, cyano group and the like, and these groups may further have a substituent.
  • alkyl group, cycloalkyl group, alkyl group, alkyl group, aryl group, heterocyclic group, and halogen atom are the same as those described above for R 1 and R 2.
  • the compound represented by the general formula (IRD6) is an inner salt.
  • R and R are the same as R and R in the general formula (IRD2).
  • Z has the same meaning as Z in formula (IRD2).
  • a and A have the same meanings as A and A in formula (IRD2).
  • Z is synonymous with Z in the general formula (IRD4).
  • a and A each independently represent a substituent, and examples of the substituent include an alkyl group, a cycloa
  • Examples thereof include an alkyl group, an alkyl group, an alkyl group, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, a halogen atom, and a cyan group, and these groups may further have a substituent.
  • alkyl group, cycloalkyl group, alkyl group, alkyl group, aryl group, heterocyclic group, and halogen atom are the same as those described above for R 1 and R 2.
  • R and R are the same as R and R in the general formula (IRD3).
  • Z has the same meaning as Z in formula (IRD3).
  • a and A have the same meanings as A and A in formula (IRD3).
  • B has the same meaning as B in formula (IRD3).
  • X has the same meaning as X in the general formula (IRD3).
  • n has the same meaning as n in the general formula (IRD3).
  • Z has the same meaning as Z in formula (IRD5).
  • a and A each independently represent a substituent, and examples of the substituent include an alkyl group, a cycloa
  • Examples thereof include an alkyl group, an alkyl group, an alkyl group, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, a halogen atom, and a cyan group, and these groups may further have a substituent.
  • alkyl group, cycloalkyl group, alkyl group, alkyl group, aryl group, heterocyclic group, and halogen atom are the same as those described above for R 1 and R 2.
  • R and R are the same as R and R in the general formula (IRD2).
  • a and A have the same meanings as A and A in formula (IRD2).
  • a and A have the same meanings as A and A in formula (IRD6).
  • R and R are the same as R and R in the general formula (IRD3).
  • a and A have the same meanings as A and A in formula (IRD3).
  • B has the same meaning as B in formula (IRD3).
  • X has the same meaning as X in the general formula (IRD3).
  • n has the same meaning as n in the general formula (IRD3).
  • a and A have the same meanings as A and A in formula (IRD7).
  • the compound represented by the general formula (IRD8) is preferably a compound represented by the general formula (IRD10).
  • R and R have the same meanings as R and R in the general formula (IRD2), preferably a hydrogen atom.
  • X and X each independently represent a halogen atom, preferably C1 or Br.
  • R represents an alkyl group, and examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, and an n-propyl group.
  • T-butyl group n-octyl group, t-amyl group, 2-ethyl hexyl group, 2-chloroethyl group, 3, 3, 3-trifluoropropyl group, 6-cyanoxyl group, cyclohexyl group, 4 —Trifluoromethylcyclohexyl group and the like can be mentioned.
  • a t-butyl group is preferred, and a 2-alkoxy 1,1-dimethylethyl group is particularly preferred.
  • alkoxy group examples include methoxy group, ethoxy group, butoxy group, isobutoxy group, 3-methylbutoxy group, 2-ethylhexyloxy group, preferably isobutoxy group, 3-methylbutoxy group, or 2-ethylhexyloxy group. It is.
  • a method for synthesizing the squarylium dye used in the present invention will be described in the following synthesis examples.
  • the molecular structures of all products in the synthesis examples were confirmed by proton nuclear magnetic resonance analysis and mass spectrometry.
  • Exemplified compound sq-1 was obtained by the following synthesis route.
  • reaction solution was ice-cooled and 200 ml of water was slowly added. After returning the reaction solution to room temperature, the aqueous layer was separated and washed with 70 ml of hexane. Concentrated hydrochloric acid was added to the aqueous layer to adjust the pH to 2, followed by extraction with 200 ml of ethyl acetate. The organic layer was separated, dried over sodium sulfate, and sodium sulfate was removed by filtration under reduced pressure. The solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 6.9 g of Intermediate A.
  • Exemplified compound sq-3 was obtained by the following synthesis route.
  • Exemplified compound sq-6 was obtained by the following synthesis route.
  • Exemplified compound sq-36 was obtained by the following synthesis route.
  • Illustrative compound sq—6 1.7 g was dissolved in 18 ml of methylene chloride, 1.5 g of dimethyl sulfate was added, and the mixture was heated to reflux for 6 hours. Next, after the reaction solution was stirred at room temperature for 24 hours, 1.9 g of sodium methoxide (methanol 28% by mass solution) was slowly added dropwise. After completion of the dropwise addition, the mixture was stirred at room temperature for 4 hours, 15 ml of water and 3.5 ml of tetrafluoroboric acid (42% by mass aqueous solution) were successively added, and the mixture was further stirred for 1 hour.
  • sodium methoxide methanol 28% by mass solution
  • the above compound is preferably 0.1 to 10% by mass of the total composition constituting the image forming layer (photosensitive layer). Preferably, it is added in the range of 0.3 to 5%. If it is less than 1% by mass, it is difficult to obtain sufficient sensitivity. If it exceeds 10% by mass, the developability and the printing durability are lowered.
  • the image-forming layer preferably has a transmission absorbance in the range of 0.1 to 2.0 at the wavelength of the laser beam to be exposed from the viewpoints of sensitivity, developability, and printing durability.
  • hydrophilic support examples include metal plates such as aluminum, zinc, copper, stainless steel, and iron; polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyvinyl acetal
  • Plastic film such as polyethylene; Paper with synthetic resin melted or coated with synthetic resin solution, Composite material with metal layer deposited on plastic film by vacuum deposition, lamination, etc .; The materials used are listed. Of these, aluminum and the composite support coated with aluminum are preferable in terms of strength, mass, and handling ability.
  • the thickness of the support is preferably from 100 to 350 ⁇ m, particularly preferably from 150 to 300 ⁇ m.
  • the surface of the aluminum support is preferably surface-treated for the purpose of enhancing water retention and improving adhesion to the image forming layer.
  • Examples of such surface treatment include brushing, ball polishing, electrolytic etching, chemical etching, liquid honing, roughening treatment such as sand blasting, and combinations thereof.
  • a roughening treatment including use of electrolytic etching is particularly preferable.
  • an electrolytic bath used in the electrolytic etching an aqueous solution containing an acid, an alkali or a salt thereof, or an aqueous solution containing an organic solvent is used.
  • an electrolytic solution containing hydrochloric acid or a salt of hydrochloric acid is particularly preferable.
  • the aluminum support subjected to the surface roughening treatment is desmut-treated with an acid or alkali aqueous solution as necessary.
  • the aluminum support thus obtained is preferably anodized.
  • an anodic oxidation treatment using a bath containing sulfuric acid or phosphoric acid is desirable.
  • anodic oxidation of the surface 2. 0 ⁇ 6g / m 2 is the preferred tool particularly preferably 2. 5 ⁇ 5g / m 2.
  • the surface of the anodized film may be treated with silicate, fluorinated zirconium acid. It is possible to carry out a treatment with phosphimolybdate, a treatment with polyacrylic acid, a treatment with polyvinyl sulfonic acid, a treatment with phosphonic acid, a treatment with polybuluphosphonic acid, and the like.
  • alkali-soluble binder resin used in the negative and positive image-forming layers (photosensitive layers) of the lithographic printing plate material of the present invention include, for example, a polymer having a novolac resin, hydroxystyrene unit, and the following general formula ( Examples thereof include polymers having a structural unit represented by (ASP) and other known acrylic resins.
  • R 1 and R 2 each represents a hydrogen atom, an alkyl group such as a methyl group or a carboxylic acid group, and preferably a hydrogen atom.
  • R 3 represents a hydrogen atom, a halogen atom such as a chlorine atom or a bromine atom, or an alkyl group such as a methyl group or an ethyl group, preferably a hydrogen atom or a methyl group.
  • R 4 represents a hydrogen atom, an alkyl group such as a methyl group or an ethyl group, a phenyl group, or a naphthyl group.
  • Y represents a phenylene group or a naphthylene group including those having a substituent.
  • substituents include an alkyl group such as a methyl group and an ethyl group, a halogen atom such as a chlorine atom and a bromine atom, a carboxylic acid group, and a methoxy group.
  • Group, an alkoxy group such as an ethoxy group, a hydroxyl group, a sulfonic acid group, a cyano group, a nitro group, an acyl group and the like.
  • the group preferably has no substituent or is substituted with a methyl group.
  • W is a divalent organic group linking a nitrogen atom and an aromatic carbon atom, and p represents an integer of 0 to 5, preferably when p is 0.
  • the polymer having the structural unit represented by the general formula (ASP) is a homopolymer having a repeating structure of only the structural unit, and is a homopolymer having the structural unit and another vinyl monomer. Unsaturation in the body A copolymer in which one or more structural units represented by a structure in which a double bond is cleaved is combined.
  • polymer having the structural unit represented by the general formula (ASP) can be represented by, for example, (a) to (h). [0146] [Chemical 32]
  • R represents a hydrogen atom, an alkyl group or a halogen atom, respectively.
  • X represents an alkyl group or a halogen atom.
  • M, n, 1, k, and s represent mol% of each structural unit. * Represents a structural unit represented by the above general formula (ASP).
  • Examples of the nopolak resin include phenol 'formaldehyde resin, taresol' formaldehyde resin, phenol 'cresol' formaldehyde copolycondensation as described in JP-A-55-57841. And a copolycondensate resin of p-substituted phenol and phenol or talesol and formaldehyde as described in JP-A-55-127553.
  • Examples of the polymer having a hydroxystyrene unit include polyhydroxystyrene and hydroxystyrene copolymers described in Japanese Patent Publication No. 52-41050.
  • a novolac resin a polymer having a hydroxystyrene unit, and a polymer having a structural unit represented by the general formula (ASP) can be used in combination.
  • the amount of alkali-soluble rosin used is preferably in the range of 20 to 90% by mass with respect to the solid content of the negative or positive photosensitive composition. If necessary, two or more kinds of alkali-soluble rosin may be used in combination.
  • the alkali-soluble binder resin is preferably a resin mainly composed of novolac resin.
  • the crosslinking agent according to the present invention is a crosslinking agent activated by an acid.
  • Cross-linking agent activated by acid used in the negative type image forming layer (photosensitive layer) of the lithographic printing plate material of the present invention, that is, it is crosslinked with alkali-soluble resin in the presence of acid and dissolved in alkali.
  • the cross-linking agent for reducing the property include methylol group or a derivative of methylol group, melamine resin, furan resin, isocyanate, blocked isocyanate (isocyanate having a protecting group).
  • a cross-linking agent having a methylol group or acetylyl methylol group it is particularly preferable that the crosslinking agent activated by the acid is melamine rosin.
  • the amount of the compound that crosslinks with an acid is preferably in the range of 5 to 70 mass% with respect to the solid content of the negative photosensitive composition.
  • a compound that crosslinks with two or more acids may be used in combination.
  • Examples of the “compound that generates an acid by heat” according to the present invention include, for example, an ammonium salt, a phospho-um salt, an iodine salt, a sulfo-um salt, and the like.
  • an ammonium salt for example, an ammonium salt, a phospho-um salt, an iodine salt, a sulfo-um salt, and the like.
  • trihaloalkyl compounds and diazo-um salt compounds are preferably used in that high sensitivity can be obtained.
  • two or more kinds of compounds that generate acid by heat may be used in combination.
  • Preferred examples of the torino-oral alkyl compound include trihalomethyl-s-triazine compounds, oxadiazole compounds, and tribromomethylsulfonyl compounds described in US Pat. No. 4,239,850.
  • an organic halogen compound as the acid generator is preferred from the viewpoints of sensitivity in image formation by infrared exposure and storage stability of the image forming material.
  • the organic halogen compound triazines having a halogen-substituted alkyl group and oxadiazoles having a halogen-substituted alkyl group are preferable, and s-triazines having a halogen-substituted alkyl group are particularly preferable.
  • oxadiazoles having a halogen-substituted alkyl group include JP-A-5-74728, JP-A-55-24113, JP-A-55-77742, JP-A-60-3626 and Examples thereof include 2-halomethyl-1,3,4-oxadiazole compounds described in JP-A-60-138539. Preferred examples of 2-halomethyl-1,3,4-oxadiazole acid generators are shown below.
  • the s-triazines having a halogen-substituted alkyl group include the following general formula (TZN
  • R is an alkyl group, a halogen-substituted alkyl group, an alkoxy group, a substituted or unsubstituted styryl group, a substituted or unsubstituted aryl group (for example, a phenyl group, a naphthyl group). Etc.) or a substituted product thereof, and X represents a halogen atom.
  • the amount of the acid generator used is preferably in the range of 0.01 to 50 mass% with respect to the solid content of the negative photosensitive composition from the viewpoint of crosslinkability, sensitivity, and printing durability.
  • the range of 1 to 20% by mass is particularly preferable.
  • the acid-decomposable compound according to the present invention is a compound having a bond that can be decomposed by an acid, and is particularly used for a positive planographic printing plate material.
