TWI707771B - Ｌｅｄ用高反射性超薄覆蓋膜及其製造方法 - Google Patents
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Abstract
一種高反射性超薄覆蓋膜及其製造方法，該高反射性超薄覆蓋膜包括透明聚醯亞胺層、金屬層以及黏著劑層。本發明所提供之高反射性超薄覆蓋膜具有結合性好、材料輕薄、耐彎折、使用壽命長以及光學性能優異等優點，且反射率可達90%以上，最高可達98%(@ 450nm)。
Description
本發明係關於LED(發光二極體)用高反射性超薄覆蓋膜。
隨著資訊、通訊產業的發展帶動微電子產業，可撓性印刷電路板(Flexible Printed Circuit，FPC)應運而生，並蓬勃地發展，並在移動手機、液晶顯示器、平板等諸多領域得到廣泛應用。可撓性印刷電路板和PCB(Printed Circuit Board，剛性印刷電路板)最大的不同在於前者採用覆蓋膜，其功能超出了PCB用的防焊油墨，不僅具有阻焊作用，使FPC不受塵埃、潮氣、化學藥品的侵蝕，而且能減少彎曲過程中應力的影響。此外，隨著FPC市場的發展，覆蓋膜被賦予了更多的功能。具有反光作用的特殊覆蓋膜被大力應用在LED以及燈條(light bar)領域。在當前全球能源短缺的憂慮再度升高的背景下，節約能源是我們未來面臨的重要的問題。在照明領域，LED發光產品的應用正吸引著世人的目光，LED作為一種新型的綠色光源產品，必然是未來發展的趨勢，二十一世紀將進入以LED為代表的新型照明光源時代。
目前市面上採用的LED用反光性覆蓋膜主要有兩種：
一、白色油墨型覆蓋膜，這種覆蓋膜通常由白色油墨層與黏著劑層組成具有極低的介電常數與介電損耗、極高的離子純度、高反射率、低穿透率、低表面光澤度、高撓曲性、低反彈力及高表面硬度的超薄白色覆蓋膜，特別適合在軟硬結合版高效能的LED照明中使用。這種覆蓋膜可以做到極低的厚度(10μm左右)，但缺點是反射率無法達到90%以上，且其在經過高溫製程的過程中往往會產生黃變現象，導致反射率進一步下降，長久使用更易產生龜裂甚至脫落的現象，影響使用壽命；
二、白色聚醯亞胺型覆蓋膜，這種覆蓋膜也同樣存在黃變問題，且由於聚醯亞胺種類繁雜，含有雙酚A等致使薄膜產生黃變的基團都會使得產品經高溫加工後反射率下降，而使用耐高溫黃變的聚醯亞胺，還需考慮成本問題；同時，在聚醯亞胺中添加白色顏料、填料後，聚醯亞胺本身的彈性模量、伸長率、抗張強度等物性都會降低；再者，白色聚醯亞胺為了遮蔽下層線路，難以做到超薄厚度，存在成本問題，若做到極薄厚度亦存在著加工操作性問題。
上述兩種傳統LED用覆蓋膜都存在諸多問題。目前，業界都在設計新型反射覆蓋膜，例如：第201710365861.3號中國專利揭示一種高霧度的有色超薄高頻覆蓋膜及製備方法、第201720667887.9號中國專利揭示一種LED基板用白色覆蓋膜及使用該白色覆蓋膜的LED基板、第201410031886.6號中國專利揭示一種具耐高溫性及高反射率的印刷電路板用覆蓋保護膠片。但上述專利所提供之技術方案都難以滿足高反射率(90%以上)和覆蓋膜之超薄厚度的要求。
為解決上述覆蓋膜的問題，本發明提供一種高反射性超薄覆蓋膜，係包括：厚度為3至50μm之透明聚醯亞胺層；金屬層，係形成於該透明聚醯亞胺層之表面上；以及厚度為3至100μm之黏著劑層，係形成於該金屬層之表面上，以令該金屬層位於該透明聚醯亞胺層與該黏著劑層之間。
