TWM653492U - 多維度對位組版設備 - Google Patents

Abstract

本創作公開一種多維度對位組版設備，其包含一壓印光罩及連接所述壓印光罩的一旋轉機構。所述壓印光罩包含一基材、及形成於所述基材的多個二維對位標記、兩個旋轉對位標記、與一壓印層。所述壓印層形成於所述基材的穿透區塊。多個所述二維對位標記與兩個所述旋轉對位標記位於所述穿透區塊的外側，並且兩個所述旋轉對位標記分別鄰近於其中兩個所述二維對位標記。所述旋轉機構能以小於等於0.01度的一單位角度來轉動所述壓印光罩。

Description

多維度對位組版設備

本創作涉及一種組版設備，尤其涉及一種多維度對位組版設備。

現有組版設備在以壓印方式於光學膜成形由多個單位圖案組成的組版圖案時，所述光學膜的每個所述單位圖案與其預設成形的位置之間都存有公差，並且後續行程的所述單位圖案會產生公差累積，因而使得最後形成的所述單位圖案具有較大的累積公差。於是，本創作人認為上述缺陷可改善，乃特潛心研究並配合科學原理的運用，終於提出一種合理且有效改善上述缺陷的本創作。

本創作實施例在於提供一種多維度對位組版設備，其能有效地改善現有組版設備所可能產生的缺陷。

本創作實施例公開一種多維度對位組版設備，其包括：一壓印光罩，包含有：一基材，具有一穿透區塊、呈環形且圍繞所述穿透區塊的一對位區塊、及呈環形且圍繞所述對位區塊的一非穿透區塊；其中，所述對位區塊具有數量不小於四的多個角落；所述基材僅以所述穿透區塊提供一固化光線穿過，並且所述對位區塊能供一對位光線穿過，所述固化光線的波長不同於所述對位光線的波長；多個二維對位標記，分別形成於所述對位區塊的多個所述角落；兩個旋轉對位標記，分別形成於所述對位區塊的其中兩個所述角落，並且兩個所述旋轉對位標記分別鄰近於其中兩個所述二維對位標記；及一壓印層，形成於所述穿透區塊；其中，所述壓印層能供所述固化光線穿過且於遠離所述基材的表面具有一單位圖案；以及一旋轉機構，連接所述壓印光罩，並且所述旋轉機構能以一單位角度來轉動所述壓印光罩；其中，所述單位角度小於等於0.01度。

綜上所述，本創作實施例所公開的多維度對位組版設備，其具備的所述壓印光罩能以兩個所述旋轉對位標記搭配於所述單位角度小於0.01度的所述旋轉機構，進而有效地降低多次壓印過程所產生的累積公差，據以利於符合逐年提升的精度要求。

為能更進一步瞭解本創作的特徵及技術內容，請參閱以下有關本創作的詳細說明與附圖，但是此等說明與附圖僅用來說明本創作，而非對本創作的保護範圍作任何的限制。

以下是通過特定的具體實施例來說明本創作所公開有關“多維度對位組版設備”的實施方式，本領域技術人員可由本說明書所公開的內容瞭解本創作的優點與效果。本創作可通過其他不同的具體實施例加以施行或應用，本說明書中的各項細節也可基於不同觀點與應用，在不悖離本創作的構思下進行各種修改與變更。另外，本創作的附圖僅為簡單示意說明，並非依實際尺寸的描繪，事先聲明。以下的實施方式將進一步詳細說明本創作的相關技術內容，但所公開的內容並非用以限制本創作的保護範圍。

應當可以理解的是，雖然本文中可能會使用到“第一”、“第二”、“第三”等術語來描述各種元件或者信號，但這些元件或者信號不應受這些術語的限制。這些術語主要是用以區分一元件與另一元件，或者一信號與另一信號。另外，本文中所使用的術語“或”，應視實際情況可能包括相關聯的列出項目中的任一個或者多個的組合。

