TWI709767B - 光學濾波器、環境光感測器及電子設備 - Google Patents
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Abstract
一種光學濾波器,包括具有包含近紅外吸收微粒子的層的基材與設置於該基材的至少一面上的電介質多層膜,滿足:於波長400nm~650nm的範圍內,相對於光學濾波器自垂直方向入射的光、自垂直方向從傾斜30度的方向入射的光、自垂直方向從傾斜60度的方向入射的光的任一者的透過率的平均值均為45%以上且未滿85%,以及於波長800nm~1200nm的範圍內,對於相對於光學濾波器自垂直方向入射的光、自垂直方向從傾斜30度的方向入射的光、自垂直方向從傾斜60度的方向入射的光的任一者,光密度的平均值均為1.7以上。
Description
本發明是有關於一種光學濾波器及具備光學濾波器的環境光感測器。詳細而言,是有關於一種包括包含近紅外吸收粒子的紅外線吸收層及電介質多層膜的光學濾波器、以及使用該光學濾波器的環境光感測器。
近年來,作為針對智慧型手機或平板終端機等資訊終端機裝置的用途,進行有照度感測器、環境光感測器的開發。於資訊終端機裝置中,照度感測器用作用於對放置有資訊終端機裝置的環境的照度進行檢測並對顯示器的亮度進行調光的用途,環境光感測器用作用於對顯示器的色調進行調整的用途。
為了以自然的形態使顯示器的輝度或色調與人的視感度相適應,重要的是僅使可見光線到達環境光感測器。例如,環境光感測器藉由設置近紅外線截止濾波器等光學濾波器而可使分光感度特性接近視感度。
另一方面,根據重視資訊終端機裝置的設計性的需求,要求降低使光入射至環境光感測器的透過窗的透過率(設為發黑的外表),但存在如下問題:可見光相對於紅外光的入射量減少,
難以檢測出準確的照度或色彩而產生誤動作。另外,資訊終端機裝置的低背化(low profile)進展而光自入射窗至環境光感測器的距離變短,故例如自入射角度60度等高入射角的入射光的比例增加,從而要求即便對於高入射角的入射光,到達環境光感測器的光的分光特性(尤其是近紅外線的強度)亦不會發生變化。
作為用於使環境光感測器的分光特性與人的視感度相適應的機構,揭示有設置有於玻璃板上利用金屬多層膜而形成的紅外線截止濾波器的裝置(例如參照專利文獻1)。然而,於玻璃板上形成有金屬多層薄膜的近紅外線截止濾波器的光學特性會因入射光的入射角度而大幅變化。因此,存在環境光感測器的檢測精度降低的問題。
另一方面,已知有無論入射角度如何均可截止廣範圍的近紅外線的多種近紅外吸收粒子(例如,參照專利文獻2、專利文獻3)。為了使用該近紅外線吸收粒子來達成作為環境光感測器的用途的充分的近紅外線截止性能,必須將近紅外吸收粒子的添加量設置得多。然而,若將近紅外線截止濾波器的近紅外吸收粒子的添加量設置得多,則存在可見光透過率降低的問題。
相對於此,包括降冰片烯系樹脂製基板、對特定波長具有最大吸收的近紅外線吸收色素、及近紅外線反射膜的近紅外線截止濾波器具有光線自傾斜方向入射時可見區域的透過率變化少的特性(參照專利文獻4)。然而,於將該近紅外線截止濾波器用作環境光感測器用途時,理想的是進一步提昇入射角度60度等高
入射角的紅外線截止性能。
[現有技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2011-060788號公報
[專利文獻2]國際公開第2005/037932號說明書
[專利文獻3]日本專利特開2011-118255號公報
[專利文獻4]日本專利特開2011-100084號公報
本發明的課題之一在於提供一種伴隨各種設置有環境光感測器的設備的低背化,即便於入射角度大時亦可使優異的可見光透過率與近紅外線截止性能並存的光學濾波器。
根據本發明的一實施形態,提供一種光學濾波器,包括具有包含近紅外吸收微粒子的層的基材與設置於該基材的至少一面上的電介質多層膜,並且滿足下述(a)及(b)的要件。
(a)於波長400nm~650nm的範圍內,相對於光學濾波器自垂直方向入射的光、自垂直方向從傾斜30度的方向入射的光、自垂直方向從傾斜60度的方向入射的光的任一者的透過率的平均值均為45%以上且未滿85%。
(b)於波長800nm~1200nm的範圍內,對於相對於光學濾波器自垂直方向入射的光、自垂直方向從傾斜30度的方向入射的
光、自垂直方向從傾斜60度的方向入射的光的任一者,光密度(OD(optical density)值)的平均值均為1.7以上。
於本發明的一實施形態中,近紅外線吸收微粒子的粒子直徑的平均值可為1nm~200nm。
於本發明的一實施形態中,近紅外線吸收微粒子可為下述所定義的第1微粒子及第2微粒子的至少一種。
第1微粒子:由通式A1/nCuPO4(其中,式中,A為選自由鹼金屬、鹼土類金屬及NH4所組成的群組中的至少一種,當A為鹼金屬或NH4時,n為1,當A為鹼土類金屬時,n為2)所表述的氧化物。
第2微粒子:由通式MxWyOz(其中,M為選自H、鹼金屬、鹼土類金屬、稀土元素、Mg、Zr、Cr、Mn、Fe、Ru、Co、Rh、Ir、Ni、Pd、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Tl、Si、Ge、Sn、Pb、Sb、B、F、P、S、Se、Br、Te、Ti、Nb、V、Mo、Ta、Re、Be、Hf、Os、Bi、I中的一種或多種元素,W為鎢,O為氧,0.001≦x/y≦1,2.2≦z/y≦3.0)所表述的金屬氧化物。
於本發明的一實施形態中,光學濾波器中的包含近紅外線吸收微粒子的層可為透明樹脂的層。另外,亦可於光學濾波器的基材的兩面設置電介質多層膜。
於本發明的一實施形態中,光學濾波器較佳為進而滿足下述(c)的要件。
(c)於波長400nm~650nm的範圍內,相對於光學濾波器
自垂直方向從傾斜30度的方向入射的光的透過率的平均值高於相對於光學濾波器自垂直方向入射的光及自垂直方向從傾斜60度的方向入射的光的透過率的平均值。
於本發明的一實施形態中,基材可具有利用透明樹脂的基板或玻璃基板的支撐體。透明樹脂較佳為選自如下樹脂中者:所述樹脂為選自由環狀(聚)烯烴系樹脂、芳香族聚醚系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、茀聚碳酸酯系樹脂、茀聚酯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚芳酯系樹脂、聚碸系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚對苯系樹脂、聚醯胺醯亞胺系樹脂、聚萘二甲酸乙二酯系樹脂、氟化芳香族聚合物系樹脂、(改質)丙烯酸系樹脂、環氧系樹脂、烯丙酯系硬化型樹脂、倍半矽氧烷系紫外線硬化型樹脂、丙烯酸系紫外線硬化型樹脂及乙烯基系紫外線硬化型樹脂所組成的群組中的至少一種。
本發明的一實施形態的光學濾波器可用於環境光感測器,並提供一種具備該光學濾波器的環境光感測器。另外,提供一種具有本發明的一實施形態的環境光感測器的電子設備。
根據本發明,可提供一種對自垂直方向的入射光及自傾斜方向的入射光雙方均具有高的可見光透過率與近紅外線截止性能且可適宜地用作環境光感測器用途的光學濾波器。
1、1'、1":光
2、100、100a、100b、100c:光學濾波器
3:分光光度計
102、102a、102b、102c:基材
104:電介質多層膜
104a:第1電介質多層膜
104b:第2電介質多層膜
106:抗反射膜
108:包含近紅外線吸收微粒子的透明樹脂製基板
110:支撐體
112:樹脂層
200、200a、200b:環境光感測器
202、202a、202b、202c:光電轉換元件
204、302:筐體
206:第1電極
208:光電轉換層
210:第2電極
212、212a、212b、212c:彩色濾波器
214:元件分離絕緣層
216:鈍化膜
300:電子設備
304:顯示面板
306:麥克風部
308:揚聲器部
310:表面面板
D:區域
圖1的(A)~(C)是說明本發明的一實施形態的光學濾波器的構成的圖。
圖2的(A)~(C)是說明本發明的一實施形態的光學濾波器的構成的圖。
圖3是說明本發明的一實施形態的環境光感測器的構成的圖。
圖4是說明本發明的一實施形態的環境光感測器的構成的圖。
圖5的(A)~(C)是說明具備本發明的一實施形態的環境光感測器的電子設備的一例的圖。
圖6的(A)是說明自垂直方向測定透過光譜的態樣的圖,圖6的(B)是說明自傾斜30度的角度測定透過光譜的態樣的圖,圖6的(C)是說明自傾斜60度的角度測定透過光譜的態樣的圖。
圖7是表示實施例1中的於透明樹脂製基板的兩面上具有包含近紅外線吸收微粒子的樹脂層的基材的分光透過率的圖表。
圖8是表示實施例1中的於基材的一面上形成電介質多層膜(I)、進而於基材的另一面上形成電介質多層膜(II)的光學濾波器的、自垂直方向從30度的角度進行測定時及自垂直方向從60度的角度進行測定時的分光透過率的圖表。
圖9是表示比較例1中的光學濾波器的分光透過率的圖表。
圖10是表示比較例5中的光學濾波器的分光透過率的圖表。
圖11是表示比較例6中的光學濾波器的分光透過率的圖表。
一面參照圖式等一面對本發明的實施形態進行說明。其中,本發明可由多個不同的態樣實施,並不由以下例示的實施形態的記載內容限定性地解釋。為了更明確地進行說明,與實際的態樣相比,存在圖式對各部的寬度、厚度、形狀等進行示意性表示的情況,僅為一例,並不限定本發明的解釋。另外,於本說明書與各圖中,關於已示出的圖,對於與所述相同的要素標注相同的符號或標注類似的符號(於數字後僅標注a、b等的符號),並適宜省略詳細的說明。
[光學濾波器]
本發明的一實施形態的光學濾波器包括具有包含近紅外吸收微粒子的層的基材與設置於該基材的至少一面上的電介質多層膜。電介質多層膜設置於該基材的至少一面上。本發明的一實施形態的光學濾波器對自垂直方向的入射光、及自傾斜方向的入射光(尤其是高入射角的入射光)雙方均具有高的可見光透過率與近紅外線截止性能。
再者,於本說明書中,將相對於構成光學濾波器的基材垂直地入射的光設為垂直入射光,並將以該垂直入射光為基準(入射角0度)而自傾斜方向入射的光設為傾斜入射光。
本發明的一實施形態的光學濾波器滿足下述(a)及(b)的要件。
(a)於波長400nm~650nm的範圍內,自基材的垂直
方向入射的光、自垂直方向從傾斜30度的方向入射的光、自垂直方向從傾斜60度的方向入射的光的任一者的透過率的平均值(以下亦稱為「平均透過率」)均為45%以上且未滿85%。
該平均值較佳為48%以上,進而更佳為52%以上,特佳為55%以上。若於該波長範圍內任一入射角度下的平均透過率均處於該範圍內,則當將本發明的一實施形態的光學濾波器用作環境光感測器用途時,可達成優異的感測器感度。另一方面,當於所述各入射角度下的波長400nm~650nm的範圍內的光學濾波器的平均透過率為85%以上時,存在近紅外線吸收微粒子的添加量的上限受限而難以與充分的近紅外截止性能並存的傾向。所述各入射角度下的波長400nm~650nm範圍內的光學濾波器的平均透過率較佳為未滿83%,進而更佳為未滿80%,特佳為未滿75%。
(b)於波長800nm~1200nm的範圍內,對於自基材的垂直方向入射的光、自垂直方向從傾斜30度的方向入射的光、自垂直方向從傾斜60度的方向入射的光的任一者,光密度(OD值)的平均值(以下亦稱為「平均光密度」)均為1.7以上。該平均值較佳為1.8以上,更佳為1.9以上,進而更佳為2.0以上,特佳為2.1以上。上限並無特別限制,較佳為6.0以下,特佳為5.5以下。若光密度極其高,則存在可見區域的透過率降低的傾向,且於實用特性上並未發現顯著的差異,因此當用作環境光感測器用途時,較佳為將光密度上限設為所述範圍。若於該波長區域內任一入射角度下的光密度的平均值均處於該範圍內,則當將本發明的
一實施形態的光學濾波器用作環境光感測器用途時,可防止感測器的誤動作。
再者,所謂光密度是表示藉由反射或吸收而阻斷特定波長下的光的特性,當將入射光量設為100、將透過光量設為T時,可由光密度=log10(100/T)的式子表示。例如當特定波長下的光學濾波器的透過率為0.8%(包含界面反射的透過率)時,該波長下的光密度為log10(100/0.8)=2.10。另外,所謂光密度(OD值)的「平均值」是指波長800nm~1200nm的整個區域中的平均值。
進而,本發明的一實施形態的光學濾波器較佳為滿足(c)的要件。
(c)於波長400nm~650nm的範圍內,相對於基材自垂直方向從傾斜30度的方向入射的光的透過率的平均值高於相對於基材自垂直方向入射的光及自垂直方向從傾斜60度的方向入射的光的透過率的平均值。此時,即便對於自垂直方向從傾斜60度的方向入射的光,亦存在容易抑制可見透過率的降低的傾向(就電介質多層膜的特性而言,若入射角度為60度以上,則存在可見透過率極其降低的情況),當用作環境光感測器時,可降低因光的入射角度引起的感測器感度的偏差。
藉由於該波長區域內滿足所述要件,當將本發明的一實施形態的光學濾波器用作環境光感測器用途時,可防止感測器的誤動作。
進而,本發明的一實施形態的光學濾波器較佳為滿足
(d)、(e)及(f)的要件。
(d)於波長430nm~470nm的範圍內,自基材的垂直方向入射的光、自垂直方向從傾斜30度的方向入射的光、自垂直方向從傾斜60度的方向入射的光的任一者的透過率的平均值均為45%以上。該平均值較佳為48%以上,特佳為50%以上。上限並無特別限制,較佳為85%以下。
(e)於波長520nm~560nm的範圍內,自基材的垂直方向入射的光、自垂直方向從傾斜30度的方向入射的光、自垂直方向從傾斜60度的方向入射的光的任一者的透過率的平均值均為60%以上。該平均值較佳為62%以上,特佳為65%以上。上限並無特別限制,較佳為88%以下。
(f)於波長580nm~620nm的範圍內,自基材的垂直方向入射的光、自垂直方向從傾斜30度的方向入射的光、自垂直方向從傾斜60度的方向入射的光的任一者的透過率的平均值均為50%以上。該平均值較佳為53%以上,特佳為55%以上。上限並無特別限制,較佳為85%以下。
若滿足所述(d)、(e)及(f)的要件,則即便於傾斜入射時,於相當於藍色、綠色、紅色的波長區域內亦顯示出良好的可見透過率,故當將本發明的一實施形態的光學濾波器用作環境光感測器用途時,無論光的入射角度如何,均可達成良好的色調感知特性,故較佳。