於一具體實施態樣中，該透明聚醯亞胺層之厚度為5至12μm、玻璃化轉變溫度(Tg)
300℃、硬度為3H以上(例如3H、4H、5H、6H...等)、穿透率
90%、反射率
5%、L*值為90至100、a*值及b*值各為-2至2、霧度(Haze)<1%。
於一具體實施態樣中，該金屬層之厚度為0.01至3μm。
於一具體實施態樣中，該金屬層所使用之金屬係選自金、銀、銅、鋁及鎳之至少一者。且於一具體實施態樣中，該金屬層所使用之金屬係銀、鋁及鎳。
於一具體實施態樣中，該黏著劑層之厚度為6至50μm。
於一具體實施態樣中，該高反射性超薄覆蓋膜復包括光學膜，係形成於透明聚醯亞胺層之另一表面上，使該透明聚醯亞胺層位於該光學膜與金屬層之間。於一具體實施態樣中，該光學膜係PET光學膜。
於一具體實施態樣中，該高反射性超薄覆蓋膜復包括如載體膜、離型膜或離型紙之離型層，係形成於該黏著劑層之另一表面上。
於一具體實施態樣中，該載體膜係低黏著載體膜，該離型膜係PET氟塑離型膜、PET含矽油離型膜、PET亞光離型膜及PE離型膜中的至少一種，該離型紙係PE淋膜紙。
於一具體實施態樣中，該高反射性超薄覆蓋膜之抗張強度係
95MPa、該高反射性超薄覆蓋膜之伸長率係
5%、該高反射性超薄覆蓋膜之彈性模量係
3000MPa、該高反射性超薄覆蓋膜之反射率
90%、該高反射性超薄覆蓋膜之穿透率
1%。該高反射性超薄覆蓋膜之L*值為90至100，例如90、91、92、93、94、95、96、97、98、99、100，a*值及b*值各為-1至7，例如-1、0、1、2、3、4、5、6、7。
於一具體實施態樣中，該黏著劑層包括黏著劑，該黏著劑係選自環氧膠系黏著劑、壓克力膠系黏著劑或壓敏膠。
本發明亦提供一種高反射性超薄覆蓋膜之製造方法，係包括：將聚醯亞胺塗佈於光學膜的表面上，以形成該透明聚醯亞胺層；於該透明聚醯亞胺層的表面上形成該金屬層；將黏著劑塗佈於離型層的表面上，以形成該黏著劑層；將該黏著劑層與該金屬層貼合，以得到該高反射性超薄覆蓋膜。
本發明復提供一種高反射性超薄覆蓋膜之製造方法，係包括：將聚醯亞胺塗佈於光學膜的表面上，以形成該透明聚醯亞胺層；於該透明聚醯亞胺層的表面上形成該金屬層；將黏著劑塗佈於該金屬層上，以形成黏著劑層；將離型層與該黏著劑層貼合，以得到該高反射性超薄覆蓋膜。
於一具體實施態樣中，以蒸鍍法或濺鍍法於該透明聚醯亞胺層的表面上形成金屬層。且於一具體實施態樣中，以蒸鍍法形成金屬層。
由上可知，本發明所提供之具有三層結構的高反射性超薄覆蓋膜，係包括透明聚醯亞胺(PI)保護層、金屬層(即高反射層)以及黏著劑層，並可以在透明聚醯亞胺(PI)層之表面上設置光學膜，在黏著劑層
之下表面設置離型層。通過設計透明聚醯亞胺(PI)保護層，提高反射膜的抗刮傷和抗氧化能力，提高壽命；通過設置金屬層達到反射膜的高反射效果；而通過設置黏著劑層，提高覆蓋膜的應用範圍，方便覆蓋膜的使用。本發明所提供之高反射性超薄覆蓋膜具有高反射率、結合性好、材料輕薄、耐彎折、使用壽命長、光學性能優異等優點，反射率可達90%以上。
1‧‧‧透明聚醯亞胺層
2‧‧‧金屬層
3‧‧‧黏著劑層
4‧‧‧光學膜
5‧‧‧離型層
