TWI893141B - 偏光板、附相位差層之偏光板及影像顯示裝置 - Google Patents

Abstract

本發明提供一種雖為薄型卻抑制住加熱時之裂痕發生的偏光板。本發明偏光板具有以含二色性物質之聚乙烯醇系樹脂薄膜構成之偏光件與配置於該偏光件之一側的保護層；該保護層係以具有10µm以下之厚度的樹脂膜構成。在一實施形態中，於令該偏光件之單體透射率為x%、且令該聚乙烯醇系樹脂之雙折射為y時，滿足下述式(1)。在一實施形態中，於令該偏光件之單體透射率為x%、且令該聚乙烯醇系樹脂薄膜之面內相位差為znm時，滿足下述式(2)。在一實施形態中，該偏光件於令其單體透射率為x%、且令該聚乙烯醇系樹脂薄膜之定向函數為f時，滿足下述式(3)。在一實施形態中，該偏光件之穿刺強度為30gf/µm以上。 y＜-0.011x+0.525　　　　　(1) z＜-60x+2875　　　　　　　　　(2) f＜-0.018x+1.11　　　　　　(3)

Description

偏光板、附相位差層之偏光板及影像顯示裝置

本發明涉及偏光板、附相位差層之偏光板及影像顯示裝置。

近年來，以液晶顯示裝置及電致發光(EL)顯示裝置(例如有機EL顯示裝置、無機EL顯示裝置)為代表之影像顯示裝置急速普及。影像顯示裝置一般係使用包含偏光件與保護該偏光件之保護層的偏光板及相位差板。在實際應用上，廣泛使用偏光板與相位差板一體化而成的附相位差層之偏光板(例如專利文獻1)。而最近隨著對影像顯示裝置之薄型化的需求提高，對偏光板及附相位差層之偏光板之薄型化的需求亦高漲。

作為將偏光板薄型化之方法，已提出有將保護層之厚度薄化及僅於偏光件之單側積層保護層。然而，該等方法無法充分保護偏光件，而有因加熱而易發生裂痕之問題。 先前技術文獻 專利文獻

專利文獻1：日本專利特開2015-210474號公報

發明欲解決之課題 本發明是為了解決上述以往之課題而成者，其主要目的在於提供一種即便非常薄卻抑制住加熱造成之裂痕發生的偏光板。

用以解決課題之手段 根據本發明之一面向提供一種偏光板，其具有以含二色性物質之聚乙烯醇系樹脂薄膜構成之偏光件與配置於該偏光件之一側的保護層；該偏光件在令其單體透射率為x%、且令該聚乙烯醇系樹脂之雙折射為y時，滿足下述式(1)；該保護層係以具有10µm以下之厚度的樹脂膜構成。 y＜-0.011x+0.525　　　　　(1) 根據本發明之一面向提供一種偏光板，其具有以含二色性物質之聚乙烯醇系樹脂薄膜構成之偏光件與配置於該偏光件之一側的保護層；該偏光件在令其單體透射率為x%、且令該聚乙烯醇系樹脂薄膜之面內相位差為znm時，滿足下述式(2)；該保護層係以具有10µm以下之厚度的樹脂膜構成。 z＜-60x+2875　　　　　　　　　(2) 根據本發明之一面向提供一種偏光板，其具有以含二色性物質之聚乙烯醇系樹脂薄膜構成之偏光件與配置於該偏光件之一側的保護層；該偏光件在令其單體透射率為x%、且令該聚乙烯醇系樹脂之定向函數為f時，滿足下述式(3)；該保護層係以具有10µm以下之厚度的樹脂膜構成。 f＜-0.018x+1.11　　　　　(3)。 根據本發明之一面向提供一種偏光板，其具有以含二色性物質之聚乙烯醇系樹脂薄膜構成之偏光件與配置於該偏光件之一側的保護層；該偏光件之穿刺強度為30gf/µm以上；該保護層係以具有10µm以下之厚度的樹脂膜構成。 在一實施形態中，上述樹脂膜包含選自環氧樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、聚酯系樹脂及聚胺甲酸酯系樹脂中之至少1種樹脂。 在一實施形態中，上述樹脂膜係以環氧樹脂之光陽離子硬化物構成，且上述樹脂膜之軟化溫度為100℃以上。 在一實施形態中，上述樹脂膜係以環氧樹脂之有機溶劑溶液的塗佈膜之固化物構成，且上述樹脂膜之軟化溫度為100℃以上。 在一實施形態中，上述樹脂膜係以熱塑性(甲基)丙烯酸系樹脂之有機溶劑溶液的塗佈膜之固化物構成，且上述樹脂膜之軟化溫度為100℃以上。 在一實施形態中，上述熱塑性(甲基)丙烯酸系樹脂具有選自於由內酯環單元、戊二酸酐單元、戊二醯亞胺單元、馬來酸酐單元及馬來醯亞胺單元所構成群組中之至少1種。 在一實施形態中，上述保護層之碘吸附量為25重量%以下。 在一實施形態中，上述偏光件之厚度為10μm以下。 在一實施形態中，上述偏光板係捲繞成捲狀。 根據本發明之另一面向，包含上述偏光板與相位差層；且該相位差層係配置於上述偏光件之與配置有上述保護層之側的相反側。 在一實施形態中，上述相位差層係隔著黏著劑層積層於上述偏光板上。 在一實施形態中，上述相位差層之Re(550)為100nm~190nm，Re(450)/Re(550)為0.8以上且小於1，且上述相位差層之慢軸與上述偏光件之吸收軸形成之角度為40°~50°。 根據本發明之另一面向，提供一種影像顯示裝置，其具備上述上述偏光板或附相位差層之偏光板。

發明效果 根據本發明偏光板，藉由採用聚乙烯醇(PVA)系樹脂之定向狀態經控制的偏光件，則即便在使用極薄之樹脂膜作為保護層之情況下，仍可抑制加熱時之裂痕發生。又，所述偏光件可發揮實際使用上可容許之光學特性，故本發明之偏光板即便非常薄，仍可兼顧實際使用上可容許之光學特性與抑制加熱時之裂痕發生。

以下說明本發明之實施形態，惟本發明不受該等實施形態所限。又，各實施形態可適當組合。

(用語及符號之定義) 本說明書中之用語及符號之定義如下。 (1)折射率(nx、ny、nz) 「nx」為面內折射率達最大之方向(亦即慢軸方向)的折射率，「ny」為在面內與慢軸正交之方向(亦即快軸方向)的折射率，而「nz」為厚度方向的折射率。 (2)面內相位差(Re) 「Re(λ)」係於23℃下以波長λnm之光測定之面內相位差。例如，「Re(550)」係於23℃下以波長550nm之光測定之面內相位差。Re(λ)可於令層(薄膜)之厚度為d(nm)時，藉由式：Re(λ)=(nx-ny)×d求得。 (3)厚度方向之相位差(Rth) 「Rth(λ)」係於23℃下以波長λnm之光測定之厚度方向之相位差。例如，「Rth(550)」係於23℃下以波長550nm之光測定之厚度方向之相位差。Rth(λ)可於令層(薄膜)厚度為d(nm)時，藉由式：Rth(λ)=(nx-nz)×d求得。 (4)Nz係數 Nz係數可以Nz=Rth/Re求得。 (5)角度 本說明書中提及角度時，該角度包含相對於基準方向往順時針方向及逆時針方向兩者。因此，例如「45°」係指±45°。

A.偏光板 A-1.偏光板之概要 圖1係本發明一實施形態之偏光板的概略截面圖。圖式例之偏光板100具有偏光件10、配置於偏光件10之一側的第1保護層20、及配置於另一側的第2保護層30。偏光件10係以含二色性物質之聚乙烯醇系樹脂薄膜構成。第1保護層20係以具有10µm以下之厚度的樹脂膜構成。第2保護層30可因應目的而省略。又，雖無圖示，但可因應需要而於第1保護層20之與偏光件10相反之側設置硬塗層，且可於第1保護層20與偏光件10之間設置易接著層。

在一實施形態中，偏光件10於令單體透射率為x%、且令構成該偏光件之聚乙烯醇系樹脂之雙折射為y時，滿足下述式(1)。在一實施形態中，偏光件10於令單體透射率為x%、且令構成該偏光件之該聚乙烯醇系樹脂薄膜之面內相位差為znm時，滿足下述式(2)。在一實施形態中，偏光件10於令單體透射率為x%、且令構成該偏光件之聚乙烯醇系樹脂薄膜之定向函數為f時，滿足下述式(3)。在一實施形態中，偏光件之穿刺強度為30gf/µm以上。 y＜-0.011x+0.525　　　　　(1) z＜-60x+2875　　　　　　　　　(2) f＜-0.018x+1.11　　　　　　(3)

偏光板100之總厚度例如為20µm以下，宜為15µm以下，更宜為12µm以下，又更宜為10µm以下。又，偏光板之總厚度例如為5µm以上。

構成偏光板之各層或光學薄膜可透過接著層貼合，亦可不透過接著層而密著形成。作為接著層可舉接著劑層、黏著劑層。本發明實施形態中，可適宜採用接著劑層。若為所述構成，便可使偏光板更薄型化。構成接著劑層之接著劑代表上可舉活性能量線硬化型接著劑(例如紫外線硬化型接著劑)。

在本發明實施形態中偏光板之厚度可變得極薄。因此，可適宜應用於撓性之影像顯示裝置。較佳為影像顯示裝置具有彎曲的形狀(實質上為彎曲的顯示畫面)，及/或可撓曲或可彎折。影像顯示裝置的具體例可舉液晶顯示裝置、電致發光(EL)顯示裝置(例如有機EL顯示裝置、無機EL顯示裝置)。當然，上述說明並不妨礙本發明偏光板應用於一般的影像顯示裝置。

上述偏光板放置於60℃及95%RH之環境下500小時後，單體透射率Ts之變化量ΔTs及偏光度P之變化量ΔP宜各自非常小。單體透射率Ts可使用例如紫外線可見光分光光度計(日本分光公司製，製品名「V7100」)來測定。偏光度P係從使用紫外線可見光分光光度計測定之單體透射率(Ts)、平行透射率(Tp)及正交透射率(Tc)，利用下式來算出。 偏光度(P)(%)={(Tp-Tc)/(Tp+Tc)}^{1 /2} ×100 此外，上述Ts、Tp及Tc係以JIS Z 8701之2度視野(C光源)進行測定並進行視感度校正所得之Y值。又，Ts及P實質上為偏光件之特性。ΔTs及ΔP各自可由下述式求得。 ΔTs(%)=Ts₅₀₀ -Ts₀ ΔP(%)=P₅₀₀ -P₀ 於此，Ts₀ 為放置前(初始)之單體透射率，Ts₅₀₀ 為放置後之單體透射率，P₀ 為放置前(初始)之偏光度，P₅₀₀ 為放置後之偏光度。ΔTs宜為3.0%以下，較宜為2.5%以下，更宜為2.0%以下，又更宜為1.5%以下。ΔP宜為-5.0%~0%，較宜為-3.0%~0%，更宜為-1.0%~0%，又更宜為-0.5%~0%。

本發明偏光板可為單片狀亦可為長條狀。本說明書中所謂「長條狀」意指相對於寬度而言長度足夠長的細長形狀，例如包含相對於寬度而言長度為10倍以上、且宜為20倍以上之細長形狀。長條狀偏光板可捲繞成捲狀。

A-2.偏光件 上述偏光件係以含二色性物質之聚乙烯醇系樹脂薄膜構成。在一實施形態中，偏光件於令單體透射率為x%、且令構成該偏光件之聚乙烯醇系樹脂之雙折射為y時，滿足下述式(1)。在一實施形態中，偏光件於令單體透射率為x%、且令構成該偏光件之該聚乙烯醇系樹脂薄膜之面內相位差為znm時，滿足下述式(2)。在一實施形態中，偏光件於令單體透射率為x%、且令構成該偏光件之聚乙烯醇系樹脂薄膜之定向函數為f時，滿足下述式(3)。在一實施形態中，偏光件之穿刺強度為30gf/µm以上。 y＜-0.011x+0.525　　　　　(1) z＜-60x+2875　　　　　　　　　(2) f＜-0.018x+1.11　　　　　　(3)

以含二色性物質之聚乙烯醇系樹脂薄膜構成之偏光件中，PVA系樹脂之雙折射(以下表記為PVA之雙折射或PVA之Δn)、PVA系樹脂薄膜之面內相位差(以下表記為「PVA之面內相位差」)、PVA系樹脂之定向函數(以下表記為「PVA之定向函數」)及偏光件之穿刺強度，皆為與構成偏光件之PVA系樹脂之分子鏈的定向度相關之值。具體而言，PVA之雙折射、面內相位差及定向函數係隨著定向度之上升會變成大的值，而穿刺強度係隨著定向度之上升會降低。本發明所用偏光件(亦即滿足上述式(1)~(3)或穿刺強度之偏光件)，其PVA系樹脂之分子鏈往吸收軸方向之定向較以往之偏光件更和緩，因此吸收軸方向之加熱收縮便被抑制。結果可獲得雖為極薄型卻抑制住加熱時之裂痕發生的偏光板。又，因所述偏光件之可撓性亦佳，故可獲得可撓性及抗彎折耐久性優異之偏光板，而宜可應用於彎曲的影像顯示裝置、較佳可應用於可彎折的影像顯示裝置、更佳可應用於可折疊的影像顯示裝置。以往，定向度低之偏光件難以獲得可容許之光學特性(代表上為單體透射率及偏光度)，但本發明所用之偏光件可兼顧較以往更低之PVA系樹脂之定向度與可容許之光學特性。

上述偏光件宜滿足下述式(1a)及/或式(2a)，較宜滿足下述式(1b)及/或式(2b)。 -0.004x+0.18＜y＜-0.011x+0.525　　(1a) -0.003x+0.145＜y＜-0.011x+0.520　　(1b) -40x+1800＜z＜-60x+2875　　(2a) -30x+1450＜z＜-60x+2850　　(2b)

本說明書中，上述PVA之面內相位差係PVA系樹脂薄膜在23℃、波長1000nm下之面內相位差值。藉由將近紅外線區域設為測定波長，可排除偏光件中之碘的吸收的影響而可測定相位差。又，上述PVA之雙折射(面內雙折射)係將PVA之面內相位差除以偏光件之厚度(nm)所得之值。

PVA之面內相位差係如下述進行評估。首先，以複數個波長850nm以上之波長測定相位差值，並進行測得之相位差值：R(λ)與波長：λ之繪圖，將其用最小平方法擬合至下述色邁耶爾(Sellmeier)公式。在此，A及B為擬合參數，係利用最小平方法決定之係數。 R(λ)=A+B/(λ² -600² ) 此時，該相位差值R(λ)可以下述方式分離無波長依存性之PVA的面內相位差(Rpva)與波長依存性強之碘的面內相位差值(Ri)。 Rpva=A Ri=B/(λ² -600² ) 根據該分離式，可算出PVA在波長λ=1000nm下之面內相位差(亦即Rpva)。此外，關於該PVA之面內相位差之評估方法，亦記載於日本專利第5932760號公報中，可因應需要參照。 又，將該相位差除以厚度，藉此可算出PVA之雙折射(Δn)。

用以測定上述PVA在波長1000nm下之面內相位差的市售裝置，可舉王子計測公司製之KOBRA-WR/IR系列、KOBRA-31X/IR系列等。

本發明所用偏光件之定向函數(f)宜滿足下述式(3a)，較宜滿足下述式(3b)。定向函數若過小，有無法獲得可容許之單體透射率及/或偏光度之情形。 -0.01x+0.50＜f＜-0.018x+1.11　　　(3a) -0.01x+0.57＜f＜-0.018x+1.1　　　　(3b)

定向函數(f)例如係用傅立葉轉換紅外光譜光度計(FT-IR)並以偏光作為測定光，藉由衰減全反射分光(ATR：attenuated total reflection)測定來求得。具體而言，用以使偏光件密著之微晶係使用鍺，測定光之入射角設為45°入射，且令欲入射之經偏光的紅外線(測定光)為朝使鍺結晶之試樣密著的面平行振動之偏光(s偏光)，並在將偏光件之延伸方向相對於測定光之偏光方向作平行及垂直配置之狀態下實施測定，然後使用所得吸光度光譜之2941cm^-1 的強度，依下述式算出。在此，強度I係以3330cm^-1 為參考波峰，而為2941cm^-1 /3330cm^-1 之值。另外，f=1時為完全定向，f=0時為無規。又，吾等認為2941cm^-1 之波峰為起因於偏光件中之PVA主鏈(-CH₂ -)所致之振動的吸收。 f=(3＜cos² θ＞-1)/2 =(1-D)/[c(2D+1)] =-2×(1-D)/(2D+1) 惟， 以c=(3cos² β-1)/2，2941cm^-1 之振動時，β=90°。 θ：分子鏈相對於延伸方向之角度 β：躍遷偶極矩相對於分子鏈軸之角度 D=(I_⊥ )/(I_// )  (此時，PVA分子越定向，D越大) I_⊥ ：測定光之偏光方向與偏光件之延伸方向呈垂直時之吸收強度 I_// ：測定光之偏光方向與偏光件之延伸方向呈平行時之吸收強度