圖1的(A)~(C)表示本發明的一實施形態的光學濾
波器。圖1的(A)所示的光學濾波器100a於基材102的至少一面上包括電介質多層膜104。電介質多層膜具有反射近紅外線的特性。另外,圖1的(B)表示於基材102的一面上設置有第1電介質多層膜104a且於另一面上設置有第2電介質多層膜104b的光學濾波器100b。如此,反射近紅外線的電介質多層膜可設置於基材的一面上,亦可設置於基材的兩面上。當設置於一面上時,製造成本或製造容易性優異,當設置於兩面上時,可獲得具有高強度、且難以產生翹曲或扭曲的光學濾波器。當將光學濾波器應用於環境光感測器用途時,較佳為光學濾波器的翹曲或扭曲小,因此較佳為將電介質多層膜設置於基材的兩面上。
電介質多層膜104於使相當於可見光的波長的光透過時,較佳為對於自垂直方向入射的光遍及波長800nm~1150nm的整個範圍而具有反射特性,進而更佳為遍及波長800nm~1200nm的整個範圍而具有反射特性,特佳為遍及800nm~1250nm的整個範圍而具有反射特性。作為於基材102的兩面上具有電介質多層膜的形態,可列舉:於基材102的一面上設置自相對於光學濾波器(或基材)的垂直方向從5°的角度進行測定時主要在波長800nm~1000nm附近具有反射特性的第1電介質多層膜104a,於基材102的另一面上具有自相對於光學濾波器(或基材)的垂直方向從5°的角度進行測定時主要在1000nm~1250nm附近具有反射特性的第2電介質多層膜104b的形態。
另外,作為其他形態可列舉:圖1的(C)所示的光學濾
波器100c於基材102的一面上設置自相對於垂直方向從5°的角度進行測定時主要在波長800nm~1250nm附近具有反射特性的電介質多層膜104,於基材102的另一面上具有具備可見區域的抗反射特性的抗反射膜106的形態。藉由對基材組合電介質多層膜與抗反射膜,可提高可見區域的光的透過率並且反射近紅外線。
本發明的一實施形態的光學濾波器所要求的霧度值視用途而不同,例如當用作環境光感測器用光學濾波器時,霧度值較佳為8%以下,進而更佳為5%以下,特佳為3%以下。當霧度值大於8%時,存在感測器感度降低的情況。
光學濾波器的厚度只要對應於所期望的用途而適宜選擇即可,若考慮到近年來的資訊終端機的薄型化、輕量化等趨勢,則較佳為薄。
本發明的一實施形態的光學濾波器的厚度理想的是較佳為210μm以下,更佳為190μm以下,進而更佳為160μm以下,特佳為130μm以下,下限並無特別限制,但若考慮到光學濾波器的強度或處理的容易性,則理想的是例如為20μm。
[基材]
圖2的(A)~(C)表示基材102的構成。基材102可為單層,亦可為多層,只要具有包含一種以上的近紅外線吸收微粒子的層即可,包含近紅外線吸收微粒子的層較佳為透明樹脂層。
以下,亦將含有至少一種近紅外線吸收微粒子與透明樹脂的層稱為「透明樹脂層」,將其以外的樹脂層簡稱為「樹脂層」。
如圖2的(A)所示,單層的基材102a為包含近紅外線吸收微粒子的透明樹脂製基板108。該透明樹脂製基板相當於所述透明樹脂層。圖2的(B)表示多層結構的基材102b,例如具有於玻璃支撐體或成為基底的樹脂製支撐體等支撐體110上積層包含含有近紅外線吸收微粒子的硬化性樹脂或熱塑性樹脂的外塗層等樹脂層112而成的構成。再者,相當於樹脂層112的層亦可設置於支撐體110的兩面上。圖2的(C)表示於包含近紅外線吸收微粒子的透明樹脂製基板108上積層包含含有近紅外線吸收微粒子的硬化性樹脂等的外塗層等樹脂層112而成的基材102c。
當具有玻璃支撐體時,為了使基材的薄型化與強度並存,玻璃支撐體較佳為不含吸收劑的無色透明的玻璃基板,尤其是當基材的厚度為150μm以下時,該傾向顯著(於包含銅作為吸收劑的氟磷酸鹽玻璃等中存在強度降低的傾向)。當具有樹脂製支撐體時,就光學特性調整的容易性、進而可達成樹脂製支撐體的消除損傷的效果或提昇基材的耐損傷性等的觀點而言,特佳為於樹脂製支撐體的兩面上積層包含硬化性樹脂或熱塑性樹脂的外塗層等樹脂層且該樹脂層的至少一者包含近紅外線吸收微粒子的形態。
基材的波長400nm~650nm中的平均透過率較佳為55%以上,進而更佳為60%以上,特佳為65%以上。若使用具有此種透過特性的基材,則可獲得於環境光感測器所需的波長範圍內具有高的光線透過特性的光學濾波器,並可達成高感度的感測器功
能。
基材的波長800nm~1200nm中的平均透過率較佳為20%以下,進而更佳為18%以下,特佳為15%以下。若使用具有此種吸收特性的基材,則藉由與具有特定反射特性的電介質多層膜組合可獲得無論入射角度如何均具有優異的近紅外截止特性的光學濾波器,並可適宜地用作環境光感測器用途。
基材的厚度可對應於所期望的用途而適宜選擇,並無特別限制,但理想的是以可使所需的基材強度與薄型化並存方式適宜選擇,較佳為10μm~200μm,更佳為15μm~180μm,進而更佳為20μm~150μm,特佳為25μm~120μm。
若基材的厚度處於所述範圍內,則可將使用該基材的光學濾波器加以薄型化及輕量化,可適宜地用於搭載於資訊終端機上的環境光感測器等各種用途。
[近紅外線吸收微粒子]
近紅外線吸收微粒子只要是於近紅外波長區域中具有吸收者則並無特別限制,較佳為以於波長800nm~1200nm中具有吸收者為宜。作為此種近紅外線吸收微粒子,例如可列舉摻錫氧化銦(Indium Tin Oxide,ITO)、摻銻氧化錫(Antimony Tin Oxide,ATO)、摻鎵氧化鋅(Gallium Zinc Oxide,GZO)等透明導電性氧化物、或下述所定義的第1微粒子或第2微粒子,就吸收-透過特性的觀點而言,特佳為第1微粒子及第2微粒子。
第1微粒子:由通式A1/nCuPO4(其中,式中,A為選自
由鹼金屬、鹼土類金屬及NH4所組成的群組中的至少一種,當A為鹼金屬或NH4時,n為1,當A為鹼土類金屬時,n為2)所表述的氧化物。
第2微粒子:由通式MxWyOz(其中,M為H、鹼金屬、鹼土類金屬、稀土元素、Mg、Zr、Cr、Mn、Fe、Ru、Co、Rh、Ir、Ni、Pd、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Tl、Si、Ge、Sn、Pb、Sb、B、F、P、S、Se、Br、Te、Ti、Nb、V、Mo、Ta、Re、Be、Hf、Os、Bi、I,當M存在多個時可為分別不同原子,W為鎢,O為氧,0.001≦x/y≦1,2.2≦z/y≦3.0)所表述的金屬氧化物。
於本發明中,所謂鹼金屬是指Li、Na、K、Rb、Cs,所謂鹼土類金屬是指Ca、Sr、Ba,所謂稀土元素是指Sc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu。
近紅外線吸收微粒子的粒子直徑的平均值為1nm~200nm,即較佳為200nm以下,進而更佳為150nm以下,特佳為100nm以下。近紅外線吸收微粒子的粒子直徑是藉由使用動態光散射光度計(大塚電子公司製造,型號DLS-8000HL/HH)的動態光散射法(使用He-Ne雷射,單元室溫度為25℃)對近紅外線微粒子為分散狀態的懸浮液(以下,亦簡稱為「分散液」)進行測定而獲得。若近紅外線吸收微粒子的粒子直徑的平均值處於該範圍,則可降低成為可見光透過率降低的原因的幾何散射或米氏散射(Mie
scattering),成為瑞利散射(Rayleigh scattering)區域。於瑞利散射區域中,散射光與粒子直徑的6乘方成反比地減少,故伴隨粒子直徑的減小,散射減少,可見光透過率提昇。因此,若粒子直徑處於所述範圍內,則散射光非常少,可達成良好的可見光透過率,故較佳。就散射光的觀點而言,粒子直徑較佳為小,但若考慮到工業製造的容易性或製造成本等,粒子直徑的平均值的下限較佳為1nm以上,特佳為2nm以上。
相對於構成包含近紅外線吸收微粒子的層的樹脂成分100重量份,近紅外線吸收粒子的含量較佳為5重量份~60重量份。含量的上限值進而更佳為55重量份,特佳為50重量份。含量的下限值進而更佳為10重量份,特佳為15重量份。若近紅外線吸收粒子的含量小於5重量份,則存在無法獲得充分的近紅外吸收特性的情況,若大於60重量份,則存在因可見透過率降低或近紅外線吸收粒子的凝聚而容易引起霧度值的增大的傾向。
作為近紅外線吸收粒子的分散介質,可列舉:水、醇、酮、醚、酯、醛、胺、脂肪族烴、脂環族烴、芳香族烴等。分散介質可單獨使用一種,亦可混合使用兩種以上。就維持近紅外線吸收粒子的分散性的觀點而言,分散介質的量相對於分散液100重量份而較佳為50重量份~95重量份。
視需要可於近紅外線吸收粒子的分散介質中調配用於改良近紅外線吸收粒子的分散狀態的分散劑。作為分散劑,可使用對於近紅外吸收粒子的表面顯示出改質效果者,例如可使用界面
活性劑、矽烷化合物、矽酮樹脂、鈦酸鹽系偶合劑、鋁系偶合劑、鋯鋁系偶合劑等。
作為界面活性劑,可列舉:陰離子系界面活性劑(特殊多羧酸型高分子界面活性劑、烷基磷酸酯等)、非離子系界面活性劑(聚氧化乙烯烷基醚、聚氧化乙烯烷基苯酚醚、聚氧化乙烯羧酸酯、脫水山梨糖醇高級羧酸酯等)、陽離子界面活性劑(聚氧化乙烯烷基胺羧酸酯、烷基胺、烷基銨鹽等)、兩性界面活性劑(高級烷基甜菜鹼等)。
作為矽烷化合物,可列舉:矽烷偶合劑、氯矽烷、烷氧基矽烷、矽氮烷等。作為矽烷偶合劑,可列舉具有官能基(縮水甘油氧基、乙烯基、胺基、烯基、環氧基、巰基、氯基、銨基、丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基等)的烷氧基矽烷等。
作為矽酮樹脂,可列舉:甲基矽酮樹脂、甲基苯基矽酮樹脂等。
作為鈦酸鹽系偶合劑,可列舉具有醯氧基、磷醯氧基、焦磷醯氧基、磺醯氧基、芳氧基等者。
作為鋁系偶合劑,可列舉乙醯基烷氧基二異丙酸鋁(acetoalkoxy aluminum diisopropylate)。
作為鋯鋁系偶合劑,可列舉具有胺基、巰基、烷基、烯基等者。
分散劑的量視分散劑的種類而定,相對於分散液100重量份,較佳為0.5重量份~10重量份。若分散劑的量處於該範圍
內,則近紅外吸收粒子的分散性良好,不會損及透明性,另外,可抑制經時性的近紅外吸收粒子的沈降。
作為近紅外線吸收微粒子的市售品,可列舉:三菱材料(股份)製造的P-2(ITO)、三井金屬(股份)製造的帕斯特朗(pastran)(ITO)、三菱材料(股份)製造的T-1(ATO)、石原產業(股份)製造的SN-100P(ATO)、哈庫斯科技(hakusui tech)(股份)製造的帕在特(pazet)GK(GZO)、住友金屬礦山(股份)製造的YMF-02A(第2微粒子)等。
<第1微粒子>
第1微粒子包含由下述式(1)所表示的化合物,具有由化合物的結晶結構(微晶)引起的近紅外線吸收特性。
[化1]A1/nCuPO4…(1)
(式中,A為選自由鹼金屬、鹼土類金屬及NH4所組成的群組中的至少一種,當A為鹼金屬或NH4時,n為1,當A為鹼土類金屬時,n為2)
此處,所謂「微晶」是指視為單晶的單位結晶,「粒子」是由多個微晶構成。所謂「包含由式(1)所表示的化合物的微晶」是指例如可藉由X射線繞射確認到A1/nCuPO4的結晶結構,且由X射線繞射鑒定為實質上包含A1/nCuPO4的微晶,所謂「實質上包含
A1/nCuPO4的微晶」是指亦可於微晶可充分維持A1/nCuPO4的結晶結構(藉由X射線繞射可確認到A1/nCuPO4的結晶結構)的範圍內包含雜質。再者,X射線繞射是對於粉末狀態的近紅外線吸收粒子使用X射線繞射裝置進行測定。
採用鹼金屬(Li、Na、K、Rb、Cs)、鹼土類金屬(Ca、Sr、Ba)、或NH4作為式(1)中的A的理由如下述(i)~(iii)般。
(i)近紅外線吸收粒子中的微晶的結晶結構為包含PO4 3-與Cu2+的交替鍵結的網孔狀三維骨架,於骨架的內部具有空間。該空間的尺寸與鹼金屬離子(Li+:0.090nm、Na+:0.116nm、K+:0.152nm、Rb+:0.166nm、Cs+:0.181nm)、鹼土類金屬離子(Ca2+:0.114nm、Sr2+:0.132nm、Ba2+:0.149nm)及NH4 +(0.166nm)的離子半徑相符合,故可充分維持結晶結構。
(ii)鹼金屬離子、鹼土類金屬離子及NH4 +可於溶液中作為一價或二價的陽離子而穩定地存在,故於近紅外線吸收粒子的製造過程中,當生成前驅物時容易於結晶結構中導入陽離子。
(iii)與PO4 3-的配位鍵結性強的陽離子(例如過渡金屬離子等)中,存在供給顯現出充分的近紅外線吸收特性的、與本實施形態中的結晶結構不同的結晶結構的可能性。
作為A,就陽離子尺寸最適於包含PO4 3-與Cu2+的骨架內所導入的離子且獲得熱力學穩定結構的觀點而言,特佳為K。
藉由微晶充分維持A1/nCuPO4的結晶結構,近紅外線吸收
粒子可顯現出充分的近紅外線吸收特性。因此,當於微晶的表面附著有水或羥基時,無法充分維持A1/nCuPO4的結晶結構,故可見光區域與近紅外波長區域的光的透過率的差減小,無法適宜地用作光學濾波器用途。
因此,關於近紅外線吸收粒子,於顯微紅外(infrared,IR)光譜中,當將從屬於磷酸基的1000cm-1附近的峰值的吸收強度設為基準(100%)時,較佳為從屬於水的1600cm-1附近的峰值的吸收強度為8%以下且從屬於羥基的3750cm-1附近的峰值的吸收強度為26%以下,更佳為從屬於水的1600cm-1附近的峰值的吸收強度為5%以下且從屬於羥基的3750cm-1附近的峰值的吸收強度為15%以下。再者,顯微鏡IR光譜是對於粉末狀態的近紅外線吸收粒子使用傅立葉轉換紅外分光光度計(Fourier transform infrared spectrometer)進行測定。具體而言,例如使用賽默飛世爾科技(Thermo Fisher Scientific)公司製造的傅立葉轉換紅外分光光度計麥格納(Magna)760,於其鑽石板上放置一片第1微粒子,利用輥使其平坦,並利用顯微傅立葉轉換紅外光譜(Fourier-transform infrared spectrum,FT-IR)法進行測定。
<第2微粒子>
已知藉由將三氧化鎢(WO3)的氧相對於鎢的比率較3而言進一步減小並設為特定的組成範圍,而於該鎢氧化物中生成自由電子,可達成作為近紅外線吸收材料的良好的特性。
當氧相對於鎢的組成比為3以下且進而將該鎢氧化物記
載為WyOz時,該鎢與氧的組成範圍較佳為2.2≦z/y≦2.999。若該z/y的值為2.2以上,則可避免該鎢氧化物中出現目標以外的WO2結晶相,伴隨於此,可獲得作為材料的化學穩定性,因此可應用為有效的近紅外吸收材料。另一方面,若該z/y的值為2.999以下,則於該鎢氧化物中生成所需量的自由電子,成為效率良好的近紅外吸收材料。
