TWI877081B - 晶圓收納容器清洗裝置 - Google Patents

Abstract

本發明提供一種晶圓收納容器清洗裝置，能有效率地清洗及乾燥晶圓收納容器。晶圓收納容器清洗裝置具有清洗槽，清洗槽具有：槽，收容晶圓收納容器的主體並利用鉸鏈的開閉蓋能夠開閉；門保持部，設置於開閉蓋且保持晶圓收納容器的門；清洗噴嘴，向主體與門供給清洗液；旋轉機構，使主體與門旋轉；圓形框，包圍門的外側且具有在開閉蓋為關閉狀態時覆蓋門的厚度的一部分的高度；以及傾斜罩，設置於在開閉蓋為關閉狀態時開閉蓋的隔著圓形框與鉸鏈為相反側的位置，以朝向圓形框變高的方式傾斜地設置，對向門供給並飛散的清洗液進行引導，傾斜罩的設置有鉸鏈的一側的端部設置於在開閉蓋從關閉狀態轉移至打開狀態時將清洗液引導至圓形框的側面的位置。

Description

晶圓收納容器清洗裝置

本發明的實施方式是有關於一種晶圓收納容器清洗裝置。

以往，有對收容半導體晶圓的前開式晶圓傳送盒（Front Opening Unified Pod，FOUP）或前開式晶圓出貨盒（Front Opening Shipping Box，FOSB）等晶圓收納容器執行清洗或乾燥等各種處理的晶圓收納容器清洗裝置。

例如，存在如下晶圓收納容器清洗裝置：在對FOUP進行清洗及乾燥的槽的內部載置FOUP主體，由設置於以使槽的開口部能夠開閉的方式設置的蓋的門保持部保持了FOUP的門的狀態下，在槽內將液體分別向FOUP主體及門噴出，由此對FOUP主體及門進行清洗，在槽內噴射氣體，由此對FOUP主體及門進行乾燥。

此種裝置在槽內完成FOUP主體及門的乾燥後，進行將槽的蓋敞開，利用機器人將FOUP主體及門從槽中取出的作業。有時清洗時產生的水滴未完全乾燥而殘留於槽內（包含蓋）。在所述情況下，在將槽的蓋敞開時，附著於蓋的水滴有時會落下至槽內並附著於FOUP主體。如此，由於水滴附著於結束了乾燥處理的FOUP，有時會對FOUP產生污染，或者在晶圓收納容器清洗裝置內產生污染。若FOUP受到污染，則必須再次清洗，清洗效率會下降。 [現有技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本專利特開2005-109523號公報

[發明所欲解決之課題]

本發明是為了解決所述課題而成，其目的在於提供一種可有效率地對晶圓收納容器進行清洗及乾燥的晶圓收納容器清洗裝置。 [解決課題之手段]

為了解決所述課題並實現目的，本發明的一形態的晶圓收納容器清洗裝置對晶圓收納容器進行清洗，所述晶圓收納容器具有：主體，具有收納半導體晶圓且與開口部連通的收納空間；以及門，相對於所述開口部能夠裝卸，所述晶圓收納容器清洗裝置具有對所述晶圓收納容器進行清洗的清洗槽，所述清洗槽具有：槽，具有收容所述主體的主體收容區域，並且在上部具有經由鉸鏈的開閉蓋能夠開閉的搬入搬出口；門保持部，設置於所述開閉蓋，保持所述門；清洗噴嘴，向收容於所述主體收容區域的所述主體、及保持於所述門保持部的所述門供給清洗液；旋轉機構，使所述主體及所述門旋轉；圓形框，以包圍由所述門保持部保持的所述門的外側的方式設置於不與由所述旋轉機構所旋轉的所述門發生干涉的位置，具有在所述開閉蓋為關閉狀態時覆蓋由所述門保持部保持的所述門的厚度的一部分的高度；以及傾斜罩，設置於在所述開閉蓋為關閉狀態時所述開閉蓋的隔著所述圓形框與所述鉸鏈為相反側的位置，以與所述鉸鏈為相反側的端部最低且朝向所述圓形框變高的方式傾斜地設置，對從所述清洗噴嘴向由所述門保持部保持的所述門供給並飛散的所述清洗液進行引導，所述傾斜罩的設置有所述鉸鏈的一側的端部設置於在所述開閉蓋從關閉狀態轉移至打開狀態時將所述清洗液引導至所述圓形框的側面的位置，並且設置成具有在側面觀察時與所述圓形框重疊的部分。 [發明的效果]

根據本發明的一形態，能夠提供一種可有效率地對晶圓收納容器進行清洗及乾燥的晶圓收納容器清洗裝置。

以下，參照附圖對本申請所公開的晶圓收納容器清洗裝置的實施方式進行詳細說明。此外，本申請所公開的晶圓收納容器清洗裝置並不受以下的實施方式所限定。在以下的實施方式中，列舉作為清洗或乾燥等各種處理的對象的晶圓收納容器為FOUP的情況進行說明，但作為各種處理的對象的晶圓收納容器並不限於此。例如，作為各種處理的對象的晶圓收納容器也可為FOSB。

（實施方式） 圖1是表示實施方式的晶圓收納容器清洗裝置1的概略結構的一例的平面圖。晶圓收納容器清洗裝置1例如設置於製造半導體晶圓的工廠內，對晶圓收納容器進行清洗，並對清洗後的晶圓收納容器進行乾燥。

如圖1所示，晶圓收納容器清洗裝置1包括裝載口2、機器人3、緩衝器（分解/連結台）4、清洗槽5、乾燥槽6、卸載口7及控制部8。

機器人3、緩衝器4、清洗槽5、乾燥槽6及控制部8設置於晶圓收納容器清洗裝置1的罩殼1a的內部。另一方面，裝載口2及卸載口7跨及晶圓收納容器清洗裝置1的罩殼1a的內部及外部而設置。