偏光件之厚度宜為10µm以下，較宜為8µm以下。偏光件之厚度的下限例如可為1μm。偏光件之厚度在一實施形態中亦可為2µm~10µm，在另一實施形態中亦可為2µm~8µm。藉由使偏光件之厚度如所述般非常薄，可使熱收縮變得非常小。推測所述構成亦有助於抑制加熱造成之裂痕發生。

偏光件宜在波長380nm~780nm的任一波長下顯示吸收二色性。偏光件之單體透射率宜為40.0%以上，較宜為41.0%以上。單體透射率例如可為49.0%以下。偏光件之單體透射率在一實施形態中為40.0%~45.0%。偏光件之偏光度宜為99.0%以上，較宜為99.4%以上。偏光度例如可為99.999%以下。偏光件之偏光度在一實施形態中為99.0%~99.99%。本發明所用偏光件之一特徵在於：即便構成該偏光件之PVA系樹脂之定向度較以往更低，且具有如上述之面內相位差、雙折射及/或定向函數，仍可實現所述之實際使用上可容許之單體透射率及偏光度。吾等推測其係因後述之製造方法所致。此外，單體透射率代表上係使用紫外線可見光分光光度計來測定並進行視感度校正所得之Y值。偏光度代表上可基於使用紫外線可見光分光光度計測定並進行視感度校正所得之平行透射率Tp及正交透射率Tc，透過下述式來求得。 偏光度(%)={(Tp-Tc)/(Tp+Tc)}^{1 /2} ×100

偏光件之穿刺強度例如為30gf/µm以上，且宜為35gf/µm以上，較宜為40gf/µm以上，更宜為45gf/µm以上，尤宜為50gf/µm以上。穿刺強度之上限例如可為80gf/μm。藉由將偏光件之穿刺強度設為所述範圍，可顯著抑制加熱時於偏光件發生裂痕及偏光件沿吸收軸方向裂開。結果可獲得撓曲性非常優異之偏光件(以結果而言為偏光板)。穿刺強度係表示以預定強度穿刺偏光件時之偏光件的抗破裂耐性。穿刺強度例如可以於壓縮試驗機裝設預定之針，並將該針以預定速度穿刺偏光件時偏光件破裂之強度(斷裂強度)來表示。此外，從單位可明顯知道，穿刺強度意指偏光件之每單位厚度(1µm)的穿刺強度。

偏光件如上述係以含二色性物質之PVA系樹脂薄膜構成。宜為構成PVA系樹脂薄膜(實質上為偏光件)之PVA系樹脂包含經乙醯乙醯基改質之PVA系樹脂。若為所述構成，便可獲得具有所期望之穿刺強度的偏光件。當令PVA系樹脂整體為100重量%時，經乙醯乙醯基改質之PVA系樹脂之摻混量宜為5重量%~20重量%，較宜為8重量%~12重量%。摻混量若在所述範圍內，便可將穿刺強度設為更適宜之範圍。

偏光件在代表上可使用兩層以上之積層體來製作。使用積層體獲得之偏光件的具體例，可舉出使用樹脂基材與經塗佈形成於該樹脂基材之PVA系樹脂層的積層體而獲得之偏光件。使用樹脂基材與經塗佈形成於該樹脂基材之PVA系樹脂層的積層體而獲得之偏光件，例如可以藉由以下方式來製作：將PVA系樹脂溶液塗佈於樹脂基材，並使其乾燥而於樹脂基材上形成PVA系樹脂層，而獲得樹脂基材與PVA系樹脂層的積層體；及，將該積層體延伸及染色而將PVA系樹脂層製成偏光件。本實施形態中，宜於樹脂基材之單側形成含鹵化物與聚乙烯醇系樹脂之聚乙烯醇系樹脂層。延伸在代表上包含使積層體浸漬於硼酸水溶液中並延伸。並且，延伸宜更包含下述步驟：在硼酸水溶液中延伸之前，在高溫(例如95℃以上)下將積層體進行空中延伸。本發明實施形態中，延伸之總倍率宜為3.0倍~4.5倍，與一般相較下顯著較小。即便為所述延伸之總倍率，藉由添加鹵化物及乾燥收縮處理之組合，可獲得具有可容許之光學特性之偏光件。並且，本發明實施形態中，空中輔助延伸之延伸倍率宜大於硼酸水中延伸之延伸倍率。藉由製成所述構成，即便延伸之總倍率小，仍可獲得具有可容許之光學特性之偏光件。並且，積層體宜供於一邊沿長邊方向輸送一邊進行加熱藉此使其於寬度方向收縮2%以上之乾燥收縮處理。在一實施形態中，偏光件之製造方法包含對積層體依序施行空中輔助延伸處理、染色處理、水中延伸處理與乾燥收縮處理。藉由導入輔助延伸，即使是在將PVA系樹脂塗佈於熱塑性樹脂上之情況下仍可提升PVA系樹脂之結晶性，而可達成高光學特性。又，同時事先提高PVA系樹脂之定向性，可防止在之後的染色步驟或延伸步驟中浸漬於水中時，PVA系樹脂之定向性降低或溶解等問題，而可達成高光學特性。並且，將PVA系樹脂層浸漬於液體中時，相較於PVA系樹脂層不含鹵化物之情況，更能抑制聚乙烯醇分子之定向紊亂及定向性之降低。藉此，可提升經由染色處理及水中延伸處理等將積層體浸漬於液體中來進行的處理步驟而得之偏光件的光學特性。並且，透過乾燥收縮處理使積層體於寬度方向收縮，可提升光學特性。所得樹脂基材/偏光件之積層體可直接使用(即，亦可將樹脂基材作為偏光件之保護層)，亦可從樹脂基材/偏光件之積層體剝離樹脂基材並於該剝離面積層因應目的之任意適當的保護層後來使用。關於偏光件之製造方法的詳細內容將於A-3項詳細說明。

A-3.偏光件之製造方法 本發明一實施形態之偏光件之製造方法包含以下步驟：於長條狀熱塑性樹脂基材之單側形成含鹵化物與聚乙烯醇系樹脂(PVA系樹脂)之聚乙烯醇系樹脂層(PVA系樹脂層)，而製成積層體；及，對積層體依序施行空中輔助延伸處理、染色處理、水中延伸處理與乾燥收縮處理，該乾燥收縮處理係將積層體一邊沿長邊方向輸送一邊加熱，藉此使其於寬度方向收縮1%~10%。PVA系樹脂層中之鹵化物之含量相對於PVA系樹脂100重量份宜為5重量份~20重量份。乾燥收縮處理宜使用加熱輥進行處理，且加熱輥之溫度宜為60℃~120℃。積層體進行乾燥收縮處理所得寬度方向之收縮率宜為1%~10%根據所述製造方法可獲得在上述A-2項所說明之偏光件。尤其是藉由下述方式可獲得具有優異光學特性(代表上為單體透射率及偏光度)之偏光件：製作包含含有鹵化物之PVA系樹脂層的積層體後，將上述積層體之延伸進行包含空中輔助延伸及水中延伸的多階段延伸，再將延伸後之積層體以加熱輥進行加熱。

A-3-1.積層體之製作 製作熱塑性樹脂基材與PVA系樹脂層之積層體的方法可採用任意適當之方法。宜將含鹵化物與PVA系樹脂之塗佈液塗佈於熱塑性樹脂基材之表面並乾燥，藉此於熱塑性樹脂基材上形成PVA系樹脂層。如上述，PVA系樹脂層中之鹵化物之含量相對於PVA系樹脂100重量份宜為5重量份~20重量份。

塗佈液之塗佈方法可採用任意適當的方法。例如可舉出輥塗法、旋塗法、線棒塗佈法、浸塗法、模塗法、簾塗法、噴塗法、刮刀式塗佈法(缺角輪塗佈法等)等。上述塗佈液之塗佈、乾燥溫度宜為50℃以上。

PVA系樹脂層之厚度宜為2µm~30µm，更宜為2µm~20µm。藉由使延伸前之PVA系樹脂層之厚度如所述非常薄且如後述縮小總延伸倍率，可獲得即便定向函數非常小卻具有可容許之單體透射率及偏光度之偏光件。

在形成PVA系樹脂層之前，可對熱塑性樹脂基材施行表面處理(例如電暈處理等)，也可於熱塑性樹脂基材上形成易接著層。藉由進行所述處理，可提升熱塑性樹脂基材與PVA系樹脂層之密著性。

A-3-1-1.熱塑性樹脂基材 熱塑性樹脂基材可採用任意適當的熱塑性樹脂薄膜。關於熱塑性樹脂薄膜基材的詳細內容，例如記載於日本專利特開2012-73580號公報或日本專利第6470455號。本說明書中係援用該公報整體之記載作為參考。

A-3-1-2.塗佈液 塗佈液係如上述包含鹵化物與PVA系樹脂。上述塗佈液代表上係使上述鹵化物及上述PVA系樹脂溶解於溶劑而成之溶液。作為溶劑，可舉例如水、二甲基亞碸、二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺、N-甲基吡咯啶酮、各種甘醇類、三羥甲丙烷等多元醇類、伸乙二胺、二伸乙三胺等胺類。該等可單獨使用或可將二種以上組合來使用。該等中又以水為佳。溶液之PVA系樹脂濃度相對於溶劑100重量份宜為3重量份~20重量份。若為所述樹脂濃度，便可形成密著於熱塑性樹脂基材之均勻的塗佈膜。塗佈液中之鹵化物之含量相對於PVA系樹脂100重量份宜為5重量份~20重量份。

塗佈液中亦可摻混添加劑。添加劑可舉例如塑化劑、界面活性劑等。塑化劑可舉例如乙二醇或甘油等多元醇。界面活性劑可舉例如非離子界面活性劑。該等可為了更提升所得PVA系樹脂層的均勻性或染色性、延伸性而使用。

上述PVA系樹脂可採用任意適當的樹脂。可舉例如聚乙烯醇及乙烯-乙烯醇共聚物。聚乙烯醇可藉由將聚乙酸乙烯酯皂化而得。乙烯-乙烯醇共聚物可藉由將乙烯-乙酸乙烯酯共聚物皂化而獲得。PVA系樹脂之皂化度通常為85莫耳%~100莫耳%，宜為95.0莫耳%~99.95莫耳%，更宜為99.0莫耳%~99.93莫耳%。皂化度可依循JIS K 6726-1994而求得。藉由使用所述皂化度的PVA系樹脂，可獲得耐久性優異的偏光件。皂化度過高時，會有膠化之虞。如上述，PVA系樹脂宜包含經乙醯乙醯基改質之PVA系樹脂。

PVA系樹脂的平均聚合度可按目的適當選擇。平均聚合度通常為1000~10000，宜為1200~4500，更宜為1500~4300。此外，平均聚合度可依循JIS K 6726-1994而求得。

上述鹵化物可採用任意適當之鹵化物。可舉例如碘化物及氯化鈉。碘化物可舉例如碘化鉀、碘化鈉及碘化鋰。該等之中又以碘化鉀為佳。

塗佈液中之鹵化物之量相對於PVA系樹脂100重量份宜為5重量份~20重量份，較佳為相對於PVA系樹脂100重量份為10重量份~15重量份。若鹵化物相對於PVA系樹脂100重量份之量大於20重量份，則有鹵化物溢出而最後獲得之偏光件變白濁之情形。

一般而言，PVA系樹脂層經延伸，PVA樹脂層中之聚乙烯醇分子之定向性會變高，但若將延伸後之PVA系樹脂層浸漬於含水之液體中，則有聚乙烯醇分子之定向紊亂而定向性降低之情形。尤其是在對熱塑性樹脂基材與PVA系樹脂層之積層體進行硼酸水中延伸時，為了使熱塑性樹脂基材之延伸穩定而在相對較高溫度下將上述積層體在硼酸水中進行延伸時，上述定向度降低之傾向很明顯。舉例而言，PVA薄膜單體在硼酸水中之延伸一般係在60℃下進行，相對於此，A-PET(熱塑性樹脂基材)與PVA系樹脂層之積層體之延伸係在70℃前後之溫度的較高溫度下進行，此時，延伸初始之PVA的定向性會在藉由水中延伸而上升之前的階段便降低。對此，藉由製作含鹵化物之PVA系樹脂層與熱塑性樹脂基材之積層體，並將積層體於在硼酸水中進行延伸前在空氣中進行高溫延伸(輔助延伸)，可促進輔助延伸後之積層體之PVA系樹脂層中的PVA系樹脂之結晶化。結果，在將PVA系樹脂層浸漬於液體中時，相較於PVA系樹脂層不含鹵化物之情況，更能抑制聚乙烯醇分子之定向紊亂及定向性降低。藉此，可提升經由染色處理及水中延伸處理等將積層體浸漬於液體中來進行的處理步驟而得之偏光件的光學特性。

A-3-2.空中輔助延伸處理 尤其為了獲得高光學特性，會選擇組合乾式延伸(輔助延伸)與硼酸水中延伸之2段延伸之方法。如2段延伸之方式，藉由導入輔助延伸，可一邊抑制熱塑性樹脂基材之結晶化一邊進行延伸。並且，在將PVA系樹脂塗佈於熱塑性樹脂基材上時，為了抑制熱塑性樹脂基材之玻璃轉移溫度之影響，必須使塗佈溫度比將PVA系樹脂塗佈於一般的金屬滾筒上之情況更低，結果會產生PVA系樹脂之結晶化相對變低而無法獲得充分光學特性之問題。對此，藉由導入輔助延伸，即使是在將PVA系樹脂塗佈於熱塑性樹脂上之情況下仍可提升PVA系樹脂之結晶性，而可達成高光學特性。又，同時事先提高PVA系樹脂之定向性，可防止在之後的染色步驟或延伸步驟中浸漬於水中時，PVA系樹脂之定向性降低或溶解等問題，而可達成高光學特性。

空中輔助延伸之延伸方法可為固定端延伸(例如使用拉幅延伸機進行延伸之方法)，亦可為自由端延伸(例如使積層體通過周速相異之輥間進行單軸延伸之方法)。為了獲得高光學特性，可積極採用自由端延伸。在一實施形態中，空中延伸處理包含加熱輥延伸步驟，該步驟係將上述積層體一邊沿其長邊方向輸送一邊利用加熱輥間之周速差進行延伸。空中延伸處理代表上包含區域(zone)延伸步驟與加熱輥延伸步驟。另，區域延伸步驟與加熱輥延伸步驟之順序無限定，可先進行區域延伸步驟，亦可先進行加熱輥延伸步驟。亦可省略區域延伸步驟。在一實施形態中，係依序進行區域延伸步驟及加熱輥延伸步驟。又，在另一實施形態中，係於拉幅延伸機中把持薄膜端部，並將拉幅機間之距離往行進方向擴大來延伸(拉幅機間距離的增幅即為延伸倍率)。此時，寬度方向(相對於行進方向為垂直方向)之拉幅機的距離係設定成可任意接近。宜可設定成相對於行進方向之延伸倍率來利用自由端延伸作接近。為自由端延伸時，係以寬度方向之收縮率=(1/延伸倍率)^1/2 來計算。

空中輔助延伸可在一階段中進行亦可分多階段進行。分多階段進行時，延伸倍率為各階段之延伸倍率之積。空中輔助延伸中之延伸方向宜與水中延伸之延伸方向大致相同。

空中輔助延伸之延伸倍率宜為1.0倍~4.0倍，較宜為1.5倍~3.5倍，更宜為2.0倍~3.0倍。空中輔助延伸之延伸倍率若在所述範圍內，便可在與水中延伸組合時將延伸之總倍率設定為所期望之範圍，而可實現所期望之定向函數。結果可獲得加熱造成之裂痕發生經抑制的附相位差層之偏光板。並且，如上述，空中輔助延伸之延伸倍率宜大於硼酸水中延伸之延伸倍率。藉由製成所述構成，即便延伸之總倍率小，仍可獲得具有可容許之光學特性之偏光件。更詳細而言，空中輔助延伸之延伸倍率與水中延伸之延伸倍率的比(水中延伸/空中輔助延伸)宜為0.4~0.9，較宜為0.5~0.8。

空中輔助延伸之延伸溫度可因應熱塑性樹脂基材之形成材料、延伸方式等設定成任意適當之值。延伸溫度宜為熱塑性樹脂基材之玻璃轉移溫度(Tg)以上，更宜為熱塑性樹脂基材之玻璃轉移溫度(Tg)+10℃以上，尤宜為Tg+15℃以上。另一方面，延伸溫度之上限宜為170℃。藉由在所述溫度下延伸可抑制PVA系樹脂之結晶化急速進展，而可抑制該結晶化所造成的不良情況(例如，因延伸而妨礙PVA系樹脂層之定向)。

A-3-3.不溶解處理、染色處理及交聯處理 視需要，在空中輔助延伸處理之後且在水中延伸處理或染色處理之前，施行不溶解處理。上述不溶解處理代表上係將PVA系樹脂層浸漬於硼酸水溶液中來進行。上述染色處理代表上係以二色性物質(代表上為碘)將PVA系樹脂層染色來進行。視需要，在染色處理之後且在水中延伸處理之前，施行交聯處理。上述交聯處理代表上可藉由使PVA系樹脂層浸漬於硼酸水溶液中來進行。關於不溶解處理、染色處理及交聯處理的詳細內容，例如記載於日本專利特開2012-73580號公報(上述)。