另外,於將該鎢氧化物微粒子化而成的鎢氧化物微粒子中,當設為通式WyOz時,具有由2.45≦z/y≦2.999所表示的組成比的、所謂「馬格內利相(Magneli phase)」化學穩定,且近紅外線區域的吸收特性亦良好,因此作為近紅外吸收材料而較佳。
進而,藉由對該鎢氧化物添加元素M(其中,M為選自H、鹼金屬、鹼土類金屬、稀土元素、Mg、Zr、Cr、Mn、Fe、Ru、Co、Rh、Ir、Ni、Pd、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Tl、Si、Ge、Sn、Pb、Sb、B、F、P、S、Se、Br、Te、Ti、Nb、V、Mo、Ta、Re、Be、Hf、Os、Bi、I中的一種或多種元素)製成複合鎢氧化物,而於該複合鎢氧化物中生成自由電子,且於近紅外線區域中顯現出源自自由電子的吸收特性,並且作為波長1000nm附近的近紅外線吸收材料而有效,故較佳。即,第2微粒子的較佳組成為由通式MxWyOz(M為所述一種或多種元素,W為鎢,O為氧,0.001≦x/y≦1,2.2≦z/y≦3.0)所表述的金屬氧化物。其中,就穩定性的觀點而言,添加有元素M的該複合鎢氧化中的元素M更佳為選自鹼金屬、鹼土類金屬、稀土元素、Mg、Zr、
Cr、Mn、Fe、Ru、Co、Rh、Ir、Ni、Pd、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Tl、Si、Ge、Sn、Pb、Sb、B、F、P、S、Se、Br、Te、Ti、Nb、V、Mo、Ta、Re、Be、Hf、Os、Bi、I中的一種以上的元素,就提昇作為近紅外吸收材料的光學特性、耐候性的觀點而言,所述元素M中,進而更佳為屬於鹼金屬、鹼土類金屬元素、過渡金屬元素、4族元素、5族元素的元素。
此處,藉由對該複合鎢氧化物併用所述氧量的控制與生成自由電子的元素的添加,可獲得效率更良好的紅外線遮蔽材料。當將併用該氧量的控制與生成自由電子的元素的添加的紅外線遮蔽材料的通式記載為MxWyOz(其中,M為所述M元素,W為鎢,O為氧)時,理想的是滿足0.001≦x/y≦1、2.2≦z/y≦3.0的關係的近紅外吸收材料。
首先,對表示元素M的添加量的x/y的值進行說明。若x/y的值大於0.001,則可生成充分量的自由電子而獲得作為目標的紅外線遮蔽效果。而且,元素M的添加量越多,自由電子的供給量越增加,紅外線遮蔽效率亦上昇,但當x/y的值為1左右時該效果飽和。另外,若x/y的值小於1,則可避免於該紅外線遮蔽材料中生成雜質相,因此較佳,進而更佳為0.2以上且0.5以下。另外,元素M較佳為選自H、鹼金屬、鹼土類金屬、稀土元素、Mg、Zr、Cr、Mn、Fe、Ru、Co、Rh、Ir、Ni、Pd、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Tl、Si、Ge、Sn、Pb、Sb、B、F、P、S、Se、Br、Te、Ti、Nb、V、Mo、Ta、Re、Be、Hf、Os、Bi、I中
的一種以上。此處,就穩定性的觀點而言,添加有元素M的該MxWyOz中的元素M更佳為選自鹼金屬、鹼土類金屬、稀土元素、Mg、Zr、Cr、Mn、Fe、Ru、Co、Rh、Ir、Ni、Pd、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Tl、Si、Ge、Sn、Pb、Sb、B、F、P、S、Se、Br、Te、Ti、Nb、V、Mo、Ta、Re中的一種以上的元素,就提昇作為近紅外吸收材料的光學特性、耐候性的觀點而言,所述元素M進而更佳為屬於鹼金屬、鹼土類金屬元素、過渡金屬元素、4族元素、5族元素的元素。
繼而,對表示氧量的控制的z/y的值進行說明。關於z/y的值,於由MxWyOz所表述的近紅外吸收材料中,除與所述由WyOz所表述近紅外吸收材料同樣的機制發揮作用以外,當z/y=3.0時,亦存在因所述元素M的添加量引起的自由電子的供給,故較佳為2.2≦z/y≦3.0。
<透明樹脂>
積層於樹脂製支撐體或玻璃支撐體等上的透明樹脂層及透明樹脂製基板可使用透明樹脂來形成。作為用於基材的透明樹脂,可為單獨一種,亦可為兩種以上。
作為透明樹脂,只要是無損本發明的效果者,則並無特別限制,例如,為了確保熱穩定性及對於膜的成形性、且製成可藉由以100℃以上的蒸鍍溫度進行的高溫蒸鍍來形成電介質多層膜的膜,可列舉玻璃轉移溫度(Tg)較佳為110℃~380℃,更佳為110℃~370℃,進而更佳為120℃~360℃的樹脂。另外,若所
述樹脂的玻璃轉移溫度為140℃以上,則可獲得能夠以更高的溫度蒸鍍形成電介質多層膜的膜,故特佳。
作為透明樹脂,當形成包含該樹脂的厚度為0.1mm的樹脂板時,可使用該樹脂板的全光線透過率(JISK7105)較佳為變成75%~95%,進而更佳為變成78%~95%,特佳為變成80%~95%的樹脂。若使用全光線透過率變成此種範圍的樹脂,則所獲得的基板作為光學膜而顯示出良好的透明性。
透明樹脂的藉由凝膠滲透層析(Gel Permeation Chromatography,GPC)法所測定的聚苯乙烯換算的重量平均分子量(Mw)通常為15,000~350,000,較佳為30,000~250,000,數量平均分子量(Mn)通常為10,000~150,000,較佳為20,000~100,000。
作為透明樹脂,例如可列舉:環狀(聚)烯烴系樹脂、芳香族聚醚系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、茀聚碳酸酯系樹脂、茀聚酯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚醯胺(芳族聚醯胺)系樹脂、聚芳酯系樹脂、聚碸系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚對苯系樹脂、聚醯胺醯亞胺系樹脂、聚萘二甲酸乙二酯(Polyethylene naphthalate,PEN)系樹脂、氟化芳香族聚合物系樹脂、(改質)丙烯酸系樹脂、環氧系樹脂、烯丙酯系硬化型樹脂、倍半矽氧烷系紫外線硬化型樹脂、丙烯酸系紫外線硬化型樹脂及乙烯基系紫外線硬化型樹脂。
≪環狀(聚)烯烴系樹脂≫
作為環狀(聚)烯烴系樹脂,較佳為自選自由以下述式(2)
所表示的單體及以下述式(3)所表示的單體所組成的群組中的至少一種單體所獲得的樹脂、及藉由將該樹脂加以氫化所獲得的樹脂。
式(2)中,Rx1~Rx4分別獨立地表示選自下述(i')~下述(ix')中的原子或基,kx、mx及px分別獨立地表示0或正的整數。
(i')氫原子
(ii')鹵素原子
(iii')三烷基矽烷基
(iv')具有包含氧原子、硫原子、氮原子或矽原子的連結基的經取代或未經取代的碳數1~30的烴基
(v')經取代或未經取代的碳數1~30的烴基
(vi')極性基(其中,(iv')除外)
(vii')Rx1與Rx2、或Rx3與Rx4相互鍵結而形成的亞烷基(其中,不參與所述鍵結的Rx1~Rx4分別獨立地表示選自所述(i')~
所述(vi')中的原子或基)
(viii')Rx1與Rx2、或Rx3與Rx4相互鍵結而形成的單環或多環的烴環或雜環(其中,不參與所述鍵結的Rx1~Rx4分別獨立地表示選自所述(i')~所述(vi')中的原子或基)
(ix')Rx2與Rx3相互鍵結而形成的單環的烴環或雜環(其中,不參與所述鍵結的Rx1與Rx4分別獨立地表示選自所述(i')~所述(vi')中的原子或基)
式(3)中,Ry1及Ry2分別獨立地表示選自所述(i')~所述(vi')中的原子或基,或者表示Ry1與Ry2相互鍵結所形成的單環或多環的脂環式烴、芳香族烴或雜環,ky及py分別獨立地表示0或正的整數。
≪芳香族聚醚系樹脂≫
芳香族聚醚系樹脂較佳為具有選自由以下述式(4)所表示的結構單元、及以下述式(5)所表示的結構單元所組成的群組中的
至少一種結構單元。
式(4)中,R1~R4分別獨立地表示碳數1~12的一價的有機基,a~d分別獨立地表示0~4的整數。
式(5)中,R1~R4及a~d分別獨立地與所述式(4)中的R1~R4及a~d為相同含義,Y表示單鍵、-SO2-或>C=O,R7及R8分別獨立地表示鹵素原子、碳數1~12的一價的有機基或硝基,g及h分別獨立地表示0~4的整數,m表示0或1。其中,當m為0時,R7不為氰基。
另外,所述芳香族聚醚系樹脂較佳為進而具有選自由以下述式(6)所表示的結構單元、及以下述式(7)所表示的結構單元所組成的群組中的至少一種結構單元。
式(6)中,R5及R6分別獨立地表示碳數1~12的一價的有機基,Z表示單鍵、-O-、-S-、-SO2-、>C=O、-CONH-、-COO-或碳數1~12的二價的有機基,e及f分別獨立地表示0~4的整數,n表示0或1。
式(7)中,R7、R8、Y、m、g及h分別獨立地與所述式(5)中的R7、R8、Y、m、g及h為相同含義,R5、R6、Z、n、e及f分別獨立地與所述式(6)中的R5、R6、Z、n、e及f為相同含義。
≪聚醯亞胺系樹脂≫
作為聚醯亞胺系樹脂,並無特別限制,只要是於重複單元中含有醯亞胺鍵的高分子化合物即可,例如可藉由日本專利特開2006-199945號公報或日本專利特開2008-163107號公報中所記載的方法來合成。
≪茀聚碳酸酯系樹脂≫
作為茀聚碳酸酯系樹脂,並無特別限制,只要是含有茀部位的聚碳酸酯樹脂即可,例如可藉由日本專利特開2008-163194號公報中所記載的方法來合成。
≪茀聚酯系樹脂≫
作為茀聚酯系樹脂,並無特別限制,只要是含有茀部位的聚酯樹脂即可,例如可藉由日本專利特開2010-285505號公報或日本專利特開2011-197450號公報中所記載的方法來合成。
≪氟化芳香族聚合物系樹脂≫
作為氟化芳香族聚合物系樹脂,並無特別限制,但較佳為含有:具有至少一個氟原子的芳香族環及包含選自由醚鍵、酮鍵、碸鍵、醯胺鍵、醯亞胺鍵及酯鍵所組成的群組中的至少一個鍵的重複單元的聚合物,例如可藉由日本專利特開2008-181121號公報中所記載的方法來合成。
≪丙烯酸系紫外線硬化型樹脂≫
作為丙烯酸系紫外線硬化型樹脂,並無特別限制,可列舉:自含有分子內具有一個以上的丙烯酸基或甲基丙烯酸基的化合
物、及藉由紫外線而分解並產生活性自由基的化合物的樹脂組成物所合成者。當使用於玻璃支撐體上或成為基底的樹脂製支撐體上積層包含近紅外線吸收微粒子的透明樹脂層而成的基材、或於含有近紅外線吸收微粒子的透明樹脂製基板上積層包含硬化性樹脂等的外塗層等樹脂層而成的基材作為所述基材時,丙烯酸系紫外線硬化型樹脂可特別適宜地用作該硬化性樹脂。
≪環氧系樹脂≫
作為環氧系樹脂,並無特別限制,可大致劃分為紫外線硬化型與熱硬化型。作為紫外線硬化型環氧系樹脂,例如可列舉自含有分子內具有一個以上的環氧基的化合物、及藉由紫外線而產生酸的化合物(以下亦稱為光酸產生劑)的組成物所合成者,作為熱硬化型環氧系樹脂,例如可列舉自含有分子內具有一個以上的環氧基的化合物、及酸酐的組成物所合成者。當使用於玻璃支撐體上或成為基底的樹脂製支撐體上積層包含近紅外線吸收微粒子的透明樹脂層而成的基材、或於含有近紅外線吸收微粒子的透明樹脂製基板上積層包含硬化性樹脂等的外塗層等樹脂層而成的基材作為所述基材時,環氧系紫外線硬化型樹脂可特別適宜地用作該硬化性樹脂。
≪市售品≫
作為透明樹脂的市售品,可列舉以下的市售品等。作為環狀(聚)烯烴系樹脂的市售品,可列舉:JSR(股份)製造的阿通(Arton)、日本瑞翁(Zeon)(股份)製造的瑞翁諾阿(Zeonor)、
三井化學(股份)製造的阿派爾(APEL)、寶理塑膠(Polyplastics)(股份)製造的托帕斯(TOPAS)等。作為聚醚碸系樹脂的市售品,可列舉:住友化學(股份)製造的斯密卡愛克塞爾(Sumikaexcel)PES等。作為聚醯亞胺系樹脂的市售品,可列舉:三菱瓦斯化學(股份)製造的尼歐普利姆(Neopulim)L等。作為聚碳酸酯系樹脂的市售品,可列舉:帝人(股份)製造的普艾斯(PURE-ACE)等。作為茀聚碳酸酯系樹脂的市售品,可列舉:三菱瓦斯化學(股份)製造的優比澤塔(Iupizeta)EP-5000等。作為茀聚酯系樹脂的市售品,可列舉:大阪燃氣化學(Osaka Gas Chemicals)(股份)製造的OKP4HT等。作為丙烯酸系樹脂的市售品,可列舉:日本觸媒(股份)製造的阿庫利維阿(Acryviewa)等。作為倍半矽氧烷系紫外線硬化型樹脂的市售品,可列舉:新日鐵化學(股份)製造的希魯普拉斯(Silplus)等。
<其他成分>
於無損本發明的效果的範圍內,基材可進而含有近紅外吸收色素、抗氧化劑、近紫外線吸收劑、螢光消光劑、金屬錯合物系化合物等添加劑。該些其他成分可單獨使用一種,亦可併用兩種以上。
近紅外吸收色素較佳為溶劑可溶型的化合物,更佳為選自由方酸內鎓鹽系化合物、酞青系化合物、花青系化合物、萘酞青系化合物、吡咯并吡咯系化合物、克酮鎓(croconium)系化合物、六元卟啉(hexaphyrin)系化合物、金屬二硫醇鹽系化合物、
苝系化合物、二亞銨系色素及環擴張硼二吡咯亞甲基(Boron-Dipyrromethene,BODIPY)系化合物所組成的群組中的至少一種,特佳為包含方酸內鎓鹽系化合物。近紅外吸收色素的最大吸收波長較佳為600nm~1200nm,進而更佳為650nm~1150nm,特佳為680nm~1100nm。若使用此種近紅外吸收色度,則存在可使良好的可見光透過率與近紅外吸收特性並存的傾向,可適宜地於環境光感測器用光學濾波器用途中使用。
作為近紫外線吸收劑,例如可列舉:甲亞胺系化合物、吲哚系化合物、苯并三唑系化合物、三嗪系化合物等。
作為抗氧化劑,例如可列舉:2,6-二-第三丁基-4-甲基苯酚、2,2'-二氧基-3,3'-二-第三丁基-5,5'-二甲基二苯基甲烷、及四[亞甲基-3-(3,5-二-第三丁基-4-羥基苯基)丙酸酯]甲烷、三(2,6-二-第三丁基苯基)亞磷酸酯等。
再者,該些添加劑可於製造基材時與樹脂等一同混合,亦可於合成樹脂時添加。另外,添加量對應於所期望的特性而適宜選擇,但相對於樹脂100重量份,通常為0.01重量份~5.0重量份,較佳為0.05重量份~2.0重量份。
<基材的製造方法>
當基材為包含透明樹脂製基板的基材時,該透明樹脂製基板例如可藉由熔融成形或澆鑄成形來形成,進而,視需要可於成形後塗佈抗反射劑、硬塗劑及/或抗靜電劑等塗佈劑,藉此製造積層有外塗層的基材。