裝載口2將載置於裝載口2的罩殼1a的外部的部分上的、作為清洗及乾燥對象的FOUP 20搬入至罩殼1a的內部。FOUP 20包括FOUP主體（殼）20a以及門（蓋）20b。FOUP主體20a具有開口部（FOUP主體開口部）以及對半導體晶圓進行收納的收納空間。收納空間存在於比FOUP主體開口部更靠內側處，與FOUP主體開口部連通。門20b能夠與FOUP主體20a分解/連結，在與FOUP主體20a連結時以能夠開閉的狀態裝設於FOUP主體開口部。即，門20b相對於FOUP主體開口部能夠裝卸。FOUP主體20a是主體的一例。在FOUP主體20a設置有凸緣20c。凸緣20c是在FOUP 20由高架運輸器（Overhead Hoist Transport，OHT）或機器人3等搬送時被把持（保持）的部分，設置於FOUP主體20a的與具有FOUP主體開口部的面交叉的面上。

例如，在裝載口2的罩殼1a的外部的部分，載置由OHT搬送的FOUP 20。例如，如圖1所示，以FOUP 20的門20b與設置於罩殼1a的開口部1b的擋板2a相向的方式載置FOUP 20。若以所述方式在裝載口2載置FOUP 20，則擋板2a上升。由此，成為FOUP 20能夠從開口部1b搬入至罩殼1a的內部的狀態。即，成為FOUP 20能夠搬入至晶圓收納容器清洗裝置1的內部的狀態。而且，FOUP 20藉由裝載口2的滑動裝置沿箭頭2b的方向滑動。由此，FOUP 20被搬入至罩殼1a的內部。

對利用滑動裝置進行的滑動進行說明。例如，藉由將滑動裝置所配備的銷插入至FOUP 20的底部（載置面）所設置的孔部中，而將FOUP 20的載置面固定於滑動裝置。在此種狀態下，藉由將滑動裝置沿箭頭2b的方向滑動，FOUP 20也隨著滑動裝置的運動而滑動。由此，FOUP 20成為載置於裝載口2的罩殼1a的內部的規定部分上的狀態。若以所述方式將FOUP 20搬入至罩殼1a的內部，則擋板2a下降，罩殼1a的開口部1b關閉。滑動裝置與銷一起下降至比擋板2a的下端（FOUP 20的載置面）更低的位置，而返回至罩殼1a的外部的原來的位置。

機器人3在把持FOUP 20的凸緣20c的狀態下將FOUP 20向各部搬送。機器人3包括機器人臂3a及機器人手3b（機器人3的把持部）。機器人3在使機器人手3b把持凸緣20c的狀態下使機器人臂3a伸縮或旋轉移動，由此將FOUP 20向各部搬送。此外，機器人3當對從FOUP主體20a分離（分解）後的門20b單體進行搬送時，把持門20b的兩側而進行搬送。

緩衝器4為供FOUP 20載置的載置台，將FOUP 20分解（分離）為FOUP主體20a以及門20b，或將FOUP主體20a與門20b連結。例如，在緩衝器4，搬入至罩殼1a的內部的FOUP 20由機器人3搬送。在此種情況下，緩衝器4將FOUP 20分解為FOUP主體20a以及門20b。此外，分解可換句話說為解鎖，且連結可換句話說為鎖定。

清洗槽5是對FOUP 20進行清洗的槽。例如，在清洗槽5中，FOUP主體20a以及門20b分別由機器人3搬送。而且，清洗槽5在分別對FOUP主體20a以及門20b進行保持的狀態下對FOUP 20進行清洗處理。即，清洗槽5在將FOUP主體20a與門20b分離的狀態下對收納空間進行清洗。例如，清洗槽5在清洗槽5的開閉蓋保持門20b、清洗槽5的槽保持FOUP主體20a的狀態下，在藉由旋轉機構使門20b及FOUP主體20a旋轉的同時利用清洗噴嘴對FOUP主體20a及門20b各者供給（噴出）清洗液（例如純水），由此進行FOUP 20的清洗。此外，在清洗槽5中，考慮清洗液的排出性而使FOUP主體20a的FOUP開口部朝向下方配置。

當在清洗槽5中FOUP 20的清洗完成後，接著在清洗槽5內使FOUP主體20a及門20b旋轉，並利用乾燥噴嘴（空氣噴嘴）對它們吹送乾燥空氣進行乾燥。此處的清洗槽5內的乾燥是將附著於FOUP 20的清洗液去除的處理（臨時乾燥）。當在清洗槽5中FOUP 20的臨時乾燥完成後，機器人3將清洗槽5內的FOUP主體20a與門20b分別搬送至乾燥槽6。

乾燥槽6是對FOUP 20進行真空乾燥（正式乾燥）的裝置。當在乾燥槽6中FOUP 20的真空乾燥完成後，機器人3將乾燥槽6內的FOUP主體20a與門20b分別搬送至緩衝器4上。然後，緩衝器4將FOUP主體20a與門20b連結。

卸載口7將由機器人3載置於卸載口7的罩殼1a的內部的部分中的清洗完畢且真空乾燥完畢的FOUP 20搬出至罩殼1a的外部。

例如，在真空乾燥的處理後，FOUP 20由機器人3搬送並載置於卸載口7的罩殼1a的內部的部分。如此，若FOUP 20被載置於卸載口7，則設置於罩殼1a的開口部1c的擋板7a上升。由此，成為FOUP 20能夠從開口部1c搬出至罩殼1a的外部的狀態。即，成為FOUP 20能夠搬出至晶圓收納容器清洗裝置1的外部的狀態。而且，利用卸載口7的滑動裝置（具有與裝載口2的滑動裝置相同的機構）使FOUP 20沿箭頭7b的方向滑動，從而將FOUP 20搬出至罩殼1a的外部。如此，若FOUP 20被搬出至罩殼1a的外部，則擋板7a下降，罩殼1a的開口部1c關閉。