A-3-4.水中延伸處理 水中延伸處理係使積層體浸漬於延伸浴來進行。藉由水中延伸處理，可在比上述熱塑性樹脂基材或PVA系樹脂層之玻璃轉移溫度(代表上為80℃左右)更低的溫度下延伸，而可一邊抑制PVA系樹脂層結晶化一邊進行延伸。結果可製出具有優異光學特性之偏光件。

積層體之延伸方法可採用任意適當的方法。具體而言，可為固定端延伸，亦可為自由端延伸(例如使積層體通過周速相異之輥間進行單軸延伸的方法)。宜選擇自由端延伸。積層體之延伸可在一階段中進行亦可分多階段進行。分多階段進行時，延伸之總倍率為各階段之延伸倍率之積。

水中延伸宜使積層體浸漬於硼酸水溶液中來進行(硼酸水中延伸)。藉由使用硼酸水溶液作為延伸浴，可對PVA系樹脂層賦予得以承受延伸時施加之張力的剛性與不溶於水的耐水性。具體上，硼酸在水溶液中會生成四羥基硼酸陰離子而可藉由氫鍵與PVA系樹脂交聯。結果可賦予PVA系樹脂層剛性與耐水性，進行良好地延伸，從而製出具有優異光學特性之偏光件。

上述硼酸水溶液宜使硼酸及/或硼酸鹽溶解於屬溶劑的水而獲得。硼酸濃度相對於水100重量份宜為1重量份~10重量份，較宜為2.5重量份~6重量份，尤宜為3重量份~5重量份。藉由將硼酸濃度設為1重量份以上，可有效抑制PVA系樹脂層之溶解，製造特性更高之偏光件。此外，除硼酸或硼酸鹽外，亦可使用將硼砂等之硼化合物、乙二醛、戊二醛等溶解於溶劑而得之水溶液。

宜於上述延伸浴(硼酸水溶液)中摻混碘化物。藉由摻混碘化物，可抑制已吸附於PVA系樹脂層之碘的溶出。碘化物之具體例如上述。碘化物之濃度相對於水100重量份宜為0.05重量份~15重量份，較宜為0.5重量份~8重量份。

延伸溫度(延伸浴之液溫)宜為40℃~85℃，較宜為60℃~75℃。若為所述溫度，便可抑制PVA系樹脂層溶解，同時又可高倍率地延伸。具體而言如上所述，以與形成PVA系樹脂層之關係來說，熱塑性樹脂基材之玻璃轉移溫度(Tg)以60℃以上為宜。此時，延伸溫度若低於40℃，則即使考慮以水將熱塑性樹脂基材塑化，也恐無法良好地延伸。另一方面，延伸浴之溫度愈高溫，PVA系樹脂層之溶解性就愈高，而恐無法獲得優異的光學特性。積層體浸漬於延伸浴之浸漬時間宜為15秒~5分鐘。

水中延伸進行之延伸倍率宜為1.0倍~2.2倍，較宜為1.1倍~2.0倍，更宜為1.1倍~1.8倍，又更宜為1.2倍~1.6倍。水中延伸之延伸倍率若在所述範圍內，便可將延伸之總倍率設定為所期望之範圍，而可實現所期望之雙折射、面內相位差及/或定向函數。結果可獲得加熱造成之裂痕發生經抑制的附相位差層之偏光板。延伸之總倍率(組合空中輔助延伸與水中延伸時之延伸倍率的合計)如上述，相對於積層體之原長宜為3.0倍~4.5倍，較宜為3.0倍~4.3倍，更宜為3.0倍~4.0倍。藉由適當組合對塗佈液添加鹵化物、調整空中輔助延伸及水中延伸之延伸倍率、及乾燥收縮處理，即便為所述延伸之總倍率，仍可獲得具有可容許之光學特性之偏光件。

A-3-5.乾燥收縮處理 上述乾燥收縮處理可透過將區域整體加熱所進行之區域加熱來進行，亦可透過將輸送輥加熱(所謂使用加熱輥)來進行(加熱輥乾燥方式)。較佳為使用這兩者。藉由使用加熱輥使其乾燥，可有效率地抑制積層體之加熱捲曲，而製造出外觀優異的偏光件。具體而言，藉由在使積層體沿附加熱輥之狀態下進行乾燥，可有效率地促進上述熱塑性樹脂基材之結晶化而增加結晶度，即使是在相對較低的乾燥溫度下，仍可良好增加熱塑性樹脂基材之結晶度。結果熱塑性樹脂基材之剛性增加而成為得以承受PVA系樹脂層因乾燥而收縮的狀態，從而捲曲受到抑制。又，藉由使用加熱輥，可在將積層體維持平坦狀態的同時進行乾燥，因此不只能抑制捲曲還能抑制起皺的發生。此時，積層體可透過乾燥收縮處理使其於寬度方向收縮，來提升光學特性。其係因可有效提升PVA及PVA/碘錯合物之定向性之故。積層體進行乾燥收縮處理所得寬度方向之收縮率宜為1%~10%，較宜為2%~8%，尤宜為4%~6%。

圖2係顯示乾燥收縮處理之一例的概略圖。在乾燥收縮處理中，係利用已加熱至預定溫度的輸送輥R1~R6與導輥G1~G4來一邊輸送積層體50一邊使其乾燥。在圖式例中，係將輸送輥R1~R6配置成可交替連續加熱PVA樹脂層之面與熱塑性樹脂基材之面，但例如亦可將輸送輥R1~R6配置成僅連續加熱積層體50的其中一面(例如熱塑性樹脂基材面)。

藉由調整輸送輥之加熱溫度(加熱輥之溫度)、加熱輥之數量及與加熱輥的接觸時間等，可控制乾燥條件。加熱輥之溫度宜為60℃~120℃，更宜為65℃~100℃，尤宜為70℃~80℃。可在可良好地增加熱塑性樹脂之結晶度而良好地抑制捲曲的同時，製造出耐久性極優異的光學積層體。另，加熱輥之溫度可以接觸式溫度計來測定。在圖式例中設置有6個輸送輥，惟輸送輥若為複數個則無特別限制。輸送輥通常為2個~40個，宜設置4個~30個。積層體與加熱輥之接觸時間(總接觸時間)以1秒~300秒為宜，以1~20秒較佳，以1~10秒更佳。

加熱輥可設置於加熱爐(例如烘箱)內，亦可設置於一般的製造產線(室溫環境下)。宜設置於具備送風機構的加熱爐內。藉由併用以加熱輥進行之乾燥與熱風乾燥，可抑制在加熱輥間急遽的溫度變化，而可容易控制寬度方向之收縮。熱風乾燥之溫度宜為30℃~100℃。且，熱風乾燥時間宜為1秒~300秒。熱風之風速宜為10m/s~30m/s左右。此外，該風速係在加熱爐內之風速，可以迷你扇葉型數位風速計來測定。

A-3-6.其他處理 宜在水中延伸處理之後且在乾燥收縮處理之前，施行洗淨處理。上述洗淨處理代表上可藉由使PVA系樹脂層浸漬於碘化鉀水溶液中來進行。

A-4.第1保護層 上述第1保護層之厚度為10µm以下。藉由第1保護層之厚度為10µm以下，可有助於偏光板之薄型化。又，以往由追隨偏光件在加熱時之收縮來保護偏光件之觀點，係使用具有20µm以上之厚度的保護層。對此，本發明實施形態所用偏光件如同上述，PVA系樹脂之定向度較以往更低，結果因加熱造成之收縮小，故即便在使用厚度在10µm以下之保護層之情況下，仍可抑制加熱時之裂痕發生。

第1保護層之厚度宜為7µm以下，較宜為5µm以下，更宜為3µm以下。第1保護層之厚度例如為1µm以上。

第1保護層係以樹脂膜構成。形成樹脂膜之樹脂可按目的使用任意適當之樹脂。具體例可舉(甲基)丙烯酸系、三醋酸纖維素(TAC)等纖維素系樹脂、聚酯系、聚胺甲酸酯系、聚乙烯醇系、聚碳酸酯系、聚醯胺系、聚醯亞胺系、聚醚碸系、聚碸系、聚苯乙烯系、聚降莰烯系、聚烯烴系及乙酸酯系等熱塑性樹脂；(甲基)丙烯酸系、胺甲酸酯系、(甲基)丙烯酸胺甲酸酯系、環氧系、聚矽氧系等熱硬化型樹脂或活性能量線硬化型樹脂；矽氧烷系聚合物等玻璃質系聚合物。在一實施形態中，形成樹脂膜之樹脂可使用選自環氧樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、聚酯系樹脂及胺甲酸酯系樹脂中之至少1種樹脂。

構成第1保護層之樹脂膜例如可為熔融樹脂之成形物，可為將樹脂溶解或分散於水性溶劑或有機溶劑而得之樹脂溶液之塗佈膜的固化物，亦可為硬化型樹脂之硬化物(例如光陽離子硬化物)。

在一實施形態中，第1保護層係以選自於由以下所構成群組中之至少1種構成：熱塑性(甲基)丙烯酸系樹脂(以下，有時僅將(甲基)丙烯酸系樹脂稱為「丙烯酸系樹脂」)之有機溶劑溶液的塗佈膜之固化物、環氧樹脂之光陽離子硬化物及環氧樹脂之有機溶劑溶液的塗佈膜之固化物。於以下進行具體說明。

A-4-1.熱塑性丙烯酸系樹脂之有機溶劑溶液的塗佈膜之固化物 在一實施形態中，第1保護層係以熱塑性丙烯酸系樹脂之有機溶劑溶液之塗佈膜的固化物所構成。由加濕耐久性之觀點來看，本實施形態之第1保護層的軟化溫度宜為100℃以上，較宜為115℃以上，更宜為120℃以上，尤宜為125℃以上；又，由成形性之觀點來看，宜為300℃以下，較宜為250℃以下，更宜為200℃以下，尤宜為160℃以下。

A-4-1-1.丙烯酸系樹脂 丙烯酸系樹脂之玻璃轉移溫度(Tg)宜為100℃以上。結果，第1保護層之軟化溫度亦幾乎成為100℃以上。丙烯酸系樹脂之Tg若在100℃以上，包含從所述樹脂所得之保護層的偏光板會成為不僅抗裂痕耐性優異，加濕耐久性亦優異者。丙烯酸系樹脂之Tg較宜為110℃以上，更宜為115℃以上，又更宜為120℃以上，尤宜為125℃以上。另一方面，丙烯酸系樹脂之Tg宜為300℃以下，較宜為250℃以下，更宜為200℃以下，尤宜為160℃以下。丙烯酸系樹脂之Tg若在所述範圍內，成形性便佳。

丙烯酸系樹脂只要具有如上述之Tg，便可採用任意適當之丙烯酸系樹脂。丙烯酸系樹脂在代表上含有(甲基)丙烯酸烷基酯為主成分作為單體單元(重複單元)。本說明書中，「(甲基)丙烯酸」意指丙烯酸及/或甲基丙烯酸。構成丙烯酸系樹脂之主骨架的(甲基)丙烯酸烷基酯，可例示直鏈狀或支鏈狀烷基之碳數1~18者。該等可單獨使用或可組合來使用。並且亦可藉由共聚而於丙烯酸系樹脂導入任意適當的共聚單體。源自(甲基)丙烯酸烷基酯之重複單元代表上由下述通式(1)所示：

[化學式1]

通式(1)中，R⁴ 表示氫原子或甲基，R⁵ 表示氫原子或可被取代之碳數1~6脂肪族或脂環式烴基。取代基可舉例如鹵素、羥基。(甲基)丙烯酸烷基酯之具體例可舉：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸三級丁酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸二環戊氧基乙酯、(甲基)丙烯酸二環戊酯、(甲基)丙烯酸氯甲酯、(甲基)丙烯酸2-氯乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸3-羥丙酯、(甲基)丙烯酸2,3,4,5,6-五羥己酯、(甲基)丙烯酸2,3,4,5-四羥戊酯、2-(羥甲基)丙烯酸甲酯、2-(羥甲基)丙烯酸乙酯、2-(羥乙基)丙烯酸甲酯。通式(1)中，R⁵ 宜為氫原子或甲基。因此，特別理想之(甲基)丙烯酸烷基酯為丙烯酸甲酯或甲基丙烯酸甲酯。

丙烯酸系樹脂可僅包含有單一的(甲基)丙烯酸烷基酯單元，亦可包含有複數個上述通式(1)中之R⁴ 及R⁵ 互異的(甲基)丙烯酸烷基酯單元。

丙烯酸系樹脂中之(甲基)丙烯酸烷基酯單元的含有比率宜為50莫耳%~98莫耳%，較宜為55莫耳%~98莫耳%，更宜為60莫耳%~98莫耳%，尤宜為65莫耳%~98莫耳%，最宜為70莫耳%~97莫耳%。含有比率若少於50莫耳%，恐無法充分發揮源自(甲基)丙烯酸烷基酯單元所展現之效果(例如高耐熱性、高透明性)。上述含有比率若多於98莫耳%，恐有樹脂變脆弱而容易破裂，無法充分發揮高機械強度，使生產性變差之疑慮。

丙烯酸系樹脂宜具有包含環結構之重複單元。包含環結構之重複單元可舉內酯環單元、戊二酸酐單元、戊二醯亞胺單元、馬來酸酐單元、馬來醯亞胺(N-取代馬來醯亞胺)單元。包含環結構之重複單元可僅1種含於丙烯酸系樹脂之重複單元中，亦可2種以上含於其中。

內酯環單元宜為下述通式(2)所示：

[化學式2] 通式(2)中，R¹ 、R² 及R³ 分別獨立表示氫原子或碳數1~20之有機殘基。此外，有機殘基亦可包含有氧原子。丙烯酸系樹脂中可僅包含有單一的內酯環單元，亦可包含有複數個上述通式(2)中之R¹ 、R² 及R³ 互異的內酯環單元。具有內酯環單元之丙烯酸系樹脂已記載於例如日本專利特開2008-181078號公報中，而本說明書即援用該公報之記載作為參考。

戊二醯亞胺單元宜為下述通式(3)所示：

[化學式3]

通式(3)中，R¹¹ 及R¹² 分別獨立表示氫或碳數1~8烷基，R¹³ 表示氫、碳數1~18烷基、碳數3~12環烷基或碳數6~10芳基。通式(3)中，宜為R¹¹ 及R¹² 分別獨立為氫或甲基，R¹³ 為氫、甲基、丁基或環己基。較佳為R¹¹ 為甲基，R¹² 為氫，R¹³ 為甲基。丙烯酸系樹脂中可僅包含有單一的戊二醯亞胺單元，亦可包含有複數個上述通式(3)中之R¹¹ 、R¹² 及R¹³ 互異的戊二醯亞胺單元。具有戊二醯亞胺單元之丙烯酸系樹脂例如已記載於日本專利特開2006-309033號公報、日本專利特開2006-317560號公報、日本專利特開2006-328334號公報、日本專利特開2006-337491號公報、日本專利特開2006-337492號公報、日本專利特開2006-337493號公報、日本專利特開2006-337569號公報中，而本說明書即援用該公報之記載作為參考。此外，關於戊二酸酐單元，除了被上述通式(3)之R¹³ 取代之氮原子變為氧原子之外，皆適用有關戊二醯亞胺單元之上述說明。

關於馬來酸酐單元及馬來醯亞胺(N-取代馬來醯亞胺)單元可由名稱特定出結構，因此省略具體說明。

丙烯酸系樹脂中包含環結構之重複單元的含有比率宜為1莫耳%~50莫耳%，較宜為10莫耳%~40莫耳%，更宜為20莫耳%~30莫耳%。含有比率過少時，會有Tg低於100℃之情形，而有所得保護層之耐熱性、耐溶劑性及表面硬度不充分之情形。含有比率過多時，有成形性及透明性不充分之情形。

丙烯酸系樹脂亦可包含有(甲基)丙烯酸烷基酯單元及包含環結構之重複單元以外之重複單元。所述重複單元可舉源自可與構成上述單元之單體共聚之乙烯基系單體的重複單元(其他乙烯基系單體單元)。其他乙烯基系單體可舉例如：丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸、2-(羥甲基)丙烯酸、2-(羥乙基)丙烯酸、丙烯腈、甲基丙烯腈、乙基丙烯腈、烯丙基環氧丙基醚、馬來酸酐、伊康酸酐、N-甲基馬來醯亞胺、N-乙基馬來醯亞胺、N-環己基馬來醯亞胺、丙烯酸胺乙酯、丙烯酸丙基胺乙酯、甲基丙烯酸二甲基胺乙酯、甲基丙烯酸乙基胺丙酯、甲基丙烯酸環己基胺乙酯、N-乙烯基二乙胺、N-乙醯基乙烯基胺、烯丙基胺、甲基烯丙基胺、N-甲基烯丙基胺、2-異丙烯基-㗁唑啉、2-乙烯基-㗁唑啉、2-丙烯醯基-㗁唑啉、N-苯基馬來醯亞胺、甲基丙烯酸苯基胺乙酯、苯乙烯、α-甲基苯乙烯、對環氧丙基苯乙烯、對胺基苯乙烯、2-苯乙烯基-㗁唑啉等。該等可單獨使用亦可併用。其他乙烯基系單體單元之種類、數量、組合、含有比率等可按目的適當設定。