當基材為於玻璃支撐體或成為基底的樹脂製支撐體上積層包含含有近紅外線吸收微粒子的硬化性樹脂等的外塗層等透明樹脂層而成的基材時,例如於玻璃支撐體或成為基底的樹脂製支撐體上對包含近紅外線吸收微粒子的樹脂溶液進行熔融成形或澆鑄成形,較佳為利用旋塗、狹縫塗佈、噴墨等方法進行塗敷後將溶媒乾燥去除,視需要進而進行光照射或加熱,藉此可製造於玻璃支撐體或成為基底的樹脂製支撐體上形成有透明樹脂層的基材。
≪熔融成形≫
作為熔融成形,具體而言,可列舉:對將樹脂與近紅外線吸收微粒子等熔融混練所獲得的顆粒進行熔融成形的方法;對含有樹脂與近紅外線吸收微粒子的樹脂組成物進行熔融成形的方法;或對自包含近紅外線吸收微粒子、樹脂及溶劑的樹脂組成物中去除溶劑所獲得的顆粒進行熔融成形的方法等。作為熔融成形方法,可列舉:射出成形、熔融擠出成形或吹塑成形等。
≪澆鑄成形≫
作為澆鑄成形,亦可藉由如下的方法等來製造:將包含近紅外線吸收微粒子、樹脂及溶劑的樹脂組成物澆鑄於適當的支撐體上並去除溶劑的方法;或將包含近紅外線吸收微粒子、光硬化性樹脂及/或熱硬化性樹脂的硬化性組成物澆鑄於適當的支撐體上並去除溶媒後,藉由紫外線照射或加熱等適當的方法來使其硬化的方法。
當基材為包含含有近紅外線吸收微粒子的透明樹脂製基板的基材時,該基材可藉由在澆鑄成形後,自成形用支撐體剝離塗膜而獲得,另外,當所述基材為於玻璃支撐體或成為基底的樹脂製支撐體等支撐體等上積層包含含有近紅外線吸收微粒子的硬化性樹脂等的外塗層等透明樹脂層而成的基材時,該基材可藉由在澆鑄成形後,不剝離塗膜而獲得。
[電介質多層膜]
作為電介質多層膜,可列舉使高折射率材料層與低折射率材料層交替地積層而成者。作為構成高折射率材料層的材料,可使用折射率為1.7以上的材料,且選擇折射率通常為1.7~2.5的材料。作為此種材料,例如可列舉將氧化鈦、氧化鋯、五氧化鉭、五氧化鈮、氧化鑭、氧化釔、氧化鋅、硫化鋅或氧化銦等作為主成分,且含有少量(例如相對於主成分為0wt%~10wt%)的氧化鈦、氧化錫及/或氧化鈰等者。
作為構成低折射率材料層的材料,可使用折射率為1.6以下的材料,且選擇折射率通常為1.2~1.6的材料。作為此種材料,例如可列舉:二氧化矽、氧化鋁、氟化鑭、氟化鎂及六氟化鋁鈉。
關於將高折射率材料層與低折射率材料層積層的方法,只要形成積層有該些材料層的電介質多層膜,則並無特別限制。例如可藉由化學氣相沈積(Chemical Vapor Deposition,CVD)法、濺鍍法、真空蒸鍍法、離子輔助蒸鍍法或離子鍍法等,於基材上
直接形成使高折射率材料層與低折射率材料層交替地積層而成的電介質多層膜。
若將欲阻斷的近紅外線波長設為λ(nm),則高折射率材料層及低折射率材料層的各層的厚度通常較佳為0.1 λ~0.5 λ的厚度。作為λ(nm)的值,例如為700nm~1400nm,較佳為750nm~1300nm。若厚度為該範圍,則折射率(n)與膜厚(d)的積(n×d)變成與藉由λ/4所算出的光學膜厚、以及高折射率材料層及低折射率材料層的各層的厚度大致相同的值,根據反射.折射的光學特性的關係,存在可容易地控制特定波長的阻斷.透過的傾向。
作為光學濾波器整體,電介質多層膜中的高折射率材料層與低折射率材料層的合計的積層數較佳為16層~70層,更佳為20層~60層。若各層的厚度、作為光學濾波器整體而言的電介質多層膜的厚度或合計的積層數處於所述範圍內,則可確保充分的製造邊際,而且可減少光學濾波器的翹曲或電介質多層膜的裂紋。
於本發明的一實施形態中,結合近紅外線吸收微粒子的吸收特性來適當地選擇構成高折射率材料層及低折射率材料層的材料種類、高折射率材料層及低折射率材料層的各層的厚度、積層的順序、積層數,藉此可於可見區域中確保充分的透過率後,於近紅外波長區域中具有充分的光線截止特性,而且可降低近紅外線自傾斜方向入射時的反射率。
此處,為了使條件最佳化,例如只要使用光學薄膜設計軟體(例如,核心麥克勞德(Essential Macleod),薄膜中心(Thin
Film Center)公司製造),以於自光學濾波器(或基材)的垂直方向測定時、自相對垂直方向從30度的角度測定時、自相對於垂直方向從60度的角度測定時的任一情況下,均可使可見光透過率與近紅外域的光線截止效果並存的方式設定參數即可。尤其是為了適宜地用作環境光感測器用光學濾波器,重要的是於各入射角度下可見光透過率或近紅外截止性能的變化小,為了達成此種特性,當進行電介質多層膜的設計時,較佳為根據波長區域而使將光學特性最佳化的入射角度變化(例如,波長400nm~750nm的透過率於入射角度30度下使光學特性最佳化,800nm~1200nm的透過率於入射角度0度下使光學特性最佳化等)。於所述軟體的情況下,例如可列舉:於僅形成於基材的一面上的電介質多層膜的設計時,將波長400nm~750nm的自相對於垂直方向從30度的角度進行測定時的目標透過率設為100%,並將目標公差(Target Tolerance)的值設為1,將波長755nm~790nm的自垂直方向進行測定時的目標透過率設為100%,並將目標公差的值設為0.8,將波長800nm~1000nm的自相對於垂直方向從30度的角度進行測定時的目標透過率設為0%,並將目標公差的值設為0.5,將波長1005nm~1300nm的自相對於垂直方向從0度的角度進行測定時的目標透過率設為0%,並將目標公差的值設為0.7等的參數設定方法。該些參數亦可結合基材的各種特性等而更細地劃分波長範圍來改變使設計最佳化的光線入射角度或目標公差的值。尤其是若於波長400nm~700nm的區域中的至少一部分波長區域中,
相對於自傾斜方向的光線而使設計最佳化,則即便於入射角度60度等入射角非常大時,亦可減少因波紋(ripple)等引起的可見透過率的降低。
[其他功能膜]
以提昇基材或電介質多層膜的表面硬度、提昇耐化學品性、抗靜電及消除損傷等為目的,本發明的一實施形態的光學濾波器可於無損本發明的效果的範圍內,在基材與電介質多層膜之間、基材的與設置有電介質多層膜的面為相反側的面、或電介質多層膜的與設置有基材的面為相反側的面上適宜設置抗反射膜、硬塗膜或抗靜電膜等功能膜。
本發明的一實施形態的光學濾波器可含有1層包含所述功能膜的層,亦可含有2層以上。當本發明的一實施形態的光學濾波器含有2層以上的包含此種功能膜的層時,可含有2層以上的相同的層,亦可含有2層以上的不同的層。
作為積層此種功能膜的方法,並無特別限制,可列舉:與所述同樣地,於基材或電介質多層膜上對抗反射劑、硬塗劑及/或抗靜電劑等塗佈劑等進行熔融成形或澆鑄成形的方法等。
另外,亦可藉由利用棒塗機等將含有塗佈劑等的硬化性組成物塗佈於基材或電介質多層膜上後,利用紫外線照射等進行硬化來製造。
作為塗佈劑,可列舉紫外線(Ultraviolet,UV)/電子束(Electron Beam,EB)硬化型樹脂或熱硬化型樹脂等,具體而言,
可列舉:乙烯基化合物類或胺基甲酸酯系、丙烯酸胺基甲酸酯系、丙烯酸酯系、環氧系及環氧丙烯酸酯系樹脂等。作為含有該些塗佈劑的硬化性組成物,可列舉:乙烯基系、胺基甲酸酯系、丙烯酸胺基甲酸酯系、丙烯酸酯系、環氧系及環氧丙烯酸酯系硬化性組成物等。
另外,硬化性組成物亦可含有聚合起始劑。作為聚合起始劑,可使用公知的光聚合起始劑或熱聚合起始劑,亦可併用光聚合起始劑與熱聚合起始劑。聚合起始劑可單獨使用一種,亦可併用兩種以上。
硬化性組成物中,當將硬化性組成物的總量設為100wt%時,聚合起始劑的調配比例較佳為0.1wt%~10wt%,更佳為0.5wt%~10wt%,進而更佳為1wt%~5wt%。若聚合起始劑的調配比例處於所述範圍內,則硬化性組成物的硬化特性及處理性優異,可獲得具有所期望的硬度的抗反射膜、硬塗膜或抗靜電膜等功能膜。
進而,亦可向硬化性組成物中添加作為溶劑的有機溶劑,作為有機溶劑,可使用公知的有機溶劑。作為有機溶劑的具體例,可列舉:甲醇、乙醇、異丙醇、丁醇、辛醇等醇類;丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環己酮等酮類;乙酸乙酯、乙酸丁酯、乳酸乙酯、γ-丁內酯、丙二醇單甲基醚乙酸酯、丙二醇單乙基醚乙酸酯等酯類;乙二醇單甲基醚、二乙二醇單丁基醚等醚類;苯、甲苯、二甲苯等芳香族烴類;二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺、
N-甲基吡咯啶酮等醯胺類。該些溶劑可單獨使用一種,亦可併用兩種以上。
功能膜的厚度較佳為0.1μm~20μm,進而更佳為0.5μm~10μm,特佳為0.7μm~5μm。
另外,為了提昇基材與功能膜及/或電介質多層膜的密接性、或功能膜與電介質多層膜的密接性,亦可對基材、功能膜或電介質多層膜的表面進行電暈處理或電漿處理等表面處理。
[光學濾波器的用途]
本發明的一實施形態的光學濾波器即便於入射角度大時亦具有優異的可見透過率與近紅外線截止性能。因此,可有效用作照度感測器或顏色校正用感測器等各種環境光感測器用途。尤其,可有效用作搭載於於數位靜態照相機、智慧型手機、平板終端機、行動電話、可穿戴裝置、汽車、電視機、遊戲機等中的環境光感測器用途。進而,亦可有效用作安裝於汽車或建築物等的窗用玻璃板等上的熱線截止濾波器等。
[環境光感測器]
可將本發明的一實施形態光學濾波器與光電轉換元件組合而用作環境光感測器。此處,所謂環境光感測器是指照度感測器或顏色校正用感測器等可感知周圍的亮度或色調(於傍晚的時間帶中紅色強等)的感測器,例如可根據環境光感測器所感知的資訊控制搭載於設備上的顯示器的照度或色澤。
圖3是表示偵測周圍的亮度的環境光感測器200a的一
例。環境光感測器200a具備光學濾波器100及光電轉換元件202。若光入射至受光部,則光電轉換元件202藉由光伏打效應(photovoltaic effect)而產生電流或電壓。光學濾波器100設置於光電轉換元件202的受光面側。藉由光學濾波器100,入射至光電轉換元件202的受光面的光為可見光範圍的光,近紅外線範圍(800nm~2500nm)的光被阻斷。環境光感測器200a感應可見光而輸出信號。
再者,於環境光感測器200a中,於光學濾波器100與光電轉換元件202之間亦可介隔存在其他透光性的層。例如,於光學濾波器100與光電轉換元件202之間亦可設置具有透光性的樹脂層作為密封材。
光電轉換元件202具有第1電極206、光電轉換層208以及第2電極210。另外,於受光面側設置有鈍化膜216。光電轉換層208是由顯現出光電效應的半導體形成。例如,光電轉換層208是使用矽半導體形成。光電轉換層208為二極體型的元件,並藉由內置電場而顯現出光電壓。再者,光電轉換元件202並不限定於二極體型的元件,可為光導電型的元件(亦稱為光阻器、光依存性電阻、光導電體、光電池)或光電晶體型的元件。
光電轉換層208除使用矽半導體以外,亦可使用鍺半導體、矽.鍺半導體。另外,作為光電轉換層208,亦可使用GaP、GaAsP、CdS、CdTe、CuInSe2等化合物半導體材料。由半導體材料形成的光電轉換元件202對自可見光線範圍至近紅外線範圍的
光具有感度。例如,當光電轉換層208由矽半導體形成時,矽半導體的帶隙能量為1.12eV,因此原理上可吸收作為近紅外光的波長700nm~1100nm的光。然而,藉由具備光學濾波器100,環境光感測器200a不會感應近紅外光,對可見光域的光具有感度。再者,光電轉換元件202較佳為以選擇性地照射有透過光學濾波器100的光的方式由遮光性的筐體204包圍。環境光感測器200a藉由具備光學濾波器100而可阻斷近紅外光並對周圍光進行偵測。藉此,環境光感測器200a可消除感應近紅外光而進行誤動作等不良情況。
圖4是表示除偵測周圍的亮度以外亦偵測色調的環境光感測器200b的一例。環境光感測器200b包含光學濾波器100、光電轉換元件202a~光電轉換元件202c、彩色濾波器212a~彩色濾波器212c而構成。於光電轉換元件202a的受光面上設置有使紅色光範圍的光透過的彩色濾波器212a,於光電轉換元件202b的受光面上設置有使綠色光範圍的光透過的彩色濾波器212b,於光電轉換元件202c的受光面上設置有使藍色光範圍的光透過的彩色濾波器212c。光電轉換元件202a~光電轉換元件202c除藉由元件分離絕緣層214而絕緣以外,具備與圖3所示者相同的構成。藉由該構成,光電轉換元件202a~光電轉換元件202c可獨立地偵測照度。再者,於彩色濾波器212a~彩色濾波器212c與光電轉換元件202a~光電轉換元件202c之間亦可設置鈍化膜216。
光電轉換元件202a~光電轉換元件202c遍及自可見光線
波長區域至近紅外線波長區域的廣範圍而具有感度。因此,除光學濾波器100以外,與光電轉換元件202a~光電轉換元件202c對應地設置彩色濾波器212a~彩色濾波器212c,藉此環境光感測器200b可阻斷近紅外光並防止感測器的誤動作,並且可偵測與各顏色對應的光。環境光感測器200b藉由具備阻斷近紅外域的光的光學濾波器100與彩色濾波器212a~彩色濾波器212c,不僅可將周圍光分光為多個波長範圍的光來加以偵測,而且亦可應用於先前的彩色感測器(color sensor)中受到近紅外線的影響而無法準確地進行偵測的暗環境下。
[電子設備]
圖5的(A)~(C)表示具有本發明的一實施形態的環境光感測器200的電子設備300的一例。再者,圖5的(A)為正視圖,圖5的(B)為俯視圖,圖5的(C)示出了表示於圖5的(B)中以虛線包圍的區域D的構成例的詳細圖。電子設備300包括筐體302、顯示面板304、麥克風部306、揚聲器部308以及環境光感測器200。顯示面板304採用觸控面板,除顯示功能以外亦兼具輸入功能。
環境光感測器200設置於設於筐體302上的表面面板310背面。即,環境光感測器200並不暴露於電子設備300的外表,並且光透過透光性的表面面板310而入射。表面面板310藉由光學濾波器100而阻斷近紅外線域的光,而使可見光域的光入射至光電轉換元件202。電子設備300可藉由環境光感測器200來控制
顯示面板304的照度或色澤。
[實施例]
以下,基於實施例來更具體地說明本發明,但本發明並不受該些實施例任何限定。再者,只要事先無特別說明,則「份」表示「重量份」。另外,各物性值的測定方法及物性的評價方法如下所述。
<分子量>
樹脂的分子量是考慮各樹脂對於溶劑的溶解性等,藉由下述(a)或下述(b)的方法來進行測定。
(a)使用沃特斯(WATERS)公司製造的凝膠滲透層析(GPC)裝置(150C型,管柱:東曹(Tosoh)公司製造的H型管柱,展開溶劑:鄰二氯苯),測定標準聚苯乙烯換算的重量平均分子量(Mw)及數量平均分子量(Mn)。