控制部8對晶圓收納容器清洗裝置1整體的動作進行控制。例如，藉由控制部8對裝載口2、機器人3、緩衝器4、清洗槽5、乾燥槽6及卸載口7進行控制，如上所述使裝載口2、機器人3、緩衝器4、清洗槽5、乾燥槽6及卸載口7進行動作。

例如，控制部8包括中央處理器（Central Processing Unit，CPU）、唯讀記憶體（Read Only Memory，ROM）、隨機存取記憶體（Random Access Memory，RAM）、硬碟驅動器（Hard Disk Drive，HDD）以及通訊介面。它們經由內部總線而連接。

CPU在使用RAM的記憶區域作為用於各種處理的數據的暫時保存區域的同時執行各種處理。在ROM及HDD記憶有用於執行所述各種處理的程式、執行各種處理時使用的各種數據庫或各種表等。通訊介面是如下介面，所述介面用於與晶圓收納容器清洗裝置1的所述各部進行通訊並且和經由網路而與晶圓收納容器清洗裝置1連接的外部的裝置進行通訊。例如，通訊介面是網路介面卡。

接著，對本實施方式的清洗槽5的結構的一例進行說明。圖2～圖5是表示實施方式的清洗槽5的結構的一例的圖。圖2是表示實施方式的清洗槽5的內部結構的立體圖。圖3是實施方式的清洗槽5的開閉蓋52為打開狀態（開閉蓋52打開的狀態）時的立體圖。圖4是表示實施方式的清洗槽5的開閉蓋52為打開狀態時的清洗槽5的內部結構的一例的側面圖。圖5是表示實施方式的清洗槽5處於清洗中時的清洗槽5的內部結構的一例的圖。此外，在圖2～圖5的各圖中，為了便於說明，適宜省略了構成清洗槽5的構件的圖示。例如，在圖2中，省略了清洗槽5的開閉蓋52等的圖示。另外，圖2中的X方向、Y方向及Z方向表示相互正交的三個方向。X方向是與後述的鉸鏈51c的旋轉軸平行的方向，Y方向是在水平面內與X方向正交的方向，Z方向是相對於X方向及Y方向成為垂直方向的方向。

如圖2～圖5所示，清洗槽5包括槽51、開閉蓋52、旋轉機構53a、旋轉機構53b、清洗噴嘴54、乾燥噴嘴55、引導板56、第一簷57、第二簷58、傾斜罩59（參照圖8）及排水口60。

槽51構成為，在開閉蓋52為關閉狀態（開閉蓋52關閉的狀態）時能夠收容FOUP主體20a及門20b。例如，槽51如圖2所示具有主體收容區域51a及搬入搬出口51b。主體收容區域51a是能夠收容FOUP主體20a的區域（空間）。另外，搬入搬出口51b是在FOUP主體20a被機器人3搬入至槽51或從槽51搬出時FOUP主體20a通過的槽51的開口部。主體收容區域51a與搬入搬出口51b連通，位於比搬入搬出口51b更靠內部的位置。

另外，在槽51設置有鉸鏈51c及氣缸51d（參照圖4），並經由鉸鏈51c而安裝有開閉蓋52。

開閉蓋52經由鉸鏈51c而安裝於槽51。藉由接受基於控制部8的控制而使氣缸51d進行動作，鉸鏈51c進行動作，並且與鉸鏈51c的動作聯動地開閉蓋52相對於槽51的搬入搬出口51b成為打開狀態或成為關閉狀態。開閉蓋52在FOUP 20的清洗中及乾燥中成為關閉狀態，在將FOUP 20向槽51搬入時、或從槽51搬出FOUP 20時成為打開狀態。在開閉蓋52設置有保持門20b的門保持部52a。

如圖2所示，旋轉機構53a是使載置於主體收容區域51a內的FOUP主體20a旋轉的機構。例如，旋轉機構53a在主體收容區域51a內的旋轉台載置有FOUP主體20a的狀態下藉由使旋轉台旋轉，而與旋轉台的旋轉聯動地使FOUP主體20a旋轉。旋轉機構53a在FOUP主體20a的清洗中及FOUP主體20a的乾燥中的期間使FOUP主體20a旋轉。旋轉機構53a例如包括作為使旋轉台旋轉的驅動源的馬達。

如圖4所示，旋轉機構53b是使由門保持部52a保持的門20b旋轉的機構。例如，旋轉機構53b利用如圖5所示在由門保持部52a（參照圖4）保持門20b的狀態下，以相對於門20b的兩個主表面垂直地伸長的旋轉軸53c為旋轉中心，使對門保持部52a及門20b此兩者進行保持的旋轉部52b旋轉，而使門20b旋轉。此外，在開閉蓋52為關閉狀態的情況下，門20b的兩個主表面成為與水平面平行的面。因此，在開閉蓋52為關閉狀態的情況下，旋轉軸53c是相對於水平面垂直地伸長的軸。旋轉機構53b在FOUP主體20a的清洗中及FOUP主體20a的乾燥中的期間使門20b旋轉。旋轉機構53b例如包括作為使旋轉部52b旋轉的驅動源的馬達。

清洗噴嘴54具有噴出方向分別不同的多種噴嘴（參照圖2），藉由向收容於主體收容區域51a的FOUP主體20a及由門保持部52a保持的門20b供給（噴出）清洗液而對FOUP 20（FOUP主體20a及門20b）進行清洗。如圖2所示，清洗噴嘴54具有沿水平方向（在圖2的例子中為X方向）延伸的兩根噴嘴及沿Z方向延伸的一根噴嘴。沿水平方向延伸的清洗噴嘴54中的其中一根朝向門20b供給清洗液，另一個朝向FOUP主體20a供給清洗液。沿Z方向延伸的清洗噴嘴54朝向FOUP主體20a供給清洗液。清洗噴嘴54與未圖示的清洗液的供給裝置（清洗液供給裝置）連接。清洗噴嘴54將從清洗液供給裝置供給的清洗液供給至FOUP主體20a及門20b。