丙烯酸系樹脂之重量平均分子量宜為1000~2000000，較宜為5000~1000000，更宜為10000~500000，尤宜為50000~500000，最宜為60000~150000。重量平均分子量例如可使用凝膠滲透層析法(GPC系統，Tosoh(東曹)公司製)，以聚苯乙烯換算求得。此外，溶劑可使用四氫呋喃。

丙烯酸系樹脂可將上述單體單元適當組合來使用，並藉由任意適當之聚合方法來聚合。

本發明實施形態中，亦可併用丙烯酸系樹脂與其他樹脂。亦即，可將構成丙烯酸系樹脂之單體成分與構成其他樹脂之單體成分共聚，並將該共聚物供於後述保護層之成形；亦可將丙烯酸系樹脂與其他樹脂之摻合物供於保護層之成形。其他樹脂可舉例如苯乙烯系樹脂、聚乙烯、聚丙烯、聚醯胺、聚伸苯硫醚、聚醚醚酮、聚酯、聚碸、聚伸苯醚、聚縮醛、聚醯亞胺、聚醚醯亞胺等熱塑性樹脂。併用之樹脂的種類及摻混量可按目的及對所得薄膜所期望之特性等來適當設定。例如苯乙烯系樹脂(宜為丙烯腈-苯乙烯共聚物)可作為相位差控制劑來併用。

本實施形態之第1保護層中丙烯酸系樹脂之含量宜為50重量%~100重量%，較宜為60重量%~100重量%，更宜為70重量%~100重量%，尤宜為80重量%~100重量%。含量小於50重量%時，恐有無法充分反映丙烯酸系樹脂原本具有之高耐熱性、高透明性之虞。

本實施形態之第1保護層例如可藉由於偏光件表面塗佈丙烯酸系樹脂之有機溶劑溶液而形成塗佈膜，並使該塗佈膜固化來形成。

有機溶劑可使用可將丙烯酸系樹脂溶解或均勻分散之任意適當之有機溶劑。有機溶劑之具體例可舉乙酸乙酯、甲苯、甲基乙基酮(MEK)、甲基異丁基酮(MIBK)、環戊酮、環己酮。

溶液之丙烯酸系樹脂濃度相對於溶劑100重量份宜為3重量份~20重量份。若為所述樹脂濃度，便可形成密著於偏光件且均勻的塗佈膜。

溶液可塗佈於任意適當之基材上，亦可塗佈於偏光件上。當塗佈於基材時，形成於基材上的塗佈膜之固化物會轉印至偏光件上。當塗佈於偏光件時，藉由使塗佈膜乾燥(固化)，而於偏光件上直接形成第1保護層。較佳為溶液塗佈於偏光件上，而於偏光件上直接形成第1保護層。若為所述構成，便可省略轉印所需之接著劑層或黏著劑層，故可使偏光板更薄。溶液之塗佈方法可採用任意適當的方法。具體例可列舉輥塗法、旋塗法、線棒塗佈法、浸塗法、模塗法、簾塗法、噴塗法、刮刀塗佈法(缺角輪塗佈法等)。

藉由使溶液之塗佈膜乾燥(固化)，可形成第1保護層。乾燥溫度宜為100℃以下，較宜為50℃~70℃。乾燥溫度若在所述範圍內，便可防止對偏光件造成不良影響。乾燥時間可按乾燥溫度變化。乾燥時間例如可為1分鐘~10分鐘。

A-4-2.環氧樹脂之光陽離子硬化物 在一實施形態中，第1保護層係以環氧樹脂之光陽離子硬化物構成。藉由使用所述保護層，可抑制裂痕發生，且可獲得優異之加濕耐久性。如上述，第1保護層為光陽離子硬化物，故保護層形成用組成物包含光陽離子聚合引發劑。光陽離子聚合引發劑係具有光酸產生劑之功能的感光劑，代表上可舉由陽離子部與陰離子部構成之離子性鎓鹽。在該鎓鹽中，陽離子部會吸收光，而陰離子部會成為酸的產生源。藉由從該光陽離子聚合引發劑產生之酸，進行環氧基之開環聚合。屬所得光陽離子硬化物之第1保護層之軟化溫度高，可降低碘吸附量。因此，可提供一種裂痕發生經抑制且具有優異加濕耐久性之偏光板。

由加濕耐久性之觀點來看，本實施形態之第1保護層的軟化溫度宜為100℃以上，較宜為110℃以上，更宜為120℃以上，尤宜為125℃以上；又，由成形性之觀點來看，宜為300℃以下，較宜為250℃以下，更宜為200℃以下，尤宜為160℃以下。

A-4-2-1.環氧樹脂 環氧樹脂可使用任意適當之環氧樹脂，且可適宜使用具有芳香環或脂環之環氧樹脂。在本實施形態中，宜使用具有選自於由芳香族骨架及經氫化之芳香族骨架所構成群組中之至少1種的環氧樹脂。芳香族骨架可舉例如苯環、萘環、茀環等。環氧樹脂可僅使用1種亦可組合2種以上來使用。宜可使用具有聯苯骨架或雙酚骨架作為芳香族骨架之環氧樹脂或其氫化物。藉由使用所述環氧樹脂，可提供一種具有更優異之耐久性且撓曲性亦優異之偏光板。以下作為代表例，詳細說明具有聯苯骨架之環氧樹脂。

在一實施形態中，具有聯苯骨架之環氧樹脂係包含以下結構之環氧樹脂。具有聯苯骨架之環氧樹脂可僅使用1種，亦可組合2種以上來使用。 [化學式4] (式中，R¹⁴ ~R²¹ 分別獨立表示氫原子、碳數1~12之直鏈狀或支鏈狀之取代或非取代的烴基、或鹵素元素)。

R¹⁴ ~R²¹ 分別獨立表示氫原子、碳數1~12之直鏈狀或支鏈狀之取代或非取代的烴基、或鹵素元素。碳數1~12之直鏈狀或支鏈狀之取代或非取代的烴基可舉例如：甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、二級丁基、三級丁基、正戊基、異戊基、新戊基、三級戊基、環戊基、正己基、異己基、環己基、正庚基、環庚基、甲基環己基、正辛基、環辛基、正壬基、3,3,5-三甲基環己基、正癸基、環癸基、正十一基、正十二基、環十二基、苯基、苄基、甲基苄基、二甲基苄基、三甲基苄基、萘基甲基、苯乙基、2-苯基異丙基等。碳數1~12之直鏈狀或支鏈狀之取代或非取代的烴基宜為甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基等碳數1~4烷基。鹵素元素可舉氟及溴。

在一實施形態中，具有聯苯骨架之環氧樹脂為下式所示環氧樹脂。 [化學式5] (式中，R¹⁴ ~R²¹ 如上述，n表示0~6之整數)。

在一實施形態中，具有聯苯骨架之環氧樹脂為僅具有聯苯骨架之環氧樹脂。藉由使用僅具有聯苯骨架之環氧樹脂，可更提升所得保護層之耐久性。

在一實施形態中，具有聯苯骨架之環氧樹脂亦可包含有聯苯骨架以外之化學結構。聯苯骨架以外之化學結構可舉例如雙酚骨架、脂環式結構、芳香族環結構等。在該實施形態中，聯苯骨架以外之化學結構的比率(莫耳比)宜少於聯苯骨架。

具有聯苯骨架之環氧樹脂亦可使用市售物。市售物可舉例如Mitsubishi Chemical Co.製，商品名：jER YX4000、jER YX4000H、jER YL6121、jER YL664、jER YL6677、jER YL6810、jER YL7399等。

上述環氧樹脂(光陽離子硬化後之環氧樹脂)宜為玻璃轉移溫度(Tg)在100℃以上。結果，保護層之軟化溫度亦幾乎成為100℃以上。環氧樹脂之Tg若為100℃以上，包含所得保護層之偏光板便容易成為耐久性優異者。環氧樹脂之Tg較宜為110℃以上，更宜為120℃以上，尤宜為125℃以上。另一方面，環氧樹脂之Tg宜為300℃以下，較宜為250℃以下，更宜為200℃以下，尤宜為160℃以下。環氧樹脂之Tg若在所述範圍內，成形性便可優異。

上述環氧樹脂之環氧當量宜為100g/當量以上，較宜為150g/當量以上，更宜為200g/當量以上。又，環氧樹脂之環氧當量宜為3000g/當量以下，較宜為2500g/當量以下，更宜為2000g/當量以下。藉由環氧當量為上述範圍，可獲得更穩定的保護層(殘存單體少且已充分硬化之保護層)。另，在本說明書中，「環氧當量」意指「包含1當量環氧基之環氧樹脂的質量」，可依循JIS K7236進行測定。

本實施形態中，亦可併用上述環氧樹脂與其他樹脂。即，亦可將上述環氧樹脂(例如具有選自於由芳香族骨架及經氫化之芳香族骨架所構成群組中之至少1種的環氧樹脂)與其他樹脂之摻合物供於保護層之成形。其他樹脂可舉例如苯乙烯系樹脂、聚乙烯、聚丙烯、聚醯胺、聚伸苯硫醚、聚醚醚酮、聚酯、聚碸、聚伸苯醚、聚縮醛、聚醯亞胺、聚醚醯亞胺等熱塑性樹脂、丙烯酸系樹脂及氧雜環丁烷系樹脂等硬化型樹脂。宜可使用丙烯酸系樹脂及氧雜環丁烷系樹脂。併用之樹脂的種類及摻混量可按目的及對所得薄膜所期望之特性等來適當設定。舉例而言，苯乙烯系樹脂可作為相位差控制劑來併用。

丙烯酸系樹脂可使用任意適當之(甲基)丙烯酸系化合物。例如(甲基)丙烯酸系化合物可舉例如分子內具有一個(甲基)丙烯醯基之(甲基)丙烯酸系化合物(以下亦稱「單官能(甲基)丙烯酸系化合物」)、分子內具有二個以上(甲基)丙烯醯基之(甲基)丙烯酸系化合物(以下亦稱「多官能(甲基)丙烯酸系化合物」)。該等(甲基)丙烯酸系化合物可單獨使用，亦可組合2種以上來使用。關於該等丙烯酸系樹脂例如記載於日本專利特開2019-168500號公報中。本說明書中係援用該公報整體之記載作為參考。

氧雜環丁烷樹脂可使用分子內具有1個以上氧雜環丁烷基之任意適當的化合物。可舉例如：3-乙-3-羥甲基氧雜環丁烷、3-乙-3-(2-乙基己基氧基甲基)氧雜環丁烷、3-乙-3-(苯氧基甲基)氧雜環丁烷、3-乙-3-(環己基氧基甲基)氧雜環丁烷、3-乙-3-(環氧乙烷基甲氧基)氧雜環丁烷、(甲基)丙烯酸(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲酯等分子內具有1個氧雜環丁烷基之氧雜環丁烷化合物；3-乙-3{[(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲氧基]甲基}氧雜環丁烷、1,4-雙[(3-乙-3-氧雜環丁烷基)甲氧基甲基]苯、4,4'-雙[(3-乙-3-氧雜環丁烷基)甲氧基甲基]聯苯等分子內具有2個以上氧雜環丁烷基之氧雜環丁烷化合物等。該等氧雜環丁烷樹脂可僅使用1種亦可組合2種以上。

氧雜環丁烷樹脂宜可使用3-乙-3-羥甲基氧雜環丁烷、1,4-雙[(3-乙-3-氧雜環丁烷基)甲氧基甲基]苯、3-乙-3-(2-乙基己基氧基甲基)氧雜環丁烷、3-乙-3-(環氧乙烷基甲氧基)氧雜環丁烷、(甲基)丙烯酸(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲酯、3-乙-3{[(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲氧基]甲基}氧雜環丁烷等。該等氧雜環丁烷樹脂可輕易取得，且稀釋性(低黏度)、相溶性優異。

在一實施形態中，由相溶性或接著性之觀點來看，宜使用分子量500以下且在室溫(25℃)下呈液態的氧雜環丁烷樹脂。在一實施形態中，宜使用分子內含有2個以上氧雜環丁烷基之氧雜環丁烷化合物、分子內含有1個氧雜環丁烷基與1個(甲基)丙烯醯基或1個環氧基之氧雜環丁烷化合物，較宜使用3-乙-3{[(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲氧基]甲基}氧雜環丁烷、3-乙-3-(環氧乙烷基甲氧基)氧雜環丁烷、(甲基)丙烯酸(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲酯。藉由使用該等氧雜環丁烷樹脂可提升保護層之硬化性及耐久性。

氧雜環丁烷樹脂亦可使用市售物。具體上，可使用ARON OXETANE OXT-101、ARON OXETANE OXT-121、ARON OXETANE OXT-212、ARON OXETANE OXT-221(皆為東亞合成公司製)。宜可使用ARON OXETANE OXT-101及ARON OXETANE OXT-221。

本實施形態之第1保護層中，上述環氧樹脂(例如具有選自於由芳香族骨架及經氫化之芳香族骨架所構成群組中之至少1種的環氧樹脂)之含量宜為50重量%~100重量%，較宜為60重量%~100重量%，更宜為70重量%~100重量%，尤宜為80重量%~100重量%。當含量小於50重量%時，恐無法獲得保護層之耐熱性及與偏光件之充分密著性。

當併用具有聯苯骨架或雙酚骨架之環氧樹脂與氧雜環丁烷樹脂時，相對於環氧系樹脂與氧雜環丁烷樹脂之合計量100重量份，氧雜環丁烷樹脂之含量宜為1重量份~50重量份，較宜為5重量份~45重量份，更宜為10重量份~40重量份。藉由設為上述範圍，可提升硬化性，亦可提升保護層與偏光件之密著性。

A-4-2-2.光陽離子聚合引發劑 光陽離子聚合引發劑係具有光酸產生劑之功能的感光劑，代表上可舉由陽離子部與陰離子部構成之離子性鎓鹽。在該鎓鹽中，陽離子部會吸收光，而陰離子部會成為酸的產生源。藉由從該光陽離子聚合引發劑產生之酸，進行環氧基之開環聚合。光陽離子聚合引發劑可使用可藉由紫外線等光照射使具有選自於由芳香族骨架及經氫化之芳香族骨架所構成群組中之至少1種的環氧樹脂硬化的任意適當之化合物。光陽離子聚合引發劑可僅使用1種，亦可組合2種以上來使用。

光陽離子聚合引發劑可舉例如三苯基鋶六氟銻酸鹽、三苯基鋶六氟磷酸鹽、對(苯硫基)苯基二苯基鋶六氟銻酸鹽、對(苯硫基)苯基二苯基鋶六氟磷酸鹽、4-氯苯基二苯基鋶六氟磷酸鹽、4-氯苯基二苯基鋶六氟銻酸鹽、雙[4-(二苯基鋶基)苯基]硫醚雙六氟磷酸鹽、雙[4-(二苯基鋶基)苯基]硫醚雙六氟銻酸鹽、(2,4-環戊二烯-1-基)[(1-甲基乙基)苯]-Fe-六氟磷酸鹽、二苯基碘鎓六氟銻酸鹽等。宜使用三苯基鋶鹽系六氟銻酸鹽型之光陽離子聚合引發劑、二苯基碘鎓鹽系六氟銻酸鹽型之光陽離子聚合引發劑。

光陽離子聚合引發劑亦可使用市售物。市售物可舉三苯基鋶鹽系六氟銻酸鹽型之SP-170(ADEKA公司製)、CPI-101A(SAN-APRO公司製)、WPAG-1056(和光純藥工業公司製)、二苯基碘鎓鹽系六氟銻酸鹽型之WPI-116(和光純藥工業公司製)等。

相對於上述環氧樹脂(例如具有選自於由芳香族骨架及經氫化之芳香族骨架所構成群組中之至少1種的環氧樹脂)100重量份，光陽離子聚合引發劑之含量宜為0.1重量份~3重量份，較宜為0.25重量份~2重量份。當光陽離子聚合引發劑之含量小於0.1重量份時，有即便照射光(紫外線)仍未充分硬化之情形。

本實施形態之第1保護層例如可藉由塗佈包含上述環氧樹脂與光陽離子聚合引發劑之組成物而形成塗膜，並對該塗膜照射光(例如紫外線)而形成。

上述組成物中所含溶劑可使用可將環氧樹脂及硬化劑溶解或均勻分散之任意適當之溶劑。溶劑之具體例可舉乙酸乙酯、甲苯、甲基乙基酮(MEK)、甲基異丁基酮(MIBK)、環戊酮、環己酮。