請參閱圖1至圖9所示，其為本創作的一實施例。如圖1所示，本實施例公開一種組版式光學膜的對位成形方法S100及一種多維度對位組版設備100，並且所述組版式光學膜的對位成形方法S100較佳是通過所述多維度對位組版設備100來實現，但不受限於此。所述組版式光學膜的對位成形方法S100於本實施例中包含有（或依序實施）一前置步驟S110、一準備步驟S120、一置件步驟S130、一對位步驟S140、及一成形步驟S150。

其中，為便於理解本實施例，以下將先分別說明所述前置步驟S110、所述準備步驟S120、所述置件步驟S130、所述對位步驟S140、及所述成形步驟S150的各自內容，並適時介紹所述多維度對位組版設備100的構造，但本創作不受限於此。舉例來說，於本創作未繪示的其他實施例中，所述組版式光學膜的對位成形方法S100所包含的任一個步驟、及所述多維度對位組版設備100的各個元件構造是可依據創作需求而加以調整變化或省略。

所述前置步驟S110：如圖1和圖2所示，製造一壓印光罩1。其中，所述壓印光罩1的製造流程大致包含：提供一基材11、於所述基材11形成有多個二維對位標記12與兩個旋轉對位標記13、及於所述基材11形成有位於多個所述二維對位標記12內側與兩個所述旋轉對位標記13內側的一壓印層14。

更詳細地說，所述基材11於本實施例中是以平板狀構造來說明，並且所述基材11具有一穿透區塊111、呈環形且圍繞所述穿透區塊111的一對位區塊112、及呈環形且圍繞所述對位區塊112的一非穿透區塊113。其中，所述對位區塊112具有數量不小於四的多個角落1121，並且多個所述角落1121的數量於本實施例中是以四個來說明，但不受限於此。

再者，所述基材11僅以所述穿透區塊111提供一固化光線L（如：圖7所示的紫外線）穿過；也就是說，所述固化光線L無法穿過所述對位區塊112與所述非穿透區塊113。所述對位區塊112於本實施例中呈方環狀且能供一對位光線IR（如：圖4所示的紅外線）穿過，所述對位光線IR較佳是無法穿過所述非穿透區塊113，並且所述固化光線L的波長不同於所述對位光線IR的波長。

多個所述二維對位標記12分別位於所述對位區塊112的多個所述角落1121，兩個所述旋轉對位標記13分別位於其中兩個所述角落1121，並且兩個所述旋轉對位標記13分別鄰近於其中兩個所述二維對位標記12。需額外說明的是，所述壓印光罩1可以通過具備有下述至少部分特徵，以進一步實現較佳的對位效果，但不受限於此。

於本實施例中，多個所述二維對位標記12具有相同的形狀且各呈十字狀，而每個所述旋轉對位標記13呈直角狀。其中，兩個所述旋轉對位標記13是形成於位於斜對角的兩個所述角落1121，並且每個所述旋轉對位標記13是間隔地設置於相鄰近所述二維對位標記12的外側（如：所述二維對位標記12是位於所述旋轉對位標記13所圍繞的範圍區域之內）。

再者，兩個所述旋轉對位標記13是沿著所述對位區塊112的外邊緣設置，每個所述旋轉對位標記13的總長度為所述對位區塊112的所述外邊緣的周長的10%～25%。進一步地說，所述壓印光罩1定義有一橫向D1及垂直所述橫向D1的一縱向D2。於每個所述旋轉對位標記13及其相鄰近的所述二維對位標記12之中，所述旋轉對位標記13於所述橫向D1的長度為所述二維對位標記12於所述橫向D1的長度的至少三倍，並且所述旋轉對位標記13於所述縱向D2的長度為所述二維對位標記12於所述縱向D2的長度的至少三倍。

此外，所述壓印層14形成於所述穿透區塊111，並且所述壓印層14能供所述固化光線L穿過且於遠離所述基材11的表面具有一單位圖案141。於本實施例中，所述壓印層14是通過一曝光紫外線UV經由光罩M或干涉而照射在塗佈於所述穿透區塊111的一光阻層而構成，並且所述曝光紫外線UV的波長是落在所述固化光線L的波段之外。舉例來說，所述曝光紫外線UV的所述波長可以是190奈米（nm）~250奈米，其較佳是與所述固化光線L的所述波段相差至少100奈米（如：所述波段為350奈米～410奈米）。據此，所述壓印層14能夠形成有高精密度的所述單位圖案141。