第1圖係本發明之高反射性超薄覆蓋膜之結構示意圖。
以下係藉由特定的具體實施態樣說明本發明之實施方式，熟習此技藝之人士可由本說明書所揭示之內容輕易地瞭解本發明之優點及功效。
須知，本說明書所附圖式所繪示之結構、比例、大小等，均僅用以配合說明書所揭示之內容，以供熟悉此技藝之人士之瞭解與閱讀，並非用以限定本發明可實施之限定條件，故不具技術上之實質意義，任何結構之修飾、比例關係之改變或大小之調整，在不影響本發明所能產生之功效及所能達成之目的下，均應仍落在本發明所揭示之技術內容得能涵蓋之範圍內。同時，本說明書中所引用之如「一」及「上」等用字，亦僅為便於敘述之明暸，而非用以限定本發明可實施之範圍，其相對關係之改變或調整，再無實質變更技術內容下，當亦視為本發明可實施之範疇。此外，
本文所有範圍和值係包含及可合併的。落在本文中所述範圍內之任何數值或點，例如任何整數都可以作為最小值或最大值以導出下位範圍等。
如第1圖所示，其係本發明之高反射性超薄覆蓋膜之結構示意圖，包括透明聚醯亞胺(PI)層1、金屬層2以及黏著劑層3，亦可進一步包括光學膜4及離型層5。
透明聚醯亞胺層1係由改性聚醯亞胺溶液所形成，該改性聚醯亞胺溶液呈現無色、透明。通常選用N-甲基吡咯烷酮(NMP)、γ-丁內酯(GBL)或二甲基甲醯胺(DMF)等溶劑，原料主要由聚醯亞胺單體及溶劑組成。
所述透明聚醯亞胺層1，係作為保護層，厚度為3至50μm，例如3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、14、15、16、17、18、19、20、25、30、35、40、45或50μm，而較佳厚度為5至12μm。聚醯亞胺材料吸水率極低，水氣不容易入侵，在高溫、高濕度環境下也具有極佳的可靠度，使用壽命長、耐彎折且材料輕薄，具有良好的加工性能；聚醯亞胺有多種類型，並以具有高玻璃化轉變溫度(Tg)、高硬度、體系耐高溫、高L*值、低a*、b*值、透明度、低霧度、低膨脹係數、低反彈力、低導熱係數、低折射率的聚醯亞胺材料為佳。
玻璃化轉變溫度直接影響到材料的使用性能和工藝性能，聚合物發生玻璃化轉變時，許多物理性質如模量、熱焓、熱膨脹係數、折射率、熱導率、介電常數、介電損耗及力學損耗等都會發生急劇的變化。因此，選用的聚醯亞胺需達到較高的玻璃化轉變溫度，如Tg
300℃，並且在高溫狀態下，其物性能夠保持穩定。
同時，為了減少光線的吸收與散射，選用具有高硬度(3H以上)、低折射率、高穿透率(90%)、低反射率(
5%)、高L*值(90至100)、低a*及b*值(-2至2)、極低霧度(Haze<1%)的透明聚醯亞胺，並且透明聚醯亞胺在QUV照射240小時後上述光學特性變化率極小。
同時，為了將覆蓋膜表面(即聚醯亞胺表面)做到極低的表面粗糙度，在產品製備時，需將透明聚醯亞胺塗覆於表面光滑的離型層上，離型層的材質較佳為經過預收縮處理的光學級PET離型膜，以此保證反射層的反射率；或者，亦可採用其他離型層(氟素或鹵素離型處理)。
塗佈時，需考慮聚醯亞胺溶液中溶劑揮發點高低進行製成工藝的溫度設置，而成品熟化階段亦需要根據成品材料中溶劑沸點進行熟化。