上述組成物中之環氧樹脂濃度相對於溶劑100重量份宜為10重量份~30重量份。若為所述樹脂濃度，便可形成密著於偏光件且均勻的塗佈膜。

上述組成物可塗佈於任意適當之基材上，亦可塗佈於偏光件上。當塗佈於基材時，形成於基材上的塗佈膜之硬化物會轉印至偏光件上。當塗佈於偏光件時，例如藉由光照射使塗佈膜硬化，藉此於偏光件上直接形成第1保護層。宜為上述組成物塗佈於偏光件上，而於偏光件上直接形成第1保護層。若為所述構成，便可省略轉印所需之接著劑層或黏著劑層，故可使偏光板更薄。組成物之塗佈方法如上述。

藉由光照射使塗佈膜硬化時，可使用任意適當之光源以成為任意適當之照射量之方式對塗佈膜照射光(代表上為紫外線)。紫外線之光源例如可使用低壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、無電極燈、鹵素燈、碳弧燈、氙燈、金屬鹵素燈、化學燈、黑光燈、LED燈等。紫外線之照射量例如為2mJ/cm² ~3000mJ/cm² ，宜為10mJ/cm² ~2000mJ/cm² 。具體上，在使用高壓水銀燈作為光源時，照射量通常係在5mJ/cm² ~3000mJ/cm² 、宜在50mJ/cm² ~2000mJ/cm² 之條件下進行。使用無電極燈作為光源時，照射量通常係在2mJ/cm² ~2000mJ/cm² 、宜在10mJ/cm² ~1000mJ/cm² 之條件下進行。

照射時間可因應光源之種類、光源與塗佈面之距離、塗佈厚度及其他條件設定成任意適當之值。照射時間通常為數秒~數十秒，亦可為數分之1秒。光之照射可從任意適當之方向照射。由防止不均勻硬化之觀點下，宜從保護層形成用組成物之塗敷面側照射。

利用紫外線照射等光照射進行曝光後，為了使光反應進行之硬化結束，亦可進一步施行加熱處理。加熱處理可在任意適當之溫度及時間下進行。加熱溫度例如為80℃~250℃，宜為100℃~150℃。加熱時間例如為10秒~2小時，宜為5分鐘~1小時。

A-4-3.環氧樹脂之有機溶劑溶液的塗佈膜之固化物 在一實施形態中，第1保護層係以環氧樹脂之有機溶劑溶液的塗佈膜之固化物所構成。由加濕耐久性之觀點來看，本實施形態之第1保護層的軟化溫度宜為100℃以上，較宜為110℃以上，更宜為120℃以上，尤宜為125℃以上；又，由成形性之觀點來看，宜為300℃以下，較宜為250℃以下，更宜為200℃以下，尤宜為160℃以下。

A-4-3-1.環氧樹脂 在本實施形態中，環氧樹脂宜玻璃轉移溫度(Tg)為100℃以上。結果，保護層之軟化溫度亦幾乎成為100℃以上。環氧樹脂之Tg若在100℃以上，包含由這種樹脂所得保護層的偏光板便容易成為耐久性優異者。環氧樹脂之Tg較宜為110℃以上，更宜為120℃以上，尤宜為125℃以上。另一方面，環氧樹脂之Tg宜為300℃以下，較宜為250℃以下，更宜為200℃以下，尤宜為160℃以下。環氧樹脂之Tg若在所述範圍內，成形性便可優異。

環氧樹脂只要具有如上述之Tg，便可採用任意適當之環氧樹脂。環氧樹脂代表上係指分子結構內具有環氧基之樹脂。作為環氧樹脂宜可使用分子結構內具有芳香族環之環氧樹脂。藉由使用具有芳香族環之環氧樹脂，可獲得具有更高Tg之環氧樹脂。分子結構內具有芳香族環之環氧樹脂的芳香族環，可舉例如苯環、萘環、茀環等。環氧樹脂可僅使用1種亦可組合2種以上來使用。使用2種以上環氧樹脂時，亦可組合含芳香族環之環氧樹脂與不含芳香族環之環氧樹脂來使用。

分子結構內具有芳香族環之環氧樹脂具體上可列舉：雙酚A二環氧丙基醚型環氧樹脂、雙酚F二環氧丙基醚型環氧樹脂、雙酚S二環氧丙基醚型環氧樹脂、間苯二酚二環氧丙基醚型環氧樹脂、氫醌二環氧丙基醚型環氧樹脂、對苯二甲酸二環氧丙基酯型環氧樹脂、雙苯氧基乙醇茀二環氧丙基醚型環氧樹脂、雙酚茀二環氧丙基醚型環氧樹脂、雙甲酚茀二環氧丙基醚型環氧樹脂等具有2個環氧基之環氧樹脂；酚醛型環氧樹脂、N,N,O-三環氧丙基-對或-間-胺基苯酚型環氧樹脂、N,N,O-三環氧丙基-4-胺基-間-或-5-胺基-鄰甲酚型環氧樹脂、1,1,1-(三環氧丙基氧基苯基)甲烷型環氧樹脂等具有3個環氧基之環氧樹脂；環氧丙基胺型環氧樹脂(例如二胺基二苯甲烷型、二胺基二苯基碸型、間茬二胺型)等具有4個環氧基之環氧樹脂等。又，亦可使用六氫酞酸酐型環氧樹脂、四氫酞酸酐型環氧樹脂、二體酸型環氧樹脂、對氧基苯甲酸型等環氧丙基酯型環氧樹脂。

環氧樹脂之重量平均分子量宜為1000~2000000，較宜為5000~1000000，更宜為10000~500000，尤宜為50000~500000，最宜為60000~150000。重量平均分子量例如可使用凝膠滲透層析法(GPC系統，Tosoh(東曹)公司製)，以聚苯乙烯換算求得。此外，溶劑可使用四氫呋喃。

環氧樹脂之環氧當量宜為1000g/當量以上，較宜為3000g/當量以上，更宜為5000g/當量以上。又，環氧樹脂之環氧當量宜為30000g/當量以下，較宜為25000g/當量以下，更宜為20000g/當量以下。藉由令環氧當量為上述範圍，可獲得更穩定之保護層。另，在本說明書中，「環氧當量」意指「包含1當量環氧基之環氧樹脂的質量」，可依循JIS K7236進行測定。

本實施形態中，亦可併用環氧樹脂與其他樹脂。即，亦可將環氧樹脂與其他樹脂之摻合物供於保護層之成形。其他樹脂可舉例如苯乙烯系樹脂、聚乙烯、聚丙烯、聚醯胺、聚伸苯硫醚、聚醚醚酮、聚酯、聚碸、聚伸苯醚、聚縮醛、聚醯亞胺、聚醚醯亞胺等熱塑性樹脂。併用之樹脂的種類及摻混量可按目的及對所得薄膜所期望之特性等來適當設定。舉例而言，苯乙烯系樹脂可作為相位差控制劑來併用。

本實施形態之第1保護層中上述環氧樹脂之含量宜為50重量%~100重量%，較宜為60重量%~100重量%，更宜為70重量%~100重量%，尤宜為80重量%~100重量%。當含量小於50重量%時，恐無法獲得保護層之耐熱性及與偏光件之充分密著性。

本實施形態之第1保護層例如可藉由塗佈包含上述環氧樹脂之有機溶劑溶液而形成塗膜，並使該塗膜固化而形成。有機溶劑溶液中之環氧樹脂濃度相對於溶劑100重量份宜為3重量份~20重量份。若為所述樹脂濃度，便可形成密著於偏光件且均勻的塗佈膜。

上述有機溶劑可使用可將環氧樹脂溶解或均勻分散之任意適當之溶劑。溶劑之具體例可舉乙酸乙酯、甲苯、甲基乙基酮(MEK)、甲基異丁基酮(MIBK)、環戊酮、環己酮。

溶液可塗佈於任意適當之基材上，亦可塗佈於偏光件上。當塗佈於基材時，形成於基材上的塗佈膜之固化物會轉印至偏光件上。當塗佈於偏光件時，藉由使塗佈膜乾燥(固化)，而於偏光件上直接形成第1保護層。宜為溶液塗佈於偏光件上，而於偏光件上直接形成第1保護層。若為所述構成，便可省略轉印所需之接著劑層或黏著劑層，故可使偏光板更薄。溶液之塗佈方法如上述。

藉由使溶液之塗佈膜乾燥(固化)，可形成屬塗佈膜之固化物的保護層。乾燥溫度宜為100℃以下，較宜為50℃~70℃。乾燥溫度若在所述範圍內，便可防止對偏光件造成不良影響。乾燥時間可按乾燥溫度變化。乾燥時間例如可為1分鐘~10分鐘。

A-4-4.保護層之構成及特性 在一實施形態中，第1保護層如上述，係以選自於由以下所構成群組中之至少1種構成：熱塑性丙烯酸系樹脂之有機溶劑溶液的塗佈膜之固化物、環氧樹脂之光陽離子硬化物及環氧樹脂之有機溶劑溶液的塗佈膜之固化物。若為所述保護層，便可使其厚度較擠製成形薄膜薄上甚多。第1保護層之厚度如上述為10µm以下。又，雖理論上尚不明確，但這種保護層在薄膜成形時之收縮小於其他熱硬化性樹脂或活性能量線硬化性樹脂(例如紫外線硬化性樹脂)之硬化物，及不含殘存單體等，因此具有可抑制薄膜本身劣化且可抑制殘存單體等對偏光板(偏光件)造成不良影響的優點。並且，其吸濕性及透濕性小於水溶液或水分散體這類水系塗佈膜的固化物，因此具有加濕耐久性優異之優點。結果，可實現即便在加熱加濕環境下仍可維持光學特性之耐久性優異的偏光板。

第1保護層宜實質上在光學上具有各向同性。本說明書中，「實質上在光學上具有各向同性」意指面內相位差Re(550)為0nm~10nm，厚度方向之相位差Rth(550)為-20nm~+10nm。面內相位差Re(550)較宜為0nm~5nm，更宜為0nm~3nm，尤宜為0nm~2nm。厚度方向之相位差Rth(550)較宜為-5nm~5nm，更宜為-3nm~3nm，尤宜為-2nm~2nm。第1保護層之Re(550)及Rth(550)若在所述範圍內，在將包含該保護層之偏光板應用於影像顯示裝置時，便可防止對顯示特性帶來不良影響。

第1保護層在厚度3µm時在380nm下之透光率愈高愈佳。具體而言，光線透射率宜為85%以上，較宜為88%以上，更宜為90%以上。光線透射率若在所述範圍內，便可確保所期望之透明性。光線透射率例如可以依循ASTM-D-1003之方法來測定。

第1保護層之霧度越低越佳。具體而言霧度宜為5%以下，較宜為3%以下，更宜為1.5%以下，尤宜為1%以下。霧度若為5%以下，便可賦予薄膜良好的透明感。並且，即便在使用於影像顯示裝置之視辨側偏光板之情況下，仍可良好視辨顯示內容。

第1保護層在厚度3µm時之YI宜為1.27以下，1.25以下較佳，1.23以下更佳，1.20以下尤佳。當YI大於1.3時，有光學上透明性不足之情形。另，YI例如可從使用高速積分球式分光透射率測定機(商品名DOT-3C：村上色彩技術研究所製)測定而得之色彩三刺激值(X,Y,Z)，利用下式求出。 YI=[(1.28X-1.06Z)/Y]×100

第1保護層在厚度3μm時之b值(依亨特(Hunter)表色系統為準的色相尺度)宜小於1.5，且1.0以下較佳。當b值為1.5以上時，有出現非期望之色調之情形。另，b值例如可依以下方式獲得：將構成保護層之薄膜的試樣裁切成3cm見方，使用高速積分球式分光透射率測定機(商品名DOT-3C：村上色彩技術研究所製)測定色相，並依循亨特表色系統評估該色相。

第1保護層之碘吸附量宜為25重量%以下，較宜為10重量%以下，更宜為6.0重量%以下，尤宜為3.0重量%以下。碘吸附量越小越佳。碘吸附量若在所述範圍內，便可獲得具有更優異耐久性之偏光板。碘吸附量可以下述方法測定。 於基材(PET薄膜)形成保護層(厚度3µm)，而獲得附保護層之PET薄膜。將所得附保護層之PET薄膜裁切成1cm×1cm(1cm² )做成試料，採取到頂空小瓶(20mL容量)並秤量。接著，將裝有碘溶液1mL的螺口瓶(1.5mL容量)亦放入該頂空小瓶中並蓋緊。之後，將頂空小瓶放入65℃之乾燥機中加溫6小時，藉此使氣體狀態之I₂ 會吸附於試料上。之後，將試料採取到陶瓷舟皿並使用自動試料燃燒裝置使其燃燒，再將所產生之氣體採集至吸收液10mL中。收集後，將該吸收液以純水調製為15mL，並針對原液或適當稀釋後之液體進行IC定量分析。另，僅以PET薄膜進行相同測定時之碘吸附量幾乎為0。根據經IC定量分析所得碘重量與保護層單體之重量(「附保護層之PET薄膜之重量」-「PET薄膜之重量」)，從以下式算出碘吸附量(重量%)。 碘吸附量(重量%)=IC定量分析所得碘重量/保護層單體之重量×100 分析例如可使用以下測定裝置。 [測定裝置] 自動試料燃燒裝置：Mitsubishi Chemical Analytech公司製，「AQF-2100H」 IC(陰離子)：Thermo Fisher Scientific公司製，「ICS-3000」

第1保護層(例如塗佈膜之固化物或光陽離子硬化物)可按目的包含有任意適當之添加劑。添加劑之具體例可舉：紫外線吸收劑；調平劑；受阻酚系、磷系、硫系等抗氧化劑；耐光穩定劑、耐候穩定劑、熱穩定劑等穩定劑；玻璃纖維、碳纖維等補強材；近紅外線吸收劑；參(二溴化丙基)磷酸酯、三烯丙基磷酸酯、氧化銻等阻燃劑；陰離子系、陽離子系、非離子系界面活性劑等抗靜電劑；無機顏料、有機顏料、染料等著色劑；有機填料或無機填料；樹脂改質劑；有機填充劑或無機填充劑；塑化劑；滑劑；抗靜電劑；阻燃劑等。添加劑可於樹脂聚合時添加，亦可於保護層形成時添加。添加劑之種類、數量、組合、添加量等可按目的適當設定。

A-5.第2保護層 在一實施形態中，第2保護層係以可作為偏光件之保護層使用之任意適當的薄膜形成。作為成為該薄膜之主成分的材料之具體例，可舉三醋酸纖維素(TAC)等之纖維素系樹脂、或聚酯系、聚乙烯醇系、聚碳酸酯系、聚醯胺系、聚醯亞胺系、聚醚碸系、聚碸系、聚苯乙烯系、聚降莰烯系、聚烯烴系、(甲基)丙烯酸系及乙酸酯系等之透明樹脂等。又，亦可舉(甲基)丙烯酸系、胺甲酸酯系、(甲基)丙烯酸胺甲酸酯系、環氧系、聚矽氧系等之熱硬化型樹脂或紫外線硬化型樹脂等。其他還可舉例如矽氧烷系聚合物等玻璃質系聚合物。本實施形態之第2保護層的厚度宜為5µm~80µm，較宜為5µm~40µm，更宜為5µm~25µm。

在另一實施形態中，第2保護層可為樹脂溶液之塗佈膜的固化物，亦可為硬化型樹脂之硬化物(例如光陽離子硬化物)。針對本實施形態之第2保護層，可適用與第1保護層相同之說明。

A-6.其他層 保護層(代表上為第1保護層)之偏光件側亦可形成有易接著層。易接著層例如包含水系聚胺甲酸酯與㗁唑啉系交聯劑。藉由形成所述易接著層，可提升保護層與偏光件之密著性。又，保護層(代表上為第1保護層)之與偏光件相反之側亦可形成有硬塗層。此外，在形成硬塗層時，可以使保護層(例如塗佈膜之固化物)之厚度與硬塗層之厚度合計為10µm以下、宜為7µm以下、更宜為5µm以下之方式來形成硬塗層。硬塗層可形成於視辨側保護層之視辨側。當形成易接著層及硬塗層兩者時，代表上該等可分別形成於保護層之不同側。

B.附相位差層之偏光板 B-1.附相位差層之偏光板之整體構成 圖3係本發明一實施形態之附相位差層之偏光板的概略截面圖。本實施形態之附相位差層之偏光板200a具有偏光板100與相位差層110，該偏光板100具有偏光件10與配置於其一側之第1保護層20，而該相位差層110配置於偏光件10之與配置有第1保護層20之側的相反側。附相位差層之偏光板200a中，相位差層110亦可作為偏光件10之保護層發揮功能。相位差層110代表上係隔著接著層(未圖示)積層於偏光板100上。接著層為接著劑層或黏著劑層，而由重工性等觀點來看宜為黏著劑層(例如丙烯酸系黏著劑層)。雖未圖示，但偏光板100亦可因應需要於偏光件10之相位差層110側具有第2保護層。