在進行清洗噴嘴54對FOUP 20的清洗時，首先，用於使清洗噴嘴54移動的移動機構使沿水平方向延伸的清洗噴嘴54移動至清洗位置P1（參照圖6（B）），所述清洗位置P1為能夠藉由清洗噴嘴54對FOUP主體20a及門20b供給清洗液的位置。然後，清洗噴嘴54在清洗位置P1處對利用旋轉機構53a、旋轉機構53b而處於旋轉中的FOUP主體20a及門20b噴出清洗液。清洗噴嘴54進行規定時間的此種清洗處理。然後，在清洗處理完成之後，移動機構使清洗噴嘴54移動至待機位置P2（參照圖6（A））。此處，清洗位置P1為清洗處理中的清洗噴嘴54的位置，待機位置P2為用於使並非清洗處理中的清洗噴嘴54待機的位置。此外，清洗位置P1並非一點的位置，而是一定大小的範圍的區域。在圖2中表示清洗噴嘴54位於待機位置P2時。

乾燥噴嘴55具有噴出方向各不同的多種噴嘴（參照圖2），藉由對收容於主體收容區域51a的FOUP主體20a、及由門保持部52a保持的門20b吹送乾燥空氣，而對FOUP 20（FOUP主體20a及門20b）進行臨時乾燥。如圖2所示，乾燥噴嘴55具有沿水平方向（在圖2的例子中為Y方向）延伸的兩根噴嘴及沿Z方向延伸的一根噴嘴。沿水平方向延伸的乾燥噴嘴55中的其中一根朝向門20b吹送乾燥空氣，另一個朝向FOUP主體20a吹送乾燥空氣。沿Z方向延伸的乾燥噴嘴55朝向FOUP主體20a吹送乾燥空氣。乾燥噴嘴55與未圖示的乾燥空氣的供給裝置（乾燥空氣供給裝置）連接。乾燥噴嘴55將從乾燥空氣供給裝置供給的乾燥空氣供給至FOUP主體20a及門20b。

在進行乾燥噴嘴55對FOUP 20的乾燥時，首先，用於使乾燥噴嘴55移動的移動機構使沿水平方向延伸的乾燥噴嘴55移動至乾燥位置，所述乾燥位置為能夠藉由乾燥噴嘴55對FOUP主體20a及門20b吹送乾燥空氣的位置。然後，乾燥噴嘴55在乾燥位置處，對利用旋轉機構53a、旋轉機構53b而處於旋轉中的FOUP主體20a及門20b吹送乾燥空氣。乾燥噴嘴55進行規定時間的此種乾燥處理。然後，在乾燥處理完成之後，移動機構使乾燥噴嘴55移動至待機位置。即，乾燥位置是乾燥處理中的乾燥噴嘴55的位置，待機位置是用於使並非乾燥處理中的乾燥噴嘴55待機的位置。此外，乾燥位置是一定大小的範圍的區域。在圖2中表示乾燥噴嘴55位於待機位置時。

圖6（A）～圖6（C）是用於對之前敘述的沿水平方向延伸的清洗噴嘴54的清洗位置及待機位置、沿水平方向延伸的乾燥噴嘴55的乾燥位置及待機位置進行說明的圖。此外，圖6（A）～圖6（C）是在主體收容區域51a收納有FOUP主體20a的清洗槽5的俯視圖，但在圖6（A）～圖6（C）中省略了清洗槽5的開閉蓋52等的圖示。圖6（A）表示清洗噴嘴54位於待機位置P2，並且乾燥噴嘴55位於待機位置P4的狀態。在將FOUP主體20a搬入槽51時，清洗噴嘴54及乾燥噴嘴55均如圖6（A）所示位於待機位置。

圖6（B）表示清洗噴嘴54位於清洗位置P1，並且乾燥噴嘴55位於待機位置P4的狀態。在藉由清洗噴嘴54向FOUP主體20a及門20b供給清洗液並進行清洗時，清洗噴嘴54及乾燥噴嘴55位於圖6（B）所示的位置。

圖6（C）表示清洗噴嘴54位於待機位置P2，並且乾燥噴嘴55位於乾燥位置P3的狀態。在藉由乾燥噴嘴55向FOUP主體20a及門20b吹送乾燥空氣並進行乾燥時，清洗噴嘴54及乾燥噴嘴55位於圖6（C）所示的位置。

即，清洗噴嘴54及乾燥噴嘴55的待機位置是在將FOUP主體20a搬入槽51、從槽51搬出時各噴嘴不會與FOUP主體20a發生干涉的位置。另外，清洗噴嘴54的清洗位置及乾燥噴嘴55的乾燥位置是能夠向停止的FOUP主體20a的至少一部分供給清洗液或者乾燥空氣的位置，且是藉由FOUP主體20a旋轉而向整體供給清洗液或者乾燥空氣的位置。

如圖4及圖5所示，引導板56設置於開閉蓋52的鉸鏈51c（參照圖4）側，是用於將附著於開閉蓋52的清洗液（清洗液的水滴）引導至槽51的壁面的構件。即，引導板56將清洗液從開閉蓋52引導至槽51的壁面。

如圖5所示，引導板56的一端56_1設置於開閉蓋52。引導板56在從引導板56的一端56_1延伸的方向上按照第一垂直部56a、第一傾斜部56b、第二垂直部56c、第二傾斜部56d的順序包括第一垂直部56a、第一傾斜部56b、第二垂直部56c及第二傾斜部56d。

