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TWI695231B - 曝光裝置和物品製造方法 - Google Patents

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TWI695231B
TWI695231B TW107121638A TW107121638A TWI695231B TW I695231 B TWI695231 B TW I695231B TW 107121638 A TW107121638 A TW 107121638A TW 107121638 A TW107121638 A TW 107121638A TW I695231 B TWI695231 B TW I695231B
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projection optical
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水谷将樹
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日商佳能股份有限公司
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Abstract

揭露了曝光裝置和物品製造方法。被配置為使基板暴露於光的裝置包括：照明光學系統，被配置為照明掩模；投影光學系統，被配置為將掩模的圖案投影到基板上；和偏心機構，被配置為使照明光學系統的至少一個光學元件相對於投影光學系統的光軸偏心，或者使投影光學系統的至少一個光學元件相對於照明光學系統的光軸偏心，並且，通過偏心機構使光學元件偏心來改變在從投影光學系統的聚焦位置散焦的位置處發生的旋轉不對稱畸變。

Description

曝光裝置和物品製造方法
實施例的態樣關於曝光裝置和物品製造方法。
在使用光刻技術製造諸如半導體元件和液晶顯示元件之類的元件的情況下，使用曝光裝置。這種曝光裝置使投影光學系統將掩模的圖案投影到基板上，並轉印圖案。 　　期望增強諸如掩模表面和基板表面之類的照明目標表面上的照明均勻性，並且期望用於照明照明目標表面上的每個點的照明光的角度分布的光量重心(遠心度)垂直於基板以在基板上形成精細圖案。 　　然而，遠心度可能劣化(degrade)。在這種情況下，當基板在從投影光學系統的像面(聚焦位置)在光軸方向上移位的位置處暴露於光時，基板表面上的聚焦圖像的位置在垂直於光軸的方向上偏移。此外，遠心度可能在照明目標表面上的每個位置處不同。在這種情況下，在基板表面上形成畸變圖像。 　　日本專利申請特開No.2003-59817討論了一種曝光裝置，其即使在基板的位置在散焦方向上移位的情況下也能校正由相對於基板的照明光的遠心特徵的劣化引起的旋轉對稱畸變(圖像的畸變)。在日本專利申請特開No.2003-59817中討論的曝光裝置中，儲存關於要由光學系統產生的遠心度的資訊，並且根據定位基板的位置處的散焦量來在光軸方向上驅動透鏡，從而使基板暴露於光。這減少了諸如投影倍率(magnification)之類的旋轉對稱畸變。 　　可能由於透鏡表面形狀的製造誤差而發生光學系統像差，並因此可能在散焦位置處發生旋轉不對稱畸變。日本專利申請特開No.2003-59817中討論的曝光裝置在光軸方向上驅動透鏡以校正旋轉對稱畸變。然而，日本專利申請特開No.2003-59817沒有揭露用於校正這種旋轉不對稱畸變的技術。 　　此外，在將厚膜抗蝕劑施加到基板並且接著使基板暴露於光的情況下，在從投影光學系統的像面在光軸方向上散焦的位置處的畸變被控制以控制抗蝕劑輪廓(圖案形狀)。基板經歷包括先前的曝光步驟的基板處理步驟。由於這種基板處理步驟使得已經形成在基板上的圖案畸變，因此需要能夠使可選的畸變上的圖案重疊並使圖案暴露於光的曝光裝置。
