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TWI762494B - 顯示裝置及其製造方法 - Google Patents

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TWI762494B
TWI762494B TW106123680A TW106123680A TWI762494B TW I762494 B TWI762494 B TW I762494B TW 106123680 A TW106123680 A TW 106123680A TW 106123680 A TW106123680 A TW 106123680A TW I762494 B TWI762494 B TW I762494B
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layer
polarizer
color conversion
display device
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TW106123680A
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Inventor
金容奭
李大鎬
李俊翰
金泳敏
朴海日
Original Assignee
南韓商三星顯示器有限公司
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Priority claimed from KR1020160142119A external-priority patent/KR102835390B1/ko
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Abstract

一種顯示裝置包含：一顯示基板；一對置基板，與該顯示基板對置；以及一光量控制層，設置於該顯示基板與該對置基板之間。該顯示基板包含：一第一基板；一薄膜電晶體，設置於該第一基板上；以及一畫素電極，連接至該薄膜電晶體。該對置基板包含：一第二基板；一顏色轉換層，設置於該第二基板上；以及一第一偏振器，設置於該顏色轉換層上。該第一偏振器包含：一基底基板；以及一線性偏振器，設置於該基底基板之一個表面上。該第一偏振器與該畫素電極對置。該基底基板的上面設置有該線性偏振器之一個表面具有約60奈米或小於60奈米之一平整度。

Description

顯示裝置及其製造方法 [優先權聲明]
本申請案依據35 U.S.C.§119主張於2016年7月15日在韓國智慧財產局(Korean Intellectual Property Office；KIPO)提出申請之韓國專利申請案第10-2016-0090175號及於2016年10月28日在韓國智慧財產局(KIPO)提出申請之韓國專利申請案第10-2016-0142119號之優先權，該等韓國專利申請案之揭露內容以引用方式全文併入本文中。
本發明概念之實例性實施例係關於一種顯示裝置及一種製造該顯示裝置之方法，且更具體而言，係關於一種包含一顏色轉換層之顯示裝置及一種製造該顯示裝置之方法。
液晶顯示(liquid crystal display；「LCD」)裝置係為一種類型之平板顯示(flat panel display；FPD)裝置，其近來已得到廣泛應用。液晶顯示裝置通常包含二個基板及夾置於該二個基板間之一液晶層，該二個基板分別包含形成於其上之二個電極。
在對液晶顯示裝置中之二個電極施加電壓後，液晶層之液晶分子被重新排列，俾使透射光之一量可得以調整。此種液晶顯示裝置通常包含一彩色濾光器以表現顏色。
近來，正在研究其中以一螢光圖案代替在傳統液晶顯示裝置中使用之彩色濾光器之顯示裝置。包含此種螢光圖案之顯示裝置亦被稱為一光致發光顯示(photo-luminescent display；「PLD」)裝置。光致發光顯示裝置包含位於一顏色轉換層(color conversion layer)與一光量控制層(light amount control layer)間之一偏振器。
應理解，技術章節中之此先前技術旨在為理解該技術而提供有用之背景，且因此本文中所揭露之先前技術章節可包含並非屬於熟習相關技術者在本文中所揭露標的物之對應有效申請日期之前已知或瞭解之內容之一部分的想法、概念或認知。
本發明概念之實例性實施例可係關於一種包含具有一小厚度及優越平整度(flatness)之一偏振器之顯示裝置以及一種製造該顯示裝置之方法。
根據本發明概念之一實例性實施例，一種顯示裝置包含：一顯示基板；一對置基板(opposing substrate)，與該顯示基板對置；以及一光量控制層，設置於該顯示基板與該對置基板之間。該顯示基板包含：一第一基板；一薄膜電晶體，設置於該第一基板上；以及一畫素電極，連接至該薄膜電晶體。該對置基板包含：一第二基板；一顏色轉換層，設置於該第二基板上；以及一第一偏振器，設置於該顏色轉換層上。該第一偏振器包含：一基底基板；以及 一線性偏振器(linear polarizer)，設置於該基底基板之一個表面上。該第一偏振器與該畫素電極對置。該基底基板的上面設置有該線性偏振器之該一個表面具有約60奈米(nm)或小於60奈米之一平整度(flatness)。
該基底基板可具有介於自約0.8微米(μm)至約50微米範圍內之一厚度。
該基底基板可係為一塑膠基板。
該顯示裝置可更包含設置於該顏色轉換層與該基底基板間之一二向色性反射層(dichroic reflection layer)。
該顯示裝置可更包含設置於該第二基板與該顏色轉換層間之一黏著層(adhesion layer)。
該顯示裝置可更包含設置於該顏色轉換層與該第一偏振器間之一黏著層。
該線性偏振器可係為一線柵偏振器(wire grid polarizer；WGP)。
該線性偏振器可包含聚乙烯醇(polyvinyl alcohol；PVA)。
該顏色轉換層可包含一螢光素(fluorescent element)。
該顏色轉換層可包含複數個量子點(quantom dot)。
該顏色轉換層可包含：一紅色轉換部，包含一紅色螢光素；以及一綠色轉換部，包含一綠色螢光素。
該顯示裝置可更包含位於該紅色轉換部及該綠色轉換部上之一黃色濾光器。
該顯示裝置可更包含設置於該基底基板與該線性偏振器間之一鈍化層。
該顯示裝置可更包含設置於該顯示基板上之一第二偏振器。
該光量控制層可係為一液晶層。
該對置基板可更包含一光阻擋層。
該光阻擋層可設置於該基底基板與該第二基板之間。
該光阻擋層可設置於該基底基板與該光量控制層之間。
根據本發明概念之一實例性實施例，一種製造一顯示裝置之方法包含：形成一顯示基板；形成一第一偏振器；以及將該第一偏振器與該顯示基板設置成彼此對置。該形成一顯示基板之步驟包含：在一第一基板上形成一薄膜電晶體；以及在該第一基板上形成一畫素電極，該畫素電極連接至該薄膜電晶體。該形成一第一偏振器之步驟包含：在一載體基板上形成一基底基板；以及在該基底基板上形成一第一線性偏振器。該將該第一偏振器與該顯示基板設置成彼此對置之步驟包含：自該基底基板移除該載體基板。
該基底基板可係為一塑膠基板。
該基底基板可具有介於自約0.8微米至約50微米範圍內之一厚度。
該方法可更包含：在將該第一偏振器與該顯示基板設置成彼此對置之前，在該第一偏振器上設置一顏色轉換層。
該方法可更包含：在移除該載體基板之後，在該第一偏振器上設置一顏色轉換層。
根據本發明概念之一實例性實施例，一種製造一顯示裝置之方法包含：形成一顯示基板；在一載體基板上形成一第一偏振器；在該第一偏振器上形成一顏色轉換層；在該顏色轉換層上設置一第二基板；自該第一偏振器移 除該載體基板；在該第一偏振器上形成一共用電極(common electrode)，以形成一對置基板；以及將該對置基板設置成與該顯示基板對置。該形成一第一偏振器之步驟包含：在該載體基板上形成一基底基板；以及在該基底基板上形成一線性偏振器。
該基底基板可係為一塑膠基板。
該基底基板可具有介於自約0.8微米至約50微米範圍內之一厚度。
該形成一顯示基板之步驟可包含：在一第一基板上設置一薄膜電晶體；以及在該第一基板上形成一畫素電極，該畫素電極連接至該薄膜電晶體。
該方法可更包含：於在該第一偏振器上形成該顏色轉換層之前，在該第一偏振器上設置一二向色性反射層。
該方法可更包含：於在該第一偏振器上形成該二向色性反射層之前，在該第一偏振器上設置一第一鈍化層。
該方法可更包含：於在該基底基板上設置該線性偏振器之前，在該基底基板上設置一二向色性反射層。
該在該顏色轉換層上設置一第二基板之步驟可更包含：在該顏色轉換層與該第二基板之間設置一黏著層。
該形成一顏色轉換層之步驟可包含：在該第一偏振器上形成包含一紅色螢光素之一紅色轉換部及包含一綠色螢光素之一綠色轉換部。
該方法可更包含：在該紅色轉換部及該綠色轉換部上形成一黃色濾光器。
該形成一顏色轉換層之步驟可更包含：形成一光阻擋層。
根據本發明概念之一實例性實施例，一種製造一顯示裝置之方法包含：形成一顯示基板；在一載體基板上形成一第一偏振器；在該第一偏振器上形成一共用電極；將該共用電極設置成與該顯示基板對置；自該第一偏振器移除該載體基板；以及在一第二基板上形成一顏色轉換層，並將該顏色轉換層設置於該第一偏振器上。該形成一第一偏振器之步驟包含：在該載體基板上形成一基底基板；以及在該基底基板上形成一線性偏振器。
該方法可更包含：於在該第一偏振器上形成該共用電極之前，在該第一偏振器上設置一補償膜(compensation film)。
該在該第一偏振器上形成一顏色轉換層之步驟可更包含：在該顏色轉換層與該第一偏振器之間設置一黏著層。
該形成一顏色轉換層之步驟可更包含：在該第二基板上形成一光阻擋層。
該方法可更包含：在該顏色轉換層上形成一二向色性反射層。
根據本發明概念之一實例性實施例，一種製造一顯示裝置之方法包含：形成一顯示基板；在一載體基板上形成一基底基板；在該基底基板上形成一共用電極；將該共用電極設置成與該顯示基板對置；自該基底基板移除該載體基板；在藉由移除該載體基板而暴露出之該基底基板上設置一線性偏振器，以形成一第一偏振器；以及在一第二基板上形成一顏色轉換層，並將形成於該第二基板上之該顏色轉換層設置於該第一偏振器上。
根據本發明概念之一實例性實施例，一種顯示裝置包含：一顯示基板；一對置基板，與該顯示基板對置；以及一液晶層，設置於該顯示基板與該對置基板之間。該顯示基板包含：一第一基板；一薄膜電晶體，設置於該第 一基板上；以及一第一電極，連接至該薄膜電晶體。該對置基板包含：一第二基板；一顏色轉換層，設置於該第二基板上；一第一偏振器，設置於該顏色轉換層上；以及一第二電極，設置於該第一偏振器上。該顏色轉換層包含：一顏色轉換部；以及一緩衝層，與該顏色轉換部交疊。
該顏色轉換部可包含：一紅色轉換部；以及一綠色轉換部。
該顏色轉換部可包含複數個量子點。
該顏色轉換部可更包含一透射部。
該顯示裝置可更包含在一平面圖中設置於該紅色轉換部與該綠色轉換部間之一光阻擋層。
該光阻擋層可設置於該第二基板與該緩衝層之間。
該光阻擋層可設置於該緩衝層與該第一偏振器之間。
該顯示裝置可更包含設置於該第二電極與該第一偏振器間之一平坦化層(planarization layer)。
該光阻擋層可設置於該第一偏振器與該平坦化層之間。
該顯示裝置可更包含設置於該第二基板與該緩衝層間之一黃色濾光器。