如圖5所示，第一垂直部56a的門20b側的面及第二垂直部56c的門20b側的面在開閉蓋52為關閉狀態時成為與水平面垂直的面。即，第一垂直部56a及第二垂直部56c在開閉蓋52為關閉狀態時形成與水平面垂直的面。

如圖5所示，第一傾斜部56b設置於在開閉蓋52為關閉狀態時，與從由門保持部52a保持、藉由旋轉機構53b旋轉的門20b飛濺的清洗液發生碰撞的高度位置。即，第一傾斜部56b設置成，在開閉蓋52為關閉狀態時，在Z方向上，在第一傾斜部56b的上端與下端之間包含與因來自門20b的離心力而飛散的清洗液發生碰撞的位置。第一傾斜部56b具有以在開閉蓋52為關閉狀態時第一傾斜部56b的上端位於比第一傾斜部56b的下端更靠槽51的內側（旋轉機構53b（參照圖4）側）的方式傾斜的面。

如圖5所示，第一傾斜部56b接收從門20b向離心方向飛散的清洗液，所述門20b一邊旋轉一邊接收從清洗噴嘴54供給的清洗液。此處，由於第一傾斜部56b的門20b側的面如上所述那樣傾斜，因此第一傾斜部56b即便接收從門20b飛散的清洗液，也可抑制清洗液向FOUP主體20a側反射。

另外，如圖5所示，第一傾斜部56b也可設置於在開閉蓋52為關閉狀態時，與從旋轉部52b的端部分（邊緣部分）52b_1飛散的清洗液發生碰撞的高度位置。即，第一傾斜部56b設置成，在開閉蓋52為關閉狀態時，在高度方向上，在第一傾斜部56b的上端與下端之間包含旋轉部52b的端部分52b_1的高度位置。因此，與接收從門20b飛散的清洗液的情況同樣地，第一傾斜部56b即便接收從旋轉部52b的端部分52b_1飛散的清洗液，也可抑制清洗液向FOUP主體20a側反射。

第二傾斜部56d是如下構件，即：用於在清洗槽5中清洗及乾燥完成後，在開閉蓋52被打開的情況（開閉蓋52從關閉狀態轉移至打開狀態的情況）下，抑制附著於開閉蓋52及門20b的清洗液滴落至FOUP主體20a，並將附著於開閉蓋52及門20b的清洗液引導至槽51的壁面。

第二傾斜部56d傾斜的方向上的第二傾斜部56d在Z方向上的長度是在如圖5所示那樣槽51的開閉蓋52為關閉狀態時不與後述的第一簷57、第二簷58、清洗噴嘴54及乾燥噴嘴55等發生干涉的長度。圖7是表示實施方式的清洗槽5的開閉蓋52為打開狀態時的清洗槽5的內部結構的側面圖。此外，圖7是表示開閉蓋52相對於包含槽51的搬入搬出口51b的面打開90度的情況的圖。第二傾斜部56d傾斜的方向上的第二傾斜部56d的長度也是在如圖7所示那樣開閉蓋52打開90度時，附著於開閉蓋52及門20b的清洗液不會漏出至槽51外，而是滴落至設置於槽51內的第一簷57及第二簷58的長度。

另外，在如圖4所示那樣開閉蓋52打開45度的情況下，第二傾斜部56d與第二垂直部56c的連接部分向FOUP主體20a側的相反側彎曲，以不使附著於開閉蓋52及門20b的清洗液滴落至FOUP主體20a。具體而言，關於第二傾斜部56d，在如圖4所示那樣開閉蓋52打開45度的情況下，第二傾斜部56d的門20b側的面成為與水平面垂直的面。即，第二傾斜部56d具有在開閉蓋打開45度時與水平面垂直的面。此外，可在引導板56的、在將開閉蓋52打開90度時位於槽51的外側的部分設置防止水滴滴落的壁。即，可在第一垂直部56a、第一傾斜部56b、第二垂直部56c分別如圖7所示那樣設置從各個面垂直地立起的一對壁。即便在開閉蓋52為打開90度的狀態時，也無需在俯視時位於與槽51重疊的位置的第二傾斜部56d設置壁。

另外，可以無論開閉蓋52的開閉狀態是關閉狀態還是打開狀態，第二傾斜部56d的與所述一端56_1（參照圖5）側為相反側的端部均位於第一簷57及第二簷58的上方的方式將引導板56設置於開閉蓋52。由此，無論開閉蓋52是關閉狀態、打開45度的狀態還是打開90度的狀態，清洗液均可從引導板56滴落至第一簷57及第二簷58。

第一簷57是用於接收從引導板56滴落的清洗液、即沿著引導板56的清洗液，並將所述清洗液引導至槽51的壁面的構件。第一簷57是平板狀的構件，設置於引導板56的下方。第一簷57的一端設置於槽51的壁面。第一簷57以隨著從第一簷57的一端朝向另一端，高度位置變高的方式傾斜。即，第一簷57以另一端成為比一端高的位置的方式傾斜。另外，在第一簷57的一端與槽51的壁面之間形成有清洗液能夠通過的孔57a（參照圖4）。因此，當第一簷57接收從引導板56滴落的清洗液時，所述清洗液在第一簷57上朝向孔57a前進，並通過孔57a。

第二簷58是用於更可靠地將從引導板56滴落的清洗液引導至槽51的壁面的構件。第二簷58與第一簷57同樣地是用於接收沿著引導板56的清洗液並將所述清洗液引導至槽51的壁面的構件。第二簷58與第一簷57同樣地是平板狀的構件，設置於引導板56的下方。但是，第二簷58在清洗噴嘴54位於待機位置P2的情況下設置於比所述清洗噴嘴54更靠上方處。因此，清洗噴嘴54在不供給清洗液的情況下，在設置於第二簷58與第一簷57之間的待機位置P2處待機。