  • Specific examples of the acid-decomposable compound according to the present invention include those disclosed in JP-A-48-89003. 1-120714, 53-133429, 55-12995, 55-126236, 56-17345, compounds having a C—O—C bond, and Compounds having Si—O—C bond described in the specifications of Sho 60-37549 and 60-121446, described in the specifications of JP-A 60-3625 and 60-10247 Other acid-decomposable compounds. Furthermore, compounds having a Si—N bond described in the specification of JP-A-62-222246, carbonic acid esters described in the specification of JP-A-62-251743, ol DOO carbonate esters described in the specification of No.
  • JP-a 62- 280841 Ru orthotitanate ester
  • JP 6 2 280 842 No. of specification
  • the orthokete ester described in JP-A 63-10153, the acetal and the ketal described in JP-A-62-244038, and C -A compound having an S bond can be used.
  • JP-A-53-133429, JP-A-56-17345, JP-A-60-121446, JP-A-60-37549 and JP-A-62-209451, JP-A-63-10153 As described in the specification, compounds having a CO—C bond, compounds having a Si—O—C bond, orthocarbonates, acetals, ketals and silyl ethers are preferred.
  • organic polymerization in which the main chain described in JP-A-53-133429 has a repetitive acetal or ketal portion, and its solubility in a developing solution is increased by the action of an acid is particularly preferred.
  • Preferred examples of the acid-decomposable substance according to the present invention include compounds represented by the following general formula (ADC-1).
  • R 2 [Wherein R, R, R, R are hydrogen atom, alkyl group, cycloalkyl group, aryl group.
  • ADC-2 More preferably, there is a compound of the following general formula (ADC-2).
  • R and R are each a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, or an aryl group.
  • R is an alkylene group, cycloalkylene group, aryl
  • n and m are integers of 1 or more.
  • the content of the acid-decomposable compound according to the present invention is preferably 5 to 70% by mass, particularly preferably 10 to 50% by mass, based on the total solid content of the composition forming the image forming layer.
  • the acid-decomposable compound of the present invention may be used alone or in combination of two or more.
  • Acid-decomposable compound A Acid-decomposable compound B
  • Examples of the solvent used in preparing the coating solution for the image forming layer according to the present invention include alcohols: methanol, ethanol, propanol, isopropanol, sec-butanol, isobutanol, n-xanol, benzyl alcohol, Diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylenedaricol, 1,5-pentanediol, etc .; etheroles: propylene glycol nole monomethino ether, propylene glycol nole monomethenoate acetate, propylene glycol nole monoethyle Tenole, propylene glycol monobutyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, etc .; ketones: acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone Diacetone alcohol, cyclopentanone, cyclohexanone Jiokisoran, cyclohex
  • the prepared coating composition (image-forming layer coating solution) can be coated on a support by a conventionally known method and dried to prepare a photopolymerizable photosensitive lithographic printing plate material.
  • coating methods for the coating liquid include air doctor coater method, blade coater method, wire bar method, knife coater method, dip coater method, reverse roll coater method, gravure coater method, cast coating method, curtain coater method and extrusion coater method. The law etc. can be mentioned.
  • the drying temperature of the image forming layer (photosensitive) layer is preferably in the range of 60 to 160 ° C, more preferably in the range of 80 to 140 ° C, and particularly preferably in the range of 90 to 120 ° C.
  • the photosensitive lithographic printing plate material of the present invention is subjected to image formation by image exposure, subjected to a current image processing as necessary, and is subjected to printing.
  • the lithographic printing plate material of the present invention is subjected to image exposure using a light source having a wavelength of 700 nm or more.
  • light sources include semiconductor lasers, He—Ne lasers, YAG lasers, and carbon dioxide lasers.
  • the output is suitably 50 mW or more, preferably lOO mW or more.
  • an array-type light source such as a light-emitting diode array
  • a light source such as a halogen lamp, metal lamp, ride lamp, or tungsten lamp with an optical shutter material such as liquid crystal or PLZT
  • an optical shutter material such as liquid crystal or PLZT
  • Laser scanning methods include cylindrical outer surface scanning, cylindrical inner surface scanning, and planar scanning.
  • the cylindrical outer surface scanning one exposure of the laser is performed while rotating the drum around which the recording material is wound, the rotation of the drum is the main scanning, and the movement of the laser beam is the sub scanning.
  • the cylindrical inner surface scanning the recording material is fixed to the inner surface of the drum, the laser beam is also irradiated with the inner force, the main scanning is performed in the circumferential direction by rotating part or all of the optical system, and the optical system Sub-scanning is performed in the axial direction by moving a part or the whole linearly parallel to the drum axis.
  • Cylindrical outer surface scanning and circular cylinder inner surface scanning are suitable for high-density recording that facilitates increasing the accuracy of the optical system.
  • the printing plate material after image exposure is developed using an automatic processor.
  • an aqueous alkaline developer is suitable.
  • the aqueous alkaline developer (hereinafter referred to as a developer according to the present invention) include sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium metasilicate, potassium metasilicate, dibasic sodium phosphate,
  • concentration of the alkali metal salt including an aqueous solution of an alkali metal salt such as tribasic sodium phosphate is preferably used in the range of 0.05 to 20% by mass, more preferably 0.1 to 10% by mass. It is.
  • an anionic surfactant an amphoteric surfactant, a chelating agent, and an organic solvent such as alcohol can be added to the developer as necessary.
  • an organic solvent propylene glycol, ethylene glycol monophenol ether ether, benzine alcohol, n-propyl alcohol and the like are useful.
  • the temperature of the developer is preferably in the range of 15 to 40 ° C, more preferably 25 to 35 ° C.
  • the immersion time is preferably in the range of 1 second to 2 minutes, particularly preferably 10 to 45 seconds.
  • the surface of the image forming layer can be rubbed with a brush, molton or the like during development.
  • the developed lithographic printing plate is washed with water and treated with Z or an aqueous desensitizer.
  • water-based desensitizing agents include water-soluble natural polymers such as gum arabic, dextrin, and carboxymethyl cellulose, polybulal alcohol, and polybulurpyrrolidone.
  • An acid, a surfactant, or the like can be added to these water-based desensitizing agents as necessary. After being treated with a desensitizing agent, the lithographic printing plate is dried and used for printing as a printing plate.
  • a 0.24mm thick aluminum plate (material 1050, tempered H16) was degreased at 60 ° C for 1 minute in a 5% aqueous solution of caustic soda and then at a temperature of 25 ° C in 0.5 mol ZL of hydrochloric acid. Electrolytic etching was performed under the conditions of a current density of 60AZdm 2 and a treatment time of 30 seconds.
  • hot water sealing treatment was performed with hot water at 30 ° C for 20 seconds to produce an aluminum plate as a support for a lithographic printing plate material.
  • a negative photosensitive composition having the following compositional power was applied using a wire bar to a dry film thickness of 1.5 g / m 2 .
  • the coating solvent was kept in a hot air circulating dryer at 80 ° C for 60 seconds and dried to prepare a lithographic printing plate material (N-1).
  • Novolak resin (Boden DURITE PD-140A) 82 parts by mass
  • Cross-linking agent (CYMEL 303LF manufactured by Mitsui Cyinide Co., Ltd.) 8 parts by mass Acid generator (Exemplary Compound 8 Triazine-S) 6 parts by mass
  • Infrared absorbing dye (Exemplary Compound IRD-1) 3 parts by mass Visible dye (OIL BLUE 613, manufactured by Orient Chemical Industries) 1 part by weight Cyclohexanone 1000 parts by weight
  • the obtained lithographic printing plate material was subjected to a resolution of 2400 dpi using a commercially available CTP setter (PTR-4300 manufactured by Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd.) equipped with a semiconductor laser head, while changing the drum rotation speed lOOOrpm and laser output. Dpi represents the number of dots per inch, or 2.54 cm.) A halftone dot image exposure equivalent to 175 lines was performed.
  • the exposed plate was heated in an oven at 105 ° C for 3 minutes, and then an automatic processor (PK-910, manufactured by Kodak Polychrome Graphics) and developer (PD1 (Kodak Polychrome Dara Fix)) The product was developed for 25 seconds at 30 ° C.
  • PK-910 manufactured by Kodak Polychrome Graphics
  • PD1 Kodak Polychrome Dara Fix
  • a positive photosensitive composition having the following compositional power was applied using a wire bar so as to have a dry film thickness of 2. Og / m 2 .
  • the coating solvent was kept in a hot air circulating dryer at 120 ° C for 60 seconds and dried to prepare a lithographic printing plate material (P-1).
  • Acid-decomposable material A 20 parts by mass
  • Infrared absorbing dye (Exemplary compound IRD-1) 3 parts by weight Visible dye (OIL BLUE 613, manufactured by Orient Chemical Industries) 1 part by weight Propylene dalcol monomethyl ether 1000 parts by weight Using a commercially available CTP setter (PTR-4300 manufactured by Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd.), changing the drum rotation speed lOOOOrpm and laser output 30 to 100%, and performing halftone image exposure equivalent to 175 lines at a resolution of 2400dpi It was.
  • PTR-4300 manufactured by Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd.
  • a lithographic printing plate material was prepared in the same manner as in Example 1 except that the infrared absorbing dye, acid generator, and acid-decomposable compound in Example 1 were changed as follows, and exposure and development were performed. .
  • a lithographic printing plate material (N-7P-8) was prepared in the same manner as in Example 1 except that the infrared absorbing dye of Example 1 was replaced with the following comparative dye C compound, and the exposure and development processes were performed. .
  • the sensitivity of the negative lithographic printing material is measured with a densitometer (D196: manufactured by GRET AG) after 100% solid image exposure while changing the exposure energy of the laser. Sensitivity was defined as the amount of energy at which the saturated solid density of the photosensitive material reached the saturated solid density X 0.95.
  • the sensitivity of positive lithographic printing plate materials is determined by using a densitometer (D196: GR ETAG) to measure the density of each developed image after 100% solid image exposure while changing the laser exposure energy. taking measurement. Sensitivity was defined as the amount of energy at which the density after development was the support density in the uncoated area + 0.01.
  • a lithographic printing plate which was developed by developing an image of 175 lines with an exposure amount 1.3 times the sensitivity obtained above, and developing it, was applied to a coated paper, DAIYA1F-1 manufactured by Mitsubishi Heavy Industries, Ltd.
  • Printing was performed using printing ink (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Ltd., soybean oil ink “Nachiularis 100”) and dampening water (Tokyo Ink Co., Ltd., H solution SG-51 concentration 1.5%).
  • Wipe the plate with a pre-cleaner ultra plate cleaner (distributor: Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd.)) every 500 prints, and wipe the plate cleaner until 3% missing dots occur on the printed matter.
  • the lithographic printing plate material of the present invention is excellent in sensitivity and printing quality (printing durability and print stain recovery).