根據實施例的一個態樣，被配置為使基板暴露於光的裝置包括：照明光學系統，被配置為照明掩模；投影光學系統，被配置為將掩模的圖案投影到基板上；和偏心機構，被配置為使照明光學系統的至少一個光學元件相對於投影光學系統的光軸偏心，或者使投影光學系統的至少一個光學元件相對於照明光學系統的光軸偏心，並且，通過偏心機構使光學元件偏心來改變在從投影光學系統的聚焦位置散焦的位置處發生的旋轉不對稱畸變。 　　參考附圖，根據以下對示例性實施例的描述，本揭露的其它特徵將變得清楚。
將參考附圖詳細描述示例性實施例。 　　描述第一示例性實施例。圖1是顯示了曝光裝置100的示意圖。包括從光源101到中繼透鏡108的元件的單元被定義為照明光學系統120。光源101包括超高壓水銀燈。橢圓鏡102會聚來自光源101的光。光源101被佈置在橢圓鏡102的第一焦點附近。由橢圓鏡102反射的光被引導到中繼光學系統103。通過中繼光學系統103的光透射通過光學積分器104，從而形成多個二次光源。接著，通過孔徑光闌105以期望的光強度形狀形成光通量截面。由於孔徑光闌105是與照明目標表面經歷傅立葉轉換的表面，所以孔徑光闌105的形狀確定照明目標表面的角度分布。因此，經由會聚透鏡106用具有期望的角度分布的光以基本均勻的方式照射視場光圈107。通過視場光圈107在具有期望的形狀的照明區域中形成的光經由中繼透鏡108照明來照明目標表面的掩模(掩模版)109。 　　驅動機構116(偏心機構)包括致動器，該致動器在垂直於照明光學系統120的光軸120a的方向上驅動(偏心)照明光學系統120。 　　投影光學系統110將照明掩模109的圖案投影到由用於定位基板的基板台113上的基板保持卡盤112保持的基板111上，並使基板111暴露於光。 　　在基板台113上，佈置用於測量基板111所暴露於的光的遠心度的感測器114。感測器114包括具有針孔或狹縫的遮光板，以及諸如電荷耦合裝置(CCD)之類的光電轉換器。光電轉換器接收穿過針孔或狹縫的光，並將這些光轉換成電訊號。感測器114通過基板台113移動到投影光學系統110的投影區域中，從而測量在垂直於光軸的平面上的每個位置處要入射的光的角度分布。 　　控制單元115獲取關於由感測器114測量的角度分布的資訊，以確定光量重心(遠心度)。遠心度表示相對於投影光學系統的光軸的像面上的每個位置處的光量重心的平行度。遠心度由當基板被散焦1μm時的圖像的傾斜角或位移量來表示。接著，控制單元115基於每個位置處的光量重心計算從投影光學系統110的像面(聚焦位置)在平行於投影光學系統110的光軸110a的方向(在散焦方向)上移位的位置處的畸變。這種位置處的畸變也被稱為散焦畸變。控制單元115基於計算出的畸變來計算在垂直於照明光學系統120的光軸的方向上的驅動量，並控制驅動機構116按照計算出的驅動量來驅動照明光學系統120。 　　圖2是顯示了基板111上的曝光光的遠心度的圖。在基板111上的相應位置處提供軸上像高21、離軸像高22和離軸像高23。軸上像高21被提供在投影光學系統110的光軸上的位置處。離軸像高22被提供在距投影光學系統110的光軸的X方向的負側的位置處，而離軸像高23被提供在距投影光學系統110的光軸的X方向的正側的位置處。像高表示距投影光學系統110的光軸的距離。軸210在軸上像高21處垂直於基板111的表面。軸220在離軸像高22處垂直於基板111的表面，並且軸230在離軸像高23處垂直於基板111的表面。光線211具有在軸上像高21處的曝光光的光量重心。光線221具有在離軸像高22處的曝光光的光量重心，並且光線231具有在離軸像高23處的曝光光的光量重心。 　　軸上像高21處的光線211與軸210平行，並且是遠心的。換句話說，這表明圖像不由於遠心度而在散焦位置處移位。類似地，離軸像高22處的光線221平行於軸220，並且離軸像高23處的光線231平行於軸230。 　　圖3是顯示了不是遠心的狀態的圖。在這種狀態下，光線311具有在軸上像高21處的曝光光的光量重心，光線321具有在離軸像高22處的曝光光的光量重心，並且光射線331具有在離軸像高23處的曝光光的光量重心。 　　軸上像高21處的光線311不平行於軸210，或者不是遠心的(存在遠心度誤差)。