第二簷58的一端設置於槽51的壁面。第二簷58以隨著從第二簷58的一端朝向另一端，高度位置變高的方式傾斜。即，第二簷58以另一端成為比一端高的位置的方式傾斜。另外，在第二簷58的一端與槽51的壁面之間形成有清洗液能夠通過的孔58a（參照圖4）。因此，當第二簷58接收從引導板56滴落的清洗液時，所述清洗液在第二簷58上朝向孔58a前進，並通過孔58a。此外，也可不設置第二簷58而僅設置第一簷57。在設置第二簷58時，可更可靠地將清洗液引導至槽51的壁面。

通過了第一簷57的孔57a的清洗液、及通過了第二簷58的孔58a的清洗液沿著槽51的壁面到達槽51的底面51e（參照圖2及圖4）。到達底面51e的清洗液從設置於底面51e的排水口60（參照圖2及圖4）經由未圖示的配管而排出（排水）至槽51的外部。排水口60設置於底面51e的與引導板56所處的一側相反的一側。底面51e以從引導板56所處的一側至排水口60逐漸變低的方式傾斜。因此，到達底面51e的清洗液或下落至底面51e的清洗液朝向排水口60流動。因此，在本實施方式中，下落至底面51e的清洗液不積存於底面51e而被排出。

圖8及圖9是表示實施方式的傾斜罩59的一例的圖。圖8是從下側觀察傾斜罩59時的立體圖，圖9是實施方式的傾斜罩59的側面圖。此外，在圖9中，省略了傾斜罩59及後述的圓形框52c以外的圖示。

對圓形框52c進行說明。如圖8及圖9所示，圓形框52c是以包圍由門保持部52a（參照圖4）保持的門20b（參照圖4）的外側的方式設置於開閉蓋52的圓形形狀的框。另外，圓形框52c設置於不與藉由旋轉機構53b旋轉的門20b發生干涉的位置。圓形框52c是為了抑制清洗液從門20b的側面的未圖示的孔侵入至門20b的內部而設置。此外，門保持部52a藉由旋轉機構53b而與門20b一起旋轉，但圓形框52c不旋轉。

另外，如圖5所示，圓形框52c具有在開閉蓋52為關閉狀態時覆蓋由門保持部52a保持的門20b的厚度的一部分的高度。保持於門保持部52a的門20b的與和開閉蓋52相向的面為相反側的面在槽51的高度方向（Z方向）上位於比圓形框52c更靠下方處。由此，門20b被來自清洗噴嘴54的清洗液充分地清洗。

傾斜罩59是平板狀的構件，以在開閉蓋52為關閉狀態時與鉸鏈51c為相反側的端部59a最低，朝向開閉蓋52的中央變高的方式傾斜地設置。例如，在開閉蓋52為關閉狀態時，傾斜罩59以附著於傾斜罩59的清洗液不會滴落至FOUP主體20a而是滴落至FOUP主體20a與槽51的壁面之間的方式傾斜。

例如，傾斜罩59在開閉蓋52為關閉狀態的情況下，接收從門20b向離心方向飛散的清洗液，所述門20b在旋轉的同時接收從清洗噴嘴54供給的清洗液。如上所述，從門20b飛散的清洗液的一部分朝向第一傾斜部56b。與此同時，清洗液的一部分沿著傾斜罩59。此處，由於傾斜罩59如所述那樣傾斜，因此傾斜罩59以附著於傾斜罩59的清洗液不滴落至FOUP主體20a，而是滴落至FOUP主體20a與槽51的壁面之間的方式引導清洗液。滴落至FOUP主體20a與槽51的壁面之間的清洗液下落至槽51的底面51e。下落至底面51e的清洗液如上所述那樣從排水口60排出。因此，傾斜罩59即便在開閉蓋52為關閉狀態的情況下接收從門20b飛散的清洗液，也可抑制清洗液滴落至FOUP主體20a。

另外，從圖9的箭頭90所示的方向觀察時的側面觀察下，傾斜罩59的開閉蓋52的中央側的端部以具有與圓形框52c重疊的部分的方式設置。另外，傾斜罩59的開閉蓋52的中央側的端部設置於在開閉蓋52被打開時（開閉蓋52從關閉狀態轉移至打開狀態時）將清洗液引導至圓形框52c的側面的位置。因此，在開閉蓋52從關閉狀態轉移至打開狀態時，附著於傾斜罩59的清洗液通過圓形框52c的側面並被引導至引導板56。被引導至引導板56的清洗液經由第一簷57或第二簷58而最終從排水口60排出。如此，在開閉蓋52從關閉狀態轉移至打開狀態時，傾斜罩59將向門20b供給並飛散的清洗液引導至圓形框52c的側面。因此，即便在開閉蓋52從關閉狀態轉移至打開狀態時，傾斜罩59也可抑制清洗液滴落至FOUP主體20a。

如上所述，傾斜罩59可在開閉蓋52為關閉狀態的情況、及開閉蓋52從關閉狀態轉移至打開狀態的情況此兩種情況下，抑制清洗液滴落至FOUP主體20a。其結果，清洗液不會附著於結束了乾燥處理的FOUP 20，因此無需再次清洗FOUP 20。因此，根據本實施方式的晶圓收納容器清洗裝置1，可有效率地對FOUP 20進行清洗及乾燥。

接著，對本實施方式的晶圓收納容器清洗裝置1執行的清洗處理及乾燥處理的流程進行說明。首先，當將FOUP主體20a及門20b搬入槽51內時，清洗噴嘴54從待機位置P2向清洗位置P1移動，對FOUP 20進行清洗處理。在清洗處理中，FOUP主體20a及門20b藉由旋轉機構53a、旋轉機構53b而旋轉。