該黃色濾光器可與該紅色轉換部及該綠色轉換部交疊。
該顏色轉換部可設置於該第二基板與該緩衝層之間。
該顏色轉換部可設置於該緩衝層與該第一偏振器之間。
該顯示裝置可更包含設置於該緩衝層與該第一偏振器間之一黏著層。
根據本發明概念之一實例性實施例，一種顯示裝置包含：一顯示基板；一對置基板，與該顯示基板對置；以及一液晶層，設置於該顯示基板與該對置基板之間。該顯示基板包含：一第一基板；一薄膜電晶體，位於該第一基板上；以及一第一電極，連接至該薄膜電晶體。該對置基板包含：一第二基板；一顏色轉換層，設置於該第二基板上；一第一偏振器，設置於該顏色轉換層上；以及一第二電極，設置於該第一偏振器上。該對置基板包含設置於該第二基板與該顏色轉換層間及/或該第一偏振器與該第二電極間之至少一個平坦化層。
上述內容僅係為例示性的，而並非旨在以任何方式進行限制。除以上所述之例示性態樣、實施例及特徵以外，藉由參照圖式及以下詳細說明，其他態樣、實施例及特徵將變得顯而易見。
101:顯示裝置
102:顯示裝置
103:顏色轉換基板
104:顯示裝置
105:顯示裝置
106:顯示裝置
107:顯示裝置
108:顯示裝置
109:顯示裝置
110:顯示基板
111:第一基板
115:歐姆接觸層
121:閘極絕緣層
131:保護層
210:對置基板
211:第二基板
230:顏色轉換層
231:第一顏色轉換部/顏色轉換部
232:第二顏色轉換部/顏色轉換部
233:透射部
235:黃色濾光器
239:堤部
280:黏著層
310:光量控制層/液晶層
330:顏色轉換層
331:顏色轉換部
332:緩衝層
410:背光單元
510:第一偏振器
511:基底基板
512:線性偏振器
512a:線性圖案
520:第二偏振器
521:第一鈍化層
531:第一鈍化層
532:第二鈍化層
535:絕緣平坦化層
535a:平坦化層/第一平坦化層
535b:第二平坦化層
541:二向色性反射層
550:載體基板
561:第一補償膜
562:第二補償膜
610:第一偏振器
611:基底基板
612:線性偏振器
613:第三補償膜
614:二向色性反射層
620:第一偏振器
630:第一偏振器
650:第二偏振器
651:聚乙烯醇層
652:光學補償膜
1010:顯示裝置
1011:顯示裝置
1012:顯示裝置
1013:顯示裝置
1014:顯示裝置
1015:顯示裝置
1016:顯示裝置
1017:顯示裝置
1018:顯示裝置
1019:顯示裝置
1020:顯示裝置
1021:顯示裝置
BM:光阻擋層
CE:共用電極
CH:接觸孔
DE:汲電極
DL:資料線
GE:閘電極
GL:閘極線
PE:畫素電極
PX1:第一畫素
PX2:第二畫素
SE:源電極
SM:半導體層
TFT:薄膜電晶體
I-I':線
II-II':線
藉由參照附圖詳細闡述本發明概念之實例性實施例，對本發明概念之更完整瞭解將變得更加顯而易見，其中：第1圖係為例示根據一第一實例性實施例之一顯示裝置之分解立體圖；第2圖係為例示第1圖所示顯示裝置之一畫素之平面圖；第3圖係為沿第2圖所示線I-I'所截取之剖視圖；第4A圖係為例示根據第一實例性實施例之一第一偏振器之立體圖，且第4B圖係為沿第4A圖所示線II-II'所截取之剖視圖；第5A圖、第5B圖、第5C圖、第5D圖、第5E圖、第5F圖、及第5G圖係為例示一種製造根據第一實例性實施例之顯示裝置之製程之剖視圖； 第6A圖係為例示根據一第二實例性實施例之一顯示裝置之剖視圖，且第6B圖係為例示製造第6A圖所示顯示裝置之一部分製程(partial process)之剖視圖；第7圖係為例示製造根據一第三實例性實施例之一顯示裝置之一部分製程之剖視圖；第8圖係為例示根據一第四實例性實施例之一顯示裝置之剖視圖；第9A圖、第9B圖、第9C圖、第9D圖、第9E圖、第9F圖、及第9G圖係為例示一種製造根據第四實例性實施例之顯示裝置之製程之剖視圖；第10A圖係為例示根據一第五實例性實施例之一顯示裝置之剖視圖，且第10B圖係為例示製造第10A圖所示顯示裝置之一部分製程之剖視圖；第11圖係為例示根據一第六實例性實施例之一顯示裝置之剖視圖；第12A圖、第12B圖、第12C圖、第12D圖、第12E圖、第12F圖、及第12G圖係為例示一種製造根據第六實例性實施例之顯示裝置之製程之剖視圖；第13A圖係為例示根據一第七實例性實施例之一顯示裝置之剖視圖，且第13B圖係為例示製造第13A圖所示顯示裝置之一部分製程之剖視圖；第14圖係為例示根據一第八實例性實施例之一顯示裝置之剖視圖；第15A圖、第15B圖、第15C圖、第15D圖、第15E圖、第15F圖、及第15G圖係為例示一種製造根據第八實例性實施例之顯示裝置之製程之剖視圖；第16A圖係為例示根據一第九實例性實施例之一顯示裝置之剖視圖，且第16B圖係為例示製造第16A圖所示顯示裝置之一部分製程之剖視圖；第17圖係為例示根據一第十實例性實施例之一顯示裝置之剖視圖；第18圖係為例示根據一第十一實例性實施例之一顯示裝置之剖視圖；第19圖係為例示根據一第十二實例性實施例之一顯示裝置之剖視圖； 第20A圖、第20B圖、第20C圖、第20D圖、第20E圖、第20F圖、第20G圖、第20H圖、及第20I圖係為例示一種製造根據第十二實例性實施例之顯示裝置之製程之剖視圖；第21圖係為例示根據一第十三實例性實施例之一顯示裝置之剖視圖；第22圖係為例示根據一第十四實例性實施例之一顯示裝置之剖視圖；第23圖係為例示根據一第十五實例性實施例之一顯示裝置之剖視圖；第24圖係為例示根據一第十六實例性實施例之一顯示裝置之剖視圖；第25圖係為例示根據一第十七實例性實施例之一顯示裝置之剖視圖；第26圖係為例示根據一第十八實例性實施例之一顯示裝置之剖視圖；第27圖係為例示根據一第十九實例性實施例之一顯示裝置之剖視圖；第28A圖、第28B圖、第28C圖、第28D圖、第28E圖、第28F圖、第28G圖、及第28H圖係為例示一種製造根據第十九實例性實施例之顯示裝置之製程之剖視圖；第29圖係為例示根據一第二十實例性實施例之一顯示裝置之剖視圖；第30A圖、第30B圖、第30C圖、第30D圖、第30E圖、第30F圖、及第30G圖係為例示一種製造根據第二十實例性實施例之顯示裝置之製程之剖視圖；第31A圖、第31B圖、第31C圖、第31D圖、第31E圖、第31F圖、第31G圖、及第31H圖係為例示一種製造根據第二十實例性實施例之顯示裝置之替代製程之剖視圖；第32圖係為例示根據一第二十一實例性實施例之一顯示裝置之剖視圖；第33A圖、第33B圖、第33C圖、第33D圖、第33E圖、及第33F圖係為例示一種製造根據第二十一實例性實施例之顯示裝置之製程之剖視圖；第34圖係為例示根據一第二十二實例性實施例之一顯示裝置之剖視圖； 第35圖係為例示根據一第二十三實例性實施例之一顯示裝置之剖視圖；以及第36圖係為例示根據一第二十四實例性實施例之一顯示裝置之剖視圖。
依據以下參照附圖詳細闡述之實例性實施例，將會使本發明概念之優點及特徵、以及用於達成該等優點及特徵之方法變得清楚。然而，本發明概念可實施為諸多不同形式，而不應被理解為僅限於本文中所述之實例性實施例。而是，提供此等實例性實施例係為了使本發明透徹及完整，且將向熟習此項技術者全面傳達本發明概念之範圍。本發明概念僅由申請專利範圍之範圍界定。因此，在實例性實施例中未詳細闡述眾所習知之構成元件、操作及技術，以防止使本發明概念被模糊不清地解釋。在本說明書通篇中，相同參考編號指代相同元件。
在圖式中，可以一放大方式或以一簡化方式例示某些元件或形狀，以更好地例示本發明概念，且亦可省略一實際產品中存在之其他元件。因此，圖式旨在促進對本發明概念之理解。
當將一層、區域、或板稱作「位於」另一層、區域、或板「上」時，該層、區域、或板可係直接位於該另一層、區域、或板上，或者其之間可存在中間層、區域、或板。相反地，當將一層、區域、或板稱作「直接位於」另一層、區域、或板「上」時，其之間可不存在中間層、區域、或板。此外，當將一層、區域、或板稱作位於另一層、區域、或板「下面」時，該層、區域、或板可係直接位於該另一層、區域、或板下面，或者其之間可存在中間層、區 域、或板。相反地，當將一層、區域、或板稱作「直接位於」另一層、區域、或板「下面」時，其之間可不存在中間層、區域、或板。
為易於說明，本文中可使用空間相對性用語「在...下面(below)」、「在...下方(beneath)」、「更小(less)」、「在...上方(above)」、「上部(upper)」等來闡述如圖式中所例示一個元件或組件與另一元件或組件間之關係。應理解，該等空間相對性用語旨在除圖式中所繪示之定向以外亦囊括裝置在使用或運作時之不同定向。舉例而言，在其中將一圖式中所示之一裝置翻轉之情形中，被定位成在另一裝置「下面」或「下方」之裝置可被放置成在另一裝置「上方」。因此，例示性用語「在...下面」可包含下部位置及上部位置二者。裝置亦可以另一方向來定向，且因此，可依據定向而不同地解釋該等空間相對性用語。
在本說明書通篇中，當將一元件稱作「連接至」另一元件時，該元件係「直接連接」至該另一元件，或係「電性連接」至該另一元件且其之間夾置有一或多個中間元件。更應理解，當在本說明書中使用用語「包含(comprise、comprising、include、及/或including)」時，係指明所陳述特徵、整數、步驟、操作、元件、及/或組件之存在，但不排除一或多個其他特徵、整數、步驟、操作、元件、組件、及/或其群組之存在或添加。
應理解，雖然本文中可使用用語「第一」、「第二」、「第三」等來闡述各種元件，但此等元件不應受此等用語限制。此等用語僅用於將一個元件與另一元件區分開。因此，下文所論述之「一第一元件」可稱為「一第二元件」或「一第三元件」，且「一第二元件」及「一第三元件」可具有相同稱謂，此並不背離本文之教示內容。
鑒於所討論之量測及與對特定數量之量測相關聯之誤差(即，量測系統之局限性)，本文中所使用之「約(about)」或「大約(approximately)」係包含所陳述值且意指對於該特定值而言處於如此項技術中具有通常知識者所確定之一可接受偏差範圍內。舉例而言，「約」可意指處於所陳述值之一或多個標準偏差以內、或±30%、20%、10%、5%以內。
除非另有定義，否則本文中所使用之所有用語(包含技術用語及科學用語)皆具有與本發明所屬技術中具有通常知識者通常所理解之含義相同的含義。更應理解，例如常用字典中所定義之用語等用語應被解釋為具有與其在相關技術之背景中之含義相一致之一含義，而不應被解釋為具有一理想化或過度形式化意義，除非本說明書中清楚地有所定義。
在下文中，將參照第1圖、第2圖、及第3圖詳細闡述一第一實例性實施例。
第1圖係為例示根據第一實例性實施例之一顯示裝置之分解立體圖。
參照第1圖，根據第一實例性實施例之顯示裝置包含依序設置之一背光單元410、一第二偏振器520、一顯示基板110、一光量控制層310、及一對置基板210。對置基板210包含一共用電極CE、一第一偏振器510、一顏色轉換層230、及一第二基板211。
背光單元410可發射紫外光、近紫外光等。舉例而言，背光單元410可向顯示基板110發射白色光或藍色光。在下文中，將關於包含發射藍色光之背光單元410之一顯示裝置來闡述第一實例性實施例。
第2圖係為例示第1圖所示顯示裝置之一畫素之平面圖，且第3圖係為沿第2圖所示線I-I'所截取之剖視圖。