(b)使用東曹公司製造的GPC裝置(HLC-8220型,管柱:TSKgel α-M,展開溶劑:四氫呋喃(Tetrahydrofuran,THF)),測定標準聚苯乙烯換算的重量平均分子量(Mw)及數量平均分子量(Mn)。
再者,關於後述的樹脂合成例3中所合成的樹脂,不利用所述方法測定分子量,而藉由下述方法(c)來進行對數黏度的測定。
(c)將聚醯亞胺樹脂溶液的一部分投入至無水甲醇中來使聚醯亞胺樹脂析出,進行過濾後自未反應單體中分離。使於80℃下真空乾燥12小時而獲得的聚醯亞胺0.1g溶解於N-甲基-2-吡咯啶
酮20mL中,使用堪農-芬斯基(Cannon-Fenske)黏度計,藉由下述式來求出30℃下的對數黏度(μ)。
μ={ln(ts/t0)}/C
t0:溶媒的流下時間
ts:稀薄高分子溶液的流下時間
C:0.5g/dL
<玻璃轉移溫度(Tg)>
使用SII奈米科技(SII Nano Technologies)股份有限公司製造的示差掃描熱量計(DSC6200),於氮氣氣流下,以昇溫速度:20℃/min進行測定。
<分光透過率>
光學濾波器的各波長區域中的透過率是使用日立先端科技(Hitachi High-Technologies)股份有限公司製造的分光光度計(U-4100)來測定。
此處,若為自光學濾波器的垂直方向進行測定時的透過率,則如圖6的(A)般以分光光度計3測定相對於光學濾波器2垂直地透過的光1,若為自相對於光學濾波器的垂直方向從30°的角度進行測定時的透過率,則如圖6的(B)般以分光光度計3測定以相對於光學濾波器2的垂直方向從30°的角度透過的光1',若為自相對於光學濾波器的垂直方向從60°的角度進行測定時的透
過率,則如圖6的(C)般以分光光度計3測定以相對於光學濾波器2的垂直方向從60°的角度透過的光1"。
[合成例]
下述實施例中所使用的近紅外吸收色素藉由通常已知的方法來合成。作為通常的合成方法,例如可列舉:日本專利第3366697號公報、日本專利第2846091號公報、日本專利第2864475號公報、日本專利第3703869號公報、日本專利特開昭60-228448號公報、日本專利特開平1-146846號公報、日本專利特開平1-228960號公報、日本專利第4081149號公報、日本專利特開昭63-124054號公報、「酞青-化學與功能-」(IPC、1997年)、日本專利特開2007-169315號公報、日本專利特開2009-108267號公報、日本專利特開2010-241873號公報、日本專利第3699464號公報、日本專利第4740631號公報等中所記載的方法。
<樹脂合成例1>
將由下述式(8)所表示的8-甲基-8-甲氧基碳基四環[4.4.0.12,5.17,10]十二-3-烯(以下亦稱為「DNM」)100份、1-己烯(分子量調節劑)18份及甲苯(開環聚合反應用溶媒)300份加入至經氮氣置換的反應容器中,並將該溶液加熱至80℃。繼而,向反應容器內的溶液中添加作為聚合觸媒的三乙基鋁的甲苯溶液(0.6mol/L)0.2份、及甲醇改質的六氯化鎢的甲苯溶液(濃度為0.025mol/L)0.9份,並於80℃下將該溶液加熱攪拌3小時,藉此進行開環聚合反應而獲得開環聚合體溶液。該聚合反應中的聚合
轉化率為97%。
將以所述方式獲得的開環聚合體溶液1,000份加入至高壓釜中,向該開環聚合體溶液中添加0.12份的RuHCl(CO)[P(C6H5)3]3,然後於氫氣壓為100kg/cm2、反應溫度為165℃的條件下加熱攪拌3小時來進行氫化反應。將所獲得的反應溶液(氫化聚合體溶液)冷卻後,對氫氣進行放壓。將該反應溶液注入至大量的甲醇中後分離回收凝固物,並對其進行乾燥,而獲得氫化聚合體(以下亦稱為「樹脂A」)。所獲得的樹脂A的數量平均分子量(Mn)為32,000,重量平均分子量(Mw)為137,000,玻璃轉移溫度(Tg)為165℃。
<樹脂合成例2>
向3L的四口燒瓶中添加2,6-二氟苄腈35.12g(0.253mol)、9,9-雙(4-羥基苯基)茀87.60g(0.250mol)、碳酸鉀41.46g(0.300mol)、N,N-二甲基乙醯胺(以下亦稱為「DMAc」)443g及甲苯111g。繼而,於四口燒瓶中安裝溫度計、攪拌機、帶有氮氣導入
管的三通旋塞、迪安-斯塔克(Dean-Stark)管及冷卻管。繼而,對燒瓶內進行氮氣置換後,使所獲得的溶液於140℃下反應3小時,並隨時將所生成的水自迪安-斯塔克管去除。於看不到水的生成的時間點,使溫度緩慢地上昇至160℃為止,並於該溫度下反應6小時。冷卻至室溫(25℃)為止後,利用濾紙去除所生成的鹽,將濾液投入至甲醇中進行再沈澱,並藉由過濾分離來將濾物(殘渣)分離。將所獲得的濾物於60℃下真空乾燥一夜,而獲得白色粉末(以下亦稱為「樹脂B」)(產率為95%)。所獲得的樹脂B的數量平均分子量(Mn)為75,000,重量平均分子量(Mw)為188,000,玻璃轉移溫度(Tg)為285℃。
<樹脂合成例3>
於氮氣氣流下,向具備溫度計、攪拌器、氮氣導入管、帶有側管的滴液漏斗、迪安-斯塔克管及冷卻管的500mL的五口燒瓶中加入1,4-雙(4-胺基-α,α-二甲基苄基)苯27.66g(0.08莫耳)、及4,4'-雙(4-胺基苯氧基)聯苯7.38g(0.02莫耳),並溶解於γ-丁內酯68.65g及N,N-二甲基乙醯胺17.16g中。使用冰水浴將所獲得的溶液冷卻至5℃,一面保持為等溫一面一次性添加1,2,4,5-環己烷四羧酸二酐22.62g(0.1莫耳)、及作為醯亞胺化觸媒的三乙基胺0.50g(0.005莫耳)。添加結束後,昇溫至180℃,一面隨時餾去餾出液,一面進行6小時回流。反應結束後,進行氣冷直至內溫變成100℃為止後,添加N,N-二甲基乙醯胺143.6g來進行稀釋,然後一面進行攪拌一面進行冷卻,而獲得固體成分濃度為20wt%
的聚醯亞胺樹脂溶液264.16g。將該聚醯亞胺樹脂溶液的一部分注入至1L的甲醇中來使聚醯亞胺沈澱。利用甲醇對所過濾分離的聚醯亞胺進行清洗後,於100℃的真空乾燥機中進行24小時乾燥而獲得白色粉末(以下亦稱為「樹脂C」)。對所獲得的樹脂C的紅外線(Infrared,IR)光譜進行測定,結果看到醯亞胺基中特有的1704cm-1、1770cm-1的吸收。樹脂C的玻璃轉移溫度(Tg)為310℃,測定對數黏度的結果為0.87。
<近紅外線吸收微粒子製造例1>
將偏鎢酸銨水溶液(以WO3換算計為50wt%)與氯化銫的水溶液以W與Cs的莫耳比成為1比0.33方式秤量規定量,將兩溶液混合而獲得混合溶液。對該混合溶液於130℃下進行乾燥,製成粉末狀的起始原料。於還原環境(氬/氫=95/5體積比)中,對該起始原料於550℃下加熱1小時。而且,於暫時恢復至室溫後於800℃氬環境中加熱1小時,藉此獲得Cs0.33WO3的粉末。
將Cs0.33WO3的粉末20重量份、甲苯75重量份、聚丙烯酸酯系分散劑5重量份混合,進行分散處理,藉此獲得平均分散粒子直徑為80nm的Cs0.33WO3粒子(以下亦稱為「近紅外線吸收微粒子(P-1)」)的分散液A。
<近紅外線吸收微粒子製造例2>
於攪拌下,向52質量%磷酸氫二鉀水溶液500g中添加5質量%硫酸銅.五水合物水溶液500g,於室溫下攪拌5小時以上,獲得水色溶液(PO4 3-/Cu2+(莫耳比)=15)。
自所獲得的水色溶液藉由吸引過濾來分離產物,以水及丙酮進行清洗獲得水色的產物。將產物轉移至坩堝內,於100℃下真空乾燥4小時後,使用萬德攪拌機(wonder blender)(大阪化學公司製造,下同)將30秒的乾式粉碎進行兩次。
將粉末狀態的產物轉移至坩堝內,在大氣下,於600℃下煅燒8小時,獲得黃綠色的煅燒物。對於煅燒物,使用萬德攪拌機(wonder blender)將30秒的乾式粉碎進行兩次。所獲得的黃綠色的煅燒物為15.4g,以硫酸銅.五水合物的莫耳數為基準時的產率為78%。
對煅燒物測定X射線繞射。根據X射線繞射的結果可確認到KCuPO4的結晶結構,煅燒物被鑒定為實質上包含KCuPO4的微晶的粒子。
使所述煅燒物分散於水中,製成固體成分濃度為10質量%的分散液,並利用超音波均質機進行處理,然而使用濕式微粒子化裝置(杉野機械(Sugino Machine)公司製造,思達巴斯特迷你(Star Burst Mini))進行濕式粉碎。將分散液通過孔徑的次數設為濕式粉碎處理次數。於本例中,將濕式粉碎處理次數設為20次。
自濕式粉碎後的分散液離心分離粉碎物,轉移至坩堝內並於150℃下進行乾燥,獲得黃綠色的粉碎物。對粉碎物使用萬德攪拌機(wonder blender)將30秒的乾式粉碎進行兩次,獲得包含KCuPO4的微晶的平均粒子直徑為89nm的近紅外線吸收粒子(P-2)。
[實施例1]
於實施例1中,藉由以下的程序及條件來製作如下的光學濾波器,所述光學濾波器具有包含如下的透明樹脂製基板的基材,所述透明樹脂製基板於兩面上具有包含近紅外線吸收微粒子的樹脂層。
向容器中添加樹脂合成例1中所獲得的樹脂A 100重量份以及二氯甲烷(methylene chloride),而製備樹脂濃度為20wt%的溶液。將所獲得的溶液澆鑄至平滑的玻璃板上,於20℃下進行8小時乾燥後,自玻璃板剝離。進而,於減壓下以100℃對所剝離的塗膜進行8小時乾燥,而獲得厚度為0.100mm、長度為60mm、寬度為60mm的透明樹脂製基板。
利用棒塗機將下述組成的包含近紅外線吸收微粒子的樹脂組成物(1)塗佈於所獲得的透明樹脂製基板的一面上,並於烘箱中以70℃加熱2分鐘,而將溶劑揮發去除。此時,以乾燥後的厚度變成2μm的方式調整棒塗機的塗佈條件。繼而,使用輸送機式曝光機進行曝光(曝光量為500mJ/cm2、200mW),使樹脂組成物(1)硬化,而於透明樹脂製基板上形成包含近紅外線吸收微粒子的樹脂層。同樣地,於透明樹脂製基板的另一面上亦形成包含樹脂組成物的(1)包含近紅外線吸收微粒子的樹脂層,而獲得於透明樹脂製基板的兩面上具有包含近紅外線吸收微粒子的樹脂層的基材。測定該基材的分光透過率。將結果示於圖7及表7中。
包含近紅外線吸收微粒子的樹脂組成物(1):三環癸烷
二甲醇丙烯酸酯60重量份、二季戊四醇六丙烯酸酯40重量份、1-羥基環己基苯基酮5重量份、近紅外線吸收微粒子分散液(住友金屬礦山(股份)製造的YMF-02A,第2微粒子的市售分散液)117重量份(以固體成分換算計約為33重量份)、甲基乙基酮(溶劑,固體成分濃度(TSC):30%)
繼而,於所獲得的基材的一面上形成電介質多層膜(I),進而於基材的另一面上形成電介質多層膜(II),而獲得厚度約為0.109mm的光學濾波器。
電介質多層膜(I)是於蒸鍍溫度為100℃下使二氧化矽(SiO2)層與二氧化鈦(TiO2)層交替地積層而形成(合計20層)。電介質多層膜(II)是於蒸鍍溫度為100℃下使二氧化矽(SiO2)層與二氧化鈦(TiO2)層交替地積層而形成(合計18層)。於電介質多層膜(I)及電介質多層膜(II)的任一者中,二氧化矽層及二氧化鈦層均自基材側起以二氧化鈦層、二氧化矽層、二氧化鈦層、…二氧化矽層、二氧化鈦層、二氧化矽層的順序交替地積層,並將光學濾波器的最外層設為二氧化矽層。對自該光學濾波器的垂直方向進行測定時、自相對於垂直方向從30度的角度進行測定時、自相對於垂直方向從60度的角度進行測定時的分光透過率進行測定,評價各波長區域中的光學特性,將結果示於圖8及表7中。
電介質多層膜(I)及電介質多層膜(II)的設計是以如下方式來進行。關於各層的厚度與層數,以可達成可見區域的抗
反射效果與近紅外域的選擇性的透過.反射性能的方式,結合基材折射率的波長依存特性、或所應用的近紅外線吸收微粒子的吸收特性,使用光學薄膜設計軟體(核心麥克勞德(Essential Macleod),薄膜中心(Thin Film Center)公司製造)進行最佳化。當進行最佳化時,於本實施例中,將針對軟體的輸入參數(目標(Target)值)設為如下述表1般。
膜構成最佳化的結果,於實施例1中,電介質多層膜(I)變成膜厚為33nm~176nm的二氧化矽層與膜厚為10nm~99nm的二氧化鈦層交替地積層而成的積層數為20的多層蒸鍍膜,電介質多層膜(II)變成膜厚為42nm~213nm的二氧化矽層與膜厚為13nm~122nm的二氧化鈦層交替地積層而成的積層數為18的多層蒸鍍膜。將進行了最佳化的膜構成的一例示於表2中。
如圖8及表7中所示,確認到實施例1中所獲得的光學
濾波器即便對於入射角度60度等傾斜方向的光亦具有良好的可見光透過率與近紅外光截止特性。
[實施例2~實施例4]
於實施例2~實施例4,除如表7中所示般變更樹脂、溶媒、樹脂製基板的乾燥條件、包含近紅外線吸收微粒子的樹脂組成物以外,以與實施例1相同的方式製作基材及光學濾波器,所述基材包含如下的透明樹脂製基板,所述透明樹脂製基板於兩面上具有包含近紅外線吸收微粒子的樹脂層。將所獲得的基材及光學濾波器的光學特性示於表7中。
包含近紅外線吸收微粒子的樹脂組成物(2):三環癸烷二甲醇丙烯酸酯60重量份、二季戊四醇六丙烯酸酯40重量份、1-羥基環己基苯基酮5重量份、近紅外線吸收微粒子製造例1中所獲得近紅外線吸收微粒子(P-1)的分散液A 120重量份(以固體成分換算計約為30重量份)、甲基乙基酮(溶劑,固體成分濃度(TSC):30%)
[實施例5]
於實施例5中,藉由以下的程序及條件來製作具有包含如下的透明玻璃基板的基材的光學濾波器,所述透明玻璃基板於一面上具有包含近紅外線吸收微粒子的樹脂層。
利用旋塗機將所述樹脂組成物(1)塗佈於切割成長度為60mm、寬度為60mm的大小的日本電氣硝子(Nippon Electric Glass)公司製造的透明玻璃基板「OA-10G(厚度為100μm)」(以
下亦稱為「玻璃基板(1)」)上,並於加熱板上以80℃加熱2分鐘來使溶劑揮發去除。此時,以乾燥後的厚度變成4μm的方式調整旋塗機的塗佈條件。繼而,使用輸送機式曝光機進行曝光(曝光量為500mJ/cm2、200mW),使樹脂組成物(1)硬化,而獲得包含如下的透明玻璃基板的基材,所述透明玻璃基板具有包含近紅外線吸收微粒子的透明樹脂層。測定該基材的分光透過率,並評價各波長區域中的光學特性。將結果示於表7中。