換句話說，這指出圖像由於遠心度而在散焦位置處移位。類似地，離軸像高22處的光線321不平行於軸220，或者不是遠心的。離軸像高23處的光線331不平行於軸230，或者不是遠心的。 　　要在基板111上形成的圖像的位置依賴於曝光光的遠心角度和與基板111的曝光表面的最佳聚焦位置的位移量(散焦量)。在投影光學系統在最佳聚焦位置處可能沒有畸變像差的情況下，當基板111的曝光表面處於最佳聚焦位置時要形成圖像的位置即使在投影光學系統不是遠心的情況下也不移位。然而，如果基板111在基板111已經垂直移動了散焦量Δh的位置處被暴露於光，則基板111上的要形成圖像的位置通過依賴於遠心角度和散焦量Δh而移位。此時，產生位移量(誤差)Δd1、Δd2和Δd3。位移量Δd1是要由光線321形成的圖像的位置移位的量。位移量Δd2是要由光線311形成的圖像的位置位移的量，並且位移量Δd3是要由光線331形成的圖像的位置位移的量。 　　如果將厚膜抗蝕劑施加到基板並且接著使基板暴露於光，則從投影光學系統的像面在光軸方向上散焦的位置處的畸變將被控制以便控制抗蝕劑輪廓(圖案形狀)。 　　如果遠心度根據像高變化，則在散焦時圖像的位置的位移量基於像高而變化。使用這種特性使得例如能夠相對於要形成在基板上的圖像中的每個位置調整非線性畸變。 　　下面將描述投影光學系統110和照明光學系統120不具有諸如製造誤差之類的誤差的理想情況。 　　圖4A是顯示了投影光學系統110的掩模109側的遠心度的像高依賴性的圖。原點位置是軸上像高。作為一個示例，圖4A顯示了遠心度依賴於像高並且改變為三階分量的狀態。 　　圖4B是顯示了照明光學系統120的掩模109側的遠心度的像高依賴性的圖。原點位置是軸上像高。作為一個示例，圖4B顯示了遠心度依賴於像高並且改變為三階分量以使得投影光學系統110的遠心度誤差減小的狀態。 　　整個曝光裝置100的遠心度(即，基板111所暴露於的曝光光的遠心度)是投影光學系統110和照明光學系統120的遠心度之和。因此，在照明光學系統120的光軸和投影光學系統110的光軸不移位的狀態下，相對於照明光學系統120的像高的遠心度特性和相對於投影光學系統110的像高的遠心度特性相互抵消。 　　因此，不會發生依賴於像高的遠心度誤差。 　　圖5是顯示了曝光裝置100的遠心度的圖。照明光學系統120的掩模109側的遠心度402被佈置為匹配投影光學系統110的掩模109側的遠心度401，以使得基板111上的遠心度誤差被消除。 　　然而，由於投影光學系統110或照明光學系統120的透鏡的材料或表面形狀、透鏡保持部的製造誤差或者透鏡的位置或角度的誤差，可能發生曝光裝置100的遠心度的誤差。因此，在散焦位置處發生旋轉不對稱畸變。 　　在本示例性實施例中，使照明光學系統120偏心以在垂直於投影光學系統110的光軸的方向上移位，從而校正在散焦位置處發生的旋轉不對稱畸變。 　　圖6是顯示了在使照明光學系統120偏心之前和之後的照明光學系統120的遠心度的像高依賴性的圖。虛線表示在使照明光學系統120偏心之前的遠心度特性701，而實線表示在使照明光學系統120偏心之後的遠心度特性702。在使照明光學系統120在垂直於投影光學系統110的光軸的方向上偏心的情況下，照明光學系統120的遠心度特性在像高方向上偏移。 　　圖7是顯示了當使照明光學系統120在垂直於投影光學系統110的光軸的方向上偏心時曝光裝置100的遠心度的像高依賴性的圖。實線表示投影光學系統110的遠心度特性703。曝光裝置100具有作為照明光學系統120的偏移後的遠心度特性702和投影光學系統110的遠心度特性703之和的遠心度特性704。 　　在本示例性實施例中，投影光學系統110的遠心度特性703和照明光學系統120的遠心度特性702中的每一個依賴於像高並且是三階分量。因此，曝光裝置100具有依賴於像高並且是與遠心度特性703和遠心度特性702之間的差相對應的二次分量的遠心度特性704。遠心度特性704可以被表示為下面的數學公式。 　　ΔX= A(dX)2 + B(dX)+ C，其中ΔX是當使照明光學系統120在垂直於投影光學系統110的光軸的x方向上偏心距離dX的量時遠心度特性704的X分量，A是二次係數，B是一次係數，並且C是零級係數。