所述準備步驟S120：如圖1至圖3所示，提供裝設有所述壓印光罩1的所述多維度對位組版設備100。其中，所述多維度對位組版設備100於本實施例中進一步包含有一工作台2、設置於所述工作台2的一載體3、設置於所述工作台2且對應於所述載體3配置的一位移機構4、連接所述壓印光罩1的一旋轉機構5、對應於所述壓印光罩1設置的一攝像機構6、對應於所述工作台2設置的一塗佈機構7、及對應於所述壓印光罩1配置的一固化光源8，但本創作不以此為限。也就是說，於本創作未繪示的其他實施例中，所述多維度對位組版設備100所包含的構件可依據創作需求而加以調整變化。

於本實施例中，所述載體3呈平坦的板狀構造並形成有多個壓印區域31，並且多個所述壓印區域31於本實施例中緊鄰排列呈矩陣狀。其中，所述載體3於每個所述壓印區域31形成有多個載體對位標記32，其形狀與位置分別對應於多個所述二維對位標記12及兩個所述旋轉對位標記13，據以利於實施後續的所述對位步驟S140（如：圖4）。

所述位移機構4能相對於所述工作台2（或所述載體3）沿相互正交的一高度方向H、一第一方向D1、及一第二方向D2移動。其中，所述第一方向D1與所述第二方向D2於本實施例中分別是指所述橫向D1和所述縱向D2，但不以此為限。

再者，所述壓印光罩1、所述旋轉機構5、所述攝像機構6、所述塗佈機構7、及所述固化光源8可以是直接或間接地連接於所述位移機構4，據以能夠通過所述位移機構4而同步移動，並且所述壓印光罩1也能夠相對於所述攝像機構6與所述固化光源8沿所述高度方向H進行相對移動，但本創作不以此為限。舉例來說，於本創作未繪示的其他實施例中，所述塗佈機構7及/或所述固化光源8也可以是通過配置有獨立的移動機構而運作、但未連接於所述位移機構4。

所述旋轉機構5能以一單位角度來轉動所述壓印光罩1；也就是說，所述壓印光罩1能被所述旋轉機構5驅動而轉動所述單位角度的倍數，並且所述單位角度小於等於0.01度。再者，所述攝像機構6用於朝向所述對位區塊112發出所述對位光線IR（如：圖4），並且所述攝像機構6不被所述旋轉機構5所驅使旋轉。

所述塗佈機構7用來依序於所述載體3的多個所述壓印區域31形成有彼此間隔配置的多個膠層200a。再者，所述固化光源8能朝向所述壓印光罩1的所述基材11發出所述固化光線L（如：圖7），以穿過所述穿透區塊111與所述壓印層14。

所述置件步驟S130：如圖1至圖4所示，於所述載體3形成有間隔配置的多個膠層200a。於本實施例中，所述置件步驟S130是由所述塗佈機構7依序於所述載體3形成有彼此間隔配置且厚度均勻的多個所述膠層200a而實現；也就是說，所述載體3的每個所述壓印區域31上形成有一個所述膠層200a，以使其周圍配置有分別對應於多個所述二維對位標記12與兩個所述旋轉對位標記13的多個所述載體對位標記32。

所述對位步驟S140：如圖1、和圖4至圖6所示，以所述壓印光罩1的多個所述二維對位標記12與兩個所述旋轉對位標記13對位於每個所述膠層200a周圍的多個所述載體對位標記32，以於每個所述膠層200a實現一次多維度對位作業。其中，於每次所述多維度對位作業之中，當兩個所述旋轉對位標記13與相對應的所述載體對位標記32形成有角度上的偏差時，旋轉所述壓印光罩1以消除所述偏差。

於本實施例中，所述對位步驟S140是由所述攝像機構6朝向所述對位區塊112發出所述對位光線IR，並於每次所述多維度對位作業之中，確認多個所述二維對位標記12與兩個所述旋轉對位標記13是否分別對齊於多個所述載體對位標記32。也就是說，當兩個所述旋轉對位標記13與相對應的所述載體對位標記32形成有角度上的偏差時，所述對位步驟S140可以通過所述旋轉機構5以小於等於0.01度的所述單位角度來轉動所述壓印光罩1，以消除所述偏差。