如圖4所示，另一實施形態之附相位差層之偏光板200b中，亦可設有另一相位差層120以及/或者導電層或附導電層之各向同性基材130。另一相位差層120以及導電層或附導電層之各向同性基材130代表上可設於相位差層110之外側(與偏光板100相反之側)。另一相位差層120代表上折射率特性展現nz＞nx=ny之關係。另一相位差層120以及導電層或附導電層之各向同性基材130代表上係自相位差層110側起依序設置。另一相位差層120以及導電層或附導電層之各向同性基材130代表上係可因應需要設置之任意層，亦可省略任一者或兩者。此外，為求方便，有時會將相位差層110稱為第1相位差層，且將另一相位差層120稱為第2相位差層。另外，在可設置導電層或附導電層之各向同性基材時，附相位差層之偏光板可應用於在影像顯示單元(例如有機EL單元)與偏光板間組入有觸控感測器的所謂內觸控面板型輸入顯示裝置。

本發明實施形態中，第1相位差層110的Re(550)宜為100nm~190nm，Re(450)/Re(550)宜為0.8以上且小於1。並且，代表上第1相位差層110之慢軸與偏光件10之吸收軸形成之角度為40°~50°。

上述實施形態可適當組合，亦可於上述實施形態之構成要素中加入本業界中顯明的變更。例如亦可將在第2相位差層120的外側設置附導電層之各向同性基材130的構成替換為在光學上等效之構成(例如第2相位差層與導電層之積層體)。

本發明實施形態之附相位差層之偏光板亦可更包含有其他相位差層。其他相位差層之光學特性(例如折射率特性、面內相位差、Nz係數、光彈性係數)、厚度、配置位置等可按目的適當設定。

B-2.偏光板 偏光板100係A項記載之偏光板。

B-3.第1相位差層 第1相位差層110可因應目的具有任意適當之光學特性及/或機械特性。第1相位差層代表上具有慢軸。在一實施形態中，第1相位差層之慢軸與偏光件10之吸收軸形成之角度θ如上述，為40°~50°，宜為42°~48°，更宜為約45°。角度θ若在所述範圍內，如後述藉由將第1相位差層做成λ/4板，可獲得具有非常優異圓偏光特性(結果為非常優異的抗反射特性)的附相位差層之偏光板。

第1相位差層宜折射率特性展現nx＞ny≧nz之關係。第1相位差層代表上係為了賦予偏光板抗反射特性而設置，在一實施形態中可作為λ/4板發揮功能。此時，第1相位差層的面內相位差Re(550)宜為100nm~190nm，較宜為110nm~170nm，更宜為130nm~160nm。此外，在此「ny=nz」不只ny與nz完全相同之情況，還包含實質上相同之情況。因此，在不損及本發明效果之範圍下可有成為ny＜nz之情形。

第1相位差層的Nz係數宜為0.9~3，較宜為0.9~2.5，更宜為0.9~1.5，尤宜為0.9~1.3。藉由滿足所述關係，在將所得附相位差層之偏光板使用於影像顯示裝置時，可達成非常優異之反射色相。

第1相位差層可展現相位差值隨測定光之波長變大的逆分散波長特性，亦可展現相位差值隨測定光之波長變小的正波長分散特性，又可展現相位差值幾乎不隨測定光之波長變化的平坦的波長分散特性。在一實施形態中，第1相位差層展現逆分散波長特性。此時，相位差層之Re(450)/Re(550)宜為0.8以上且小於1，較宜為0.8以上且0.95以下。若為所述構成，便可實現非常優異的抗反射特性。

第1相位差層包含光彈性係數的絕對值宜為2×10^-11 m² /N以下、較宜為2.0×10^-13 m² /N~1.5×10^-11 m² /N、更宜為1.0×10^-12 m² /N~1.2×10^-11 m² /N之樹脂。光彈性係數的絕對值若在所述範圍內，加熱時產生收縮應力時便不易發生相位差變化。結果，可良好地防止所得影像顯示裝置的熱不均。

第1相位差層代表上係以樹脂薄膜的延伸薄膜構成。在一實施形態中，第1相位差層之厚度宜為70µm以下，較宜為45µm~60µm。第1相位差層的厚度若在所述範圍內，便可良好地抑制加熱時之捲曲，同時可良好地調整貼合時的捲曲。又，如後述，在第1相位差層以聚碳酸酯系樹脂薄膜構成之實施形態中，第1相位差層之厚度宜為40μm以下，較宜為10μm~40µm，更宜為20μm~30µm。第1相位差層藉由以具有所述厚度之聚碳酸酯系樹脂薄膜構成，可抑制捲曲發生，並可有助於提升抗彎折耐久性及反射色相。

第1相位差層可以可滿足上述特性之任意適當之樹脂薄膜構成。所述樹脂之代表例可舉聚碳酸酯系樹脂、聚酯碳酸酯系樹脂、聚酯系樹脂、聚乙烯縮醛系樹脂、聚芳酯系樹脂、環狀烯烴系樹脂、纖維素系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚醚系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、丙烯酸系樹脂。該等樹脂可單獨使用，亦可組合(例如摻合、共聚)來使用。第1相位差層以顯示逆分散波長特性之樹脂薄膜構成時，可適宜使用聚碳酸酯系樹脂或聚酯碳酸酯系樹脂(以下有時僅稱作聚碳酸酯系樹脂)。

只要可獲得本發明之效果，上述聚碳酸酯系樹脂便可使用任意適當之聚碳酸酯系樹脂。例如，聚碳酸酯系樹脂包含源自茀系二羥基化合物之結構單元、源自異山梨醇系二羥基化合物之結構單元及源自選自於由脂環式二醇、脂環式二甲醇、二、三或聚乙二醇、以及伸烷基二醇或螺甘油所構成群組中之至少1種二羥基化合物之結構單元。聚碳酸酯系樹脂宜包含源自茀系二羥基化合物之結構單元、源自異山梨醇系二羥基化合物之結構單元、源自脂環式二甲醇之結構單元以及/或是源自二、三或聚乙二醇之結構單元；更宜包含源自茀系二羥基化合物之結構單元、源自異山梨醇系二羥基化合物之結構單元與源自二、三或聚乙二醇之結構單元。聚碳酸酯系樹脂亦可因應需要包含有源自其他二羥基化合物之結構單元。此外，本發明可適宜使用之聚碳酸酯系樹脂的詳細內容例如記載於日本專利特開2014-10291號公報、日本專利特開2014-26266號公報、日本專利特開2015-212816號公報、日本專利特開2015-212817號公報、日本專利特開2015-212818號公報中，而本說明書即援用該記載作為參考。

前述聚碳酸酯系樹脂的玻璃轉移溫度宜為110℃以上且150℃以下，較宜為120℃以上且140℃以下。玻璃轉移溫度若過低，耐熱性有變差之傾向，而有在薄膜成形後造成尺寸變化之可能性，或有降低所得有機EL面板之影像品質的情況。玻璃轉移溫度若過高，有薄膜成形時之成形穩定性變差之情況，或有損及薄膜之透明性之情況。此外，玻璃轉移溫度可依循JIS K 7121(1987)求得。

前述聚碳酸酯系樹脂的分子量可以比濃黏度表示。比濃黏度係用二氯甲烷作為溶劑，將聚碳酸酯濃度精密調製成0.6g/dL後，在溫度20.0℃±0.1℃下用烏氏黏度管進行測定。比濃黏度的下限通常宜為0.30dL/g，較宜為0.35dL/g以上。比濃黏度的上限通常宜為1.20dL/g，較宜為1.00dL/g，更宜為0.80dL/g。比濃黏度若小於前述下限值，則有產生成形品之機械強度變小之問題的情形。另一方面，比濃黏度若大於前述上限值，則進行成形時之流動性會降低，而有產生生產性或成形性降低之問題的情形。

聚碳酸酯系樹脂薄膜亦可使用市售薄膜。市售品之具體例可舉帝人公司製之商品名「PURE-ACE WR-S」、「PURE-ACE WR-W」、「PURE-ACE WR-M」、日東電工公司製之商品名「NRF」。

第1相位差層例如可藉由將由上述聚碳酸酯系樹脂形成之薄膜延伸而得。由聚碳酸酯系樹脂形成薄膜之方法可採用任意適當之成形加工法。具體例可舉：壓縮成形法、轉注成形法、射出成形法、擠製成形法、吹氣成形法、粉末成形法、FRP成形法、澆鑄塗敷法(例如流延法)、砑光成形法、熱壓法等。而宜為擠製成形法或澆鑄塗敷法。其係因可提高所得薄膜之平滑性，從而可獲得良好的光學均一性。成形條件可因應使用之樹脂的組成或種類、對相位差層所期望之特性等來適當設定。此外，如上述，聚碳酸酯系樹脂在市面上販售有很多薄膜製品，故可將該市售薄膜直接供於延伸處理。

樹脂薄膜(未延伸薄膜)的厚度可因應第1相位差層所期望的厚度、所期望的光學特性、後述延伸條件等設定成任意適當之值。宜為50µm~300µm。

上述延伸可採用任意適當之延伸方法、延伸條件(例如延伸溫度、延伸倍率、延伸方向)。具體而言，可單獨使用自由端延伸、固定端延伸、自由端收縮、固定端收縮等各種延伸方法，亦可同時或逐次使用。關於延伸方向，亦可沿長度方向、寬度方向、厚度方向、斜向等各種方向或維度進行。延伸的溫度相對於樹脂薄膜的玻璃轉移溫度(Tg)宜為Tg-30℃~Tg+60℃，較宜為Tg-10℃~Tg+50℃。

藉由適當選擇上述延伸方法、延伸條件，可獲得具有上述所期望之光學特性(例如折射率特性、面內相位差、Nz係數)的相位差薄膜。

在一實施形態中，相位差薄膜可藉由將樹脂薄膜進行單軸延伸或固定端單軸延伸來製作。固定端單軸延伸之具體例，可舉一邊使樹脂薄膜在長邊方向上移動，一邊往寬度方向(橫向)進行延伸之方法。延伸倍率宜為1.1倍~3.5倍。

在另一實施形態中，相位差薄膜可藉由將長條狀樹脂薄膜往相對於長邊方向呈上述角度θ之方向連續進行斜向延伸來製作。藉由採用斜向延伸，可獲得相對於薄膜之長邊方向具有角度θ之定向角(於角度θ之方向上具有慢軸)的長條狀延伸薄膜，例如在與偏光件積層時，可進行捲對捲，從而可簡化製造步驟。此外，角度θ可為附相位差層之偏光板中偏光件之吸收軸與相位差層之慢軸形成之角度。角度θ如上述，宜為40°~50°，較宜為42°~48°，更宜為約45°。

斜向延伸所用延伸機可舉拉幅式延伸機，其係例如對橫向及/或縱向附加左右相異之速度的輸送力或是拉伸力或拉抽力者。拉幅式延伸機有橫式單軸延伸機、同時雙軸延伸機等，只要可將長條狀樹脂薄膜連續地進行斜向延伸，便可使用任意適當的延伸機。

藉由將上述延伸機中之左右速度分別適當控制，可獲得具有上述所期望之面內相位差且於上述所期望之方向上具有慢軸之相位差層(實質上為長條狀相位差薄膜)。

上述薄膜的延伸溫度可因應對相位差層所期望之面內相位差值及厚度、所使用之樹脂的種類、所使用之薄膜的厚度、延伸倍率等變化。具體而言，延伸溫度宜為Tg-30℃~Tg+30℃，更宜為Tg-15℃~Tg+15℃，最宜為Tg-10℃~Tg+10℃。藉由以所述溫度延伸，可獲得具有適於本發明之特性的第1相位差層。此外，Tg係薄膜之構成材料的玻璃轉移溫度。

B-4.第2相位差層 第2相位差層如上述，可為折射率特性展現nz＞nx=ny之關係的所謂正C板(Positive C-plate)。藉由使用正C板作為第2相位差層，可良好地防止斜向之反射，而可使抗反射功能廣視角化。此時，第2相位差層的厚度方向的相位差Rth(550)宜為-50nm~-300nm，較宜為-70nm~-250nm，更宜為-90nm~-200nm，尤宜為-100nm~-180nm。在此，「nx=ny」不僅包含nx與ny嚴格上相等之情況，還包含nx與ny實質上相等之情況。即，第2相位差層的面內相位差Re(550)可小於10nm。

具有nz＞nx=ny之折射率特性的第2相位差層可以任意適當之材料形成。第2相位差層宜由包含固定為垂面排列定向之液晶材料的薄膜構成。可使垂面排列定向的液晶材料(液晶化合物)可為液晶單體亦可為液晶聚合物。該液晶化合物及該相位差層之形成方法的具體例可舉日本專利特開2002-333642號公報中段落[0020]~[0028]記載之液晶化合物及該相位差層之形成方法。此時，第2相位差層之厚度宜為0.5μm~10µm，較宜為0.5μm~8µm，更宜為0.5μm~5µm。

B-5.導電層或附導電層之各向同性基材 導電層可利用任意適當之成膜方法(例如真空蒸鍍法、濺鍍法、CVD法、離子鍍法、噴霧法等)，將金屬氧化物膜成膜於任意適當之基材上來形成。金屬氧化物可舉例如氧化銦、氧化錫、氧化鋅、銦錫複合氧化物、錫銻複合氧化物、鋅鋁複合氧化物、銦鋅複合氧化物。其中宜為銦錫複合氧化物(ITO)。

當導電層包含金屬氧化物時，該導電層之厚度宜為50nm以下，較宜為35nm以下。導電層之厚度的下限宜為10nm。

導電層可由上述基材轉印至第1相位差層(或若有第2相位差層存在則為第2相位差層)而以導電層單獨作為附相位差層之偏光板的構成層，亦可以導電層與基材之積層體(附導電層之基材)的形式積層於第1相位差層(或若有第2相位差層存在則為第2相位差層)。宜為上述基材在光學上為各向同性，因此導電層可作為附導電層之各向同性基材用於附相位差層之偏光板。

在光學上為各向同性的基材(各向同性基材)可採用任意適當之各向同性基材。構成各向同性基材之材料可舉例如以降莰烯系樹脂或烯烴系樹脂等不具有共軛系之樹脂為主骨架的材料、於丙烯酸系樹脂之主鏈中具有內酯環或戊二醯亞胺環等環狀結構的材料等。若使用所述材料，便可於形成各向同性基材時將伴隨分子鏈定向而展現之相位差抑制得較小。各向同性基材之厚度宜為50µm以下，較宜為35µm以下。各向同性基材之厚度的下限例如為20μm。

上述導電層及/或上述附導電層之各向同性基材的導電層可因應需要進行圖案化。藉由圖案化可形成導通部與絕緣部。結果可形成電極。電極可作為用以感測對觸控面板之接觸的觸控感測電極發揮功能。圖案化方法可採用任意適當之方法。圖案化方法的具體例可舉濕式蝕刻法、網版印刷法。

C.影像顯示裝置 上述偏光板或附相位差層之偏光板可應用於影像顯示裝置。因此，本發明包含具備上述偏光板或附相位差層之偏光板的影像顯示裝置。影像顯示裝置的代表例可舉液晶顯示裝置、電致發光(EL)顯示裝置(例如有機EL顯示裝置、無機EL顯示裝置)。本發明實施形態之影像顯示裝置於其視辨側具備上述A項記載之偏光板或B項記載之附相位差層之偏光板。附相位差層之偏光板係以使相位差層成為影像顯示單元(例如液晶單元、有機EL單元、無機EL單元)側之方式(使偏光件成為視辨側)積層。在一實施形態中，影像顯示裝置具有彎曲的形狀(實質上為彎曲的顯示畫面)，及/或可撓曲或彎折。在所述影像顯示裝置中，本發明附相位差層之偏光板的效果更顯著。