Landscapes

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Description

明 細 書
平版印刷版材料及びその製造方法
技術分野
[0001] 本発明はいわゆるコンピュータ^ ~·トウ'プレート（computer—to—plate :以下にお いて、「CTP」という。）システムに用いられるネガ型又はポジ型の画像形成層を有す る平版印刷版材料に関し、更に詳しくは近赤外線レーザの露光で画像形成可能で あり、感度と現像性に優れた平版印刷版材料及びその製造方法に関する。
背景技術
[0002] 活性光の照射によって、露光部が不溶化する、所謂ネガ型の平版印刷版材料とし ては、活性光の照射により照射部分が光重合或いは光架橋を起こして画像部を形成 する技術が知られている (例えば、特許文献 1及び 2参照。 )0また、酸発生剤、酸架 橋剤 (レゾール榭脂）、バインダー (ノボラック榭脂）、赤外線吸収剤を含有する感光 材料を赤外露光して、露光部をアルカリ不溶ィ匕する技術が開示されている（例えば、 特許文献 3参照。）。
[0003] 一方、活性光の照射によって可溶ィ匕するポジ型の組成物を使用した平版印刷版材 料としては、酸発生剤と酸分解性化合物とを含有する画像形成層（「感光性層」とも いう。）を有する画像形成材料が知られている。例えば、オルトカルボン酸又はカルボ ン酸アミドアセタール基を有する化合物を含有する技術 (例えば、特許文献 4参照。 ) 、主鎖にァセタールを有する化合物を含有する技術 (例えば、特許文献 5参照。）、 及びシリルエーテル基を有する化合物を含有する技術 (例えば、特許文献 6参照。 ) 等が特許文献等に開示されている。
[0004] 近年、製版データのデジタル化にともな!/ヽ、デジタルデータを直接レーザ信号に変 調し、平版印刷版を露光するいわゆる CTPシステムが普及している。近年におけるレ 一ザの発展は目ざましぐ特に近赤外力 赤外に発光領域を持つ固体レーザ ·半導 体レーザは高出力かつ小型のものが容易に入手できる様になつている。コンピュータ 等のデジタルデータ力 直接製版する際の露光光源として、これらのレーザは非常 に有用である。 [0005] 前述のポジ、あるいはネガ型の感光材料に、近赤外域の波長の光を吸収して発熱 する赤外線吸収剤と、発生した熱により活性化されて分解し酸を生成する化合物を 共存させることで近赤外のレーザに感度を有する組成物を得ることが可能であり、こ の技術を利用した平版印刷版材料が実用化されている。
[0006] 赤外線吸収剤としては一般的に、カーボンブラックや酸化鉄のような無機顔料や、 シァニン染料、メチン染料、ナフトキノン染料、置換されたァリールべンゾ (チォ)ピリリ ゥム塩、トリメチンチアピリリウム塩、ピリリウム系化合物、等の有機染料が用いられる。
[0007] 巿場では CTPシステムとして、より安価で小型の光源で記録可能な高感度な印刷 版材料が求められている。高感度化技術の 1つとして、赤外線吸収剤の添加比率を 上げることで吸光度を高め、光熱変換効率を上げることが有効であるが、従来の赤外 線吸収剤では添加比率を上がると非画線部の現像性が低下して印刷品質が劣化し たり、画像部の耐刷性が低下する傾向にあった。
特許文献 1：特公昭 52— 7364号公報
特許文献 2：特公昭 52— 3216号公報
特許文献 3 :米国特許第 5, 340, 699号明細書
特許文献 4:米国特許第 3, 779, 779号明細書
特許文献 5：特開昭 53— 133429号公報
特許文献 6：特開昭 60— 37549号公報
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0008] 本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、感度と印刷品質に 優れた、近赤外レーザ露光可能な、ネガ型及びポジ型の平版印刷版材料及びその 製造方法を提供することである。
課題を解決するための手段
[0009] 本発明の上記課題は、以下の手段により解決される。
1.親水性支持体上に、近赤外レーザ露光によりアルカリ溶解性が変化する画像形 成層を設けた平版印刷版材料において、該画像形成層が、赤外線吸収色素として、 少なくとも下記一般式 (IRD1)〜 (IRD3)のうちのいずれかで表される化合物群から 選ばれる化合物であって、かつメチルェチルケトン中での極大吸収波長が 700〜90 Onmである化合物を含有することを特徴とする平版印刷版材料。
[0010] 一般式 (IRD1)
[0011] [化 1]
Figure imgf000005_0001
[0012] (式中、 Z及び Zはそれぞれ酸素原子 (0)、硫黄原子 (S)、セレン原子 (Se)、又は
1 2
テルル原子 (Te)を表し、 R及び Rは水素原子、又はアルキル基を表す。 R及び R
5 6 7 8 は 1価の置換基を表し、 mが 2以上のとき近接する Rは互いに結合して環を形成して もよぐ nが 2以上のとき近接する Rは互いに結合して環を形成してもよい。 m及び n
8
は 0〜4の整数を表す。 )
[0013] [化 2] 一般式 (IRD2)
Figure imgf000005_0002
[0014] (式中、 R及び R は各々独立に水素原子または置換基を表す。 Z は 0、S、N— R
11 12 11
、 Seまたは Teを表し、 Rはアルキル基またはァリール基を表す。 Q は 6員の複素環
1 11
を表し、 A 及び A は各々独立に置換基を表す。但し、 A と A が互いに同一の置
11 12 11 12 換基であることはない。 )
[0015] [化 3] 般式 (IRD3)
Figure imgf000006_0001
[0016] (式中、 R 及び R は各々独立に水素原子または置換基を表す。 Z は 0、S、N— R
21 22 21 2
、 Seまたは Teを表し、 Rはアルキル基またはァリール基を表す。 Q は 6員の複素環
2 21
を表し、 A 及び A は各々独立に置換基を表す。但し、 A と A が互いに同一の置
21 22 21 22 換基であることはない。 B はアルキル基またはァリール基を表し、 X は分子内の電
21 21
荷を相殺するのに必要なイオンを表す。 nは 0または 1を表す。
2.前記一般式 (IRD2)、一般式 (IRD3)で表される化合物力 それぞれ下記一般式 (IRD4)、一般式 (IRD5)で表される化合物であることを特徴とする 1に記載の平版 印刷版材料。
[0017] [化 4] 般式 (IRD4)
Figure imgf000006_0002
[0018] (式中、 R 及び R は、各々独立に水素原子または置換基を表す。 Z は、 0、S、N
11 12 11
R、Seまたは Teを表し、 Rはアルキル基またはァリール基を表す。 A 及び A は
1 1 11 12
、各々独立に置換基を表す。但し、 A と A が互いに同一の置換基であることはない
11 12
。 Z は 0、 S、 N-R、 Seまたは Teを表し、 Rはアルキル基またはァリール基を表す
32 3 3
。A 及び A は各々独立に水素原子または置換基を表す。）
33 34
[0019] [化 5] —般式 (IRDS)
Figure imgf000007_0001
[0020] (式中、 R 及び R は各々独立に水素原子または置換基を表す。 Z は 0、 S、 N— R
21 22 21 2
、 Seまたは Teを表し、 Rはアルキル基またはァリール基を表す。 A 及び A は各々
2 21 22 独立に置換基を表す。但し、 A と A が互いに同一の置換基であることはない。 B
21 22 21 はアルキル基またはァリール基を表し、 X は分子内の電荷を相殺するのに必要なィ
21
オンを表す。 nは 0または 1を表す。 Z は 0、 S、 N-R、 Seまたは Teを表し、 Rはァ
42 4 4 ルキル基またはァリール基を表す。 A 及び A は各々独立に水素原子または置換基
43 44
を表す。）
3.前記一般式 (IRD4)、一般式 (IRD5)で表される化合物が、それぞれ下記一般式 (IRD6)、一般式 (IRD7)で表される化合物であることを特徴とする 2に記載の平版 印刷版材料。
[0021] [化 6] 一般式 (IRD6)
Figure imgf000007_0002
[0022] (式中、 R 及び R は各々独立に水素原子または置換基を表す。 Z は 0、 S、 N— R
11 12 11 1
、 Seまたは Teを表し、 Rはアルキル基またはァリール基を表す。 A 及び A は各々
1 11 12 独立に置換基を表す。但し、 A と A が互いに同一の置換基であることはない。 Z は
11 12 32
0、 S、 N-R、 Seまたは Teを表し、 Rはアルキル基またはァリール基を表す。 A 及
3 3 53 び A は各々独立に置換基を表す。但し、 A と A が互いに同一の置換基であること はない。 )
[0023] [化 7]
Figure imgf000008_0001
[0024] (式中、 R及び R は各々独立に水素原子または置換基を表す。 Z は 0、S、N— R
21 22 21
、 Seまたは Teを表し、 Rはアルキル基またはァリール基を表す。 Q は 6員の複素環
21
を表し、 A 及び A は各々独立に置換基を表す。但し、 A と A が互いに同一の置
21 22 21 22 換基であることはない。 B はアルキル基またはァリール基を表し、 X は分子内の電
21 21
荷を相殺するのに必要なイオンを表す。 nは 0または 1を表す。 Z は 0、 S、 N-R、 S
42 4 eまたは Teを表し、 Rはアルキル基またはァリール基を表す。 A及び A は各々独立
4 63 64 に置換基を表す。但し、 A と A が互いに同一の置換基であることはない。）
63 64
4.前記一般式 (IRD6)、一般式 (IRD7)で表される化合物が、それぞれ下記一般式 (IRD8)、一般式 (IRD9)で表される化合物であることを特徴とする 3に記載の平版 印刷版材料。
[0025] [化 8] 一般式 (IRD8)
Figure imgf000008_0002
(式中、 R及び R は各々独立に水素原子または置換基を表す。 A 及び A は各々
12 独立に置換基を表す。但し、 A と A が互いに同一の置換基であることはない。 A
53 及び A は各々独立に置換基を表す。但し、 A と A が互いに同一の置換基である
53 とはない。 )
[0027] [化 9] 一般式 <IRD9J
Figure imgf000009_0001
[0028] (式中、 R及び R は各々独立に水素原子または置換基を表す。 A 及び A は各々
21 22 21 22 独立に置換基を表す。但し、 A と A が互いに同一の置換基であることはない。 B
21 22 21 はアルキル基またはァリール基を表し、 X は分子内の電荷を相殺するのに必要なィ
21
オンを表す。 nは 0または 1を表す。 A及び A は各々独立に置換基を表す。但し、 A
63 64
と A が互いに同一の置換基であることはない。）
63 64
5.前記一般式 (IRD8)で表される化合物力 下記一般式 (IRD10)で表される化合 物であることを特徴とする 4に記載の平版印刷版材料。
[0029] [化 10] 般式 (IRDW)
Figure imgf000009_0002
[0030] (式中、 R及び R は各々独立に水素原子または置換基を表す。 X及び Xはそれぞ
11 12 1 2 れ独立にハロゲン原子を表す。 R はアルキル基を表す。）
31
6.前記親水性支持体が、電解研磨により粗面化したアルミ表面に陽極酸ィ匕被膜を 設けたものであり、かつ近赤外レーザ露光によりアルカリ溶解性が変化する前記画像 形成層が、少なくとも以下の化合物を含有することを特徴とする 1〜5のいずれか 1項 に記載の平版印刷版材料。 [0031] 1)アルカリ可溶性バインダー榭脂
2)架橋剤
3)熱により酸を発生する化合物
7.前記アルカリ可溶性バインダー榭脂がノボラック榭脂であることを特徴とする 6に 記載の平版印刷版材料。
8.前記架橋剤カ^ラミン榭脂であることを特徴とする 6または 7に記載の平版印刷版 材料。
9.前記熱により酸を発生する化合物がトリアジン類であることを特徴とする 6〜8のい ずれ力 1項に記載の平版印刷版材料。
10.前記電解研磨を塩酸浴中で行うことを特徴とする 6〜9のいずれか 1項に記載の 平版印刷版材料。
11.前記親水性支持体が、電解研磨により粗面化したアルミ表面に陽極酸ィ匕被膜を 設けたものであり、かつ近赤外レーザ露光によりアルカリ溶解性が変化する前記画像 形成層が、少なくとも以下の化合物を含有することを特徴とする 1〜5のいずれか 1項 に記載の平版印刷版材料。
[0032] 1)アルカリ可溶性バインダー榭脂
2)酸分解性化合物
3)熱により酸を発生する化合物
12.前記アルカリ可溶性バインダー榭脂がノボラック榭脂であることを特徴とする 11 に記載の平版印刷版材料。
13.前記熱により酸を発生する化合物がトリアジン類であることを特徴とする 11また は 12に記載の平版印刷版材料。
14.前記電解研磨を塩酸浴中で行うことを特徴とする 11〜13のいずれか 1項に記 載の平版印刷版材料。
15. 1〜14のいずれか 1項に記載の平版印刷版材料を製造する平版印刷版材料の 製造方法であって、少なくとも下記一般式 (IRD1)〜（IRD3)のうちのいずれかで表 される化合物群力 選ばれる化合物であり、かつメチルェチルケトン中での極大吸収 波長が 700〜900nmである化合物、をケトン系溶剤に溶解し、画像形成層用塗布 液を調製する工程および該画像形成層用塗布液を親水性支持体上に塗布するェ 程を有することを特徴とする平版印刷版材料の製造方法。