如第2圖及第3圖中所例示，根據第一實例性實施例之顯示裝置101包含顯示基板110、與顯示基板110對置之對置基板210、以及設置於顯示基板110與對置基板210間之光量控制層310。
可使用能夠控制自背光單元410所提供之光之透射率之任何光量控制層作為光量控制層310。舉例而言，光量控制層310可係為一液晶層、一電潤濕層(electro-wetting layer)、及一電泳層(electrophoretic layer)其中之一。在下文中，舉例而言，光量控制層310係指一液晶層。在此種實例性實施例中，根據第一實例性實施例之顯示裝置101可被稱為一液晶顯示(「LCD」)裝置。
顯示基板110包含一第一基板111、一薄膜電晶體TFT、一畫素電極PE、一閘極絕緣層121、及一保護層131。薄膜電晶體TFT包含一半導體層SM、一歐姆接觸層115、一閘電極GE、一源電極SE、及一汲電極DE。
第一基板111包含透明材料，例如玻璃或塑膠。
複數個閘極線GL及閘電極GE設置於第一基板111上。閘極線GL與閘電極GE係成整體的。閘極線GL與閘電極GE係由一相同材料形成且被成型為單件式。閘極線GL及閘電極GE可包含以下其中之一或由以下其中之一形成：鋁(Al)或其合金、銀(Ag)或其合金、銅(Cu)或其合金、及/或鉬(Mo)或其合金、鉻(Cr)、鉭(Ta)、及鈦(Ti)。閘極線GL及閘電極GE至少其中之一可具有一多層式結構，該多層式結構包含至少二個具有不同物理性質之導電層。
閘極絕緣層121設置於第一基板111之一整個表面上，包含設置於閘極線GL及閘電極GE上。閘極絕緣層121可包含氮化矽(SiNx)或氧化矽(SiOx)。另外，閘極絕緣層121可具有一多層式結構，該多層式結構包含至少二個具有不同物理性質之絕緣層。
半導體層SM設置於閘極絕緣層121上。在此種實例性實施例中，半導體層SM與設置於閘極絕緣層121下面之閘電極GE交疊。半導體層SM可包含以下或由以下形成：非晶矽、多晶矽等。半導體層SM可包含氧化物半導體材料。
歐姆接觸層115設置於半導體層SM上。舉例而言，歐姆接觸層115設置於半導體層SM的除半導體層SM之一通道區域以外之一部分上。
另外，複數個資料線DL設置於閘極絕緣層121上。資料線DL與閘極線GL相交。源電極SE與資料線DL係成整體的。源電極SE與資料線DL係由一相同材料形成且被成型為單件式。源電極SE設置於歐姆接觸層115上。汲電極DE設置於歐姆接觸層115上且連接至畫素電極PE。
資料線DL、源電極SE、及汲電極DE至少其中之一可包含一耐火金屬(例如鉬、鉻、鉭、及鈦、或其一合金)或由該耐火金屬形成，且可具有包含一耐火金屬層及一低電阻導電層之一多層式結構。
保護層131設置於第一基板111之一整個表面上，包含設置於半導體層SM、資料線DL、源電極SE、及汲電極DE上。保護層131可包含一絕緣無機材料，例如氮化矽(SiNx)或氧化矽(SiOx)。在一替代實例性實施例中，保護層131可包含一有機層。在另一替代實例性實施例中，保護層131可具有包含一下部無機層及一上部有機層之一雙層式結構。
畫素電極PE設置於保護層131上。在此種實例性實施例中，畫素電極PE經由保護層131之一接觸孔CH連接至汲電極DE。畫素電極PE可包含一透明導電材料，例如氧化銦錫(indium tin oxide；ITO)或氧化銦鋅(indium zinc oxide；IZO)。
第二偏振器520設置於顯示基板110上。舉例而言，第二偏振器520可設置於第一基板111之一後表面上。
對置基板210包含第二基板211、顏色轉換層230、及第一偏振器510。根據第一實例性實施例，對置基板210可更包含一光阻擋層BM及一共用電極CE。
第二基板211包含透明材料，例如玻璃或塑膠。
光阻擋層BM設置於第二基板211上。光阻擋層BM具有複數個開孔。開孔係對應於第一畫素PX1及第二畫素PX2中之各該畫素電極PE而界定。光阻擋層BM在除開孔以外之一部分中阻擋光。舉例而言，光阻擋層BM設置於薄膜電晶體TFT、閘極線GL、及資料線DL上，因此阻擋透射過薄膜電晶體TFT、閘極線GL、及資料線DL之光以免向外發射出。
顏色轉換層230設置於與第一畫素PX1及第二畫素PX2對應之區上。舉例而言，顏色轉換層230可設置於光阻擋層BM的對應於畫素電極PE之開孔中。在此種實例性實施例中，顏色轉換層230之一邊緣部可設置於光阻擋層BM上以與光阻擋層BM交疊。
顏色轉換層230對自背光單元410入射之光之一波長進行轉換且發射具有一預定波長之光。
顏色轉換層230包含複數個顏色轉換部231及232。顏色轉換部231及232包含一螢光素(例如，一磷光體)，該螢光素吸收具有不同於該預定波長之一波長之光且發射具有該預定波長之光。顏色轉換部231及232可由光阻擋層BM分隔開。可省略光阻擋層BM。
舉例而言，顏色轉換部231及232包含一第一顏色轉換部231及一第二顏色轉換部232。舉例而言，第一顏色轉換部231可對應於一紅色畫素，且第二顏色轉換部232可對應於一綠色畫素。雖然圖中未例示，但顏色轉換層230可更包含一第三顏色轉換部。該第三顏色轉換部可對應於一藍色畫素。第一顏色轉換部231可包含一紅色磷光體，第二顏色轉換部232可包含一綠色磷光體，且第三顏色轉換部(圖中未例示)可包含一藍色磷光體。
另外，顏色轉換部231可包含一透射部。穿過透射部之光並不經歷波長改變。舉例而言，當背光單元410向顯示基板110發射藍色光時，透射部可對應於藍色畫素。
顏色轉換層230可包含一樹脂，該樹脂包含一螢光素。顏色轉換層230可更包含一反射元件。螢光素係為一種在以光、輻射光等輻照時會發射螢光且所發射光具有對應螢光素之一本質顏色(intrinsic color)之材料。另外，螢光素沿所有方向發射光，而不論發射至該螢光素之光之一傳播方向如何。舉例而言，該反射元件可包含TiO2。該反射元件可具有一粒形，且可分散於包含螢光素之樹脂中。
顏色轉換層230中所包含之螢光素之一實例可包含複數個量子點。量子點吸收入射至量子點之光，並發射波長與入射光之波長不同之光。亦即，量子點係為一種可對入射至量子點之一光波長進行轉換之波長轉換粒子。自一 量子點發射之光之一波長範圍可基於該量子點之大小而變化。舉例而言，藉由調整量子點之一直徑，該量子點可發射具有一所需顏色之光。
與其他螢光染料之消光係數及量子產率相較，量子點具有一高消光係數及一高量子產率，因此發射具有顯著強度之螢光。具體而言，量子點可吸收具有一短波長之光，且然後可發射具有一更長波長之光。
量子點可具有包含一核心奈米晶體(core nanocrystal)及環繞該核心奈米晶體之一殼層奈米晶體(shell nanocrystal)之一結構。另外，量子點可包含鍵結至殼層奈米晶體之一有機配位體，且可包含環繞殼層奈米晶體之一有機塗層。
殼層奈米晶體可具有二或更多個層。殼層奈米晶體設置於核心奈米晶體之一表面上。
量子點可包含以下中之至少一種物質：II族化合物半導體、III族化合物半導體、V族化合物半導體、及VI族化合物半導體。舉例而言，形成量子點之核心奈米晶體可包含以下至少其中之一：PbSe、InAs、PbS、CdSe、InGaP、CdTe、CdS、ZnSe、ZnTe、ZnS、HgTe、或HgS。此外，殼層奈米晶體可包含以下至少其中之一：CuZnS、CdSe、CdTe、CdS、ZnSe、ZnTe、ZnS、HgTe、及HgS。
舉例而言，在其中一核心奈米晶體包含CdSe之一情形中，當一量子點之一直徑處於約1奈米(nm)至約3奈米之一範圍中時，可發射藍色光，當量子點之直徑處於約3奈米至約5奈米之一範圍中時，可發射綠色光，且當量子點之直徑處於約7奈米至約10奈米之一範圍中時，可發射紅色光。
可藉由一種濕式化學法(wet-chemical method)來形成量子點。濕式化學法係指一種將前體材料放入至有機溶劑中俾使粒子可生長之方法。
顏色轉換層230可包含一量子棒(quantum rod)，而非量子點粒子。
就第二基板211而言，第一偏振器510設置於顏色轉換層230上。第一偏振器510較顏色轉換層230更鄰近光量控制層310設置。亦即，參照第3圖，第一偏振器510設置於顏色轉換層230下面。其中，顏色轉換層230之第一顏色轉換部231之一第一邊緣(如第3圖中第一顏色轉換部231之右側邊緣)可與第一線性偏振器510交疊，顏色轉換層230之第一顏色轉換部231之第二邊緣(如第3圖中第一顏色轉換部231之左側邊緣)可不與線性偏振器510交疊。第一偏振器510之一透射軸線與第二偏振器520之一透射軸線可彼此正交，且該等透射軸線其中之一平行於閘極線GL。
就第二基板211而言，共用電極CE設置於第一偏振器510上。舉例而言，共用電極CE可設置於第二基板211之一整個表面上，包含設置於第一偏振器510上。共用電極CE可包含一透明導電材料，例如氧化銦錫或氧化銦鋅。
共用電極CE連同畫素電極PE一起在光量控制層310上施加一電場。因此，會在共用電極CE與畫素電極PE間之一液晶層上產生一電場。
第4A圖係為例示根據第一實例性實施例之顯示裝置101之第一偏振器510之立體圖，且第4B圖係為沿第4A圖所示線II-II'所截取之剖視圖。
第一偏振器510包含一基底基板511及位於基底基板511上之一線性偏振器512。
基底基板511可包含具有優越透射率、耐熱性及耐化學性之一材料。舉例而言，基底基板511可包含一塑膠基板，該塑膠基板包含具有優越光透射率之以下材料其中之一：聚醯胺(polyamide)、聚醯亞胺(polyimide)、聚萘二甲酸乙二酯(polyethylene naphthalate)、聚對苯二甲酸乙二酯(polyethylene terephthalate)、及聚丙烯醯基(polyacryl)。
雖然圖中未例示，但基底基板511上可設置有一緩衝層。該緩衝層用以防止不利之材料或不必要之物質滲入至線性偏振器512中且用以將該緩衝層下面之一表面平坦化。該緩衝層可包含選自各種有機層及無機層之至少一個層。舉例而言，該緩衝層可包含一個無機層或一個有機層，或者可具有其中堆疊有一有機層及一無機層之一結構。然而，可省略該緩衝層。
線性偏振器512包含設置於基底基板511上且彼此平行之複數個線性圖案512a。線性圖案512a各自具有沿一個方向延伸之一直線形狀，各自具有一預定寬度且彼此間隔開一預定距離。
線性圖案512a可包含一金屬。具有包含金屬之複數個線性圖案512a之一線性偏振器512可被稱為一線柵偏振器(wire grid polarizer；「WGP」)。根據第一實例性實施例之線性偏振器512係為一線柵偏振器。
線性圖案512a可包含以下至少其中之一：鋁(Al)、金(Au)、銀(Ag)、銅(Cu)、鉻(Cr)、鐵(Fe)、及/或鎳(Ni)。
可藉由一使用一模具進行之壓印方法(imprinting method)及一光微影方法(photolithography method)來形成線性偏振器512，但第一實例性實施例並非僅限於此。可使用一嵌段共聚物來形成線性偏振器512。
由於線性圖案512a係顯著細及均勻的，因而線性偏振器512在設置於具有優越平整度之基底基板511上時可具有優越偏振效率。舉例而言，基底基板511具有面朝線性偏振器512之一表面，其中該基底基板511之表面具有優越平整度。
基底基板511之平整度可基於該表面相對於一基準面之最大偏差而定義。另一選擇為，基底基板511之平整度可基於該表面相對於一基準面之平均偏差而定義。
該基準面可由一最小區域基準法(minimum zone reference method)或一最小平方基準面法(least squares reference plane method)而定義。