實施例 以下，以實施例來具體說明本發明，惟本發明不受該等實施例所限。各特性之測定方法如以下所述。此外，只要無特別註記，實施例中之「份」及「%」即為重量基準。

(1)厚度 偏光件之厚度係使用干涉膜厚計(大塚電子公司製，製品名「MCPD-3000」)進行測定。厚度計算所用之計算波長範圍係在400nm~500nm下，且折射率設為1.53。又，保護層之厚度係使用干涉膜厚計(大塚電子公司製，製品名「MCPD-3000」)，適當選擇計算波長範圍及折射率進行測定。易接著層之厚度係由掃描型電子顯微鏡(SEM)觀察求得。大於10μm的厚度係使用數位測微器(Anritsu公司製，產品名「KC-351C」)進行測定。 (2)PVA之定向函數 針對從實施例及比較例所用偏光件/熱塑性樹脂基材之積層體剝離去除樹脂基材後的偏光件(偏光件單體)，對於與已剝離樹脂基材之面為相反側的面，使用傅立葉轉換紅外線分光光度計(FT-IR)(Perkin Elmer公司製，商品名：「Frontier」)，並以經偏光之紅外線作為測定光，進行偏光件表面之衰減全反射分光(ATR：attenuated total reflection)測定。用以使偏光件密著之微晶係使用鍺，並將測定光之入射角設為45°入射。定向函數之算出依以下程序進行。欲使入射之經偏光的紅外線(測定光)係設為朝使鍺結晶之試樣密著的面平行振動的偏光(s偏光)，並在將偏光件之延伸方向相對於測定光之偏光方向作垂直(⊥)及平行(//)配置的狀態下測定各個吸光度光譜。從所得吸光度光譜算出以(3330cm^-1 強度)為參考之(2941cm^-1 強度)I。I_⊥ 係從將偏光件之延伸方向相對於測定光之偏光方向作垂直(⊥)配置時所得吸光度光譜而獲得的(2941cm^-1 強度)/(3330cm^-1 強度)。又，I_// 係從將偏光件之延伸方向相對於測定光之偏光方向作平行(//)配置時所得吸光度光譜而獲得的(2941cm^-1 強度)/(3330cm^-1 強度)。於此，(2941cm^-1 強度)係吸光度光譜底部之將2770cm^-1 與2990cm^-1 作為基線時之2941cm^-1 的吸光度，(3330cm^-1 強度)係將2990cm^-1 與3650cm^-1 作為基線時之3330cm^-1 的吸光度。用所得I_⊥ 及I_// ，依式1算出定向函數f。另外，f=1時為完全定向，f=0時為無規。又，可謂2941cm^-1 之波峰係起因於偏光件中之PVA主鏈(-CH₂ -)之振動的吸收。又，可謂3330cm^-1 之波峰係起因於PVA之羥基之振動的吸收。 (式1)f=(3＜cos² θ＞-1)/2 =(1-D)/[c(2D+1)] 惟， 以c=(3cos² β-1)/2，如上述使用2941cm^-1 時，β=90°⇒f=-2×(1-D)/(2D+1)。 θ：分子鏈相對於延伸方向之角度 β：躍遷偶極矩相對於分子鏈軸之角度 D=(I_⊥ )/(I_// ) I_⊥ ：測定光之偏光方向與偏光件之延伸方向呈垂直時之吸收強度 I_// ：測定光之偏光方向與偏光件之延伸方向呈平行時之吸收強度 (3)PVA之面內相位差(Re) 針對從實施例及比較例中所得偏光件/熱塑性樹脂基材之積層體剝離去除了樹脂基材後的偏光件(偏光件單體)，使用相位差測定裝置(王子計測機器公司製 製品名「KOBRA-31X100/IR」)評估在波長1000nm下之PVA的面內相位差(Rpva)(根據所說明之原理，係從在波長1000nm下之總面內相位差減去碘之面內相位差(Ri)所得之數值)。吸收端波長設為600nm。 (4)PVA之雙折射(Δn) 將上述(3)測定之PVA的面內相位差除以偏光件之厚度，藉此算出PVA之雙折射(Δn)。 (5)穿刺強度 從實施例及比較例所用偏光件/樹脂基材之積層體剝離偏光件，並載置於裝設有針之壓縮試驗機(KATO TECH CO., LTD.製，製品名「NDG5」針貫通力測定規格)，在室溫(23℃±3℃)環境下，以穿刺速度0.33cm/秒穿刺，並將偏光件破裂時之強度作為斷裂強度(穿刺強度)。評估值係測定10個試料片之斷裂強度並使用其平均值。此外，針係使用前端徑1mmφ、0.5R者。針對要測定之偏光件，將具有直徑11mm之圓形開口部的夾具從偏光件兩面夾住固定後，對開口部之中央部穿刺針進行試驗。 (6)裂痕 將實施例及比較例中所得偏光板或附相位差層之偏光板裁切成100mm×100mm之尺寸。將裁切出之試樣以保護層成為外側之方式透過厚度15µm之丙烯酸系黏著劑層貼附於玻璃板(厚度1.1 mm)。將貼附於玻璃板之試樣放置於85℃之烘箱內120小時後，藉由目視以肉眼確認偏光件之吸收軸方向(MD方向)有無裂痕發生。使用3片附相位差層之偏光板進行該評估，而將即便有1片發生裂痕者評估為「有發生」，將3片全部未發生裂痕者評估為「無」。 (7)單體透射率及偏光度 針對從實施例及比較例中所得偏光件/熱塑性樹脂基材之積層體剝離去除樹脂基材後的偏光件(偏光件單體)，使用紫外線可見光分光光度計(日本分光公司製「V-7100」)測定單體透射率Ts、平行透射率Tp、正交透射率Tc。該等Ts、Tp及Tc係以JIS Z8701之2度視野(C光源)進行測定並進行視感度校正所得之Y值。從所得Tp及Tc利用下述式求得偏光度P。 偏光度P(%)={(Tp-Tc)/(Tp+Tc)}^{1 /2} ×100 另，分光光度計亦可使用大塚電子公司製「LPF-200」等進行同等之測定，不論在使用何種分光光度計之情況下皆可確認有獲得同等的測定結果。 (8)加濕耐久性 從實施例及比較例所得偏光板或附相位差層之偏光板裁切出試驗片(50mm×50mm)，該試驗片形成分別與垂直於偏光件之吸收軸方向之方向及吸收軸方向相對向之兩邊。以使保護層成為外側利用黏著劑將試驗片貼合於無鹼玻璃板，而製成試驗試樣，對該試驗試樣使用紫外線可見光分光光度計(日本分光公司製，製品名「V7100」)，以與(7)相同方式測定單體透射率(Ts)、平行透射率(Tp)及正交透射率(Tc)，求出偏光度(P)。此時，使測定光從保護層側入射。 接著，將該試驗試樣放置於60℃及95%RH之烘箱內500小時進行加熱加濕後(濕熱試驗)，從濕熱試驗前之偏光度P₀ 及濕熱試驗後之偏光度P₅₀₀ 用下述式求出偏光度之變化量ΔP。 ΔP(%)=P₅₀₀ -P₀ 從所得ΔP之結果按以下基準進行評估。 佳：ΔP為-5.0%~0% 不佳：ΔP小於-5.0%或發生褪色 (9)保護層之軟化溫度 依與各實施例及比較例之保護層之形成相同方式，而於比較例1製出之偏光件(總延伸倍率：5.5倍)之單面形成保護層(厚度：3µm)。針對所得偏光板[保護層/偏光件]之保護層表面進行局部熱分析(奈米TA測定)，算出保護層之軟化溫度。測定裝置及測定條件如下述。 測定裝置：Hitachi High-Tech Science Co.製，製品名「AFM5300E//Nano-TA2」 測定模式：接觸模式 探針：AN2-200 測定面積：8µm□ 掃描 測定氣體環境：大氣壓 (10)碘吸附量 依與各實施例及比較例中之保護層之形成相同方式，於PET薄膜之單面形成保護層(厚度：3µm)。將所得附保護層之PET薄膜裁切成1cm×1cm(1cm² )做成試料，採取到頂空小瓶(20mL容量)並秤量。接著，將裝有碘溶液1mL(碘濃度1重量%、碘化鉀濃度7重量%)的螺口瓶(1.5mL容量)亦放入該頂空小瓶中並蓋緊。之後，將頂空小瓶放入65℃之乾燥機中加溫6小時(藉此，氣體狀態之I₂ 會吸附於試料上)。之後，將試料採取到陶瓷舟皿並使用自動試料燃燒裝置使其燃燒，再將所產生之氣體採集至吸收液10mL中。收集後，將該吸收液以純水調製成15mL，並針對原液或適當稀釋後之液體進行IC定量分析。此外，僅以PET薄膜進行相同測定後之碘吸附量幾乎為0，故根據經IC定量分析所得碘重量與保護層單體之重量(「附保護層之PET薄膜之重量」-「PET薄膜之重量」)，從以下式算出碘吸附量(重量%)。 碘吸附量(重量%)=IC定量分析所得碘重量/保護層單體之重量×100 又，測定裝置如下。 [測定裝置] 自動試料燃燒裝置：Mitsubishi Chemical Analytech公司製，「AQF-2100H」 IC(陰離子)：Thermo Fisher Scientific公司製，「ICS-3000」

[實施例1-1] 1.偏光件/樹脂基材之積層體之製作 樹脂基材是使用長條狀且吸水率0.75%、Tg約75℃之非晶質間苯二甲酸共聚聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(厚度：100µm)。並對樹脂基材之單面施行了電暈處理。 在以9：1混合聚乙烯醇(聚合度4200，皂化度99.2莫耳%)及乙醯乙醯基改質PVA(Mitsubishi Chemical Co.製，商品名「GOHSEFIMER Z410」)而成之PVA系樹脂100重量份中，添加碘化鉀13重量份，而調製出PVA水溶液(塗佈液)。 於樹脂基材之電暈處理面塗佈上述PVA水溶液並在60℃下乾燥，藉此形成厚度13μm之PVA系樹脂層，而製作出積層體。 將所得積層體於130℃之烘箱內在周速相異之輥間沿縱方向(長邊方向)進行自由端單軸延伸成2.4倍(空中輔助延伸處理)。 接著，使積層體浸漬於液溫40℃的不溶解浴(相對於水100重量份摻混4重量份之硼酸而得之硼酸水溶液)中30秒鐘(不溶解處理)。 接著，於液溫30℃的染色浴(相對於水100重量份，以1：7之重量比摻混碘與碘化鉀而得之碘水溶液)中調整濃度的同時使其浸漬於其中60秒鐘，以使最後所得偏光件的單體透射率(Ts)成為41.5%(染色處理)。 接著，使其浸漬於液溫40℃的交聯浴(相對於水100重量份摻混3重量份之碘化鉀並摻混5重量份之硼酸而獲得之硼酸水溶液)中30秒鐘(交聯處理)。 然後，一邊使積層體浸漬於液溫70℃的硼酸水溶液(硼酸濃度4.0重量%)中，一邊在周速相異的輥間沿縱方向(長邊方向)進行單軸延伸成1.46倍(水中延伸處理)(以結果而言，總延伸倍率為2.4×1.46=3.5倍)。 之後，使積層體浸漬於液溫20℃的洗淨浴(相對於水100重量份摻混4重量份之碘化鉀而得之水溶液)中(洗淨處理)。 之後，一邊在經保持於90℃之烘箱中乾燥，一邊使其接觸表面溫度經保持於75℃之SUS製加熱輥約2秒(乾燥收縮處理)。積層體進行乾燥收縮處理所得寬度方向之收縮率為2%。 依上述方式，於樹脂基材上形成了厚度6.7μm之偏光件，而製作出偏光件/樹脂基材之積層體。偏光件之單體透射率(初始單體透射率)Ts₀ 為41.5%，偏光度(初始偏光度)P₀ 為99.99%。

2.易接著層之形成 於所得積層體之偏光件面，將聚胺甲酸酯系水系分散樹脂(第一工業製藥公司製，製品名：SUPERFLEX SF210)塗佈成厚度成為0.1µm作為易接著層，而形成易接著層。

3.保護層之製作 將100%聚甲基丙烯酸甲酯之丙烯酸系樹脂(楠本化成公司製，製品名：B-728)20重量份溶解於甲基乙基酮80重量份中，而獲得丙烯酸系樹脂溶液(20%)。將該丙烯酸系樹脂溶液用線棒塗佈於上述所得積層體之易接著層表面，並將塗佈膜在60℃下乾燥5分鐘後，形成以塗佈膜的固化物的形式構成之保護層。保護層之厚度為3µm。接著，從所得積層體剝離樹脂基材，而獲得具有保護層(塗佈膜之固化物)/易接著層/偏光件之構成的偏光板。

[實施例1-2] 令保護層厚度為2µm、及於保護層之與易接著層為相反側的面進一步形成硬塗層(厚度3µm)，除此之外依與實施例1-1相同方式，而獲得具有硬塗層/保護層(塗佈膜的固化物)/易接著層/偏光件之構成的偏光板。此外，硬塗層係藉由以下方式來形成：將二羥甲基-三環癸烷二丙烯酸酯(共榮社化學製，商品名：LIGHT ACRYLATE DCP-A)70重量份、丙烯酸異莰酯(共榮社化學製，商品名：LIGHT ACRYLATE IB-XA)20重量份、1,9-壬二醇二丙烯酸酯(共榮社化學製、商品名：LIGHT ACRYLATE 1.9NA-A)10重量份、進而光聚合引發劑(BASF公司製，商品名：IRGACURE 907)3重量份，使用適當之溶劑混合，並將所得塗敷液以使硬化後成為3µm之方式塗佈於保護層面上，接著使溶劑乾燥，並使用高壓水銀燈以累積光量成為300mJ/cm² 之方式在氮氣環境下照射紫外線來形成。

[實施例1-3] 使用具有內酯環單元之聚甲基丙烯酸甲酯的丙烯酸系樹脂(內酯環單元30莫耳%)來取代100%聚甲基丙烯酸甲酯的丙烯酸系樹脂、且令保護層厚度為2µm、及於保護層之與易接著層為相反側的面進一步形成硬塗層(厚度3µm)，除此之外依與實施例1-1相同方式，而獲得具有硬塗層/保護層(塗佈膜的固化物)/易接著層/偏光件之構成的偏光板。此外，硬塗層之形成係依與實施例1-2相同方式進行。

[實施例1-4] 使用具有戊二醯亞胺環單元之聚甲基丙烯酸甲酯的丙烯酸系樹脂(戊二醯亞胺環單元4莫耳%)來取代100%聚甲基丙烯酸甲酯的丙烯酸系樹脂、且令保護層厚度為2µm、及於保護層之與易接著層為相反側的面進一步形成硬塗層(厚度3µm)，除此之外依與實施例1-1相同方式，而獲得具有硬塗層/保護層(塗佈膜的固化物)/易接著層/偏光件之構成的偏光板。此外，硬塗層之形成係依與實施例1-2相同方式進行。

[實施例1-5] 除了使用甲基丙烯酸甲酯/甲基丙烯酸丁酯(莫耳比80/20)之共聚物的丙烯酸系樹脂來取代100%聚甲基丙烯酸甲酯的丙烯酸系樹脂外，依與實施例1-1相同方式，而獲得具有保護層(塗佈膜的固化物)/易接著層/偏光件之構成的偏光板。

[實施例1-6] 使用甲基丙烯酸甲酯/甲基丙烯酸丁酯(莫耳比80/20)之共聚物的丙烯酸系樹脂來取代100%聚甲基丙烯酸甲酯的丙烯酸系樹脂、且令保護層厚度為2µm、及於保護層之與易接著層為相反側的面進一步形成硬塗層(厚度3µm)，除此之外依與實施例1-1相同方式，而獲得具有硬塗層/保護層(塗佈膜的固化物)/易接著層/偏光件之構成的偏光板。此外，硬塗層之形成係依與實施例1-2相同方式進行。

[實施例1-7] 除了使用甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸乙酯(莫耳比55/45)之共聚物的丙烯酸系樹脂(楠本化成公司製，製品名「B-722」)來取代100%聚甲基丙烯酸甲酯的丙烯酸系樹脂外，依與實施例1-1相同方式，而獲得具有保護層(塗佈膜的固化物)/易接著層/偏光件之構成的偏光板。

[實施例1-8] 除了使用甲基丙烯酸甲酯/甲基丙烯酸丁酯(莫耳比35/65)之共聚物的丙烯酸系樹脂(楠本化成公司製，製品名「B-734」)來取代100%聚甲基丙烯酸甲酯的丙烯酸系樹脂外，依與實施例1-1相同方式，而獲得具有保護層(塗佈膜的固化物)/易接著層/偏光件之構成的偏光板。

[實施例2-1] 1.偏光件/樹脂基材之積層體之製作 依與實施例1-1相同方式，於樹脂基材上形成了厚度6.7μm之偏光件，而製作出偏光件/樹脂基材之積層體。 2.保護層之製作 將具有聯苯骨架之環氧樹脂(Mitsubishi Chemical Co.製，商品名：jER(註冊商標) YX4000)15份溶解於甲基乙基酮83.8份中，而獲得環氧樹脂溶液。於所得環氧樹脂溶液中添加光陽離子聚合引發劑(San-Apro Ltd.，商品名：CPI(註冊商標)-100P)1.2份，而獲得保護層形成組成物。使用線棒將所得保護層形成組成物直接(亦即不形成易接著層)塗佈於偏光件表面，並將塗佈膜在60℃下乾燥3分鐘。接著，使用高壓水銀燈以使累積光量為600mJ/cm² 之方式照射紫外線，形成保護層。保護層之厚度為3µm。接著，從所得積層體剝離樹脂基材，而獲得具有保護層(環氧樹脂之光陽離子硬化層)/偏光件之構成的偏光板。

[實施例2-2] 將具有聯苯骨架之環氧樹脂(Mitsubishi Chemical Co.製，商品名：jER(註冊商標) YX4000)15份與氧雜環丁烷樹脂(東亞合成公司製，商品名：ARON OXETANE(註冊商標) OXT-221)10重量份溶解於甲基乙基酮73份中，而獲得環氧樹脂溶液。於所得環氧樹脂溶液中添加光陽離子聚合引發劑(San-Apro Ltd.，商品名：CPI(註冊商標)-100P)2份，而獲得保護層形成組成物。使用該環氧樹脂溶液獲得保護層形成組成物、使用各種碘濃度之染色浴(碘與碘化鉀之重量比=1：7)、及將製作偏光件時之水中延伸的延伸倍率設為1.25倍(總延伸倍率：3.0倍)，除此之外依與實施例2-1相同方式，而獲得具有保護層(環氧樹脂之光陽離子硬化層)/偏光件之構成的偏光板。