発明の効果
[0033] 本発明の上記構成により、感度と印刷品質 (耐刷性及び印刷汚し回復性）に優れ た、近赤外レーザ露光可能な、ネガ型及びポジ型の平版印刷版材料及びその製造 方法を提供することができる。
発明を実施するための最良の形態
[0034] 本発明の平版印刷版材料は、親水性支持体上に、近赤外レーザ露光によりアル力 リ溶解性が変化する画像形成層を設けた平版印刷版材料にぉ ヽて、該画像形成層 1S 赤外線吸収色素として、少なくとも前記一般式 (IRD1)〜（IRD3)のうちのいず れかで表される化合物群力 選ばれる化合物であって、かつメチルェチルケトン中で の極大吸収波長が 700〜900nmである化合物を含有することを特徴とする。
[0035] 以下、本発明とその構成要素等について詳細な説明をするが、先ずは、本発明に おいて特徴的な構成要素について説明し、その後に本発明の平版印刷版材料の典 型的態様にお!、て併用可能な種々の技術にっ 、て説明する。
[0036] (赤外線吸収剤）
〔一般式 (IRD1)で表される化合物〕
本発明においては、赤外線吸収剤として、少なくとも前記一般式 (IRD1)〜(IRD 10)のひとつで表され、メチルェチルケトン中での極大吸収波長が 700〜900nmで ある特定構造の化合物が使用される。
[0037] 一般式 (IRD1)中、 Z及び Zはそれぞれ酸素原子 (O)、硫黄原子 (S)、セレン原
1 2
子（Se)、又はテルル原子 (Te)を表し、 R及び Rは水素原子、又はアルキル基を表
5 6
す。 R及び Rは 1価の置換基を表し、 mが 2以上のとき近接する Rは互いに結合して
7 8 7
環を形成してもよぐ nが 2以上のとき近接する Rは互いに結合して環を形成してもよ
8
い。 m及び nは 0〜4の整数を表す。
[0038] R7および R8で表される一価の置換基としては、例えばアルキル基、シクロアルキ ル基、ァルケ-ル基、アルキニル基、ァリール基、複素環基、ハロゲン原子、シァノ基 が好ましく用いられる。 アルキル基としては、メチル基、ェチル基、プロピル基、イソプロピル基、 t—ブチル基 、ペンチル基、へキシル基、ォクチル基、ドデシル基、トリフルォロメチル基が挙げら れる。
[0039] シクロアルキルとしては、シクロペンチル基、シクロへキシル基が挙げられる。
ァルケ-ル基としては、ビュル基、 2—プロべ-ル基、 3—ブテュル基、 1ーメチルー 3 プロぺ-ル基、 3—ペンテ-ル基、 1ーメチルー 3—ブテュル基、へキセ-ル基、シク 口へキセ -ル基が挙げられる。
[0040] アルキ-ル基としては、プロパルギル基が挙げられる。
[0041] ァリール基としては、フエニル基、ナフチル基が挙げられる。
[0042] 複素環基としては、ピリジル基、チアゾリル基、ォキサゾリル基、イミダゾリル基が挙 げられる。ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。
[0043] 以下、一般式 (IRD1— 1)で表される化合物の好ま 、具体例を示す。なお、本発 明はこれらに限定されるものではない。
[0044] [化 11]
例示化合物 IRD1— 1
Figure imgf000013_0001
例示化合物 IRD1 2 例示化
Figure imgf000013_0002
例示化合物 IRD1 4
Figure imgf000013_0003
例示化合物 tRD1— 5
Figure imgf000013_0004
W 200 例示化合物 IRD1— S
Figure imgf000014_0001
例示化合物 fRD1—
Figure imgf000014_0002
例示化合物 IRD1— 8
Figure imgf000014_0003
例示化合物 IRD1 -9
Figure imgf000014_0004
例示化合物 iRD1— 10
Figure imgf000014_0005
046] [化 13] 例示化合物 IRD1— 11
Figure imgf000015_0001
例示化合物 iRD1— 13
Figure imgf000015_0002
例示化合物 IRD1— 14 例示化合物 IRD1— 15 例示化合物 iRD1— 16 例示化合物 IRD1— 17 例示化合物 IRD1— 18 例示化合物 IRD1— 19 例示化合物 IRD1— 20
Figure imgf000016_0001
例示化合物 IRD1— 21
例示化合物 IRD1— 22
例示化合物 IRD1— 23
Figure imgf000017_0001
Figure imgf000017_0002
〔一般式 (IRD2)で表される化合物〕
前記一般式 (IRD2)において、 R 及び R は各々独立に、水素原子または置換基
11 12
を表す。 R 及び R で表される置換基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アル
11 12
ケニル基、アルキュル基、ァリール基、複素環基、ハロゲン原子、シァノ基等が挙げら れる。好ましくは、水素原子、アルキル基またはァリール基であり、さらに好ましくは、 水素原子またはアルキル基である。 アルキル基としては、メチル基、ェチル基、プロピル基、イソプロピル基、 t—ブチル基 、ペンチル基、へキシル基、ォクチル基、ドデシル基、トリフルォロメチル基が挙げら れる。
[0050] シクロアルキルとしては、シクロペンチル基、シクロへキシル基が挙げられる。ァルケ -ル基としては、ビュル基、 2—プロべ-ル基、 3—ブテュル基、 1ーメチルー 3プロべ -ル基、 3—ペンテ-ル基、 1ーメチルー 3—ブテュル基、へキセ-ル基、シクロへキ セニル基が挙げられる。アルキ-ル基としては、プロパルギル基が挙げられる。 ァリ ール基としては、フエニル基、ナフチル基が挙げられる。複素環基としては、ピリジル 基、チアゾリル基、ォキサゾリル基、イミダゾリル基が挙げられる。ハロゲン原子として は、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。
[0051] Z は、 0、 S、 N—R、 Seまたは Teを表し、 Rはアルキル基またはァリール基を表
11 1 1
す。好ましくは、 0、 S、または N—Rであり、さらに好ましくは Oまたは Sである。 Rで
1 1 表されるアルキル基としては、メチル基、ェチル基、プロピル基、イソプロピル基、 t— ブチル基、ペンチル基、へキシル基、ォクチル基、ドデシル基、トリフルォロメチル基 が挙げられる。 Rで表されるァリール基としては、フエ-ル基、ナフチル基が挙げられ る。
[0052] Q は 6員の複素環を表し、複素環としては、ピリリウム、チォピリリウム、セレノピリリウ
11
ム、テノレノビリリウム、ピリジ-ゥム、ベンズピリリウム、ベンズチォピリリウム、ベンズセレ ノビリリウム等が挙げられる力 好ましくは、ピリリウム、チォピリリウムまたはセレノピリリ ゥムであり、さらに好ましくは、ピリリウムまたはチォピリリウムである。これらの複素環は 、置換基を有していてもよぐ置換基としては、アルキル基、シクロアルキル基、ハロゲ ン化アルキル基、ァルケ-ル基、アルキ-ル基、ァリール基、複素環基、ハロゲン原 子、シァノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アルコキシ基、ァリールォキシ基、シ リルォキシ基、ヘテロ環ォキシ基、ァシルォキシ基、力ルバモイルォキシ基、アルコキ シカルボ-ルォキシ基、ァリールォキシカルボ-ルォキシ基、アミノ基、ァ-リノ基、ァ シルァミノ基、ァミノカルボ-ルァミノ基、アルコキシカルボ-ルァミノ基、ァリールォキ シカルボ-ルァミノ基、スルファモイルァミノ基、アルキル及びァリールスルホ-ルアミ ノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、ァリールチオ基、ヘテロ環チォ基、スルファモイ ル基、スルホ基、アルキル及びァリールスルフィ-ル基、アルキル及びァリールスル ホ-ル基、ァシル基、ァリールォキシカルボ-ル基、アルコキシカルボ-ル基、カル バモイル基、ァリール及びへテロ環ァゾ基、イミド基、シリル基、ヒドラジノ基、ウレイド 基、ボロン酸基、ホスファト基、スルファト基、その他の公知の置換基が挙げられる。
[0053] A 及び A は、各々独立に置換基を表し、置換基としては、アルキル基、シクロア
11 12
ルキル基、ァルケ-ル基、アルキ-ル基、ァリール基、複素環基、ハロゲン原子、シァ ノ基等が挙げられ、これらの基は、さらに置換基を有していてもよい。但し、 A と A
11 12 が互いに同一の置換基であることはな 、。
アルキル基、シクロアルキル基、ァルケ-ル基、アルキ-ル基、ァリール基、複素環 基、ハロゲン原子としては、上記の R 、R と同様のものが挙げられる。
11 12
[0054] 〔一般式 (IRD3)で表される化合物〕
一般式 (IRD3)において、 R 及び R は各々独立に水素原子または置換基を表す
21 22
。 R 及び R で表される置換基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル
21 22
基、アルキニル基、ァリール基、複素環基、ハロゲン原子、シァノ基等が挙げられる。 好ましくは、水素原子、アルキル基またはァリール基であり、さらに好ましくは、水素原 子またはアルキル基である。
アルキル基、シクロアルキル基、ァルケ-ル基、アルキ-ル基、ァリール基、複素環 基、ハロゲン原子としては、上記の R 、R と同様のものが挙げられる。
11 12
[0055] Z は 0、 S、 N—R、 Seまたは Teを表し、 Rはアルキル基またはァリール基を表す
21 2 2
。好ましくは、 0、 S、または N—Rであり、さらに好ましくは Oまたは Sである。
2
アルキル基、ァリール基としては、上記の R 、R と同様のものが挙げられる。
11 12
[0056] Q は 6員の複素環を表し、複素環としては、ピリリウム、チォピリリウム、セレノピリリウ
21
ム、テノレノビリリウム、ピリジ-ゥム、ベンズピリリウム、ベンズチォピリリウム、ベンズセレ ノビリリウム等が挙げられる力 好ましくは、ピリリウム、チォピリリウムまたはセレノピリリ ゥムであり、さらに好ましくは、ピリリウムまたはチォピリリウムである。これらの複素環は 、置換基を有していてもよぐ置換基としては、アルキル基、シクロアルキル基、ハロゲ ン化アルキル基、ァルケ-ル基、アルキ-ル基、ァリール基、複素環基、ハロゲン原 子、シァノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アルコキシ基、ァリールォキシ基、シ リルォキシ基、ヘテロ環ォキシ基、ァシルォキシ基、力ルバモイルォキシ基、アルコキ シカルボ-ルォキシ基、ァリールォキシカルボ-ルォキシ基、アミノ基、ァ-リノ基、ァ シルァミノ基、ァミノカルボ-ルァミノ基、アルコキシカルボ-ルァミノ基、ァリールォキ シカルボ-ルァミノ基、スルファモイルァミノ基、アルキル及びァリールスルホ-ルアミ ノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、ァリールチオ基、ヘテロ環チォ基、スルファモイ ル基、スルホ基、アルキル及びァリールスルフィ-ル基、アルキル及びァリールスル ホ-ル基、ァシル基、ァリールォキシカルボ-ル基、アルコキシカルボ-ル基、カル バモイル基、ァリール及びへテロ環ァゾ基、イミド基、シリル基、ヒドラジノ基、ウレイド 基、ボロン酸基、ホスファト基、スルファト基、その他の公知の置換基が挙げられる。
[0057] A 及び A は各々独立に置換基を表し、置換基としては、アルキル基、シクロアル
21 22
キル基、ァルケ-ル基、アルキ-ル基、ァリール基、複素環基、ハロゲン原子、シァノ 基等が挙げられ、これらの基はさらに置換基を有していてもよい。但し、 A と A が互
21 22 いに同一の置換基であることはない。
アルキル基、シクロアルキル基、ァルケ-ル基、アルキ-ル基、ァリール基、複素環 基、ハロゲン原子としては、上記の R 、R と同様のものが挙げられる。
11 12
[0058] B は、アルキル基またはァリール基を表し、好ましくは、アルキル基である。アルキ
21
ル基、ァリール基としては、上記の R 、R と同様のものが挙げられる。 X は分子内
11 12 21 の電荷を相殺するのに必要なイオンを表す。 nは、 0または 1を表し、分子内塩を形成 する時は 0である。
[0059] 〔一般式 (IRD4)で表される化合物〕
一般式 (IRD4)で表される化合物で表される化合物は分子内塩である。前記一般 式 (IRD4)において、 R 及び R は、前記一般式 (IRD2)の R 及び R と同義である
11 12 11 12
[0060] Z は前記一般式 (IRD2)の Z と同義である。
11 11
[0061] A 及び A は、前記一般式 (IRD2)の A 及び A と同義である。
11 12 11 12
[0062] Z は 0、 S、 N—R、 Seまたは Teを表し、 Rはアルキル基またはァリール基を表す
32 3 3
。好ましくは、 0、 S、または N—Rであり、さらに好ましくは Oまたは Sである。
3
[0063] アルキル基、ァリール基としては、上記の R 、R と同様のものが挙げられる。 [0064] A 及び A は各々独立に水素原子または置換基を表し、置換基としては、アルキ
33 34