當清洗處理完成後，清洗噴嘴54向待機位置P2移動，乾燥噴嘴55從待機位置P4向乾燥位置P3移動，對FOUP 20進行乾燥處理。在藉由乾燥噴嘴55進行乾燥處理的期間，清洗噴嘴54位於待機位置P2，殘留於清洗噴嘴54的清洗液落下，沿著第一簷57被引導至槽51的壁面，並向排水口60流動。在此期間，藉由乾燥噴嘴55進行乾燥處理，與清洗處理時同樣地，FOUP主體20a及門20b旋轉。因此，來自乾燥噴嘴55的氣體藉由離心力而充滿至槽51內。然而，附著於清洗噴嘴54的清洗液經由第一簷57而沿著槽51的壁面效率良好地流向排水口60，由此，可抑制來自乾燥噴嘴55的氣體在槽51內飛散而再次附著於FOUP 20。當乾燥處理完成後，乾燥噴嘴55向待機位置P4移動。

當乾燥處理完成後，槽51的開閉蓋52被打開。此時，殘留於開閉蓋52的清洗液如圖4所示那樣沿著箭頭所示的方向沿著引導板56、第一簷57、槽51的壁面，從排水口60排出。如此，藉由使殘留於開閉蓋52的清洗液沿著槽51的壁面效率良好地排出，可抑制落下至FOUP主體20a。

進而，即便從引導板56落下的清洗液附著於位於待機位置P2的清洗噴嘴54，在將下一個作為處理對象的FOUP 20搬入清洗槽5時，也從清洗噴嘴54向FOUP 20供給與附著於清洗噴嘴54的清洗液相同的清洗液，因此實質上無問題。

以上，對本實施方式的晶圓收納容器清洗裝置1進行了說明。晶圓收納容器清洗裝置1具有對FOUP 20進行清洗的清洗槽5。清洗槽5具有：槽51，具有收容FOUP主體20a的主體收容區域51a，並且在上部具有經由鉸鏈51c的開閉蓋52能夠開閉的搬入搬出口51b；門保持部52a，設置於開閉蓋52並保持門20b；清洗噴嘴54，向收容於主體收容區域51a的FOUP主體20a以及保持於門保持部52a的門20b供給清洗液；旋轉機構53a、旋轉機構53b，使FOUP主體20a及門20b旋轉；圓形框52c，以包圍由門保持部52a保持的門20b的外側的方式設置於不與利用旋轉機構53b旋轉的門20b發生干涉的位置，具有在開閉蓋52為關閉狀態時覆蓋由門保持部52a保持的門20b的厚度的一部分的高度；以及傾斜罩59，設置於在開閉蓋52為關閉狀態時開閉蓋52的隔著圓形框52c與鉸鏈51c為相反側的位置，以與鉸鏈51c為相反側的端部最低且朝向圓形框52c變高的方式傾斜地設置，對從清洗噴嘴54向由門保持部52a保持的門20b供給並飛散的清洗液進行引導。並且，傾斜罩59的設置有鉸鏈51c的一側的端部設置於在開閉蓋52從關閉狀態轉移至打開狀態時將清洗液引導至圓形框52c的側面的位置，並且設置成具有在側面觀察時與圓形框52c重疊的部分。

藉由此種結構，如上所述，在使清洗槽5的開閉蓋52從關閉狀態轉移至打開狀態時，存在於開閉蓋52的背面的清洗液的液滴從傾斜罩59沿著圓形框52c向鉸鏈51c側流動。因此，根據本實施方式的晶圓收納容器清洗裝置1，可抑制清洗液的液滴附著在保持於開閉蓋52的下方的FOUP主體20a，進而可有效率地對FOUP 20進行清洗及乾燥。

另外，在清洗槽5的槽51的前方側（在將FOUP主體20a搬入清洗槽5的情況下，FOUP主體20a的凸緣20c朝向的一側），設置有用於機器人3進入槽51內的空間。所述空間是在機器人3把持FOUP主體20a的凸緣20c的狀態下，以FOUP主體20a的FOUP開口部朝向下方的方式載置於槽51內所需的空間。由於槽51具有所述空間，開閉蓋52的面積也不得不增大，保持門20b的部位以外的空白部分變多。因此，在抑制附著於所述空白的清洗液滴落至FOUP主體20a的同時，效率良好地回收清洗液成為課題。根據本實施方式的晶圓收納容器清洗裝置1，藉由具有所述那樣的傾斜罩59，可解決所述課題。

另外，在本實施方式的晶圓收納容器清洗裝置1中，保持於門保持部52a的門20b的與和開閉蓋52相向的面為相反側的面在槽51的高度方向上位於比圓形框52c更靠下方處。另外，在開閉蓋52的圓形框52c與鉸鏈51c之間設置有將清洗液從開閉蓋52向槽51的壁面引導的引導板56。引導板56具有第一傾斜部56b，所述第一傾斜部56b設置於包含在開閉蓋52為關閉狀態時，與從由門保持部52a保持的門20b飛散的清洗液發生碰撞的高度位置在內的高度位置，且具有以上端位於比下端更靠槽51的內側的方式傾斜的面。

藉由此種結構，如上所述，從門20b飛散的清洗液撞擊至引導板56的第一傾斜部56b，並被引導至槽51的壁面。由此，可抑制由於清洗液撞擊至槽51內的其他部位並向FOUP主體20a彈回而導致從門20b排除的污垢附著於FOUP主體20a的情況。