此外，ΔY= A'(dX)2 + B'(dX)+ C'，其中ΔY是當使照明光學系統120在垂直於投影光學系統110的光軸的Y方向上偏心距離dY的量時偏心特性704的Y分量，A'是二次係數，B'是一次係數，並且C'是零級係數。 　　在基板111散焦並暴露於光的情況下，遠心度特性類似於要形成在基板111上的圖像的位置的位移特性。因此，使照明光學系統120偏心可以在要形成在基板111上的圖像中產生二次分量的依賴於像高的位置誤差。換句話說，使照明光學系統120偏心可以產生旋轉不對稱畸變。 　　圖8是顯示了要形成在散焦位置處的基板111上的圖像的旋轉不對稱畸變的圖。呈四邊形格子形狀的實線91表示沒有畸變的理想形狀。粗線92表示當使照明光學系統120在垂直於照明光學系統120的光軸的方向X上偏心時的旋轉不對稱畸變的形狀。 　　對於使照明光學系統120偏心的X方向，可以通過依賴於X方向上的座標來產生二次分量的X誤差ΔX。此外，對於垂直於X方向的Y方向，可以通過依賴於Y方向上的座標來產生二次分量的Y誤差ΔY。 　　因此，使照明光學系統120偏心，以使得照明光學系統120的光軸在垂直於投影光學系統110的光軸的方向上移位，使得可以改變旋轉不對稱畸變。因此，可以調整由照明光學系統120或投影光學系統110引起的在散焦位置處的旋轉不對稱畸變，以使其減小。因此，即使基板111散焦並暴露於光，也可以在基板111上形成幾乎沒有畸變的圖案。 　　參考圖9所示的流程圖來描述根據本示例性實施例的控制操作。在步驟S101中，在基板被暴露於光之前，控制單元115使用安裝在基板台113上的感測器114來測量曝光裝置100的遠心度。此時，感測器114測量多個離軸像高中的每一個和軸上像高處的光量重心。在步驟S102中，控制單元115獲取由感測器114獲取的測量資料，並且根據在每個像高處的光量重心計算散焦位置處的旋轉不對稱畸變分量D1。 　　改變量(靈敏度)E1是當照明光學系統120相對於投影光學系統110偏心時相對於照明光學系統120的偏心量的散焦位置處的旋轉不對稱畸變的改變量。在步驟S103中，控制單元115根據公式F1 = D1/E1，從計算出的畸變分量D1和靈敏度E1來計算驅動量F1。驅動量F1是使照明光學系統120偏心的必要量。 　　在步驟S104中，控制單元115控制驅動機構116以按照計算出的驅動量F1驅動照明光學系統120，使得照明光學系統120在垂直於照明光學系統120的光軸的方向上偏心與計算出的驅動量F1對應的量。以這種方式，校正了曝光裝置100的散焦位置處的旋轉不對稱畸變。隨後，在步驟S105中，在散焦位置處，掩模圖案被投影到基板上，並且在旋轉不對稱畸變減小的狀態下使基板暴露於光。 　　已經使用其中投影光學系統110和照明光學系統120中的每一個的遠心度的像高依賴性是三次分量的情況描述了本示例性實施例。然而，像高依賴性不限於三次分量。例如，如果投影光學系統110和照明光學系統120中的每一個的遠心度的像高依賴性是二次分量，則可以調整散焦畸變的一次分量。此外，如果提供更高階的分量，則可以調整更高階的散焦畸變。 　　投影光學系統110的光軸110a可以相對於照明光學系統120的光軸120a偏心。換句話說，照明光學系統的光軸和投影光學系統的光軸相對偏心，使得可以改變旋轉不對稱畸變。 　　描述第二示例性實施例。圖10是顯示了根據本示例性實施例的曝光裝置的示意圖。省略對與第一示例性實施例類似的配置的描述。 　　本示例性實施例的曝光裝置100A包括驅動機構117，其在垂直於光軸120a的方向上驅動中繼透鏡108(光學系統)。控制單元115基於確定的驅動量來控制驅動機構117。此外，曝光裝置100A包括驅動機構118，其在垂直於光軸120a的方向上驅動透鏡119(光學元件)。透鏡119是中繼透鏡108中的透鏡之一。控制單元115基於確定的驅動量來控制驅動機構118。 　　在本示例性實施例中，中繼透鏡108或作為中繼透鏡108中的透鏡之一的透鏡119相對於投影光學系統110的光軸110a偏心。