所述成形步驟S150：如圖1及圖7所示，所述壓印光罩1於完成每次所述多維度對位作業之後，立即以所述壓印層14對相對應所述膠層200a進行一壓印作業。其中，當所述壓印光罩1進行任一次所述壓印作業時，以所述固化光線L穿過所述壓印光罩1、以照射並固化被所述壓印層14所壓印的所述膠層200a，以形成一單位膜層200b。據此，所述成形步驟S150較佳是通過所述膠層200a於被壓印的同時進行固化，以有效地確保所述單位膜層200b的形狀精準度。

再者，如圖8和圖9，在多個所述膠層200a在依序被壓印固化而分別構成多個所述單位膜層200b之後，多個所述單位膜層200b共同構成一組版式光學膜200。而於本實施例中，所述成形步驟S150是通過所述位移機構4與所述壓印光罩1的搭配來依序實現多次所述壓印作業，並在所述壓印光罩1進行任一次所述壓印作業時，以所述固化光源8發出所述固化光線L來穿過所述壓印光罩1、以照射並固化被所述壓印層14所壓印的所述膠層200a。

[本創作實施例的技術效果]

綜上所述，本創作實施例所公開的組版式光學膜的對位成形方法，其通過在所述前置步驟之中形成有具備兩個所述旋轉對位標記的所述壓印光罩，以利於在所述對位步驟之中有效地偵測與消除角度上的偏差，進而維持每個所述膠層的高精度壓印，據以有效地使多個所述膠層於壓印之後維持高精度且低累積公差。

再者，本創作實施例所公開的多維度對位組版設備，其具備的所述壓印光罩能以兩個所述旋轉對位標記搭配於所述單位角度小於0.01度的所述旋轉機構，進而有效地降低多次壓印過程所產生的累積公差，據以利於符合逐年提升的精度要求。

以上所公開的內容僅為本創作的優選可行實施例，並非因此侷限本創作的專利範圍，所以凡是運用本創作說明書及圖式內容所做的等效技術變化，均包含於本創作的專利範圍內。

S100:組版式光學膜的對位成形方法 S110:前置步驟 S120:準備步驟 S130:置件步驟 S140:對位步驟 S150:成形步驟 100:多維度對位組版設備 1:壓印光罩 11:基材 111:穿透區塊 112:對位區塊 1121:角落 113:非穿透區塊 12:二維對位標記 13:旋轉對位標記 14:壓印層 141:單位圖案 2:工作台 3:載體 31:壓印區域 32:載體對位標記 4:位移機構 5:旋轉機構 6:攝像機構 7:塗佈機構 8:固化光源 200:組版式光學膜 200a:膠層 200b:單位膜層 D1:第一方向（橫向） D2:第二方向（縱向） H:高度方向 M:光罩 UV:曝光紫外線 L:固化光線 IR:對位光線

圖1為本創作實施例的組版式光學膜的對位成形方法的流程示意圖。

圖2為圖1中的前置步驟的示意圖。

圖3為圖1中的準備步驟與置件步驟的示意圖。

圖4為圖1中的對位步驟的示意圖。

圖5為圖4中的對位步驟之中形成有偏差的示意圖。

圖6為消除圖5中的偏差的示意圖。

圖7為圖1中的成形步驟的示意圖。

圖8為本創作實施例的組版式光學膜的對位成形方法依序實施壓印作業的示意圖。

圖9為本創作實施例的組版式光學膜的對位成形方法於實施後形成有組版式光學膜的示意圖。

S140:對位步驟

100:多維度對位組版設備

1:壓印光罩

11:基材

111:穿透區塊

112:對位區塊

113:非穿透區塊

12:二維對位標記

13:旋轉對位標記

14:壓印層

141:單位圖案

2:工作台

3:載體

31:壓印區域

32:載體對位標記

4:位移機構

5:旋轉機構

6:攝像機構

7:塗佈機構

8:固化光源

200a:膠層

D1:第一方向(橫向)