ル基、シクロアルキル基、ァルケ-ル基、アルキ-ル基、ァリール基、複素環基、ハロ ゲン原子、シァノ基等が挙げられ、これらの基はさらに置換基を有していてもよい。
[0065] アルキル基、シクロアルキル基、ァルケ-ル基、アルキ-ル基、ァリール基、複素環 基、ハロゲン原子としては、上記の R 、R と同様のものが挙げられる。
11 12
[0066] 〔一般式 (IRD5)で表される化合物〕
前記一般式 (IRD5)において、 R 及び R は前記一般式 (IRD3)の R 及び R と
21 22 21 22 同義である。
[0067] Z は、前記一般式 (IRD3)の Z と同義である。
21 21
[0068] A 及び A は、前記一般式 (IRD3)の A 及び A と同義である。
21 22 21 22
[0069] B は、前記一般式 (IRD3)の B と同義である。
21 21
[0070] X は、前記一般式 (IRD3)の X と同義である。
21 21
[0071] nは、前記一般式 (IRD3)の nと同義である。
[0072] Z は、 0、 S、 N—R、 Seまたは Teを表し、 Rはアルキル基またはァリール基を表
42 4 4
す。好ましくは、 0、 S、または N—Rであり、さらに好ましくは Oまたは Sである。
4
アルキル基、ァリール基としては、上記の R 、 R と同様のものが挙げられる。
11 12
[0073] A 及び A は、各々独立に水素原子または置換基を表し、置換基としては、アルキ
43 44
ル基、シクロアルキル基、ァルケ-ル基、アルキ-ル基、ァリール基、複素環基、ハロ ゲン原子、シァノ基等が挙げられ、これらの基は、さらに置換基を有していてもよい。 アルキル基、シクロアルキル基、ァルケ-ル基、アルキ-ル基、ァリール基、複素環 基、ハロゲン原子としては、上記の R 、R と同様のものが挙げられる。
11 12
[0074] 〔一般式 (IRD6)で表される化合物〕
一般式 (IRD6)で表される化合物は分子内塩である。
前記一般式 (IRD6)において、 R 及び R は、前記一般式 (IRD2)の R 及び R と
11 12 11 12 同義である。
[0075] Z は、前記一般式 (IRD2)の Z と同義である。
11 11
[0076] A 及び A は、前記一般式 (IRD2)の A 及び A と同義である。
11 12 11 12
[0077] Z は、一般式 (IRD4)の Z と同義である。 [0078] A 及び A は、各々独立に置換基を表し、置換基としては、アルキル基、シクロア
53 54
ルキル基、ァルケ-ル基、アルキ-ル基、ァリール基、複素環基、ハロゲン原子、シァ ノ基等が挙げられ、これらの基は、さらに置換基を有していてもよい。但し、 A と A
53 54 が互いに同一の置換基であることはな 、。
アルキル基、シクロアルキル基、ァルケ-ル基、アルキ-ル基、ァリール基、複素環 基、ハロゲン原子としては、上記の R 、R と同様のものが挙げられる。
11 12
[0079] 〔一般式 (IRD7)で表される化合物〕
前記一般式 (IRD7)において、 R 及び R は、前記一般式 (IRD3)の R 及び R と
21 22 21 22 同義である。
[0080] Z は、前記一般式 (IRD3)の Z と同義である。
21 21
[0081] A 及び A は、前記一般式 (IRD3)の A 及び A と同義である。
21 22 21 22
[0082] B は、前記一般式 (IRD3)の B と同義である。
21 21
[0083] X は、前記一般式 (IRD3)の X と同義である。
21 21
[0084] nは、前記一般式 (IRD3)の nと同義である。
[0085] Z は、前記一般式 (IRD5)の Z と同義である。
42 42
[0086] A 及び A は、各々独立に置換基を表し、置換基としては、アルキル基、シクロア
63 64
ルキル基、ァルケ-ル基、アルキ-ル基、ァリール基、複素環基、ハロゲン原子、シァ ノ基等が挙げられ、これらの基は、さらに置換基を有していてもよい。但し、 A と A
63 64 が互いに同一の置換基であることはな 、。
アルキル基、シクロアルキル基、ァルケ-ル基、アルキ-ル基、ァリール基、複素環 基、ハロゲン原子としては、上記の R 、R と同様のものが挙げられる。
11 12
[0087] 〔一般式 (IRD8)で表される化合物〕
前記一般式 (IRD8)において、 R 及び R は、前記一般式 (IRD2)の R 及び R と
11 12 11 12 同義である。
[0088] A 及び A は、前記一般式 (IRD2)の A 及び A と同義である。
11 12 11 12
[0089] A 及び A は、前記一般式 (IRD6)の A 及び A と同義である。
53 54 53 54
[0090] 〔一般式 (IRD9)で表される化合物〕
前記一般式 (IRD9)において、 R 及び R は、前記一般式 (IRD3)の R 及び R と
21 22 21 22 同義である。
[0091] A 及び A は、前記一般式 (IRD3)の A 及び A と同義である。
21 22 21 22
[0092] B は、前記一般式 (IRD3)の B と同義である。
21 21
[0093] X は、前記一般式 (IRD3)の X と同義である。
21 21
[0094] nは、前記一般式 (IRD3)の nと同義である。
[0095] A 及び A は、前記一般式 (IRD7)の A 及び A と同義である。
63 64 63 64
[0096] 〔一般式 (IRD10)で表される化合物〕
400〜700nmの吸収を低減するために、前記一般式 (IRD8)で表される化合物は 前記一般式 (IRD10)で表される化合物であることが好ま 、。
[0097] R 及び R は前記一般式 (IRD2)の R 及び R と同義であり、好ましくは水素原子
11 12 11 12
である。
[0098] X及び Xはそれぞれ独立にハロゲン原子を表し、好ましくは C1または Brであり、特
1 2
に好ましくは C1である。
[0099] R はアルキル基を表し、アルキル基としては、メチル基、ェチル基、 n—プロピル基
31
、 t ブチル基、 n—ォクチル基、 tーァミル基、 2—ェチルへキシル基、 2—クロロェチ ル基、 3, 3, 3—トリフリオ口プロピル基、 6—シァノへキシル基、シクロへキシル基、 4 —トリフリオロメチルシクロへキシル基等が挙げられる。好ましくは t—ブチル基であり 、特に好ましくは 2—アルコキシ 1, 1ージメチルェチル基である。アルコキシ基とし ては、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、 3 メチルブトキシ基、 2— ェチルへキシルォキシ基が挙げられる力 好ましくはイソブトキシ基、 3—メチルブトキ シ基または 2—ェチルへキシルォキシ基である。
[0100] 以下に、一般式 (IRD2)〜(IRD10)で表される化合物の具体例を示すが、本発明 はこれらに限定されるものではない。
[0101] [化 16]
Figure imgf000024_0001
[0102] [化 17]
Figure imgf000025_0001
[0103] [化 18]
Figure imgf000026_0001
[0104] [化 19] [OZ^ [90 TO]
Figure imgf000027_0001
0M0S0/Z.00Zdf/X3d 3 ひ 80/ん00 OAV
Figure imgf000028_0001

Figure imgf000029_0001
[0107] [化 22] [ZZ^ [8010]
Figure imgf000030_0001
0M0S0/ .00Zdf/X3d 83 ひ ££80/ム00 OAV z \ [6θΐο]
Figure imgf000031_0001
[S2^ ] [οπο]
Figure imgf000032_0001
OMOSO/.OOZdf/X3d OS Z^SC80/.00Z OAV
[9 ] [ΐΐΐθ]
Figure imgf000033_0001
sq-47 sq-48
Figure imgf000034_0001
[0112] 〔スクァリリウム化合物の合成例〕
本発明に用いられるスクァリリウム染料の合成方法を、以下の合成例で説明する。 合成例における全ての生成物の分子構造は、プロトン核磁気共鳴分析並びに質量 分析で確認した。
[0113] 合成例 1 :例示化合物 sq— 1
下記合成ルートにより例示化合物 sq— 1を得た。
[0114] [化 27]
Figure imgf000035_0001
中間体 c
[0115] (中間体 Aの合成）
水素化ナトリウム 7. Ogにエチレングリコールジメチルエーテル 70mlをカ卩ぇ加熱還 流を行った。 5, 5—ジメチルへキサン— 2, 4—ジオン (J. Amer. Chem. Soc. 195 0, 72, 1352— 1356に記載の方法で合成した） 5. Og及び安息香酸メチルエステル 7. 2gをエチレングリコールジメチルエーテル 70mlに溶解し、この溶液を加熱還流を 行っている溶液へ滴下した。滴下終了後、 6時間加熱還流を行った後、室温まで放 冷した。減圧濃縮により溶媒を留去した後、へキサン 70mlを加えた。反応溶液を氷 水冷却し、水 200mlをゆっくりと加えた。反応溶液を室温まで戻した後、水層を分取 し、へキサン 70mlで洗浄した。水層に濃塩酸を加え、 pHを 2にした後、酢酸ェチル 2 00mlで抽出を行った。有機層を分取後、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧ろ過で硫酸 ナトリウムを除いた。減圧濃縮で溶媒を留去することにより、中間体 Aを 6. 9gを得た。
[0116] (中間体 Bの合成）
水冷却下、硫酸 35mlに中間体 A6. 9gをカ卩え、室温で 1時間撹拌を行った。この反 応溶液を、氷水冷却した水 350mlに滴下し、析出結晶をろ取した。水 50mlで洗浄し 、乾燥すること〖こより、中間体 Bを 6. lg得た。
[0117] (中間体 Cの合成）
窒素雰囲気下、中間体 B5. 0gをテトラヒドロフラン 50mlに溶解した。この溶液を水 冷し、ヨウ化メチルマグネシウム（0. 84mol/L エーテル溶液）を滴下した。滴下終 了後、 3時間加熱還流を行った。反応溶液を氷水冷却し、水 300mlを徐々に加え、 次にテトラフルォロホウ酸 (42質量％水溶液） 50mlをカ卩えた。室温で 1時間撹拌した 後、析出結晶をろ取した。得られた結晶をメタノールで再結晶することにより、中間体 Cを 5. lg得た。
[0118] (例示化合物 sq— 1の合成）
中間体 C2. Og、 3, 4—ジヒドロキシ一 3—シクロブテン一 1, 2—ジオン 0. 36g、 n —プロパノール 20mlを順次混合し、加熱還流を 3時間行った。反応液を室温に戻し 、減圧濃縮で溶媒を留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィで精製することによ り、例示化合物 sq— 1を 0. 3g得た。
[0119] Mass :m/z 531 (M+)
λ max: 773. Onm (メチルェチルケトン中）
ε : 222, 000 (メチルェチルケ卜ン中）
合成例 2 :例示化合物 sq— 3
下記合成ルートにより例示化合物 sq— 3を得た。
[0120] [化 28]
例示化合物 sq— 3
Figure imgf000036_0001
中間体 B 中間体 D
[0121] (中間体 Dの合成）
窒素雰囲気下、中間体 B5. Ogをテトラヒドロフラン 50mlに溶解した。この溶液を水 冷し、臭化工チルマグネシウム (0. 96mol/L テトラヒドロフラン溶液)を滴下した。 滴下終了後、 3時間加熱還流を行った。反応溶液を氷水冷却し、水 500mlを徐々に 加え、次にテトラフルォロホウ酸 (42質量％水溶液） 50mlをカ卩えた。塩化メチレン 10 Omlを加え、室温で 2時間撹拌した後、有機層を分取した。分取した有機層を硫酸マ グネシゥムで乾燥した後、減圧ろ過で硫酸マグネシウムを除いた。減圧濃縮で溶媒を 留去した後、得られた結晶を酢酸ェチルで懸濁洗浄することにより、中間体 Dを 4. 6 g に。
[0122] (例示化合物 sq— 3の合成）
中間体 D3. Og、 3, 4—ジヒドロキシ一 3—シクロブテン一 1, 2—ジオン 0. 52g、 n —プロパノール 30ml、キノリン 3. 2gを順次混合し、 3時間加熱還流を行った。室温 まで放冷した後、析出結晶をろ取した。得られた結晶を塩化メチレン 200mlに溶解し 、不溶物を減圧ろ過で除いた。減圧濃縮で溶媒を留去した後、得られた結晶をメタノ ールで懸濁洗浄することにより、例示化合物 sq— 3を 850mg得た。
[0123] Mass : m/z 559 (M+)
λ max : 819. 5nm (メチルェチルケトン中）
ε : 150, 000 (メチルェチルケ卜ン中）
合成例 3 :例示化合物 sq— 6
下記合成ルートにより例示化合物 sq— 6を得た。
[0124] [化 29]
Figure imgf000037_0001
(中間体 Eの合成）