所述金屬層2，係作為反射膜，厚度為0.01至3.0μm，例如0.01、0.05、0.1、0.15、0.2、0.3、0.4、0.5、0.6、0.7、0.8、0.9、1.0、1.5、2.0、2.5或3.0μm，較佳厚度為0.10-0.2μm左右。一般金屬都具有較大的消光係數，當光束由空氣入射到金屬表面時，進入金屬內的光振幅迅速衰減，使得進入金屬內部的光能相應減少，而反射光能增加，其中，消光係數越大，光振幅衰減越迅速，進入金屬內部的光能越少，反射率越高。本發明之金屬層2，較佳為使用消光係數較大且光學性質較穩定的金屬作為金屬層2的材料。通常，在紫外光區常用的金屬材料是鋁Al，在可見光區常用鋁Al、鎳Ne和銀Ag，而在紅外光區常用金Au、銀Ag和銅Cu，可以依需求選用上述金屬作為金屬層2之材料。鑒於反射膜的使用範圍，本發明優先採用銀Ag、鋁Al、鎳Ne等金屬。此外，因設置作為反射膜之金屬層2，故包括透明聚醯亞胺層及反射膜的複合結構可具有高穿透率和低反射率。
並且，本發明中，金屬層2之厚度與反射率成正比，例如當金屬層2選用銀層，厚度為0.1μm時反射率可達94%；當厚度為0.15μm時反射率可達98%；而若繼續增加銀層的厚度，反射率基本保持在98%左右。
金屬的鍍層方式主要有蒸鍍法、濺鍍法、電鍍法等等。蒸鍍法是將待成膜的物質置於真空中進行蒸發或昇華，使之在器件表面析出的過程。真空蒸鍍使用的加熱方式主要有電阻加熱、電子束加熱、射頻感應加熱、電弧加熱和鐳射加熱等幾種。不論哪一種加熱方式，都要求作為蒸發源的材料具有以下性能：熔點高、蒸氣壓低、在蒸發溫度下不與大多數蒸發材料發生化學反應或互溶，且同時具有一定的機械強度。濺鍍法是在真空環境下，通入適當的惰性氣體作為媒介，靠惰性氣體加速撞擊靶材，使靶材表面原子被撞擊出來，並在表面形成鍍膜。電鍍法則是在電場力作用下，令電解液中的金屬離子游向陰極，在鑽頭被鍍部位還原沉積為金屬的中性原子，在器件表面形成鍍層。
蒸鍍法和濺鍍法都是在真空條件下，通過蒸餾或濺射等方式在器件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜，通過這種方式可以得到非常薄的表面鍍層，同時具有速度快、附著力好的突出優點。蒸鍍法和濺鍍法這兩種鍍層方法相對於電鍍法來說在工藝上較為環保，且由蒸鍍法和濺鍍法所形成之鍍層中的金屬附著力較高。針對本發明高反射性超薄覆蓋膜所需特性，優先採用蒸鍍法進行金屬鍍膜。
所述黏著劑層3係作為不影響整體光學膜反射性的底膠層，可提高反射膜的應用範圍，方便使用。黏著劑層3的厚度可為3至100μm，例如3、4、5、6、7、8、9、10、15、20、25、30、35、40、45、50、55、60、65、70、75、80、85、90、95或100μm，並以6至50μm為佳。常規
的反射膜是將金屬層直接加工於基材或器件上，易脫離，導致使用壽命低。在其中添加一層黏著劑層，能夠減少這一損失，並且提高反射膜的使用範圍。
本發明中，黏著劑層3包括黏著劑，該黏著劑多採用常規覆蓋膜類黏著劑(環氧膠系)，其中添加橡膠、環氧樹脂、阻燃劑等成分；另外也可採用壓克力膠系、PSA(壓敏膠)等作為黏著劑。
本發明之高反射性超薄覆蓋膜可以在透明聚醯亞胺層1的表面增設光學膜4，較佳為PET光學膜。以聚醯亞胺塗佈於光學膜4時，光學膜4之表面粗糙度會直接影響產品表面的反射率，故光學膜材質表面需達到極小的表面粗糙度，較佳為光滑透明、粗糙度極低(例如Rz為介於0.01μm至5.0μm之間、Ra為介於0.01μm至1.0μm之間)可以忽略不計的光學膜，以盡可能滿足透明聚醯亞胺的物性要求。