根據第一實例性實施例，線性偏振器512可形成於一載體基板550(參照第5B圖)上。在此種實例性實施例中，由於基底基板511由載體基板550支撐，因而基底基板511可具有優越平整度。
根據第一實例性實施例，基底基板511可具有約60奈米或小於60奈米之一平整度。亦即，基底基板511之一不均勻部分之一高度可係為約60奈米或小於60奈米。舉例而言，基底基板511可具有介於自約10奈米至約60奈米範圍內之一平整度。因此，根據第一實例性實施例之第一偏振器510可具有優越偏振效率。
另外，根據第一實例性實施例，由於載體基板550在製造線性偏振器512之一製程中支撐基底基板511，因而線性偏振器512可設置於具有一相對小厚度之基底基板511上。
舉例而言，根據第一實例性實施例，基底基板511可具有介於自約0.8微米至約50微米範圍內之一厚度。
因此，由於基底基板511具有一小厚度，因而畫素電極PE與顏色轉換層230可在其之間維持一小距離。因此，可防止因畫素電極PE與顏色轉換層230間之一大距離而可能發生顏色混合。因此，根據第一實例性實施例之顯示裝置101可具有優越顯示性質。
根據第一實例性實施例，可在第一偏振器510上設置一第一鈍化層531，然後可在第一鈍化層531上形成顏色轉換層230，且然後可將第二基板211附裝至顏色轉換層230。在此種實例性實施例中，可在顏色轉換層230與第二基板211之間設置一黏著層280。黏著層280可係為具有一光透射率之一光學透明黏著劑(optically clear adhesive；OCA)。
在下文中，將參照第5A圖、第5B圖、第5C圖、第5D圖、第5E圖、第5F圖、及第5G圖來闡述一種製造根據第一實例性實施例之顯示裝置101之方法。第5A圖、第5B圖、第5C圖、第5D圖、第5E圖、第5F圖、及第5G圖係為例示一種製造根據第一實例性實施例之顯示裝置101之製程之剖視圖。
首先，如第5A圖中所例示，製造顯示基板110。
為形成顯示基板110，在第一基板111上形成閘電極GE及閘極線GL，且在第一基板111上設置閘極絕緣層121。
隨後，在閘極絕緣層121上設置半導體層SM，且在半導體層SM上設置歐姆接觸層115。
另外，在閘極絕緣層121上設置資料線DL、源電極SE、及汲電極DE。
在第一基板111之一整個表面上、包含在半導體層SM、資料線DL、源電極SE、及汲電極DE上設置保護層131。在保護層131上設置畫素電極PE。畫素電極PE經由保護層131之接觸孔CH連接至汲電極DE。
參照第5B圖，在載體基板550上形成第一偏振器510。
為形成第一偏振器510，在載體基板550上設置基底基板511。
舉例而言，可在載體基板550上塗覆一高分子量樹脂且然後使該高分子量樹脂固化，進而可形成基底基板511。
在一替代實例性實施例中，可在載體基板550上設置包含一塑膠基板之一基底基板511。該塑膠基板可係為包含以下其中之一的一透明基板：聚醯胺、聚醯亞胺、聚萘二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸乙二酯、及聚丙烯醯基。在此種實例性實施例中，可使用一黏著劑(圖中未顯示)將基底基板511固定至載體基板550。
根據第一實例性實施例，由於基底基板511由載體基板550支撐，因而基底基板511可具有優越平整度。舉例而言，基底基板511可具有約60奈米或小於60奈米之一平整度。
在由載體基板550支撐時，具有一小厚度之基底基板511可具有充足強度。因此，可使用具有介於自約0.8微米至約50微米範圍內之一小厚度之一基底基板。
在具有一小厚度之基底基板511上形成線性偏振器512。線性偏振器512可包含以下至少其中之一：鋁(Al)、金(Au)、銀(Ag)、銅(Cu)、鉻(Cr)、鐵(Fe)、及/或鎳(Ni)。為形成線性偏振器512，可採用例如壓印及光微影等方法。
參照第5C圖，在線性偏振器512上設置第一鈍化層531，且在第一鈍化層531上設置光阻擋層BM及顏色轉換層230。
第一鈍化層531保護線性偏振器512且防止不利之材料滲入至線性偏振器512中。
顏色轉換層230包含第一顏色轉換部231及第二顏色轉換部232。第一顏色轉換部231及第二顏色轉換部232其中之每一者可係為一紅色轉換部及一綠色轉換部其中之一。
雖然圖中未例示，但當背光單元410向顯示基板110發射藍色光時，顏色轉換層230可包含一第三顏色轉換部，即藍色轉換部，該第三顏色轉換部包含一透射部。
參照第5D圖，在顏色轉換層230上設置第二基板211。為將第二基板211附裝至顏色轉換層230，在第二基板211與顏色轉換層230之間設置黏著層280。黏著層280可係為具有一光透射率之一光學透明黏著劑(OCA)。
參照第5E圖，移除載體基板550。欲移除之載體基板550係自第一偏振器510之基底基板511拆下。
為自基底基板511拆下載體基板550，可向其輻照雷射。藉由雷射輻照，基底基板511與載體基板550間之黏著性劣化，俾使載體基板550可自基底基板511拆下。
參照第5F圖，在第一偏振器510之基底基板511上設置共用電極CE。雖然圖中未例示，但為維持基底基板511之平整度，可在於基底基板511上設置一平坦化層之後在該平坦化層上設置共用電極CE。該平坦化層可例如包 含一有機層，且可具有約50微米或小於50微米之一厚度。在此種實例性實施例中，該平坦化層可設置於基底基板511之一整個表面上。
可藉由相關技術中已知之方法來形成共用電極CE。因此，可提供對置基板210。
參照第5G圖，將在第5F圖所例示之一製程中製造之對置基板210設置成與顯示基板110對置，且在對置基板210與顯示基板110之間設置作為光量控制層310之一液晶層。在一實例性實施例中，可在顯示基板110上設置作為光量控制層310之液晶層，且然後可在該液晶層上設置對置基板210。
隨後，在顯示基板110上設置第二偏振器520。舉例而言，第二偏振器520可設置於第一基板111之一後表面上。舉例而言，第二偏振器520可係為包含聚乙烯醇(PVA)之一線性偏振器。另外，雖然圖中未例示，但可在第二偏振器520上設置一補償膜。舉例而言，該補償膜可係為一視角補償膜(viewing angle compensation film)或一延遲膜(retardation film)。該延遲膜可係為一四分之一波片(quarter-wave plate)或一半波片(half-wave plate)至少其中之一。
在下文中，將參照第6A圖及第6B圖來闡述一第二實例性實施例。在下文中，為避免重複，將省略與在上文中所述之配置相關之說明。
第6A圖係為例示根據第二實例性實施例之一顯示裝置102之剖視圖，且第6B圖係為例示製造第6A圖所示顯示裝置102之一部分製程之剖視圖。
根據第二實例性實施例之顯示裝置102具有與根據第一實例性實施例之顯示裝置101之結構實質上相同之一結構，只不過在一第一偏振器510與一顏色轉換層230之間設置有一二向色性反射層541。
參照第6B圖，於在一線性偏振器512上設置一第一鈍化層531之後且於在第一鈍化層531上設置一光阻擋層BM及顏色轉換層230之前，可在第一鈍化層531上設置二向色性反射層541，且然後可在二向色性反射層541上設置光阻擋層BM及顏色轉換層230，進而可提供根據第二實例性實施例之顯示裝置102。
另外，參照第6A圖及第6B圖，在一基底基板511與線性偏振器512之間設置有一第二鈍化層532。類似於一緩衝層，第二鈍化層532用以防止不利之材料或不必要之物質滲入至線性偏振器512中且用以將基底基板511之一表面平坦化。第二鈍化層532可包含選自各種有機層及無機層之至少一個層。然而，可省略第二鈍化層532。
二向色性反射層541包含一二向色性濾光器。二向色性濾光器係為一種使入射光中具有一預定波長之光透射且使具有另一波長之光反射之濾光器。
在其中自背光單元410入射之光係為藍色光之一情形中，可利用二向色性反射層541來使藍色光透射且使除藍色光以外之光反射。在此種實例性實施例中，自背光單元410入射之光透射過二向色性反射層541。然而，已由顏色轉換層230在波長上轉換之紅色光及綠色光自二向色性反射層541反射。因此，二向色性反射層541亦被稱為一黃色濾光器YRF。
舉例而言，由於自顏色轉換層230朝光量控制層發射之紅色光及綠色光係自二向色性反射層541朝第二基板211反射，因而根據第二實例性實施例之顯示裝置102之光效率可得以改良。
二向色性反射層541包含交替堆疊之複數個高折射率層及複數個低折射率層。由於因該等高折射率層與該等低折射率層間之界面引起一多層干涉現象，因而二向色性反射層541可達成選擇性光透射率。低折射率層可包含MgF2及SiO2至少其中之一，且高折射率層可包含Ag、TiO2、Ti2O3、及Ta2O3至少其中之一，但實例性實施例並非僅限於此。各該層之一厚度可被設計成處於透射光之一波長之約1/8至約1/2之一範圍中。
可基於二向色性反射層541中所包含之各該層之一結構來調整透射光之一波長及反射光之一波長。
在下文中，將參照第7圖來闡述一第三實例性實施例。
第7圖係為例示製造根據一第三實例性實施例之一顯示裝置之一部分製程之剖視圖。詳細而言，第7圖例示包含形成於一載體基板550上之一第一偏振器510及一顏色轉換層230之一顏色轉換基板103。
根據第三實例性實施例，顏色轉換層230包含作為一紅色轉換部之一第一顏色轉換部231、作為一綠色轉換部之一第二顏色轉換部232、以及使藍色光透射之一透射部233。另外，顏色轉換層230包含位於第一顏色轉換部231及第二顏色轉換部232上之一黃色濾光器235。黃色濾光器235吸收藍色光且使紅色光及綠色光透射。
根據第三實例性實施例，自一背光單元410發射之藍色光入射至顏色轉換層230。在入射至第一顏色轉換部231之藍色光中，已被轉換成紅色光 之光透射過黃色濾光器235，且未被轉換成紅色光之藍色光由黃色濾光器235吸收。另外，在入射至第二顏色轉換部232之藍色光中，已被轉換成綠色光之光透射過黃色濾光器235，且未被轉換成綠色光之藍色光由黃色濾光器235吸收。因此，可分別在一紅色畫素及一綠色畫素中實現不同顏色，即紅色及綠色，俾使顯示裝置之顯示品質可得以改良。
在下文中，將參照第8圖、第9A圖、第9B圖、第9C圖、第9D圖、第9E圖、第9F圖、及第9G圖來闡述一第四實例性實施例。
第8圖係為例示根據第四實例性實施例之一顯示裝置104之剖視圖。
根據第四實例性實施例之顯示裝置104包含位於一第一偏振器510與一顏色轉換層230間之一黏著層280。
另外，根據第四實例性實施例，一共用電極CE設置於第一偏振器510之線性偏振器512上。在此種實例性實施例中，一第一鈍化層531設置於線性偏振器512與共用電極CE之間。
在下文中，將參照第9A圖、第9B圖、第9C圖、第9D圖、第9E圖、第9F圖、及第9G圖來闡述一種製造根據第四實例性實施例之顯示裝置104之方法。第9A圖、第9B圖、第9C圖、第9D圖、第9E圖、第9F圖、及第9G圖係為例示一種製造根據第四實例性實施例之顯示裝置104之製程之剖視圖。
首先，如第9A圖中所例示，製造一顯示基板110。
隨後，參照第9B圖，在一載體基板550上形成第一偏振器510。為形成第一偏振器510，在載體基板550上設置一基底基板511，且在基底基板 511上設置線性偏振器512。根據第四實例性實施例之線性偏振器512係為一線柵偏振器。
