JPH07107030B2 - 新規なスクアリリウム化合物及びその製造方法 - Google Patents
新規なスクアリリウム化合物及びその製造方法Info
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- JPH07107030B2 JPH07107030B2 JP62305860A JP30586087A JPH07107030B2 JP H07107030 B2 JPH07107030 B2 JP H07107030B2 JP 62305860 A JP62305860 A JP 62305860A JP 30586087 A JP30586087 A JP 30586087A JP H07107030 B2 JPH07107030 B2 JP H07107030B2
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
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Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、新規なスクアリリウム化合物及びその製造方
法に関する。
法に関する。
従来の技術 従来、電子写真感光体に使用する感光材料については種
々のものが知られているが、近年有機系感光材料を用い
た電子写真感光体が注目され、種々検討されている。有
機系の光導電材料としては、ビスアゾ系顔料、トリスア
ゾ系顔料、フタロシアニン系顔料、シアニン類、ピリリ
ウム類等が知られており、又、近年ある種のスクアリリ
ウム化合物が優れた光導電特性を示し、電子写真感光材
料として使用できることが報告されている（例えば特開
昭60−136542号公報、同60−142946号公報、同60−1429
47号公報、同61−10540号公報、同62−450号公報参
照）。
々のものが知られているが、近年有機系感光材料を用い
た電子写真感光体が注目され、種々検討されている。有
機系の光導電材料としては、ビスアゾ系顔料、トリスア
ゾ系顔料、フタロシアニン系顔料、シアニン類、ピリリ
ウム類等が知られており、又、近年ある種のスクアリリ
ウム化合物が優れた光導電特性を示し、電子写真感光材
料として使用できることが報告されている（例えば特開
昭60−136542号公報、同60−142946号公報、同60−1429
47号公報、同61−10540号公報、同62−450号公報参
照）。
発明が解決しようとする問題点 従来提案されている種々の有機化合物は、電子写真感光
体において、電荷発生剤として利用できるが、更に他の
優れた電荷発生剤を提供することが望まれている。
体において、電荷発生剤として利用できるが、更に他の
優れた電荷発生剤を提供することが望まれている。
本発明者等は、一群のスクアリリウム化合物について検
討した結果、以下に示す新規なスクアリリウム化合物が
電荷発生剤として有用であることを見出だし、本発明を
完成するに至った。
討した結果、以下に示す新規なスクアリリウム化合物が
電荷発生剤として有用であることを見出だし、本発明を
完成するに至った。
したがって、本発明の目的は、電子写真感光体の電荷発
生剤として有用な新規なスクアリリウム化合物及びその
製造方法を提供することにある。
生剤として有用な新規なスクアリリウム化合物及びその
製造方法を提供することにある。
問題点を解決するための手段 本発明の新規なスクアリリウム化合物は、下記一般式
（Ｉ）で示される。
（Ｉ）で示される。
（式中、Ｘは水素原子、メチル基、フッ素原子又は水酸
基を表わす） 上記一般式（Ｉ）で示されるスクアリリウム化合物は、
次のようにして製造される。
基を表わす） 上記一般式（Ｉ）で示されるスクアリリウム化合物は、
次のようにして製造される。
まず、下記構造式（II） で示される3,4−ジクロロ−３−シクロブテン−1,2−ジ
オンと、下記一般式（III） （式中、Ｘは水素原子、メチル基、フッ素原子又は水酸
基を表わす） で示されるアニリン誘導体とを反応させて、下記一般式
（IV） （式中、Ｘは前記と同じ意味を表わす） で示されるクロロシクロブテンジオン誘導体を合成し、
次いで該クロロシクロブテンジオン誘導体を加水分解し
て、下記一般式（Ｖ） （式中、Ｘは前記と同じ意味を表わす） で示されるヒロドキシシクロブテンジオン誘導体を合成
し、該ヒロドキシシクロブテンジオン誘導体を下記構造
式（VI） で示されるアニリン誘導体と反応させることによって製
造することができる。
オンと、下記一般式（III） （式中、Ｘは水素原子、メチル基、フッ素原子又は水酸
基を表わす） で示されるアニリン誘導体とを反応させて、下記一般式
（IV） （式中、Ｘは前記と同じ意味を表わす） で示されるクロロシクロブテンジオン誘導体を合成し、
次いで該クロロシクロブテンジオン誘導体を加水分解し
て、下記一般式（Ｖ） （式中、Ｘは前記と同じ意味を表わす） で示されるヒロドキシシクロブテンジオン誘導体を合成
し、該ヒロドキシシクロブテンジオン誘導体を下記構造
式（VI） で示されるアニリン誘導体と反応させることによって製
造することができる。
上記の製造法において、各工程の反応は、公知の類似の
反応に準じて実施することができる。
反応に準じて実施することができる。
即ち、まず、3,4−ジクロロ−３−シクロブテン1,2−ジ