這改變了發生在從投影光學系統110的聚焦位置散焦的位置處的旋轉不對稱畸變。由中繼透鏡108或透鏡119的偏心引起的遠心度特性的改變(即，旋轉不對稱畸變的改變)與第一示例性實施例的類似。因此，在基板111散焦並暴露於光的情況下，可以產生二次分量的依賴於像高的位置誤差。 　　參考圖11所示的流程圖來描述根據本示例性實施例的控制操作。在步驟S201中，在基板被暴露於光之前，控制單元115使用安裝在基板台113上的感測器114來測量曝光裝置100A的遠心度。此時，感測器114測量多個離軸像高中的每一個和軸上像高處的光量重心。在步驟S202中，控制單元115獲取由感測器114獲取的測量資料，並且根據每個像高的光量重心計算散焦位置處的旋轉不對稱畸變分量D2。 　　改變量(靈敏度)E2是當中繼透鏡108或透鏡119相對於投影光學系統110偏心時，相對於中繼透鏡108或透鏡119的偏心量的散焦位置處的旋轉不對稱畸變的改變量。在步驟S203中，控制單元115根據公式F2 = D2 / E2，從計算出的畸變分量D2和靈敏度E2計算驅動量F2。驅動量F2是使中繼透鏡108或透鏡119偏心的必要量。 　　在步驟S204中，控制單元115控制驅動機構117或118，以根據計算出的驅動量F2驅動中繼透鏡108或透鏡119，使得中繼透鏡108或透鏡119在垂直於光軸的方向上偏心與計算出的驅動量F2對應的量。以這種方式，校正了曝光裝置100A的散焦位置處的旋轉不對稱畸變。隨後，在步驟S205中，在散焦位置處，將掩模圖案投影到基板上，並且在旋轉不對稱畸變減小的狀態下使基板暴露於光。 　　已經使用了使中繼透鏡108或作為中繼透鏡108中的透鏡之一的透鏡119偏心的情況描述了本示例性實施例。然而，本示例性實施例不限於這種情況。可以使中繼透鏡108中的視場光圈107側的透鏡偏心，或者可以使多個透鏡偏心。此外，透鏡組或投影光學系統110中的透鏡(光學元件)之一可以相對於照明光學系統120的光軸120a偏心。 　　根據本示例性實施例，使用使透鏡中的一個偏心的簡單驅動機構可以改變從投影光學系統的聚焦位置散焦的位置處發生的旋轉不對稱畸變，而不必驅動整個投影光學系統。 　　描述第三示例性實施例。在使用曝光裝置的光刻步驟中，通常對通過先前步驟在基板上形成的圖案執行重疊曝光。在這種情況下，如果在先前步驟中執行曝光處理的曝光裝置與當執行重疊曝光時要使用的曝光裝置不同，則作為曝光裝置的光學誤差的裝置之間的畸變分量的差變為重疊誤差。因此，這種光學誤差影響重疊精度。由於裝置之間的畸變分量的差由例如每個曝光裝置的光學性能誤差確定，因此不僅存在諸如倍率誤差之類的旋轉對稱分量，而且還存在由於高階像差的影響而產生的旋轉不對稱畸變分量。 　　在本示例性實施例中，描述畸變調整方法。通過畸變調整方法，在對通過先前步驟在基板上形成的圖案執行重疊曝光的情況下，畸變被調整。曝光裝置具有與第一示例性實施例的配置基本相同的配置。 　　參考圖12中所示的流程圖描述根據本示例性實施例的控制操作。 　　在步驟S301中，曝光裝置執行重疊曝光，通過該重疊曝光，掩模圖案被重疊在於先前步驟中形成在基板上的圖案上。接下來，在步驟S302中，在通過諸如顯影處理之類的處理在基板上形成圖案之後，重疊測量設備(測量單元)測量鏡頭內的重疊測量標記的位置位移量。可以在曝光裝置內或通過使用外部測量設備來執行重疊測量。 　　在步驟S303中，控制單元115基於所測量的重疊測量標記的位置偏移量(測量結果)獲取關於重疊誤差的資訊，並且根據所獲取的關於重疊誤差的資訊計算旋轉不對稱畸變分量D3。計算出的畸變分量被設置為畸變的目標形狀。 　　改變量(靈敏度)E3是當照明光學系統120相對於投影光學系統110的光軸偏心時，相對於照明光學系統120的偏心量的散焦位置處的旋轉不對稱畸變的改變量。 　　隨後，在將厚膜抗蝕劑施加到基板並且將所得到的基板暴露於光的情況下，可以設置基板表面位置處的畸變量。在步驟S304中，控制單元115根據公式F3 = D3×G / E3，從計算出的畸變分量D3(目標形狀)、靈敏度E3和基板表面位置處的散焦量G，計算驅動量F3。