參照第9C圖，在線性偏振器512上設置第一鈍化層531，且在第一鈍化層531上設置共用電極CE。第一鈍化層531保護線性偏振器512且防止不利之材料滲入至線性偏振器512中。
參照第9D圖，將第一偏振器510上之共用電極CE設置成與顯示基板110對置，且在共用電極CE與顯示基板110之間設置作為一光量控制層310之一液晶層。
參照第9E圖，移除載體基板550。欲移除之載體基板550係自第一偏振器510之基底基板511拆下。
參照第9F圖，在一第二基板211上形成一光阻擋層BM及顏色轉換層230。顏色轉換層230包含一第一顏色轉換部231及一第二顏色轉換部232。第一顏色轉換部231及第二顏色轉換部232其中之每一者可係為一紅色轉換部、一綠色轉換部、及一藍色轉換部其中之一。
參照第9G圖，在第一偏振器510上設置顏色轉換層230連同第二基板211。為將顏色轉換層230附裝至第一偏振器510，在第一偏振器510與顏色轉換層230之間設置一黏著層280。黏著層280可係為具有一光透射率之一光學透明黏著劑(OCA)。
隨後，在顯示基板110上設置一第二偏振器520，進而可提供根據第四實例性實施例之顯示裝置104。
在下文中，將參照第10A圖及第10B圖來闡述一第五實例性實施例。
第10A圖係為例示根據第五實例性實施例之一顯示裝置105之剖視圖，且第10B圖係為例示製造第10A圖所示顯示裝置105之一部分製程之剖視圖。
根據第五實例性實施例之顯示裝置105具有與根據第四實例性實施例之顯示裝置104之結構實質上相同之一結構，只不過一第一偏振器510與一共用電極CE之間設置有一第一補償膜561且一第二偏振器520與一第一基板111之間設置有一第二補償膜562。
參照第10B圖，於在第一偏振器510(參照第9C圖)上設置一第一鈍化層531之後且於在第一鈍化層531上設置共用電極CE之前，可在第一鈍化層531上設置第一補償膜561。另外，於在第一基板111之另一表面上設置第二偏振器520之前，可在第一基板111上設置第二補償膜562。
可省略第一補償膜561及第二補償膜562其中之一。
舉例而言，第一補償膜561及第二補償膜562其中之一可係為一視角補償膜或一延遲膜。第一補償膜561與第二補償膜562可彼此實質上相同或不同。
在下文中，將參照第11圖、第12A圖、第12B圖、第12C圖、第12D圖、第12E圖、第12F圖、及第12G圖來闡述一第六實例性實施例。
第11圖係為例示根據第六實例性實施例之一顯示裝置106之剖視圖。
根據第六實例性實施例，一第一偏振器610包含一基底基板611及一線性偏振器612，基底基板611包含一塑膠基板，線性偏振器612具有一膜形狀。舉例而言，根據第六實例性實施例，線性偏振器612可包含聚乙烯醇(PVA)。 舉例而言，可藉由將聚乙烯醇(PVA)伸長(elongation)或染色(dyeing)來形成線性偏振器612。
另外，根據第六實例性實施例，第一偏振器610與一顏色轉換層230之間設置有一黏著層280，且第一偏振器610之基底基板611上設置有一共用電極CE。
在下文中，將參照第12A圖、第12B圖、第12C圖、第12D圖、第12E圖、第12F圖、及第12G圖來闡述一種製造根據第六實例性實施例之顯示裝置106之方法。第12A圖、第12B圖、第12C圖、第12D圖、第12E圖、第12F圖、及第12G圖係為例示一種製造根據第六實例性實施例之顯示裝置106之製程之剖視圖。
首先，如第12A圖中所例示，製造一顯示基板110。
隨後，參照第12B圖，在一載體基板550上設置第一偏振器610之基底基板611，且在基底基板611上設置共用電極CE。
參照第12C圖，將共用電極CE設置成與顯示基板110對置，且在共用電極CE與顯示基板110之間設置作為一光量控制層310之一液晶層。
參照第12D圖，移除載體基板550。欲移除之載體基板550係自基底基板611拆下。
參照第12E圖，在基底基板611上設置線性偏振器612。線性偏振器612可係為包含聚乙烯醇(PVA)的具有一膜形狀之一線性偏振器。
參照第12F圖，在一第二基板211上形成一光阻擋層BM及顏色轉換層230。顏色轉換層230包含一第一顏色轉換部231及一第二顏色轉換部232。
參照第12G圖，在第一偏振器610上設置包含顏色轉換層230之第二基板211。為將顏色轉換層230附裝至第一偏振器610，在第一偏振器610與顏色轉換層230之間設置一黏著層280。黏著層280可係為具有一光透射率之一光學透明黏著劑(OCA)。
隨後，在顯示基板110上設置一第二偏振器520，進而提供根據第六實例性實施例之顯示裝置106。
在下文中，將參照第13A圖及第13B圖闡述一第七實例性實施例。
第13A圖係為例示根據第七實例性實施例之一顯示裝置107之剖視圖，且第13B圖係為例示製造第13A圖所示顯示裝置107之一部分製程之剖視圖。
根據第七實例性實施例之顯示裝置107包含位於一基底基板611與一線性偏振器612間之一第三補償膜613。舉例而言，第三補償膜613可係為一視角補償膜或一延遲膜。
根據第七實例性實施例，其中依序堆疊有基底基板611、第三補償膜613及線性偏振器612之一堆疊膜被稱為一第一偏振器620。
參照第13B圖，於在基底基板611上設置線性偏振器612之製程(參照第12E圖)中，可在基底基板611上設置第三補償膜613，且然後可在第三補償膜613上設置線性偏振器612。因此，可提供包含依序堆疊之基底基板611、第三補償膜613及線性偏振器612之第一偏振器620。
在下文中，將參照第14圖、第15A圖、第15B圖、第15C圖、第15D圖、第15E圖、第15F圖、及第15G圖來闡述一第八實例性實施例。
第14圖係為例示根據一第八實例性實施例之一顯示裝置108之剖視圖。根據第八實例性實施例，一基底基板611與一線性偏振器612之間設置有一二向色性反射層614。根據第八實例性實施例，包含依序堆疊之基底基板611、二向色性反射層614及線性偏振器612之一堆疊膜被稱為一第一偏振器630。
在下文中，將參照第15A圖、第15B圖、第15C圖、第15D圖、第15E圖、第15F圖、及第15G圖來闡述一種製造根據第八實例性實施例之顯示裝置108之方法。第15A圖、第15B圖、第15C圖、第15D圖、第15E圖、第15F圖、及第15G圖係為例示一種製造根據第八實例性實施例之顯示裝置108之製程之剖視圖。
首先，如第15A圖中所例示，製造一顯示基板110。
隨後，參照第15B圖，在一載體基板550上設置基底基板611，在基底基板611上設置二向色性反射層614，且在二向色性反射層614上設置線性偏振器612，進而提供第一偏振器630。
參照第15C圖，在一第二基板211上形成一光阻擋層BM及一顏色轉換層230。顏色轉換層230包含一第一顏色轉換部231及一第二顏色轉換部232。
參照第15D圖，在第一偏振器630上設置包含顏色轉換層230之第二基板211。為將顏色轉換層230附裝至第一偏振器630，在第一偏振器630與顏色轉換層230之間設置一黏著層280。黏著層280可係為具有一光透射率之一光學透明黏著劑(OCA)。
參照第15E圖，移除載體基板550。欲移除之載體基板550係自基底基板611拆下。
參照第15F圖，在基底基板611上形成一共用電極CE。
雖然圖中未例示，但可在基底基板611上設置一緩衝層。該緩衝層用於防止不利之材料或不必要之物質滲入且用於將基底基板611之一表面平坦化。該緩衝層可包含選自各種有機層及無機層之至少一個層。在此種實例性實施例中，可在緩衝層上形成共用電極CE。
參照第15G圖，將在第15F圖所示製程中製造之一對置基板210設置成與顯示基板110對置，且在對置基板210與顯示基板110之間設置作為一光量控制層310之一液晶層。
隨後，在顯示基板110上設置一第二偏振器520，進而提供第14圖所示顯示裝置108。
在下文中，將參照第16A圖及第16B圖來闡述一第九實例性實施例。
第16A圖係為例示根據第九實例性實施例之一顯示裝置109之剖視圖，且第16B圖係為例示製造第16A圖所示顯示裝置109之一部分製程之剖視圖。
根據第九實例性實施例之顯示裝置109包含設置於一基底基板611與一線性偏振器612間之一二向色性反射層614及一第三補償膜613。舉例而言，第三補償膜613可係為一視角補償膜或一延遲膜。
參照第16B圖，於在一載體基板550上設置基底基板611、二向色性反射層614及線性偏振器612之製程(參照第15C圖)中，可在基底基板 611上設置二向色性反射層614，可在二向色性反射層614上設置第三補償膜613，且然後可在第三補償膜613上設置線性偏振器612。因此，可依序堆疊基底基板611、二向色性反射層614、第三補償膜613、及線性偏振器612。
第17圖係為例示根據一第十實例性實施例之一顯示裝置1010之剖視圖。
根據第十實例性實施例之顯示裝置1010包含相對於一第一偏振器510與一顏色轉換層230相對之一光阻擋層BM。
根據第十實例性實施例，第一偏振器510之一基底基板511上設置有光阻擋層BM，光阻擋層BM上設置有一絕緣平坦化層535，且絕緣平坦化層535上設置有一共用電極CE。因此，顏色轉換層230與光阻擋層BM可設置於不同層上。
第18圖係為例示根據一第十一實例性實施例之一顯示裝置1011之剖視圖。
與根據第十實例性實施例之顯示裝置1010相較，根據第十一實例性實施例之顯示裝置1011更包含一二向色性反射層541及一第二鈍化層532。
二向色性反射層541使入射光中具有一預定波長之光透射且使具有另一波長之光反射。根據第十一實例性實施例，二向色性反射層541設置於顏色轉換層230下面。自一背光單元410入射之光透射過二向色性反射層541，但具有由顏色轉換層230轉換之波長之紅色光及綠色光在二向色性反射層541處反射。
一基底基板511與一線性偏振器512之間設置有第二鈍化層532。第二鈍化層532防止不利之材料或不必要之物質滲入至線性偏振器512中且將基底基板511之一表面平坦化。
另外，參照第18圖，一第一顏色轉換部231與一第二顏色轉換部232可彼此交疊。
第19圖係為例示根據一第十二實例性實施例之一顯示裝置1012之剖視圖。
根據第十二實例性實施例之顯示裝置1012包含位於一第一顏色轉換部231與一第二顏色轉換部232間之一堤部(bank)239。堤部239用於分隔第一顏色轉換部231與第二顏色轉換部232，且用於阻擋光。
光阻擋主要由一光阻擋層BM執行，且因此堤部239可具有較光阻擋層BM之一寬度小之一寬度。另外，堤部239可防止在第一顏色轉換部231與第二顏色轉換部232之間發生顏色混合。
參照第19圖，堤部239被設置成與光阻擋層BM交疊。舉例而言，堤部239可被設置成與一資料線DL交疊。雖然圖中未例示，但堤部239可設置於一第三顏色轉換部(圖中未例示)與第一顏色轉換部231之間及一第三顏色轉換部(圖中未例示)與第二顏色轉換部232之間。
第20A圖、第20B圖、第20C圖、第20D圖、第20E圖、第20F圖、第20G圖、第20H圖、及第20I圖係為例示一種製造根據第十二實例性實施例之顯示裝置1012之製程之剖視圖。
首先，如第20A圖中所例示，製造一顯示基板110。
參照第20B圖，在一載體基板550上形成一第一偏振器510。
為形成第一偏振器510，在載體基板550上設置一基底基板511。隨後，在基底基板511上設置一第二鈍化層532，且在第二鈍化層532上設置一線性偏振器512。