1:晶圓收納容器清洗裝置 1a:罩殼 1b、1c:開口部 2:裝載口 2a、7a:擋板 2b、7b、90:箭頭 3:機器人 3a:機器人臂 3b:機器人手 4:緩衝器（分解/連結台） 5:清洗槽 6:乾燥槽 7:卸載口 8:控制部 20:FOUP 20a:FOUP主體 20b:門（蓋） 20c:凸緣 51:槽 51a:主體收容區域 51b:搬入搬出口 51c:鉸鏈 51d:氣缸 51e:底面 52:開閉蓋 52a:門保持部 52b:旋轉部 52b_1:端部分（邊緣部分） 52c:圓形框 53a、53b:旋轉機構 53c:旋轉軸 54:清洗噴嘴 55:乾燥噴嘴 56:引導板 56_1:一端 56a:第一垂直部 56b:第一傾斜部 56c:第二垂直部 56d:第二傾斜部 57:第一簷 57a、58a:孔 58:第二簷 59:傾斜罩 59a:端部 60:排水口 P1:清洗位置 P2、P4:待機位置 P3:乾燥位置 X、Y、Z:方向

圖1是表示實施方式的晶圓收納容器清洗裝置的概略結構的一例的平面圖。 圖2是表示實施方式的清洗槽的內部結構的立體圖。 圖3是實施方式的清洗槽的開閉蓋為打開狀態（開閉蓋打開的狀態）時的立體圖。 圖4是表示實施方式的清洗槽的開閉蓋為打開狀態時的清洗槽5的內部結構的側面圖。 圖5是表示實施方式的清洗槽處於清洗中時的清洗槽的內部結構的一例的圖。 圖6（A）～圖6（C）是用於對實施方式的沿水平方向延伸的清洗噴嘴的清洗位置及待機位置、沿水平方向延伸的乾燥噴嘴的乾燥位置及待機位置進行說明的圖。 圖7是表示實施方式的清洗槽的開閉蓋為打開狀態時的清洗槽5的內部結構的側面圖。 圖8是從下側觀察傾斜罩時的立體圖。 圖9是實施方式的傾斜罩的側面圖。

51c:鉸鏈

51d:氣缸

52:開閉蓋

52c:圓形框

59:傾斜罩

59a:端部

Claims (5)

1. 一種晶圓收納容器清洗裝置，對晶圓收納容器進行清洗，所述晶圓收納容器具有：主體，具有收納半導體晶圓且與開口部連通的收納空間；以及門，相對於所述開口部能夠裝卸， 所述晶圓收納容器清洗裝置具有對所述晶圓收納容器進行清洗的清洗槽， 所述清洗槽具有： 槽，具有收容所述主體的主體收容區域，並且在上部具有經由鉸鏈的開閉蓋能夠開閉的搬入搬出口； 門保持部，設置於所述開閉蓋，保持所述門； 清洗噴嘴，向收容於所述主體收容區域的所述主體、及保持於所述門保持部的所述門供給清洗液； 旋轉機構，使所述主體及所述門旋轉； 圓形框，以包圍由所述門保持部保持的所述門的外側的方式，設置於不與利用所述旋轉機構旋轉的所述門發生干涉的位置，具有在所述開閉蓋為關閉狀態時覆蓋由所述門保持部保持的所述門的厚度的一部分的高度；以及 傾斜罩，設置於在所述開閉蓋為關閉狀態時所述開閉蓋的隔著所述圓形框與所述鉸鏈為相反側的位置，以與所述鉸鏈為相反側的端部最低且朝向所述圓形框變高的方式傾斜地設置，對從所述清洗噴嘴向由所述門保持部保持的所述門供給並飛散的所述清洗液進行引導， 所述傾斜罩的設置有所述鉸鏈的一側的端部，設置於在所述開閉蓋從關閉狀態轉移至打開狀態時將所述清洗液引導至所述圓形框的側面的位置，並且設置成具有在側面觀察時與所述圓形框重疊的部分。
2. 如請求項1所述的晶圓收納容器清洗裝置，其中，保持於所述門保持部的所述門的與和所述開閉蓋相向的面為相反側的面在所述槽的高度方向上位於比所述圓形框更靠下方的位置， 在所述開閉蓋的所述圓形框與所述鉸鏈之間設置有將所述清洗液從所述開閉蓋向所述槽的壁面引導的引導板， 所述引導板具有第一傾斜部，所述第一傾斜部設置於包含在所述開閉蓋為關閉狀態時與從由所述門保持部保持的所述門飛散的所述清洗液發生碰撞的高度位置在內的高度位置，且具有以上端位於比下端更靠所述槽的內側的方式傾斜的面。
3. 如請求項2所述的晶圓收納容器清洗裝置，其中，所述引導板的一端設置於所述開閉蓋， 所述引導板在從所述引導板的所述一端延伸的方向上，按照第一垂直部、所述第一傾斜部、第二垂直部、第二傾斜部的順序包括所述第一垂直部、所述第一傾斜部、所述第二垂直部及所述第二傾斜部， 所述第一垂直部及所述第二垂直部在所述開閉蓋為關閉狀態時形成與水平面垂直的面， 所述第二傾斜部具有在所述開閉蓋打開45度時與水平面垂直的面。
4. 如請求項2或請求項3所述的晶圓收納容器清洗裝置，具有第一簷， 所述第一簷的一端設置於比所述引導板更靠下方的所述槽的所述壁面，所述第一簷接收沿著所述引導板的所述清洗液，並將所述清洗液引導至所述槽的所述壁面， 所述第一簷以另一端成為比所述一端高的位置的方式傾斜，並且在所述一端與所述壁面之間形成有所述清洗液能夠通過的孔。
5. 如請求項4所述的晶圓收納容器清洗裝置，還具有第二簷， 所述第二簷的一端設置於所述引導板下端與所述第一簷之間的所述槽的所述壁面，所述第二簷以另一端成為比所述一端高的位置的方式傾斜，並且在所述一端與所述壁面之間具有所述清洗液能夠通過的孔， 所述清洗噴嘴在不供給所述清洗液的情況下，在設置於所述第二簷與所述第一簷之間的待機位置處待機。

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