驅動量F3是使照明光學系統120偏心的必要量。 　　在步驟S305中，控制單元115控制驅動機構116以根據計算出的驅動量F3驅動照明光學系統120，使得照明光學系統120在垂直於光軸的方向上偏心與計算出的驅動量F3對應的量。以這種方式，在調整曝光裝置100的散焦位置處的旋轉不對稱畸變之後，在散焦位置處減小(校正)了旋轉不對稱畸變。在這種狀態下，在步驟S306中，將掩模圖案投影到其上已施加厚膜抗蝕劑的下一個基板上，並且將下一個基板暴露於光。 　　已經使用了使照明光學系統120偏心的情況描述了本示例性實施例。然而，本示例性實施例不限於此。類似於第二示例性實施例，可以使中繼透鏡108中的透鏡之一偏心，或者可以使投影光學系統的透鏡偏心。 　　根據本示例性實施例，在執行重疊曝光的情況下，即使已經形成在基板上的圖案具有旋轉不對稱畸變分量，也可以減小重疊誤差。 (物品製造方法) 　　描述第四示例性實施例。下面描述通過使用上述曝光裝置製造物品(例如，半導體積體電路(IC)元件、液晶顯示元件、濾色器和微機電系統(MEMS))的方法。通過進行曝光步驟、顯影步驟和其它已知的處理步驟來製造物品。在曝光步驟中，上述曝光裝置用於使其上已施加光敏劑的基板(例如，晶圓、玻璃基板)暴露於光。在顯影步驟中顯影基板(光敏劑)，並在已知的處理步驟中處理顯影的基板。已知的處理步驟包括蝕刻、抗蝕劑剝離、切割、黏合和包裝。根據本製造方法，可以製造品質高於通過傳統方法製造的物品。 　　儘管已經參考示例性實施例描述了本揭露，但是應該理解，本揭露不限於所揭露的示例性實施例。所附申請專利範圍的範圍應被賦予最廣泛的解釋，以包含所有這些修改和等同的結構和功能。
100‧‧‧曝光裝置101‧‧‧光源102‧‧‧橢圓鏡103‧‧‧中繼光學系統104‧‧‧光學積分器105‧‧‧孔徑光闌106‧‧‧會聚透鏡107‧‧‧視場光圈108‧‧‧中繼透鏡109‧‧‧掩模110‧‧‧投影光學系統111‧‧‧基板112‧‧‧卡盤113‧‧‧基板台114‧‧‧感測器115‧‧‧控制單元116‧‧‧驅動機構117‧‧‧驅動機構118‧‧‧驅動機構119‧‧‧透鏡120‧‧‧照明光學系統120a‧‧‧光軸21‧‧‧軸上像高22‧‧‧離軸像高23‧‧‧離軸像高210‧‧‧軸211‧‧‧光線220‧‧‧軸221‧‧‧光線230‧‧‧軸231‧‧‧光線311‧‧‧光線321‧‧‧光線331‧‧‧光線401‧‧‧遠心度402‧‧‧遠心度701‧‧‧遠心度特性702‧‧‧遠心度特性703‧‧‧遠心度特性704‧‧‧遠心度特性91‧‧‧實線92‧‧‧粗線S101-S105‧‧‧步驟S201-S205‧‧‧步驟S301-S306‧‧‧步驟
圖1是顯示了根據第一示例性實施例的曝光裝置的示意圖。 　　圖2是顯示了遠心度的圖。 　　圖3是顯示了存在遠心度誤差的狀態的圖。 　　圖4A和圖4B是顯示了遠心度的像高依賴性的圖。 　　圖5是顯示了曝光裝置的遠心度的圖。 　　圖6是顯示了通過使照明光學系統偏心提供的遠心度特性的圖。 　　圖7是顯示了在使照明光學系統偏心之後的曝光裝置的遠心度誤差的圖。 　　圖8是顯示了旋轉不對稱畸變的圖。 　　圖9是顯示了根據第一示例性實施例的控制操作的流程圖。 　　圖10是顯示了根據第二示例性實施例的曝光裝置的示意圖。 　　圖11是顯示了根據第二示例性實施例的控制操作的流程圖。 　　圖12是顯示了根據第三示例性實施例的控制操作的流程圖。
100‧‧‧曝光裝置
101‧‧‧光源
102‧‧‧橢圓鏡
103‧‧‧中繼光學系統
104‧‧‧光學積分器
105‧‧‧孔徑光闌
106‧‧‧會聚透鏡
107‧‧‧視場光圈
108‧‧‧中繼透鏡
109‧‧‧掩模
110‧‧‧投影光學系統
110a‧‧‧光軸
111‧‧‧基板
112‧‧‧卡盤
113‧‧‧基板台
114‧‧‧感測器
115‧‧‧控制單元
116‧‧‧驅動機構
120‧‧‧照明光學系統
120a‧‧‧光軸

Claims (20)