H:高度方向

IR:對位光線

Claims (10)

1. 一種多維度對位組版設備，其包括： 一壓印光罩，包含有： 一基材，具有一穿透區塊、呈環形且圍繞所述穿透區塊的一對位區塊、及呈環形且圍繞所述對位區塊的一非穿透區塊；其中，所述對位區塊具有數量不小於四的多個角落；所述基材僅以所述穿透區塊提供一固化光線穿過，並且所述對位區塊能供一對位光線穿過，所述固化光線的波長不同於所述對位光線的波長； 多個二維對位標記，分別形成於所述對位區塊的多個所述角落； 兩個旋轉對位標記，分別形成於所述對位區塊的其中兩個所述角落，並且兩個所述旋轉對位標記分別鄰近於其中兩個所述二維對位標記；及 一壓印層，形成於所述穿透區塊；其中，所述壓印層能供所述固化光線穿過且於遠離所述基材的表面具有一單位圖案；以及 一旋轉機構，連接所述壓印光罩，並且所述旋轉機構能以一單位角度來轉動所述壓印光罩；其中，所述單位角度小於等於0.01度。
2. 如請求項1所述的多維度對位組版設備，其中，兩個所述旋轉對位標記是形成於位於斜對角的兩個所述角落，並且每個所述旋轉對位標記是間隔地設置於相鄰近所述二維對位標記的外側。
3. 如請求項1所述的多維度對位組版設備，其中，所述壓印光罩定義有一橫向及垂直所述橫向的一縱向；於每個所述旋轉對位標記及其相鄰近的所述二維對位標記之中，所述旋轉對位標記於所述橫向的長度為所述二維對位標記於所述橫向的長度的至少三倍，並且所述旋轉對位標記於所述縱向的長度為所述二維對位標記於所述縱向的長度的至少三倍。
4. 如請求項1所述的多維度對位組版設備，其中，於每個所述旋轉對位標記及其相鄰近的所述二維對位標記之中，所述二維對位標記呈十字狀，而所述旋轉對位標記呈直角狀，並且所述二維對位標記是位於所述旋轉對位標記所圍繞的範圍區域之內。
5. 如請求項1所述的多維度對位組版設備，其中，兩個所述旋轉對位標記是沿著所述對位區塊的外邊緣設置，每個所述旋轉對位標記的總長度為所述對位區塊的所述外邊緣的周長的10%～25%。
6. 如請求項1所述的多維度對位組版設備，其中，所述多維度對位組版設備進一步包括： 一攝像機構，對應於所述壓印光罩設置，並且所述攝像機構用於朝向所述對位區塊發出所述對位光線；其中，所述攝像機構不被所述旋轉機構所驅使旋轉。
7. 如請求項6所述的多維度對位組版設備，其中，所述多維度對位組版設備進一步包括： 一工作台；及 一位移機構，設置於所述工作台，並且所述位移機構能相對於所述工作台沿相互正交的一高度方向、一第一方向、及一第二方向移動；其中，所述壓印光罩、所述旋轉機構、及所述攝像機構能夠通過所述位移機構而同步移動。
8. 如請求項7所述的多維度對位組版設備，其中，所述多維度對位組版設備進一步包括： 一載體，設置於所述工作台並形成有多個壓印區域；其中，所述載體於每個所述壓印區域形成有多個載體對位標記，其形狀與位置分別對應於多個所述二維對位標記及兩個所述旋轉對位標記。
9. 如請求項8所述的多維度對位組版設備，其中，所述多維度對位組版設備進一步包括： 一塗佈機構，對應於所述工作台設置，並且所述塗佈機構用來依序於所述載體的多個所述壓印區域形成有彼此間隔配置的多個膠層。
10. 如請求項9所述的多維度對位組版設備，其中，所述多維度對位組版設備進一步包括： 一固化光源，連接於所述位移機構、並對應於所述壓印光罩配置；其中，所述固化光源能朝向所述壓印光罩的所述基材發出所述固化光線，以穿過所述穿透區塊與所述壓印層。