オンを前記一般式（III）で示されるアニリン誘導体と
反応させるが、アニリン誘導体としては、N,N−ジメチ
ルアニリン、３−メチル−N,N−ジメチルアニリン、３
−フルオロ−N,N−ジメチルアニリン及び３−ヒドロキ
シ−N,N−ジメチルアニリンを使用することができる。
オンを前記一般式（III）で示されるアニリン誘導体と
反応させるが、アニリン誘導体としては、N,N−ジメチ
ルアニリン、３−メチル−N,N−ジメチルアニリン、３
−フルオロ−N,N−ジメチルアニリン及び３−ヒドロキ
シ−N,N−ジメチルアニリンを使用することができる。
この反応は、それ等を、適当な溶剤、例えば塩化メチレ
ン、四塩化炭素、クロロホルム等のハロゲン化炭化水
素、ニトロベンゼン、エチルエーテル、アセトニトリル
等の通常のフリーデルクラフツ反応溶媒に溶解し、所望
ならば触媒、例えば三フッ化硼素エチルエーテル錯体、
塩化アルミニウム、塩化アンチモン、塩化鉄（II）又は
（III）、塩化チタン（IV）、塩化錫（IV）、塩化ビス
マス（IV）、塩化亜鉛（II）、塩化水銀等の存在下、０
〜40℃において撹拌することによって行なうことができ
る。
ン、四塩化炭素、クロロホルム等のハロゲン化炭化水
素、ニトロベンゼン、エチルエーテル、アセトニトリル
等の通常のフリーデルクラフツ反応溶媒に溶解し、所望
ならば触媒、例えば三フッ化硼素エチルエーテル錯体、
塩化アルミニウム、塩化アンチモン、塩化鉄（II）又は
（III）、塩化チタン（IV）、塩化錫（IV）、塩化ビス
マス（IV）、塩化亜鉛（II）、塩化水銀等の存在下、０
〜40℃において撹拌することによって行なうことができ
る。
合成されたクロロシクロブテンジオン誘導体は、続いて
加水分解されるが、加水分解は、適当な酸、例えば酢酸
を含む水中で、加熱することによって実施される。
加水分解されるが、加水分解は、適当な酸、例えば酢酸
を含む水中で、加熱することによって実施される。
続いて、加水分解によって得られたヒドロキシシクロブ
テンジオン誘導体を前記構造式（VI）で示されるアニリ
ン誘導体と反応させるが、その反応は、これ等の化合物
を適当な溶剤、例えば、ｎ−ブチルアルコール、ｎ−ヘ
プチルアルコール等の炭素数４〜８の脂肪族アルコー
ル、またはこれとベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水
素との混合溶媒中で加熱することによって行なうことが
できる。
テンジオン誘導体を前記構造式（VI）で示されるアニリ
ン誘導体と反応させるが、その反応は、これ等の化合物
を適当な溶剤、例えば、ｎ−ブチルアルコール、ｎ−ヘ
プチルアルコール等の炭素数４〜８の脂肪族アルコー
ル、またはこれとベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水
素との混合溶媒中で加熱することによって行なうことが
できる。
本発明のスクアリリウム化合物は、電子写真感光体の電
荷発生剤として有用である。例えば、感光層が電荷発生
層と電荷輸送層とに機能分離された積層構造を有する場
合において、上記スクアリリウム化合物を成膜性の樹脂
と共に用いて電荷発生層を形成することができる。
荷発生剤として有用である。例えば、感光層が電荷発生
層と電荷輸送層とに機能分離された積層構造を有する場
合において、上記スクアリリウム化合物を成膜性の樹脂
と共に用いて電荷発生層を形成することができる。
実施例 以下、本発明の実施例を示す。
実施例１ 3,4−ジクロロ−３−シクロブテン−1,2−ジオン7.5g
（0.051モル）及び三フッ化硼素エチルエーテル錯体6.5
ml（0.05モル）を塩化メチレン30mlに溶解し、これに３
−フルオロ−ジメチルアニリン35g（0.25モル）を加え
て混合し、室温で16時間撹拌して反応を行なった。反応
終了後、反応混合物を希塩酸、次いで水で洗浄し、カラ
ムクロマトグラフィーを用いて分離精製を行ない、下記
構造式で示されるクロロシクロブテンジオン誘導体9.1g
（収率72％）を得た。
（0.051モル）及び三フッ化硼素エチルエーテル錯体6.5
ml（0.05モル）を塩化メチレン30mlに溶解し、これに３
−フルオロ−ジメチルアニリン35g（0.25モル）を加え
て混合し、室温で16時間撹拌して反応を行なった。反応
終了後、反応混合物を希塩酸、次いで水で洗浄し、カラ
ムクロマトグラフィーを用いて分離精製を行ない、下記
構造式で示されるクロロシクロブテンジオン誘導体9.1g
（収率72％）を得た。
得られたクロロシクロブテンジオン誘導体7.60g（0.030
モル）に酢酸120ml及び水30mlを加え、２時間加熱還流
させた後、放冷し、析出する沈澱物を濾別し、下記構造
式で示されるヒドロキシシクロブテンジオン誘導体6.32
g（収率90％）を得た。
モル）に酢酸120ml及び水30mlを加え、２時間加熱還流
させた後、放冷し、析出する沈澱物を濾別し、下記構造
式で示されるヒドロキシシクロブテンジオン誘導体6.32
g（収率90％）を得た。
得られたヒドロキシシクロブテンジオン誘導体2.01g
（8.55ミリモル）と３−ヒドロキシ−N,N−ジフェニル
アニリン2.53g（9.86ミリモル）をブタノール100mlとト
ルエン50mlの混合溶媒中で５時間加熱撹拌した後、カラ
ムクロマトグラフィーを用いて分離精製し、下記構造式