繼而,與實施例1同樣地,於所獲得的基材的一面上形成作為第一光學層的使二氧化矽(SiO2)層與二氧化鈦(TiO2)層交替地積層而成(合計20層)的電介質多層膜(III),進而於基材的另一面上形成作為第二光學層的使二氧化矽(SiO2)層與二氧化鈦(TiO2)層交替地積層而成(合計18層)的電介質多層膜(IV),而獲得厚度約為0.109mm的光學濾波器。與實施例1同樣地,電介質多層膜的設計是考慮到近紅外線吸收微粒子的特性或基材折射率的波長依存性等後,使用與實施例1相同的設計參數來進行。測定該光學濾波器的分光透過率,並評價各波長區域中的光學特性。將結果示於表7中。
[實施例6]
於實施例6中,藉由以下的程序及條件來製作如下的光學濾波器,所述光學濾波器具有包含如下的透明樹脂製基板的基材,所述透明樹脂製基板於一面上具有包含近紅外線吸收微粒子的樹脂層。
於實施例1中,當製備樹脂溶液時,相對於樹脂A 100重量份添加由下述式(9)所表示的近紅外吸收色素(X-1)0.02重量份,除此以外,以與實施例1相同的方式獲得透明樹脂製基板。
利用棒塗機將下述組成的包含近紅外線吸收微粒子的樹脂組成物(3)塗佈於所獲得的透明樹脂製基板的一面上,並於烘箱中以70℃加熱2分鐘,而將溶劑揮發去除。此時,以乾燥後的厚度變成2μm的方式調整棒塗機的塗佈條件。繼而,使用輸送機式曝光機進行曝光(曝光量為500mJ/cm2、200mW),使樹脂組成物(3)硬化,而於透明樹脂製基板上形成包含近紅外線吸收微粒子的樹脂層,而獲得於透明樹脂製基板的一面上具有包含近紅外線吸收微粒子的樹脂層的基材。測定該基材的分光透過率。將結果示於表7中。
包含近紅外線吸收微粒子的樹脂組成物(3):三環癸烷
二甲醇丙烯酸酯80重量份、二季戊四醇六丙烯酸酯20重量份、1-羥基環己基苯基酮5重量份、近紅外線吸收微粒子分散液(住友金屬礦山(股份)製造的YMF-02A,第2微粒子的市售分散液)234重量份(以固體成分換算計約為66重量份)、甲基乙基酮(溶劑,固體成分濃度(TSC):30%)
繼而,與實施例1同樣地,於所獲得的基材的一面上形成作為第一光學層的使二氧化矽(SiO2)層與二氧化鈦(TiO2)層交替地積層而成(合計20層)的電介質多層膜(V),進而於基材的另一面上形成作為第二光學層的使二氧化矽(SiO2)層與二氧化鈦(TiO2)層交替地積層而成(合計18層)的電介質多層膜(VI),而獲得厚度約為0.107mm的光學濾波器。與實施例1同樣地,電介質多層膜的設計是考慮到近紅外線吸收微粒子的特性或基材折射率的波長依存性等後,使用與實施例1相同的設計參數來進行。測定該光學濾波器的分光透過率,並評價各波長區域中的光學特性。將結果示於表7中。
[實施例7]
於實施例7中,藉由以下的程序及條件來製作如下的光學濾波器,所述光學濾波器具有包含如下的樹脂製基板的基材,所述樹脂製基板包含近紅外線吸收微粒子。
將阿迪爾(ADELL)公司製造的甲基丙烯酸系樹脂HV153(以下亦稱為「樹脂D」)100重量份與近紅外線吸收微粒子製造例2中所獲得的近紅外線吸收粒子(P-2)59重量份混合,於混合
液中添加直徑為0.5mm的氧化鋯珠粒,使用球磨機進行粉碎而獲得近紅外線吸收粒子(P-2)的分散液。使用旋塗機將所獲得分散液塗佈於厚度為0.7mm的鈉玻璃基板上,於120℃下加熱2分鐘,於玻璃基板上形成包含近紅外線吸收微粒子的樹脂層。此時,以乾燥後的厚度變成100μm的方式調整旋塗機的塗佈條件。繼而,自玻璃基板剝離包含近紅外線吸收微粒子的樹脂層,獲得包含如下的樹脂製基板的基材,所述樹脂製基板包含近紅外線吸收微粒子。測定該基材的分光透過率。將結果示於表7中。
繼而,與實施例1同樣地,於所獲得的基材的一面上形成作為第一光學層的使二氧化矽(SiO2)層與二氧化鈦(TiO2)層交替地積層而成(合計20層)的電介質多層膜(VII),進而於基材的另一面上形成作為第二光學層的使二氧化矽(SiO2)層與二氧化鈦(TiO2)層交替地積層而成(合計18層)的電介質多層膜(VIII),而獲得厚度約為0.105mm的光學濾波器。與實施例1同樣地,電介質多層膜的設計是考慮到近紅外線吸收微粒子的特性或基材折射率的波長依存性等後,使用與實施例1相同的設計參數來進行。測定該光學濾波器的分光透過率,並評價各波長區域中的光學特性。將結果示於表7中。
[實施例8]
於實施例8中,藉由以下的程序及條件來製作如下的光學濾波器,所述光學濾波器具有包含如下的近紅外吸收玻璃基板的基材,所述近紅外吸收玻璃基板於一面上具有包含近紅外線吸收微
粒子的樹脂層。
於實施例5中,代替玻璃基板(1)而使用切割成長度為60mm、寬度為60mm的大小的松浪硝子工業公司製造的近紅外吸收玻璃基板BS-6(厚度為210μm)(以下亦稱為「玻璃基板(2)」),除此以外,以與實施例5相同的方式製作基材及光學濾波器,所述基材包含如下的近紅外吸收玻璃基板,所述近紅外吸收玻璃基板於一面上具有包含近紅外線吸收微粒子的樹脂層。將所獲得的基材及光學濾波器的光學特性示於表7中。
[比較例1]
於實施例1中,不於透明樹脂基板上形成包含近紅外線吸收微粒子的樹脂層,除此以外,以與實施例1相同的方式製作基材及光學濾波器。將所獲得的光學濾波器的光學特性示於圖9及表7中。確認到比較例1中所獲得光學濾波器雖顯示出比較良好的可見光透過率,但入射角度60度的條件下的近紅外光截止特性差。
[比較例2]
以與實施例1相同的程序製作包含如下的透明樹脂製基板的基材,將該基材直接作為光學濾波器並進行分光特性的評價,所述透明樹脂製基板於兩面上具有包含近紅外線吸收微粒子的樹脂層。將結果示於表7中。確認到比較例2中所得的光學濾波器的近紅外光截止特性差。
[比較例3]
使用玻璃基板(1)作為基材,除此以外,與實施例1同樣地
製作光學濾波器。將基材及所獲得光學濾波器的光學特性示於表7中。確認到比較例3中所獲得光學濾波器雖顯示出比較良好的可見光透過率,但入射角度60度的條件下的近紅外光截止特性差。
[比較例4]
於實施例6中,不於透明樹脂基板上形成包含近紅外線吸收微粒子的樹脂層,除此以外,以與實施例6相同的方式製作基材及光學濾波器。將所獲得的光學濾波器的光學特性示於表7中。確認到比較例4中所獲得光學濾波器雖顯示出比較良好的可見光透過率,但入射角度60度的條件下的近紅外光截止特性差。
[比較例5]
以與實施例1相同的程序製作包含如下的透明樹脂製基板的基材,所述透明樹脂製基板於兩面上具有包含近紅外線吸收微粒子的樹脂層。繼而,於所獲得的基材的一面上形成電介質多層膜(III),進而於基材的另一面上形成電介質多層膜(IV),而獲得厚度約為0.108mm的光學濾波器。
關於電介質多層膜(III)及電介質多層膜(IV),將針對光學薄膜設計軟體(核心麥克勞德(Essential Macleod),薄膜中心(Thin Film Center)公司製造)的輸入參數(目標(Target)值)設為如下述表3般,除此以外,以與實施例1相同的程序對基材進行製膜。
膜構成最佳化的結果,於比較例5中,電介質多層膜(III)及電介質多層膜(IV)均變成膜厚為32nm~157nm的二氧化矽層與膜厚為10nm~95nm的二氧化鈦層交替地積層而成的積層數為20的多層蒸鍍膜。將進行了最佳化的膜構成的一例示於表4中。
將所獲得的光學濾波器的光學特性示於圖10及表7中。確認到比較例5中所獲得的光學濾波器的入射角度60度的條件下的近紅外光截止特性差,此外,相當於波長580nm~620nm的紅色的波長區域中的透過率大幅度降低。
[比較例6]
以與實施例1相同的程序製作包含如下的透明樹脂製基板的基材,所述透明樹脂製基板於兩面上具有包含近紅外線吸收微粒子的樹脂層。繼而,於所獲得的基材的一面上形成電介質多層膜(V),進而於基材的另一面上形成電介質多層膜(VI),而獲得厚度約為0.110mm的光學濾波器。
關於電介質多層膜(V)及電介質多層膜(VI),將針對光學薄膜設計軟體(核心麥克勞德(Essential Macleod),薄膜中心(Thin Film Center)公司製造)的輸入參數(目標(Target)值)設為如下述表5般,除此以外,以與實施例1相同的程序對基材進行製膜。
膜構成最佳化的結果,於比較例6中,電介質多層膜(V)變成膜厚為149nm~194nm的二氧化矽層與膜厚為97nm~439nm的二氧化鈦層交替地積層而成的積層數為21的多層蒸鍍膜,電介質多層膜(VI)變成膜厚為41nm~596nm的二氧化矽層與膜厚為22nm~137nm的二氧化鈦層交替地積層而成的積層數為19的多層蒸鍍膜。將進行了最佳化的膜構成的一例示於表6中。
將所獲得的光學濾波器的光學特性示於圖11及表7中。確認到比較例6中所獲得光學濾波器雖具有良好的近紅外光截止
特性,但可見光透過率差。
實施例及比較例中所應用的基材的構成、各種化合物等如下所述。
<基材的形態>
形態(1):包含透明樹脂製基板,所述透明樹脂製基板於兩面上具有包含近紅外線吸收微粒子的樹脂層
形態(2):包含透明玻璃基板,所述透明玻璃基板於一面上具有包含近紅外線吸收微粒子的樹脂層
形態(3):包含透明樹脂製基板,所述透明樹脂製基板於一面上具有包含近紅外線吸收微粒子的樹脂層
形態(4):具有基材,所述基材包括包含近紅外線吸收微粒子的樹脂製基板
形態(5):包含近紅外吸收玻璃基板,所述近紅外吸收玻璃基板於一面上具有包含近紅外線吸收微粒子的樹脂層
形態(6):透明樹脂製基板(比較例)
形態(7):透明玻璃基板(比較例)
<透明樹脂>
樹脂A:環狀烯烴系樹脂(樹脂合成例1)
樹脂B:芳香族聚醚系樹脂(樹脂合成例2)
樹脂C:聚醯亞胺系樹脂(樹脂合成例3)
樹脂D:阿迪爾(ADELL)公司製造的甲基丙烯酸系樹脂HV153
<玻璃基板>
玻璃基板(1):切割成長度為60mm、寬度為60mm的大小的透明玻璃基板「OA-10G(厚度為100μm)」(日本電氣硝子(股份)製造)
玻璃基板(2):切割成長度為60mm、寬度為60mm的大小的近紅外線吸收玻璃基板「BS-6(厚度為210μm)」(松浪硝子工業(股份)製造)
<近紅外線吸收色素>
化合物(X-1):所述化合物(X-1)(於二氯甲烷中的最大吸收波長為776nm)
<溶媒>
溶媒(1):二氯甲烷
溶媒(2):N,N-二甲基乙醯胺
表7中的實施例及比較例的(透明)樹脂製基板的乾燥條件如下所述。再者,於減壓乾燥前,將塗膜自玻璃板剝離。
<樹脂製基板乾燥條件>
條件(1):於20℃/8hr的條件下乾燥後,於減壓下以100℃/8hr的條件乾燥
條件(2):於60℃/8hr的條件下乾燥後,於80℃/8hr的條件下乾燥,進而於減壓下以140℃/8hr的條件乾燥
條件(3):於120℃/2min的條件下乾燥
100a、100b、100c:光學濾波器
102:基材
104:電介質多層膜
104a:第1電介質多層膜
104b:第2電介質多層膜
106:抗反射膜
Claims (12)
- 一種光學濾波器,其特徵在於:包括具有包含近紅外吸收微粒子的層的基材與設置於所述基材的至少一面上的電介質多層膜,並且滿足下述(a)、(b)、(d)、(e)及(f)的要件:(a)於波長400nm~650nm的範圍內,相對於光學濾波器自垂直方向入射的光、自垂直方向從傾斜30度的方向入射的光、自垂直方向從傾斜60度的方向入射的光的任一者的透過率的平均值均為45%以上且未滿85%,(b)於波長800nm~1200nm的範圍內,對於相對於光學濾波器自垂直方向入射的光、自垂直方向從傾斜30度的方向入射的光、自垂直方向從傾斜60度的方向入射的光的任一者,光密度(OD值)的平均值均為1.7以上,(d)於波長430nm~470nm的範圍內,自基材的垂直方向入射的光、自垂直方向從傾斜30度的方向入射的光、自垂直方向從傾斜60度的方向入射的光的任一者的透過率的平均值均為45%以上且為85%以下,(e)於波長520nm~560nm的範圍內,自基材的垂直方向入射的光、自垂直方向從傾斜30度的方向入射的光、自垂直方向從傾斜60度的方向入射的光的任一者的透過率的平均值均為60%以上且為88%以下,(f)於波長580nm~620nm的範圍內,自基材的垂直方向入射的光、自垂直方向從傾斜30度的方向入射的光、自垂直方向 從傾斜60度的方向入射的光的任一者的透過率的平均值均為50%以上且為85%以下。
- 如申請專利範圍第1項所述的光學濾波器,其中所述近紅外線吸收微粒子的粒子直徑的平均值為1nm~200nm。
- 如申請專利範圍第1項所述的光學濾波器,其中所述近紅外線吸收微粒子為下述所定義的第1微粒子及第2微粒子的至少一種,第1微粒子:由通式A1/nCuPO4(其中,式中,A為選自由鹼金屬、鹼土類金屬及NH4所組成的群組中的至少一種,當A為鹼金屬或NH4時,n為1,當A為鹼土類金屬時,n為2)所表述的氧化物,第2微粒子:由通式MxWyOz(其中,M為選自H、鹼金屬、鹼土類金屬、稀土元素、Mg、Zr、Cr、Mn、Fe、Ru、Co、Rh、Ir、Ni、Pd、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Tl、Si、Ge、Sn、Pb、Sb、B、F、P、S、Se、Br、Te、Ti、Nb、V、Mo、Ta、Re、Be、Hf、Os、Bi、I中的一種或多種元素,W為鎢,O為氧,0.001≦x/y≦1,2.2≦z/y≦3.0)所表述的金屬氧化物。
- 如申請專利範圍第1項所述的光學濾波器,其中所述包含近紅外線吸收微粒子的層為透明樹脂的層。
- 如申請專利範圍第4項所述的光學濾波器,其中所述透明樹脂包含選自由環狀(聚)烯烴系樹脂、芳香族聚醚系樹脂、 聚醯亞胺系樹脂、茀聚碳酸酯系樹脂、茀聚酯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚芳酯系樹脂、聚碸系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚對苯系樹脂、聚醯胺醯亞胺系樹脂、聚萘二甲酸乙二酯系樹脂、氟化芳香族聚合物系樹脂、(改質)丙烯酸系樹脂、環氧系樹脂、烯丙酯系硬化型樹脂、倍半矽氧烷系紫外線硬化型樹脂、丙烯酸系紫外線硬化型樹脂及乙烯基系紫外線硬化型樹脂所組成的群組中的至少一種樹脂。
- 如申請專利範圍第1項所述的光學濾波器,其中於所述基材的兩面上設置有電介質多層膜。
- 如申請專利範圍第1項所述的光學濾波器,其進而滿足下述(c)的要件,(c)於波長400nm~650nm的範圍內,相對於光學濾波器自垂直方向從傾斜30度的方向入射的光的透過率的平均值高於相對於光學濾波器自垂直方向入射的光及自垂直方向從傾斜60度的方向入射的光的透過率的平均值。
- 如申請專利範圍第1項所述的光學濾波器,其中所述基材具有利用透明樹脂的基板或玻璃基板的支撐體。