  1. 一種被配置為將基板暴露於光的裝置，所述裝置包括：照明光學系統，被配置為照明掩模；投影光學系統，被配置為將該掩模的圖案投影到該基板上；和偏心機構，被配置為使該照明光學系統的至少一個光學元件相對於該投影光學系統的光軸偏心，或者使該投影光學系統的至少一個光學元件相對於該照明光學系統的光軸偏心，其中，該偏心機構被配置為根據從該投影光學系統的聚焦位置散焦的位置處的散焦量使該光學元件偏心，以改變在從該聚焦位置散焦的該位置處發生的旋轉不對稱畸變。
  2. 根據申請專利範圍第1項所述的裝置，其中，通過使該照明光學系統的光學元件相對於該投影光學系統的光軸偏心來使相對於距該照明光學系統的光軸的距離的遠心度偏移並且使該旋轉不對稱畸變改變。
  3. 根據申請專利範圍第1項所述的裝置，其中，相對於距該照明光學系統的光軸的距離的遠心度隨著該距離的三次方變化， 其中，相對於距該投影光學系統的光軸的距離的遠心度隨著該距離的三次方變化，並且其中，通過使該光學元件偏心來改變作為該距離的二次方的位置誤差的該旋轉不對稱畸變。
  4. 根據申請專利範圍第1項所述的裝置，其中，在該照明光學系統的光軸和該投影光學系統的光軸不移位的狀態下，相對於距該照明光學系統的光軸的距離的遠心度和相對於距該投影光學系統的光軸的距離的遠心度相互抵消。
  5. 根據申請專利範圍第1項所述的裝置，還包括：控制單元，被配置為控制該偏心機構；和測量單元，配置為測量該旋轉不對稱畸變，其中，該控制單元基於該旋轉不對稱畸變的測量結果來控制該偏心機構以使得該光學元件偏心，使得所測量的旋轉不對稱畸變被校正。
  6. 根據申請專利範圍第1項所述的裝置，還包括控制單元，所述控制單元被配置為控制該偏心機構，其中，該控制單元獲取關於當該基板暴露於光時的散焦量的資訊和關於當該基板暴露於光時的該旋轉不對稱畸變的目標形狀的資訊，並基於該散焦量和該目標形狀計算該光學元件的該偏心量。
  7. 根據申請專利範圍第1項所述的裝置，其中，通過使該照明光學系統的光軸和該投影光學系統的光軸相對偏心來改變該旋轉不對稱畸變。
  8. 一種用於從基板製造物品的方法，所述方法包括：通過使用裝置使該基板暴露於光；和使暴露於光的該基板顯影，其中，該物品是從顯影的基板獲得的，其中，所述裝置包括：照明光學系統，被配置為照明掩模；投影光學系統，被配置為將該掩模的圖案投影到該基板上；和偏心機構，被配置為使該照明光學系統的至少一個光學元件相對於該投影光學系統的光軸偏心，或者使該投影光學系統的至少一個光學元件相對於該照明光學系統的光軸偏心，並且其中，該偏心機構被配置為根據從該投影光學系統的聚焦位置散焦的位置處的散焦量使該光學元件偏心，以改變在從該聚焦位置散焦的該位置處發生的旋轉不對稱畸變。
  9. 根據申請專利範圍第8項所述的方法，其中，通過使該照明光學系統的光學元件相對於該投影光學系統的光軸偏心來使相對於距該照明光學系統的光軸的距離的遠心度 偏移並且使該旋轉不對稱畸變改變。
  10. 根據申請專利範圍第8項所述的方法，其中，相對於距該照明光學系統的光軸的距離的遠心度隨著該距離的三次方變化，其中，相對於距該投影光學系統的光軸的距離的遠心度隨著該距離的三次方變化，並且其中，通過使該光學元件偏心來改變作為該距離的二次方的位置誤差的該旋轉不對稱畸變。
  11. 根據申請專利範圍第8項所述的方法，其中，在該照明光學系統的光軸和該投影光學系統的光軸不移位的狀態下，相對於距該照明光學系統的光軸的距離的遠心度和相對於距該投影光學系統的光軸的距離的遠心度相互抵消。
  12. 根據申請專利範圍第8項所述的方法，還包括：控制該偏心機構；和測量該旋轉不對稱畸變，其中，所述控制基於該旋轉不對稱畸變的測量結果來控制該偏心機構以使得該光學元件偏心，使得所測量的旋轉不對稱畸變被校正。
  13. 根據申請專利範圍第8項所述的方法，還包括：控制該偏心機構； 獲取關於當該基板暴露於光時的散焦量的資訊和關於當該基板暴露於光時的該旋轉不對稱畸變的目標形狀的資訊；以及基於該散焦量和該目標形狀計算該光學元件的偏心量。
  14. 根據申請專利範圍第8項所述的方法，其中，通過使該照明光學系統的光軸和該投影光學系統的光軸相對偏心來改變該旋轉不對稱畸變。