參照第20C圖，在線性偏振器512上設置一第一鈍化層531，且在第一鈍化層531上設置一二向色性反射層541。
參照第20D圖，在二向色性反射層541上設置一顏色轉換層230。
顏色轉換層230包含第一顏色轉換部231及第二顏色轉換部232。第一顏色轉換部231及第二顏色轉換部232其中之每一者可係為一紅色轉換部、一綠色轉換部及一藍色轉換部其中之一。雖然圖中未例示，但顏色轉換層230可包含一第三顏色轉換部且可包含一透射部。
另外，顏色轉換層230包含堤部239。堤部239在顏色轉換部231與232中界定一邊界，且第一顏色轉換部231及第二顏色轉換部232其中之每一者設置於由堤部239界定之一區域中。
參照第20E圖，在顏色轉換層230上設置一第二基板211。為將第二基板211附裝至顏色轉換層230，在第二基板211與顏色轉換層230之間設置一黏著層280。黏著層280具有一光透射率。
參照第20F圖，移除載體基板550。欲移除之載體基板550係自基底基板511拆下。
參照第20G圖，在基底基板511上設置光阻擋層BM。光阻擋層BM被設置成相對於基底基板511與線性偏振器512相對。在下文中，基底基板511之各表面中與第一偏振器510相對之一者被稱為基底基板511之一後表面。
參照第20H圖，在光阻擋層BM上設置一絕緣平坦化層535，且在絕緣平坦化層535上設置一共用電極CE。
絕緣平坦化層535可改良基底基板511之後表面之平整度。絕緣平坦化層535可例如包含一有機層，且可具有約50微米或小於50微米之一厚度。絕緣平坦化層535可設置於基底基板511之一整個表面上。
可以相關技術中已知之方法來提供共用電極CE。因此，可提供對置基板210。
參照第20I圖，將在第20H圖所示製程中製造之一對置基板210設置成與顯示基板110對置，且在對置基板210與顯示基板110之間設置作為一光量控制層310之一液晶層。
隨後，在顯示基板110上設置一第二偏振器520。舉例而言，可在第一基板111之一後表面上設置第二偏振器520。舉例而言，第二偏振器520可係為包含聚乙烯醇(PVA)之一線性偏振器。另外，雖然圖中未例示，但可在第二偏振器520上設置一補償膜。
第21圖係為例示根據一第十三實例性實施例之一顯示裝置1013之剖視圖。
與根據第二實例性實施例之顯示裝置102相較，根據第十三實例性實施例之顯示裝置1013更包含位於一第二偏振器520與一第一基板111間之一第二補償膜562。
舉例而言，第二補償膜562可係為一視角補償膜或一延遲膜。該延遲膜可係為一四分之一波片或一半波片至少其中之一。
第22圖係為例示根據一第十四實例性實施例之一顯示裝置1014之剖視圖。
與根據第四實例性實施例之顯示裝置104相較，根據第十四實例性實施例之顯示裝置1014更包含一二向色性反射層541及一第二補償膜562。
二向色性反射層541設置於一顏色轉換層230下面。參照第22圖，二向色性反射層541設置於顏色轉換層230與具有一光透射率之一黏著層280之間。
第二補償膜562設置於一第二偏振器520與一第一基板111之間。舉例而言，第二補償膜562可係為一視角補償膜或一延遲膜。
第23圖係為例示根據一第十五實例性實施例之一顯示裝置1015之剖視圖。
根據第十五實例性實施例之顯示裝置1015包含一黃色濾光器235。
舉例而言，根據第十五實例性實施例之顯示裝置1015包含作為一紅色轉換部之一第一顏色轉換部231、作為一綠色轉換部之一第二顏色轉換部232、使藍色光透射之一透射部233、以及位於第一顏色轉換部231及第二顏色轉換部232上之黃色濾光器235。黃色濾光器235吸收藍色光且使紅色光及綠色光透射。
根據第十五實例性實施例，自一背光單元410發射藍色光。在入射至第一顏色轉換部231之藍色光中，已被轉換成紅色光之光透射過黃色濾光器235，且未被轉換成紅色光之藍色光由黃色濾光器235吸收。另外，在入射至第二顏色轉換部232之藍色光中，已被轉換成綠色光之光透射過黃色濾光器235， 且未被轉換成綠色光之藍色光由黃色濾光器235吸收。因此，可分別在一紅色畫素及一綠色畫素中實現不同顏色，即紅色及綠色，俾使顯示裝置1015之顯示品質可得以改良。
在一實例性實施例中，入射至透射部233之藍色光透射過透射部以顯示一藍色。
第24圖係為例示根據一第十六實例性實施例之一顯示裝置1016之剖視圖。
與根據第七實例性實施例之顯示裝置107相較，根據第十六實例性實施例之顯示裝置1016更包含一二向色性反射層541。
參照第24圖，二向色性反射層541設置於一顏色轉換層230與具有一光透射率之一黏著層280之間。
第25圖係為例示根據一第十七實例性實施例之一顯示裝置1017之剖視圖。
根據第十七實例性實施例之顯示裝置1017包含一第二偏振器650。第二偏振器650包含充當一線性偏振器之一聚乙烯醇層651及位於聚乙烯醇層651上之一光學補償膜652。舉例而言，光學補償膜652可係為一視角補償膜或一延遲膜。
第26圖係為例示根據一第十八實例性實施例之一顯示裝置1018之剖視圖。
與根據第十六實例性實施例之顯示裝置1016相較，根據第十八實例性實施例之顯示裝置1018包含一黃色濾光器235。
舉例而言，根據第十八實例性實施例之顯示裝置1018包含作為一紅色轉換部之一第一顏色轉換部231、作為一綠色轉換部之一第二顏色轉換部232、以及使藍色光透射之一透射部233，且更包含位於第一顏色轉換部231及第二顏色轉換部232上之黃色濾光器235。黃色濾光器235吸收藍色光且使紅色光及綠色光透射。因此，可分別在一紅色畫素及一綠色畫素中實現不同顏色，即紅色及綠色，俾使顯示裝置1018之顯示品質可得以改良。
第27圖係為例示根據一第十九實例性實施例之一顯示裝置1019之剖視圖。
根據第十九實例性實施例之顯示裝置1019包含一顏色轉換層230及一光阻擋層BM，顏色轉換層230及光阻擋層BM設置於一第一偏振器510之相對二側上。
根據第十九實例性實施例，一黏著層280、一二向色性反射層541、及顏色轉換層230依序設置於第一偏振器510之一個表面上，且光阻擋層BM、一絕緣平坦化層535、及一共用電極CE設置於第一偏振器510之另一表面上。
另外，根據第十九實例性實施例之顯示裝置1019包含一第一鈍化層531及一第二鈍化層532。
參照第27圖，一堤部239設置於一第一顏色轉換部231與一第二顏色轉換部232之間。光阻擋主要由光阻擋層BM執行，且因此，堤部239可具有較光阻擋層BM之一寬度小之一寬度。另外，堤部239可防止在第一顏色轉換部231與第二顏色轉換部232之間發生顏色混合。
堤部239被設置成與光阻擋層BM交疊，且具體而言可與一資料線DL交疊。
第28A圖、第28B圖、第28C圖、第28D圖、第28E圖、第28F圖、第28G圖、及第28H圖係為例示一種製造根據第十九實例性實施例之顯示裝置1019之製程之剖視圖。
首先，如第28A圖中所例示，製造一顯示基板110。
參照第28B圖，在一載體基板550上形成第一偏振器510。
為形成第一偏振器510，在載體基板550上設置一基底基板511。隨後，在基底基板511上設置第二鈍化層532，且在第二鈍化層532上設置一線性偏振器512。
參照第28C圖，在線性偏振器512上設置第一鈍化層531，且在第一鈍化層531上設置光阻擋層BM。
參照第28D圖，在光阻擋層BM上設置絕緣平坦化層535，且在絕緣平坦化層535上設置共用電極CE。絕緣平坦化層535可例如包含一有機層，且可具有約50微米或小於50微米之一厚度。絕緣平坦化層535設置於基底基板511之一整個表面上。可以相關技術中已知之方法來提供共用電極CE。因此，可提供一對置基板210。
參照第28E圖，將設置於第一偏振器510上之共用電極CE設置成與顯示基板110對置，且在共用電極CE與顯示基板110之間設置作為一光量控制層310之一液晶層。
參照第28F圖，移除載體基板550。欲移除之載體基板550係自第一偏振器510之基底基板511拆下。
參照第28G圖，在一第二基板211上設置第一顏色轉換部231、第二顏色轉換部232及堤部239。堤部239設置於第一顏色轉換部231與第二顏 色轉換部232之間。在第一顏色轉換部231、第二顏色轉換部232及堤部239上設置二向色性反射層541。因此，可提供一顏色轉換基板。
參照第28H圖，在第一偏振器510上設置第二基板211、顏色轉換層230及二向色性反射層541。在此種實例性實施例中，二向色性反射層541被附裝至第一偏振器510之基底基板511。為將二向色性反射層541附裝至基底基板511，在二向色性反射層541與基底基板511之間設置黏著層280。黏著層280具有一光透射率。
隨後，在顯示基板110上設置一第二偏振器520，進而提供第27圖中所例示之顯示裝置1019。
第29圖係為例示根據一第二十實例性實施例之一顯示裝置1020之剖視圖。
根據第二十實例性實施例之顯示裝置1020包含一顏色轉換層230及一光阻擋層BM，顏色轉換層230及光阻擋層BM分別設置於一第一偏振器620之相對二側上。第一偏振器620包含依序堆疊之一基底基板611、一第三補償膜613、及一線性偏振器612。舉例而言，第三補償膜613可係為一視角補償膜或一延遲膜。
根據第二十實例性實施例，一黏著層280及顏色轉換層230依序設置於第一偏振器620之一個表面上，且光阻擋層BM、一絕緣平坦化層535及一共用電極CE設置於第一偏振器620之另一表面上。
另外，參照第29圖，一第一顏色轉換部231與一第二顏色轉換部232之間設置有一堤部239。堤部239被設置成與光阻擋層BM交疊，且具體而言可與一資料線DL交疊。
第30A圖、第30B圖、第30C圖、第30D圖、第30E圖、第30F圖、及第30G圖係為例示一種製造根據第二十實例性實施例之顯示裝置1020之製程之剖視圖。
首先，如第30A圖中所例示，製造一顯示基板110。
隨後，參照第30B圖，在一載體基板550上設置第一偏振器620之基底基板611，且在基底基板611上設置光阻擋層BM。另外，在光阻擋層BM上設置絕緣平坦化層535，且在絕緣平坦化層535上設置共用電極CE。
參照第30C圖，將共用電極CE設置成與顯示基板110對置，且在共用電極CE與顯示基板110之間設置作為一光量控制層310之一液晶層。
參照第30D圖，移除載體基板550。欲移除之載體基板550係自基底基板611拆下。
參照第30E圖，在基底基板611上設置第三補償膜613，且在第三補償膜613上設置線性偏振器612。在此種實例性實施例中，舉例而言，第三補償膜613可係為一視角補償膜或一延遲膜。線性偏振器612可係為包含聚乙烯醇(PVA)的具有一膜形狀之一線性偏振器。
參照第30F圖，在一第二基板211上設置堤部239，且在由堤部239界定之區域中設置第一顏色轉換部231及第二顏色轉換部232。另外，在堤部239、第一顏色轉換部231及第二顏色轉換部232上設置一二向色性反射層541。
參照第30G圖，在線性偏振器612上設置包含顏色轉換層230及二向色性反射層541之第二基板211。在此種實例性實施例中，二向色性反射層541被附裝至線性偏振器612。為將二向色性反射層541附裝至線性偏振器612， 在二向色性反射層541與線性偏振器612之間設置黏著層280。黏著層280可係為具有一光透射率之一光學透明黏著劑(OCA)。