水素化ナトリウム 9. 8gにエチレングリコールジメチルエーテル 140mlをカ卩ぇ加熱還 流を行った。 5, 5—ジメチルへキサン— 2, 4—ジオン (J. Amer. Chem. Soc. 195 0, 72, 1352— 1356に記載の方法で合成した） 7. Og及び 4—デシルォキシ安息香 酸メチルエステル 20. 5gをエチレングリコールジメチルエーテル 140mlに溶解し、こ の溶液を加熱還流を行っている溶液へ滴下した。滴下終了後、 6時間加熱還流を行 つた後、反応溶液を室温まで放冷した。減圧濃縮した後、反応溶液を氷水冷却し、 水 400mlをゆっくりと加えた。氷水冷却下で 1時間撹拌した後、析出結晶をろ取し、 水で洗浄した。得られた結晶を酢酸ェチル 200mlに懸濁させた後、水 200ml、濃塩 酸を順次加えて pHを 1とした。有機層を分取した後、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧ろ 過で硫酸ナトリウムを除去した。減圧濃縮を行い、残渣にへキサン 100mlを加え、室 温で 1時間撹拌を行った。減圧ろ過で結晶を除去した後、ろ液を氷水冷却し、 2時間 撹拌を行った。析出結晶をろ取、乾燥すること〖こより、中間体 Eを 8. 8g得た。
[0126] (中間体 Fの合成）
氷水冷却下、硫酸 80mlに中間体 E8. 8gをカ卩え、 1時間撹拌を行った。この反応溶 液を、氷水冷却した水 800mlに滴下した。酢酸ェチル 200mlで抽出した後、有機層 を硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧濃縮で溶媒を留去した後、残渣をシリカゲル力 ラムクロマトグラフィで精製すること〖こより、中間体 Fを 4. Og得た。
[0127] (中間体 Gの合成）
窒素雰囲気下、中間体 F2. 8gをテトラヒドロフラン 28mlに溶解した。この溶液を水 冷し、ヨウ化メチルマグネシウム 13ml (0. 84M エーテル溶液）を滴下した。滴下終 了後、 3時間加熱還流を行った。反応溶液を氷水冷却し、水 140mlを徐々に加え、 次にテトラフルォロホウ酸 (42質量％水溶液） 28mlをカ卩えた。室温で 2時間 撹拌した後、析出結晶をろ取した。得られた結晶をへキサンで再結晶することにより、 中間体 Gを 2. 4g得た。
[0128] (例示化合物 sq— 6の合成）
中間体 G2. 4g、 3, 4—ジヒドロキシ一 3—シクロブテン一 1, 2—ジオン 0. 28g、 n —プロパノール 25ml、キノリン 1. 7gを順次混合し、加熱還流を 3時間行った。反応 溶液を室温に戻し、 3時間撹拌を行った後、析出結晶をろ取した。ろ取した結晶を塩 ィ匕メチレン 50mlに溶解した後、有機層を水 50mlで洗浄した。有機層を硫酸ナトリウ ムで乾燥し、減圧ろ過で硫酸ナトリウムを除去した。減圧濃縮で溶媒を留去した後、 残渣をエタノールで懸濁洗浄することにより、例示化合物 sq— 6を 1. Og得た。
[0129] Mass : m/z 844 (M+)
λ max : 779. 5nm (メチルェチルケトン中）
ε : 287, 000 (メチルェチルケ卜ン中）
合成例 4：例示化合物 sq— 36
下記合成ルートにより例示化合物 sq— 36を得た。
[0130] [化 30]
(CH30)2S02/CH2CI2 ―
例示化合物 sq— β 例示化合物 sq— 36
[0131] 例示化合物 sq— 6 1. 7gを塩化メチレン 18mlに溶解し、ジメチル硫酸 1. 5gをカロ え、 6時間加熱還流を行った。次に反応溶液を室温で 24時間撹拌した後、ナトリウム メトキシド (メタノール 28質量％溶液） 1. 9gをゆっくりと滴下した。滴下終了後、室温 で 4時間撹拌した後、水 15ml、テトラフルォロホウ酸 (42質量％水溶液） 3. 5mlを順 次加え、さらに 1時間撹拌を行った。有機層を分取し、硫酸ナトリウムで乾燥した後、 減圧ろ過で硫酸ナトリウムを除去した。減圧濃縮で溶媒を留去した後、塩化メチレン とジイソプロピルエーテルの混合溶媒で再結晶することにより、例示化合物 sq— 36を 1. 6g得た。
[0132] 例示化合物 sq— 36
λ max : 784. 5nm (メチルェチルケトン中）
ε : 224, 000 (メチルェチルケ卜ン中）
他のスクァリリウム染料についても同様の方法で合成した。
[0133] 例示化合物 sq— 43
λ max : 785. 5nm (メチルェチルケトン中）
ε : 236, 000 (メチルェチルケトン中）
前記化合物は、画像形成層 (感光性層）を構成する全組成の 0. 1〜10質量％、好 ましくは 0. 3〜5%の範囲で添加されることが好ましい。 0. 1質量％未満では十分な 感度を得ることが難しぐ 10質量％を超えると現像性ゃ耐刷性が低下する。
[0134] 画像形成層は、露光するレーザ光の波長に於ける透過吸光度が 0. 1〜2. 0の範 囲にあることが、感度、現像性、耐刷性の観点から、好ましい。
[0135] (親水性支持体）
本発明に係る親水性支持体としては、例えば、アルミニウム、亜鉛、銅、ステンレス、 鉄等の金属板;ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリビニルァセタール
、ポリエチレン等のプラスチックフィルム;合成樹脂を溶融塗布あるいは合成樹脂溶 液を塗布した紙、プラスチックフィルムに金属層を真空蒸着、ラミネート等の技術によ り設けた複合材料；その他印刷版の支持体として使用されて 、る材料が挙げられる。 これらのうち、特にアルミニウムおよびアルミニウムが被覆された複合支持体の使用 力 強度、質量、取り扱い性の面力 好ましい。
[0136] 支持体の厚みは、 100〜350 μ mが好ましぐ特に好ましくは 150〜300 μ mであ る。
[0137] アルミニウム支持体の表面は、保水性を高め、画像形成層との密着性を向上させる 目的で表面処理されていることが望ましい。そのような表面処理としては、例えば、ブ ラシ研磨法、ボール研磨法、電解エッチング、化学的エッチング、液体ホー-ング、 サンドブラスト等の粗面化処理、およびこれらの組み合わせが挙げられる。これらの 中でも、特に電解エッチングの使用を含む粗面化処理が好ましい。電解エッチング の際に用いられる電解浴としては、酸、アルカリまたはそれらの塩を含む水溶液ある いは有機溶剤を含む水性溶液が用いられる。これらの中でも、特に、塩酸、又は塩酸 の塩を含む電解液が好ましい。さら〖こ、粗面化処理の施されたアルミニウム支持体は 、必要に応じて酸またはアルカリの水溶液にてデスマット処理される。このようにして 得られたアルミニウム支持体は、陽極酸ィ匕処理されることが望ましい。特に、硫酸また はリン酸を含む浴で処理する陽極酸化処理が望ましい。
[0138] 表面の陽極酸化量は、 2. 0〜6g/m2が好ましぐ特に好ましくは 2. 5〜5g/m2で ある。
[0139] また、必要に応じて、陽極酸化被膜表面を、ケィ酸塩処理、フッ化ジルコニウム酸力 リウム処理、ホスホモリブデート処理、ポリアクリル酸処理、ポリビニルスルホン酸処理 、ホスホン酸処理、ポリビュルホスホン酸処理、等を行うことができる。
[0140] くアルカリ可溶性バインダー榭脂〉
本発明の平版印刷版材料のネガ型及びポジ型画像形成層 (感光性層）に用いられ るアルカリ可溶性バインダー榭脂としては、例えばノボラック榭脂ゃヒドロキシスチレン 単位を有する重合体や下記一般式 (ASP)で表される構造単位を有する重合体、そ の他公知のアクリル榭脂等を挙げることができる。
[0141] 一般式 (ASP)
[0142] [化 31]
Figure imgf000041_0001
[0143] 上記一般式 (ASP)にお 、て、 R1及び R2はそれぞれ、水素原子、メチル基ゃェチ ル基等のアルキル基又はカルボン酸基を表し、好ましくは水素原子である。 R3は水 素原子、塩素原子や臭素原子等のハロゲン原子又はメチル基、ェチル基等のアル キル基を表し、好ましくは水素原子又はメチル基である。 R4は水素原子、メチル基や ェチル基等のアルキル基、フエニル基又はナフチル基を表す。 Yは置換基を有すも のも含むフエ-レン基又はナフチレン基を表し、置換基としてはメチル基やェチル基 等のアルキル基、塩素原子や臭素原子等のハロゲン原子、カルボン酸基、メトキシ基 やエトキシ基等のアルコキシ基、水酸基、スルホン酸基、シァノ基、ニトロ基、ァシル 基等が挙げられる力 好ましくは置換基を有しないか、あるいはメチル基で置換され ているものである。 Wは窒素原子と芳香族炭素原子とを連結する 2価の有機基で、 p は 0〜5の整数を表し、好ましくは pが 0のときである。
[0144] 一般式 (ASP)で表される構造単位を有する重合体とは、該構造単位のみの繰り返 し構造を有する単独重合体、ある!ヽは該構造単位と他のビニル系単量体の不飽和 二重結合を開裂せしめた構造で示される構造単位 1種以上とを組み合わせた共重 合体である。
[0145] 前記一般式 (ASP)で表される構造単位を有する重合体は、さらに具体的に、例え ば (a)〜 (h)で表すことができる。 [0146] [化 32]
Figure imgf000042_0001
[0147] (a)〜（h)にお 、て、 R それぞれ水素原子、アルキル基又はハロゲン原子を
1〜Rは
5
表し、 Xはアルキル基又はハロゲン原子を表す。また m、 n、 1、 k及び sはそれぞれの 構造単位のモル％を表す。 *は上記一般式 (ASP)で表される構造単位を表す。
[0148] 該ノポラック榭脂としては、例えばフエノール'ホルムアルデヒド榭脂、タレゾール 'ホ ルムアルデヒド榭脂、特開昭 55— 57841号公報に記載されているようなフエノール' クレゾ一ル'ホルムアルデヒド共重縮合体樹脂、特開昭 55— 127553号公報に記載 されているような、 p—置換フエノールとフエノールもしくは、タレゾールとホルムアルデ ヒドとの共重縮合体榭脂等が挙げられる。 [0149] ヒドロキシスチレン単位を有する重合体としては、例えば特公昭 52— 41050号公 報に記載されているポリヒドロキシスチレンゃヒドロキシスチレン共重合体などを挙げ ることがでさる。
また、ノボラック榭脂、ヒドロキシスチレン単位を有する重合体、及び前記一般式 (AS P)で表される構造単位を有する重合体は併用することもできる。
アルカリ可溶性榭脂の使用量は、ネガ型又はポジ型感光性組成物の固形分に対し て 20〜90質量％の範囲が好ましい。また、必要に応じて、 2種以上のアルカリ可溶 性榭脂を併用してもよい。
[0150] なお、本発明においては、本発明の目的効果の観点から、アルカリ可溶性バインダ ー榭脂が特にノボラック榭脂を主成分とする榭脂であることが好ましい。
[0151] (酸により活性化される架橋剤:ネガ型画像形成層組成物）
本発明に係る架橋剤は、酸により活性化される架橋剤である。
本発明の平版印刷版材料のネガ型画像形成層 (感光性層）に用いられる「酸により 活性化される架橋剤」、即ち、酸の存在下でアルカリ可溶性榭脂と架橋しアルカリに 対する溶解性を低減する架橋剤としては、メチロール基またはメチロール基の誘導体 、メラミン榭脂、フラン榭脂、イソシァネート、ブロックドイソシァネート (保護基を有すィ ソシァネート)などがあげられるが、メラミン榭脂、又はメチロール基またはァセチルイ匕 メチロール基を有している架橋剤が好ましい。なお、本発明においては、特に、酸に より活性化される架橋剤がメラミン榭脂であることが好ましい。
[0152] 酸により架橋する化合物の使用量は、ネガ型感光性組成物の固形分に対して 5〜 70質量％の範囲が好ましい。また、必要に応じて、 2種以上の酸により架橋する化合 物を併用してもよい。
[0153] (熱により酸を発生する化合物）
本発明に係る「熱により酸を発生する化合物」（以下、単に酸発生剤とも言う）として は、例えば、アンモ-ゥム塩、ホスホ-ゥム塩、ョードニゥム塩、スルホ -ゥム塩等の公 知のォユウム塩、有機ハロゲンィ匕合物等が挙げられる。特に、高い感度が得られる点 で、トリハロアルキル化合物およびジァゾ -ゥム塩化合物が好適に用いられる。また、 必要に応じて、 2種以上の熱により酸を発生する化合物 (酸発生剤）を併用してもよい [0154] トリノ、口アルキルィ匕合物としては、例えば、米国特許第 4239850号明細書に記載 されているトリハロメチルー s—トリアジン系化合物、ォキサジァゾール系化合物、トリ ブロモメチルスルホニル化合物などが好ましい。
[0155] 本発明において、酸発生剤として有機ハロゲン化合物が赤外線露光による画像形 成における感度及び画像形成材料の保存性の面から好ま ヽ。該有機ハロゲン化 合物としては、ハロゲン置換アルキル基を有するトリアジン類及びハロゲン置換アル キル基を有するォキサジァゾール類が好ましく、ハロゲン置換アルキル基を有する s -トリァジン類が特に好ま 、。
[0156] ハロゲン置換アルキル基を有するォキサジァゾール類の具体例としては、特開昭 5 4— 74728号、特開昭 55— 24113号、特開昭 55— 77742号、特開昭 60— 3626 号及び特開昭 60— 138539号各公報に記載の 2—ハロメチル— 1, 3, 4—ォキサジ ァゾール系化合物が挙げられる。 2—ハロメチルー 1, 3, 4 ォキサジァゾ一ル系酸 発生剤の好まし 、ィ匕合物例を下記に挙げる。
[0157] [化 33]
Figure imgf000044_0001
[0158] 上記ハロゲン置換アルキル基を有する s—トリアジン類としては、下記一般式 (TZN
)で表される化合物が好ま 、。
[0159] [化 34] -般式 <TZN) r
N人 M
x3c义入 X3
[0160] 一般式 (TZN)にお!/、て、 Rはアルキル基、ハロゲン置換アルキル基、アルコキシ基 、置換または未置換のスチリル基、置換または未置換のァリール基 (例えばフエニル 基、ナフチル基等)若しくはその置換体を表し、 Xはハロゲン原子を表す。
[0161] 一般式 (TZN)で表される s—トリアジン系酸発生剤の化合物例を次に示す。
[0162] [化 35]