で示されるスクアリリウム化合物1.01g（収率25％）を
得た。融点m.p.＝235℃（分解）。
（8.55ミリモル）と３−ヒドロキシ−N,N−ジフェニル
アニリン2.53g（9.86ミリモル）をブタノール100mlとト
ルエン50mlの混合溶媒中で５時間加熱撹拌した後、カラ
ムクロマトグラフィーを用いて分離精製し、下記構造式
で示されるスクアリリウム化合物1.01g（収率25％）を
得た。融点m.p.＝235℃（分解）。
この化合物の赤外吸収スペクトルは第１図に示す通りで
あり、紫外吸収スペクトル（最大）は、UV（CH2Cl2）:6
50nmであった。又、元素分析値は、C30H23FN2O3とし
て、次の通りであった。
あり、紫外吸収スペクトル（最大）は、UV（CH2Cl2）:6
50nmであった。又、元素分析値は、C30H23FN2O3とし
て、次の通りであった。
計算値（％） 実測値（％） Ｃ 75.30 75.11 Ｈ 4.84 5.08 Ｎ 5.85 5.68 実施例２〜４ 目的化合物に対応する適当な原料物質を選択し、実施例
１におけると同様な方法で処理して、第１表に示すヒド
ロキシシクロブテンジオン誘導体を、続いて第１表に示
す目的化合物を製造した。それらの化合物の赤外吸収ス
ペクトル（最大）を第１表に示す。
１におけると同様な方法で処理して、第１表に示すヒド
ロキシシクロブテンジオン誘導体を、続いて第１表に示
す目的化合物を製造した。それらの化合物の赤外吸収ス
ペクトル（最大）を第１表に示す。
発明の効果 本発明のスクアリリウム化合物は、新規な化合物であ
り、電子写真感光体における電荷発生剤として有用な物
質であって、可視領域から近赤外領域までの広い範囲に
わたって感度を有する電子写真感光体を得ることができ
る。特に、電荷発生層と電荷輸送層とに機能分離された
積層構造を有する電子写真感光体において電荷発生在中
に含有させると、良好な感度のものが得られる。
り、電子写真感光体における電荷発生剤として有用な物
質であって、可視領域から近赤外領域までの広い範囲に
わたって感度を有する電子写真感光体を得ることができ
る。特に、電荷発生層と電荷輸送層とに機能分離された
積層構造を有する電子写真感光体において電荷発生在中
に含有させると、良好な感度のものが得られる。
第１図は実施例１におけるスクアリリウム化合物の赤外
吸収スペクトル図である。
吸収スペクトル図である。
Claims (2)
- 【請求項１】下記一般式（Ｉ） （式中、Ｘは水素原子、メチル基、フッ素原子又は水酸
基を表わす） で示されるスクアリリウム化合物。 - 【請求項２】下記構造式（II） で示される3,4−ジクロロ−３−シクロブテン−1,2−ジ
オンと、下記一般式（III） （式中、Ｘは水素原子、メチル基、フッ素原子又は水酸
基を表わす） で示されるアニリン誘導体とを反応させて、下記一般式
（IV） （式中、Ｘは前記と同じ意味を表わす） で示されるクロロシクロブテンジオン誘導体を合成し、
次いで該クロロシクロブテンジオン誘導体を加水分解し
て、下記一般式（Ｖ） （式中、Ｘは前記と同じ意味を表わす） で示されるヒロドキシシクロブテンジオン誘導体を合成
し、該ヒロドキシシクロブテンジオン誘導体を下記構造
式（VI） で示されるアニリン誘導体と反応させることを特徴とす
る下記一般式（Ｉ） （式中、Ｘは前記と同じ意味を表わす） で示されるスクアリリウム化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62305860A JPH07107030B2 (ja) | 1987-12-04 | 1987-12-04 | 新規なスクアリリウム化合物及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62305860A JPH07107030B2 (ja) | 1987-12-04 | 1987-12-04 | 新規なスクアリリウム化合物及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01146846A JPH01146846A (ja) | 1989-06-08 |
| JPH07107030B2 true JPH07107030B2 (ja) | 1995-11-15 |
Family
ID=17950232
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62305860A Expired - Fee Related JPH07107030B2 (ja) | 1987-12-04 | 1987-12-04 | 新規なスクアリリウム化合物及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07107030B2 (ja) |
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-
1987
- 1987-12-04 JP JP62305860A patent/JPH07107030B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01146846A (ja) | 1989-06-08 |
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