隨後，在顯示基板110上設置一第二偏振器520，進而提供第29圖所示顯示裝置1020。
第31A圖、第31B圖、第31C圖、第31D圖、第31E圖、第31F圖、第31G圖、及第31H圖係為例示一種製造根據第二十實例性實施例之顯示裝置1020之替代製程之剖視圖。
首先，如第31A圖中所例示，製造顯示基板110。
隨後，參照第31B圖，在載體基板550上依序堆疊基底基板611、第三補償膜613及線性偏振器612，進而提供第一偏振器620(參照第29圖)。
參照第31C圖，在第二基板211上設置堤部239，且在由堤部239界定之區域中設置第一顏色轉換部231及第二顏色轉換部232。另外，在堤部239、第一顏色轉換部231及第二顏色轉換部232上設置二向色性反射層541。
參照第31D圖，將形成於載體基板550上之線性偏振器612與形成於第二基板211上之二向色性反射層541附裝至彼此。為將線性偏振器612附裝至二向色性反射層541，在線性偏振器612與二向色性反射層541之間設置黏著層280。
參照第31E圖，移除載體基板550。欲移除之載體基板550係自基底基板611拆下。
參照第31F圖，在基底基板611上設置光阻擋層BM。光阻擋層BM被設置成與線性偏振器612相對。另外，在光阻擋層BM上設置絕緣平坦化 層535。絕緣平坦化層535可例如包含一有機層，且可具有約50微米或小於50微米之一厚度。絕緣平坦化層535設置於基底基板511之一整個表面上。
參照第31G圖，在絕緣平坦化層535上設置共用電極CE。因此，提供對置基板210。
參照第31H圖，將在第31G圖所示製程中製造之對置基板210設置成與顯示基板110對置，且在對置基板210與顯示基板110之間設置作為一光量控制層310之一液晶層。
隨後，在顯示基板110上設置第二偏振器520，進而提供第29圖中所例示之顯示裝置1020。
第32圖係為例示根據一第二十一實例性實施例之一顯示裝置1021之剖視圖。
根據第二十一實例性實施例之顯示裝置1021包含位於一第一偏振器510與一共用電極CE間之一平坦化層535a。平坦化層535a將第一偏振器510之一底部部分平坦化。平坦化層535a可包含一有機材料，例如丙烯醯基、聚醯亞胺、苯並環丁烯(benzocyclobutene；BCB)等。因此，就一第二基板211而言，共用電極CE設置於第一偏振器510上。舉例而言，共用電極CE可設置於平坦化層535a上。
一對置基板210可更包含一黃色濾光器235。如第32圖中所例示，黃色濾光器235設置於第二基板211與一緩衝層332之間。舉例而言，黃色濾光器235可設置於第二基板211與一顏色轉換部331之間，顏色轉換部331包含一第一顏色轉換部231及一第二顏色轉換部232。亦即，黃色濾光器235可與第一 顏色轉換部231及第二顏色轉換部232交疊。黃色濾光器235吸收藍色光且使紅色光及綠色光透射。
一黏著層280可設置於緩衝層332與第一偏振器510之間。舉例而言，黏著層280可設置於緩衝層332與第一偏振器510上之一第一鈍化層521之間。黏著層280將第一偏振器510附裝至上面設置有緩衝層332之第二基板211。
第33A圖、第33B圖、第33C圖、第33D圖、第33E圖、及第33F圖係為例示一種製造根據第二十一實例性實施例之顯示裝置1021之製程之剖視圖。
首先，如第33A圖中所例示，製造一顯示基板110。
為形成顯示基板110，在一第一基板111上形成一閘電極GE及一閘極線GL，且在第一基板111上設置一閘極絕緣層121。
隨後，在閘極絕緣層121上設置一半導體層SM，且在半導體層SM上設置一歐姆接觸層115。
另外，在閘極絕緣層121上設置一資料線DL、一源電極SE及一汲電極DE。
在第一基板111之一整個表面上、包含在資料線DL、源電極SE及汲電極DE上設置一保護層131。在保護層131上設置一畫素電極PE。畫素電極PE經由保護層131之一接觸孔CH連接至汲電極DE。
參照第33B圖，在一載體基板550上形成第一偏振器510。
為形成第一偏振器510，在載體基板550上設置一基底基板511。基底基板511係為一塑膠基板。舉例而言，在載體基板550上塗覆一高分子量樹 脂且然後使該高分子量樹脂固化，進而可形成基底基板511。在一替代實例性實施例中，可在載體基板550上設置包含一塑膠基板之一基底基板511。舉例而言，該塑膠基板可係為包含以下其中之一的一透明基板：聚醯胺、聚醯亞胺、聚萘二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸乙二酯、及聚丙烯醯基。在此種實例性實施例中，可使用一黏著劑將基底基板511固定至載體基板550。
根據第二十一實例性實施例，由於基底基板由載體基板550支撐，因而基底基板511可具有優越平整度。
在由載體基板550支撐時，具有一小厚度之基底基板511可具有一充足強度。因此，可使用具有介於自約5微米至約50微米範圍內之一小厚度之一基底基板。
在具有一小厚度之基底基板511上形成一線性偏振器512。舉例而言，線性偏振器512可包含鋁(Al)、金(Au)、銀(Ag)、銅(Cu)、鉻(Cr)、鐵(Fe)、及/或鎳(Ni)。為形成線性偏振器512，可採用例如壓印及光微影等方法。
在線性偏振器512上形成第一鈍化層531。第一鈍化層531保護線性偏振器512，且防止不利之材料滲入至線性偏振器512中。
參照第33C圖，於在第二基板211上設置一光阻擋層BM及一顏色轉換層330之一製程中，可在第二基板211上設置黃色濾光器235及光阻擋層BM，且然後可在黃色濾光器235上設置顏色轉換部331。亦即，黃色濾光器235被設置成與第一顏色轉換部231及第二顏色轉換部232交疊。隨後，在光阻擋層BM及顏色轉換部331上設置緩衝層332。
緩衝層332將因顏色轉換部331及光阻擋層BM出現之一階差(step difference)平坦化。緩衝層332可包含一光透射有機材料。
顏色轉換部331包含第一顏色轉換部231及第二顏色轉換部232。第一顏色轉換部231及第二顏色轉換部232其中之每一者可係為一紅色轉換部、一綠色轉換部及一藍色轉換部其中之一。
雖然圖中未例示，但顏色轉換層330可包含一第三顏色轉換部且可包含一透射部。
參照第33D圖，將上面設置有緩衝層332之第二基板211設置於第一偏振器510及第一鈍化層531上。為將包含緩衝層332之第二基板211附裝至第一鈍化層531，在緩衝層332與第一鈍化層531之間設置黏著層280。黏著層280可係為具有一光透射率之一光學透明黏著劑(OCA)。
參照第33E圖，移除載體基板550。欲移除之載體基板550係自第一偏振器510之基底基板511拆下。
為自基底基板511拆下載體基板550，可向其輻照雷射。藉由雷射輻照，基底基板511與載體基板550間之黏著性劣化，俾使載體基板550可自基底基板511拆下。在此種實例性實施例中，可能會在基底基板511之一底部部分處出現一階差。
參照第33F圖，可在第一偏振器510之基底基板511上設置平坦化層535a。平坦化層535a將基底基板511之底部部分處之階差平坦化。平坦化層535a可包含一有機材料，例如丙烯醯基、聚醯亞胺、苯並環丁烯(BCB)等。
在平坦化層535a上設置共用電極CE。可藉由相關技術中已知之方法來形成共用電極CE。因此，可提供對置基板210。
返回參照第32圖，將在第33F圖所例示之製程中製造之對置基板210設置成與顯示基板110對置，且在對置基板210與顯示基板110之間設置作為一光量控制層310之一液晶層。在一實例性實施例中，可在顯示基板110上設置液晶層310，且然後可在液晶層310上設置對置基板210。
隨後，在顯示基板110上設置一第二偏振器520。舉例而言，第二偏振器520可設置於第一基板111之一後表面上。第二偏振器520可係為一線性偏振器，例如聚乙烯醇(PVA)。
第34圖係為例示根據一第二十二實例性實施例之一顯示裝置之剖視圖。
根據第二十二實例性實施例之顯示裝置包含設置於一第一偏振器510與一平坦化層535a間之一光阻擋層BM。
光阻擋層BM具有複數個開孔，且開孔係對應於第一畫素PX1及第二畫素PX2中之各該畫素電極PE而界定。可對應於各該畫素電極PE而設置一顏色轉換部331。換言之，在一平面圖中，光阻擋層BM可設置於相鄰顏色轉換部331之間。舉例而言，在一平面圖中，光阻擋層BM可設置於一第一顏色轉換部231與一第二顏色轉換部232之間。光阻擋層BM在除開孔以外之一區域處阻擋光。舉例而言，光阻擋層BM設置於薄膜電晶體TFT、一閘極線GL及一資料線DL上，因此阻擋透射過薄膜電晶體TFT、閘極線GL及資料線DL之光以免向外發射出。
第35圖係為例示根據一第二十三實例性實施例之一顯示裝置之剖視圖。
根據第二十三實例性實施例之顯示裝置包含設置於一緩衝層332與一第一偏振器510間之一光阻擋層BM。舉例而言，如第35圖中所例示，光阻擋層BM設置於一黏著層280與一第一鈍化層531之間。光阻擋層BM具有複數個開孔，且開孔係對應於第一畫素PX1及第二畫素PX2中之各該畫素電極PE而界定。可對應於各該畫素電極PE而設置一顏色轉換部331。換言之，在一平面圖中，光阻擋層BM可設置於相鄰顏色轉換部331之間。舉例而言，在一平面圖中，光阻擋層BM可設置於一第一顏色轉換部231與一第二顏色轉換部232之間。光阻擋層BM在除開孔以外之一區域處阻擋光。舉例而言，光阻擋層BM設置於薄膜電晶體TFT、一閘極線GL及一資料線DL上，因此阻擋透射過薄膜電晶體TFT、閘極線GL及資料線DL之光以免向外發射出。
第36圖係為例示根據一第二十四實例性實施例之一顯示裝置之剖視圖。
根據第二十四實例性實施例之顯示裝置可包含一平坦化層535及一顏色轉換部331，平坦化層535包含一第一平坦化層535a及一第二平坦化層535b，顏色轉換部331包含一第一顏色轉換部231、一第二顏色轉換部232及一透射部(圖中未例示)。
如第36圖中所例示，第一平坦化層535a設置於一第一偏振器510與一共用電極CE之間。設置於一基底基板511上之第一平坦化層535a將基底基板511之一底部部分處之一階差平坦化。第一平坦化層535a可包含一有機材料，例如丙烯醯基、聚醯亞胺、苯並環丁烯(BCB)等。
第二平坦化層535b設置於一第二基板211與一顏色轉換部331之間。第二平坦化層535b將因一黃色濾光器235而出現之一階差平坦化。第二平坦化層535b可包含一光透射有機材料。
光阻擋層BM具有複數個開孔，且開孔係對應於第一畫素PX1及第二畫素PX2中之各該畫素電極PE而界定。可對應於各該畫素電極PE而設置顏色轉換部331。換言之，在一平面圖中，光阻擋層BM可設置於相鄰顏色轉換部331之間。舉例而言，在一平面圖中，光阻擋層BM可設置於第一顏色轉換部231與第二顏色轉換部232之間。光阻擋層BM在除開孔以外之一區域處阻擋光。舉例而言，光阻擋層BM設置於薄膜電晶體TFT、一閘極線GL及一資料線DL上，因此阻擋透射過薄膜電晶體TFT、閘極線GL及資料線DL之光以免向外發射出。
根據第二十四實例性實施例，顏色轉換部331設置於第二平坦化層535b與第一偏振器510之間。舉例而言，如第36圖中所例示，第一顏色轉換部231及第二顏色轉換部232可設置於第二平坦化層535b與第一偏振器510之間。然而，實例性實施例並非僅限於此，且第一顏色轉換部231、第二顏色轉換部232及透射部至少其中之一可設置於第二基板211與第二平坦化層535b之間。