- 如申請專利範圍第8項所述的光學濾波器,其中所述透明樹脂包含選自由環狀(聚)烯烴系樹脂、芳香族聚醚系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、茀聚碳酸酯系樹脂、茀聚酯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚芳酯系樹脂、聚碸系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚對苯系樹脂、聚醯胺醯亞胺系樹脂、聚萘二甲酸乙二酯 系樹脂、氟化芳香族聚合物系樹脂、(改質)丙烯酸系樹脂、環氧系樹脂、烯丙酯系硬化型樹脂、倍半矽氧烷系紫外線硬化型樹脂、丙烯酸系紫外線硬化型樹脂及乙烯基系紫外線硬化型樹脂所組成的群組中的至少一種樹脂。
- 如申請專利範圍第1項至第8項中任一項所述的光學濾波器,其用於環境光感測器。
- 一種環境光感測器,其包括光電轉換元件以及如申請專利範圍第1項至第9項中任一項所述的光學濾波器,所述光學濾波器設置於所述光電轉換元件的受光面側。
- 一種電子設備,其包括筐體、顯示面板、麥克風部、揚聲器部以及如申請專利範圍第11項所述的環境光感測器,所述環境光感測器設置於設於所述筐體上的表面面板背面。
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Families Citing this family (53)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6210180B2 (ja) * | 2015-07-28 | 2017-10-11 | Jsr株式会社 | 光学フィルター及び光学フィルターを具備する環境光センサー |
| JPWO2017094672A1 (ja) | 2015-11-30 | 2018-09-13 | Jsr株式会社 | 光学フィルター、環境光センサーおよびセンサーモジュール |
| JP6202230B1 (ja) * | 2015-12-01 | 2017-09-27 | 旭硝子株式会社 | 光学フィルタおよび撮像装置 |
| JP6087464B1 (ja) * | 2016-06-30 | 2017-03-01 | 日本板硝子株式会社 | 赤外線カットフィルタ及び撮像光学系 |
| US11223032B2 (en) * | 2016-11-29 | 2022-01-11 | Universal Display Corporation | Thin film barrier structure |
| CN108663736A (zh) * | 2017-03-27 | 2018-10-16 | 白金光学科技(苏州)有限公司 | 滤光片 |
| DE102017004828B4 (de) * | 2017-05-20 | 2019-03-14 | Optics Balzers Ag | Optischer Filter und Verfahren zur Herstellung eines optischen Filters |
| KR102619325B1 (ko) * | 2017-05-29 | 2024-01-02 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 환경 광 센서용 광학 필터 |
| JP2019029525A (ja) * | 2017-07-31 | 2019-02-21 | Jsr株式会社 | 環境光センサおよび接着層形成用組成物 |
| JP6939224B2 (ja) * | 2017-08-04 | 2021-09-22 | Jsr株式会社 | 光学フィルターおよびその用途 |
| CN109491003A (zh) * | 2017-09-11 | 2019-03-19 | 白金光学科技(苏州)有限公司 | 近红外线截止滤光片及其制造工艺 |
| JP6946443B2 (ja) | 2017-09-15 | 2021-10-06 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、膜、積層体、赤外線透過フィルタ、固体撮像素子および赤外線センサ |
| JP6273064B1 (ja) * | 2017-10-03 | 2018-01-31 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタ及び撮像装置 |
| JP6273063B1 (ja) * | 2017-10-03 | 2018-01-31 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタ及び撮像装置 |
| JP6259155B1 (ja) * | 2017-10-03 | 2018-01-10 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタ及び撮像装置 |
| KR102465624B1 (ko) * | 2017-11-07 | 2022-11-10 | 니혼 이타가라스 가부시키가이샤 | 광흡수성 조성물 및 광학 필터 |
| CN111406227B (zh) * | 2017-12-07 | 2022-06-10 | 日本板硝子株式会社 | 滤光器和摄像装置 |
| JP7200985B2 (ja) * | 2018-03-02 | 2023-01-10 | Jsr株式会社 | 光学フィルター、カメラモジュールおよび電子機器 |
| US10948640B2 (en) | 2018-03-13 | 2021-03-16 | Viavi Solutions Inc. | Sensor window with a set of layers configured to a particular color and associated with a threshold opacity in a visible spectral range wherein the color is a color-matched to a surface adjacent to the sensor window |
| US11009636B2 (en) | 2018-03-13 | 2021-05-18 | Viavi Solutions Inc. | Sensor window to provide different opacity and transmissivity at different spectral ranges |
| JP6987966B2 (ja) * | 2018-03-16 | 2022-01-05 | 富士フイルム株式会社 | 構造体、近赤外線カットフィルタ用組成物、ドライフィルム、構造体の製造方法、光センサおよび画像表示装置 |
| WO2019177009A1 (ja) * | 2018-03-16 | 2019-09-19 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、膜、ドライフィルム、パターン形成方法、近赤外線透過フィルタ、構造体、光センサおよび画像表示装置 |
| JP7314118B2 (ja) | 2018-03-19 | 2023-07-25 | 富士フイルム株式会社 | 放射線検出器、放射線画像撮影装置及び放射線検出器の製造方法 |
| WO2019181641A1 (ja) * | 2018-03-19 | 2019-09-26 | 富士フイルム株式会社 | 放射線検出器、放射線画像撮影装置及び放射線検出器の製造方法 |
| EP3770644B1 (en) | 2018-03-19 | 2023-08-09 | FUJIFILM Corporation | Radiation detector, and radiographic image capturing device |
| CN110806612A (zh) * | 2018-08-06 | 2020-02-18 | 张家港康得新光电材料有限公司 | 滤光片及具有其的影像传感器 |
| TWI685681B (zh) * | 2018-08-27 | 2020-02-21 | 白金科技股份有限公司 | 紅外光濾光片 |
| WO2020054695A1 (ja) * | 2018-09-12 | 2020-03-19 | Jsr株式会社 | 光学フィルターおよびその用途 |
| JP7114724B2 (ja) | 2018-09-20 | 2022-08-08 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性組成物、硬化膜、赤外線透過フィルタ、積層体、固体撮像素子、センサ、及び、パターン形成方法 |
| JP2020067652A (ja) * | 2018-10-24 | 2020-04-30 | デクセリアルズ株式会社 | 光学フィルタ及び発光装置 |
| JP7031014B2 (ja) * | 2018-11-22 | 2022-03-07 | 富士フイルム株式会社 | 放射線検出器、放射線画像撮影装置、及び製造方法 |
| KR102068516B1 (ko) * | 2018-12-28 | 2020-01-21 | 주식회사 옵트론텍 | 광학 필터 |
| JP7213466B2 (ja) * | 2019-03-28 | 2023-01-27 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | カメラシステム、搭乗者監視システム、移動装置、撮像方法及びプログラム |
| JP7350301B2 (ja) * | 2019-09-24 | 2023-09-26 | 東海光学株式会社 | フィルタ並びに眼鏡レンズ、カメラフィルタ、窓板及びサンバイザ |
| JP2021056346A (ja) * | 2019-09-30 | 2021-04-08 | 豊田合成株式会社 | 赤外線透過製品 |
| EP4167301A4 (en) | 2020-06-12 | 2023-11-29 | FUJIFILM Corporation | SEMICONDUCTOR FILM, METHOD FOR PRODUCING A SEMICONDUCTOR FILM, LIGHT DETECTION ELEMENT AND IMAGE SENSOR |
| CN113899448B (zh) * | 2020-06-22 | 2024-03-01 | 北京小米移动软件有限公司 | 电子设备、环境光色温的测量方法及装置、存储介质 |
| KR102475669B1 (ko) * | 2020-09-22 | 2022-12-09 | 주식회사 창강화학 | 광학 필터 |
| TWI752677B (zh) * | 2020-11-12 | 2022-01-11 | 晶瑞光電股份有限公司 | 紅外截止濾光片結構 |
| EP4579201A1 (en) * | 2020-12-23 | 2025-07-02 | OTT HydroMet B.V. | Pyranometer |
| TWI802032B (zh) * | 2021-10-05 | 2023-05-11 | 鼎元光電科技股份有限公司 | 收光二極體 |
| CN114120832B (zh) * | 2021-11-23 | 2023-03-21 | 武汉华星光电技术有限公司 | 显示面板 |
| WO2023101973A1 (en) * | 2021-11-30 | 2023-06-08 | Sierra Nevada Corporation | Bandpass assembly for thermo-photovoltaic devices |
| TWI806327B (zh) * | 2021-12-29 | 2023-06-21 | 大立光電股份有限公司 | 光學鏡頭、取像裝置及電子裝置 |
| WO2023157742A1 (ja) | 2022-02-18 | 2023-08-24 | 富士フイルム株式会社 | 分散液、量子ドット膜の製造方法、光検出素子の製造方法およびイメージセンサの製造方法 |
| WO2023190090A1 (ja) * | 2022-03-30 | 2023-10-05 | Agc株式会社 | 光学フィルタ用ガラス及び光学フィルタ |
| US12339161B2 (en) | 2022-04-01 | 2025-06-24 | Sensortek Technology Corp. | Ambient light sensing method and ambient light sensor |
| CN116973996A (zh) | 2022-04-21 | 2023-10-31 | 苏州佳世达光电有限公司 | 光感测器 |
| JPWO2023234095A1 (zh) | 2022-06-01 | 2023-12-07 | ||
| EP4535430A4 (en) | 2022-06-01 | 2025-10-08 | Fujifilm Corp | PHOTODETECTOR ELEMENT, IMAGE SENSOR AND METHOD FOR MANUFACTURING PHOTODETECTOR ELEMENT |
| JPWO2023234096A1 (zh) | 2022-06-01 | 2023-12-07 | ||
| KR20250112839A (ko) | 2023-01-30 | 2025-07-24 | 후지필름 가부시키가이샤 | 광검출 소자의 제조 방법 및 이미지 센서의 제조 방법 |
| WO2025047466A1 (ja) | 2023-08-30 | 2025-03-06 | 富士フイルム株式会社 | 半導体膜、光検出素子およびイメージセンサ |
Citations (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101441291A (zh) * | 2007-11-06 | 2009-05-27 | 住友金属矿山株式会社 | 分散液、粘结体、滤光片及等离子体显示器面板 |