Figure imgf000046_0001
36]
Figure imgf000047_0001
[0164] 酸発生剤の使用量は、架橋性、感度、耐刷性の観点から、ネガ型感光性組成物の 固形分に対して 0. 01〜50質量％の範囲が好ましぐ 0. 1〜20質量％の範囲が特 に好ましい。
[0165] <酸分解性化合物：ポジ型画像形成層組成物 >
本発明に係る酸分解性ィ匕合物は、酸により分解し得る結合を有する化合物であり、 特にポジ型平版印刷版材料に用いられる。
[0166] 本発明に係る酸分解性ィ匕合物としては、具体的には、特開昭 48— 89003号、同 5 1— 120714号、同 53— 133429号、同 55— 12995号、同 55— 126236号、同 56 — 17345号の明細書中に記載されて 、る C— O— C結合を有する化合物、特開昭 6 0— 37549号、同 60— 121446号の明細書中に記載されている Si— O— C結合を 有する化合物、特開昭 60— 3625号、同 60— 10247号の明細書中に記載されてい るその他の酸分解性ィ匕合物。さらにまた特開昭 62— 222246号の明細書中に記載 されている Si— N結合を有する化合物、特開昭 62— 251743号の明細書中に記載 されている炭酸エステル、特開昭 62— 209451号の明細書中に記載されているオル ト炭酸エステル、特開昭 62— 280841号の明細書中に記載されて 、るオルトチタン 酸エステル、特開昭 62— 280842号の明細書中に記載されて!、るオルトケィ酸エス テル、特開昭 63— 10153号の明細書中に記載されているァセタール及びケタール 、特開昭 62— 244038号の明細書中に記載されて 、る C - S結合を有する化合物な どを用いることができる。
[0167] 上記のうち、前記特開昭 53— 133429号、同 56— 17345号、同 60— 121446号 、同 60— 37549号各公報及び特開昭 62— 209451号、同 63— 10153号各明細 書に記載されて 、る C O— C結合を有する化合物、 Si— O— C結合を有する化合 物、オルト炭酸エステル、ァセタール類、ケタール類及びシリルエーテル類が好まし い。
[0168] それらの中でも、特開昭 53— 133429号公報に記載された主鎖中に繰り返しァセ タール又はケタール部分を有し、現像液中でのその溶解度が酸の作用によって上昇 する有機重合化合物、及び特開昭 63— 10153号公報に記載の化合物が特に好ま しい。
[0169] 本発明に係る酸分解性物の好ま 、ィ匕合物としては下記一般式 (ADC— 1)で表さ れる化合物を挙げることができる。
[0170] [化 37] 一般式 (ADC— 1 }
Ri
R3-0-C-0-R
R2 [0171] (式中、 R、 R、 R、 Rは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、ァリール基で
1 2 3 4
互いに結合して環状となっていてもよい。 )
更に好ま 、ものとしては、下記一般式 (ADC— 2)の化合物がある。
[0172] [化 38]
—般式 (ADC— 2)
Figure imgf000049_0001
[0173] (式中、 R、 R、は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、ァリール基で互いに
5 6
結合して環状となっていてもよい。また、 Rはアルキレン基、シクロアルキレン基、ァリ
7
一レン基であり、 n, mは 1以上の整数である。 )
本発明に係る酸分解性化合物の含有量は、画像形成層を形成する組成物の全固 形分に対し、 5〜70質量％が好ましぐ特に好ましくは 10〜50質量％である。本発 明の酸分解性ィ匕合物は 1種を単独で用いてもよいし、 2種以上を混合して用いてもよ い。
[0174] 以下に酸分解性ィ匕合物の好ま 、具体例を示す。
[0175] [化 39]
酸分解性化合物 A
Figure imgf000050_0001
酸分解性化合物 B
Figure imgf000050_0002
Mw= 1200 酸分解性化合物 c
Figure imgf000050_0003
[0176] (塗布）
本発明に係る画像形成層用の塗布液を調製する際に使用する溶剤としては、例え ば、アルコール類：メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、 sec—ブ タノール、イソブタノール、 n キサノール、ベンジルアルコール、ジエチレングリコ ール、トリエチレングリコール、テトラエチレンダリコール、 1, 5—ペンタンジオール等； エーテノレ類：プロピレングリコーノレモノメチノレエーテル、プロピレングリコーノレモノメチ ノレエーテノレアセテート、プロピレングリコーノレモノェチノレエーテノレ、プロピレングリコー ルモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレング リコールモノメチルエーテル等；ケトン類：アセトン、メチルェチルケトン、メチルイソブ チルケトン、ジアセトンアルコール、シクロペンタノン、ジォキソラン、シクロへキサノン 、メチルシクロへキサノン、 γ —ブチロラタトン等；エステル類：乳酸ェチル、乳酸ブチ ル、シユウ酸ジェチル、安息香酸メチル、酢酸ェチル等が好ましく挙げられる。
[0177] 特に、本発明においては、塗布溶剤として、上記の溶剤のうちケトン系溶剤を主成 分とする溶剤を使用することが好ましい。 [0178] 調製された塗布組成物 (画像形成層塗布液）は、従来公知の方法で支持体上に塗 布し、乾燥し、光重合性感光性平版印刷版材料を作製することができる。塗布液の 塗布方法としては、例えばエアドクタコータ法、ブレードコータ法、ワイヤバー法、ナイ フコータ法、ディップコータ法、リバースロールコータ法、グラビヤコータ法、キャストコ 一ティング法、カーテンコータ法及び押し出しコータ法等を挙げることができる。
[0179] 画像形成層（感光性)層の乾燥温度は、 60〜160°Cの範囲が好ましぐより好ましく は 80〜140°C、特に好ましくは 90〜120°Cの範囲である。
[0180] (製版および印刷）
本発明の感光性平版印刷版材料は、画像露光により画像形成され必要に応じ現 像処理を施されて、印刷に供される。
[0181] 本発明の平版印刷版材料には波長 700nm以上の光源を用い画像露光を行う。光 源としては、半導体レーザ、 He— Neレーザ、 YAGレーザ、炭酸ガスレーザ等が挙 げられる。出力は 50mW以上が適当であり、好ましくは lOOmW以上である。
[0182] 一括露光する場合には、画像形成層 (感光性層）上に、所望の露光画像のネガパ ターンを遮光性材料で形成したマスク材料を重ね合わせ、露光すればよ!、。
[0183] 発光ダイオードアレイ等のアレイ型光源を使用する場合や、ハロゲンランプ、メタル ノ、ライドランプ、タングステンランプ等の光源を、液晶、 PLZT等の光学的シャッター 材料で露光制御する場合には、画像信号に応じたデジタル露光をすることが可能で あり好ましい。この場合は、マスク材料を使用せず、直接書込みを行うことができる。
[0184] レーザー露光の場合には、光をビーム状に絞り画像データに応じた走査露光が可 能なので、マスク材料を使用せず、直接書込みを行うのに適している。又、レーザー を光源として用いる場合には、露光面積を微小サイズに絞ることが容易であり、高解 像度の画像形成が可能となる。
[0185] レーザーの走査方法としては、円筒外面走査、円筒内面走査、平面走査などがあ る。円筒外面走査では、記録材料を外面に巻き付けたドラムを回転させながらレーザ 一露光を行い、ドラムの回転を主走査としレーザー光の移動を副走査とする。円筒内 面走査では、ドラムの内面に記録材料を固定し、レーザービームを内側力も照射し、 光学系の一部又は全部を回転させることにより円周方向に主走査を行い、光学系の 一部又は全部をドラムの軸に平行に直線移動させることにより軸方向に副走査を行う 。平面走査では、ポリゴンミラーやガルバノミラーと f Θレンズ等を組み合わせてレー ザ一光の主走査を行い、記録媒体の移動により副走査を行う。円筒外面走査及び円 筒内面走査の方が光学系の精度を高め易ぐ高密度記録には適している。
[0186] 画像露光後の印刷版材料は、自動現像機を用いて現像処理する。
[0187] <現像液 >
本発明の平版印刷版材料の現像に用いられる現像液としては、水系アルカリ現像 液が好適である。水系アルカリ現像液 (以下、本発明に係る現像液という。）は例えば 、水酸化ナトリウム、水酸ィ匕カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、メタケイ酸ナトリウ ム、メタケイ酸カリウム、第二リン酸ナトリウム、第三リン酸ナトリウム等のアルカリ金属 塩の水溶液が挙げられる前記アルカリ金属塩の濃度は 0. 05〜20質量％の範囲で 用いるのが好適であり、より好ましくは、 0. 1〜10質量％である。本発明の画像形成 方法において、現像液には、必要に応じァニオン性界面活性剤、両性界面活性剤、 キレート剤、アルコール等の有機溶剤、を加えることができる。有機溶剤としては、プ ロピレングリコール、エチレングリコーノレモノフエ-ノレエーテル、ベンジンアルコール、 n—プロピルアルコール等が有用である。
[0188] 現像液の温度は、 15〜40°Cの範囲が好ましぐ好ましくは 25〜35°Cである。浸漬 時間は 1秒〜 2分の範囲が好ましぐ 10〜45秒が特に好ましい。
[0189] 必要に応じて、現像中にブラシ、モルトン等で画像形成層（感光性層）表面を擦るこ ともできる。現像を終えた平版印刷版は、水洗および Zまたは水系の不感脂化剤に よる処理が施される。
[0190] 水系の不感脂化剤としては、例えば、アラビアゴム、デキストリン、カルボキシメチル セルロースの如き水溶性天然高分子や、ポリビュルアルコール、ポリビュルピロリドン
、ポリアクリル酸の如き水溶性合成高分子、などの水溶液が挙げられる。
[0191] 必要に応じて、これらの水系の不感脂化剤に、酸や界面活性剤等が加えることもで きる。不感脂化剤による処理が施された後、平版印刷版は乾燥され、印刷刷版として 印刷に使用される。
[0192] 印刷は、一般的な平版印刷機を用いて行うことができる。 [0193] 近年印刷業界においても環境保全が叫ばれ、印刷インキにおいては石油系の揮 発性有機化合物 (VOC)を使用しないインキが開発されその普及が進みつつあるが 、本発明の効果はこのような環境対応の印刷インキを使用した場合に特に顕著であ る。環境対応の印刷インキとしては大日本インキ化学工業社製の大豆油インキ"ナチ ユラリス 100"、東洋インキ社製の VOCゼロインキ" TKノヽィエコー NV"、東京インキ社 製のプロセスインキ"ソイセルポ"等があげられる。
実施例
[0194] 以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明の態様はこれに限定さ れない。
[0195] <実施例 1 >
<支持体の作製 >
厚さ 0. 24mmのアルミニウム板 (材質 1050、調質 H16)を 5%苛性ソーダ水溶液 中で 60°Cで 1分間脱脂処理を行った後、 0. 5モル ZLの塩酸水溶液中で温度 25°C 、電流密度 60AZdm2、処理時間 30秒の条件で電解エッチング処理を行った。
[0196] 次いで、 5%苛性ソーダ水溶液中で 60°C、 10秒間のデスマット処理を施した後、 2 0%硫酸溶液中で温度 20°C、電流密度 3AZdm2、処理時間 1分間の条件で陽極酸 化処理を行った。形成された陽極酸化皮膜量は、 3. 5g/m2であった。
[0197] 更に、 30°Cの熱水で 20秒間、熱水封孔処理を行!、、平版印刷版材料用支持体の アルミニウム板を作製した。
[0198] <平版印刷版材料の作製 >
1.ネガ型
上記支持体上に、下記組成力も成るネガ型感光性組成物を、ワイヤバーを用いて 乾燥膜厚 1. 5g/m2になるように塗布した。塗布溶剤は、 80°Cの温風循環型ドライ ヤー中に 60秒保持して乾燥させ、平版印刷版材料 (N— 1)を作製した。
[0199] ノボラック榭脂（ボーデン社製 DURITE PD—140A) 82質量部
架橋剤（三井サイナイド社製 CYMEL 303LF) 8質量部 酸発生剤（例示化合物 8 Triazine-S) 6質量部
赤外線吸収色素（例示化合物 IRD— 1) 3質量部 可視画染料 (オリエント化学工業製 OIL BLUE 613) 1質量部 シクロへキサノン 1000質量言
得られた、平版印刷版材料を、半導体レーザヘッドを搭載した市販の CTPセッター (大日本スクリーン製造株式会社製 PTR— 4300)を用い、ドラム回転数 lOOOrpm 、レーザ出力を変化させて、解像度 2400dpi (dpiとは 1インチ即ち 2. 54cm当たりの ドット数を表す。 )で 175線相当の網点画像露光を行った。
[0200] 露光後の版を 105°Cのオーブンで 3分間加熱した後、自動現像機 (PK— 910、コ ダックポリクロームグラフィックス (株)製)および現像液 (PD1 (コダックポリクロームダラ フィックス (株)製)の 1： 5希釈溶液)を用いて 30°Cで 25秒間、現像処理を行った。
[0201] 2.ポジ型
上記支持体上に、下記組成力も成るポジ型感光性組成物を、ワイヤバーを用いて 乾燥膜厚 2. Og/m2になるように塗布した。塗布溶剤は、 120°Cの温風循環型ドライ ヤー中に 60秒保持して乾燥させ、平版印刷版材料 (P- 1)を作製した。
[0202] ノボラック榭脂（* ) 70質量部