  15. 一種被配置為將基板暴露於光的裝置，所述裝置包括：照明光學系統，被配置為照明掩模；投影光學系統，被配置為將該掩模的圖案投影到該基板上；偏心機構，被配置為使該照明光學系統的至少一個光學元件相對於該投影光學系統的光軸偏心，或者使該投影光學系統的至少一個光學元件相對於該照明光學系統的光軸偏心；和控制單元，被配置為控制該偏心機構，和其中，通過該偏心機構使該光學元件偏心來改變在從該投影光學系統的聚焦位置散焦的位置處發生的旋轉不對稱畸變，其中，該控制單元獲取關於當該基板暴露於光時的散 焦量的資訊和關於當該基板暴露於光時的該旋轉不對稱畸變的目標形狀的資訊，並基於該散焦量和該目標形狀計算該光學元件的該偏心量。
  16. 一種被配置為將基板暴露於光的裝置，所述裝置包括：照明光學系統，被配置為照明掩模；投影光學系統，被配置為將該掩模的圖案投影到該基板上；和偏心機構，被配置為使該照明光學系統的至少一個光學元件相對於該投影光學系統的光軸偏心，或者使該投影光學系統的至少一個光學元件相對於該照明光學系統的光軸偏心，其中，通過該偏心機構使該光學元件偏心來改變在從該投影光學系統的聚焦位置散焦的位置處發生的旋轉不對稱畸變，其中，通過使該照明光學系統的光軸和該投影光學系統的光軸相對偏心來改變該旋轉不對稱畸變。
  17. 一種用於從基板製造物品的方法，所述方法包括：通過使用裝置使該基板暴露於光；和使暴露於光的該基板顯影，其中，該物品是從顯影的基板獲得的，其中，所述裝置包括： 照明光學系統，被配置為照明掩模；投影光學系統，被配置為將該掩模的圖案投影到該基板上；和偏心機構，被配置為使該照明光學系統的至少一個光學元件相對於該投影光學系統的光軸偏心，或者使該投影光學系統的至少一個光學元件相對於該照明光學系統的光軸偏心，並且其中，通過該偏心機構使該光學元件偏心來改變在從該投影光學系統的聚焦位置散焦的位置處發生的旋轉不對稱畸變，其中，所述方法還包括：控制該偏心機構；獲取關於當該基板暴露於光時的散焦量的資訊和關於當該基板暴露於光時的該旋轉不對稱畸變的目標形狀的資訊；以及基於該散焦量和該目標形狀計算該光學元件的偏心量。
  18. 一種用於從基板製造物品的方法，所述方法包括：通過使用裝置使該基板暴露於光；和使暴露於光的該基板顯影，其中，該物品是從顯影的基板獲得的，其中，所述裝置包括：照明光學系統，被配置為照明掩模； 投影光學系統，被配置為將該掩模的圖案投影到該基板上；和偏心機構，被配置為使該照明光學系統的至少一個光學元件相對於該投影光學系統的光軸偏心，或者使該投影光學系統的至少一個光學元件相對於該照明光學系統的光軸偏心，並且其中，通過該偏心機構使該光學元件偏心來改變在從該投影光學系統的聚焦位置散焦的位置處發生的旋轉不對稱畸變，其中，通過使該照明光學系統的光軸和該投影光學系統的光軸相對偏心來改變該旋轉不對稱畸變。
  19. 一種被配置為將基板暴露於光的裝置，所述裝置包括：照明光學系統，被配置為照明掩模；投影光學系統，被配置為將該掩模的圖案投影到該基板上；和偏心機構，被配置為使該照明光學系統的至少一個光學元件相對於該投影光學系統的光軸偏心，或者使該投影光學系統的至少一個光學元件相對於該照明光學系統的光軸偏心，其中，該偏心機構通過使該光學元件偏心並且使該照明光學系統的光軸和該投影光學系統的光軸相對偏心來改變在從該投影光學系統的聚焦位置散焦的位置處發生的旋 轉不對稱畸變。
  20. 一種用於從基板製造物品的方法，所述方法包括：通過使用裝置使該基板暴露於光；和使暴露於光的該基板顯影，其中，該物品是從顯影的基板獲得的，其中，所述裝置包括：照明光學系統，被配置為照明掩模；投影光學系統，被配置為將該掩模的圖案投影到該基板上；和偏心機構，被配置為使該照明光學系統的至少一個光學元件相對於該投影光學系統的光軸偏心，或者使該投影光學系統的至少一個光學元件相對於該照明光學系統的光軸偏心，並且其中，該偏心機構通過使該光學元件偏心並且使該照明光學系統的光軸和該投影光學系統的光軸相對偏心來改變在從該投影光學系統的聚焦位置散焦的位置處發生的旋轉不對稱畸變。
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