| US20100182678A1 (en) * | 2009-01-21 | 2010-07-22 | Southwell William H | Absorbing layers for the control of transmission, reflection, and absorption |
| US20120243077A1 (en) * | 2009-12-07 | 2012-09-27 | Asahi Glass Company, Limited | Optical member, near infrared cut filter, solid-state imaging element, lens for imaging device, and imaging/display device using the same |
| JP2012194270A (ja) * | 2011-03-15 | 2012-10-11 | Asahi Glass Co Ltd | 近赤外線吸収部材 |
| JP2013156460A (ja) * | 2012-01-31 | 2013-08-15 | Konica Minolta Inc | 携帯情報端末用カバー部材 |
| JP2014059550A (ja) * | 2012-08-23 | 2014-04-03 | Asahi Glass Co Ltd | 近赤外線カットフィルタ |
| TW201509861A (zh) * | 2013-07-05 | 2015-03-16 | Nippon Electric Glass Co | 紅外線截止濾波器用玻璃 |
| CN104536074A (zh) * | 2014-12-24 | 2015-04-22 | 电子科技大学 | 一种可调近红外滤波片 |
| US20150138661A1 (en) * | 2013-11-15 | 2015-05-21 | University Of Utah Research Foundation | Nanoparticle light filtering method and apparatus |
Family Cites Families (38)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60228448A (ja) | 1984-04-27 | 1985-11-13 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | スクアリリウム化合物 |
| JPH0654394B2 (ja) | 1986-11-14 | 1994-07-20 | 富士写真フイルム株式会社 | 光導電性組成物 |
| JPH07107030B2 (ja) | 1987-12-04 | 1995-11-15 | 富士ゼロックス株式会社 | 新規なスクアリリウム化合物及びその製造方法 |
| JPH01228960A (ja) | 1988-03-09 | 1989-09-12 | Konica Corp | スクアリリウムの化合物 |
| JP2864475B2 (ja) | 1989-04-14 | 1999-03-03 | ケミプロ化成株式会社 | 2―フェニルベンゾトリアゾール類の製造法 |
| JPH0481149A (ja) | 1990-07-24 | 1992-03-13 | Oki Electric Ind Co Ltd | パケット組立方法およびパケット組立装置 |
| JP2846091B2 (ja) | 1990-09-25 | 1999-01-13 | オリヱント化学工業株式会社 | インドール系化合物およびその用途 |
| JP3366697B2 (ja) | 1993-08-27 | 2003-01-14 | オリヱント化学工業株式会社 | 長波長紫外線吸収剤およびその製造方法 |
| TW254936B (zh) | 1993-10-22 | 1995-08-21 | Ciba Geigy | |
| JP4081149B2 (ja) | 1996-01-12 | 2008-04-23 | 山本化成株式会社 | フタロシアニン化合物を用いる湿式太陽電池 |
| US20040137367A1 (en) | 2001-07-04 | 2004-07-15 | Yasuyuki Kitayama | Diimonium salt compound, near-infrared ray absorbing filter and optical information recording medium |
| KR100701735B1 (ko) | 2003-10-20 | 2007-03-29 | 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 | 적외선 차폐재료 미립자 분산체, 적외선 차폐체, 및 적외선차폐재료 미립자의 제조방법, 및 적외선 차폐재료 미립자 |
| JP2006199945A (ja) | 2004-12-24 | 2006-08-03 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 低吸水性ポリイミド樹脂およびその製造方法 |
| JP4740631B2 (ja) | 2005-04-18 | 2011-08-03 | 日本カーリット株式会社 | ジイモニウム塩化合物並びにこれを利用する近赤外線吸収色素および近赤外線遮断フィルター |
| JP5140923B2 (ja) | 2005-12-19 | 2013-02-13 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | クロコニウム化合物 |
| JP2008163107A (ja) | 2006-12-27 | 2008-07-17 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 光学部材 |
| JP2008163194A (ja) | 2006-12-28 | 2008-07-17 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 光学フィルム用ポリカーボネート樹脂 |
| TW200827782A (en) | 2006-12-28 | 2008-07-01 | Nippon Catalytic Chem Ind | Selectively light-transmitting filter |
| US20100220388A1 (en) * | 2007-06-08 | 2010-09-02 | Bridgestone Corporation | Near-infrared shielding material, laminate including the same, and optical filter for display including the same |
| JP2010287310A (ja) * | 2007-10-12 | 2010-12-24 | Asahi Glass Co Ltd | 光学フィルタ |
| JP2009108267A (ja) | 2007-10-31 | 2009-05-21 | Fujifilm Corp | シアニン化合物およびそれを含んでなる近赤外線吸収組成物 |
| JP5489669B2 (ja) | 2008-11-28 | 2014-05-14 | Jsr株式会社 | 近赤外線カットフィルターおよび近赤外線カットフィルターを用いた装置 |
| JP5431001B2 (ja) | 2009-04-01 | 2014-03-05 | 株式会社Adeka | シアニン化合物及び該シアニン化合物を含有する光学フィルター |
| JP5225209B2 (ja) | 2009-06-10 | 2013-07-03 | 大阪瓦斯株式会社 | フルオレン骨格を有するポリエステル樹脂 |
| JP5198394B2 (ja) | 2009-09-04 | 2013-05-15 | シャープ株式会社 | 近接照度センサおよびその製造方法 |
| JP5454127B2 (ja) | 2009-12-22 | 2014-03-26 | 旭硝子株式会社 | 光学部材および光学フィルタ |
| JP5454111B2 (ja) | 2009-12-07 | 2014-03-26 | 旭硝子株式会社 | 近赤外線カットフィルタおよび撮像装置・表示装置 |
| JP2011197450A (ja) | 2010-03-19 | 2011-10-06 | Osaka Gas Chem Kk | プリズムシート及びその製造方法 |
| JP5810604B2 (ja) * | 2010-05-26 | 2015-11-11 | Jsr株式会社 | 近赤外線カットフィルターおよび近赤外線カットフィルターを用いた装置 |
| JP2012042918A (ja) * | 2010-07-20 | 2012-03-01 | Bridgestone Corp | ディスプレイ用光学フィルタ |
| JP5936299B2 (ja) | 2010-11-08 | 2016-06-22 | Jsr株式会社 | 近赤外線カットフィルター、およびそれを備える固体撮像素子ならびに固体撮像装置 |
| JP5673273B2 (ja) * | 2011-03-23 | 2015-02-18 | 旭硝子株式会社 | 近赤外線吸収粒子およびその製造方法、ならびに分散液、樹脂組成物、近赤外線吸収塗膜を有する物品および近赤外線吸収物品 |
| CN106405707B (zh) | 2011-06-06 | 2021-07-20 | Agc株式会社 | 滤光片、固体摄像元件、摄像装置用透镜和摄像装置 |
| CN104755969B (zh) * | 2012-08-23 | 2018-06-08 | 旭硝子株式会社 | 近红外线截止滤波器和固体摄像装置 |
| JP6248945B2 (ja) * | 2012-12-06 | 2017-12-20 | 旭硝子株式会社 | 近赤外線カットフィルタ |
| WO2014168189A1 (ja) | 2013-04-10 | 2014-10-16 | 旭硝子株式会社 | 赤外線遮蔽フィルタ |
| CN105122095B (zh) * | 2013-04-10 | 2017-07-21 | 旭硝子株式会社 | 红外线遮蔽滤波器、固体摄像元件、摄像装置和显示装置 |
| JP6210180B2 (ja) * | 2015-07-28 | 2017-10-11 | Jsr株式会社 | 光学フィルター及び光学フィルターを具備する環境光センサー |
-
2016
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-
2017
- 2017-07-12 JP JP2017136264A patent/JP6380624B2/ja active Active
- 2017-09-21 US US15/711,836 patent/US10473836B2/en active Active
-
2019
- 2019-01-03 US US16/239,243 patent/US11226442B2/en active Active
Patent Citations (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101441291A (zh) * | 2007-11-06 | 2009-05-27 | 住友金属矿山株式会社 | 分散液、粘结体、滤光片及等离子体显示器面板 |
| US20100182678A1 (en) * | 2009-01-21 | 2010-07-22 | Southwell William H | Absorbing layers for the control of transmission, reflection, and absorption |
| US20120243077A1 (en) * | 2009-12-07 | 2012-09-27 | Asahi Glass Company, Limited | Optical member, near infrared cut filter, solid-state imaging element, lens for imaging device, and imaging/display device using the same |
| JP2012194270A (ja) * | 2011-03-15 | 2012-10-11 | Asahi Glass Co Ltd | 近赤外線吸収部材 |
| JP2013156460A (ja) * | 2012-01-31 | 2013-08-15 | Konica Minolta Inc | 携帯情報端末用カバー部材 |
| JP2014059550A (ja) * | 2012-08-23 | 2014-04-03 | Asahi Glass Co Ltd | 近赤外線カットフィルタ |
| TW201509861A (zh) * | 2013-07-05 | 2015-03-16 | Nippon Electric Glass Co | 紅外線截止濾波器用玻璃 |
| US20150138661A1 (en) * | 2013-11-15 | 2015-05-21 | University Of Utah Research Foundation | Nanoparticle light filtering method and apparatus |
| CN104536074A (zh) * | 2014-12-24 | 2015-04-22 | 电子科技大学 | 一种可调近红外滤波片 |
Also Published As
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