本發明之高反射性超薄覆蓋膜亦可以在黏著劑層3下方設置離型層5，離型層5與黏著劑層3之膠面緊密貼合，既保護膠面不沾染雜質，亦可以方便收卷時不會產生黏連。
本發明之高反射性超薄覆蓋膜之製造方法可以如下之方法進行，但不限於此：
第一種方法：
步驟一、於光學膜4上塗佈聚醯亞胺材料，以形成透明聚醯亞胺層1；
步驟二、再於透明聚醯亞胺層1的表面以蒸鍍法或濺鍍法鍍上金屬，以形成金屬層2；
步驟三、於離型層5上塗佈黏著劑，以形成黏著劑層3；
步驟四、將步驟三所製得之黏著劑層3與步驟二所製得之金屬層2貼合，以得到高反射性超薄覆蓋膜。
第二種方法：
步驟一、於光學膜4上塗佈聚醯亞胺材料，以形成透明聚醯亞胺層1；
步驟二、於透明聚醯亞胺層1的表面以蒸鍍法或濺鍍法鍍上金屬，以形成金屬層2；
步驟三、再於金屬層2上塗佈黏著劑，以形成黏著劑層3；
步驟四、於黏著劑層3上貼合離型層5，以得到高反射性超薄覆蓋膜。
以下，本發明透過實施例之示例來說明細節。不過，本發明之詮釋不應當被限制於以下實施例之闡述。
為方便理解本發明之優越性，將所製得之實施例1至5的高反射性超薄覆蓋膜與比較例1及2之市面上其他產品進行比較，各項測試結果係如下表1所示。
實施例中所選用之透明聚醯亞胺層，係由以γ-丁內酯為溶劑之聚醯亞胺溶液所形成者，該聚醯亞胺膜之玻璃轉化溫度Tg>300℃、硬度為4H、反射率為0.12%、穿透率為91.1%、L*值為95.5、a*值為0.56、b*值為-0.15、霧度為0.9%。所選用之黏著劑層則係包括環氧膠系黏著劑。
表1
表1中，表面硬度係以GB/T 6739-2006測試方法進行測量、L*值、a*值及b*值係以ASTM E313測試方法進行測量、穿透率、反射率及
霧度係以ISO 14782測試方法進行測量、抗張強度、伸長率及彈性模量係以ASTM D882測試方法進行測量、介電強度係以ASTM D149測試方法進行測量。
表1之結果顯示本發明之鍍銀型高反射性覆蓋膜相較於鍍鋁、鍍鎳型高反射性覆蓋膜，其反射率最高，達到95%左右，且明顯優於其他兩款白色油墨型及白色PI型覆蓋膜。
為了凸顯本發明相較於市面上其他產品具有更佳的可靠性與信賴度，復以實施例1及4之高反射性覆蓋膜以及比較例1及2之市面上其他產品進行比較，測試結果如下表2所示。
表2
由上表2可以看出，本發明之高反射性覆蓋膜與市面上之白色PI型覆蓋膜及白色油墨型覆蓋膜相比，常態下反射率均優於後者，其中，實施例1(銀層0.10um)常態下反射率94.6%、實施例4(銀層0.15um)常態下反射率98.10%；並且，經過SMT*3後實施例1(銀層0.10um)反射率94.1%(銀0.10um)、實施例4(銀層0.15um)反射率98.01%，而經耐硫化測試後實施例1(銀層0.10um)反射率93.8%(銀0.10um)、實施例4(銀
層0.15um)反射率97.99%，顯示本發明鍍銀高反射性覆蓋膜具有極佳的耐高溫性及耐硫化性能，信賴性佳。
1‧‧‧透明聚醯亞胺層
2‧‧‧金屬層
3‧‧‧黏著劑層
4‧‧‧光學膜
5‧‧‧離型層
Claims (22)
- 一種高反射性超薄覆蓋膜，係包括：厚度為3至50μm之透明聚醯亞胺層，具有90%之穿透率；金屬層，係形成於該透明聚醯亞胺層之表面上；以及厚度為3至100μm之黏著劑層，係形成於該金屬層之表面上，以令該金屬層位於該透明聚醯亞胺層與黏著劑層之間，其中，該高反射性超薄覆蓋膜之反射率90%。