*フエノールと m— , p—混合タレゾールとホルムアルデヒドとの共縮合化合物（ Mn= 500、 Mw= 2500、フエノールと m— , Ρ— ,タレゾールのモル比がそれぞれ 2 0 :48 : 32)
酸分解性物 A 20質量部
酸発生剤（例示化合物 8 Triazine-S) 6質量部
赤外線吸収色素（例示化合物 IRD— 1) 3質量部 可視画染料 (オリエント化学工業製 OIL BLUE 613) 1質量部 プロピレンダルコールモノメチルエーテル 1000質量部 得られた、平版印刷版材料を、半導体レーザヘッドを搭載した市販の CTPセッター (大日本スクリーン製造株式会社製 PTR— 4300)を用い、ドラム回転数 lOOOrpm 、レーザー出力 30〜 100%に変化させて、解像度 2400dpiで 175線相当の網点画 像露光を行った。
[0203] 露光後の版は、自動現像機（Raptor 85 Thermal GLUNZ & JENSEN社 製）、および以下の組成の現像液を用いて 30°Cで 30秒間、現像処理を行った。 [0204] <現像液〉
[0205] [表 1]
Figure imgf000055_0001
[0206] <実施例 2>
実施例 1の赤外線吸収色素、及び酸発生剤、酸分解性化合物を以下のように替え た以外は、実施例 1と同様にして平版印刷版材料を作製し、露光、現像処理を行つ た。
[0207] [表 2]
Figure imgf000055_0002
[0208] <比較例 >
実施例 1の赤外線吸収色素を以下の比較染料 C化合物に替えた以外は、実施例 1 と同様にして平版印刷版材料 (N— 7 P— 8)を作製し、露光、現像処理を行った。
[0209] [化 40] 比
Figure imgf000056_0001
216140号公報記載の化合物
[0210] <評価 >
(感度）
ネガ型平版印刷材料の感度は、レーザの露光エネルギーを変化させながら、 100 %ベタ画像露光後、現像した画像の各エネルギーの濃度を濃度計〔D196： GRET AG社製〕で測定する。感材の飽和ベタ濃度飽和ベタ濃度 X 0. 95となるエネルギー 量を感度とした。
[0211] ポジ型の平版印刷版材料の感度は、レーザの露光エネルギーを変化させながら、 100%ベタ画像露光後、現像した画像の各エネルギーの濃度を濃度計〔D196： GR ETAG社製〕で測定する。現像後の濃度が、未塗布部の支持体濃度 + 0. 01となる エネルギー量を感度とした。
[0212] (耐刷性）
175線の画像を上記で求めた感度の 1. 3倍の露光量で露光し、現像し作製した平 版印刷版を、印刷機 (三菱重工業 (株)製 DAIYA1F— 1)で、コート紙、印刷インキ（ 大日本インキ化学工業社製の、大豆油インキ"ナチユラリス 100")及び湿し水 (東京 インク (株)製 H液 SG— 51濃度 1. 5%)を用いて印刷を行った。印刷 500枚毎にプレ 一トクリーナー (ウルトラプレートクリーナー (販売元：大日精化工業株式会社) )で版 面を拭き、印刷物上で、 3%小点の欠落が発生するまでの、プレートクリーナー拭き 取り回数 (印刷枚数 =拭き取り回数 X 500)を耐刷性の指標とした。
[0213] (印刷汚し回復）
上記印刷条件で 10000枚印刷後、印刷機を 3時間停止し、再度同一条件で印刷 を開始した際、非画線部の印刷汚れが完全に回復するまでの印刷枚数を計測し、以 下のランクで評価した。 [0214] ◎··· 50枚以下
〇··. 51〜： LOO枚
△•••101〜200枚以下
X -，，201枚以上
上記各種評価結果をまとめて表 3に示す。
[0215] [表 3]
Figure imgf000057_0001
表 3から明らかなように、本発明の平版印刷版材料は、感度と印刷品質 (耐刷性及 び印刷汚し回復性）に優れて 、ることが分かる。

Claims

請求の範囲 親水性支持体上に、近赤外レーザ露光によりアルカリ溶解性が変化する画像形成層 を設けた平版印刷版材料において、該画像形成層が、赤外線吸収色素として、少な くとも下記一般式 (IRD1)〜 (IRD3)のうちの!/ヽずれかで表される化合物群力 選ば れる化合物であって、かつメチルェチルケトン中での極大吸収波長が 700〜900nm である化合物を含有することを特徴とする平版印刷版材料。 一般式 (IRD1)
[化 1]
Figure imgf000058_0001
(式中、 Z及び Zはそれぞれ酸素原子 (0)、硫黄原子 (S)、セレン原子 (Se)、又は
1 2
テルル原子 (Te)を表し、 R及び Rは水素原子、又はアルキル基を表す。 R及び R
5 6 7 8 は 1価の置換基を表し、 mが 2以上のとき近接する Rは互いに結合して環を形成して もよぐ nが 2以上のとき近接する Rは互いに結合して環を形成してもよい。 m及び n
8
は 0〜4の整数を表す。 )
[化 2] 一般式 (IRD2)
Figure imgf000058_0002
(式中、 R及び R は各々独立に水素原子または置換基を表す。 Z は 0、S、N—R
11 12 11
、 Seまたは Teを表し、 Rはアルキル基またはァリール基を表す。 Q は 6員の複素環
1 11
を表し、 A 及び A は各々独立に置換基を表す。但し、 A と A が互いに同一の置
11 12 11 12
換基であることはない。 )
[化 3] 般式 (IRD3)
Figure imgf000059_0001
(式中、 R 及び R は各々独立に水素原子または置換基を表す。 Z は 0、S、N—R
21 22 21 ；
、 Seまたは Teを表し、 Rはアルキル基またはァリール基を表す。 Q は 6員の複素環
2 21
を表し、 A 及び A は各々独立に置換基を表す。但し、 A と A が互いに同一の置
21 22 21 22
換基であることはない。 B はアルキル基またはァリール基を表し、 X は分子内の電
21 21
荷を相殺するのに必要なイオンを表す。 nは 0または 1を表す。 )
前記一般式 (IRD2)、一般式 (IRD3)で表される化合物が、それぞれ下記一般式 (I RD4)、一般式 (IRD5)で表される化合物であることを特徴とする請求の範囲第 1項 に記載の平版印刷版材料。
[化 4] 般式 (IRD4)
Figure imgf000059_0002
(式中、 R 及び R は、各々独立に水素原子または置換基を表す。 Z は、 0、S、N
11 12 11
R、Seまたは Teを表し、 Rはアルキル基またはァリール基を表す。 A 及び A は
1 1 11 12
、各々独立に置換基を表す。但し、 A と A が互いに同一の置換基であることはない
11 12
。 Z は 0、 S、 N-R、 Seまたは Teを表し、 Rはアルキル基またはァリール基を表す
32 3 3
。A 及び A は各々独立に水素原子または置換基を表す。）
[化 5] —般式 (IRDS)
Figure imgf000060_0001
(式中、 R 及び R は各々独立に水素原子または置換基を表す。 Z は 0、 S、 N—R
21 22 21 1
、 Seまたは Teを表し、 Rはアルキル基またはァリール基を表す。 A 及び A は各々
2 21 22 独立に置換基を表す。但し、 A と A が互いに同一の置換基であることはない。 B
21 22 21 はアルキル基またはァリール基を表し、 X は分子内の電荷を相殺するのに必要なィ
21
オンを表す。 nは 0または 1を表す。
Z は 0、 S、 N— R、 Seまたは Teを表し、 Rはアルキル基またはァリール基を表す。
42 4 4
A 及び A は各々独立に水素原子または置換基を表す。）
43 44
前記一般式 (IRD4)、一般式 (IRD5)で表される化合物が、それぞれ下記一般式 (I RD6)、一般式 (IRD7)で表される化合物であることを特徴とする請求の範囲第 2項 に記載の平版印刷版材料。
[化 6] 一般式 (IRD6)
Figure imgf000060_0002
(式中、 R 及び R は各々独立に水素原子または置換基を表す。 Z は 0、 S、 N—R
11 12 11 1
、 Seまたは Teを表し、 Rはアルキル基またはァリール基を表す。 A 及び A は各々
1 11 12 独立に置換基を表す。但し、 A と A が互いに同一の置換基であることはない。 Z は
11 12 32
0、 S、 N-R、 Seまたは Teを表し、 Rはアルキル基またはァリール基を表す。 A 及
3 3 53 び A は各々独立に置換基を表す。但し、 A と A が互いに同一の置換基であること はない。 )
[化 7]
Figure imgf000061_0001
(式中、 R及び R は各々独立に水素原子または置換基を表す。 Z は 0、S、N—R
21 22 21
、 Seまたは Teを表し、 Rはアルキル基またはァリール基を表す。 Q は 6員の複素環
21
を表し、 A 及び A は各々独立に置換基を表す。但し、 A と A が互いに同一の置
21 22 21 22 換基であることはない。 B はアルキル基またはァリール基を表し、 X は分子内の電
21 21
荷を相殺するのに必要なイオンを表す。 nは 0または 1を表す。 Z は 0、 S、 N-R、 S
42 4 eまたは Teを表し、 Rはアルキル基またはァリール基を表す。 A及び A は各々独立
4 63 64 に置換基を表す。但し、 A と A が互いに同一の置換基であることはない。）
63 64
[4] 前記一般式 (IRD6)、一般式 (IRD7)で表される化合物が、それぞれ下記一般式 (I RD8)、一般式 (IRD9)で表される化合物であることを特徴とする請求の範囲第 3項 に記載の平版印刷版材料。
[化 8] 一般式 (IRD8)
Figure imgf000061_0002
(式中、 R及び R は各々独立に水素原子または置換基を表す。 A 及び A は各々
12 独立に置換基を表す。但し、 A と A が互いに同一の置換基であることはない。 A
53 及び A は各々独立に置換基を表す。但し、 A と A が互いに同一の置換基である
53 とはない。 )
[化 9] 一般式 <IRD9J
Figure imgf000062_0001
(式中、 R及び R は各々独立に水素原子または置換基を表す。 A 及び A は各々
21 22 21 22 独立に置換基を表す。但し、 A と A が互いに同一の置換基であることはない。 B
21 22 21 はアルキル基またはァリール基を表し、 X は分子内の電荷を相殺するのに必要なィ
21
オンを表す。 nは 0または 1を表す。 A及び A は各々独立に置換基を表す。但し、 A
63 64
と A が互いに同一の置換基であることはない。）
63 64
前記一般式 (IRD8)で表される化合物力 下記一般式 (IRD10)で表される化合物 であることを特徴とする請求の範囲第 4項に記載の平版印刷版材料。
[化 10] 般式 (IRD10)
Figure imgf000062_0002
(式中、 R
11及び R
12は各々独立に水素原子または置換基を表す。 X
1及び X
2はそれぞ れ独立にハロゲン原子を表す。 R はアルキル基を表す。）
31
前記親水性支持体が、電解研磨により粗面化したアルミ表面に陽極酸ィ匕被膜を設け たものであり、かつ近赤外レーザ露光によりアルカリ溶解性が変化する前記画像形成 層が、少なくとも以下の化合物を含有することを特徴とする請求の範囲第 1〜5項の Vヽずれか 1項に記載の平版印刷版材料。 1)アルカリ可溶性バインダー榭脂
2)架橋剤
3)熱により酸を発生する化合物
[7] 前記アルカリ可溶性バインダー榭脂がノボラック榭脂であることを特徴とする請求の 範囲第 6項に記載の平版印刷版材料。
[8] 前記架橋剤がメラミン榭脂であることを特徴とする請求の範囲第 6または 7項に記載 の平版印刷版材料。
[9] 前記熱により酸を発生する化合物がトリアジン類であることを特徴とする請求の範囲 第 6〜8項のいずれか 1項に記載の平版印刷版材料。
[10] 前記電解研磨を塩酸浴中で行うことを特徴とする請求の範囲第 6〜9項のいずれか 1 項に記載の平版印刷版材料。
[11] 前記親水性支持体が、電解研磨により粗面化したアルミ表面に陽極酸ィ匕被膜を設け たものであり、かつ近赤外レーザ露光によりアルカリ溶解性が変化する前記画像形成 層が、少なくとも以下の化合物を含有することを特徴とする請求の範囲第 1〜5項の
Vヽずれか 1項に記載の平版印刷版材料。
1)アルカリ可溶性バインダー榭脂
2)酸分解性化合物
3)熱により酸を発生する化合物
[12] 前記アルカリ可溶性バインダー榭脂がノボラック榭脂であることを特徴とする請求の 範囲第 11項に記載の平版印刷版材料。
[13] 前記熱により酸を発生する化合物がトリアジン類であることを特徴とする請求の範囲 第 11または 12項に記載の平版印刷版材料。
[14] 前記電解研磨を塩酸浴中で行うことを特徴とする請求の範囲第 11〜13項のいずれ カゝ 1項に記載の平版印刷版材料。
[15] 請求の範囲第 1〜14項のいずれか 1項に記載の平版印刷版材料を製造する平版印 刷版材料の製造方法であって、少なくとも下記一般式 (IRD1)〜 (IRD3)のうちのい ずれかで表される化合物群力 選ばれる化合物であり、かつメチルェチルケトン中で の極大吸収波長が 700〜900nmである化合物、をケトン系溶剤に溶解し、画像形 成層用塗布液を調製する工程および該画像形成層用塗布液を親水性支持体上に 塗布する工程を有することを特徴とする平版印刷版材料の製造方法。
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