[實施例2-3] 使用各種碘濃度之染色浴(碘與碘化鉀之重量比=1：7)、及將製作偏光件時之水中延伸的延伸倍率設為1.46倍(總延伸倍率：3.5倍)，除此之外依與實施例2-2相同方式，而獲得具有保護層(環氧樹脂之光陽離子硬化層)/偏光件之構成的偏光板。

[實施例2-4] 使用各種碘濃度之染色浴(碘與碘化鉀之重量比=1：7)、及將製作偏光件時之水中延伸的延伸倍率設為1.67倍(總延伸倍率：4.0倍)，除此之外依與實施例2-2相同方式，而獲得具有保護層(環氧樹脂之光陽離子硬化層)/偏光件之構成的偏光板。

[實施例2-5] 使用各種碘濃度之染色浴(碘與碘化鉀之重量比=1：7)、及將製作偏光件時之水中延伸的延伸倍率設為1.88倍(總延伸倍率：4.5倍)，除此之外依與實施例2-2相同方式，而獲得具有保護層(環氧樹脂之光陽離子硬化層)/偏光件之構成的偏光板。

[實施例2-6] 使用雙酚型環氧樹脂(Mitsubishi Chemical Co.製，商品名：jER(註冊商標) 828)來取代具有聯苯骨架之環氧樹脂，除此之外依與實施例2-1相同方式，而獲得具有保護層(環氧樹脂之光陽離子硬化層)/偏光件之構成的偏光板。

[實施例2-7] 使用雙酚型環氧樹脂(Mitsubishi Chemical Co.製，商品名：jER(註冊商標) 828)來取代具有聯苯骨架之環氧樹脂，除此之外依與實施例2-3相同方式，而獲得具有保護層(環氧樹脂之光陽離子硬化層)/偏光件之構成的偏光板。

[實施例2-8] 使用氫化雙酚型環氧樹脂(Mitsubishi Chemical Co.製，商品名：jER(註冊商標) YX8000)來取代具有聯苯骨架之環氧樹脂，除此之外依與實施例2-1相同方式，而獲得具有保護層(環氧樹脂之光陽離子硬化層)/偏光件之構成的偏光板。

[實施例2-9] 使用氫化雙酚型環氧樹脂(Mitsubishi Chemical Co.製，商品名：jER(註冊商標) YX8000)來取代具有聯苯骨架之環氧樹脂，除此之外依與實施例2-3相同方式，而獲得具有保護層(環氧樹脂之光陽離子硬化層)/偏光件之構成的偏光板。

[實施例2-10] 1.偏光板之製作 依與實施例2-3相同方式，而獲得具有保護層(環氧樹脂之光陽離子硬化層)/偏光件之構成的偏光板。

2.第1相位差層之製作 使用由2台具備有攪拌葉片及控制成100℃之回流冷卻器的直立式反應器構成之批次聚合裝置進行聚合。饋入雙[9-(2-苯氧基羰基乙基)茀-9-基]甲烷29.60質量份(0.046mol)、異山梨醇(ISB)29.21質量份(0.200mol)、螺甘油(SPG)42.28質量份(0.139mol)、碳酸二苯酯(DPC)63.77質量份(0.298mol)及作為觸媒的乙酸鈣一水合物1.19×10^-2 質量份(6.78×10^-5 mol)。將反應器內進行減壓氮取代後，以加熱介質加溫，並於內部溫度達到100℃之時間點開始攪拌。於升溫開始40分鐘後使內部溫度達到220℃，控制維持該溫度的同時開始減壓，使在達到220℃後起以90分鐘使其成為13.3kPa。將隨聚合反應副生成之苯酚蒸氣導入100℃之回流冷卻器，使苯酚蒸氣中所含些許量單體成分返回反應器，並將未凝聚之苯酚蒸氣導入45℃的凝聚器中回收。將氮導入第1反應器暫時使其回復到大氣壓力後，將第1反應器內之經寡聚化的反應液移至第2反應器。接著，開始進行第2反應器內的升溫及減壓，並以50分鐘使內溫成為240℃、壓力成為0.2kPa。其後，進行聚合直到達到預定之攪拌動力。在達到預定動力之時間點將氮導入反應器中使壓力回復，並將所生成之聚酯碳酸酯系樹脂擠製至水中，裁切束狀物而得到丸粒。

將所得聚酯碳酸酯系樹脂(丸粒)在80℃下真空乾燥5小時後，使用具備單軸擠製機(東芝機械公司製，缸筒設定溫度：250℃)、T型模(寬200mm，設定溫度：250℃)、冷卻輥(設定溫度：120~130℃)及捲取機之薄膜製膜裝置，製作出厚度130μm之長條狀樹脂薄膜。以可獲得預定之相位差之方式一邊調整所得長條狀樹脂薄膜一邊進行延伸，而獲得厚度48μm的相位差薄膜。延伸條件係沿寬度方向，延伸溫度為143℃，延伸倍率為2.8倍。所得相位差薄膜之Re(550)為141nm，Re(450)/Re(550)為0.86，且Nz係數為1.12。

3.第2相位差層 使用折射率特性滿足nz＞nx=ny之關係且厚度方向之相位差Rth(550)為-135nm的相位差薄膜(大日本印刷股份公司製，「MCP-N」)作為第2相位差層。

4.附相位差層之偏光板之製作 首先，於第1相位差層面透過紫外線硬化型接著劑貼合第2相位差層。接著，於上述偏光板之偏光件面透過厚度12µm之丙烯酸系黏著劑層貼合上述第1相位差層/第2相位差層之積層體的第1相位差層面。此時，係以第1相位差層之慢軸與偏光件之吸收軸呈45°之角度之方式貼合。依上述方式，而獲得具有保護層(環氧樹脂之光陽離子硬化層)/偏光件/黏著劑層/第1相位差層/第2相位差層之構成的附相位差層之偏光板。

[實施例3-1] 1.偏光件/樹脂基材之積層體之製作 依與實施例1-1相同方式，於樹脂基材上形成了厚度6.7μm之偏光件，而製作出偏光件/樹脂基材之積層體。 2.保護層之製作 將環氧樹脂1(Mitsubishi Chemical Co.製，商品名：jER(註冊商標) 1256B40，重量平均分子量：40000，環氧當量：7350)20份溶解於甲基乙基酮80份中，而獲得環氧樹脂溶液(20%)。使用線棒將該環氧樹脂溶液塗佈於上述積層體的偏光件表面，並將塗佈膜在60℃下乾燥3分鐘，而形成以塗佈膜的固化物的形式構成之保護層。保護層之厚度為3µm。接著，從所得積層體剝離樹脂基材，而獲得具有保護層(環氧樹脂之塗佈膜的固化層)/偏光件之構成的偏光板。

[實施例3-2] 除了使用環氧樹脂2(Mitsubishi Chemical Co.製，商品名：jER(註冊商標) YX6954BH30，重量平均分子量：36000，環氧當量：13000)來取代環氧樹脂1外，依與實施例3-1相同方式，而獲得具有保護層(環氧樹脂之塗佈膜的固化層)/偏光件之構成的偏光板。

[實施例4] 未形成易接著層(亦即直接於偏光件形成保護層)、及使用水系聚酯系樹脂(日本合成化學公司製，製品名「POLYESTER WR905」)，除此之外依與實施例1-1相同方式，而獲得具有保護層(塗佈膜的固化物)/偏光件之構成的偏光板。

[實施例5] 未形成易接著層(亦即直接於偏光件形成保護層)、及使用水系聚胺甲酸酯系樹脂(第一工業製藥公司製，製品名「SUPERFLEX SF210」)，除此之外依與實施例1-1相同方式，而獲得具有保護層(塗佈膜的固化物)/偏光件之構成的偏光板。

[比較例1] 除了將製作偏光件時之水中延伸的延伸倍率設為2.29倍(總延伸倍率：5.5倍)外，依與實施例1-1相同方式，而獲得具有保護層(塗佈膜之固化物)/易接著層/偏光件之構成的偏光板。

[比較例2] 除了將製作偏光件時之水中延伸的延伸倍率設為2.29倍(總延伸倍率：5.5倍)外，依與實施例1-2相同方式，而獲得具有硬塗層/保護層(塗佈膜之固化物)/易接著層/偏光件之構成的偏光板。

[比較例3] 使用各種碘濃度之染色浴(碘與碘化鉀之重量比=1：7)、及將製作偏光件時之水中延伸的延伸倍率設為2.29倍(總延伸倍率：5.5倍)，除此之外依與實施例2-3相同方式，而獲得具有保護層(環氧樹脂之光陽離子硬化層)/易接著層/偏光件之構成的偏光板。

[比較例4] 除了將製作偏光件時之水中延伸的延伸倍率設為2.29倍(總延伸倍率：5.5倍)外，依與實施例2-10相同方式，而獲得具有保護層(環氧樹脂之光陽離子硬化層)/偏光件/黏著劑層/第1相位差層/第2相位差層之構成的附相位差層之偏光板。

[比較例5] 除了將製作偏光件時之水中延伸的延伸倍率設為2.29倍(總延伸倍率：5.5倍)外，依與實施例1-7相同方式，而獲得具有保護層(塗佈膜之固化物)/易接著層/偏光件之構成的偏光板。

[比較例6] 將製作偏光件時之水中延伸的延伸倍率設為2.29倍(總延伸倍率：5.5倍)、及使用已對單面進行易接著處理之丙烯酸系樹脂薄膜(折射率：1.50，厚度：20µm)作為保護層，除此之外依與實施例1-1相同方式，而獲得具有保護層(丙烯酸系樹脂薄膜)/偏光件之構成的偏光板。丙烯酸系樹脂薄膜係透過紫外線硬化接著劑直接貼合於偏光件面。具體而言，是塗敷成硬化型接著劑之總厚度成為1.0μm，並使用輥軋機進行貼合。其後，從丙烯酸系樹脂薄膜側照射UV光線使接著劑硬化。

將評估結果顯示於表1~表3。 [表1]

[表2]

[表3]

如表1~3所示，使用PVA系樹脂之定向度控制在預定狀態之偏光件(以結果而言為具有預定範圍之穿刺強度的偏光件)之實施例之偏光板即便在保護層之厚度極小之情況下，仍有抑制住加熱時之裂痕。又，具有特定保護層之偏光板會展現優異之加濕耐久性。

又，於圖5~圖7分別顯示實施例及比較例所用偏光件(總延伸倍率為3.0、3.5、4.0、4.5或5.5倍之偏光件)之單體透射率與PVA之Δn、面內相位差或定向函數之關係。如圖5~圖7及表1~3所示，可知滿足式(1)、式(2)及/或式(3)之偏光件係顯示預定值以下之穿刺強度，且使用所述偏光件製出之偏光板即便在保護層之厚度極小之情況下，仍能抑制加熱時之裂痕。

產業上之可利用性 本發明偏光板可適合使用於影像顯示裝置。影像顯示裝置可舉例如：攜帶型資訊終端機(PDA)、智慧型手機、行動電話、時鐘、數位相機、可攜式遊戲機等攜帶型機器；電腦螢幕、筆記型電腦、複印機等OA機器；視訊攝影機、電視、微波爐等家庭用電氣機器；後照監測器、汽車導航系統用監測器、汽車音響等車載用機器；數位標牌、商業店鋪用資訊導覽用螢幕等展示機器；監視用螢幕等警報機器；看護用監測器、醫療用監測器等看護醫療機器。

10:偏光件 20:第1保護層 30:第2保護層 50:積層體 100:偏光板 110:相位差層、第1相位差層 120:另一相位差層、第2相位差層 130:導電層、附導電層之各向同性基材 200a,200b:附相位差層之偏光板 G1~G4:導輥 R1~R6:輸送輥

圖1係本發明一實施形態之偏光板的概略截面圖。 圖2係顯示偏光件之製作中使用加熱輥之乾燥收縮處理之一例的概略圖。 圖3係本發明一實施形態之附相位差層之偏光板的概略截面圖。 圖4係本發明一實施形態之附相位差層之偏光板的概略截面圖。 圖5係顯示實施例及比較例所用之偏光件的單體透射率與PVA系樹脂之雙折射之關係的圖。 圖6係顯示實施例及比較例所用之偏光件的單體透射率與PVA系樹脂薄膜之面內相位差之關係的圖。 圖7係顯示實施例及比較例所用之偏光件的單體透射率與PVA系樹脂之定向函數之關係的圖。

10:偏光件

20:第1保護層

30:第2保護層

100:偏光板

Claims (11)

1. 一種偏光板，具有以含二色性物質之聚乙烯醇系樹脂薄膜構成之偏光件與配置於該偏光件之一側的保護層； 該偏光件在令其單體透射率為x%、且令該聚乙烯醇系樹脂之雙折射為y時，滿足下述式(1)； y＜-0.011x+0.525　　　　　(1) 該聚乙烯醇系樹脂之雙折射係將聚乙烯醇系樹脂於波長1000nm下之面內相位差除以偏光件之厚度所得之值； 該偏光件之單體透射率為40.0%以上，且偏光度為99.0%以上； 該偏光件之厚度為10µm以下； 該保護層係以具有1µm以上且3µm以下之厚度的樹脂膜構成； 該樹脂膜係以環氧樹脂之光陽離子硬化物、環氧樹脂之有機溶劑溶液的塗佈膜之固化物或熱塑性(甲基)丙烯酸系樹脂之有機溶劑溶液的塗佈膜之固化物構成； 該樹脂膜之軟化溫度為100℃以上。
2. 一種偏光板，具有以含二色性物質之聚乙烯醇系樹脂薄膜構成之偏光件與配置於該偏光件之一側的保護層； 該偏光件在令其單體透射率為x%、且令該聚乙烯醇系樹脂薄膜於波長1000nm下之面內相位差為znm時，滿足下述式(2)； z＜-60x+2875　　　　　　　　　(2) 該偏光件之單體透射率為40.0%以上，且偏光度為99.0%以上； 該偏光件之厚度為10µm以下； 該保護層係以具有1µm以上且3µm以下之厚度的樹脂膜構成； 該樹脂膜係以環氧樹脂之光陽離子硬化物、環氧樹脂之有機溶劑溶液的塗佈膜之固化物或熱塑性(甲基)丙烯酸系樹脂之有機溶劑溶液的塗佈膜之固化物構成； 該樹脂膜之軟化溫度為100℃以上。
3. 一種偏光板，具有以含二色性物質之聚乙烯醇系樹脂薄膜構成之偏光件與配置於該偏光件之一側的保護層； 該偏光件在令其單體透射率為x%、且令該聚乙烯醇系樹脂之定向函數為f時，滿足下述式(3)； f＜-0.018x+1.11　　　　　(3) 該偏光件之單體透射率為40.0%以上，且偏光度為99.0%以上； 該偏光件之厚度為10µm以下； 該保護層係以具有1µm以上且3µm以下之厚度的樹脂膜構成； 該樹脂膜係以環氧樹脂之光陽離子硬化物、環氧樹脂之有機溶劑溶液的塗佈膜之固化物或熱塑性(甲基)丙烯酸系樹脂之有機溶劑溶液的塗佈膜之固化物構成； 該樹脂膜之軟化溫度為100℃以上。
4. 一種偏光板，具有以含二色性物質之聚乙烯醇系樹脂薄膜構成之偏光件與配置於該偏光件之一側的保護層； 該偏光件之穿刺強度為30gf/µm以上； 該偏光件之穿刺強度係指，將前端徑1mmφ、0.5R之針以0.33cm/秒之速度穿刺該偏光件時該偏光件會發生破裂之強度； 該偏光件之單體透射率為40.0%以上，且偏光度為99.0%以上； 該偏光件之厚度為10µm以下； 該保護層係以具有1µm以上且3µm以下之厚度的樹脂膜構成； 該樹脂膜係以環氧樹脂之光陽離子硬化物、環氧樹脂之有機溶劑溶液的塗佈膜之固化物或熱塑性(甲基)丙烯酸系樹脂之有機溶劑溶液的塗佈膜之固化物構成； 該樹脂膜之軟化溫度為100℃以上。
5. 如請求項1至4中任一項之偏光板，其中前述熱塑性(甲基)丙烯酸系樹脂具有選自於由內酯環單元、戊二酸酐單元、戊二醯亞胺單元、馬來酸酐單元及馬來醯亞胺單元所構成群組中之至少1種。
6. 如請求項1至4中任一項之偏光板，其中前述保護層之碘吸附量為25重量%以下，且該碘吸附量係使用以具有3µm厚度之方式形成於PET薄膜之前述保護層來測定的碘吸附量。
7. 如請求項1至4中任一項之偏光板，其係捲繞成捲狀。
8. 一種附相位差層之偏光板，包含如請求項1至7中任一項之偏光板與相位差層；且 該相位差層係配置於前述偏光件之與配置有前述保護層之側的相反側。
9. 如請求項8之附相位差層之偏光板，其中前述相位差層係隔著黏著劑層積層於前述偏光板上。
10. 如請求項8或9之附相位差層之偏光板，其中前述相位差層之Re(550)為100nm~190nm，Re(450)/Re(550)為0.8以上且小於1；且 前述相位差層之慢軸與前述偏光件之吸收軸形成之角度為40°~50°。
11. 一種影像顯示裝置，具備如請求項1至7中任一項之偏光板或如請求項8至10中任一項之附相位差層之偏光板。