- 如申請專利範圍第1項所述之高反射性超薄覆蓋膜，其中，該透明聚醯亞胺層之厚度為5至12μm。
- 如申請專利範圍第1項所述之高反射性超薄覆蓋膜，其中，該透明聚醯亞胺層之玻璃化轉變溫度300℃。
- 如申請專利範圍第1項所述之高反射性超薄覆蓋膜，其中，該透明聚醯亞胺層之硬度為3H以上。
- 如申請專利範圍第1項所述之高反射性超薄覆蓋膜，其中，該透明聚醯亞胺層之反射率5%。
- 如申請專利範圍第1項所述之高反射性超薄覆蓋膜，其中，該透明聚醯亞胺層之L*值為90至100，a*值及b*值各為-2至2。
- 如申請專利範圍第1項所述之高反射性超薄覆蓋膜，其中，該透明聚醯亞胺層之霧度(Haze)<1%。
- 如申請專利範圍第1項所述之高反射性超薄覆蓋膜，其中，該金屬層之厚度為0.01至3.0μm。
- 如申請專利範圍第1項所述之高反射性超薄覆蓋膜，其中，形成該金屬層之金屬係選自金、銀、銅、鋁及鎳之至少一者。
- 如申請專利範圍第1項所述之高反射性超薄覆蓋膜，其中，該黏著劑層之厚度為6至50μm。
- 如申請專利範圍第1項所述之高反射性超薄覆蓋膜，復包括光學膜，係形成於該透明聚醯亞胺層之表面上，使該透明聚醯亞胺層位於該光學膜與金屬層之間。
- 如申請專利範圍第11項所述之高反射性超薄覆蓋膜，其中，該光學膜係PET光學膜。
- 如申請專利範圍第1項所述之高反射性超薄覆蓋膜，復包括離型層，係形成於該黏著劑層之表面上，使該黏著劑層位於該金屬層與離型層之間。
- 如申請專利範圍第1項所述之高反射性超薄覆蓋膜，其中，該高反射性超薄覆蓋膜之抗張強度係95MPa。
- 如申請專利範圍第1項所述之高反射性超薄覆蓋膜，其中，該高反射性超薄覆蓋膜之伸長率係5%。
- 如申請專利範圍第1項所述之高反射性超薄覆蓋膜，其中，該高反射性超薄覆蓋膜之彈性模量係3000MPa。
- 如申請專利範圍第1項所述之高反射性超薄覆蓋膜，其中，該高反射性超薄覆蓋膜之穿透率1%。
- 如申請專利範圍第1項所述之高反射性超薄覆蓋膜，其中，該高反射性超薄覆蓋膜之L*值為90至100，a*值及b*值各為-1至7。
- 如申請專利範圍第1項所述之高反射性超薄覆蓋膜，其中，該黏著劑層包括黏著劑，該黏著劑係選自環氧膠系黏著劑、壓克力膠系黏著劑或壓敏膠。
- 一種如申請專利範圍第1項所述之高反射性超薄覆蓋膜之製造方法，係包括：塗佈聚醯亞胺於光學膜的表面上，以形成該透明聚醯亞胺層；於該透明聚醯亞胺層的表面上形成該金屬層；塗佈黏著劑於離型層的表面上，以形成該黏著劑層；以及將該黏著劑層與該金屬層貼合，以得到該高反射性超薄覆蓋膜。
- 一種如申請專利範圍第1項所述之高反射性超薄覆蓋膜之製造方法，係包括：塗佈聚醯亞胺於光學膜的表面上，以形成該透明聚醯亞胺層；於該透明聚醯亞胺層的表面上形成該金屬層；塗佈黏著劑於該金屬層上，以形成黏著劑層；以及貼合離型層與該黏著劑層，以得到該高反射性超薄覆蓋膜。
- 如申請專利範圍第20或21項所述之高反射性超薄覆蓋膜之製造方法，其中，係以蒸鍍法或濺鍍法於該透明聚醯亞胺層的表面上形成該金屬層。
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