如上所述，根據一或多個實例性實施例，一種顯示裝置包含具有一小厚度之一偏振器，且因此可在不發生顏色混合之情況下顯示影像。
此外，根據一或多個實例性實施例，在一載體基板上形成一偏振器，且因此，可形成具有一小厚度之一偏振器。
儘管已參照本發明概念之實例性實施例顯示及闡述了本發明概念，然而，對於此項技術中具有通常知識者而言將顯而易見，可對本發明概念作出各種形式及細節上之改變，此並不背離本發明概念之精神及範圍。
101:顯示裝置
110:顯示基板
111:第一基板
115:歐姆接觸層
121:閘極絕緣層
131:保護層
210:對置基板
211:第二基板
230:顏色轉換層
231:第一顏色轉換部/顏色轉換部
232:第二顏色轉換部/顏色轉換部
280:黏著層
310:光量控制層/液晶層
510:第一偏振器
511:基底基板
512:線性偏振器
520:第二偏振器
531:第一鈍化層
BM:光阻擋層
CE:共用電極
CH:接觸孔
DE:汲電極
DL:資料線
GE:閘電極
PE:畫素電極
PX1:第一畫素
PX2:第二畫素
SE:源電極
SM:半導體層
TFT:薄膜電晶體
I-I':線

Claims (55)

  1. 一種顯示裝置，包含：一顯示基板；一對置基板(opposing substrate)，與該顯示基板對置；以及一光量控制層(light amount control layer)，設置於該顯示基板與該對置基板之間，其中該顯示基板包含：一第一基板；一薄膜電晶體，設置於該第一基板上；以及一畫素電極，連接至該薄膜電晶體，其中該對置基板包含：一第二基板；一顏色轉換層(color conversion layer)，設置於該第二基板上；以及一第一偏振器，設置於該顏色轉換層上，其中該第一偏振器包含：一基底基板；以及一線性偏振器(linear polarizer)，設置於該基底基板之一個表面上，其中該第一偏振器與該畫素電極對置，其中該顏色轉換層之一第一邊緣係與該線性偏振器交疊，以及其中該顏色轉換層之一第二邊緣不與該線性偏振器交疊。
  2. 如請求項1所述之顯示裝置，其中該基底基板具有介於自約0.8微米(μm)至約50微米範圍內之一厚度，且其中該基底基板的上面設置有該線性偏振器之該一個表面具有約60奈米(nm)或小於60奈米之一平整度(flatness)。
  3. 如請求項1所述之顯示裝置，其中該基底基板係為一塑膠基板。
  4. 如請求項1所述之顯示裝置，更包含設置於該顏色轉換層與該基底基板間之一二向色性反射層(dichroic reflection layer)。
  5. 如請求項1所述之顯示裝置，更包含設置於該第二基板與該顏色轉換層間之一黏著層(adhesion layer)。
  6. 如請求項1所述之顯示裝置，更包含設置於該顏色轉換層與該第一偏振器間之一黏著層。
  7. 如請求項1所述之顯示裝置，其中該線性偏振器係為一線柵偏振器(wire grid polarizer；WGP)。
  8. 如請求項1所述之顯示裝置，其中該線性偏振器包含聚乙烯醇(polyvinyl alcohol；PVA)。
  9. 如請求項1所述之顯示裝置，其中該顏色轉換層包含一螢光素(fluorescent element)。
  10. 如請求項1所述之顯示裝置，其中該顏色轉換層包含複數個量子點(quantom dot)。
  11. 如請求項1所述之顯示裝置，其中該顏色轉換層包含：一紅色轉換部，包含一紅色螢光素；以及一綠色轉換部，包含一綠色螢光素。
  12. 如請求項11所述之顯示裝置，更包含位於該紅色轉換部及該綠色轉換部上之一黃色濾光器。
  13. 如請求項1所述之顯示裝置，更包含設置於該基底基板與該線性偏振器間之一鈍化層。
  14. 如請求項1所述之顯示裝置，更包含設置於該顯示基板上之一第二偏振器。
  15. 如請求項1所述之顯示裝置，其中該光量控制層係為一液晶層。
  16. 如請求項1所述之顯示裝置，其中該對置基板更包含一光阻擋層。
  17. 如請求項16所述之顯示裝置，其中該光阻擋層設置於該基底基板與該第二基板之間。
  18. 如請求項16所述之顯示裝置，其中該光阻擋層設置於該基底基板與該光量控制層之間。
  19. 一種製造一顯示裝置之方法，該方法包含：形成一顯示基板；形成一第一偏振器；以及將該第一偏振器與該顯示基板設置成彼此對置，其中該形成一顯示基板之步驟包含：在一第一基板上形成一薄膜電晶體；以及在該第一基板上形成一畫素電極，該畫素電極連接至該薄膜電晶體，其中該形成一第一偏振器之步驟包含：在一載體基板上形成一基底基板；以及在該基底基板上形成一線性偏振器，以及在該第一偏振器上設置一顏色轉換層， 其中該將該第一偏振器與該顯示基板設置成彼此對置之步驟包含自該基底基板移除該載體基板，其中該顏色轉換層之一第一邊緣係與該線性偏振器交疊，以及其中該顏色轉換層之一第二邊緣不與該線性偏振器交疊。
  20. 如請求項19所述之方法，其中該基底基板係為一塑膠基板。
  21. 如請求項19所述之方法，其中自該基底基板移除該載體基板之步驟包含將該載體基板從該基底基板分離，且其中該基底基板具有介於自約0.8微米至約50微米範圍內之一厚度。
  22. 如請求項19所述之方法，其中：係在將該第一偏振器與該顯示基板設置成彼此對置之前，在該第一偏振器上設置該顏色轉換層。
  23. 如請求項19所述之方法，其中係在移除該載體基板之後，在該第一偏振器上設置該顏色轉換層。
  24. 一種製造一顯示裝置之方法，該方法包含：形成一顯示基板；在一載體基板上形成一第一偏振器；在該第一偏振器上形成一顏色轉換層；在該顏色轉換層上設置一第二基板；自該第一偏振器移除該載體基板；在該第一偏振器上形成一共用電極(common electrode)，以形成一對置基板；以及將該對置基板設置成與該顯示基板對置，其中該形成一第一偏振器之步驟包含：在該載體基板上形成一基底基板；以及 在該基底基板上形成一線性偏振器，其中該顏色轉換層之一第一邊緣係與該線性偏振器交疊，以及其中該顏色轉換層之一第二邊緣不與該線性偏振器交疊。
  25. 如請求項24所述之方法，其中該基底基板係為一塑膠基板。
  26. 如請求項24所述之方法，其中該基底基板具有介於自約0.8微米至約50微米範圍內之一厚度。
  27. 如請求項24所述之方法，其中該形成一顯示基板之步驟包含：在一第一基板上設置一薄膜電晶體；以及在該第一基板上形成一畫素電極，該畫素電極連接至該薄膜電晶體。
  28. 如請求項24所述之方法，更包含：於在該第一偏振器上形成該顏色轉換層之前，在該第一偏振器上設置一二向色性反射層。
  29. 如請求項28所述之方法，更包含：於在該第一偏振器上設置該二向色性反射層之前，在該第一偏振器上形成一第一鈍化層。
  30. 如請求項24所述之方法，更包含：於在該基底基板上設置該線性偏振器之前，在該基底基板上設置一二向色性反射層。
  31. 如請求項24所述之方法，其中該在該顏色轉換層上設置一第二基板之步驟更包含：在該顏色轉換層與該第二基板之間設置一黏著層。
  32. 如請求項24所述之方法，其中該形成一顏色轉換層之步驟包含： 在該第一偏振器上形成包含一紅色螢光素之一紅色轉換部及包含一綠色螢光素之一綠色轉換部。
  33. 如請求項32所述之方法，更包含在該紅色轉換部及該綠色轉換部上形成一黃色濾光器。
  34. 如請求項24所述之方法，其中該形成一顏色轉換層之步驟更包含形成一光阻擋層。
  35. 一種製造一顯示裝置之方法，該方法包含：形成一顯示基板；在一載體基板上形成一第一偏振器；在該第一偏振器上形成一共用電極；將該共用電極設置成與該顯示基板對置；自該第一偏振器移除該載體基板；以及在一第二基板上形成一顏色轉換層，並將該顏色轉換層設置於該第一偏振器上，其中該形成一第一偏振器之步驟包含：在該載體基板上形成一基底基板；以及在該基底基板上形成一線性偏振器。
  36. 如請求項35所述之方法，更包含：於在該第一偏振器上形成該共用電極之前，在該第一偏振器上設置一補償膜(compensation film)。
  37. 如請求項35所述之方法，其中該在該第一偏振器上形成一顏色轉換層之步驟更包含在該顏色轉換層與該第一偏振器之間設置一黏著層。
  38. 如請求項35所述之方法，其中該形成一顏色轉換層之步驟更包含在該第二基板上形成一光阻擋層。
  39. 如請求項35所述之方法，更包含：在該顏色轉換層上形成一二向色性反射層。
  40. 一種製造一顯示裝置之方法，該方法包含：形成一顯示基板；在一載體基板上形成一基底基板；在該基底基板上形成一共用電極；將該共用電極設置成與該顯示基板對置；自該基底基板移除該載體基板；在藉由移除該載體基板而暴露出之該基底基板上設置一線性偏振器，以形成一第一偏振器；以及在一第二基板上形成一顏色轉換層，並將形成於該第二基板上之該顏色轉換層設置於該第一偏振器上。
  41. 一種顯示裝置，包含：一顯示基板；一對置基板，與該顯示基板對置；以及一液晶層，設置於該顯示基板與該對置基板之間，其中該顯示基板包含：一第一基板；一薄膜電晶體，設置於該第一基板上；以及一第一電極，連接至該薄膜電晶體，其中該對置基板包含：一第二基板； 一顏色轉換層，設置於該第二基板上；一第一偏振器，設置於該顏色轉換層上；以及一第二電極，設置於該第一偏振器上，以及其中該顏色轉換層包含：一顏色轉換部；以及一緩衝層，與該顏色轉換部交疊。
  42. 如請求項41所述之顯示裝置，其中該顏色轉換部包含：一紅色轉換部；以及一綠色轉換部。
  43. 如請求項42所述之顯示裝置，其中該顏色轉換部包含複數個量子點。
  44. 如請求項42所述之顯示裝置，其中該顏色轉換部更包含一透射部。
  45. 如請求項42所述之顯示裝置，更包含在一平面圖中設置於該紅色轉換部與該綠色轉換部間之一光阻擋層。
  46. 如請求項45所述之顯示裝置，其中該光阻擋層設置於該第二基板與該緩衝層之間。
  47. 如請求項45所述之顯示裝置，其中該光阻擋層設置於該緩衝層與該第一偏振器之間。
  48. 如請求項45所述之顯示裝置，更包含設置於該第二電極與該第一偏振器間之一平坦化層(planarization layer)。
  49. 如請求項48所述之顯示裝置，其中該光阻擋層設置於該第一偏振器與該平坦化層之間。
  50. 如請求項42所述之顯示裝置，更包含設置於該第二基板與該緩衝層間之一黃色濾光器。
  51. 如請求項50所述之顯示裝置，其中該黃色濾光器與該紅色轉換部及該綠色轉換部交疊。
  52. 如請求項41所述之顯示裝置，其中該顏色轉換部設置於該第二基板與該緩衝層之間。
  53. 如請求項41所述之顯示裝置，其中該顏色轉換部設置於該緩衝層與該第一偏振器之間。
  54. 如請求項41所述之顯示裝置，更包含設置於該緩衝層與該第一偏振器間之一黏著層。
  55. 一種顯示裝置，包含：一顯示基板；一對置基板，與該顯示基板對置；以及一液晶層，設置於該顯示基板與該對置基板之間，其中該顯示基板包含：一第一基板；一薄膜電晶體，位於該第一基板上；以及一第一電極，連接至該薄膜電晶體，其中該對置基板包含：一第二基板；一顏色轉換層，設置於該第二基板上；一第一偏振器，設置於該顏色轉換層上；一第二電極，設置於該第一偏振器上，以及 至少一個平坦化層，設置於該第二基板與該顏色轉換層之間及/或該第一偏振器與該第二電極之間。
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